CH471241A - Verfahren zum Herstellen gleichförmiger dünner Schichten hoher Güte aus leitenden oder halbleitenden Materialien und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents

Verfahren zum Herstellen gleichförmiger dünner Schichten hoher Güte aus leitenden oder halbleitenden Materialien und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

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CH471241A
CH471241A CH1810466A CH1810466A CH471241A CH 471241 A CH471241 A CH 471241A CH 1810466 A CH1810466 A CH 1810466A CH 1810466 A CH1810466 A CH 1810466A CH 471241 A CH471241 A CH 471241A
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3968018A (en) * 1969-09-29 1976-07-06 Warner-Lambert Company Sputter coating method
US3916523A (en) * 1969-09-29 1975-11-04 Warner Lambert Co Coated razor blade
US3904506A (en) * 1972-11-13 1975-09-09 Shatterproof Glass Corp Apparatus for continuous production of sputter-coated glass products
US3860507A (en) * 1972-11-29 1975-01-14 Rca Corp Rf sputtering apparatus and method
US3925182A (en) * 1973-09-25 1975-12-09 Shatterproof Glass Corp Method for continuous production of sputter-coated glass products
US4170662A (en) * 1974-11-05 1979-10-09 Eastman Kodak Company Plasma plating
US4043889A (en) * 1976-01-02 1977-08-23 Sperry Rand Corporation Method of and apparatus for the radio frequency sputtering of a thin film
FR2371524A1 (fr) * 1976-11-18 1978-06-16 Alsthom Atlantique Procede de depot d'une couche mince par decomposition d'un gaz dans un plasma
JPS6037188B2 (ja) * 1981-08-27 1985-08-24 三菱マテリアル株式会社 スパツタリング装置
US4498071A (en) * 1982-09-30 1985-02-05 Dale Electronics, Inc. High resistance film resistor
GB2140460B (en) * 1983-05-27 1986-06-25 Dowty Electronics Ltd Insulated metal substrates
US4693805A (en) * 1986-02-14 1987-09-15 Boe Limited Method and apparatus for sputtering a dielectric target or for reactive sputtering
AU2003195A (en) * 1994-06-21 1996-01-04 Boc Group, Inc., The Improved power distribution for multiple electrode plasma systems using quarter wavelength transmission lines

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3021271A (en) * 1959-04-27 1962-02-13 Gen Mills Inc Growth of solid layers on substrates which are kept under ion bombardment before and during deposition
US3233137A (en) * 1961-08-28 1966-02-01 Litton Systems Inc Method and apparatus for cleansing by ionic bombardment
US3347772A (en) * 1964-03-02 1967-10-17 Schjeldahl Co G T Rf sputtering apparatus including a capacitive lead-in for an rf potential

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GB1118759A (en) 1968-07-03
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SE334083B (xx) 1971-04-05

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