CH701980A2 - Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or jaune par galvanoplastie sans utilisation de métaux toxiques. - Google Patents
Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or jaune par galvanoplastie sans utilisation de métaux toxiques. Download PDFInfo
- Publication number
- CH701980A2 CH701980A2 CH01586/09A CH15862009A CH701980A2 CH 701980 A2 CH701980 A2 CH 701980A2 CH 01586/09 A CH01586/09 A CH 01586/09A CH 15862009 A CH15862009 A CH 15862009A CH 701980 A2 CH701980 A2 CH 701980A2
- Authority
- CH
- Switzerland
- Prior art keywords
- bath
- copper
- gold
- silver
- cyanide
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 9
- 239000010930 yellow gold Substances 0.000 title claims abstract description 5
- 229910001097 yellow gold Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 title claims description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title claims description 3
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 title description 3
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 title description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 25
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims abstract description 4
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- OCUCCJIRFHNWBP-IYEMJOQQSA-L Copper gluconate Chemical class [Cu+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O OCUCCJIRFHNWBP-IYEMJOQQSA-L 0.000 claims description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical class OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 2
- 238000005275 alloying Methods 0.000 claims description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 claims description 2
- NYUQKKWCYPVQGE-UHFFFAOYSA-N dodecyl(dimethyl)azanium;propane-1-sulfonate Chemical compound CCCS([O-])(=O)=O.CCCCCCCCCCCC[NH+](C)C NYUQKKWCYPVQGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 claims description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003892 tartrate salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 6
- 229910002065 alloy metal Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 2
- 230000002999 depolarising effect Effects 0.000 abstract 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 7
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000005494 tarnishing Methods 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- IPZMTZLUAIKVKD-UHFFFAOYSA-N 1-pyridin-1-ium-1-ylpropane-1-sulfonate Chemical compound CCC(S([O-])(=O)=O)[N+]1=CC=CC=C1 IPZMTZLUAIKVKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 2-thiobarbituric acid Chemical compound O=C1CC(=O)NC(=S)N1 RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000499489 Castor canadensis Species 0.000 description 1
- 229910017770 Cu—Ag Inorganic materials 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N Ethylenethiourea Chemical compound S=C1NCCN1 PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011779 Menyanthes trifoliata Nutrition 0.000 description 1
- 150000001204 N-oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N methanedithioic acid Chemical compound SC=S WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N thiomalic acid Chemical compound OC(=O)CC(S)C(O)=O NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/62—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of gold
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
L’invention se rapporte à un procédé de dépôt galvanoplastique d’un alliage d’or sur une électrode plongée dans un bain comportant de l’or métal sous forme d’aurocyanure alcalin, des composés organométalliques, un mouillant, un complexant, du cyanure libre. Selon l’invention, les métaux d’alliage sont du cuivre sous forme de cyanure double de cuivre et potassium, et de l’argent sous forme cyanure permettant de déposer sur l’électrode un alliage d’or du type jaune miroir brillant. L’invention concerne le domaine des dépôts galvaniques.
Description
Domaine de l’invention
[0001] L’invention se rapporte à dépôt électrolytique sous forme d’un alliage d’or en couche épaisse ainsi que son procédé de fabrication.
Arrière plan de l’invention
[0002] Dans le domaine décoratif du placage, on connaît des procédés pour la production de dépôts électrolytiques d’or, de couleur jaune, dont le titre est supérieur ou égal à 9 carats, ductile à une épaisseur de 10 microns, et de grande résistance au ternissement. Ces dépôts sont obtenus par une électrolyse dans un bain galvanique alcalin contenant, en plus de l’or et du cuivre, du cadmium à raison de 0,1 à 3 g.l<-><1>.
[0003] Les dépôts obtenus par ces procédés connus présentent cependant des teneurs en cadmium comprises entre 1 et 10%. Le cadmium facilite le dépôt de couches épaisses, c’est-à-dire entre 1 et 800 microns et permet d’obtenir un alliage de couleur jaune en diminuant la quantité de cuivre contenue dans l’alliage; toutefois le cadmium est extrêmement toxique et interdit dans certains pays.
[0004] On connaît aussi des alliages d’or de 18 carats sans cadmium, contenant du cuivre et du zinc. Cependant, ces dépôts sont de teinte trop rose (titre trop riche en cuivre). Enfin, ces dépôts ont une mauvaise résistance à la corrosion ce qui implique un ternissement rapide.
Résumé de l’invention
[0005] Le but de la présente invention est de pallier tout ou partie les inconvénients cités précédemment un procédé de fabrication permettant le dépôt en couche épaisse d’un alliage d’or de couleur jaune n’ayant ni de zinc ni de cadmium comme constituants principaux.
[0006] A cet effet, l’invention se rapporte à un procédé de dépôt galvanoplastique d’un alliage d’or sur une électrode plongée dans un bain comportant de l’or métal sous forme d’aurocyanure alcalin, des composés organométalliques, un mouillant, un complexant, du cyanure libre caractérisé en ce que les métaux d’alliage sont du cuivre sous forme de cyanure double de cuivre et potassium, et de l’argent sous forme cyanure permettant de déposer sur l’électrode un alliage d’or du type jaune miroir brillant.
[0007] Conformément à d’autres caractéristiques avantageuses de l’invention:
le bain comporte de 1 à 10 g.l<-><1> d’or métal sous forme d’aurocyanure alcalin;
le bain comporte de 30 à 80 g.l<-><1> de cuivre métal sous forme de cyanure double alcalin;
le bain comporte de 10 mg.l<-><1> à 1 g.l<-><1>d’argent métal sous forme complexé;
le bain comporte de 15 à 35 g.l<-><1> de cyanure libre;
le mouillant comporte une concentration comprise entre 0,05 et 10 ml.l<-><1>;
le mouillant est choisi parmi les types polyoxyalcoilenique, étherphosphate, lauryl sulfate, diaméthydodécylamine-N-oxide, diméthyldodécyl ammonium propane sulfonate;
le bain comporte une aminé de concentration comprise entre 0,01 et 5 ml.l<-><1>;
le bain comporte un dépolarisant de concentration comprise entre 0,1 mg.l<-><1> à 20 mg.l<-><1>;
le bain comporte des sels conducteurs du type phosphates, carbonates, citrates, sulfates, tartrates, gluconates et/ou phosphonates;
la température du bain est maintenue entre 50 et 80 °C;
le pH du bain est maintenu entre 8 et 12;
le procédé est réalisé à une densité de courant comprise entre 0,05 et1,5A.dm<-><2>;
le bain respecte une proportion de 9,08% d’or, de 90,85% de cuivre et de 0,07% d’argent.
[0008] L’invention se rapporte également à un dépôt électrolytique sous forme d’un alliage d’or obtenu à partir d’un procédé conforme à l’une des revendications précédentes dont l’épaisseur est comprise entre 1 et 800 microns et qui comporte du cuivre caractérisé en ce qu’il comprend de l’argent comme troisième composé principal permettant d’obtenir une teinte brillante 3N, préférentiellement selon une proportion de 75% d’or, de 21% de cuivre et de 4% d’argent.
Description détaillée des modes de réalisation préférés
[0009] L’invention concerne un dépôt électrolytique d’un alliage d’or de teinte 3N qui, de manière surprenante, comporte des composés principaux Au-Cu-Ag dont les proportions ne sont pas connues pour obtenir la teinte 3N, c’est-à-dire jaune brillant.
[0010] Dans un exemple de dépôt ci-dessus, on a un alliage d’or, exempt de métaux ou métalloïdes toxiques, en particulier exempt de cadmium, de teinte 3N jaune, d’une épaisseur de 200 microns, de brillance excellente et ayant une très grande résistance à l’usure et au ternissement.
[0011] Ce dépôt est obtenu par une électrolyse dans un bain électrolytique du type:
Au: 5,5 g.l<-><1>
Cu: 55 g.l<-><1>
Ag: 40 mg.l<-><1>
KCN: 26 g.l<-><1>
pH: 10,5
Température: 65°C
Densité de Courant: 0,3 A.dm<-><2>
Mouillant: 0,05 ml.l<-><1> NN-Diméthyldodecyl N-Oxide
Iminodiacétique: 20 g.l<-><1>
Ethylènediamine: 0.5 ml.l<-><1>
Gallium, sélénium ou tellure: 10 mg.l<-><1>
[0012] L’électrolyse est de préférence suivie d’un traitement thermique à une température comprise entre 200 et 450 degrés Celsius pendant 1 à 30 minutes afin d’obtenir un dépôt de qualité optimale.
[0013] Ces conditions permettent d’obtenir un rendement cathodique de 98 mg.A.min<-><1> avec une vitesse de déposition d’environ 10 µm par heure dans le cas de l’exemple.
[0014] Ainsi, de manière étonnante, le bain selon l’invention permet d’obtenir un dépôt sensiblement selon une proportion de 75% d’or, de 21% de cuivre et de 4% d’argent correspondant à un dépôt de teinte 3N à 18 carats qui est une proportion très différente des dépôts électrolytiques habituels pour cette teinte qui sont plutôt des dépôts selon sensiblement 75% d’or, 12,5% de cuivre et 12,5% d’argent.
[0015] Le bain peut contenir en outre un brillanteur. Celui-ci est, de préférence, un dérivé du butynediol, un pyridinio-propanesulfonate ou un mélange des deux, un sel d’étain, de l’huile de castor sulfonées, du méthylimidozole, de l’acide dithiocarboxylique tels que du thiourée, de l’acide thiobarbiturique, de l’imidazolidinthione ou de l’acide thiomalique.
[0016] Dans ces exemples, le bain électrolytique, contenu dans une cuve en polypropylène ou en PVC avec revêtement calorifuge. Le chauffage du bain est réalisé grâce à des thermo-plongeurs en quartz, en PTFE, en porcelaine ou en acier inoxydable stabilisé. Une bonne agitation cathodique ainsi qu’une circulation de l’électrolyte doit être maintenue. Les anodes sont en titane platiné, en acier inoxydable, en ruthénium, en iridium ou alliages de ces deux derniers.
[0017] Bien entendu, la présente invention ne se limite pas à l’exemple illustré mais est susceptible de diverses variantes et modifications qui apparaîtront à l’homme de l’art. En particulier, le bain peut contenir les métaux suivants Zr, Se, Te, Sb, Sn, Ga, As, Sr, Be, Bi en quantité négligeable.
[0018] De plus, le mouillant peut être de tout type susceptible de mouiller en milieu cyanure alcalin.
Claims (16)
1. Procédé de dépôt galvanoplastique d’un alliage d’or sur une électrode plongée dans un bain comportant de l’or métal sous forme d’aurocyanure alcalin, des composés organométalliques, un mouillant, un complexant, du cyanure libre caractérisé en ce que les métaux d’alliage sont du cuivre sous forme de cyanure double de cuivre et potassium, et de l’argent sous forme cyanure permettant de déposer sur l’électrode un alliage d’or du type jaune miroir brillant.
2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le bain comporte de 1 à 10 g.l<-><1> d’or métal sous forme d’aurocyanure alcalin.
3. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le bain comporte de 30 à 80 g.l<-><1> de cuivre métal sous forme de cyanure double alcalin.
4. Procédé selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le bain comporte de 10 mg.l<-><1>à 1 g.l<-><1> d’argent métal sous forme complexé.
5. Procédé selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le bain comporte de 15 à 35 g.l<-><1>de cyanure libre.
6. Procédé selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le mouillant comporte une concentration comprise entre 0,05 et 10 ml.l<-><1>.
7. Procédé selon la revendication 1 ou 6, caractérisé en ce que le mouillant est choisi parmi les types polyoxyalcoilenique, étherphosphate, lauryl sulfate, diaméthydodécylamine-N-oxide, diméthyldodécyl ammonium propane sulfonate.
8. Procédé selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le bain comporte une aminé de concentration comprise entre 0,01 et 5 ml.l<-><1>.
9. Procédé selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le bain comporte un dépolarisant de concentration comprise entre 0,1 mg.l<-><1> à 20 mg.l<-><1>.
10. Procédé selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le bain comporte des sels conducteurs du type phosphates, carbonates, citrates, sulfates, tartrates, gluconates et/ou phosphonates.
11. Procédé selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la température du bain est maintenue entre 50 et 80 °C.
12. Procédé selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le pH du bain est maintenu entre 8 et 12.
13. Procédé selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le procédé est réalisé à une densité de courant comprise entre 0,05 et 1,5 A.dm<-><2>.
14. Procédé selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le bain respecte une proportion de 9,08% d’or, de 90,85% de cuivre et de 0,07% d’argent.
15. Dépôt électrolytique sous forme d’un alliage d’or obtenu à partir d’un procédé conforme à l’une des revendications précédentes dont l’épaisseur est comprise entre 1 et 800 microns et qui comporte du cuivre caractérisé en ce qu’il comprend de l’argent comme troisième composé principal permettant d’obtenir une teinte brillante 3N.
16. Dépôt électrolytique sous forme d’un alliage d’or obtenu à partir d’un procédé conforme à la revendication 14 dont l’épaisseur est comprise entre 1 et 800 microns et qui comporte du cuivre caractérisé en ce qu’il comprend de l’argent comme troisième composé principal selon une proportion de 75% d’or, 21-% de cuivre et 4% d’argent permettant d’obtenir une teinte brillante 3N.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH001586/2009A CH701980B1 (fr) | 2009-10-15 | 2009-10-15 | Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or jaune par galvanoplastie sans utilisation de métaux toxiques. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH001586/2009A CH701980B1 (fr) | 2009-10-15 | 2009-10-15 | Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or jaune par galvanoplastie sans utilisation de métaux toxiques. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CH701980A2 true CH701980A2 (fr) | 2011-04-15 |
| CH701980B1 CH701980B1 (fr) | 2024-07-31 |
Family
ID=43857943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CH001586/2009A CH701980B1 (fr) | 2009-10-15 | 2009-10-15 | Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or jaune par galvanoplastie sans utilisation de métaux toxiques. |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CH (1) | CH701980B1 (fr) |
-
2009
- 2009-10-15 CH CH001586/2009A patent/CH701980B1/fr unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CH701980B1 (fr) | 2024-07-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2205778B1 (fr) | Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or jaune par galvanoplastie sans utilisation de métaux ou métalloïdes toxiques | |
| EP1272691B1 (fr) | Bain electrolytique destine au depot electrochimique du palladium ou de ses alliages | |
| US20200240030A1 (en) | Method of obtaining a yellow gold alloy deposition by galvanoplasty without using toxic materials | |
| EP1423557B1 (fr) | Bain electrolytique pour le depot electrochimique de l'or et de ses alliages | |
| EP2505691B1 (fr) | Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or 18 carats 3N | |
| CH704795A2 (fr) | Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or 18 carats 3N. | |
| EP0480876A2 (fr) | Dépôt electrolytique sous forme d'un alliage d'or contenant du cuivre et du zinc ainsi que son procédé de production | |
| CH701980A2 (fr) | Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or jaune par galvanoplastie sans utilisation de métaux toxiques. | |
| WO2008040761A2 (fr) | Procede d'electroformage et piece ou couche obtenue par ce procede | |
| CH710185B1 (fr) | Préparation pour bain galvanique d'alliage d'or et bain galvanique. | |
| CH418085A (fr) | Electrolyte pour le dépôt galvanique d'alliages d'or | |
| WO2016020812A1 (fr) | Bain électrolytique, procédé de dépôt électrolytique et article obtenu par ledit procédé | |
| CH610354A5 (en) | Gold-plated article |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PK | Correction |
Free format text: CHANGEMENT DE REGISTRE EXAMEN QUANT AU FOND |