CA2215418A1 - Composition de resine photosensible a base d'eau - Google Patents
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Abstract
Composition de résine photosensible à base d'eau présentant des caractéristiques de résistance égale ou supérieure à celle des compositions de résine photosensible à base de solvant actuellement dans le commerce. Cette composition peut être développée par une solution alcaline aqueuse de dilution. Cette composition comprend les composants essentiels suivants: (a) une émulsion aqueuse d'un composé polymère renfermant des groupes carboxyles; (b) un composé comportant une liaison photopolymérisable éthyléniquement insaturée; (c) un initiateur de photopolymérisation capable de produire des radicaux libres sous exposition à une lumière actinique; et (d) un accélérateur d'adhésion; le composant (a) ayant un poids moléculaire moyen compris entre 1.000 et 50.000, un indice d'acidité compris entre plus de 140 et 250 mg-KOH/g, et une température de transition vitreuse se situant dans la plage des 50 à 200 ·C.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP75869/1995 | 1995-03-31 | ||
JP7586995 | 1995-03-31 | ||
JP193534/1995 | 1995-07-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CA2215418A1 true CA2215418A1 (fr) | 1996-10-03 |
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ID=13588708
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CA 2215420 Abandoned CA2215420A1 (fr) | 1995-03-31 | 1996-03-28 | Composition de resine photosensible a base d'eau |
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CA 2215420 Abandoned CA2215420A1 (fr) | 1995-03-31 | 1996-03-28 | Composition de resine photosensible a base d'eau |
Country Status (1)
Country | Link |
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CA (2) | CA2215420A1 (fr) |
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1996
- 1996-03-28 CA CA 2215420 patent/CA2215420A1/fr not_active Abandoned
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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CA2215420A1 (fr) | 1996-10-03 |
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