CH512821A - Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterelementes, und nach dem Verfahren hergestelltes Halbleiterelement - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterelementes, und nach dem Verfahren hergestelltes Halbleiterelement

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CH512821A
CH512821A CH1188169A CH1188169A CH512821A CH 512821 A CH512821 A CH 512821A CH 1188169 A CH1188169 A CH 1188169A CH 1188169 A CH1188169 A CH 1188169A CH 512821 A CH512821 A CH 512821A
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3943547A (en) * 1970-12-26 1976-03-09 Hitachi, Ltd. Semiconductor device
US4110780A (en) * 1973-07-06 1978-08-29 Bbc Brown Boveri & Company, Limited Semiconductor power component
DE2340107A1 (de) * 1973-07-06 1975-01-23 Bbc Brown Boveri & Cie Leistungshalbleiterbauelement
DE2340128C3 (de) * 1973-08-08 1982-08-12 SEMIKRON Gesellschaft für Gleichrichterbau u. Elektronik mbH, 8500 Nürnberg Halbleiterbauelement hoher Sperrfähigkeit
DE3137695A1 (de) * 1981-09-22 1983-04-21 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Thyristor mit einem mehrschichten-halbleiterkoerper mit pnpn-schichtfolge und verfahren zu seiner herstellung

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1471981A (fr) * 1965-03-25 1967-03-03 Asea Ab Thyristor avec zone latérale à gorge
FR1479716A (fr) * 1965-05-11 1967-05-05 Itt Perfectionnements aux dispositifs à semi-conducteurs, tels que, par exemple, des thyristors de puissance

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FR2016875B1 (en:Method) 1975-01-10

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