CH515529A - Verfahren und Vorrichtung zum Schreiben eines Maskenmusters mit Hilfe von Licht auf einem photographischen Material - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Schreiben eines Maskenmusters mit Hilfe von Licht auf einem photographischen Material

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CH515529A
CH515529A CH1526170A CH1526170A CH515529A CH 515529 A CH515529 A CH 515529A CH 1526170 A CH1526170 A CH 1526170A CH 1526170 A CH1526170 A CH 1526170A CH 515529 A CH515529 A CH 515529A
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CH
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writing
aid
light
mask pattern
photographic material
Prior art date
Application number
CH1526170A
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English (en)
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Theodor Klostermann Frits
Hermanus Jentjens An Theodorus
Gerardus Bouwer Adrianus
Original Assignee
Philips Nv
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
    • G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
CH1526170A 1969-10-18 1970-10-15 Verfahren und Vorrichtung zum Schreiben eines Maskenmusters mit Hilfe von Licht auf einem photographischen Material CH515529A (de)

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