CH492033A - Vorrichtung zum gleichmässigen Verdampfen und Auftragen von hochschmelzenden Materialien im Hochvakuum sowie Verfahren zum Betrieb derselben - Google Patents

Vorrichtung zum gleichmässigen Verdampfen und Auftragen von hochschmelzenden Materialien im Hochvakuum sowie Verfahren zum Betrieb derselben

Info

Publication number
CH492033A
CH492033A CH505867A CH505867A CH492033A CH 492033 A CH492033 A CH 492033A CH 505867 A CH505867 A CH 505867A CH 505867 A CH505867 A CH 505867A CH 492033 A CH492033 A CH 492033A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
operating
application
same
melting materials
uniform evaporation
Prior art date
Application number
CH505867A
Other languages
English (en)
Inventor
Karl Dipl Phys Dietzel
Original Assignee
Bayer Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bayer Ag filed Critical Bayer Ag
Publication of CH492033A publication Critical patent/CH492033A/de

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/24—Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for
    • H01J37/241—High voltage power supply or regulation circuits
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
    • H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
CH505867A 1966-05-03 1967-04-11 Vorrichtung zum gleichmässigen Verdampfen und Auftragen von hochschmelzenden Materialien im Hochvakuum sowie Verfahren zum Betrieb derselben CH492033A (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEF0049092 1966-05-03

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH492033A true CH492033A (de) 1970-06-15

Family

ID=7102723

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH505867A CH492033A (de) 1966-05-03 1967-04-11 Vorrichtung zum gleichmässigen Verdampfen und Auftragen von hochschmelzenden Materialien im Hochvakuum sowie Verfahren zum Betrieb derselben

Country Status (5)

Country Link
US (1) US3488426A (de)
BE (1) BE697974A (de)
CH (1) CH492033A (de)
DE (1) DE1521251B2 (de)
GB (1) GB1151818A (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3756193A (en) * 1972-05-01 1973-09-04 Battelle Memorial Institute Coating apparatus
FR2611983A1 (fr) * 1987-04-29 1988-09-09 Vtu Angel Kantchev Circuit d'alimentation electrique pour un evaporateur a faisceau d'electrons
US4978094A (en) * 1989-11-15 1990-12-18 Cooper Industries, Inc. Bracket for curtain rods
US5905753A (en) * 1997-06-23 1999-05-18 The Boc Group, Inc. Free-standing rotational rod-fed source

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2994801A (en) * 1959-06-05 1961-08-01 Stauffer Chemical Co Electron beam generation
DE1156522B (de) * 1962-09-25 1963-10-31 Heraeus Gmbh W C Elektronenlinsenanordnung fuer Elektronenstrahlschmelz- oder -verdampfungsanlagen
DE1199097B (de) * 1962-09-25 1965-08-19 Heraeus Gmbh W C Vorrichtung zum Vakuumbedampfen breiter Baender, insbesondere mit Metallen, durch Erhitzen des Verdampfungsgutes mittels Elektronenstrahlen
FR1351419A (fr) * 1962-09-29 1964-02-07 Centre Nat Rech Scient Procédé et dispositifs pour le chauffage de substances à l'aide de plasma et de rayonnement à haut éclairement énergétique
US3347701A (en) * 1963-02-05 1967-10-17 Fujitsu Ltd Method and apparatus for vapor deposition employing an electron beam
US3277865A (en) * 1963-04-01 1966-10-11 United States Steel Corp Metal-vapor source with heated reflecting shield
US3276902A (en) * 1963-10-01 1966-10-04 Itt Method of vapor deposition employing an electron beam
US3328672A (en) * 1964-02-06 1967-06-27 Temescal Metallurgical Corp Constant current supply

Also Published As

Publication number Publication date
DE1521251B2 (de) 1970-03-26
BE697974A (de) 1967-10-16
GB1151818A (en) 1969-05-14
US3488426A (en) 1970-01-06
DE1521251A1 (de) 1969-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CH488813A (de) Verfahren zum isostatischen Heisspressen von Materialien und Vorrichtung zu dessen Ausführung
CH498719A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Verbinden von Schichtmaterialien
CH531365A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Züchten eines kristallinen Materials in Form eines langgestreckten Körpers von beliebig vorbestimmter Querschnittsform
AT252683B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Aufdampfen von Materialien auf eine Unterlage im Vakuum
CH515748A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Sortieren von Gegenständen
CH486901A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Durchführen von Verdampfungen
AT305577B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Bauelementen
CH447117A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Filtrieren von Filtergut in Filterpressen
CH463846A (de) Briefposthandhabungsmaschine und Verfahren zum Betrieb der Maschine
AT273029B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Bedrucken von Garn
AT267101B (de) Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Flachglas
CH452731A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Erhitzen eines Stoffes in einem Hochvakuum-Elektronenstrahlgerät
CH492033A (de) Vorrichtung zum gleichmässigen Verdampfen und Auftragen von hochschmelzenden Materialien im Hochvakuum sowie Verfahren zum Betrieb derselben
AT271167B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Gefriertrocknen
AT286338B (de) Vorrichtung zum Vakuumbehandeln von Metallschmelzen, insbesondere von Stahlschmelzen, und Verfahren zu ihrem Betrieb
CH462027A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Verpacken von Gegenständen
AT257546B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Mischen von Feststoffen
CH444894A (de) Vorrichtung zur Kühlung von Supraleitungsspulen und Verfahren zum Betrieb der Vorrichtung
AT326782B (de) Verfahren und vorrichtung zum herstellen von kernbrennstoffkörpern
AT277066B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Vorhomogenisieren von Schüttgut insbesondere von Zementrohgut
CH432708A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Spinnen von Mehrkomponentenfäden
CH468920A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Teilen von Steinstapeln im Zuge des Härtens
AT269600B (de) Verfahren und Vorrichtung zur Betätigung des Stößels von Schlagbearbeitungsmaschinen
CH521243A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Partikeln
CH510511A (de) Verfahren und Vorrichtung zur Verarbeitung von plastifizierbarem Material

Legal Events

Date Code Title Description
PL Patent ceased