CH423475A - Method and device for developing electrostatic fields - Google Patents

Method and device for developing electrostatic fields

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CH423475A
CH423475A CH1147764A CH1147764A CH423475A CH 423475 A CH423475 A CH 423475A CH 1147764 A CH1147764 A CH 1147764A CH 1147764 A CH1147764 A CH 1147764A CH 423475 A CH423475 A CH 423475A
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CH
Switzerland
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developed
developer
wetting
liquid
slot
Prior art date
Application number
CH1147764A
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German (de)
Inventor
Bernhard Dr Lorenz
Messner Dieter Dr Dipl-Phys
Original Assignee
Kalle Ag
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    • G03G15/102Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a liquid developer for wetting the recording material for differentially wetting the recording material

Description

  

  Verfahren und     Vorrichtung    zur     Entwicklung        elektrostatischer    Felder    Die     Erfindung    betrifft ein Verfahren zum Ent  wickeln von elektrostatischen Feldern durch fort  laufendes Kontaktieren des zu entwickelnden Materials  mit einem     Benetzungsentwickler,    der sich innerhalb  einer     querliegenden,    schlitzförmigen Anordnung be  findet. Die Erfindung betrifft     ferner    eine Vorrichtung  zur Ausführung dieses Verfahrens.  



  Bei der     Benetzungsentwicklung    macht man sich die  Veränderungen der Haftspannung der Entwickler  flüssigkeit auf einer zu entwickelnden Oberfläche  durch den bildmässig differenzierten Zustand dieser  ein     elektrostatisches    Feld tragenden Oberfläche zu  nutze.  



  Die     Benetzungsentwickler    stellen eine     Flüssigkeit     dar, die eine solche Zusammensetzung besitzen, dass  sie das zu entwickelnde Material nur an den Stellen,  die ein elektrostatisches Feld tragen, benetzen. Ab  gesehen von der Auswahl der     Entwicklerlösungen    ist  man bestrebt, bei diesem Vorgang an das das Feld  tragende Material die     Entwicklerflüssigkeit    in solcher  Weise anzutragen, dass eine schnelle Entwicklung und  Benetzung der Bildstellen bewirkt wird, ohne dass  man einen zu grossen Überschuss anträgt, der in  störender Weise auch an den nicht dafür vorgesehenen  Flächen rein mechanisch haften bleiben könnte.  



  Ferner soll bei der genannten     Entwicklung    die  Möglichkeit gegeben sein, durch zusätzliches Anlegen  einer elektrischen Spannung während des Ent  wicklungsvorganges     Umkehrbilder    zu erzeugen. Auch  aus diesen Gründen ist ein     Überschuss    an     Ent-          wicklerflüssigkeit    zu vermeiden, damit nicht dieser  auf die Rückseite des Materials gelangt und durch    Kurzschluss die Ausbildung einer zur Umkehrent  wicklung notwendigen Spannungshöhe verhindert  wird.  



  Die üblichen Verfahren, wie einfaches Überwischen  oder Durchziehen durch einen Flüssigkeitsbehälter,  führen beim     Benetzungsentwicklungsverfahren    zu  keinem     gleichmässigen,        einwandfrei    entwickelten Bild.

    Auch bereits bekannte Verfahren und Vorrichtungen  aus der     Beschichtungstechnik    und dem     Lichtpausge-          biet    bringen wegen der verschiedenen Zweckrichtun  gen keine annehmbaren Ergebnisse, vor allem des  wegen nicht, weil bei der Entwicklung der das latente  Bild tragenden Flächen     :keine    Unterschiede in deren  mechanischer Oberflächenbeschaffenheit - wie     Rauhig-          keit    - ausgenützt werden können. Allein die Unter  schiede in der Feldstärke müssen die bildmässige  Benetzung bedingen.  



  Darüber hinaus soll die Entwicklungsvorrichtung  so beschaffen sein, dass zwar die zur Einfärbung der  gesamten Fläche benötigte     Entwicklermenge    zur Ver  fügung steht, dass aber die meist     niedrigviskose        Ent-          wicklerflüssigkeit    nicht die nicht zu beeinflussende  Rückseite oder die Ränder berührt oder in unkontrol  lierter Weise ausserhalb der Vorrichtung gelangt.  



  Ein Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren  zum Entwickeln elektrostatischer Felder mittels eines       Benetzungsentwicklers.    Das Verfahren     ist    dadurch ge  kennzeichnet, dass das Material, das das Feld trägt,  mit der zu entwickelnden Seite nach unten durch Vor  beiführen in Kontakt mit der     Benetzungsentwickler-          flüssigkeit    gebracht wird, die sich in einem schmalen  quer zur Bewegungsrichtung ausgedehnten Schlitz be-      findet und nach     Massgabe    der für die     Entwicklung     entnommenen Menge     kontinuierlich    wieder nachge  füllt wird.  



  Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist eine  Vorrichtung zur Ausführung des     erfindungsgemäss     genannten Verfahrens. Diese Vorrichtung ist gekenn  zeichnet durch eine Zug- und/oder Schubanordnung  zur Bewegung des zu     entwickelnden    Materials, zwei       Seitenbegrenzungsteilen,        innerhalb    derer sich die     Ent-          wicklerflüssigkeit    befindet, und die einen quer zur  Laufrichtung dieses Materials liegenden schmalen  Schlitz bilden, dessen eines offenes Ende unterhalb  des zu     entwickelnden    Materials mündet,

   und dessen  anderes offenes Ende mit einem     Entwicklervorrats-          behälter        und    einer Anordnung nach Art der kom  munizierenden     Gefässe    in Verbindung steht, die für  die     Konstanthaltung    des Flüssigkeitsniveaus an der  dem zu entwickelnden Material zugekehrten Öffnung  des schmalen Schlitzes sorgt.  



  Die Vorrichtung besitzt in vorteilhafter Weise  einen sehr einfachen und übersichtlichen Aufbau.  Dieser erlaubt eine     einfache    und leichte Arbeitsweise  bei äusserst geringer     Störanfälligkeit.    Durch den ge  ringen Wartungsaufwand und die schnelle Betriebs  bereitschaft ergeben sich weitere     wirtschaftliche    Vor  teile. Ferner lässt sich die Menge des     Entwicklers    ge  nau den jeweiligen Bedürfnissen anpassen. Durch das       erfindungsgemässe    Verfahren werden elektrische Fel  der mit sehr guter Deckung der Bildstellen und schar  fer Randbegrenzung sichtbar gemacht.  



  Unter einem elektrostatischen Feld im     Sinne    der       Erfindung    versteht man einen auf seine elektrischen  Eigenschaften hin betrachteten Raum, der einen in  elektrischer Hinsicht wirksamen Körper umgibt. Die  ser Raum kann mit Gasen oder festen Körpern ge  füllt sein, er kann aber auch ein Vakuum darstellen,       d.h.    man spricht von einem elektrischen Feld, das  in einem gewissen Raumgebiet ausgebreitet ist, wenn  die vorliegenden     physikalischen        Verhältnisse    gewähr  leisten, dass eine      kleine    elektrische     Probeladung    e ,  wenn man sie an irgend einen Punkt des Raumge  bietes bringen würde, dort einer Kraft K ausgesetzt  wäre.  



  Ein elektrostatisches Feld im Sinne der Erfindung  kann     z.B.    erzeugt werden durch elektrostatische Ruf  ladung einer etwa aus der Elektrophotographie be  kannten organischen oder anorganischen Photoleiter  schicht, wobei diese gegebenenfalls für Kopierzwecke  durch bildmässige     Belichtung    differenziert wird. Die       bildmässig    modifizierten     elektrostatischen    Felder kön  nen auch etwa durch bildmässige     Belichtung    einer  geeigneten Schicht     während        gleichzeitiger    Anlegung  einer elektrischen Gleichspannung an diese Schicht er  zeugt werden.

   Verfahrensprinzipien dieser Art werden  beschrieben     z.B.    in dem Buch      Photoelectret        and        the          electrophotographic        process     von     V.M.        Fidkin    und       1.S.        Zheludev    (1961) in     Library    of     Congress,        catalog          card        Number    61 - 10020, und H.     Kallman,    B.

   Rosen  berg in  Persistent     internal        Polarization ,        Phys.        Rev.     97, Seite 6 (1955) und (1957) Seite 1610.    Das Verfahren und die Vorrichtung gemäss der  Erfindung sollen im folgenden anhand von schema  tischen Zeichnungen näher erläutert werden:  Figur 1 und 2 zeigen Ausführungsformen im       Seitenschnitt.     



       Fig.    1 stellt eine Ausführungsform dar, die be  sonders gute Ergebnisse liefert. Als Zug- und/oder  Schubanordnung zur Bewegung des feldtragenden  Materials 4 dienen hier zwei Walzenpaare 7b, 7c/7,  7a. Hierbei wird das zu entwickelnde Material mit der  zu entwickelnden Seite nach unten in Pfeilrichtung  durch die genannte Anordnung     hindurchgeführt.    Die  genannten     Walzen    können in der     innerhalb    der Kreise  gezeichneten Pfeilrichtung angetrieben werden.

   Wie  weiter unten näher ausgeführt werden wird, kann das  entwickelte Material nach Verlassen des Walzen  paares 7, 7a durch einen hier nicht gezeichneten Be  hälter aufgefangen oder durch eine ebenfalls nicht  gezeichnete, bekannte     Umlenkanordnung    nahe dem       Einführungsteil    entnommen werden. Die erwähnten  Walzen erstrecken sich in ihrer Ausdehnung über die  ganze Breite des zu entwickelnden Materials, sie kön  nen jedoch unterbrochen,     d.h.    in mehrere Teilwalzen  aufgeteilt sein. Im allgemeinen genügt es, wenn: das       Walzenpaar    7b und 7c oder die     Walzen    7b, 7 ange  trieben werden.  



  Es hat sich als     vorteilhaft    erwiesen, die Walze 7a  in ihrer Länge so auszusparen, dass sie das zu ent  wickelnde Material nur an den Rändern erfasst, wo  durch     ein    Verwischen des Bildes, das gegebenenfalls  noch feucht sein kann, auf alle Fälle vermieden wird.  



  Das Material, aus dem die erwähnten Walzen ge  fertigt sind, spielt keine kritische Rolle.     Hierfür    ist  beispielsweise ein Metallkern mit einer     Kunststoff-          oder        Schaumgummiummantelung    geeignet. Auch       Stahlwalzen    mit glatter oder     geriffelter        Oberfläche     können benutzt werden,     letzteres    ist vor allem wich  tig, wenn mit     einer    elektrischen     Vorspannung    gear  beitet werden soll, wie weiter unten ausgeführt wird.

    Die     Walzengeschwindigkeit    kann ebenfalls in weiten       Grenzen    variiert werden.  



  Der Kontakt der zu entwickelnden Materialober  fläche mit dem     Benetzungsentwickler,        d.h.    der Antrag  der Flüssigkeit, vollzieht sich an der schlitzartigen  Öffnung 2a. Diese schlitzartige Öffnung soll ebenfalls  über die ganze Breite des zu entwickelnden Materials  ausgedehnt sein. Die Öffnung liegt quer zur Bewe  gungsrichtung des Materials. Gute Ergebnisse werden       erzielt,    falls diese Öffnung     linienförmig    oder gegebe  nenfalls auch wellenförmig gestaltet ist.  



  Die genannte Öffnung stellt das eine Ende eines  schmalen Schlitzes 2 dar, das andere Ende ist     mit     einem Vorratsgefäss 1 a verbunden. Der     schmale     Schlitz 2 wird gebildet durch die beiden     Seitenbe-          grenzungsteile    3 und 3a, die verstellbar sind. Hier  durch lässt sich eine Variation der Schlitzbreite her  beiführen. Der Abstand der beiden     Seitenbegrenzungs-          teile    soll im allgemeinen so eingestellt werden, dass  die Schlitzbreite im Bereich einer     Kapillaröffnung,        d.h.     etwa einer Breite zwischen 0,05 und 5     mm,    vorzugs-      weise 0,1 - 1 mm, liegt.

   Die     Entwicklerflüssigkeit     steigt unter dem Einfluss der     Kapillarkräfte    bis zum  oberen Rand 2a des schmalen Schlitzes 2. Das feld  tragende Material wird an diesem oberen Rand vor  beigeführt und kommt somit in Kontakt mit der     Ent-          wicklerflüssigkeit.    Durch die eingangs erwähnten  Kräfte geht der für die Bilderzeugung notwendige  Teil der     Entwicklerflüssigkeit    auf das vorbeigehende  Material über. Die Nachlieferung der Entwickler  flüssigkeit,     d.h.    die     Konstanthaltung    des Flüssigkeits  niveaus an der Öffnung 2a, geschieht durch eine  weiter unten noch näher zu beschreibende weitere  Anordnung.  



  In     einer    bevorzugten Ausführungsform kann an  der Schlitzöffnung 2a ein Netz 8 angebracht werden,  das eventuelle Niveauschwankungen oder gegebenen  falls auftretende Unregelmässigkeiten sofort und völ  lig ausgleicht. Der Schlitz 2 wird dadurch nach oben  abgeschlossen, wodurch     gleichzeitig    ein sehr guter  Kontakt zwischen     Entwicklerflüssigkeit    und zu ent  wickelnder Schicht herbeigeführt wird. Das genannte  Netz 8, das sich ebenfalls     über    die ganze Breite des  schmalen Schlitzes erstrecken kann, besteht vorzugs  weise aus     einem    feinmaschigen Metallgitter, jedoch  sind auch Kunststoffe anzuwenden.

   Ferner kann die       Kapillarwirkung    des Schlitzes 2 durch Einbringung  eines porösen Materials, wie     Sintermetall    oder     Glas-          fritte,    erhöht und gesteuert werden.  



  Das erwähnte Vorratsgefäss la, mit dem das an  dere offene Ende des Schlitzes 2 in Verbindung steht,  wird durch eine     Ausnehmung    eines     vorteilhafterweise          keilförmig    auslaufenden, stabilen Gehäuses 1 gebil  det.  



  Die Grösse des Vorratsgefässes spielt keine Rolle,  sie sollte jedoch nicht zu klein gewählt werden, um  ein einwandfreies Durchfliessen und eine laufende  Versorgung des Schlitzes 2 mit     Entwicklerflüssigkeit     zu gewährleisten.  



  Der Vorratsbehälter la steht mit einer Anordnung  nach Art der     kommunizierenden    Gefässe in Verbin  dung. Diese Anordnung sorgt für eine Konstant  haltung des Flüssigkeitsniveaus an der dem zu ent  wickelnden Material zugewandten Öffnung des Schlit  zes 2. Im vorliegenden Fall der     Fig.    1 wird diese  Anordnung in bekannter Weise durch ein     Niveau-          gefäss    5 gegeben, dessen     Niveauoberfläche    stets sich  auf gleicher Höhe mit der Schlitzöffnung 2a befindet.

    Der Niveauausgleich bei Entnahme von Flüssigkeit an  der Öffnung 2a geschieht durch ein weiteres     Gefäss-          System    6, das in bekannter und ersichtlicher Weise  den vorliegenden Zweck erfüllt.  



  In     Fig.    2 wird eine Vorrichtung gezeigt, die es  erlaubt, während des Entwicklungsvorganges an das  zu entwickelnde Material einerseits und die     Ent-          wicklerflüssigkeit    andererseits Spannung anzulegen.  Der Kontakt des einen     Poles    der Spannungsquelle  wird durch die     Walze    9, die sich genau oberhalb der  schlitzförmigen Öffnung 2 befindet, hergestellt. Die  Spannungszufuhr zur Flüssigkeit kann auf verschie  dene Weise erfolgen, beispielsweise über eine - wie in         Fig.    2 gezeigt - in das Flüssigkeitsvolumen hineinra  gende Elektrode 10. Es ist weiterhin möglich, falls das  Gehäuse 1 aus Metall besteht, den anderen Pol der  Spannung auch an dieser Gehäuse anzulegen.

   Ferner  ist eine     Kontaktierung    auch an den     Seitenbegren-          zungsteilen    oder an dem metallischen Netz 8 oder an  die     Sintermetallführung    der     schlitzförmigen    Öffnung  2 anzubringen.  



  Um eine unerwünschte Beeinflussung des zu ent  wickelnden Materials auf der Rückseite oder an den  Rändern durch die     Entwicklerflüssigkeit    zu vermei  den, hat es sich als vorteilhaft erwiesen, die Walze  9 mit einer geringeren Breite auszuführen als das zu  entwickelnde Material. Umkehrentwicklungen dieser  Art sind bekannt. Ein Verfahren der genannten Art  ist mit der vorliegenden Vorrichtung mit gutem Er  folg durchzuführen. Es können Spannungen bis etwa  1000 Volt angelegt werden. Es tritt hierbei weder vor,  noch     während,    noch nach dem Entwicklungsvorgang  ein Überschlag bzw.     Kurzschluss    ein.

   Hierbei macht  sich in vorteilhafter Weise bemerkbar, dass die     Kon-          taktierung    zwischen dem     Benetzungsentwickler    und  dem zu     entwickelnden    Material jeweils unter direktem  und unmittelbarem Stromkontakt steht.  



  Für die     Konstanthaltung    des Flüssigkeitsniveaus  in dem Niveaugefäss 5 kann selbstverständlich auch  eine andere Anordnung, als in     Fig.    1 gezeigt wurde,  benutzt werden,     z.B.    eine Niveaumessung auf elektro  nischem oder photoelektrischem Wege,     z.B.    eine  Photozelle oder eine Vorrichtung nach Art eines  Schwimmers, der mit einem breiten Vorratsgefäss in  Verbindung stehen muss und für eine automatische  und kontinuierliche Nachfüllung der Flüssigkeits  menge im Gefäss sorgt. .  



  Das erfindungsgemässe Verfahren und die Vor  richtung gestatten es, Materialien, die elektrostatische  Felder tragen,     z.B.    elektrophotographisches Material,  das aufgeladen und bildmässig belichtet wurde, sehr  schnell zu entwickeln. Entwicklungsgeschwindigkeiten  von etwa 20 cm. pro Sek. bringen noch hervorragende  Ergebnisse. Es ist jedoch auch möglich, über diese  Geschwindigkeit hinauszugehen oder unter dieser Ge  schwindigkeit zu bleiben, wobei in diesen Fällen eben  falls noch sehr gute Bildqualitäten erhalten werden.  



  Es können mit der vorliegenden Vorrichtung so  wohl Formate, etwa DIN A 5 bis DIN A 1 als auch  mit gleich gutem Erfolg endlose,     d.h.    bandförmiges  Material, das     z.B.    auf einer Rolle aufgespult ist, ver  arbeitet werden. Im letzteren Falle können Zugwalzen  oder sonstige Vorrichtungen, die das zu entwickelnde  Material nach Verlassen der Entwicklungszone weiter  fördern, entbehrt werden, wenn die Auf- und Ab  spudvorrichtungen gesteuert sind. Die Entwicklungs  ergebnisse lassen sich bei einer beliebigen Anzahl von  Bildern in stets gleichbleibender Weise reproduzieren.



  Method and device for developing electrostatic fields The invention relates to a method for developing electrostatic fields by continuously contacting the material to be developed with a wetting developer located within a transverse, slot-shaped arrangement. The invention also relates to an apparatus for carrying out this method.



  During the development of wetting, one makes use of the changes in the adhesive tension of the developer liquid on a surface to be developed due to the image-wise differentiated state of this surface, which carries an electrostatic field.



  The wetting developer is a liquid that has such a composition that they only wet the material to be developed at the points that carry an electrostatic field. Aside from the selection of the developer solutions, one endeavors during this process to apply the developer liquid to the material carrying the field in such a way that rapid development and wetting of the image areas is effected without applying too large an excess, which is a disturbing factor Way could stick purely mechanically to the not intended surfaces.



  Furthermore, in the case of the development mentioned, there should be the possibility of generating reversal images by additionally applying an electrical voltage during the development process. For these reasons, too, an excess of developer fluid should be avoided so that it does not get onto the rear side of the material and the formation of a voltage level necessary for reverse development is prevented by a short circuit.



  The usual processes, such as simply wiping over or swiping through a liquid container, do not lead to a uniform, perfectly developed image in the wetting development process.

    Even already known methods and devices from coating technology and the blueprint area do not produce acceptable results because of the different purposes, especially not because in the development of the surfaces carrying the latent image: no differences in their mechanical surface properties - such as Rauhig - ability - can be exploited. Only the differences in the field strength must determine the image-wise wetting.



  In addition, the development device should be designed in such a way that the amount of developer required to color the entire surface is available, but that the mostly low-viscosity developer liquid does not touch the uninfluenced rear or the edges or in an uncontrolled manner outside the device got.



  One object of the invention is a method for developing electrostatic fields by means of a wetting developer. The method is characterized in that the material carrying the field is brought into contact with the wetting developer liquid, which is located in a narrow slot extending transversely to the direction of movement, with the side to be developed facing downwards is continuously refilled according to the amount removed for development.



  Another object of the invention is a device for carrying out the method according to the invention. This device is characterized by a pulling and / or pushing arrangement for moving the material to be developed, two side delimitation parts within which the developer fluid is located, and which form a narrow slot transverse to the direction of travel of this material, one of which is open at the bottom of the material to be developed flows,

   and the other open end of which is connected to a developer storage container and an arrangement in the manner of the communicating vessels, which ensures that the liquid level is kept constant at the opening of the narrow slot facing the material to be developed.



  The device advantageously has a very simple and clear structure. This allows a simple and easy way of working with an extremely low susceptibility to failure. The low maintenance costs and the quick operational readiness result in further economic advantages. Furthermore, the amount of developer can be precisely adapted to the respective needs. The method according to the invention makes electrical fields visible with very good coverage of the image areas and sharp edge delimitation.



  For the purposes of the invention, an electrostatic field is understood to be a space which is considered in terms of its electrical properties and which surrounds a body that is effective in electrical terms. This space can be filled with gases or solid bodies, but it can also represent a vacuum, i.e. One speaks of an electric field that is spread over a certain area of space if the existing physical conditions guarantee that a small electrical test charge e would be exposed to a force K if it were brought to any point in the area.



  An electrostatic field within the meaning of the invention can e.g. are generated by electrostatic charge of an organic or inorganic photoconductor layer known from electrophotography, for example, this layer being differentiated by image-wise exposure, if necessary for copying purposes. The image-wise modified electrostatic fields can also be generated, for example, by image-wise exposure of a suitable layer while simultaneously applying an electrical direct voltage to this layer.

   Process principles of this kind are described e.g. in the book Photoelectret and the electrophotographic process by V.M. Fidkin and 1.S. Zheludev (1961) in Library of Congress, catalog card Number 61 - 10020, and H. Kallman, B.

   Rosen berg in Persistent internal Polarization, Phys. Rev. 97, page 6 (1955) and (1957) page 1610. The method and the device according to the invention will be explained in more detail below with reference to schematic drawings: Figures 1 and 2 show embodiments in side section.



       Fig. 1 shows an embodiment that provides particularly good results. Two pairs of rollers 7b, 7c / 7, 7a are used here as a pulling and / or pushing arrangement for moving the field-bearing material 4. In this case, the material to be developed is passed through said arrangement with the side to be developed facing downwards in the direction of the arrow. Said rollers can be driven in the direction of the arrows drawn within the circles.

   As will be explained in more detail below, the developed material can be collected after leaving the pair of rollers 7, 7a by a loading container, not shown here, or removed by a known deflection arrangement, also not shown, near the introduction part. The mentioned rollers extend in their extension over the entire width of the material to be developed, but they can be interrupted, i. be divided into several partial rollers. In general, it is sufficient if: the pair of rollers 7b and 7c or the rollers 7b, 7 are being driven.



  It has been found to be advantageous to cut out the length of the roller 7a so that it only covers the material to be developed at the edges, where this is avoided in any case by blurring the image, which may still be damp.



  The material from which the mentioned rollers are made does not play a critical role. A metal core with a plastic or foam rubber coating is suitable for this, for example. Steel rollers with a smooth or corrugated surface can also be used; the latter is particularly important if work is to be carried out with an electrical preload, as will be explained below.

    The roller speed can also be varied within wide limits.



  The contact of the material surface to be developed with the wetting developer, i.e. the application of the liquid takes place at the slit-like opening 2a. This slot-like opening should also be extended over the entire width of the material to be developed. The opening is transverse to the direction of movement of the material. Good results are achieved if this opening is linear or, if necessary, also wave-shaped.



  Said opening represents one end of a narrow slot 2, the other end is connected to a storage vessel 1 a. The narrow slot 2 is formed by the two side delimitation parts 3 and 3a, which are adjustable. A variation of the slot width can be brought about by this. The distance between the two side delimitation parts should generally be set so that the slot width is in the area of a capillary opening, i.e. about a width between 0.05 and 5 mm, preferably 0.1-1 mm.

   The developer liquid rises under the influence of the capillary forces to the upper edge 2a of the narrow slot 2. The field-bearing material is fed in front of this upper edge and thus comes into contact with the developer liquid. As a result of the forces mentioned at the beginning, the part of the developer liquid required for image generation is transferred to the material passing by. The replenishment of the developer liquid, i.e. the maintenance of the liquid level at the opening 2a is done by a further arrangement to be described in more detail below.



  In a preferred embodiment, a network 8 can be attached to the slot opening 2a, which immediately and completely compensates for any level fluctuations or any irregularities that may occur. The slot 2 is closed at the top, whereby a very good contact between the developer liquid and the layer to be developed is brought about. Said network 8, which can also extend over the entire width of the narrow slot, preferably consists of a fine-meshed metal grid, but plastics are also used.

   Furthermore, the capillary effect of the slot 2 can be increased and controlled by introducing a porous material such as sintered metal or glass frit.



  The aforementioned storage vessel la, with which the other open end of the slot 2 is in connection, is gebil det through a recess of an advantageously wedge-shaped, stable housing 1.



  The size of the storage vessel is irrelevant, but it should not be chosen too small in order to ensure proper flow through and continuous supply of the slot 2 with developer liquid.



  The storage container la is connected to an arrangement in the manner of the communicating vessels. This arrangement ensures that the liquid level is kept constant at the opening of the slot 2 facing the material to be developed. In the present case of FIG. 1, this arrangement is provided in a known manner by a level vessel 5 whose level surface is always the same Height with the slot opening 2a is located.

    The level compensation when liquid is withdrawn at the opening 2a is done by a further vessel system 6, which fulfills the present purpose in a known and visible manner.



  In FIG. 2 a device is shown which allows voltage to be applied to the material to be developed on the one hand and the developer liquid on the other hand during the development process. The contact of one pole of the voltage source is made by the roller 9, which is located exactly above the slot-shaped opening 2. The supply of voltage to the liquid can take place in various ways, for example via an electrode 10 which protrudes into the liquid volume as shown in FIG. 2. It is also possible, if the housing 1 is made of metal, to also apply the other pole of the voltage to create this housing.

   In addition, a contact is to be made on the side delimitation parts or on the metallic mesh 8 or on the sintered metal guide of the slot-shaped opening 2.



  In order to avoid an undesirable influence on the material to be developed on the back or at the edges by the developer liquid, it has proven advantageous to make the roller 9 with a smaller width than the material to be developed. Inverse developments of this type are known. A method of the type mentioned can be carried out with the present device with good success. Voltages of up to about 1000 volts can be applied. A flashover or short circuit does not occur either before, during or after the development process.

   It is advantageously noticeable here that the contact between the wetting developer and the material to be developed is in each case under direct and immediate electrical contact.



  For keeping the liquid level constant in the level vessel 5, an arrangement other than that shown in Fig. 1 can of course also be used, e.g. a level measurement by electronic or photoelectric means, e.g. a photocell or a device like a float, which has to be connected to a wide storage container and ensures that the amount of liquid in the container is automatically and continuously refilled. .



  The inventive method and the device make it possible to use materials which carry electrostatic fields, e.g. very rapidly developing electrophotographic material that has been charged and imagewise exposed. Development speeds of about 20 cm. per second still bring excellent results. However, it is also possible to go beyond this speed or to stay below this speed, in which case very good image quality can also be obtained.



  With the present device, formats such as DIN A 5 to DIN A 1 as well as endless, i.e. tape-like material, e.g. is wound up on a roll, processed. In the latter case, pull rollers or other devices that further promote the material to be developed after leaving the development zone can be dispensed with if the spud devices are controlled up and down. The development results can be reproduced consistently for any number of images.

 

Claims (1)

PATENTANSPRÜCHE I. Verfahren zum Entwickeln elektrostatischer Felder mittels eines Benetzungsentwicklers, dadurch gekennzeichnet, dass das Material, das das Feld trägt, mit der zu entwickelnden Seite nach unten durch Vorbeiführen in Kontakt mit der Benetzungsent- wicklerflüssigkeit gebracht wird, die sich in einem schmalen, quer zur Bewegungsrichtung ausgedehnten Schlitz befindet und nach Massgabe der für die Ent wicklung entnommenen Menge kontinuierlich wieder nachgefüllt wird. PATENT CLAIMS I. A method for developing electrostatic fields by means of a wetting developer, characterized in that the material that carries the field is brought with the side to be developed facing downwards by passing it into contact with the wetting developer liquid, which is in a narrow, transverse direction to the direction of movement is extended slot and is continuously refilled according to the amount withdrawn for the development. II. Vorrichtung zur Ausführung des Verfahrens nach Patentanspruch I, gekennzeichnet durch eine Zug- und/oder Schubanordnung (7) zur Bewegung des zu entwickelnden Materials, zwei Seitenbegren- zungsteile (3), innerhalb derer sich ein Raum für die Entwicklerflüssigkeit befindet, und die einen quer zur Laufrichtung dieses Materials liegenden schmalen Schlitz (2) bilden, dessen eines offenes Ende unter halb des zu entwickelnden Materials mündet, II. Device for carrying out the method according to claim I, characterized by a pulling and / or pushing arrangement (7) for moving the material to be developed, two side delimitation parts (3) within which there is a space for the developer liquid, and the Form a narrow slot (2) lying transversely to the direction of travel of this material, one open end of which opens under half of the material to be developed, und des- sen anderes offenes Ende mit einem Entwicklervor- ratsbehälter und einer Anordnung nach Art der kommunizierenden Gefässe in Verbindung steht, die für die Konstanthaltung des Flüssigkeitsniveaus an der dem zu entwickelnden Material zugekehrten öff- nung des schmalen Schlitzes sorgt. and the other open end of which is connected to a developer supply container and an arrangement in the manner of communicating vessels, which ensures that the liquid level is kept constant at the opening of the narrow slot facing the material to be developed. UNTERANSPRUCH Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch ge kennzeichnet, dass während des Entwicklungsvor ganges zwischen dem feldtragenden Material und der Benetzungsentwicklerflüssigkeit eine Spannung zwi schen 50 und 1000 Volt angelegt wird. SUBCLAIM Method according to claim I, characterized in that a voltage between 50 and 1000 volts is applied between the field-bearing material and the wetting developer liquid during the development process.
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