Vorrichtung zur Durchführung von Reaktionen unter dem Einfluss von elektrischen Gasentladungen und Verfahren zum Betrieb derselben Die vorliegende Erfindung; bezieht sich auf eine Vorrichtunc, zur Durchführung von Reaktionen an gasförinigen und/oder feindispersen flüssigen und/oder festen Stoffen unter dem Einfluss elektrischer Gas entladungen in einem Reaktionsraum mit einem min destens eine Düse aufweisenden Zuführu#ngsorgan und auf ein Verfahren zum Betrieb dieser Vorrichtung.
Es sind bereits verschiedene Verfahren und Ein richtungen dieser Art bekan#nt, bei denen in einem (Teeigneten Gefäss zwischen spannungführenden El#ek- troden eine Glimmentladu#ng erzeugt wird, die auf einen Gasstrom einwirkt und in diesem Reaktionen verursacht.
Bei der Durchführung von Reaktionen an gasförtnigen, dampfarfigen oder feindispersen Stoffen ist aber die meist unvermeidliche Einwirkung des Elektrodenmaterials auf die Reaktion häufig unerwünscht, jedoch sind einigermassen energie reiche Gas- oder Glimmentladungen im freien Raum zwischen den Elektroden bisher unbekannt. Auch der Vorschlag, diese Schwierigkeiten durch Verwendung von Hochfrequenz-Gasentladungen zu umgehen, hat nicht zum Erfoh, -eführt.
<B> & </B> ZD Ein weiteres bekanntes Verfahren zur Durchfüh rung von Gasreaktionen in einem schmalen Spalt zwischen spannungführenden Metallwänden hat sich insofern als unzweckmässig herausgestellt, als infolge des hohen Strömungswiderstandes die VeTweilzeit der Reaktionspartner zu wenig beeinflussbar ist.
Dagegen ist ein Verfahren vorgeschlagen worden, bei welchem ein oder mehrere düsenartige Zuführungsorgane für die Reaktionspartner vorhanden sind und dieselben in Form von Strahlen in den Reaktionsraum, eingeleitet werden (Patent Nr. <B>357.377).</B> Dieses Verfahren ver meidet die obengenannten Mängel und gestattet ins besondere, für die als Strahl eingeleiteten Reaktions partner eine vorbestimmte Verweilzeit innerhalb, der elektrisch beeinflussten Raurnteile bzw. der wirksamen Zonen des Strahls zu erreichen,
was für die Erzeu- Olung ganz bestimmter Reaktionsprodukte von Bedeu tung ist.
Bei der weiteren Entwicklung dieses Verfahrens mit dem Ziel, grössere Durchsatzmengen zu erreichen, hat sich gezeigt, dass sich mit grösser werdendem Strahlquerschnitt die Ausbeute und der Reaktions ablauf in ungünstigem Sinne ändern. Diese Schwierig keit kann durch Verwendung der erfindungsgemässen Vorrichtung behoben worden.
Die erfindungsgemässe Vorrichtung zur Durchfüh rung von Reaktionen an gasförmigen und/oder fein- dispersen flüssigen und/oder festen Stoffen u#nter dem Einfluss elektrischer Gasentladungen in einem Reak tionsraum mit einem mindestens eine Düse aufwei senden Zuführorgan kennzeichnet sich dadurch, dass der Gesamtaustrittsquerschnitt des Zuführorgans der art gestaltet undloder aufgeteilt ist,
dass mindestens in einem Strahlabschnitt an der Düsenmündung das für die Summe aller von dem Zuführorgan ausgehen den Strahlen gebildete Verhältnis StrahlobeXfläche: Strahlquerschnitt grösser als bei einer Düse mit einer einzelnen kreisförmigen öffming gleichen Gesamt querschnittes ist.
Ein Verfahren zum Betrieb der erfindungsgemÜ- ssen Vorrichtung ist erfindungsgemäss dadurch<B>ge-</B> kennzeichnet, dass längs des Strömungsweges durch das Zuführorgan und den Reaktionsraum ein derarti ges Druckgefälle eingestellt wird, dass sich eine der gewünschten Reaktion angepasste Durchlaufzeit der in Reaktion zu bringenden Stoffe durch die elektrische Gasentladung im Reaktionsraum, ergibt.
Die Erfindung ist nachstehend in einigen Au#sfüh- rungsbeispielen anhand der Fig. <B>1</B> bis<B>17</B> näher erläu tert. Hiervon zeigt: Fig. <B>1</B> ein schematisches PrinzipbIld einer Appa ratur zur Durchführung von Reaktionen, Fig. 2 und<B>3</B> einen Grundriss bzw. Längsschnitt einer Mehrfachdüse mit parallel verlaufenden Strahl- achsen, Fig. 4 einen Längsschnitt durch eine Mehrfach düse mit einander schneidenden Strahlachsen,
Fig. <B>5</B> und<B>6</B> einen, Querschnitt bzw. eine Seiten ansicht einer Mehrfachdüse mit radial auseinander- laufenden Strahlrichtungen, Fig. <B>7</B> und<B>8</B> einen Längsschnitt und eine Vor- dcransicht einer weiteren Mehrfachdüse mit divergie renden Strahlachsen, Fig. <B>9, 10</B> und<B>11 je</B> eine Vorderansicht einer Mehrfachdüse mit verschiedenartigen Querschnitts- formen der Düsenöffnungen,
Fig. 12 und<B>13</B> bzw. 14 und<B>15</B> jeweils den Grund- riss und Längsschnitt zweier Mehrfachdüsen mit ko axialen Ringflächen, Fig. <B>16</B> und<B>17</B> den Quer- bzw. Längsschnitt durch ,ein weiteres Ausführungsbeispie1,einer Mehrfachdüse. Die beigefügte Fig. <B>1</B> stellt das Wirkungsscherna eines Ausführungsbeispiels einer Vorrichtung zur Durchführu#ng chemischer Reaktionen dar.
Diese be steht hier grundsätzlich aus dem Reaktionsgefäss<B>1 '</B> dem über ein düsenartiges Organ 2 ein Gasstrom mit den Reaktionspartnern zugeführt wird, und aus dem über eine Austragvorrichtung <B>3</B> die erzeugten festen oder flüssigen Endprodu#kte abgeführt werden, wäh rend die gasförinigen Produkte über das Rohr 4 und den Absorber<B>5</B> von der Pumpe<B>6</B> abgesaugt werden.
Die Reaktionspartner werden hierbei über die Düse 2 als Gas- oder Dampfstrahl in das Reaktions gefäss<B>1</B> geleitet. Dementsprechend besteht die<B>Mög-</B> lichkeit, einen als Dampf oder Gas vorliegenden Aus- or ganggsstoff unmittelbar der Düse 2 zuzuführen. In einem solchen Fall wird das gasförmige Ausgangsmaterial über die Leitung<B>7</B> einer Mischeinrichtung <B>8</B> zugeführt und über das Dosier- und Regelorgan<B>9</B> und die Lei tung:<B>10</B> zur Düse 2 geleitet.
Falls erforderlich, kann in der Mischeinrichtung <B>8</B> dem zu verarbeitenden Gas oder Dampf über die Leitung<B>11</B> eine gas- oder dampfförmige bzw. pulverförmige Komponente bei gefügt werden, die ihrerseits in der Dosiervorrichtung 12 aus einem oder mehreren Bestandteilen zusammen gesetzt wird, welche über die Leitungen<B>13,</B> 14 usw. zur Verfügung stehen.
Ist ein flüssiger oder fester Reaktionspartner vor handen, so wird z. B. ein Trägergas verwendet, dem das Ausgangsmaterial in Gestalt von festen oder flüs- siaen Partikeln feindispers beigemengt wird. Hierzu ist bei festen Stoffen eine. Mahleinrichtung und bei flüssigen Materialien eine Zerstäubungseinrichtung erforderlich, die im Wirkungsschema als Apparatur <B>15</B> angegeben ist, mit der Zubringerleitung<B>16</B> für das zu verarbeitende Material.
Das Trägergas wird der Apparatur<B>15</B> über<B>die</B> Leitung<B>17</B> zugeführt und über die Leitung<B>18</B> gelangt der die Partikel mit sich<B>füh-</B> rende Trägergasstrom zur Mischeinrichtung <B>8,</B> wo eventuelil eine gasförmige Komponente, z. B. Wasser stoff, zugemengt wird.
Im dargestellten Ausführungsbeispiel ist ein aus Stahl bestehendes und geerdetes Reaktionsgefäss<B>1</B> vor gesehen, in das die Mehrfachdüse 2elektrisch isoliert eingebaut ist. Dieselbe besteht vorzugsweise aus hoch hitzebeständigem Metall, etwa aus Wolfram, ist bei spielsweise wie in Fig. <B>7</B> und<B>8</B> dargestellt und unten noch genauer beschrieben ausgebildet, und besitzt eine wirksame Durchlaufkühlung (nicht gezeichnet). Koaxial zum Düsenkörper 2 ist im Innenraum des Reaktionsgefässes<B>1</B> eine hohle Ringelektrode<B>19</B> vor gesehen, die für eine Durchlaufkühlung eingerichtet und isoliert in die Gefässwandungen eingebaut ist.
Die Ringelektrode<B>19</B> soll vorzugsweise einen solchen Innendu#rchmesser besitzen, dass die, aus der Düse aus tretenden Gasstrahlen dieselbe nicht berührt. An den Anschlüssen 20 und 21 der Düse 2 bzw. der Rin- elektrode <B>19</B> wird die zur Aufrechterhaltung der Gas- bzw. Glimmentladung erforderliche Spannung ange legt. Vorzugsweise wird eine konstante oder peri odisch in der Amplitude sich ändernde Gleichspannung verwendet und dabei die Düse 2 als Kathode betrie ben. Um die Düse 2 energiemässig zu entlasten, kann aber auch die Ringelektrode<B>19</B> als Kathode und die Düse 2 als Anode betrieben werden.
Falls erwünscht, kann die Entladung auch mit Wechselspannung, be trieben werden. Um bei besonders hohen Energie umsätzen die Düse 2 weitgehend frei von Glimment- ladungen zu halten, kann die Betriebsspannung auch zwischen dem Metallgefäss <B>1</B> und dem Anschluss 21 der Ringelektrode<B>19</B> angelegt werden, oder in Strahl richtung zwei voneinander isolierte Ringelektroden verwendet und mit der Betriebsspannungsquelle ver bunden werden. Der Abstand zwischen der Ring elektrode<B>19</B> und der Meh,rfachdüse 2 wird auf die günstigste Ausbeute eingestellt.
Beim dargestellten Ausführungsbeispiel ist vorge sehen, dass eines der erzeugten Endprodukte an einer gekühlten Prallfläche 22 abgeschieden wird, die hier ebenfalls isoliert im Reaktionsgefäss<B>1</B> eingebaut und mit dem Anschluss <B>23</B> verbunden ist. Falls erwünscht, kann der Anschluss <B>23</B> geerdet oder mit dem Anschluss 21 verbunden werden.
Es besteht auch die Möglich keit, zwischen der Ringelektrode<B>19</B> und der Prall- fläche 22 eine Spannu#ngsdifferenz vorzusehen oder die Betriebsspannung den Anschlüssen 21 und<B>23</B> zu zuführen und den Anschluss 20 zu erden.
Eine solche Prallplatte kann auch beweglich angeordnet werden und ermöglicht dann eine kontinuierliche Austragung. Je nach Art des erzeugten und an der Praliplatte <B>g</B> 22 ausgeschiedenen Endprodukts ist eine geeignete Aus- tragvorrichtung <B>3</B> erforderlich, die hier als Tran#sport- schnecke angedeutet ist. Falls erforderlich, kann eine Unterdruckschleuse mit der Austrageinrichtung <B>3</B> ver einigt werden.
<B>Je</B> nach der Art des zu verarbeitenden Ausgangs- c materials und des erzeugten Endproduktes wird mit tels der Pumpe<B>6</B> ein bestimmter Druck im Reak- tionsgefäss, aufrechterhalten. Gemessen an der Mün dung des Absaugrohrs 4 kann z. B. im Druckbereich <B>0,1</B> bis<B>1000</B> mm Hg, vorzugsweise<B>1</B> bis<B>100</B> mm Hgi gearbeitet werden, wobei höhere Drücke vorzugs weise bei grossen zugeführten Gasmengen, also- bei grossen Düsenöffnungen, verwendet werden.
Im Reak tionsraum, also innerhalb der vom Strahl erzeugten Druckabfallzone, lassen sich besonders bei Gasdruk- ken von über<B>100</B> mm Hg,sehrhohe Energieumsätze erzielen.
Besonders bei hohen Energieumsätzen, ist von Wichtigkeit, dass in dem die einzelnen Strahlen umge benden Abschreckraum die vom Gass#trom zugeführte Wärme rasch abgeleitet wird, was ausser durch einge baute gekühlte Kondensationsbauteile auch durch in tensive Kühlung der Behälterwandungen ermöglicht wird. Jedenfalls sind geeignete Massnahmen zu tref fen, um eine Akkumulation der vom Gasstrom mit geführten Wärme im Abschreckraum sicher zu ver meiden.
Die Prallfläche 22 ist nur dann vorzusehen, wenn die End- und Nebenprodukte sofort kondensiert und damit Umkehrungen der Reaktionen vermieden wer den sollen. Es besteht aber auch die Möglichkeit, den Gefässunterteil in gewisser Höhe mit einem Material grosser Absorptionsfähigkeit für uner wünschte Nebenprodukte oder das gewünschte End produkt aufzufüllen -und den Gasstrahil, auf der Ober fläche dieses Materials auftreffen zu lassen. Hierdurch kann ebenfalls erreicht werden, dass eine gegenläufige Reaktion des erzeugten Endproduktes weitgehend ver mieden wird. Das Absorptionsmaterial kann konti nuierlich aus dem Entladungsgefäss abgeführt werden.
Beim vorliegenden Verfahren ist, wie weiter unten noch näher dargelegt wird, von besonderer Bedeutung, dass die zuzuführende Stoffmenge nicht als ein einzi ger Strahl, sondern aufgeteilt in mehrere Strahl, en zugeführt wird. Dementsprechend wird der nach der gewünschten Durchsatzinenge zu beniessende Gesamt- querscbnitt des düsenartigen Zuführorgans 2 in meh rere Einzelquerschnitte unterteilt. Somit entsteht eine Meh,rfachdüse , wobei unter diesem Ausdruck auch Düsenformen der in Fig. <B>9</B> bis<B>11</B> gezeigten Forin verstanden werden sollen.
Ein Ausführungsbeispiel, einer in der Apparatur nach Fig. <B>1</B> verwend-baren Mehrfachdüse zeigen, die Fig. 2 und<B>3.</B> Hier ist ein zylindrisches Rohr 40 mit einer mit fünf düsenartigen Bohrungen 41 verschenen Stirnwand 42 als Abschluss vorgesehen. Die Achsen der im Betriebe durch die Düsenbohrungen 41 erzeugten, Strahlen 43 verlaufen angenähert parallel.
Eine solche Mehrfachdüse mit dem Radius r, der gleichen Bohrungen 41 liefert angenähert die gleiche Durchsatzmenge wie eine kreis förmige Einzeldüse mit dem Radius (i#,)2 <B>= 5</B> (r1)2.
Anstelle paralleler Strahlachsen kann eine Mehr fachdüse auch für konvergierendie Strahlachsen aus gebildet werden, wie dies beispielsweise Fig. <B>3</B> zeigt. Hier ist die mit Düsenbohrungen 44 versehene Stirn wand 45 des Rohres 46 gewölbt und die Mittelachsen 47 der düsenartigen Bohrungen 44 konvergieren in einem Punkt 48 im Inneren des Reaktionsraumes.
Ein Ausführungsbeispiel einer Mehrfachdüse mit divergierenden Strahlachsen zeigen die Fig. <B>5</B> und<B>6.</B> Hier ist das Zuführungsrohr<B>50</B> mit einer Stirnwand <B>51</B> mit einem radial vorstehenden Rand<B>52</B> abge schlossen, der ein-, Anzahl von düsenartigen Radial- bohrungen <B>53</B> aufweist, die mit dem Rohrinnenraum 54 in Verbindung stehen.
Ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Mehrfach düse mit radial #divergierenden Strahlachsen ist in den Fig. <B>7</B> und<B>8</B> wiedergegeben. Ein flacher Zuführungs kanal<B>55</B> ist am Ende mit einer halbkreisförmigen Stirnwand<B>56</B> abgeschlossen, die drei flache schlitz- förmige öffnungen <B>57</B> besitzt, die mit dem Innen raum<B>58</B> des Zuführungskanals in Verbindung stehen.
Die Aufteilung des Querschnitts des düsenartigen Zuführorgans dient dem Zweck, die dem gewünschten Durchsatz angepasste Stoffmenge, beispielsweise ein Gas oder einen Dampf, nicht in einem dicken Strahl, sondern in einer Anzahl dünnerer Strahlen zuzufüh ren. Diese Massnahme ist einerseits deshalb vorteil haft, weil natürlich die Verweilzeit des oder der als Strahlen zugeführten Reaktionspartner bei einzelnen dünneren Strahlen Wesentlich genauer innerhalb ge wisser erwünschter Grenzen gehalten werden kann als bei einem dickeren Strahl.
Dies ist beispielsweise bei Mehrfachdüsen mit parallelen oder divergierenden Einzelstrahlen leicht einzusehen, denn die Ausbreitung derselben erfolgt innerhalb des Reaktionsraumes ganz oder wenigstens längs eines Teils ihres Weges unge stört und, die Verweilzeit eines Gaspartikels innerhalb des einzelnen Strahls ist kürzer und kann genauer vorausbestimmt werden als bei einem dickeren Einzel strahl. Anderseits ist aber auch dann eine Anzahl dünnerer Einzelstrahlen von Vorteil, wenn die Strah len von, der Peripherie aus mit Ladungsträgern, bei spielsweise Elektronen, beaufschlagt werden sollen, die innerhalb des Strahls infolge Absorption nur eine begrenzte Reichweite besitzen.
Im zuletzt genannten Fall kann die Aufteilung des erforderlichen Gesaintquerschnitts der Düse des Zuführorgans auch auf die in den Fig. <B>9 10</B> und<B>11</B> angedeutete Weise erfolgen, etwadurch radiale Quer wände<B>60</B> wie in Fig. <B>9,</B> durch sich kreuzende Schlitz öffnungen,<B>61</B> und<B>62</B> wie in Fig. <B>10,</B> durch parallele Schlitze<B>63.,</B> 64,<B>65, 66</B> wie in Fig. <B>11,</B> oder durch einen Ringschlitz wie in Fig. 12.
Das Ausführungsbeispiel nach Fig. 12 und<B>13</B> zeigt ein Zuführergan zur Erzeugung eines aus dem Ringschlitz<B>70</B> austretenden Gasstrahls<B>71,</B> der durch Elektronen beaufschlagt wird, die von der koaxial den Strahl<B>71</B> umschliessenden Innenwandung<B>72</B> des Metallrandes<B>73</B> ausgehen und radial nach, innen auf den Strahl zu fliegen.
Der Metallrand<B>73</B> ist ein Teil des Zuführorgans 74 bzw. dessen tellerartiger Stirn wand<B>75.</B> Das Zuführorgan 74 weist den Zuführkanal <B>76</B> fürdie Reaktionspartner auf, der mit dem düsen artigen Ringschl#itz <B>70</B> in Verbindung steht, sowie Hohlräume.<B>77</B> zur Durchleitung eines Kühlmittel- stromes. Das Zuführorgan 74 besteht aus, Metall und wird über den Anschluss <B>78</B> mit dem wenigstens zeit weise negativen, Pol einer Spannungsquelle verbun den,
deren anderer Pol über den Anschluss <B>79</B> an einem strahlabwärts vor der Stirnwand<B>75</B> und ko axial zum Strahl<B>71</B> angeordneten, Ringelektrode<B>80</B> liegt. Im Betrieb entsteht bei geeignet gewähltem Abstand der Ringelektrode<B>80</B> von der Stirnwand<B>75</B> und vom Rand<B>73</B> an dessen Innenseite<B>72</B> eine in tensive elektrische Glimmentladung, wenn das Zu- führorgan 74 negatives Potential gegenüber der Ring elektrode<B>80</B> besitzt.
Von der sich bildenden Glimm schicht und der Innenwandung<B>72</B> werden Elektronen in Richtung auf den Strahl<B>71</B> emittiert, die #densel- ben durchsetzen und die Reaktionspartner dissoziieren oder anderweitig beeinflussen können. Da hierbei eine wenigstens teilweise Absorption der Elektronen stattfindet, wird die Breite des Ringschlitzes<B>70</B> ent sprechend der jeweiligen Reichweite der Elektronen bemessen.
Bei dem ebenfalls zur Beaufschlagung der Strah len von der Peripherie aus eingerichteten Ausfüh rungsbeispiel eines Zuführorgans gemäss Fig. 14 und <B>15</B> ist die Stirnwand<B>85</B> des Zuführungsrohres<B>86</B> mit vier düsenartigen Bohrungen,<B>87</B> versehen" deren jede sich in einer zylindrischen Mulde<B>88</B> befindet. Die Stirnwand<B>85</B> ist durch die Hohlräume<B>89</B> kühlbar. Der Stirnwand<B>85</B> wird über den Anschluss <B>90</B> weni- stens zeitweise negatives Potential zugeführt.
Die mit <B>je</B> einer, konzentrisch zu den einzelnen Strahlen<B>92</B> angeordneten öffnung <B>93</B> versehene Elektrodenplatte 94 erhält wenigstens zeitweise positives Potential, das über den Anschluss <B>91</B> zugeführt wird. Auch hier entsteht an den zylindrischen Innenwandungen<B>95</B> der Mulden<B>88</B> ein. Glimmsaum, der radial zur Strahl- achse wandernde Elektronenströme hervorruft, wel che die einzelnen Strahlen<B>92</B> durchsetzen.
Hier kann der Durchmesser der Bohrungen<B>87,</B> also die Dicke des entstehenden, Strahls, nach der Durchdringungs- fähig gkeit der erzeugten Ladungsträger gewählt wer- den.
Die geeignetste Dicke der Einzelstrahlen, etwa bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 14,<B>15,</B> hängt natür lich von der Gasdir-ke im Strahl selbst und von der Durchdringungsfähigkeit der den Strahl beaufschla- genden, Ladungsträger ab. Es. haben sich Dicken zwi schen<B>1</B> mm bis<B>10</B> mm, vorzugsweise<B>1</B> mm bis<B>5</B> mm, als brauchbar erwiesen.
Bei der Gestaltung des Quer schnitts bzw. der Einzelquerschnitte, ist zu berück sichtigen, dass die Strahlgeschwinchigkeit wenigstens dicht an der Düsenmündung mindestens<B>1/100</B> der Schallgeschwindigkeit betragen muss. Meist sind aber, wegen der angestrebten kurzen Verweilzeiten, we sentlich höhere Strahlgeschwindigkeiten bis zum Mehr fachen der Schallgeschwindigkeit erwünscht. Diese Geschwindigkeiten sind bei geeigneter Form der<B>Dü-</B> sen, etwa nach Art von Lavalldüsen, durchaus er reichbar.
Der Druck im Reaktionsgefäss<B>1</B> wird ent sprechend der gewünschten Strahlgeschwindigkeit und der Durchlaufzeit der Reaktionspartner durch die wirksamen Strahlzonen gewählt, liegt aber immer oberhalb von<B>0,5</B> mm Hg. Die Betriebsspannung liegt innerhalb des Bereiches von<B>150</B> bis 2000 Volt, vor zugsweise von 200 bis<B>900</B> Volt.
Ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Zuführ- organs zeigen die Fig. <B>16</B> und<B>17.</B> Hier befindet sich in einem äusseren Rohr<B>100</B> ein zweites Rohr<B>101</B> kleineren Durchmessers mit einer Vielzahl düsenarti ger Bohrungen 104 in seiner Wandung. Das innere Rohr<B>101</B> bildet mit dem äusseren Rohr<B>100</B> einen Ringkanal 102, der zur Zuleitung eines oder mehrerer Reaktionspartner, beispielsweise einem Gasgemisch, dient, das über die Düsen 104 in den Innenraum<B>103</B> des Rohres<B>101</B> in Form von radial gerichteten Strah len<B>105</B> eingeleitet wird.
Ein oder mehrere Reaktions partner, oder auch ein Hilfsgas, können auch in Pfeil richtung<B>106</B> durch den Innenraum<B>103</B> geblasen wer den und gleichzeitig zur Abführung der Reaktions produkte dienen. Als Gegenelektrode kann beispiels weise ein längs der Mittelachse sich erstreckender Me tallstab (nicht gezeichnet) vorgesehen werden, der positives Potential gegenüber dem Rohr<B>101</B> führt. Dann entsteht auf der Rohrinnenseite eine elektrische Glimmentladung und ein zur Roh#rachse gerichteter Elektronenstrom.
Falls erwünscht, kann jede der dü- sen#artigen Bohrungen 104 auf der Innenseite des Rohres<B>10 1</B> mit einer Mulde versehen werden, entspre chend der Vertiefung<B>88</B> an den, Bohrungen<B>87</B> des in Fig. 14 und<B>15</B> dargestellten Zufüh#rorgans.