CH488815A - Verfahren zur Verhinderung von kolloidalen Ablagerungen in sauren, galvanischen Verzinnungsbädern - Google Patents

Verfahren zur Verhinderung von kolloidalen Ablagerungen in sauren, galvanischen Verzinnungsbädern

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CH488815A
CH488815A CH1822966A CH1822966A CH488815A CH 488815 A CH488815 A CH 488815A CH 1822966 A CH1822966 A CH 1822966A CH 1822966 A CH1822966 A CH 1822966A CH 488815 A CH488815 A CH 488815A
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acidic galvanic
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colloidal deposits
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CH1822966A
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Philips Nv
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/30Electroplating: Baths therefor from solutions of tin
CH1822966A 1965-12-23 1966-12-20 Verfahren zur Verhinderung von kolloidalen Ablagerungen in sauren, galvanischen Verzinnungsbädern CH488815A (de)

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JPS5818996B2 (ja) * 1980-02-21 1983-04-15 キザイ株式会社 緻密なめっき被膜を得るための中性錫電気めっき浴
DE4330068A1 (de) * 1993-09-06 1995-03-09 Heraeus Gmbh W C Verfahren zum Regenerieren und Stabilisieren von cyanidischen Silber-Zinn-Bädern

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ES334745A1 (es) 1967-10-16

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