CH301186A - Process for making electrical resistors. - Google Patents

Process for making electrical resistors.

Info

Publication number
CH301186A
CH301186A CH301186DA CH301186A CH 301186 A CH301186 A CH 301186A CH 301186D A CH301186D A CH 301186DA CH 301186 A CH301186 A CH 301186A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
sep
gold
platinum
coating
solution
Prior art date
Application number
Other languages
German (de)
Inventor
Limited Johnson Matthe Company
Limited Painton Company
Original Assignee
Johnson Matthey Co Ltd
Painton & Company Limited
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Johnson Matthey Co Ltd, Painton & Company Limited filed Critical Johnson Matthey Co Ltd
Publication of CH301186A publication Critical patent/CH301186A/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/22Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
    • H01C17/24Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/003Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors using lithography, e.g. photolithography
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/06Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/22Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49082Resistor making
    • Y10T29/49099Coating resistive material on a base

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Details Of Resistors (AREA)
  • Inorganic Fibers (AREA)

Description

  

  Verfahren     zur        Herstellung    elektrischer Widerstände.    Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur  Herstellung von elektrischen Widerständen,  insbesondere solchen, bei denen das Wider  standselement aus einer auf einem Isolator  haftenden     Metallsehicht    besteht.  



  Die mächtige Entwicklung elektronischer  Einrichtungen auf militärischem, industriel  lem und sozialem Gebiet im letzten Jahrzehnt  förderte eine intensive Forschungstätigkeit  nach einem elektrischen Widerstand von hoher  Stabilität, der gleichzeitig in grossen Mengen       %virtschaftlich    hergestellt werden kann.  



  Eine grundlegende Forderung, die an den  Widerstandswert von hochstabilen Widerstän  den gestellt wird, ist, dass dieser unter     ver-          sehiedenen    Arbeitsbedingungen praktisch kon  stant bleiben soll. Der Widerstand sollte um       nicht    mehr als + 1 % und in gewissen Fällen  sogar um nicht mehr als   0,2 % seines ur  sprünglichen Wertes variieren, wenn er meh  rere Monate unter elektrischer Belastung  steht oder wenn er in wiederholtem Wechsel  hoher Feuchtigkeit und Hitze, gefolgt von       niedri-en        Temperaturen,    ausgesetzt wird.

         Ausser    der hohen Stabilität sollen solche Wi  derstände einen niedrigen positiven Tempera  turkoeffizienten besitzen und im Betrieb     prak-          i.iscli        geräusehfrei    arbeiten. Weiterhin ist es  infolge der modernen Tendenz, die Grösse der  Bestandteile in elektrischen Stromkreisen  möglichst zu reduzieren, wie dies bei den     kürz-          lieh    entwickelten  gedruckten Schaltungen   der Fall ist, sehr erwünscht, wenn nicht uner-         lässlich,    dass der Widerstand klein und von  solcher Form ist, dass er in jede Schaltung  passt.  



  Hochstabile Widerstände wurden bisher so  hergestellt, dass man jeden Widerstand ein  zeln herstellte, und die dazu erforderlichen Ar  beitsweisen benötigten in den meisten Fällen  eine grosse manuelle Geschicklichkeit. So sind  schon seit Jahren hochstabile, nicht reagie  rende Widerstände bis zu 100 000 Ohm erhält  lich, die hergestellt werden durch Aufwickeln  speziell präparierter Legierungsdrähte auf  Formstücke mit üblicherweise kreisförmigem  Querschnitt. Die Eigenschaften des Drahtes  sind permanent und reproduzierbar, und der  Draht bewirkt eine sogenannte metallische  Leitung, die dem Widerstand eine hohe Sta  bilität verleiht.  



  Bei der Herstellung dieser Widerstände be  nötigt man aber sehr feine Drähte, und das  Aufwickeln des Drahtes auf die einzelnen  Formstücke erfordert viel Zeit und Sorgfalt.  



  Widerstände mit höherem Wert, z. B. von  7.00000 Ohm bis 5     Megohm,    konnten bis jetzt  nicht mit gleich guter Stabilität wie die vor  genannten drahtgewickelten Widerstände her  gestellt werden. Solche     hochohmigen    Wider  stände verwenden gewöhnlich dünne, Kohle  oder     Palladiumoxyd    enthaltende Filme. Diese  Filme haben keine metallische Leitfähigkeit,  sondern sind halbleitend, und ihre Stabilität  wird durch Gase oder Feuchtigkeit beeinträch  tigt.      In einem metallischen Leiter hat das Metall  oder die Legierung eine gleichmässige und  fixierte Struktur über den ganzen Weg des  Leiters, und die Elektronen können regel  mässig durch das Kristallgitter hindurchgehen.

    In einem Halbleiter ändern Spuren von Ver  unreinigungen, wie eingeschlossene Gase, oder  eine geringe Umlagerung -der Struktur die  Leitfähigkeit, wodurch die Stabilität schädlich  beeinflusst wird. Widerstände, die solche  Filme aufweisen, müssen deshalb vollständig  in Glashüllen eingeschlossen werden, um den  Zutritt von Gasen und Feuchtigkeit zu ver  hindern und eine hohe Stabilität zu erreichen.  Diese Arbeit ist schwierig und teuer und er  fordert wiederum, dass jeder Widerstand für  sich behandelt wird.  



  Die Erfindung bezweckt nun, ein Verfah  ren zur Herstellung von elektrischen Wider  ständen von hohem Widerstandswert und  hoher Stabilität im Gebrauch zu schaffen.  



  Dieses Verfahren gestattet die     wirtschaft-          liehe        Herstellung    in Massenproduktion, wäh  rend gleichzeitig die     Reproduzierbarkeit    des       Widerstandswertes    und anderer Eigenschaften  in einem gegebenen Ansatz oder von einem  Ansatz zum andern gewährleistet ist.  



  Es wurde gefunden, dass die vorgenannten  Ziele dadurch erreicht werden können, dass  man eine Platte aus elektrisch isolierendem,  anorganischem, hitzebeständigem Material auf  mindestens einer Seite mit einem haftenden  einheitlichen Belag aus Edelmetall oder einer       Edelmetall-Legierung    überzieht, zum Zwecke,  einen Stromweg zu bilden, und dann diesen  Belag durch ein     Photo-Ätzverfahren    in Strei  fen unterteilt, um den     Stromweg    zu verlängern.  



  Unter hitzebeständigem Material wird im  vorliegenden Fall solches Material verstanden,  welches einer Temperatur von mindestens       500     C widerstehen kann.  



  Es wurde ferner gefunden, dass man die  besten     Ergebnisse    erzielt, wenn der Metall  belag aus einer     Gold-Platin-Legierung    besteht,  da solche Legierungen im allgemeinen stabil  sind, eine vollkommene metallische Leitung  bilden und selbst in Form eines dünnen Be  lages nicht oxydiert werden. Unter der Be-         zeichnung    dünner Belag oder Film     versteht     man hier insbesondere einen Belag oder Film  von 350 bis 10 000     Angström,    vorzugsweise  jedoch nicht mehr als 1000     ,Atigström    Dicke.  



  Zur Herstellung der schmalen Streifen aus  dem Metall- bzw. Legierungsbelag wird ein       Photo-Ätzverfahren    angewendet, da, ein solches  die     Erzeugung    eines äusserst feinen band  förmigen Leitweges von etwa 0,025 bis  0,125 mm Breite gestattet, wodurch es mög  lich ist, auf einem Widerstand vom Format  25,4 X 12,7 mm einen leitenden Weg von  mindestens 1,8 bis 3,4 m herzustellen.  



  Gemäss einer Ausführungsform der Er  findung wird ein hochwertiger elektrischer  Widerstand erhalten, indem auf eine Platte  aus     niehtleitendein,    hitzebeständigem Material  auf mindestens einer Seite ein haftender,  gleichmässiger, dünner Film oder Belag aus  einer     Oxold-Platin-Legierung,    die 60 bis       9O    Teile Gold auf 10-40 Teile Platin ent  hält, aufgebracht wird, wonach man diesen  Belag durch ein     Photo-Ätzverfahren    in Strei  fen unterteilt, um den Stromweg zu ver  längern.     Gewünschtenfalls    kann man den Be  lag an den gegenüberliegenden Enden des  Weges verdicken, um die Befestigung der An  schlussleitungen zu erleichtern.  



  Der Belag besteht vorzugsweise aus einer       80:20-Platin-Gold-Legierung,    welche den  niedrigsten     Widerstandstemperaturkoeffizien-          ten    und den höchsten     Widerstand    von allen  binären     Gold-Platin-Legierungen    aufweist.  Der Belag kann hergestellt werden, indem man       auf    die Platte eine Lösung aufbringt, die eine  Goldverbindung und eine     Platinverbindung,     z.

   B. die     Sulforesinate    dieser Metalle, im erfor  derlichen Mengenverhältnis in einem geeig  neten     Lösungsmittelgemiseh    mit oder ohne Zu  satz eines geeigneten, die     Haftung    beschleuni  genden Mittels, enthält, wonach man den  erhaltenen Belag erhitzt, um das organische  Material     zui    verbrennen und den Belag fest auf  der Unterlage haftend zu machen.  



  Die den     Legierungsbelag    tragende     Unter-          lageplatte    aus nichtleitendem, anorganischem  Material kann z. B. aus Glas,     keramischem     Material oder Glimmer bestehen, doch hat es      sieh     ""zeigt,    dass die befriedigendsten Ergeb  nissemit Glas erreicht werden.  



  Obschon die     Metallisierlösung    in irgend  einer geeigneten Weise auf die Unterlage     auf-          ,rebraeht    werden kann, wurde gefunden, dass  zur     (xewährleistting    eines einheitlichen, über  die Fläche der Unterlage gleichmässig ver  teilten Belages und zwecks Vermeidung lokaler       I'berhitzungen,    die zu Änderungen des Wider  standswertes oder zum Durchschlagen des Wi  derstandes im Betrieb führen würden, die  Lösung     zweckmässigerweise    nach einer     Zen-          ti-ifugiermethode    aufgebracht werden sollte,  z.

   B. indem man die Lösung auf eine Platte  bringt, die sich in horizontaler Lage befindet       und    dann mit einer Geschwindigkeit von z. B.  2000     Touren1Minute    um eine Vertikalachse  rotiert wird, wodurch ein dünner Film der  Lösung gleichmässig auf der ganzen Fläche  der Platte verteilt wird.  



  L m das Anbringen von     Anschlussleitern    zu  erleichtern, ist es     erwünscht,    jedoch nicht un  bedingt notwendig, an gegenüberliegenden  Seiten des Widerstandes, welche den einander       degenüberliegenden    Enden des Stromweges       entsprechen,        Verdickungsstreifen    oder -bänden  aus leitendem Material anzubringen. Dies     ge-          sehielit    vorteilhaft an den betreffenden Stel  len, indem man einen Streifen aus metallisie  render Paste, z.

   B. eine geeignete,     handels-          übliehe    Silberpaste aufträgt, die dann in  üblicher Weise gebrannt wird, um einen haf  tenden Silberbelag zu erzeugen.  



       Gemäss    einer besonderen Ausführungsform  wird auf eine Glasplatte durch Aufbringen  einer Lösung, welche eine Mischung von     Gold-          und    Platinverbindungen im erforderlichen  Verhältnis in einer geeigneten     Lösungsmittel-          misehung    gelöst enthält, durch Rotation der  Glasplatte und anschliessendes Brennen zur       Entfernung    der organischen Substanz und  zur festen Verhaftung des Belages mit dem  t 'las, ein Belag aus einer 80 :     20-Cxold-Platin-          Legierung    gleichmässig verteilt. aufgebracht.

    Dieser Belag wird durch ein     Photo-Ätzverfali-          ren    in schmale Streifen unterteilt, um den       Stromweg    zu verlängern und den Widerstand  zu erhöhen. Alsdann kann man die gegen-    überliegenden Enden der Bahn verdicken, um  den     Anschl.uss    von Verbindungsleitungen zu  erleichtern.  



  Die     Photo-Ätzung    des     Strombahnmusters     erfolgt vorzugsweise durch Überziehen der  metallisierten Fläche mit einem     Film    aus licht  empfindlichem     Photogravurleim,    Belichten  des     Films    zwecks Erzeugung eines Positiv  bildes, das einen schmalen Widerstandsstrom  weg darstellt, Umwandlung dieses Bildes in  eine Reserve, Entfernung des nicht von der  Reserve bedeckten Materials und schliesslich       Brennen    des überzogenen Artikels,     um    die  Reserve zu entfernen.  



  Will man, wie oben erwähnt,     Verdickungs-          streifen    anbringen, so kann man die letzte  Brennstufe auch nach dem Aufbringen dieser  Streifen durchführen, so dass ein Brennen ge  nügt.  



  Vorzugsweise sind Mittel vorgesehen, um  eine endgültige Justierung des Widerstands  wertes des Stromweges vornehmen zu können.  Zu diesem Zweck kann der Stromweg an sei  nem einen Ende eine Mehrzahl von Schleifen  aufweisen, die parallel an das eine Ende des  Widerstandsstromkreises angeschlossen sind,  wodurch man durch Durchschneiden einer oder  mehrerer der parallelen Verbindungen nach  Bedarf mehr Widerstand einschalten kann.  



  Das vorliegende verbesserte Verfahren  eignet sich besonders für die Massenproduk  tion von elektrischen Widerständen. So kann  man auf einer Platte aus Glas mehrere Wider  standseinheiten erzeugen, wobei man die Un  terlage -in längliche Streifen schneidet, von  denen jeder eine Anzahl der Widerstandsein  heiten aufweist und diese Streifen in die ein  zelnen Widerstände unterteilt.  



  Noch genauer gesagt, kann das Verfahren       durehgeführt    werden, indem man eine Platte  aus hitzebeständigem Glas auf mindestens  einer Seite mit einem haftenden, einheitlichen,  dünnen Belag aus einer     Gold-Platin-Legierung     im Verhältnis von 60 bis 90 Teilen Gold zu  10 bis 40 Teilen Platin überzieht, diesen Belag  mittels eines     Photo-Ätzverfahrens    in Streifen      unterteilt., um eine Mehrzahl schmaler, von  einander getrennter, bandförmiger Strom  wege zu erzeugen, von denen jeder eine Mehr  zahl von parallel geschalteten     schleifenförmi-          gen    Abschnitten aufweist, auf die so behan  delte Platte Metallstreifen aufbringt, die  Platte in Streifen unterteilt,

   indem man diese       nvisehen    zwei benachbarten Metallstreifen  durchschneidet, wonach man jeden Streifen  quer zu seiner     Längsriehtung    in einzelne Wi  derstände mit einander gegenüberliegenden,  verdickten Enden, welche die Anschlüsse bil  den, unterteilt und schliesslich den Wider  standswert jedes Widerstandes nach Erforder  nis justiert, indem man einen oder mehrere  der     schleifenförmigen    Abschnitte in den  Stromweg einschaltet.  



  Nachstehend folgt ein Beispiel für eine  zur Herstellung des Metallüberzuges geeignete       Gold-Platin-Lösung     
EMI0004.0007     
  
    Goldsulforesinat <SEP> 280 <SEP> Teile
<tb>  Platinsulforesinat <SEP> 140 <SEP> "
<tb>  Rhodiumsulforesinat <SEP> 60 <SEP> "
<tb>  Vanadinresinat <SEP> 70 <SEP> "
<tb>  Borsäurelösung <SEP> in <SEP> Benzylalkohol <SEP> 10 <SEP> "
<tb>  Cy <SEP> clohexanol <SEP> 250 <SEP> "
<tb>  Kolophonium <SEP> 100 <SEP> "
<tb>  Lav <SEP> endelöl <SEP> 20 <SEP> "
<tb>  Rosmarinöl <SEP> 20 <SEP> "
<tb>  Terpentin <SEP> 20 <SEP> "
<tb>  Nitrobenzol <SEP> 30 <SEP> "
<tb>  1000 <SEP> Teile       Diese Lösung hat folgende prozentuale  Zusammensetzung  Gold 5,60  Platin 1,40       Rhodium    0,14       Vanadinpentoxyd        0,

  11-%          Boroxyd    0,07  Lösungsmittel und  Harzbestandteile 92,65  Bei     Verwendung    der oben erwähnten Lö  sung in der Massenfabrikation elektrischer  Widerstände kann     wie    folgt vorgegangen wer  den    <I>1.</I>     L'berziehen   <I>oder</I>     Hetallisiercii.     



  Eine runde Scheibe von 114,3     nim    Durch  messer aus     Natronlkalkglas    wird 48 Stunden  in eine 20      ö        ige        wässrige        Chromsäurelösung    ge  taucht, in destilliertem Wasser gewaschen und  trocknen gelassen. Dadurch wird das Glas  vor dem Aufbringen der     Metallisierlösung     chemisch rein.  



  Die     gereinigte    Glasplatte wird nun     auf'     einem rotierenden Teller, der sieh in einem  Kasten befindet, dessen Innentemperatur auf  23  C gehalten wird, festgeklemmt. Der Teller  ist über ein Getriebe mit einem     Elektromotor     verbunden und dreht sich in der Horizontal  ebene um eine     Vertikalaehse.    Man gibt 4     cm3     der vorstehend genannten     Metallisierlösung    in  die Mitte der Glasscheibe, die man hierauf  mit 1800 Touren 5 Minuten laufen lässt.

   Nach  dieser Zeit hat sich die     Metallisierlösung    als  dünner gleichmässiger Film über die Oberfläche  der Scheibe     ausgebreitet,    und die rasche Dre  hung bei verhältnismässig hoher Temperatur  trocknet den Film an, so dass man die Scheibe  aus dem Kasten nehmen kann, ohne den Film  zu     beschädigen.     



  Die überzogene Platte wird nun in     einei2     Ofen gebracht und auf 420 C erhitzt, wobei  man     innert    70 Minuten von Zimmertempera  tur auf die     IIöchsttemperatur    aufheizt und  20 Minuten auf der Höchsttemperatur hält.  Der Widerstand des eingebrannten     Legie-          rungsbelages    beträgt etwa 20 Ohm pro  Quadrat.  



  <I>3.</I>     Plaotoätzicn.g.     



  4     ein3    mit     Biehromat    sensibilisierter     Photo-          gravurleim    werden auf die metallisierte Glas  platte gebracht und diese     wiederum    während  5 Minuten mit 1800 Touren rotiert (Tem  peratur 23  C). Es entsteht so ein dünner,       gleichmässiger        Filni    auf der     metallisierten     Fläche der Scheibe.  



  Nun bringt, man ein     photographiselies    Ne  gativ der gewünschten Widerstandszeichnun  gen einschliesslich der     schleifenförmigen     Abschnitte mit dem lichtempfindlichen Leim  film in Kontakt und belichtet, je nach der      Lichtquelle und deren Abstand vom Negativ,  2 bis 10     Minuten.     



  Die exponierte Scheibe wird dann     entwik-          kelt,    indem man sie 3 Minuten in kaltem       Wasser    wäscht und trocknen lässt. Sie wird  dann 20 Minuten im Ofen auf 280 bis 300  C  erhitzt, um das Leimbild zu härten und in eine  Reserve     umzuwandeln.     



  Die Seheibe wird nun in ein     gepuffertes          Ätzbad    gebracht, das aus einer Lösung von       1-lalogen    in einem     aliphatischeen    Alkohol oder  einem Ester desselben gebildet ist. Eine solche       Lösung    besteht vorzugsweise aus 98     %        Amyl-          laetat    und 2 % Brom. Die Scheibe wird bei  30  C 10     Minuten    darin gelassen, bis der Legie  rungsfilm von den nicht durch das Leimbild       gesehützten    Stellen entfernt ist.  



       :Mach    dem     I@tzen    wird die Scheibe in Was  ser     gespült    und getrocknet.  



  <I>4.</I>     Anbringen   <I>der</I>     Kontakte.     Zwischen den Reihen von Widerstands  zeichnungen werden einander     gegenüberlie-          ().ende    Streifen aus Silberpaste aufgetragen.  Die Scheibe wird dann auf 600  C erhitzt, um  die Leimreserve wegzubrennen und die Silber  paste in einen haftenden Silberbelag überzu  führen. Die Scheibe wird dann in eine An  zahl einzelner Widerstände zerschnitten, an       welche    die Endkappen     angesehweisst    werden.  



  <I>5.</I>     Justierung   <I>des</I>     Widerstandswertes.     Die     Ifiderstände    werden schliesslich auf  den .erforderlichen Widerstand abgestimmt,  indem man einen oder mehrere der     schleifen-          förmigen    Abschnitte im Widerstandsbild aus  schaltet, wonach man den Widerstand mit  einem oder mehreren Überzügen aus isolieren  dem, wasserbeständigem     Silikonharzlack    ver  sieht.  



       Um    die Erfindung vollkommen     verständ-          lieh    zu machen, sollen zwei bevorzugte Aus  führungsformen unter Bezugnahme auf die  anliegende Zeichnung beschrieben werden.  



       Fig.    1 ist ein Querschnitt durch eine Glas  platte, auf welcher der Widerstand     aufge-          ballt    werden soll.         Fig.    2 ist eine gleiche Ansicht und zeigt  den dünnen Belag aus     80:20-Gold-Platin-          Legierung    auf der obern Fläche der Glas  platte.  



       Fig.    3 zeigt die metallisierte Glasplatte mit ;  einer lichtempfindlichen, auf den Metallbelag  aufgebrachten Leimschicht.  



       Fig.        4-    zeigt den Gegenstand nach der Be  lichtung und Entfernung des nicht veränder  ten Leims.  



       Fig.    5 zeigt die nächste Stufe, in welcher  der Metallbelag, der keinen Leim     trägt,    weg  geätzt wurde.  



       Fig.    6 zeigt den Gegenstand nach Weg  brennen der Leimreserve.  



       Fig.    7 ist eine Draufsicht auf den Wider  stand und zeigt die Anordnung des Leiters ein  schliesslich der     Anschlussklemmen.     



       Fig.    8 zeigt eine weitere Massnahme bei  der Herstellung des fertigen Widerstandes.       Fig.    9 zeigt eine bevorzugte Ausführungs  form der     Anschlussklemme,    und       Fig.    10 und 11 zeigen die Anwendung der  Erfindung bei der gleichzeitigen Herstellung  einer Anzahl gleicher Widerstände aus einer  einzigen Glasscheibe.  



  Unter Bezugnahme auf     Fig.    1 bis 7 der  Zeichnung ist in     Fig.    1 eine Glasscheibe 1  dargestellt, welche als Grundlage für den Wi  derstand dient, und zunächst durch Eintau  chen in ein geeignetes saures Reinigungsbad, Wie  20 %     ige        wässrige        Chromsäurelösung,    chemisch  rein gemacht wurde, worauf man sie spült und       trocknet.     



  Auf die gereinigte Oberfläche der Glas  platte wird durch Rotation, das heisst durch  Rotieren der Scheibe in horizontaler Ebene  mit hoher Geschwindigkeit um eine Vertikal  achse, eine Lösung, die eine Mischung aus       Goldsulforesinat    und     Platinsulforesinat    ent  hält, wobei Gold und Platin im Verhältnis  80:20 vorhanden sind, in einem geeigneten       Lösungsmittelgemisch    wie das im vorstehen  den Beispiel angegebene, aufgebracht, so dass  ein dünner Film, der gleichmässig über die  ganze Fläche verteilt ist, entsteht.  



  Die überzogene Glasscheibe wird dann bei  etwa 500  C gebrannt, um die organischen      Bestandteile zu zersetzen und zu verbrennen  und auf der Glasunterlage einen festhaftenden  Belag 2     (Fig.    2) aus     80:20-Gold-Platin-Le-          gierung    zurückzulassen.  



  Das metallisierte Blatt wird nun mit einer       Sehicht    3     (Fig.    3) aus lichtempfindlich ge  machtem     Photogravurleim    überzogen, was vor  zugsweise nach der obengenannten Rotations  methode geschieht, und dann trocknen gelassen.

    Das so überzogene Gebilde wird dann durch  ein photographisches Negativ der     gewünsell-          t        en        X#        'iderstandszeichnung        hindurch        belichtet,     die nicht exponierten Stellen durch Waschen  in kaltem Wasser entfernt und die Scheibe  wiederum 20 Minuten bei 280 bis 300  C ge  brannt,     nm    das Leimbild zu härten und in eine  Reserve überzuführen. Das Ergebnis dieser  Massnahmen ist in     Fig.        -1    dargestellt, in wel  cher 4 das Widerstandsmuster aus gehärtetem  Leim darstellt.  



  Der nächste Verfahrensschritt ist die Ent  fernung des Legierungsbelages 2, der nicht vom  gehärteten Leim 4 bedeckt ist. Dies erfolgt  durch Eintauchen der Scheibe in eine Lösung  von 2 Gewichtsteilen Brom in 98 Gewichts  teilen     Amy        llactat.    Das Ergebnis dieses Vor  ganges ist in     Fig.    5 dargestellt.  



  Gegenüberliegende parallele Streifen 5       (Fig.    5) aus Silberpaste werden nun aufge  bracht, um verdickte Stellen zu erzeugen, und  die Platte wird nun wiederum bei etwa 600  C  gebrannt, um die Leimreserve und die organi  schen Bestandteile der Silberpaste zu entfer  nen, so dass das Leitersystem aus Metall frei  wird und das Silber am Glas haftet. Das so  erhaltene Produkt ist in     Fig.    6 dargestellt.  



  Das durch die beschriebenen Verfahrens  stufen erhaltene     Metalleitersystem    ist in     Fig.    7  dargestellt, und man bemerkt, dass es an einem  Ende eine Reihe von     schleifenförmigen    Ab  schnitten 6 aufweist, von denen jeder durch  die Verbindung 7 mit dem verdickten Streifen  5 in Verbindung stehen.  



  Die gegenüberliegenden Seitenkanten der  Scheibe 1 werden dann wie bei 8, 8, 9, 9       (Fig.    7 und 8) weggeschliffen, wobei hervor  stehende     keilförmige    Teile 10, 10 gebildet wer  den, wie das in     Fig.    8 schematisch dargestellt    ist, in welcher 13 und 14 zwei drehbare Wellen  sind, auf denen je ein Paar imprägnierte Dia  mantschleifräder 15, 15 und 16, 16 sitzen, deren  Umfang, wie bei     15a        und        16a,    dargestellt, ab  geschrägt ist, um die     gewünsehte        Keilform    zu  erreichen.

   Zur Bildung der keilförmigen Teile  1.0, 10 wird die Scheibe 1     zwisehen    die rotie  renden Schleifscheiben<B>15,15</B> und<B>16,16</B>     ge-          braelit,wobei    die Wellen 13 und 1.4     während     des Schleifvorganges im     erforderliehen        Mal;@e     gegeneinander bewegt werden.  



  Die     Anschlussklemmen    11, 11 haben die  in     Fig.    9 gezeigte Form. Sie     bestehen,        ans     einem flachen Streifen     11a.    ans Messing mit  aufstehenden divergenten     Seiten   <B>111</B> mit     naeli     aussen     gekrümmten    Kanten 11c und einer  mittleren Verlängerung 111. Die Klemmen  11 werden an der Scheibe 1. befestigt, indem  man sie auf die keilförmigen Teile 10, 10 legt  und durch     Driaekeinwirkung    die Seiten     11.b     der Klemmen über und um die Kanten des  Teils 10 presst, was durch die nach aussen ge  krümmten Kanten 11c erleichtert wird.

   Die  Klemmen 11 werden dann mit dem Silber  streifen 5 und die Leitungen 12, 12 mit den  Verlängerungen 11d der Klemme verlötet.  



  Der     Widerstandsweit    des Widerstands  systems wird in der Regel innerhalb   10  des erforderlichen Wertes liegen, und man  kann, um denselben auf den richtigen Wert  zu bringen, eine oder mehrere der Verbin  dungsleitungen 7, wie durch den Pfeil dar  gestellt     (Fig.    7), durchschneiden, wozu ein  geeignetes Werkzeug verwendet, werden kann,  um den Gesamtwiderstand     ztt    erhöhen.  



  Der fertige Widerstand erhält zum Schluss  noch einen oder mehrere     L'berzüge    aus isolie  rendem, feuchtigkeitsbeständigem Firnis, z. B.  einem     Silikonharzfirnis,    und wird schliesslich  2 Stunden bei 170  C eingebrannt.         .1Zasse-nproduktion.          Fig.    10 und 11 zeigen die Anwendung des  erfindungsgemässen Verfahrens für die Mas  senproduktion von     hochohmigen    elektrischen  Widerständen.  



  Wie in     Fig.    10 gezeigt, werden auf einer  Glasscheibe 18 eine Mehrzahl von Widerstands-      mustern 17 aus einer 80 :     20-Gold-Platin-Legie-          rung,    wie oben beschrieben, aufgebracht. Sil  berbänder 19     (Fig.    11) werden nach dem be  kannten     Filmdruckverfahren    aufgebracht und  die Seheibe 18 dann in eine Anzahl     i#echtwink-          liger    Streifen zerlegt, von denen jeder eine  Anzahl Widerstandsmuster enthält.

   Dies     ge-          schielit    mit einer     Sehneidevorrichtung    mit     Dia-          inantseheiben    längs den     gestriehelten    Linien       2'0.     



  Wie aus     Fig.        17.    ersichtlich,     weist,    jedes       Sillicrliand    einen keilförmigen Teil     1_9a,    auf,       (ler    dem keilförmigen Teil 10 des fertigen       \Viderstandes    entspricht.  



  .Jeder Streifen wird nun weiter     zet:sehnit.-          ten,    wobei die einzelnen     reehteekigen    Wider  standselemente entstehen und die nicht recht  eckigen Stücke verworfen werden.  



  Die Enden jedes Widerstandes werden  dann längs der Umfangslinie der Bänder 19,  1.9a. abgeschliffen, die     Anschlussklemmen        an-          ,(#.ebraeht    und der Widerstandswert, wie früher       besehrieben,    abgestimmt.  



  Die gemäss dem vorstehenden     Massenpro-          duktionsverfahren    hergestellten elektrischen       Widerstände    mit beispielsweise einem Strom  weg von 0,127 mm Breite, einem Zwischen  raum von 0,076 mm und 838,2 mm Länge  besitzen, wie sich zeigte, vor der endgültigen  .Justierung einen Widerstand von 120 000 Ohm       +        10%        und        einen        Widerstands-Temperatur-          koeffizienten    von ungefähr 0,028.  



  Es ist leicht. zu erkennen, dass das verbes  serte Herstellungsverfahren gestattet., kom  pakte, flache Widerstände herzustellen, die  eine metallische Leitung von sehr hoher elek  trischer Stabilität aufweisen, welche mit der  jenigen vergleichbar ist, die mit     niedriger-          ohmigen,    aus Draht gewundenen Widerstän  den des üblichen     Typs    erhältlich ist.  



  Die metallische Leitung gewährleistet  ausserdem eine Geräuschfreiheit, die mit Koh  lenstoff oder     Palladiumoxyd    enthaltenden Wi  derständen vom Filmtypus nicht erreichbar ist.  



  Stellt man eine Mehrzahl von Widerstän  den nach dem Massenproduktionsverfahren       gleiehzeitig    aus einer einzelnen Platte her, so  ist es möglich, bis zu 100 Widerständen mit    einheitlichen Charakteristiken und Wider  standswerten von   10 % des gewünschten  Wertes gleichzeitig herzustellen, wobei die       Justierung    des Widerstandes leicht in der be  schriebenen Weise erfolgen kann.  



  Die Produktionskosten sind, wie sich zeigte,  niedrig, da in einem Arbeitsgang eine Mehr  zahl von Widerständen hergestellt wird und  nur ein äusserst dünner Metallfilm von bei  spielsweise     11.10    00o min verwendet wird.  



  Infolge der Flachheit der Widerstände  kann     man.eine    grosse Zahl derselben auf klei  nem Raum stapeln, wodurch man in be  schränktem Raume sehr hohe Widerstands  werte erhalten kann. Die Widerstände eignen  sich auch gut für  gedruckte Schaltungen .  



  Die Erfindung umfasst auch elektrische  Widerstände, die nach dem verbesserten Ver  fahren hergestellt sind.



  Process for making electrical resistors. The invention relates to a method for producing electrical resistors, in particular those in which the opposing element consists of a metal layer adhering to an insulator.



  The powerful development of electronic devices in the military, industrial and social fields in the last decade promoted intensive research into an electrical resistor of high stability which at the same time can be produced economically in large quantities.



  A fundamental requirement that is made of the resistance value of highly stable resistors is that it should remain practically constant under different working conditions. The resistance should vary by no more than + 1% and in certain cases even by no more than 0.2% of its original value if it is under electrical stress for several months or if it is followed by repeated changes in high humidity and heat exposed to low temperatures.

         In addition to the high stability, such resistors should have a low, positive temperature coefficient and operate practically without noise. Furthermore, as a result of the modern tendency to reduce the size of the components in electrical circuits as much as possible, as is the case with the recently developed printed circuits, it is very desirable, if not essential, that the resistance be small and of such a shape is that it fits into any circuit.



  Up to now, highly stable resistors have been manufactured in such a way that each resistance is produced individually, and the work methods required for this require great manual dexterity in most cases. Highly stable, non-reactive resistances of up to 100,000 ohms have been available for years, which are manufactured by winding specially prepared alloy wires onto fittings with a usually circular cross-section. The properties of the wire are permanent and reproducible, and the wire creates a so-called metallic conduction, which gives the resistor a high level of stability.



  In the manufacture of these resistors, however, you need very fine wires, and winding the wire onto the individual fittings requires a lot of time and care.



  Resistors with a higher value, e.g. B. from 7.00000 ohms to 5 megohms, could not be made with the same stability as the aforementioned wire-wound resistors ago. Such high resistance resistors usually use thin films containing carbon or palladium oxide. These films have no metallic conductivity but are semiconducting and their stability is impaired by gases or moisture. In a metallic conductor, the metal or alloy has a uniform and fixed structure over the entire path of the conductor, and the electrons can regularly pass through the crystal lattice.

    In a semiconductor, traces of impurities such as trapped gases or a slight rearrangement of the structure change the conductivity, which has a detrimental effect on stability. Resistors that have such films must therefore be completely enclosed in glass envelopes to prevent the entry of gases and moisture and to achieve high stability. This work is difficult and expensive and he in turn demands that each resistance be dealt with separately.



  The invention now aims to provide a method for producing electrical resistors of high resistance and high stability in use.



  This method allows for economical mass production, while at the same time the reproducibility of the resistance value and other properties in a given batch or from one batch to another is guaranteed.



  It has been found that the aforementioned objects can be achieved by covering a plate made of electrically insulating, inorganic, heat-resistant material on at least one side with an adhesive uniform coating made of noble metal or a noble metal alloy, for the purpose of forming a current path , and then subdivided this coating into strips by a photo-etching process in order to extend the current path.



  In the present case, heat-resistant material is understood to mean that material which can withstand a temperature of at least 500.degree.



  It has also been found that the best results are obtained when the metal coating consists of a gold-platinum alloy, since such alloys are generally stable, form a perfect metallic line and are not oxidized even in the form of a thin coating. The term thin coating or film is understood here to mean in particular a coating or film with a thickness of 350 to 10,000 Angstroms, but preferably not more than 1000 Atigström thickness.



  To produce the narrow strips from the metal or alloy coating, a photo-etching process is used, as such the generation of an extremely fine band-shaped conductive path of about 0.025 to 0.125 mm wide, which makes it possible, please include on a resistor from Format 25.4 X 12.7 mm to create a conductive path of at least 1.8 to 3.4 m.



  According to one embodiment of the invention, a high-quality electrical resistance is obtained by placing 60 to 90 parts of gold on a plate made of non-conductive, heat-resistant material on at least one side of an adhesive, uniform, thin film or coating made of an oxold-platinum alloy 10-40 parts of platinum is applied, after which this coating is divided into strips by a photo-etching process in order to lengthen the current path. If desired, you can thicken the Be lay at the opposite ends of the path to facilitate the attachment of the connection lines.



  The coating is preferably made of an 80:20 platinum-gold alloy, which has the lowest temperature coefficient of resistance and the highest resistance of all binary gold-platinum alloys. The covering can be produced by applying a solution to the plate which contains a gold compound and a platinum compound, e.g.

   B. the Sulforesinate of these metals, in the necessary proportions in a suitable Neten solvent mixture with or without the addition of a suitable, adhesion-accelerating agent, after which the resulting coating is heated to burn the organic material and burn the coating firmly to make the document liable.



  The base plate made of non-conductive, inorganic material and carrying the alloy coating can e.g. B. made of glass, ceramic material or mica, but it has see "" shows that the most satisfactory results are achieved with glass.



  Although the metallizing solution can be applied to the substrate in any suitable way, it has been found that in order to ensure a uniform coating that is evenly distributed over the surface of the substrate and to avoid local overheating which leads to changes in resistance resistance value or would lead to breakdown of the resistance in operation, the solution should expediently be applied according to a centering method, e.g.

   B. by bringing the solution on a plate which is in a horizontal position and then at a speed of e.g. B. 2000 tours 1 minute is rotated around a vertical axis, whereby a thin film of the solution is evenly distributed over the entire surface of the plate.



  To facilitate the attachment of connecting conductors, it is desirable, but not absolutely necessary, to attach thickening strips or bands of conductive material to opposite sides of the resistor, which correspond to the opposite ends of the current path. This sehielit advantageous len at the Stel concerned by a strip of metallizing render paste, z.

   B. applies a suitable, commercially available silver paste, which is then burned in the usual way to produce a clinging silver coating.



       According to a particular embodiment, by applying a solution which contains a mixture of gold and platinum compounds dissolved in the required ratio in a suitable solvent mixture, by rotating the glass plate and then firing to remove the organic substance and to firmly adhere the Topping with the t 'las, a topping made of an 80:20 Cxold-platinum alloy evenly distributed. upset.

    This coating is divided into narrow strips by a photo-etching process in order to lengthen the current path and increase the resistance. The opposite ends of the sheet can then be thickened in order to facilitate the connection of connecting lines.



  The photo-etching of the current path pattern is preferably carried out by coating the metallized surface with a film of light-sensitive photogravure glue, exposing the film to produce a positive image that represents a narrow resistance current away, converting this image into a reserve, removing the reserve covered material and finally firing the covered article to remove the reserve.



  If, as mentioned above, you want to apply thickening strips, you can also carry out the last firing stage after these strips have been applied, so that firing is sufficient.



  Means are preferably provided in order to be able to make a final adjustment of the resistance value of the current path. For this purpose, the current path can have a plurality of loops at one end, which are connected in parallel to one end of the resistance circuit, whereby more resistance can be switched on as required by cutting one or more of the parallel connections.



  The present improved method is particularly useful for the mass production of electrical resistors. So you can create several resistance units on a plate made of glass, where you cut the support in elongated strips, each of which has a number of resistance units and these strips divided into the individual resistors.



  More specifically, the method can be carried out by placing a plate of heat-resistant glass on at least one side with an adhesive, uniform, thin coating of a gold-platinum alloy in the ratio of 60 to 90 parts of gold to 10 to 40 parts of platinum covers, this coating divided into strips by means of a photo-etching process. To generate a plurality of narrow, separated, ribbon-shaped current paths, each of which has a plurality of parallel-connected loop-shaped sections, onto the plate treated in this way Applies metal strips, divides the plate into strips,

   by cutting through these two neighboring metal strips, after which each strip is subdivided transversely to its longitudinal direction into individual resistors with opposite, thickened ends which form the connections and finally the resistance value of each resistor is adjusted as required by one or connects a plurality of the loop-shaped sections in the current path.



  The following is an example of a gold-platinum solution suitable for producing the metal coating
EMI0004.0007
  
    Gold Sulforesinate <SEP> 280 <SEP> parts
<tb> Platinum sulforesinate <SEP> 140 <SEP> "
<tb> Rhodium sulforesinate <SEP> 60 <SEP> "
<tb> Vanadium resinate <SEP> 70 <SEP> "
<tb> Boric acid solution <SEP> in <SEP> Benzyl alcohol <SEP> 10 <SEP> "
<tb> Cy <SEP> clohexanol <SEP> 250 <SEP> "
<tb> Rosin <SEP> 100 <SEP> "
<tb> Lav <SEP> endelöl <SEP> 20 <SEP> "
<tb> Rosemary Oil <SEP> 20 <SEP> "
<tb> turpentine <SEP> 20 <SEP> "
<tb> Nitrobenzene <SEP> 30 <SEP> "
<tb> 1000 <SEP> parts This solution has the following percentage composition gold 5.60 platinum 1.40 rhodium 0.14 vanadium pentoxide 0,

  11-% boron oxide 0.07 solvent and resin components 92.65 When using the above-mentioned solution in the mass production of electrical resistors, the following procedure can be used <I> 1. </I> coating <I> or </ I > Hetallisiercii.



  A round disk 114.3 mm in diameter made of soda-lime glass is immersed in a 20% aqueous chromic acid solution for 48 hours, washed in distilled water and allowed to dry. This makes the glass chemically clean before the plating solution is applied.



  The cleaned glass plate is now clamped onto a rotating plate which is located in a box, the internal temperature of which is kept at 23 ° C. The plate is connected to an electric motor via a gear and rotates in the horizontal plane around a vertical axis. 4 cm3 of the above-mentioned metallizing solution are placed in the middle of the glass pane, which is then allowed to run for 5 minutes at 1800 cycles.

   After this time, the metallizing solution has spread over the surface of the disk as a thin, uniform film, and the rapid rotation at a relatively high temperature dries the film so that the disk can be removed from the box without damaging the film.



  The coated plate is then placed in an oven and heated to 420 C, heating from room temperature to the maximum temperature within 70 minutes and holding it at the maximum temperature for 20 minutes. The resistance of the burned-in alloy coating is around 20 ohms per square.



  <I> 3. </I> Plaotoätzicn.g.



  4 and 3 photo-engraving glue sensitized with Biehromat are applied to the metallized glass plate, which in turn is rotated for 5 minutes at 1800 speeds (temperature 23 C). This creates a thin, even film on the metalized surface of the pane.



  Now you bring a photographiselies negative of the desired resistance drawings including the loop-shaped sections with the photosensitive glue film in contact and exposed, depending on the light source and its distance from the negative, 2 to 10 minutes.



  The exposed disc is then developed by washing it in cold water for 3 minutes and allowing it to dry. It is then heated in the oven to 280 to 300 C for 20 minutes to harden the glue pattern and convert it into a reserve.



  The disk is now placed in a buffered etching bath, which is formed from a solution of 1-halogen in an aliphatic alcohol or an ester thereof. Such a solution preferably consists of 98% amyl acetate and 2% bromine. The disk is left in it at 30 ° C. for 10 minutes until the alloy film has been removed from the areas not protected by the glue pattern.



       : After etching, the window is rinsed in water and dried.



  <I> 4. </I> Attaching <I> the </I> contacts. Between the rows of resistance drawings, opposite () .end strips of silver paste are applied. The pane is then heated to 600 C to burn away the glue reserve and transfer the silver paste into an adhesive silver coating. The disc is then cut into a number of individual resistors to which the end caps are welded.



  <I> 5. </I> Adjustment <I> of </I> resistance value. Finally, the I resistances are matched to the required resistance by switching off one or more of the loop-shaped sections in the resistance image, after which the resistor is insulated with one or more coatings of water-resistant silicone resin varnish.



       In order to make the invention fully understandable, two preferred embodiments will be described with reference to the accompanying drawings.



       1 is a cross section through a glass plate on which the resistor is to be balled up. Fig. 2 is a similar view and shows the thin coating of 80:20 gold-platinum alloy on the upper surface of the glass plate.



       Fig. 3 shows the metallized glass plate with; a light-sensitive glue layer applied to the metal coating.



       Fig. 4- shows the object after exposure and removal of the non-veränder th glue.



       Fig. 5 shows the next stage in which the metal covering, which does not carry glue, has been etched away.



       Fig. 6 shows the object after burning away the glue reserve.



       Fig. 7 is a plan view of the counter and shows the arrangement of the conductor, including the terminals.



       Fig. 8 shows a further measure in the production of the finished resistor. Fig. 9 shows a preferred embodiment of the terminal, and Figs. 10 and 11 show the application of the invention in the simultaneous manufacture of a number of the same resistors from a single sheet of glass.



  Referring to Fig. 1 to 7 of the drawings, a pane of glass 1 is shown in Fig. 1, which serves as the basis for the resistance, and first made chemically pure by immersion in a suitable acidic cleaning bath, such as 20% aqueous chromic acid solution whereupon you rinse and dry them.



  A solution containing a mixture of gold sulforesinate and platinum sulforesinate, with gold and platinum in a ratio of 80:20, is applied to the cleaned surface of the glass plate by rotation, i.e. by rotating the disc in a horizontal plane at high speed around a vertical axis are present, applied in a suitable solvent mixture like that given in the example above, so that a thin film is created that is evenly distributed over the entire surface.



  The coated glass pane is then fired at about 500 ° C. in order to decompose and burn the organic constituents and to leave a firmly adhering coating 2 (FIG. 2) made of 80:20 gold-platinum alloy on the glass substrate.



  The metallized sheet is now coated with a visual layer 3 (Fig. 3) made of photosensitive ge photogravure glue, which is preferably done in front of the above rotation method, and then allowed to dry.

    The structure coated in this way is then exposed through a photographic negative of the desired X # 'resistance drawing, the unexposed areas are removed by washing in cold water and the pane is again baked for 20 minutes at 280 to 300 ° C. in order to harden the glue pattern and put in a reserve. The result of these measures is shown in Fig. -1, in wel cher 4 represents the resistance pattern of hardened glue.



  The next step is the removal of the alloy coating 2 that is not covered by the hardened glue 4. This is done by immersing the disc in a solution of 2 parts by weight of bromine in 98 parts by weight of amy lactate. The result of this process is shown in FIG.



  Opposite parallel strips 5 (Fig. 5) of silver paste are now brought up to produce thickened areas, and the plate is now again fired at about 600 C to entfer the glue reserve and the organic constituents of the silver paste so that the metal conductor system is exposed and the silver adheres to the glass. The product thus obtained is shown in FIG.



  The metal conductor system obtained by the process steps described is shown in FIG. 7, and it is noted that it has a series of loop-shaped sections 6 at one end, each of which is connected to the thickened strip 5 through the connection 7.



  The opposite side edges of the disc 1 are then ground away as at 8, 8, 9, 9 (Fig. 7 and 8), protruding wedge-shaped parts 10, 10 formed who, as shown in Fig. 8 schematically, in which 13 and 14 are two rotatable shafts on each of which a pair of impregnated diamond grinding wheels 15, 15 and 16, 16 sit, the circumference of which, as shown at 15a and 16a, is beveled in order to achieve the desired wedge shape.

   To form the wedge-shaped parts 1.0, 10, the disk 1 is braeled between the rotating grinding disks <B> 15, 15 </B> and <B> 16, 16 </B>, the shafts 13 and 1.4 during the Grinding process in the required times; @e are moved against each other.



  The connection terminals 11, 11 have the shape shown in FIG. 9. They consist of a flat strip 11a. to the brass with upright divergent sides 111 with naeli outwardly curved edges 11c and a central extension 111. The clamps 11 are attached to the disk 1. by placing them on the wedge-shaped parts 10, 10 and through The action of the force presses the sides 11.b of the clamps over and around the edges of the part 10, which is facilitated by the outwardly curved edges 11c.

   The terminals 11 are then with the silver strip 5 and the lines 12, 12 soldered to the extensions 11d of the terminal.



  The resistance range of the resistance system will usually be within 10 of the required value, and you can, in order to bring the same to the correct value, one or more of the connec tion lines 7, as shown by the arrow (Fig. 7), cut through a suitable tool can be used to increase the total resistance.



  The finished resistor is finally given one or more Lberzüge made of insulating, moisture-resistant varnish, z. B. a silicone resin varnish, and is finally baked at 170 C for 2 hours. .1 Class production. 10 and 11 show the application of the method according to the invention for the mass production of high-value electrical resistors.



  As shown in FIG. 10, a plurality of resistor patterns 17 made of an 80:20 gold-platinum alloy, as described above, are applied to a glass pane 18. Silver ribbons 19 (FIG. 11) are applied according to the known film printing process and the disk 18 is then divided into a number of true-angled strips, each of which contains a number of resistance patterns.

   This is done with a tendon with diamond disks along the striated lines 2'0.



  As can be seen from FIG. 17, each sillic rim has a wedge-shaped part 1_9a, (which corresponds to the wedge-shaped part 10 of the finished resistor.



  Each strip is now further zet: sehnit.- ten, whereby the individual square-teak resistance elements are created and the not rectangular pieces are discarded.



  The ends of each resistor are then along the circumference of the bands 19, 1.9a. sanded off, the connection terminals on, (#. ebraeht and the resistance value, as described earlier, matched.



  The electrical resistors produced according to the above mass production process with, for example, a current path of 0.127 mm wide, a gap of 0.076 mm and 838.2 mm long, have, as has been shown, a resistance of 120,000 ohms + before the final adjustment 10% and a temperature coefficient of resistance of approximately 0.028.



  It is easy. to recognize that the improved manufacturing process allows. to manufacture compact, flat resistors that have a metallic line of very high electrical stability, which is comparable to the one with the lower-ohmic, wire-wound resistors of the usual Type is available.



  The metallic line also ensures freedom from noise, which is not achievable with resistors of the film type containing carbon or palladium oxide.



  If a plurality of resistors are produced simultaneously from a single plate using the mass production process, it is possible to manufacture up to 100 resistors with uniform characteristics and resistance values of 10% of the desired value at the same time, with the resistance being easily adjusted in the be written way can be done.



  The production costs are, as has been shown, low, since a majority of resistors are produced in one operation and only an extremely thin metal film of 11.10 00o min is used for example.



  As a result of the flatness of the resistors, a large number of them can be stacked in a small space, so that very high resistance values can be obtained in a limited space. The resistors are also good for printed circuit boards.



  The invention also includes electrical resistors made according to the improved method.

 

Claims (1)

PATENTANSPRUCH I: Verfahren zur Herstellung eines elektri schen Widerstandes, dadurch gekennzeichnet, dass man eine Platte aus elektrisch isolieren dem, anorganischem, hitzebeständigem Ma terial auf mindestens einer Seite mit einem haftenden, einheitlichen Belag aus Edelmetall oder einer Edelmetall-Legierung überzieht, zum Zwecke, einen Stromweg zu bilden, und dann diesen Belag durch ein Photo-Ätzverfah- ren in Streifen unterteilt, um den Stromweg zu verlängern. UNTERANSPRÜCHE: 1. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass der Metallbelag aus einem dünnen Film einer aus 60 bis 90 Teilen Gold und 10 bis 40 Teilen Platin bestehenden Legierung gebildet wird. 2. PATENT CLAIM I: A method for producing an electrical resistor, characterized in that a plate made of electrically insulating, inorganic, heat-resistant material is coated on at least one side with an adhesive, uniform coating made of precious metal or a precious metal alloy, for the purpose of to form a current path, and then subdivided this coating into strips by a photo-etching process in order to lengthen the current path. SUBClaims: 1. The method according to claim I, characterized in that the metal coating is formed from a thin film of an alloy consisting of 60 to 90 parts of gold and 10 to 40 parts of platinum. 2. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass der Metallbelag aus einer<B>80:</B> 20-Gold-Platin-Legierung besteht. 3. Verfahren nach Unteranspruch 1, da durch gekennzeichnet, dass man eine Lösung, welche eine Gold- und eine Platinverbindung in einem Lösungsmittelgemisch gelöst enthält, auf die Platte aufbringt, den so gebildeten Belag brennt, um die organischen Substanzen zri entfernen und den Legierungsbelag fest haftend zu machen. Verfahren nach Unteranspruch 3, da durch gekennzeichnet, dass die Lösung C,rold- und Platinsulforesinat enthält. 5. The method according to claim 1, characterized in that the metal coating consists of an <B> 80: </B> 20 gold-platinum alloy. 3. The method according to dependent claim 1, characterized in that a solution containing a gold and a platinum compound dissolved in a solvent mixture is applied to the plate, the deposit thus formed is burned to remove the organic substances and the alloy deposit is fixed to make adherent. Method according to dependent claim 3, characterized in that the solution contains C, gold and platinum sulforesinate. 5. Verfahren nach Unteranspruch 3, da durch gekennzeichnet, da.ss die Lösung Gold- sLilforesinat, Platinsulforesinat und die IIaf- tung fördernde Zusätze enthält. 6. Verfahren nach Unteranspruch 3, da durch gekennzeichnet, dass die Lösung auf-' der Platte durch Rotation derselben verteilt wird. 7. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass das anorganische -Haterial, aus denn die Platte besteht, Glas ist. B. Method according to dependent claim 3, characterized in that the solution contains gold silicate foresinate, platinum sulforesinate and additives which promote maintenance. 6. The method according to dependent claim 3, characterized in that the solution is distributed on- 'the plate by rotating the same. 7. The method according to claim I, characterized in that the inorganic material, because the plate consists of, is glass. B. Verfahren nach Unteranspruch 3, da durch gekennzeichnet, dass man den Legie rungsbelag mit einem Film aus lichtempfind lich gemachtem Photograv Urleim überzieht, den Film belichtet, um darauf ein Muster eines schmalen Widerstandsstromweges zii erzeugen, dieses Bild in eine Reserve verwandelt, das von der Reserve nicht bedeckte Metall ent fernt und schliesslich den. Gegenstand brennt, um die Reserve zu entfernen. 9. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, da.ss man Mittel vor sieht, um eine endgültige Justierung des Wi derstandswertes des Stromweges zu ermög lichen. 10. The method according to dependent claim 3, characterized in that the alloy coating is covered with a film of light-sensitive photograv original glue, the film is exposed to generate a pattern of a narrow resistance current path zii, this image is converted into a reserve, that of the reserve Uncovered metal is removed and finally the. Object is on fire to remove reserve. 9. The method according to claim I, characterized in that da.ss one provides means to make a final adjustment of the resistance value of the current path possible. 10. Verfahren nach Unteranspruch 9, da durch gekennzeichnet, dass der Stromweg an einem Ende eine Mehrzahl von Schleifen aufweist, die zu einem Anschluss des Wider- staides parallel geschaltet sind, so dass man durch Durchschneiden der Parallelverbindun gen mehr Widerstand in den Stromkreis ein schalten kann. 11. Method according to dependent claim 9, characterized in that the current path has a plurality of loops at one end, which are connected in parallel to a connection of the resistor so that more resistance can be switched into the circuit by cutting through the parallel connections. 11. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass man eine Platte aus Glas mit einem dünnen gleichförmigen Belag aus einer 80 :20-Gold-Platin-Legieriing versieht, indem man darauf durch Rotations einwirkung eine Lösung verteilt, welche eine Gold- und eine Platinverbindung im erforder lichen Verhältnis enthält, den erhaltenen Be- lag brennt, um die organische Substanz zii entfernen und den Belag fest haftend zu machen, den Belag nach einem Photo-Ätzver- fahren in Streifen unterteilt. und die Enden . des Stromweges verdickt. Method according to claim 1, characterized in that a plate made of glass is provided with a thin, uniform coating of an 80:20 gold-platinum alloy by rotating a solution which contains a gold and a platinum compound contains in the required ratio, the resulting covering burns in order to remove the organic substance and to make the covering firmly adherent, the covering is divided into strips using a photo-etching process. and the ends. of the current path thickened. 1\'. Verfahren nach Patentanspruch I, da durch gelzenrizeiehnet, dass man zur Massen produktion mehrere Widerstandseinheiten auf einer Unterlage erzeugt, die Unterlage in Streifen schneidet, von denen jeder eine An zahl der Widerstandseinheiten aufweist und diese Streifen in die einzelnen Widerstände unterteilt. 1\'. Method according to patent claim I, because by gelzenrizeiehnet that for mass production several resistance units are produced on a base, the base is cut into strips, each of which has a number of resistance units and these strips are divided into the individual resistors. <B>13.</B> Verfahren nach Unteranspruelr 12, da durch gekennzeichnet, dass inan auf minde stens einer Seite einer Platte aus elektrisch isolierendem, anorganischem Material einen haftenden, dünnen, gleichförmigen Belag aus einer Platin-Gold-Legierung im Verhältnis von 60 bis 90 Teilen Gold zu 10 bis .10 Teilen Platin aufbringt; <B> 13. </B> The method according to sub-claim 12, characterized in that inan on at least one side of a plate made of electrically insulating, inorganic material an adhesive, thin, uniform coating made of a platinum-gold alloy in the ratio of Applies 60 to 90 parts gold to 10 to 10 parts platinum; diesen Belag mittels eines Photo-Ätzv erfahrens in Streifen unterteilt, um eine Mehrzahl einzelner schmaler bangförmi- ger Stromwege zu erzeugen, von denen jeder eine Mehrzahl von parallel geschalteten sehlei- fenförinigen Abschnitten aufweist, auf die so behandelte Platte Metallstreifen aufbringt, die Platte in Streifen unterteilt, indem man diese zwischen zwei benachbarten Metallstreifen durchschneidet, worauf man jeden Streifen quer zu seiner Längsrichtung in einzelne Wi derstandselemente mit gegenüberliegenden ver dickten Enden, welche die Anschlüsse bilden, this coating is divided into strips by means of a photo-etching process in order to produce a plurality of individual narrow bang-shaped current paths, each of which has a plurality of parallel-connected sehleiforinigen sections, on the thus treated plate applies metal strips, the plate in strips divided by cutting them between two adjacent metal strips, whereupon each strip transversely to its longitudinal direction into individual resistance elements with opposite thickened ends that form the connections, unterteilt und den Widerstandswert durch Einschaltung schleifen.förmiger Abschnitte justiert. 14. Verfahren nach U nteransprueli 13, da durch gekennzeichnet, dass man auf eine (Ilasplatte einen dünnen, gleielrförmigen, haf tenden Belag aus einer<B>80: divided and the resistance value adjusted by switching on loop shaped sections. 14. The method according to U nteransprueli 13, characterized in that on a (Ilasplatte a thin, smooth, adhesive covering made of a <B> 80: </B> ?0-Gold-Platin-Le- gierung aufbringt, indem man auf dieser Platte eine Lösung durch Rotation gleiehmässi- ausbreitet, die eine Goldverbindung Lind eine Platinverbindung im erforderlichen Mengen verhältnis in einem Lösungsmittelgemisch ge löst enthält, worauf man den Belag brennt, um die organische Substanz zu entfernen und den Legierungsbelag fest haftend zu machen, alsdann die metallisierte Glasunterlage mit einem lichtempfindlichen Photogravurleim überzieht, den Leimfilm belichtet, um auf dem selben ein Positivbild des. </B>? 0-gold-platinum alloy is applied by spreading a solution by rotation on this plate, which contains a gold compound and a platinum compound in the required proportions in a solvent mixture, whereupon the coating is burns to remove the organic substance and to make the alloy coating firmly adhering, then the metallized glass base is coated with a light-sensitive photogravure glue, the glue film is exposed to a positive image of the. Widerstandsmusters zu erzeugen, das einen schmalen Stromweg darstellt, dieses Bild härtet., um es in eine Reserve überzuführen, das von der Reserve nicht bedeckte Metall durch Ätzen mit einem sepufferten IIalogenätzbad entfernt, so dass dei, Stroinweg@ unter der Reserve als Metall verbleibt, die beiden Enden des Stromweges durch Aufbringen einer Metallüberzugs- miseliung verdickt und das Ganze brennt, To generate a resistance pattern that represents a narrow current path, hardens this image. In order to transfer it to a reserve, the metal not covered by the reserve is removed by etching with a buffered IIalogenätzbad, so that the Stroinweg @ remains under the reserve as metal, the two ends of the current path are thickened by applying a metal coating and the whole thing burns, nm die Reserve zu entfernen und die Verdiekungs- beläge fest haftend zu machen. 15. Verfahren nach Unteranspruell 14, da durch gekennzeichnet, dass die Ä tzlösung eine Lösung von Halogen in. einem aliphatischen Alkohol ist. 16. Verfahren nach Unteranspruch 14, da durch gekennzeichnet, dass die Ätzlösung eine Lösung von Halogen in einem Ester eines ali- phatischen Alkohols ist. 17. nm to remove the reserve and to make the overlapping coverings firmly adherent. 15. The method according to sub-claims 14, characterized in that the etching solution is a solution of halogen in an aliphatic alcohol. 16. The method according to dependent claim 14, characterized in that the etching solution is a solution of halogen in an ester of an aliphatic alcohol. 17th Verfahren nach Unteranspruch 1, da durch gekennzeichnet, dass die Metallisier- lösung aus folgenden Bestandteilen besteht: EMI0009.0026 Goldsulforesinat <SEP> 280 <SEP> Teile <tb> Platinsulforesinat <SEP> 140 <SEP> " <tb> Rhodiumsulforesinat <SEP> 60 <SEP> " <tb> Vanadinresinat <SEP> 70 <SEP> , <tb> Borsäurelösung <SEP> in <SEP> Beilzvlalkohol <SEP> 10 <SEP> " <tb> Cpclohexanol <SEP> 250 <SEP> " <tb> Kolophonium <SEP> 100 <SEP> " <tb> Lavendelöl <SEP> 20 <SEP> " <tb> Rosmarinöl <SEP> 20 <SEP> " <tb> Terpentin <SEP> 20 <SEP> " <tb> Nitrobenzol <SEP> 30 <SEP> " <tb> 1000 <SEP> Teile PATENTANSPRUCH II: Method according to dependent claim 1, characterized in that the metallizing solution consists of the following components: EMI0009.0026 Gold Sulforesinate <SEP> 280 <SEP> parts <tb> Platinum sulforesinate <SEP> 140 <SEP> " <tb> Rhodium sulforesinate <SEP> 60 <SEP> " <tb> Vanadium resinate <SEP> 70 <SEP>, <tb> Boric acid solution <SEP> in <SEP> Beilzvlalkohol <SEP> 10 <SEP> " <tb> Cpclohexanol <SEP> 250 <SEP> " <tb> Rosin <SEP> 100 <SEP> " <tb> Lavender oil <SEP> 20 <SEP> " <tb> Rosemary Oil <SEP> 20 <SEP> " <tb> turpentine <SEP> 20 <SEP> " <tb> Nitrobenzene <SEP> 30 <SEP> " <tb> 1000 <SEP> parts PATENT CLAIM II: Elektrischer Widerstand, hergestellt nach dem Verfahren gemäss Patentanspruch I, da durch gekennzeichnet, dass auf einer Platte aus elektrisch isolierendem, anorganischem, hitzebeständigem Material ein festhaftender, bandförmiger, eingebrannter Belag aus Me tall vorgesehen ist, der einen Stromweg bildet, wobei dieser Belag aus einem Edelmetall oder einer Edelmetallegierung besteht. UNTERANSPRUCH: 18. ',ATiderstand nach Patentanspruch II, dadurch gekennzeichnet, dass der Metallbelag aus einer 80 : 20-Gold-Platin-Legierung besteht. Electrical resistance, produced by the method according to claim I, characterized in that a firmly adhering, band-shaped, burned-in covering made of Me tall is provided on a plate made of electrically insulating, inorganic, heat-resistant material, which forms a current path, this covering being made of a Precious metal or a precious metal alloy. SUBClaim: 18. ', A resistor according to claim II, characterized in that the metal coating consists of an 80:20 gold-platinum alloy.
CH301186D 1950-06-20 1951-06-20 Process for making electrical resistors. CH301186A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB15357/50A GB689795A (en) 1950-06-20 1950-06-20 Improvements in and relating to electrical resistors and a method of making them

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH301186A true CH301186A (en) 1954-08-31

Family

ID=10057728

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH301186D CH301186A (en) 1950-06-20 1951-06-20 Process for making electrical resistors.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US2693023A (en)
AT (1) AT173754B (en)
BE (1) BE504106A (en)
CH (1) CH301186A (en)
DE (1) DE1006492B (en)
DK (1) DK80926C (en)
GB (1) GB689795A (en)
NL (1) NL83232C (en)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3056937A (en) * 1952-07-19 1962-10-02 Pritikin Nathan Electrical resistor and method and apparatus for producing resistors
US3134953A (en) * 1952-08-28 1964-05-26 Technograph Printed Circuits L Electric resistance devices
CH314011A (en) * 1953-07-17 1956-05-31 Menke Joseph Ferdinand Dipl In Electric squib and method of making the same
US2868934A (en) * 1954-04-22 1959-01-13 Honeywell Regulator Co Precision resistance devices
US2837619A (en) * 1954-08-30 1958-06-03 Stein Samuel Strain sensitive element and method of manufacture
US2787560A (en) * 1955-03-03 1957-04-02 Stoddart Aircraft Radio Co Inc Microwave resistor manufacture
BE555335A (en) * 1956-02-28
US3099575A (en) * 1959-10-20 1963-07-30 Engelhard Ind Inc Thermocouple
GB867559A (en) * 1959-12-24 1961-05-10 Standard Telephones Cables Ltd Improvements in or relating to the production of two or more stencils in mutual register
US3067315A (en) * 1960-02-08 1962-12-04 Gen Electric Multi-layer film heaters in strip form
US3058081A (en) * 1960-04-11 1962-10-09 Air Reduction Resistor terminal
US2994846A (en) * 1960-05-26 1961-08-01 Lockheed Aircraft Corp Structurally integrated film resistor assembly
US3138776A (en) * 1961-01-05 1964-06-23 Leeds & Northrup Co Calibrated resistance-thermometers and the like
US3201855A (en) * 1961-02-21 1965-08-24 Dale Electronics Electrical resistor and method of making same
US3174920A (en) * 1961-06-09 1965-03-23 Post Daniel Method for producing electrical resistance strain gages by electropolishing
US3095340A (en) * 1961-08-21 1963-06-25 David P Triller Precision resistor making by resistance value control for etching
BE621368A (en) * 1961-08-31
US3205555A (en) * 1961-11-07 1965-09-14 Western Electric Co Methods of making printed circuit components
US3378919A (en) * 1962-07-16 1968-04-23 Triplex Safety Glass Co Laminated transparent panels incorporating heating wires
US3296574A (en) * 1962-12-21 1967-01-03 Tassara Luigi Film resistors with multilayer terminals
US3288983A (en) * 1963-07-29 1966-11-29 Lear Jet Corp Electrical resistance de-icing means for aircraft windshields
US3517436A (en) * 1965-05-04 1970-06-30 Vishay Intertechnology Inc Precision resistor of great stability
US3505134A (en) * 1966-04-13 1970-04-07 Du Pont Metalizing compositions whose fired-on coatings can be subjected to acid bath treatment and the method of using such metalizing compositions
US3621441A (en) * 1969-07-17 1971-11-16 Western Electric Co Film resistor adjustable by isolating portions of the film
JPS4919899B1 (en) * 1969-12-15 1974-05-21
US4200970A (en) * 1977-04-14 1980-05-06 Milton Schonberger Method of adjusting resistance of a thermistor
US4306217A (en) * 1977-06-03 1981-12-15 Angstrohm Precision, Inc. Flat electrical components
FR2398374A1 (en) * 1977-07-19 1979-02-16 Lignes Telegraph Telephon ADJUSTING RESISTORS FOR HYBRID CIRCUITS
DE2933676C2 (en) * 1979-08-20 1982-02-11 Hottinger Baldwin Messtechnik Gmbh, 6100 Darmstadt Procedure for adjusting transducers with strain gauges and strain gauges for carrying out the procedure.
DE3245392C2 (en) * 1982-12-08 1985-08-14 W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau Polished gold preparation
SE460810B (en) * 1988-06-08 1989-11-20 Astra Meditec Ab THERMISTOR INTENDED FOR TEMPERATURE Saturation AND PROCEDURE FOR MANUFACTURE OF THE SAME
DE4026061C1 (en) * 1990-08-17 1992-02-13 Heraeus Sensor Gmbh, 6450 Hanau, De
US5710538A (en) * 1995-09-27 1998-01-20 Micrel, Inc. Circuit having trim pads formed in scribe channel

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2399799A (en) * 1946-05-07 Process of making optical devices
US1936934A (en) * 1931-01-31 1933-11-28 Victor P Clear Machine for making resistance elements
US2021661A (en) * 1932-11-17 1935-11-19 Dispersion Cathodique Sa Electrical heating element of large surface for low temperatures
FR809631A (en) * 1935-08-15 1937-03-08 Pilkington Brothers Ltd Electric heater and its manufacturing process
US2273941A (en) * 1937-08-11 1942-02-24 Bosch Gmbh Robert Process for the production of resistances
US2256642A (en) * 1938-04-06 1941-09-23 Mallory & Co Inc P R Electric resistance element
US2281843A (en) * 1940-02-03 1942-05-05 Continental Carbon Inc Metal film resistor
US2389504A (en) * 1943-02-11 1945-11-20 American Optical Corp Process of making reticles or the like
US2435889A (en) * 1943-06-02 1948-02-10 Johnson Matthey Co Ltd Production of metallic designs on nonmetallic materials
US2482547A (en) * 1944-04-18 1949-09-20 Johnson Matthey Co Ltd Production of designs on nonmetallic heat-resisting bases
US2419537A (en) * 1944-09-09 1947-04-29 Bell Telephone Labor Inc Resistor
US2506604A (en) * 1947-02-01 1950-05-09 Robert P Lokker Method of making electronic coils
US2611807A (en) * 1949-06-30 1952-09-23 Rca Corp Multiple band turret-type tuning system

Also Published As

Publication number Publication date
US2693023A (en) 1954-11-02
NL83232C (en)
AT173754B (en) 1953-01-26
DE1006492B (en) 1957-04-18
DK80926C (en) 1956-04-30
BE504106A (en) 1952-10-24
GB689795A (en) 1953-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CH301186A (en) Process for making electrical resistors.
DE1614238B1 (en) Photosensitive semiconductor device and method of manufacturing the same
DE2061699B2 (en) METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR ARRANGEMENT
DE1817434B2 (en) Method for producing an electrical line arrangement
DE1690276B1 (en) CATHODE DUST PROCESS FOR PRODUCING OHMSHE CONTACTS ON A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND DEVICE FOR PERFORMING THE PROCESS
DE69008459T2 (en) Process for producing a substrate for thick-film circuits.
DE2548019A1 (en) Ceramic plate-shaped heating element - has a substrate made from green ceramic refractory plate, or a fired ceramic plate
DE2642161C2 (en) Conductive film for electrical heating devices
DE2443850B2 (en) HYBRID MICROCIRCUIT AND METHOD OF APPLYING MARKINGS ON ITS SUBSTRATE
DE669992C (en) Gear planing machine with a device for lifting and repositioning the tool at its stroke ends
DE1791233B1 (en) Method for the production of a function block, especially for data processing systems
DE2259182A1 (en) PROCESS FOR MANUFACTURING A MATRIX FOR USE IN THE GALVANO FORMING
DE3311046C2 (en)
DE1439529B2 (en) : Semiconductor component with a planar semiconductor element on a bonding plate and method for producing the same
DE2104735A1 (en) On a ceramic substrate applied circuit with high good factor and method for manufacturing the same ben
DE1809572A1 (en) Insulation material containing glaze for the production of electronic microcircuits or a circuit element and process for the production of electronic microcircuits produced using such an insulation material
DE3133350A1 (en) &#34;Process for producing masking layers on a face to be patterned of a solid body&#34;
DE972845C (en) Multi-layer film for the production of printed circuits or printed circuit elements
DE19780905C2 (en) Resistance and process for its manufacture
DE2328603A1 (en) METHOD OF MANUFACTURING A PHOTOLECONDUCTIVE ELEMENT
DE2751393A1 (en) INTEGRATED ARRANGEMENT AND METHOD OF MANUFACTURING IT
DE1614238C (en) Photosensitive semiconductor devices and processes for their manufacture
DE2044255A1 (en) Thin film resistor network prodn - using cermet on insulated substrate followed by nickel-chromium and gold
DE2056582A1 (en) Thin film resistance
DE1930273A1 (en) Process for making electrical resistance material, resistors and circuits