AT307068B - Verfahren zur Vorrichtung zum Schreiben von Maskenmustern mit Hilfe von Licht auf einem photographischen Material - Google Patents

Verfahren zur Vorrichtung zum Schreiben von Maskenmustern mit Hilfe von Licht auf einem photographischen Material

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AT307068B
AT307068B AT931470A AT931470A AT307068B AT 307068 B AT307068 B AT 307068B AT 931470 A AT931470 A AT 931470A AT 931470 A AT931470 A AT 931470A AT 307068 B AT307068 B AT 307068B
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
    • G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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