CN100383606C - 干涉仪精确确定光学系统聚焦面的方法和装置 - Google Patents

干涉仪精确确定光学系统聚焦面的方法和装置 Download PDF

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Abstract

一种采用干涉仪精确确定光学系统聚焦面的方法和装置,适用于对有限焦距的光学系统装调和检测。本发明的工作原理是将激光干涉仪发射的标准光通过被测光学系统后,使光反射回干涉仪。而且利用干涉仪易于在其“猫眼”位置得到干涉条纹的道理,确定光学系统的聚焦面。由于本发明利用了激光干涉仪的检测光,显著提高了光学系统聚焦面的定位精度。本发明可以实现照相物镜、显微镜、投影仪物镜、幻灯机物镜、电影放映物镜等光学系统的精密装调和检测,精确确定其聚焦面。可以显著提高装调和检测的精度,而且易于实施,易于调整,有效地解决了确定光学系统聚焦面的盲目性。

Description

干涉仪精确确定光学系统聚焦面的方法和装置
技术领域
本发明涉及光学系统的测量,特别是一种干涉仪精确确定光学系统聚焦面的方法和装置。
背景技术
随着科学技术的发展与计算机技术的提高,对光学系统的要求越来越高,因而对各种光学元件的要求也越来越高,干涉检测随之得到不断提高。现在干涉仪的测量精度在不断提高,并在光学装调中得到了越来越广泛的应用。
为了提高光学系统精度,不少专利涉及组装光学系统,例如中国专利申请CN1348092A,CN2727704Y和CN2399746Y。CN1348092A用光谱仪装调光学系统,装调过程中需要用其他波长的光,且不能确定系统的焦面;CN2727704Y中包括了太多的元件,装调人员的经验显得更为重要,系统难以实施装调;CN2399746Y中涉及装调聚焦面,但还需依靠高精度机械加工,并缺乏通用性。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于克服上述现有技术的不足,提供一种采用干涉仪精确确定光学系统聚焦面的方法和装置,适用于对有限焦距的光学系统的装调和检测,以提高待测光学系统的装配精度和焦长测量精度。
为了达到上述目的及其相关目的,本发明的工作原理是将干涉仪发射的标准光通过被测光学系统后,使光反射回干涉仪。而且利用干涉仪易于在其“猫眼”位置得到干涉条纹的道理,确定光学系统的聚焦面。
本发明的技术解决方案如下:
一种采用干涉仪精确确定光学系统聚焦面的方法,其特征在于该方法包括下列步骤:
(1)选用Fizeau激光干涉仪作为确定光学系统聚焦面的检测仪器,该干涉仪的标准面与被测光学系统相匹配;
(2)将所述的激光干涉仪发射的检测光束入射到待测测光学系统,调整所述的激光干涉仪的出射光中心与待测测光学系统的中心重合;继续调整待测光学系统使光束会聚光斑为最小;
(3)在所述的待测光学系统后加入一个标准反射镜,使光束沿原光路返回光学系统,再返回所述的激光干涉仪;
(4)调整所述的标准反射镜,并微调待测测光学系统,使所述的激光干涉仪产生干涉条纹,并使所述的激光干涉仪测得的被测光学系统的离焦量为最小;
(5)在所述的激光干涉仪出射光后任意一个光束聚焦点位置插入一平面反射镜,该平面反射镜的反射面与一调整架的基准面重合,调整所述的调整架的位置,使该平面反射镜的反射光返回所述的激光干涉仪内,产生干涉条纹,并使离焦量最小,此处即为“猫眼”位置,取走所述的平面反射镜,则所述的调整架的基准面就是所述的待测光学系统的聚焦面。
一种采用激光干涉仪精确确定光学系统聚焦面的装置,其特征在于包括一台激光干涉仪,在该激光干涉仪的出射光路上同光轴地设有一具有基准面的调整架、一块平面反射镜和一块与待测光学系统相匹配的标准反射镜,所述的平面反射镜置于所述的调整架的基准面上,所述的平面反射镜的反射面垂直于所述的光轴。
所述的激光干涉仪发射的相干光以平行方式、或以一定的发散角、或以一定的会聚角入射到被测光学系统中。
所述的被测光学系统是折射式光学系统、或反射式光学系统、或折反射式光学系统。
所述的标准反射镜的反射面为平面或球面。
本发明的技术效果:
采用本发明显著提高了待测光学系统聚焦面的定位精度,并且使整个系统的装调精度和检测精度得到提高。这种确定聚焦面的结构易于实施,易于调整,有效地解决了确定光学系统聚焦面的盲目性。能够有效的提高照相物镜、显微镜、投影仪物镜、幻灯机物镜、电影放映物镜和其他光学系统的装调精度,精确确定其聚焦面。本发明不仅适用于光学系统聚焦面的精确定位,而且适用于精确确定光学系统的焦点位置以及精确测量光学系统的焦长,还可以检测出光学系统的装调情况及其残余像差。
本发明所采用的干涉仪发射出相干光束并入射到被测光学系统中,具有灵敏地反映光学系统像差的能力。
本发明所描述的被测光学系统是折射式光学系统,或是反射式光学系统,或是折反射式光学系统。该光学系统具有有限的焦距。
附图说明
图1为本发明精确确定光学系统的聚焦面方法和装置的基本工作原理图,平面反射镜在聚焦点位置
图2(a)和2(b)为本发明精确确定光学系统的聚焦面方法和装置实施例1结构原理示意图
图3(a)和3(b)为本发明精确确定光学系统的聚焦面方法和装置实施例2结构原理示意图
图4(a)、4(b)和4(c)为本发明精确确定光学系统的聚焦面方法和装置实施例3结构原理示意图
图5为本发明精确确定光学系统的聚焦面方法和装置实施例4结构原理示意图
图6为本发明精确确定光学系统的聚焦面方法和装置实施例5结构原理示意图
图7为本发明精确确定光学系统的聚焦面方法和装置实施例6结构原理示意图
具体实施方式
下面结合实施例和附图对本发明作进一步说明,但不应以此限制本发明的保护范围。
先请参阅图1,图1说明了精确确定光学系统的聚焦面方法和装置的基本工作原理。由图可见,本发明采用干涉仪精确确定光学系统聚焦面的方法,其特征在于该方法包括下列步骤:
(1)选用Fizeau激光干涉仪1做为确定光学系统2聚焦面的检测仪器,该干涉仪的标准面与被测光学系统2相匹配;
(2)将所述的激光干涉仪1发射的检测光束入射到被测光学系统2,调整所述的激光干涉仪1的出射光中心与被测光学系统2的中心重合;继续调整待测光学系统2,使光束会聚光斑为最小;
(3)在所述的待测光学系统2后加入一个标准反射镜3,使光束沿原光路返回光学系统2,再返回所述的激光干涉仪1;
(4)调整所述的标准反射镜3,并微调被测光学系统2,使激光干涉仪1上产生干涉条纹,并使所述的激光干涉仪1测得的被测光学系统2的离焦量为最小;
(5)在所述的激光干涉仪1出射光后任意一个光束聚焦点位置插入一平面反射镜4,该平面反射镜4的反射面与一调整架5的基准面6重合,调整所述的调整架5的位置,使该平面反射镜4的反射光返回所述的激光干涉仪1内,产生干涉条纹,并使离焦量最小,此处即为“猫眼”位置,取走所述的平面反射镜4,则所述的调整架5的基准面6就是所述的待测光学系统2的聚焦面。
一种采用激光干涉仪精确确定光学系统聚焦面的装置,其特征在于包括一台激光干涉仪1,在该激光干涉仪1的出射光路上同光轴地设有一具有基准面6的调整架5、一块平面反射镜4和一块与待测光学系统2相匹配的标准反射镜3,所述的平面反射镜4置于所述的调整架5的基准面6上,所述的平面反射镜4的反射面垂直于所述的光轴。
所述的激光干涉仪1发射的相干光以平行方式、或以一定的发散角、或以一定的会聚角入射到被测光学系统2中。
所述的被测光学系统2是折射式光学系统、或反射式光学系统、或折反射式光学系统。
所述的标准反射镜3的反射面为平面或球面。
从激光干涉仪1发出的相干光束7,入射到被测光学系统2中,并使光束会聚在光学系统2的聚焦面上。在光学系统的出射光束后加入一个标准的球面反射镜3,使出射光束沿原光路8反射回去,在激光干涉仪1中产生干涉条纹,调整光路使离焦量最小。激光干涉仪1出射光束后面的所有光束聚焦位置都可认为是“猫眼”。在任意一个“猫眼”位置插入一个带有基准面6调整架5的平面反射镜4,并使平面反射镜4在调整架5的基准面6上。调整调整架5,使平面反射镜4将光束7沿光路9返回干涉仪内,产生“猫眼”处的干涉条纹,并使离焦量最小。取走平面反射镜4,则调整架的基准面6就是待测光学系统的聚焦面。
图2(a)和2(b)为本发明精确确定光学系统聚焦面方法和装置的实施例1结构原理示意图。在图2(a)中,从干涉仪1发出的相干光束7是平行光,入射到被测光学系统2中,在光学系统2的出射光束7后加入一个标准反射镜3为凹面的球面反射镜,使出射光束7沿原光路8反射回去,在激光干涉仪1中可以得到干涉条纹,调整光路使系统的像差最小。在图2(b)中,在该被测光学系统2和标准反射镜3之间的“猫眼”位置插入一块平面反射镜4,该平面反射镜4置于调整架5上,使所述的平面反射镜4的反射平面与所述的基准面6重合。调整调整架5,使平面反射镜4将光束7沿光路9返回干涉仪内,产生干涉条纹,并使离焦量最小。取走平面反射镜4,则调整架的基准面6就是待测光学系统2的聚焦面。这个聚焦面也就是光学系统的焦平面。通过测得光学系统的入瞳大小,已知标准球面波反射镜的相对孔径,即可得到系统的焦长。
图3(a)和3(b)为本发明精确确定光学系统聚焦面方法和装置的实施例2结构原理示意图。在图3(a)中,会聚点在光学系统前焦面上。实施过程与实例1类似。只是从激光干涉仪1发出的相干光束7是会聚光,先会聚于光学系统2的前聚焦面上,出射光是平行光,被一个标准平面反射镜14沿原光路8反射回去。该被测光学系统2的前聚焦面“猫眼”位置如图3(b)中所示,在该位置上确定了光学系统的聚焦面。
图4(a)、4(b)和4(c)为本发明精确确定光学系统聚焦面方法和装置的实施例3结构原理示意图。在图4(a)中,在光学系统前后各有一个会聚点。实施过程与实例1和实例2类似。从干涉仪1发出的相干光束7首先会聚于光学系统的前聚焦面,入射到被测光学系统2后,又会聚于后聚焦面上。在光学系统的出射光束后加入一个标准反射镜3为凹面球面反射镜,使出射光束沿原光路8反射回去。该被测光学系统2的后聚焦面“猫眼”位置如图4(b)中所示,在该位置上确定了光学系统2的后聚焦面。在确定了后聚焦面后,还可以在该被测光学系统2的前聚焦面“猫眼”位置插入一个带有基准面12和调整架11的平面反射镜10。调整调整架11,使平面反射镜10将光束7沿光路13返回干涉仪内,产生干涉条纹,并使离焦量最小。如图4(c)中所示,在该位置上确定了光学系统的前聚焦面,这样就同时确定了光学系统的前后两个共轭聚焦面。
图5为本发明精确确定光学系统聚焦面方法和装置的实施例4结构原理示意图。在图5中,本发明的标准反射镜为凸面反射镜15,这就要求在确定其聚焦面时,首先将凸面反射镜15取走,然后在该被测光学系统2的后聚焦面“猫眼”位置插入一个带有基准面6调整架5的平面反射镜4,在该位置上确定光学系统的聚焦面。
图6为本发明精确确定光学系统聚焦面方法和装置的实施例5结构原理示意图。在图6中,本发明的被测光学系统是由多个系统组成,有多个聚焦面,如聚焦面6、聚焦面18、聚焦面19等,在聚焦面位置可插入一个带有基准面调整架的平面反射镜,这样就在相应位置上确定了光学系统的聚焦面。
精确调整光学系统和确定光学系统的焦长:
图2(a)和2(b)也可做为本发明精确调整光学系统和确定光学系统焦长的实施例1原理示意图。在图2(a)中,按照上述调整光路使测得的系统的像差最小,这时像差的大小表明了被测光学系统2装调状况,也体现了本发明的调整方法和装置对光学系统装调的辅助作用。在图2(b)中,按照上述调整光路得到的聚焦面也就是被测光学系统的后焦面。通过测得光学系统的入瞳大小,即可得到系统的后焦长。
图3(a)和3(b)也可做为本发明精确调整光学系统和确定光学系统焦长的实施例2原理示意图。在图3(a)中也可以通过像差得到被测光学系统2装调状况。在图3(b)中,按照上述调整光路得到的聚焦面也就是被测光学系统的前焦面。通过测得光学系统的出瞳大小,即可得到系统的前焦长。
图4(a)、4(b)和4(c)也可做为本发明精确调整光学系统和确定光学系统共轭距的实施例原理示意图。按照上述图4(a)所示调整光路,使测得的系统的像差最小,这时像差的大小表明了被测光学系统2装调状况。按照4(b)和4(c)调整确定了光学系统的前后两个共轭聚焦面,即可测得共轭距。
图5也可做为本发明精确调整光学系统和确定光学系统共轭距的实施例原理示意图。在图5中首先放置标准凸面反射镜,调整光路,使测得系统的像差最小,这时像差的大小表明了被测光学系统2的装调状况。然后移去标准凸面反射镜,在该被测光学系统2的前后聚焦面“猫眼”位置分别插入带有基准面6调整架5的平面反射镜4,即可确定光学系统的共轭聚焦面。
图6也可做为本发明精确调整光学系统和确定光学系统共轭距的实施实例原理示意图。该装置原理同图1类似,同图1的不同之处在于该装置由两组光学系统2和17组成,在光路中对应的猫眼位置6、18和19分别放置带有基准面和调整架的平面反射镜,可以实现两组共轭距的测量,并可实现对光学系统2和17装调状况的测试。

Claims (5)

1.一种采用干涉仪精确确定光学系统聚焦面的方法,其特征在于该方法包括下列步骤:
a、选用Fizeau激光干涉仪(1)做为确定光学系统(2)聚焦面的检测仪器,该干涉仪的标准面与光学系统(2)相匹配;
b、将所述的激光干涉仪(1)发射的检测光束入射到光学系统(2),调整所述的激光干涉仪(1),使所述的激光干涉仪(1)的出射光中心与光学系统(2)的中心重合;继续调整光学系统(2),使光束会聚光斑为最小;
c、在所述的光学系统(2)后加入一个标准反射镜(3),使光束沿原光路返回光学系统(2),再返回所述的激光干涉仪(1);
d、调整所述的标准反射镜(3),并微调光学系统(2),使所述的激光干涉仪(1)上产生干涉条纹,并使所述的激光干涉仪(1)测得的光学系统(2)的离焦量为最小;
e、在所述的激光干涉仪(1)出射光后任意一个光束聚焦点位置插入一平面反射镜(4),该平面反射镜(4)的反射面与一调整架(5)的基准面(6)重合,调整所述的调整架(5)的位置,使该平面反射镜(4)的反射光返回所述的激光干涉仪(1)内,产生干涉条纹,并使离焦量最小,此处即为“猫眼”位置,取走所述的平面反射镜(4),则所述的调整架(5)的基准面(6)就是所述的光学系统(2)的聚焦面。
2.一种采用激光干涉仪精确确定光学系统聚焦面的装置,其特征在于包括一台激光干涉仪(1),在该激光干涉仪(1)的出射光路上同光轴地设有一具有基准面(6)的调整架(5)、一块平面反射镜(4)和一块与光学系统(2)相匹配的标准反射镜(3),所述的平面反射镜(4)置于所述的调整架(5)的基准面(6)上,所述的平面反射镜(4)的反射面垂直于所述的光轴。
3.根据权利要求2所述的采用激光干涉仪精确确定光学系统聚焦面的装置,其特征在于所述的激光干涉仪(1)发射的相干光以平行方式、或以一定的发散角、或以一定的会聚角入射到光学系统(2)中。
4.根据权利要求2所述的采用激光干涉仪精确确定光学系统聚焦面的装置,其特征在于所述的光学系统(2)是折射式光学系统、或反射式光学系统、或折反射式光学系统。
5.根据权利要求2所述的采用激光干涉仪精确确定光学系统聚焦面的装置,其特征在于所述的标准反射镜(3)的反射面为平面或球面。
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