CH460365A - Auf einem optischen Träger aufgebrachte lichtundurchlässige und reflexionsfreie Beschichtung - Google Patents

Description

  Auf einem optischen Träger aufgebrachte lichtundurchlässige und reflexionsfreie  Beschichtung    Die vorliegende Erfindung betrifft eine auf einem  optischen Träger aufgebrachte lichtundurchlässige und  reflexionsfreie Beschichtung, insbesondere in Form von  Marken oder Skalenteilungen.  



  Es gibt zwei, ihrem Wesen nach unterschiedliche  Arten von Markierungen in optischen Instrumenten. Die  einen sind lichtundurchlässig und erscheinen als  schwarze Markierung im hellen Bild und die anderen  wirken als Spiegel einer Hilfslichtquelle und sind als  leuchtende     Marken    in einem lichtschwachen Bild sicht  bar.  



  Die lichtundurchlässigen Marken werden zum über  wiegenden Teil nach dem gleichen Verfahren hergestellt.  Dazu wird das Trägermaterial, meistens eine planpar  allele Platte, zuerst mit einer Schutzschicht, beispiels  weise aus Wachs, überzogen. Danach wird mit einer  mechanischen Vorrichtung die gewünschte Marke in  diese Schutzschicht eingraviert. Die durch die Gravie  rung freigelegten Stellen des Trägermaterials werden  dann mit     Flusssäuredämpfen    behandelt, bis sich das in  die Schutzschicht eingravierte Muster ausreichend tief  in das Glas eingeätzt hat. Schliesslich werden die in die  Unterlage geätzten Marken, nachdem die Schutzschicht  sorgfältig entfernt worden ist, mit einem schwarzen  Lack ausgefüllt.  



  Bisher unternommene Versuche, optische Marken  im Vakuum auf einen Träger aufzudampfen, haben zu  keinen praktisch brauchbaren Ergebnissen geführt, weil  die aufgedampften Metallmarken immer Schichten mit  hoher Reflexion (Metallspiegel) bilden.  



  Das oben beschriebene Verfahren ist sehr alt und  obwohl die einzelnen Arbeitsgänge immer wieder ver  bessert wurden, ist es doch mit einigen grundsätzlichen  Mängel behaftet, die den gesteigerten Anforderungen  moderner optischer Instrumente nicht mehr genügen.  



  Die vor dem Gravieren aufgetragene Schutzschicht  und das zum Ausfüllen der geätzten Marken verwendete  Material enthalten organische Komponenten, die bei  Zimmertemperatur einen relativ hohen     Dampfdruck    be-    sitzen. Sie sind deshalb für abgeschlossene Vakuum  systeme nur bedingt brauchbar. Das mechanische Gra  vieren der Marken in die Schutzschicht begrenzt die  kleinstmöglichen Abmessungen und die Form der Mar  ken. Das chemische Ätzen führt unvermeidlich zu Mar  ken mit unscharfen Begrenzungen (die bei vergrössern  den Systemen sichtbar sind) und insbesondere zu Mar  ken mit unterschiedlicher Tiefe, indem der Rand jeder  Marke weniger tief als deren mittlerer Teil ist.

   Beim  Ausfüllen der     Ätzgrube    mit einem Farbstoff entsteht  dann eine lichtabsorbierende Schicht, die an den Rän  dern dünner als in der Mitte ist, was zu unscharfen  Rändern führen kann. Schliesslich besitzt der Farbstoff,  der in flüssigem Zustand in die     Ätzgruben    eingefüllt  wird, nie eine reflexionsfreie Oberfläche, weshalb die  Marken, die einen möglichst vollkommenen Kontrast  zu dem Bild geben sollen, aufgehellt sind. Schliesslich  erfordert dieses Verfahren einen grossen Teil qualifizier  ter Handarbeit und konnte bisher nur ungenügend auto  matisiert werden.  



  Es ist     ein    Ziel der vorliegenden Erfindung, diese  Nachteile zu beheben.  



  Die Beschichtung nach der Erfindung ist dadurch  gekennzeichnet, dass sie eine Schicht aufweist, in der  ein für eine Wellenlänge von 550 nm und eine Schicht  dicke von weniger als 1000 nm eine Transparenz von  höchstens 3 % aufweisender Werkstoff in einem für eine  Wellenlänge von 550 nm und eine Schichtdicke von  mehr als 30 000 nm eine Transparenz von mindestens  3 % aufweisenden Werkstoff     dispergiert    ist.  



  Die Beschichtung nach der vorliegenden Erfindung  und das für deren Herstellung verwendete Verfahren  besitzen gegenüber den bisher bekannten Schichten und  deren     Herstellverfahren    eine ganze Reihe von wichtigen  Vorteilen. Die Beschichtung besteht nur aus Materialien,  die auch bei erhöhten Temperaturen einen sehr niedri  gen Dampfdruck besitzen, weshalb Träger mit solchen  Beschichtungen auch in abgeschlossenen Vakuumsyste  men verwendbar sind. Die Beschichtungen besitzen über      ihre gesamte Flächenausdehnung eine konstante Dicke  und sauber begrenzte Ränder. Die Oberflächen der Be  schichtungen sind reflexionsfrei, weshalb sie im opti  schen System keine Spiegelwirkung aufweisen, die die  Messung, für die das System vorgesehen ist, erschwert  oder gar verunmöglicht.

   Das erfindungsgemässe Her  stellverfahren erlaubt die Verwendung photographischer  Methoden, weshalb die Formen der Marken praktisch  unbegrenzt und deren minimale Abmessungen weit un  ter denen liegen, die durch Gravieren erreichbar ist.  Schliesslich ist das     Vakuumverdampfen    ein weitgehend  automatisiertes Verfahren und ermöglicht die Herstel  lung grosser Stückzahlen in kurzer Zeit und bei genau  kontrolliertem Arbeitsablauf.  



  Die Erfindung soll nun mit Hilfe der Figuren an  einigen Ausführungsbeispielen näher erläutert werden.       Fig.    1 zeigt einen schematischen Schnitt durch eine  Beschichtung nach der Erfindung.  



       Fig.    2 zeigt einen vergrösserten schematischen Schnitt  durch die mittlere der in     Fig.    1 gezeigten Schichten zur  Erklärung des Lichtweges in der Schicht.  



       Fig.    3 zeigt eine stark vereinfachte     Vakuumverdamp-          fereinrichtung    zur Herstellung der Beschichtung.  



  In     Fig.    1 ist eine Glasplatte 10 gezeigt, auf der drei  Schichten 11, 12 und 13 übereinander aufgedampft sind.  Die unterste Schicht 11 hat eine Dicke von     0,15,u    und  besteht aus     Siliciumoxyd.    Die darüber liegende Schicht  12 besitzt eine Dicke von 1,2     ,u    und besteht ebenfalls  aus     Siliciumoxyd,    in dem (als schwarze Punkte gezeich  nete) Chromteilchen eingeschlossen sind. Diese Schicht  wird durch gleichzeitiges Verdampfen von     Siliciumoxyd     und Chrom hergestellt.

   Die dritte oder Deckschicht 13  hat eine Dicke von 0,15     ,u    und besteht wieder aus       Siliciumoxyd.    Die drei übereinander liegenden Schichten  werden in drei direkt aufeinander folgenden Verdamp  fungen hergestellt, haften sehr gut an der Glasunterlage  und besitzen, weil sie alle durch die gleiche Verdampfer  masse hergestellt wurden, eine scharfe seitliche Begren  zung.  



  Die Wirkungsweise dieser     Beschichtung    soll nun an  dem in     Fig.    2 gezeigten Modell     erläutert    werden. Die  Schicht 22 besteht aus     Siliciumoxyd    23 und darin ein  geschlossenen kleinsten Chromteilchen 24-34. Das     Sili-          ciumoxyd    ist lichtdurchlässig,     während    Chrom das Licht  stark absorbiert und den     nichtabsorbierten    Rest reflek  tiert. Der Anteil der Chromteilchen     in    der Schicht ist  so gewählt, dass genügend vorhanden ist, um zu ver  hindern, dass das Licht die Schicht geradlinig durch  läuft.

   Zugleich sind aber zu wenig Chromteilchen vor  handen, um einen metallischen Spiegel für das einfal  lende Licht zu bilden. Ein einfallender Lichtstrahl 40  durchdringt     zunächst    eine Oberflächenschicht des licht  durchlässigen     Siliciumoxyds,    bis er auf ein erstes Chrom  teilchen 31     trifft.    Das Teilchen 31 absorbiert einen  Teil der Energie des Lichtstrahles 40 und reflektiert den  Rest als Lichtstrahl 41 durch das transparente     Silicium-          oxyd    auf das Chromteilchen 28. Das Teilchen 28 ab  sorbiert wieder den grössten Teil der Energie des auftref  fenden Lichtstrahles 41 und reflektiert den Rest als  Lichtstrahl 42 durch das     Siliciumoxyd    auf das Chrom  teilchen 32 usw.

   Wenn angenommen wird, dass jedes  Chromteilchen nur 30 % des     auftreffenden    Lichts ab  sorbiert, so führt der Strahl 41 nur noch 70 % der  Energie des ursprünglich einfallenden Strahles 40, der  Strahl 42 nur noch 49 %, der Strahl 43 noch 34 %, der  Strahl 44 noch 24 % und nach zwölf Reflexionen ist die  Energie des ursprünglich einfallenden Lichtstrahles auf    weniger als 1 % absorbiert. Im Gegensatz zu dem be  schriebenen Strahlengang wird der Lichtstrahl 45, der  auf das nahe der Oberfläche befindliche Chromteilchen  24 auftritt, nachdem ein Teil der ursprünglichen Ener  gie in dem Chromteilchen absorbiert ist, als Strahl 46  wieder zur Oberfläche reflektiert. Der Anteil dieses  wiederaustretenden Lichtes ist in der Praxis sehr gering.

    Beim     Vakuumverdampfen    werden, wenn das Verdamp  fen entsprechend ausgeführt wird, die verdampften Ma  terialien in Form von Atomen oder Molekülen auf der  Auffangfläche abgelagert. Es lässt sich dann leicht er  reichen, dass in einer Schicht 22 von nur 1     ,u    Dicke,  bei einem Verhältnis von Durchmesser zu Abstand der  Chromteilchen wie 1:10, immer noch etwa 1000  Chromteilchen in der Dicke der Schicht  gestaffelt  an  geordnet sind, die praktisch eine vollkommene Absorp  tion des einfallenden Lichtes bewirken.  



  Zur Herstellung der Beschichtung wird eine Va  kuumverdampferapparatur verwendet, wie sie schema  tisch und stark vereinfacht in     Fig.    3 gezeigt ist. Die  Apparatur besitzt eine Grundplatte 50, in der sich eine  grosse Öffnung 51 befindet, die mit einer (nicht     gezeib          ten)    Vakuumpumpe in Verbindung steht. Die Grund  platte besitzt mehrere     elektrischleitende    und voneinander  isolierte     Durchführungen    52-55, an     d,nen    oberhalb der  Grundplatte Drähte 56, 57 zur Zuleitung von elektri  schem Strom zu aus     Molybden    gefertigten Verdampfer  tiegeln 58, 59 angeschlossen sind.

   Die unterhalb der  Grundplatte vorstehenden Enden dieser Durchführun  gen sind mit (nicht gezeigten) Regeltransformatoren ver  bunden. Zwischen den beiden     Verdampfertiegeln    ist ein  Spiegel 60 angeordnet. Oberhalb der Tiegel befindet sich  eine Kugelschale 61, deren Radius so gewählt ist, dass  er etwa dem Abstand der Schale von den beiden ver  hältnismässig eng nebeneinander stehenden Verdampfer  tiegeln entspricht, so dass die Tiegel praktisch im Mittel  punkt der Kugelschale stehen. Bei einer Versuchsanlage       betrug    dieser Abstand 28 cm.

   Die Kugelschale steht auf  vier auf der Grundplatte ruhenden Stützen, von denen  zwei (62, 63) gezeigt     sind.    Die Kugelschale ist mit  Löchern und auf ihrer Innenseite mit Haltevorrichtun  gen versehen, in denen die     zu    bedampfenden Plättchen  (64, 65, 66 usw.) befestigt     sind.    Auf mittlerer Höhe zwi  schen den     Tiegeln    58, 59 und der Kugelschale 61 und  ausserhalb des von den     Stützen    62, 63 begrenzten Rau  mes sind zwei Metallplatten 75, 76 angeordnet, die mit  den Durchführungen 77, 78 in der Grundplatte 50  verbunden sind. Die äusseren Enden dieser Durchführun  gen sind mit einer     Gleichspannungsquelle    verbunden.

    Über die ganze Anordnung ist eine Glocke 67 gestellt,  deren Flansch 68 vakuumdicht mit der Grundplatte 50       abschliesst.    Die Glocke ist mit einem seitlichen Fenster  70 und einem oberen Fenster 71 versehen. Neben dem       seitlichen    Fenster 70 befindet sich eine regulierbare  Lichtquelle 72, enthaltend eine Glühbirne, deren Licht  von einem (nicht gezeigten) Regeltransformator einstell  bar ist und eine     Kondensorlinse.    Über dem oberen Fen  ster 71 ist eine lichtempfindliche Zelle 73 angeordnet,  die mit einem (nicht gezeigten)     Messinstrument    verbun  den ist.  



  <I>Beispiel 1</I>  Zur Herstellung von Strichplatten mit einer einfa  chen Beschichtung wurden die zu beschichtenden Glas  platten zuerst nach     bekannten    Methoden gereinigt und  danach auf der Kugelschale 61 befestigt und mit nach  dem     Photographierverfahren    hergestellten Verdampfer  masken abgedeckt. Danach wurden der Verdampfer-           tiegel    58 mit     Siliciummonoxyd    und der Tiegel 59 mit  Chrom gefüllt. Beide Materialien     sind        in    geeigneter  Qualität handelsüblich. Anschliessend wurde die Glocke  67 über die Anordnung gestellt und der von der Glocke  und der Grundplatte 50 umschlossene Raum durch die  Öffnung 51 evakuiert.

   Nachdem ein Druck von etwa  3 - 10-5     Torr    erreicht war, wurde die Pumpe abgestellt  und durch die Pumpenleitung Sauerstoff in die Anlage  eingelassen, bis der Druck auf 10-2     Torrangestiegen    war  und dann zwischen den     beiden    Glimmelektroden 75  und 76 eine     Gleichspannungsglimmentladung    mit einer  Spannung von etwa 3000 Volt und einem Strom von  10     mA    gezündet und während 10 Minuten aufrecht  erhalten.

   Nach dem Abschalten der Glimmentladung  wurde die Anlage wieder bis     auf    einen     Druck    von  3 - 10 - 5     Torr    evakuiert und Spannung an die     elektrischen     Durchführungen 52, 53 und 54, 55 gelegt. Der Strom,  der dann durch die Tiegel 58 bzw. 59 fliesst, erwärmt  diese und das darin befindliche Material, wobei beide  angelagerte und absorbierte Gase abgeben. Als am  (in     Fig.    3 nicht gezeigten)     Vakuumdruckmessgerät    zu  sehen war, dass das zu verdampfende Material kein  Gas mehr abgab, wurde der Heizstrom für die beiden  Tiegel auf etwa 1750  C gesteigert, bei welcher Tempe  ratur sowohl das     Siliciumoxyd    als auch das Chrom lang  sam verdampfen.

   Gleichzeitig wurde die Lichtquelle 72  eingeschaltet und an dem     mit    der     lichtempfindlichen     Zelle 73 verbundenen     Messinstrument    beobachtet, wie  die Lichtdurchlässigkeit der im Lichtstrahl zwischen der  Lichtquelle 72 und der Zelle 73 angeordneten Platte  66 infolge der sich ablagernden Schicht zurückging.  Nachdem die     Transmission    auf Null abgesunken war,  wurde der     Heizstrom    für die beiden Verdampfer abge  stellt. Nach dem Erkalten der Verdampfer wurde dann  auch die Pumpe abgestellt und der     Verdampferraum     belüftet, die Glocke 67 abgehoben und die fertig be  dampften Glasplatten von der Kugelschale 61 abgeho  ben.

   Nach dem Entfernen der     Verdampfermasken    wa  ren die mit der aufgedampften Beschichtung versehenen  Glasplatten fertig zur weiteren Verarbeitung.  



  <I>Beispiel 2</I>  Zur Herstellung von Kreisteilungen aus zusammen  gesetzten Beschichtungen wurden die     als    Träger verwen  deten Glasplättchen wieder nach bekannten Methoden  von grossem Schmutz gesäubert. Die     Kreisteilung    wurde       sodann    mit     handelsüblichem    Photokopierlack auf jedes  dieser Plättchen kopiert und beidseitig mit Decklack ab  gedeckt. Die so vorbereiteten Glasplättchen werden dann  wie in Beispiel 1 auf einer     Kugelschale    befestigt und     in     eine     Verdampferanordnung    gebracht.

   Im Gegensatz zu  der in     Fig.    3 gezeigten Anordnung besass die hier ver  wendete noch zwei über den     Verdampfertiegeln    ange  ordnete und von     aussen    her bewegbare Blenden, die,  wenn sie über die Tiegel geschwenkt waren, alles aus  diesen verdampfte Material     auffingen.     



  Der Rezipient wurde nach der Einbringung der mit  dem Glasplättchen belegten Kugelschale und dem     Füllen     der     Verdampfertiegel    mit     Siliciummonoxyd    und Chrom       zuerst        evakuiert.    Danach wurden die Glasplättchen     be-          glimmt    und die zu verdampfenden     Substanzen    und die  Tiegel entgast. Vor dem Heizen der Tiegel wurden die  erwähnten Blenden über die Tiegel geschwenkt und das  Entgasen wurde bei der     Verdampfungs-Temperatur    aus  geführt.

   Dabei verhinderten die Blenden wirksam, dass  während der     Entgasungsperiode    Material aus den Tie  geln auf die Glasplättchen gelangte. Nachdem am Va-         kuummessgerät    festgestellt worden war, dass das Ent  gasen beendet war, wurde die Lichtquelle 72 eingeschal  tet und am     Messinstrument    der Photozelle 73 der Wert  für die maximale Lichtdurchlässigkeit abgelesen. Danach  wurde, ohne den Heizstrom und damit die Temperatur  der Tiegel zu verändern, die     Verdampferblende    vor  dem das     Siliciumoxyd    enthaltenden Tiegel abge  schwenkt, so dass das abdampfende     Siliciumoxyd    auf  den Glasplättchen kondensieren konnte.

   Nachdem eine  erste dünne     Siliciumoxydschicht    aufgebracht war, wurde  auch die     Verdampferblende    vor dem Chromtiegel abge  schwenkt, so dass nun gleichzeitig     Siliciumoxyd    und  Chrom auf den Glasplättchen über der Schicht aus  reinem     Siliciumoxyd    kondensierten. Nachdem die opti  sche Durchlässigkeit der beschichteten Plättchen auf  jede 50     %    des Anfangswertes abgesunken war, wurde  Sauerstoff, bis zu einem     Partialdruck    von 7 - 10-5     Torr     durch ein Nadelventil in der Pumpenleitung eingelassen.

    Das dampfförmige     Siliciummonoxyd    reagierte mit die  sem Sauerstoff, um ein     Siliciumoxyd    unbestimmter Zu  sammensetzung     (Si.,        0y)    zu bilden. Die Verdampfung  von     Siliciumoxyd    und Chrom wurde so lange weiter  geführt, bis die Lichtdurchlässigkeit der Schicht auf  Null abgesunken war. Danach wurde die Chromver  dampfung unterbrochen und nur noch     Siliciummonoxyd     verdampft, bis eine genügend dicke Schutzschicht von       Si.        0v    über der gemischten Schicht abgelagert war.  



  Die auf die beschriebene Art hergestellten Beschich  tungen wurden mit aufgedampften reinen Chromschich  ten     verglichen.    Beim Reibtest zeigten die neuen Be  schichtungen eine grössere     mechanische    Widerstands  fähigkeit als Chromschichten. Bei Tropentests waren  die neuen Beschichtungen und die Chromschichten etwa  gleich. Beim     Fungizidtest    waren die neuen Beschichtun  gen den reinen Chromschichten überlegen und bei     Cass-          Tests    waren die Beschichtungen und die Chromschich  ten wieder etwa gleich. Der wichtigste Unterschied  wurde bei Vergleichsmessungen der Lichtreflexion fest  gestellt.

   Während die Reflexion von Chromschichten im  Wellenlängenbereich von 300 bis 700     m,y    von etwa 40  auf 50 % ansteigt, zeigten die neuen Beschichtungen     im     gleichen Wellenlängenbereich     eine    Reflexion, die von  etwa 10 auf etwa 8 % absinkt und es konnte sogar  für Wellenlängen von mehr als 530     m,u    eine     Reflexion     Null gemessen werden.  



  Es versteht sich, dass bei dem beschriebenen Ver  fahren viele     Änderungen    möglich sind. Zum Beispiel       kann        vorteilhafterweise    neben der Einrichtung zum Mes  sen der     Transmission    auch eine Einrichtung zum Messen  der Reflexion während des     Aufdampfens    der Schichten  verwendet und das Aufdampfen dann so geführt werden,  dass Schichten minimaler Reflexionen entstehen. Bei  Mehrfachschichten kann die Dicke sowohl der ersten als  auch der dritten Schicht nach Bruchteilen einer bevor  zugten Lichtwellenlänge bestimmt werden
EMI0003.0080  
   Schich  ten), um die Reflexion beim Übergang des Lichtes zwi  schen Medien verschiedener optischer Dichte auf ein  Minimum zu verringern.

   Als dritte Schicht kann aus  dem gleichen Grund     vorteilhafterweise        Kryolith    (ein     Na-          triumaluminiumfluorid)    anstelle des     Siliciumoxydes    ver  wendet werden.  



  Natürlich ist die     erfindungsgemässe    Beschichtung  nicht auf die in den Beispielen angegebenen Materialien  beschränkt, sondern es können je nach dem besonderen  Verwendungszweck irgendwelche     lichtundurchlässige         Materialien in irgendeinem     lichtdurchlässigen    Material       dispergiert    werden.

   Als lichtundurchlässig werden für  die vorliegende     Erfindung        beispielsweise    die     Metalle     Chrom,     Vandium,    Mangan, Eisen,     Kobalt    und Nickel  und als lichtdurchlässig insbesondere die Oxyde des  Siliciums,     Aluminiumoxyds,        Kryoliths,        Magnesium-          fluorids,        Titanoxyds    und     Cerocyds    und ganz all  gemein die Oxyde,

       Fluoride    und Chloride der Metalle  der Gruppe     II    und     III    B des     periodischen    Systems an  gesehen.     In    der folgenden Tabelle sind für einige bevor  zugte Werkstoffe die experimentell     bestimmten    Schicht  dicken angegeben, bei denen diese für Licht mit 550 nm  Wellenlänge eine     Transmission    von 3 % aufweisen.

    
EMI0004.0021     
  
    Material <SEP> Schichtdicke
<tb>  Cr <SEP> 40 <SEP> nm
<tb>  Fe203 <SEP> 133 <SEP> nm
<tb>  Cr203 <SEP> 326 <SEP> nm
<tb>  Si.Oy <SEP> 4560 <SEP> nm       Die Erfindung ist auch nicht auf eine aus einer oder  aus drei Teilen zusammengesetzten Beschichtung be  schränkt, sondern es können den jeweiligen Anordnun  gen entsprechend auch noch mehr     einzelne    Schichten  übereinander     angeordnet    werden. In bestimmten     Fällen     kann es auch     vorteilhaft    sein, wenn mehrere unterschied  liche lichtabsorbierende Materialien in einem oder meh  reren lichtdurchlässigen Materialien     dispergiert    sind.

Claims (1)

1. PATENTANSPRÜCHE I. Auf einem optischen Träger aufgebrachte licht undurchlässige und reflexionsfreie Beschichtung, insbe sondere in Form von Marken oder Skalenteilungen, da durch gekennzeichnet, dass sie eine Schicht aufweist, in der ein für eine Wellenlänge von 550 nm und eine Schichtdicke von weniger als 1000 nm eine Transparenz von höchstens 3 % aufweisender Werkstoff in einem für eine Wellenlänge von 550 nm und eine Schichtdicke von mehr als 30 000 nm eine Transparenz von mindestens 3 % aufweisenden Werkstoff dispergiert ist.

   II. Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet,<I>dass in</I> einer Vakuumverdampfungsvorrichtung die genannte Schicht durch gleichzeitiges Aufdampfen der beiden Werkstoffe auf den optischen Träger hergestellt wird. UNTERANSPRÜCHE 1. Beschichteter Träger nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass zur Verbesserung der Haf tung und Verkleinerung der Brechungsindexdifferenz zwischen dem Träger und der genannten ersten Schicht zwischen diesen eine durchsichtige zweite Schicht ange ordnet ist. z.

   Beschichteter Träger nach Patentanspruch I oder Unteranspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Schicht an der dem Träger abgewandten Seite zur Ver ringerung der Reflexion mit einer dritten durchsichtigen Schicht abgedeckt ist. 3. Beschichteter Träger nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass die durchsichtige Material komponente der ersten Schicht ein Oxyd des Siliziums ist. 4. Beschichteter Träger nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass die undurchsichtige Material komponente der ersten Schicht Chrom ist. 5. Beschichteter Träger nach Unteranspruch 1, da durch gekennzeichnet, dass die zweite Schicht zur Haupt sache aus einem Oxyd des Siliziums besteht. 6.

   Beschichteter Träger nach Unteranspruch 2, da durch gekennzeichnet, dass die dritte Schicht zur Haupt sache aus einem Oxyd des Siliziums oder Kryoliths be steht. 7. Verfahren nach Patentanspruch II, dadurch ge kennzeichnet, dass das gleichzeitige Verdampfen der bei den Materialkomponenten bis zu einer Lichtdurchlässig keit der aufgedampften Schicht von 50 % im Hochva kuum ausgeführt und anschliessend bei einem Sauerstoff partialdruck von mindestens 10-5 Torr weitergeführt wird.