CH515529A - Verfahren und Vorrichtung zum Schreiben eines Maskenmusters mit Hilfe von Licht auf einem photographischen Material - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Schreiben eines Maskenmusters mit Hilfe von Licht auf einem photographischen Material

Info

Publication number
CH515529A
CH515529A CH1526170A CH1526170A CH515529A CH 515529 A CH515529 A CH 515529A CH 1526170 A CH1526170 A CH 1526170A CH 1526170 A CH1526170 A CH 1526170A CH 515529 A CH515529 A CH 515529A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
writing
aid
light
mask pattern
photographic material
Prior art date
Application number
CH1526170A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Theodor Klostermann Frits
Hermanus Jentjens An Theodorus
Gerardus Bouwer Adrianus
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Publication of CH515529A publication Critical patent/CH515529A/de

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
    • G03F7/704Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
CH1526170A 1969-10-18 1970-10-15 Verfahren und Vorrichtung zum Schreiben eines Maskenmusters mit Hilfe von Licht auf einem photographischen Material CH515529A (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL6915794A NL6915794A (es) 1969-10-18 1969-10-18

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH515529A true CH515529A (de) 1971-11-15

Family

ID=19808166

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH1526170A CH515529A (de) 1969-10-18 1970-10-15 Verfahren und Vorrichtung zum Schreiben eines Maskenmusters mit Hilfe von Licht auf einem photographischen Material

Country Status (10)

Country Link
US (1) US3688655A (es)
JP (1) JPS5128189B1 (es)
AT (1) AT307068B (es)
BE (1) BE757658A (es)
CH (1) CH515529A (es)
ES (1) ES384612A1 (es)
FR (1) FR2066104A5 (es)
GB (1) GB1330343A (es)
NL (1) NL6915794A (es)
SE (1) SE354526B (es)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3710702A (en) * 1971-06-01 1973-01-16 Ibm Optical exposure head
US3848520A (en) * 1972-07-24 1974-11-19 Gerber Scientific Instr Co Line drawing photoexposure device with image rotating means
US3836916A (en) * 1973-02-26 1974-09-17 Ibm Apparatus for exposing lines on a photosensitive surface
US4070187A (en) * 1974-02-11 1978-01-24 Seiscom Delta Inc. Color display of data
US3975705A (en) * 1974-02-11 1976-08-17 Seiscom Delta Inc. Color display of geophysical and other data
US4573779A (en) * 1983-12-30 1986-03-04 International Business Machines Corporation Variable size circular aperture camera
KR101589938B1 (ko) 2008-04-11 2016-02-12 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 광학 개구 장치

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1107981A (en) * 1963-06-06 1968-03-27 Barr & Stroud Ltd Apparatus for automatically drawing lines
US3330182A (en) * 1965-10-01 1967-07-11 Gerber Scientific Instr Co Device for exposing discrete portions of a photosensitive surface to a variable intensity light beam

Also Published As

Publication number Publication date
US3688655A (en) 1972-09-05
BE757658A (fr) 1971-04-16
SE354526B (es) 1973-03-12
JPS5128189B1 (es) 1976-08-17
DE2050422B2 (de) 1976-04-22
DE2050422A1 (de) 1971-04-29
AT307068B (de) 1973-05-10
NL6915794A (es) 1971-04-20
ES384612A1 (es) 1973-01-16
FR2066104A5 (es) 1971-08-06
GB1330343A (en) 1973-09-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AT317670B (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines photographischen Materials
CH534015A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten einer Materialbahn
CH542666A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten einer Oberfläche eines flachen Gegenstandes
CH551016A (de) Verfahren und vorrichtung zum zentrieren einer linse.
CH541657A (de) Verfahren und Vorrichtung zur Verleihung eines haltbaren Bügeleffektes
CH540533A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Steuern der Lichtquelle einer optischen Lesevorrichtung
AT334299B (de) Verfahren und vorrichtung zum sammeln eines auf einer flussigkeitsoberflache schwimmenden, leichten stoffes
CH530040A (de) Vorrichtung zum Entwickeln eines elektrostatischen Bildes auf einem Aufzeichnungselement
AT336764B (de) Verfahren und vorrichtung zum strukturieren eines mehrfaserigen thermoplastischen garnes
CH529384A (de) Verfahren und Vorrichtung zum optischen Erkennen von Zeichen
CH515529A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Schreiben eines Maskenmusters mit Hilfe von Licht auf einem photographischen Material
AT324723B (de) Verfahren und vorrichtung zum nadeln von fasermaterial
CH540499A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Ausfiltern von Licht
CH508450A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Entfernen von Material mit Hilfe von Funkenerosion
AT347874B (de) Verfahren und einrichtung zum entkeimen von wasser mit hilfe von ultraviolettem licht
AT330828B (de) Verfahren und vorrichtung zum auftragen von kontrastfarbigen markierungslinien auf fahrbahnen
AT247097B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Überziehen eines Substrats mit einer Vielzahl von Schichten
AT322337B (de) Verfahren und vorrichtung zum wiederinstandsetzen eines behälters
CH517589A (de) Verfahren zum Verbinden von Teilchen eines festen Stoffes mit Hilfe eines polymeren Bindemittels
CH489858A (de) Vorrichtung zum Lernen eines Stoffes mit Hilfe von gedruckten Lernprogrammen
CH442361A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen eines dekorativen Bildes auf der Oberfläche von Glasgegenständen
CH454676A (de) Verfahren und Vorrichtung zum elektrostatischen Oberflächenbeschichten mit pulverförmigen Stoffen
CH489615A (de) Verfahren und Vorrichtung zum elektrophoretischen Abscheiden eines Materials
AT363030B (de) Verfahren und vorrichtung zum aendern der ausrich- tung von gegenstaenden mit quaderfoermigem umriss
AT285323B (de) Photographisches Verfahren und Gerät zum Herstellen eines sichtbaren Übertragungsbildes auf einem photographischen Blattmaterial

Legal Events

Date Code Title Description
PL Patent ceased