CH343492A - Electrical resistance - Google Patents

Electrical resistance

Info

Publication number
CH343492A
CH343492A CH343492DA CH343492A CH 343492 A CH343492 A CH 343492A CH 343492D A CH343492D A CH 343492DA CH 343492 A CH343492 A CH 343492A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
film
electrical resistance
sep
glass
resistance
Prior art date
Application number
Other languages
French (fr)
Inventor
Davis Koblitz James
Original Assignee
Corning Glass Works
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Corning Glass Works filed Critical Corning Glass Works
Publication of CH343492A publication Critical patent/CH343492A/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • H01C7/18Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material comprising a plurality of layers stacked between terminals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B61RAILWAYS
    • B61GCOUPLINGS; DRAUGHT AND BUFFING APPLIANCES
    • B61G9/00Draw-gear
    • B61G9/12Continuous draw-gear combined with buffing appliances, e.g. incorporated in a centre sill
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/02Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances
    • H01B3/08Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances quartz; glass; glass wool; slag wool; vitreous enamels
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/02Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances
    • H01B3/08Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances quartz; glass; glass wool; slag wool; vitreous enamels
    • H01B3/087Chemical composition of glass
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C1/00Details
    • H01C1/02Housing; Enclosing; Embedding; Filling the housing or enclosure
    • H01C1/032Housing; Enclosing; Embedding; Filling the housing or enclosure plural layers surrounding the resistive element
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • H01C7/006Thin film resistors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/211SnO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/24Doped oxides
    • C03C2217/244Doped oxides with Sb
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)
  • Adjustable Resistors (AREA)
  • Springs (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)

Description

       

  Résistance électrique    La présente invention a pour objet une résistance  électrique comportant un corps en verre, tel qu'un  tube, une tige ou une feuille, recouvert d'un     film     adhérent     électroconducteur    en oxyde métallique, et  des bornes espacées en contact électrique avec le film.  



  Pour la fabrication de ce type de résistance, un  corps en verre est chauffé à une température d'envi  ron 500 à     700,1    C. Le corps chauffé est alors mis en  contact avec une vapeur ou une solution pulvérisée  d'une matière     hydrolisable    choisie afin de produire  sur la surface exposée du corps un film d'oxyde     élec-          troconducteur        mince    et extrêmement adhérent.

   Les  matières et mélanges aptes à produire de tels     films     comprennent les chlorures, les bromures, les iodures,  les nitrates, les     oxalates,    les sulfates et les acétates  d'étain, d'indium, de cadmium, d'étain et d'antimoine,  d'étain et d'indium, ou d'étain et de cadmium avec  ou sans sel     hydrolisable    similaire ou autre composé  d'un métal de modification tel que le zinc, le fer, le  cuivre ou le chrome. Le film est composé de l'oxyde  ou des oxydes correspondants.  



  L'épaisseur du     film    augmente avec la durée d'ex  position du corps chaud aux vapeurs de la solution  et la résistance électrique du film diminue générale  ment quand son épaisseur augmente.  



  On peut admettre pour le calcul de la résistance  électrique de ces films très minces que l'épaisseur est  constante. Dans ces conditions, on a  
EMI0001.0012     
    dans laquelle     Rf    est la résistance d'un film rectan  gulaire de largeur 1 et de longueur L et o     f    est la ré  sistance d'un film carré de grandeur quelconque, ex  primée en   ohms par carré  .    On peut obtenir des films ayant des épaisseurs in  férieures à celle du premier ordre de couleurs d'in  terférence, ou     atteignant    le dixième ordre et la résis  tance électrique correspondante passe de<B>1000</B> 000  ou plus jusqu'à 5 ohms ou moins par carré.

   On peut  également obtenir des résistances plus élevées en  découpant un film d'une résistance donnée déposé  sur un corps cylindrique pour lui donner la forme  d'une bande spiralée d'une longueur et d'une- largeur  prédéterminées.  



  Les résistances composées de films     électroconduc-          teurs    de ce type présentent, pour de nombreuses ap  plications, certains avantages comparés aux autres  types de résistances. Toutefois, leur     résistance    élec  trique a tendance à l'instabilité, particulièrement si  elles sont utilisées en courant continu. Cette instabi  lité se manifeste par un changement temporaire ou  permanent de la résistance en service. Bien que cette  tendance soit observable à basse température, elle de  vient progressivement plus     importante    à mesure que  la température développée augmente.

   Cette tendance  a grandement limité l'emploi des résistances à     film          électroconducteur    et a eu pour résultat d'en inter  dire l'emploi dans un grand nombre     d'applications,     particulièrement dans les cas     d'utilisation    entraînant  la production de hautes températures de fonctionne  ment.    La présence d'ions de métal     alcalin    dans le corps  en verre a une     influence    néfaste sur la     stabilité    du  film et cette     influence    devient progressivement plus  importante au fur et à mesure que la température  augmente.  



  On admet que les ions de métal alcalin se dépla  cent en contact avec le film et en provoquent la rup-           ture    partielle, probablement à la suite d'une réaction  chimique ou électrochimique se produisant entre les  ions migrateurs et les composants du film.  



  La résistance, objet de cette invention, est carac  térisée en ce que le corps en verre est pratiquement  exempt d'ions de métal alcalin. Le terme   pratique  ment exempt y> signifie que les ions de métal alcalin  ne sont pas ajoutés intentionnellement et sont évités,  autant que possible, par une sélection soigneuse des  matières brutes et par le choix de l'appareillage utili  sé pour produire le corps en verre.  



  En réalité, toutes les matières brutes contiennent  au moins des traces de composés de métaux alcalins.  Ces traces elles-mêmes peuvent être supprimées par  une extraction ou purification spéciale mais, ce pro  cédé est d'ordinaire impraticable du point de vue éco  nomique et il est inutile d'aller si loin.  



  Ainsi qu'il a déjà été dit dans ce qui précède, un  grand nombre de matières connues peuvent être uti  lisées pour la production du film     électroconducteur.     Toutefois, on s'est aperçu que la stabilité électrique  optimum est obtenue avec des films d'oxydes d'étain  et d'antimoine.

   Le film primaire est de préférence une       combinaison        de        ces        oxydes        contenant        jusqu'à    6     %     d'oxyde d'antimoine et le film protecteur d'oxyde  métallique, s'il existe, a une teneur en oxyde     d'anti-          moine        plus        élevée,        de        l'ordre        de        30-60,%.     



  On décrit ci-après, à titre d'exemple et en réfé  rence au dessin annexé, trois formes d'exécution de  la résistance, objet de l'invention.  



  Les     fig.    1, 2 et 3 représentent respectivement ces  trois formes d'exécution en coupe axiale partielle.  La résistance de la     fig.    1 comporte un     corps    10,  en verre pratiquement exempt d'alcali, un film     élec-          troconducteur    d'oxyde     métallique    11 déposé sur la  surface du corps en verre et une borne     électroconduc-          trice    12 appliquée sur le film à chaque extrémité du  corps. Le film<B>11</B> est déposé sur la surface du corps  10 au moyen de tout procédé connu.

   Les     bornes    12  sont métalliques et peuvent être formées par tout pro  cédé connu de métallisation.  



  Un mince revêtement d'une matière     organo-mé-          tallique    telle qu'un     résinate    de métal noble, peut, par  exemple, être cuit sur le corps. En variante, les pâtes  métallisantes contenant un     flux    vitreux telles que les  pâtes à l'argent que l'on trouve dans le     commerce     peuvent être utilisées. Bien que les bornes soient re  présentées superposées au film     électroconducteur    11,  elles peuvent également être appliquées directement  au corps 10 avant le dépôt du film. La seule condi  tion nécessaire est qu'une liaison électrique appro  priée soit établie entre le film 11 et les     bornes    12.  



  Le corps en verre 10 a de préférence une surface  lisse et un coefficient de dilatation linéaire variant de  30 à 60 X     10-7/0C.    Il est composé d'un verre     silico-          alumineux    contenant des oxydes alcalino-terreux et  doit naturellement résister à la température nécessaire  pour procéder au revêtement, sans qu'il se produise  de déformation ou de ramollissement appréciables.    La résistance représentée à la     fig.    2 est semblable  à celle de la     fig.    1, mais comporte en outre un revê  tement protecteur 13 déposé sur le film     électrocon-          ducteur    11 et s'étendant entre les bornes 12.

   Ce re  vêtement protecteur 13 est en céramique vitrifiée ou  émail. Son rôle est de préserver le film     électroconduc-          teur    11 de l'influence des agents atmosphériques, qui  sont également un facteur d'instabilité de la résis  tance.  



  Les ions de métaux alcalins, s'ils existent, peu  vent se déplacer à l'intérieur du revêtement protec  teur aussi bien que dans le     support    et avoir aussi une  influence néfaste sur le film conducteur. Dans l'inté  rêt de la stabilité électrique il est donc également im  portant que tout revêtement protecteur employé soit  pratiquement exempt d'ions de métal alcalin.  



  La forme d'exécution préférée est celle de la       fig.    3. Elle comprend un corps 10, en verre pratique  ment exempt d'alcali, portant un film d'oxyde métal  lique     électroconducteur    11. Un second film d'oxyde  métallique 13 ayant une résistance plus élevée est  déposé sur le film 11 et sert de revêtement protecteur  et les bornes 12 sont posées sur le film 13. Les deux  films d'oxyde métallique peuvent être déposés suc  cessivement au cours d'une opération continue de re  vêtement.

   La résistance électrique du film 13 doit  être suffisamment élevée pour ne pas contribuer de  manière appréciable à la conductibilité entre les bor  nes 12, mais en même temps doit être suffisamment  faible pour permettre un contact électrique conve  nable entre les bornes 12 et le film 11 sans produc  tion de résistance au contact ou d'impédance au pas  sage du courant. Il a été établi que ces conditions sont  généralement remplies quand le film 13 a une résis  tance de 200 ohms à 10 mégohms par carré et que  cette résistance est au moins 10 fois celle du film  11 qui peut être de 20 à 10 000 ohms par carré. Des  résistances de ce type ainsi que leur fabrication sont  décrites en détail dans le brevet No 341885.  



  Dans le tableau ci-après sont indiquées des com  positions de verre appropriées à la formation du corps  de la résistance. Ces compositions sont indiquées en  pourcentage de poids des oxydes dans les charges  de verre.  
EMI0002.0046     
  
    A <SEP> B <SEP> C <SEP> D <SEP> E
<tb>  SiO., <SEP> 62 <SEP> 62 <SEP> 62 <SEP> 58 <SEP> 44
<tb>  ALOÏ <SEP> 15 <SEP> 15 <SEP> 15 <SEP> 15 <SEP> 7
<tb>  CaO <SEP> . <SEP> . <SEP> 18 <SEP> 14,7 <SEP> 10 <SEP> 10
<tb>  <B>MgO</B> <SEP> ... <SEP> .. <SEP> 5 <SEP> 8,3 <SEP> 7 <SEP> 7
<tb>  BaO <SEP> ..... <SEP> 6 <SEP> 6
<tb>  B,O:; <SEP> . <SEP> 4 <SEP> 17
<tb>  Pb0 <SEP> 27
<tb>  Zn0 <SEP> ........ <SEP> 5       Les compositions A à D sont des verres conte  nant essentiellement de la silice, de l'alumine et des  oxydes de métaux alcalino-terreux.

   Ces verres con  viennent particulièrement du fait que leurs coeffi-           cients    de dilatation thermique sont de 30 à 60  X     10-7/ C    et que leurs points de ramollissement sont  relativement élevés et     permettent    donc la formation  de film à très haute température. Le verre E, d'autre  part, est habituellement utilise comme revêtement  protecteur en raison de son point de ramollissement  relativement bas. Toutefois, il peut également être  utilisé comme corps en cas de dépôt d'un revêtement  à basse température bien que ceci ne soit pas à re  commander en raison du soin tout particulier à ap  porter à l'obtention d'un film satisfaisant à de si  basses températures.  



  On décrit dans les exemples ci-après la fabrica  tion de la résistance faisant l'objet de la présente in  vention, en montrant ses avantages par rapport aux  résistances à film déjà connues.    <I>Exemple 1:</I>  Les verres A et B du tableau ci-dessus ont été  fondus et des barreaux d'environ 6,5 mm de diamè  tre produits à l'aide de cette fusion. A titre de com  paraison, un barreau de même dimension a été étiré  à partir d'un verre ordinaire indiqué ci-après   Verre  X  . Le verre   X  est par exemple, un verre com  mercial ayant la composition ci-après    <I>Exemple 2</I>  Les éléments de barreau de verre     utilisés    sont de  mêmes longueurs que dans l'exemple 1 ; ces bar  reaux sont faits à l'aide du verre C du tableau et du  verre X contenant du     Na2O    déjà cité à l'exemple 1.

    Des films ayant une résistance de 20 - 30 ohms par  carré ont été déposés sur des barreaux en les expo  sant aux vapeurs d'une solution de chlorures d'étain  et d'antimoine capables de produire un     film        conte-          nant        environ        95        %        d'oxyde        d'étain        et        5'%        d'oxyde     d'antimoine.

   Des bornes métalliques ont été posées  et un revêtement organique à base de silicones a été  ensuite appliqué sur le film conducteur et entre les  bornes pour assurer la protection contre les agents  atmosphériques et contre l'usure ou autres détériora  tions mécaniques.  



  Ces résistances ont ensuite été mises à l'essai en  courant continu sous une charge de 8 watts avec une  température de service d'environ 3150. L'essai a été  arrêté au bout de 312 heures ; la variation de résis  tance de la résistance en verre X non conforme à       l'invention    a     été        de        8,9'%        alors        que        celle        de        la        ré-          sistance    en verre C exempt d'alcali n'a été que de       0,5'010.       <I>Exemple 3:

  </I>         60,4        %        SiO,    ,     4,4        %        B.O'.;    ,     18,0        'o/o        Al@O;;

      ,       7,4        %        CaO,        8,8        %        MgO        et    1     @%        Na.0.        Une        portion     d'environ 50 mm de longueur a été prélevée sur cha  que barreau puis chauffée à une température de 600  à 650e C et exposée à une solution vaporisée de chlo  rures d'étain et d'antimoine afin de produire, sur la  surface,

   un film     électroconducteur    contenant environ       95        %        d'oxyde        d'étain        et        5'%        d'oxyde        d'antimoine.     L'exposition pour la formation du film a été conti  nuée jusqu'à ce que le film ait une résistance d'envi  ron 60 ohms par carré. Chacun des barreaux por  tant un revêtement     électroconducteur    a ensuite été  muni de bornes métalliques telles que celles repré  sentées     fig.    1 et sur sa surface d'une glaçure de pro  tection correspondant en composition au verre E du  tableau.  



  Les résistances ainsi fabriquées ont été essayées  en courant continu sous 10 watts et à une tempéra  ture d'environ 350 à     375o    C au point le plus chaud  de la résistance. Au cours d'un service continu de  380 heures, la résistance faite avec le verre A a pré  senté une variation maximum de résistance électrique  de 4,9     @/o    et la résistance faite avec le verre B une       variation        maximum        de        4,7        %.        Ces        variations        maxima     se sont produites bien avant la fin de l'essai et en  suite,

   ces résistances sont revenues à des valeurs voi  sines des valeurs initiales et se sont pratiquement sta  bilisées à ces valeurs. Pendant ce temps, la résistance  au verre X, non conforme à l'invention, a présenté  une variation qui n'a cessé de croître et qui a été de       12        %    à     la        fin        de        l'essai.       Des résistances de précision ont été préparées sur  des éléments étirés à partir du verre C et du     verre    X  de la manière indiquée à l'exemple 2.

   La composi  tion du film     conducteur    de ces résistances était la  même que celle des films des exemples 1 et 2 mais  ce film était     suffisamment    mince pour que sa résis  tance électrique se trouve au voisinage de 600 à 700  ohms par carré. Le revêtement organique indiqué à  l'exemple 2 a été également appliqué sur ces résis  tances.  



  Les résistances ont été essayées en courant con  tinu sous une charge de 2 watts et maintenus 500 heu  res en essai à une température de service d'environ       145()    C. A la fin de l'essai on a observé que la résis  tance du film conducteur déposé sur le verre X avait       subi        une        variation        de        2,5        '%        alors        que        la        variation     présentée par le film déposé sur le verre C exempt  d'alcali n'était que de 0,22 0/0.

   Donc dans cet essai       le        film        déposé        sur        un        verre        contenant        1'%        de        N%O     présentait une variation de plus du double de celle  admise pour les résistances de précision de ce type,  alors que la variation de la résistance du film déposé  sur des verres exempts d'alcali se trouvait largement  dans les limites admises.

      Comme le montrent les résultats ci-dessus, la  résistance à film faisant l'objet de l'invention peut  être utilisée comme résistance de puissance fonction  nant à haute température ainsi que dans d'autres do  maines d'application qui lui étaient interdits jusqu'à  présent en raison de ses caractéristiques variables en      service. D'autre part, cette résistance est de stabilité  bien supérieure à celle des résistances à film connues  jusqu'à présent, dans les domaines d'application où  elles étaient acceptées.



  Electrical Resistor The present invention relates to an electrical resistance comprising a glass body, such as a tube, rod or sheet, covered with an electrically conductive adherent film of metal oxide, and spaced terminals in electrical contact with the film. .



  For the manufacture of this type of resistance, a glass body is heated to a temperature of approximately 500 to 700.1 C. The heated body is then contacted with a vapor or a sprayed solution of a chosen hydrolizable material. to produce a thin and extremely adherent film of electroconductive oxide on the exposed surface of the body.

   Materials and mixtures suitable for producing such films include chlorides, bromides, iodides, nitrates, oxalates, sulfates and acetates of tin, indium, cadmium, tin and antimony, tin and indium, or tin and cadmium with or without a similar hydrolyzable salt or other compound of a modifying metal such as zinc, iron, copper or chromium. The film is composed of the corresponding oxide or oxides.



  The thickness of the film increases with the duration of exposure of the hot body to the vapors of the solution and the electrical resistance of the film generally decreases as its thickness increases.



  It can be assumed for the calculation of the electrical resistance of these very thin films that the thickness is constant. Under these conditions, we have
EMI0001.0012
    in which Rf is the resistance of a rectangular film of width 1 and of length L and o f is the resistance of a square film of any size, expressed in ohms per square. Films can be obtained having thicknesses smaller than that of the first order of interference colors, or reaching the tenth order and the corresponding electrical resistance goes from <B> 1000 </B> 000 or more up to 5. ohms or less per square.

   Higher strengths can also be obtained by cutting a film of a given strength deposited on a cylindrical body to give it the shape of a spiral strip of a predetermined length and width.



  Resistors composed of electroconductive films of this type have, for many applications, certain advantages compared to other types of resistors. However, their electrical resistance tends to instability, especially if they are used in direct current. This instability manifests itself as a temporary or permanent change in resistance in service. Although this tendency is observable at low temperature, it becomes progressively more important as the developed temperature increases.

   This trend has greatly limited the use of electroconductive film resistors and has resulted in their being prohibited from use in a large number of applications, particularly in those use cases where high operating temperatures are produced. . The presence of alkali metal ions in the glass body has a detrimental influence on the stability of the film, and this influence becomes progressively greater as the temperature increases.



  It is believed that the alkali metal ions move in contact with the film and cause the film to partially break down, possibly as a result of a chemical or electrochemical reaction occurring between the migrating ions and the film components.



  The resistor, object of this invention, is characterized in that the glass body is substantially free of alkali metal ions. The term virtually free y> means that the alkali metal ions are not intentionally added and are avoided, as far as possible, by careful selection of the raw materials and by the choice of the equipment used to produce the glass body. .



  In fact, all raw materials contain at least traces of alkali metal compounds. These traces themselves can be removed by special extraction or purification, but this process is usually economically impractical and there is no need to go so far.



  As already stated in the above, a large number of known materials can be used for the production of the electroconductive film. However, it has been found that optimum electrical stability is obtained with films of tin and antimony oxides.

   The primary film is preferably a combination of those oxides containing up to 6% antimony oxide and the protective metal oxide film, if any, has a higher antimony oxide content, of the order of 30-60,%.



  Three embodiments of the resistor, subject of the invention, are described below by way of example and with reference to the appended drawing.



  Figs. 1, 2 and 3 respectively represent these three embodiments in partial axial section. The resistance of fig. 1 comprises a body 10, of substantially alkali-free glass, an electrically conductive metal oxide film 11 deposited on the surface of the glass body, and an electrically conductive terminal 12 applied to the film at each end of the body. The film <B> 11 </B> is deposited on the surface of the body 10 by any known method.

   The terminals 12 are metallic and can be formed by any known metallization process.



  A thin coating of an organometallic material, such as a noble metal resinate, can, for example, be baked on the body. Alternatively, vitreous flux containing metallizing pastes such as commercially available silver pastes can be used. Although the terminals are shown superimposed on the electroconductive film 11, they can also be applied directly to the body 10 before the deposition of the film. The only condition necessary is that a suitable electrical connection be established between the film 11 and the terminals 12.



  The glass body 10 preferably has a smooth surface and a coefficient of linear expansion varying from 30 to 60 X 10-7 / 0C. It is composed of a silico-aluminous glass containing alkaline earth oxides and must naturally withstand the temperature necessary for the coating, without any appreciable deformation or softening occurring. The resistance shown in fig. 2 is similar to that of FIG. 1, but further comprises a protective coating 13 deposited on the electroconductive film 11 and extending between the terminals 12.

   This protective clothing 13 is made of vitrified ceramic or enamel. Its role is to preserve the electroconductive film 11 from the influence of atmospheric agents, which are also a factor of instability of the resistance.



  Alkali metal ions, if they exist, can move inside the protective coating as well as in the support and also have a detrimental influence on the conductive film. For the sake of electrical stability, therefore, it is also important that any protective coating employed be substantially free of alkali metal ions.



  The preferred embodiment is that of FIG. 3. It comprises a body 10, of substantially alkali-free glass, carrying an electrically conductive metal oxide film 11. A second metal oxide film 13 having a higher resistance is deposited on the film 11 and serves as a film. protective coating and the terminals 12 are placed on the film 13. The two films of metal oxide can be deposited successively during a continuous coating operation.

   The electrical resistance of the film 13 should be high enough not to contribute appreciably to the conductivity between the terminals 12, but at the same time should be low enough to allow suitable electrical contact between the terminals 12 and the film 11 without production of contact resistance or impedance at current flow. It has been established that these conditions are generally met when the film 13 has a resistance of 200 ohms to 10 megohms per square and that this resistance is at least 10 times that of the film 11 which can be from 20 to 10,000 ohms per square. . Resistors of this type and their manufacture are described in detail in Patent No. 341885.



  In the table below are indicated glass compositions suitable for the formation of the resistance body. These compositions are indicated as a percentage by weight of the oxides in the glass fillers.
EMI0002.0046
  
    A <SEP> B <SEP> C <SEP> D <SEP> E
<tb> SiO., <SEP> 62 <SEP> 62 <SEP> 62 <SEP> 58 <SEP> 44
<tb> ALOÏ <SEP> 15 <SEP> 15 <SEP> 15 <SEP> 15 <SEP> 7
<tb> CaO <SEP>. <SEP>. <SEP> 18 <SEP> 14.7 <SEP> 10 <SEP> 10
<tb> <B> MgO </B> <SEP> ... <SEP> .. <SEP> 5 <SEP> 8,3 <SEP> 7 <SEP> 7
<tb> BaO <SEP> ..... <SEP> 6 <SEP> 6
<tb> B, O :; <SEP>. <SEP> 4 <SEP> 17
<tb> Pb0 <SEP> 27
<tb> Zn0 <SEP> ........ <SEP> 5 Compositions A to D are glasses containing essentially silica, alumina and alkaline earth metal oxides.

   These glasses are particularly suited to the fact that their thermal expansion coefficients are 30 to 60 X 10-7 / C and their softening points are relatively high and therefore allow film formation at very high temperature. E-glass, on the other hand, is commonly used as a protective coating due to its relatively low softening point. However, it can also be used as a body in the event of deposition of a coating at low temperature although this is not to be ordered because of the particular care to be taken in obtaining a film satisfactory to such conditions. low temperatures.



  The manufacture of the resistor forming the subject of the present invention is described in the examples below, showing its advantages over the film resistors already known. <I> Example 1: </I> Glasses A and B in the above table were melted and bars of approximately 6.5 mm in diameter produced using this fusion. By way of comparison, a bar of the same dimension was drawn from an ordinary glass indicated below Glass X. Glass X is, for example, a commercial glass having the following composition <I> Example 2 </I> The glass bar elements used are of the same lengths as in Example 1; these bars are made using glass C from the table and glass X containing Na2O already mentioned in Example 1.

    Films having a resistance of 20 - 30 ohms per square were deposited on bars by exposing them to the vapors of a solution of tin and antimony chlorides capable of producing a film containing about 95% of. tin oxide and 5% antimony oxide.

   Metal terminals were fitted and an organic silicone-based coating was then applied to the conductive film and between the terminals to provide protection against atmospheric agents and against wear or other mechanical damage.



  These resistors were then tested in direct current under an 8 watt load with an operating temperature of approximately 3150. The test was terminated after 312 hours; the variation in resistance of the resistance in glass X not in accordance with the invention was 8.9% while that of the resistance in glass C free of alkali was only 0.5 ' 010. <I> Example 3:

  </I> 60.4% SiO,, 4.4% B.O '.; , 18.0% Al @ O ;;

      , 7.4% CaO, 8.8% MgO and 1 @% Na.0. A portion of approximately 50 mm in length was taken from each bar then heated to a temperature of 600 to 650 ° C and exposed to a vaporized solution of tin chloride and antimony in order to produce, on the surface,

   an electrically conductive film containing about 95% tin oxide and 5% antimony oxide. Exposure for forming the film was continued until the film had a resistance of about 60 ohms per square. Each of the bars carrying an electroconductive coating was then provided with metal terminals such as those shown in fig. 1 and on its surface with a protective glaze corresponding in composition to the glass E of the table.



  The resistors thus manufactured were tested in direct current at 10 watts and at a temperature of about 350 to 375 ° C at the hottest point of the resistance. During a continuous service of 380 hours, the resistance made with glass A presented a maximum variation of electrical resistance of 4.9 @ / o and the resistance made with glass B a maximum variation of 4.7% . These maximum variations occurred well before the end of the test and thereafter,

   these resistances returned to values close to the initial values and practically stabilized at these values. During this time, the resistance to glass X, not in accordance with the invention, exhibited a variation which continued to increase and which was 12% at the end of the test. Precision resistors were prepared on elements drawn from C glass and X glass as shown in Example 2.

   The composition of the conductive film of these resistors was the same as that of the films of Examples 1 and 2, but this film was thin enough that its electrical resistance was in the region of 600 to 700 ohms per square. The organic coating indicated in Example 2 was also applied to these resistors.



  The resistors were tested in direct current under a load of 2 watts and maintained for 500 hours in test at an operating temperature of about 145 () C. At the end of the test it was observed that the resistance of the conductive film deposited on glass X had undergone a variation of 2.5% while the variation exhibited by the film deposited on glass C free of alkali was only 0.22%.

   So in this test, the film deposited on a glass containing 1% of N% O exhibited a variation of more than double that admitted for precision resistors of this type, while the variation in the resistance of the film deposited on glasses alkali free was well within acceptable limits.

      As shown by the above results, the film resistor forming the subject of the invention can be used as a power resistor operating at high temperature as well as in other fields of application which were previously prohibited for it. now due to its varying characteristics in service. On the other hand, this resistance is of much greater stability than that of the film resistors known until now, in the fields of application where they were accepted.


    

Claims (1)

REVENDICATION Résistance électrique comportant un corps en verre recouvert d'un film adhérent électroconducteur d'oxyde métallique, et des bornes espacées en con tact électrique avec le film, caractérisé en ce que le corps en verre est pratiquement exempt d'ions de métal alcalin. SOUS-REVENDICATIONS 1. Résistance électrique selon la revendication, caractérisée en ce que le corps est composé d'un verre silico-alumineux contenant des oxydes de métaux al calino-terreux et ayant un coefficient de dilatation compris entre 30 et 60 X 10-7 par degré C. 2. CLAIM An electrical resistor comprising a glass body covered with an adherent electroconductive metal oxide film, and spaced terminals in electrical contact with the film, characterized in that the glass body is substantially free of alkali metal ions. SUB-CLAIMS 1. Electrical resistance according to claim, characterized in that the body is composed of a silico-aluminous glass containing oxides of al-calino-earth metals and having an expansion coefficient of between 30 and 60 X 10-7 by degree C. 2. Résistance électrique selon la revendication, caractérisée en ce que le film d'oxyde métallique est composé d'oxyde d'étain et jusqu'à 6 'o/o d'oxyde d'antimoine. 3. Résistance électrique selon la revendication, caractérisée en ce qu'elle comporte une couche pro tectrice recouvrant le film d'oxyde métallique, la couche protectrice étant pratiquement exempte d'ions de métal alcalin. 4. Résistance électrique selon la sous-revendica- tion 3, caractérisée en ce que la couche protectrice est faite de matière céramique vitrifiée. 5. Electrical resistor according to claim, characterized in that the metal oxide film is composed of tin oxide and up to 6 'o / o of antimony oxide. 3. Electrical resistance according to claim, characterized in that it comprises a protective layer covering the metal oxide film, the protective layer being practically free of alkali metal ions. 4. Electrical resistance according to sub-claim 3, characterized in that the protective layer is made of vitrified ceramic material. 5. Résistance électrique selon la sous-revendica- tion 3, caractérisée en ce que la couche protectrice est un second film d'oxyde métallique électroconduc- teur ayant une résistance électrique plus élevée que celle du premier film électroconducteur. 6. Résistance électrique selon la sous-revendica- tion 5, caractérisée en ce que les bornes en contact avec le premier film électroconducteur sont posées sur le second film. 7. Electrical resistance according to sub-claim 3, characterized in that the protective layer is a second electroconductive metal oxide film having an electrical resistance higher than that of the first electroconductive film. 6. Electrical resistance according to sub-claim 5, characterized in that the terminals in contact with the first electroconductive film are placed on the second film. 7. Résistance électrique selon la sous-revendica- tion 5, caractérisée en ce que la résistance en ohms par carré du premier film d'oxyde métallique est de 20 à 10 000 ohms et en ce que celle du second film est de 200 ohms à 100 mégohms et au moins égale à 10 fois la résistance du premier film. An electrical resistance according to subclaim 5, characterized in that the resistance in ohms per square of the first metal oxide film is 20 to 10,000 ohms and that of the second film is 200 ohms to 100 megohms and at least equal to 10 times the resistance of the first film.
CH343492D 1955-09-30 1956-09-28 Electrical resistance CH343492A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US537810A US2915730A (en) 1955-09-30 1955-09-30 Electrical resistor and method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH343492A true CH343492A (en) 1959-12-31

Family

ID=24144194

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH343492D CH343492A (en) 1955-09-30 1956-09-28 Electrical resistance
CH341885D CH341885A (en) 1955-09-30 1956-09-28 Electrical resistance and method for its manufacture

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH341885D CH341885A (en) 1955-09-30 1956-09-28 Electrical resistance and method for its manufacture

Country Status (6)

Country Link
US (1) US2915730A (en)
BE (1) BE551424A (en)
CH (2) CH343492A (en)
DE (1) DE1066654B (en)
FR (2) FR1159854A (en)
GB (2) GB806189A (en)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1186539B (en) * 1960-09-07 1965-02-04 Erie Resistor Ltd Electrical resistance with a resistive layer of metal oxide or metal and process for its manufacture
US3217281A (en) * 1962-05-28 1965-11-09 Corning Glass Works Electrical resistor
NL127148C (en) * 1963-12-23
US3437974A (en) * 1966-12-09 1969-04-08 Corning Glass Works High strength resistor
JPS4929839A (en) * 1972-07-14 1974-03-16
JPS4929841A (en) * 1972-07-14 1974-03-16
US3857174A (en) * 1973-09-27 1974-12-31 Gen Electric Method of making varistor with passivating coating
US3983290A (en) * 1974-09-03 1976-09-28 Stauffer Chemical Company Fire retardant polyvinyl chloride containing compositions
US3982218A (en) * 1974-09-19 1976-09-21 Corning Glass Works Temperature sensing device and method
JPS5480547A (en) * 1977-12-09 1979-06-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Ceramic varister
WO1996030915A1 (en) * 1995-03-28 1996-10-03 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Metal oxide film resistor
KR100731462B1 (en) * 2005-05-04 2007-06-21 삼성에스디아이 주식회사 Secondary battery
DE102015108758A1 (en) * 2014-06-13 2015-12-17 Smart Electronics Inc. Complex protection device

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1771236A (en) * 1926-10-06 1930-07-22 Chicago Telephone Supply Co Resistance strip
US2564706A (en) * 1946-05-02 1951-08-21 Corning Glass Works Coated resistance
US2648754A (en) * 1947-07-22 1953-08-11 Pittsburgh Plate Glass Co Electroconductive article
US2564707A (en) * 1947-09-03 1951-08-21 Corning Glass Works Electrically conducting coatings on glass and other ceramic bodies
US2564677A (en) * 1947-09-15 1951-08-21 Corning Glass Works Electrically conducting coating on glass and other ceramic bodies
US2647068A (en) * 1948-03-16 1953-07-28 Bishop H Russell Process of treating vitreous materials
US2798140A (en) * 1953-04-06 1957-07-02 Wilbur M Kohring Resistance coatings

Also Published As

Publication number Publication date
FR1159854A (en) 1958-07-03
GB809190A (en) 1959-02-18
US2915730A (en) 1959-12-01
BE551424A (en) 1959-12-18
DE1066654B (en) 1959-10-08
CH341885A (en) 1959-10-31
FR1159853A (en) 1958-07-03
GB806189A (en) 1958-12-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CH343492A (en) Electrical resistance
CN109527660B (en) Manufacturing method of electronic cigarette film heating sheet
US2934736A (en) Electrical resistor
US2761945A (en) Light transmissive electrically conducting article
US4952423A (en) Production of a transparent electric conductor
WO2001038249A1 (en) Method for treating glass substrates and glass substrates for producing display screens
CH328875A (en) Electrical resistance and method of manufacturing same
JP2012533514A (en) Low emission glass and manufacturing method thereof
JPS61205619A (en) Transparent electrically-conductive film of heat-resistant zinc oxide
EP0028423A1 (en) Composite thermistor component and applications
JPH04118901A (en) Positive temperature coefficient thermistor and its manufacture
EP0335769B1 (en) Electroconducting glass and method of making the same
US20030189054A1 (en) Heat insulating container and its manufacturing method
US3788997A (en) Resistance material and electrical resistor made therefrom
CH639228A5 (en) Switching panel of the sensitive type and its method of manufacture
KR101764214B1 (en) Heating structure and method of fabricating the same
CN112209627A (en) Glass substrate with film and method for producing same
US3112222A (en) Precision electrical resistors
US3027277A (en) Method of producing transparent electrically conductive coatings and coated article
JP2024515695A (en) Enamel paste composition, enamel coating product, and method for producing same
EP0229509A2 (en) Stable high resistance transparent coating
US3202825A (en) Articles of hot pressed zinc sulphide having a durable metal film coated thereon
CN110648811A (en) Production process of cutting and winding resistor
JP4803726B2 (en) Electronic circuit and manufacturing method thereof
US3382100A (en) Rhenium thin film resistors