CH485867A - Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden eines schwerschmelzbaren Metalls auf einem Substrat - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden eines schwerschmelzbaren Metalls auf einem Substrat

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CH485867A
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refractory
metal
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Matsushita Electronics Corp
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • C23C16/08Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metal halides

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2196019A (en) * 1986-10-07 1988-04-20 Cambridge Instr Ltd Metalorganic chemical vapour deposition
US4997677A (en) * 1987-08-31 1991-03-05 Massachusetts Institute Of Technology Vapor phase reactor for making multilayer structures
WO1990010092A1 (en) * 1989-02-24 1990-09-07 Massachusetts Institute Of Technology A modified stagnation flow apparatus for chemical vapor deposition providing excellent control of the deposition
CN116718283B (zh) * 2023-05-08 2026-03-17 北京天工标度量子科技有限公司 一种基于八氯化三铌薄膜热阻特性的温度传感器

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0241155A1 (de) * 1986-03-31 1987-10-14 Unisys Corporation Abscheidung einer Vanadin-Unterlage für magnetische Filme

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