BR9809906B1 - aperfeiÇoamento de campo de fluxo no espaÇo de alimentaÇço de um leito fluidizado. - Google Patents

Description

"APERFEIÇOAMENTO DE CAMPO DE FLUXO NO ESPAÇO DEALIMENTAÇÃO DE UM LEITO FLUIDIZADO"

Campo de Invenção

Esta invenção se refere, em geral, a um dispositi-vo de leito fluidizado e se associa, em particular, com umaestrutura de alimentação de espaço par gás para tal disposi-tivo. A invenção particularmente útil em reatores de leitofluidizado, empregados para redução direta de minério deferro (DRI), porém possui uma aplicabilidade geral no aper-feiçoamento de distribuição de fluxo de gás no espaço da câ-mara de reatores e caldeiras de leito fluidizado.

Antecedentes Técnicos

Em um processo conhecido para redução direta deminério de ferro, a partir do seguinte instante designadocomo tema a respeito de processo DRI de leito fluidizado, oferro ou partículas são passadas na direção para baixo, emsucessão, através de uma série de reatores de leito fluidi-zado, de encontro a um contra fluxo na direção para cima, deredução de gás. 0 processo é executado de forma comercial naVenezuela e conhecido ali como o processo FIOR. Nesta fábri-ca, o produto do reator mais baixo (o primeiro reator parafluxo de gás) é passado para uma unidade de briquetagern , afim de produzir um produto de ferro metalizado estável, oqual, entre outros, é uma alimentação par caldeiras de ferrode arco elétrico, os chamados mini moinhos. 0 gás de reduçãoentregue ao reator mais baixo é tipicamente uma mistura deum gás natural reformado, com um gás comprimido, pobre, detopo, reciclado a partir do reator mais alto de redução. Emcada reator, este gás serve como o meio de fluidizaçâc, bemcomo, como redutor e, devido a isso, é entregue ao fundo decada alojamento de reator, através de um espaço de câmara,para admissão à câmara de reação principal, através de eje-tores múltiplos de uma placa de distribuição, qual suporta oleito fluidizado. No interior de cada reator, ciclones ex-ternos extraem partículas ou pó a partir do gás de topo, an-tes deste ser entregue transferido ao próximo reator superi-or ou, em caso do reator superior, reciclado para o fluxo dealimentação de gás de redução. 0 pó extraído nos ciclones éretornado ao leito fluidizado, através de membros ou pernasde imersão.

Formas particulares ou modificações deste processosão descritas, por exemplo, nas Patentes Norte Americanas N05082251, N0 5370727 e N0 5439504, Publicação Internacionalde Patente WO 96/10094 e no Pedido de Patente Australiano N015007/95.

Na prática comercial corrente do processo FIORDRI, a deposição gradativa de acréscimos em vários pontos daconfiguração do reator, diminui de forma constante o desem-penho do processo e, eventualmente, reduz o fluxo de gás aum ponto, no qual o processo têm que ser parado e os acrés-cimos ou depósitos removidos. A experiência tem demonstradoque o material de depósito nos ejetores e no espaço de câma-ra inferior do reator, tende ase depositar nas regiões deestagnação do fluxo de fluido. Os depósitos acontecem em re-giões de estagnação, resultantes do impacto direto do gásbem como nas regiões de separação de fluxo.Este problema foi considerado na Patente Australi-ana 490892, a qual propunha um formato modificado de ejetorpara a placa de distribuição. Embora não diretamente sugeri-do como relevante à redução da proporção de formação de de-pósito, este referência também ilustra uma disposição deplaca de dupla obstrução no espaço de câmara, sob a placa dedistribuição, ao invés de uma placa de obstrução única uti-lizada nos reatores FIOR. A placa de obstrução superior temformato anelar ou circular perfurado e a outra é um discomenor.

Configurações de placas de distribuição mais com-plexas se encontram descritas na Patente Britânica 1119250,na Patente Suíça 583066 e na Publicação de Patente Européia421506. As primeiras duas, divulgam uma disposição de placadupla com aberturas deslocadas. A EP 421506 apresenta duasplacas ou telas espaçadas perfuradas, imprensando um leitode esferas.

Um objetivo da presente invenção, em uma aplicaçãopreferida, é o de reduzir a proporção com a qual se formadepósitos no presente processo de leito fluidizado DRI nos ede forma adjacente aos ejetores de placa de -distribuição dasestruturas de espaço de alimentação.

Divulgação da Invenção

De acordo com a invenção, se verificou que a pro-porção de formação de depósitos pode ser reduzida de maneiramaterial, através da modificação da distribuição de fluxo degás, no espaço de câmara, e que uma forma de se alcançarisso, de maneira vantajosa, seria por meio de uma disposiçãode obstrução perfurada selecionada, no interior do espaço decâmara, no lugar da placa de obstrução anterior, tradicio-nalmente empregada no processo FIOR DRI, a fim de reduzirsubstancialmente o fluxo cruzado nas aberturas dos ejetoresde alimentação.

A invenção, consequentemente, provê, em um aspec-to, em uma estrutura de espaço de gás para dispositivo deleito fluidizado, incluindo:

uma estrutura, definindo uma ou mais paredes Iate-rais e de base, em torno do espaço de câmara;

dispositivos, definindo uma entrada de gás para acâmara, arranjados de tal forma que o gás flua geralmentepara cima para o interior da câmara, a partir da entrada;

dispositivos de distribuição, se sobrepondo à re-ferida câmara e possuindo múltiplas aberturas através dasquais o gás deixa a câmara para formar um leito fluidizado,acima dos dispositivos de distribuição; e

dispositivos, dispostos entre a referida entrada eos referidos dispositivos de distribuição, para expandir oudifundir o fluxo de gás entre as aberturas;

o aperfeiçoamento no qual o dispositivo de difusãode fluxo de gás possui uma pluralidade de aberturas para ofluxo do gás através das mesmas e onde o referido dispositi-vo de fluxo de gás e as referidas aberturas de fluxo são di-mensionadas e dispostas para reduzir de forma substancial avelocidade de fluxo cruzado do referido gás nas referidasaberturas.Preferivelmente, o dispositivo de difusão de gásinclui uma ou mais placas perfuradas.

Sob um outro aspecto, a invenção prove, em um rea-tor de leito fluidizado para redução de partículas de óxidode ferro, incluindo:

uma estrutura de entrada de espaço de gás, possu-indo uma estrutura que define uma ou mais paredes laterais ede base, em torno do espaço de câmara;

dispositivos, definindo uma entrada de gás para acâmara, arranjados de tal forma que o gás flua geralmentepara cima para o interior da câmara, a partir da entrada;

dispositivos de distribuição, se sobrepondo à re-ferida câmara e possuindo múltiplas aberturas, definidas porejetores convergentes para cima, através dos quais o referi-do gás deixa a câmara para formar um leito fluidizado acimado dispositivo de distribuição; e

dispositivos, dispostos entre a referida entrada eos referidos dispositivos de distribuição, para expandir oudifundir o fluxo de gás entre as aberturas;

o aperfeiçoamento constituído de dispositivos nareferida estrutura de entrada de espaço de gás, dispostos afim de reduzir, substancialmente, a velocidade de fluxo cru-zado nos referidos ejetores e com isso minimizando a propor-ção de formação de depósitos nos ou de forma adjacente aosejetores, os quais diminuem o fluxo a partir do espaço decâmara.

De preferência, a estrutura de espaço de alimenta-ção ou entrada de gás é substancialmente axialmente simétri-ca, em torno de um eixo vertical central. 0 dispositivo dedistribuição, de preferência, inclui uma placa de distribui-ção e as aberturas na mesma podem incluir ejetores, osquais, pelo menos para aplicação na redução de óxidos deferro, são cones convergentes voltados para'cima.

O dispositivo de placa de obstrução, vantajosamen-te inclui entre uma e três placas de obstrução, se estenden-do, em geral, de forma paralela à placa de distribuição e,em geral a meio caminho entre a placa de distribuição e aentrada de gás.

Preferivelmente, onde existe mais de uma placa deobstrução, o espaçamento entre as placas não é maior do quecerca de dez vezes o espaçamento médio de centro a centrodas aberturas na placa de obstrução. Estas aberturas são, depreferência, circulares e podem ser dispostas em qualquerarranjo conveniente, por exemplo, uma disposição quadrada outriangular.

Breve Descrição dos Desenhos

A invenção será agora adicionalmente descrita, pormeio de um exemplo apenas, com referência à aplicação da in-venção ao processo acima mencionado de FIOR e, com referên-cia aos desenhos em anexo, nos quais:

A Figura 1 é um diagrama esquemático do leitofluidizado FIOR do processo DRI;

A Figura 2 é uma vista em seção transversal, emforma de diagrama, de uma primeira modalidade de estruturade espaço de entrada de gás, para qualquer um dos quatro re-atores de leito fluidizado indicados na Figura 1;A Figura 3 é uma vista em planta da placa de obs-trução da estrutura ilustrada na Figura 2;

A Figura 4 é um detalhe ampliado da região A daFigura 3;

A Figura 5 é uma vista em elevação lateral de for-mas alternativas de ejetores cônicos, apropriados para aplaca de distribuição na estrutura da Figura 2;

A Figura 6 é uma vista similar à Figura 2, de umasegunda modalidade de estrutura de espaço de entrada de gás,possuindo um par de placas de obstrução;

As Figuras 7 a 9, são plotagens computadas de li-nhas dos campos de fluxo, ao longo do eixo de simetria, res-pectivamente para as estruturas das Figuras 2 e 6, e parauma estrutura convencional de espaço de entrada de gás, emum reator para o processo FIOR; e

A Figura 10 é um gráfico que apresenta velocidadesde gás transversais, calculadas como função do raio da placade distribuição, para as modalidades das Figuras 2 e 5, epara uma estrutura convencional.

Descrição de Modalidades Preferidas

A Figura 1 é um diagrama esquemático de uma fábri-ca de processo FIOR, para operação do referido processo deleito fluidizado, para redução de partículas de minério deferro e fornecimento de um produto briquetado metalizado. Ocomponente central da fábrica é uma cascata inclinada 11 dequatro reatores de leitos fluidizados 12a - 12d. As partícu-las de minério de ferro 7 fornecidas ao reator superioratravés do sistema de alimentação 14, passam, sucessivamen-te, para baixo, através dos reatores, de encontro a um fluxocontrário de redução de gás 8, nos reatores 12b - 12d, oqual metaliza o minério de ferro e também serve como o gásde fluidização para os leitos fluidizados. 0 primeiro reator12a é um pré aquecimento, enquanto os outros três são reato-res de redução. 0 gás de redução é transferido para o reatormais baixo 12d, através da estrutura de entrada de espaço degás 20, recuperado como um gás de topo e passado de volta,através de dutos de transferência 18a, 18b aos reatores 12ce 12b, via as estruturas de espaço 20' e 20", similares àestrutura de espaço 20. No interior de cada um dos três rea-tores de redução, três são múltiplos ciclones (não mostra-dos) para limpeza do gás de topo de material, o qual é re-tornado aos respectivos leitos fluidizados, através membrosou pernas de imersão.

O gás de redução é, em primeiro lugar derivado deum gás natural reformado ou transformado 9, em um transfor-mador de vapor 22, e removido e dióxido de cálcio em um de-purador de C02 24. 0 gás de redução também é pré aquecido emum aquecedor 2 6 e incrementado por um gás de topo reciclado28 a partir do reator de redução mais superior 12b, após de-puração (30) e compressão (32).

No reator de pré aquecimento mais superior 12a, ogás natural expelido pelo transformador de vapor 22, atravésdo duto 23 para a estrutura de espaço 20a, serve tanto comogás de fluidização, quanto como combustível. Em uma disposi-ção alternativa, descrita por exemplo na Patente Norte Ame-ricana N0 5485032 e N0 5370727, o gás de topo a partir doreator de redução 12b é utilizado como gás de fluidização deaquecimento no reator de pré aquecimento 12a e o gás de toporeciclado 28 é extraído a partir do reator 12a.

0 produto de ferro metalizado do reator mais baixo12d é direcionado para uma unidade de briquetagem 35: o pro-duto é conhecido como ferro briquetado aquecido (HBI). 0 es-paço contendo o sistema de alimentação do minério 14, reato-res 12a a 12d e unidade de briquetagem é mantido selado esob pressão sub - atmosférica, a fim de minimizar a reoxida-ção do ferro.

A Figura 2 é um diagrama em seção transversal dacada uma das estruturas de espaço de entrada de gás 20, 20',20". Um alojamento principal 4 0 em formato de travessa éconformado por um envoltório externo de aço 41, revestido detijolos refratários 39. O alojamento 40 possui uma porção deparede lateral superior, substancialmente cilíndrica 42 euma porção de parede de base 43, em torno de um espaço decâmara 48. Nesta modalidade, a porção de parede de base 4 3se encontra definida pela revolução de um quadrante em tornode uma abertura de entrada de gás 45, no fundo do centro daporção de parede de base 43, mas são possíveis outras confi-gurações, evidentemente. Em operação o gás de redução étransferido para a entrada 4 5 através de um joelho 4 6 (nãomostrado), o qual direciona o fluxo de gás de forma geral-mente central para cima, para o espaço de câmara.

Completando a definição do espaço de câmara existeuma placa de distribuição 50, a qual, "in situ", seria tipi-camente disposta de forma geralmente horizontal. A placa dedistribuição 50 é apoiada a partir da porção de base do alo-jamento 43, por pilares múltiplos 51, dispostos em anéis,respectivamente interno e externo, no interior do espaço decâmara 48. A placa 50 possui um arranjo de aberturas múlti-pias 52, cada uma equipada com um ejetor alongado 54 (Figura5), na forma de um cone convergente para cima. O gás de re-dução deixa a câmara 48, através dos ejetores 54 para formarum leito fluidizado acima da placa de distribuição na câmaraprincipal do respectivo reator. Devido à conveniência, a Fi-gura 2 ilustra apenas dois ejetores, mas deve ser compreen-dido que será distribuída uma grande quantidade destes pelaplaca 50. Cada ejetor é seguro pela solda de um limpador 55,em torno da extremidade superior mais estreita do ejetor eao topo da superfície da placa de distribuição 50. Com refe-rência à Figura 4, cada cone ejetor 54 pode, como no presen-te projeto, ser um cone com uma parede lateral reta. Alter-nativamente, como visto na Figura 5, à direita, a parede pe-riférica 75 do cone pode se abrir para baixo e para o exte-rior, formando uma grande embocadura 70 na extremidade maisbaixa. Este projeto de cone auxilia na redução da separaçãode fluxo no e em torno do cone e com isso auxilia adicional-mente na redução de deposições.

Disposto, em geral de forma central e a meio cami-nho entre a entrada de gás 45 e a placa de distribuição 50,se encontra um dispositivo de obstrução 60 para difusão dofluxo de gás, a partir da entrada 45, entre os ejetores 54.

De acordo com uma modalidade da presente invenção, o dispo-sitivo de obstrução 60 compreende uma placa única, circularde obstrução 62, posicionada de forma coaxial a ama parecelateral cilíndrica-42, à placa de distribuição 50 e à entra-da de gás 45. A placa de obstrução 62 se encontra suspensa apartir da placa de distribuição 60 por meio de quatro postes63, e possui um diâmetro para se ajustar no interior do anelinterno dos pilares 51. A placa 62 possui uma arranjo qua-drado de aberturas circulares 65 (Figura 3) . Por arranjoquadrado, neste contexto, noa se quer dizer que o arranjoseja um quadrado e sim, que o centro das aberturas 65 se en-contre arranjado em uma grade quadrada, evidentemente se en-tenderá, que outros arranjos e outros formatos de aberturassão possíveis dentre o âmbito da invenção, contudo as aber-turas são, de preferência, dimensionadas e dispostas de talmaneira que a porosidade da placa se situe em uma faixa pre-ferida de 0,1 a 0,6, mais preferivelmente na faixa de 0,15 a0,30, e mais preferivelmente aproximadamente 0,2. Uma dimen-são satisfatória para as aberturas 65 é circular com cercade 4 0 a 60 mm de diâmetro, mas o objetivo principal é que aabertura seja graride o suficiente para acomodar um fluxocarregado de pó, sem bloqueio.

Esta última exigência se satisfaz, por exemplo,quando as aberturas 65 se encontram dispostas em uma incli-nação quadrada e é fornecida por:onde d é o diâmetro das aberturas 65 e ? a unidade de espa-çamento de centro a centro de quadrado das aberturas na dis-posição, como indicado na Figura 3.

0 diâmetro da placa 62 é intermediários aos diâme-tros da entrada de gás 45 e da placa de distribuição 50. Emgeral, o dia da placa 62 pode, convenientemente, estar entre0,3 e 0,4 do diâmetro interno da porção de parede lateralcilíndrica 42, e assim sendo, tipicamente, também da placade distribuição 50, ou entre cerca de 1,2 a 1,8, de prefe-rência, por cerca de 1,5 vezes o da entrada de gás 45.

A Figura 7 é uma plotagem de linhas do campo defluxo criado ao longo da linha central de reator da modali-dade segundo a Figura 2, através da admissão de um fluxo degás na entrada 45, para uma porosidade de placa ideal de va-Ior 0,2. A linha é definida como o percurso que uma partícu-la sem massa tomaria caso penetrasse no campo de fluxo noponto de início da linha. Para fins de comparação, a Figura9 é uma plotagem de linhas correspondente para uma estruturae espaço de construção similar, exceto pelo fato da substi-tuição da disposição de obstrução 60, por uma placa conven-cional única impermeável, aproximadamente na posição da pacade obstrução 62, como visualizada na Figura 2. Deve se ob-servar, a partir da Figura 9, que existe um fluxo cruzadobastante substancial na região da placa de distribuição,onde o componente transversal do fluxo é relativamente maisreduzido na plotagem da Figura 7. Em geral, existe muito me-nos fluxo contrário no espaço de câmara com a configuraçãoda Figura 2. Registros em vídeo de modelos reais de fluxo,utilizando se ar saturado de fumaça e disposições de exposi-ção à laser, demonstraram que a plotagem calculada das Figu-ras 7, 8 e 9, são geralmente refletidas na prática. Se ob-servou que uma redução substancial no fluxo contrário é efi-caz na redução da proporção de deposição formada nos conese, com isso, se estende o comprimento de operação. A apreci-ação do desejo de redução do fluxo contrário é um aspecto doentendimento que envolve a presente invenção. Se acreditaque uma deposição irá tender a se formar, mais rapidamente,onde uma corrente de alta velocidade saturada de pó, se im-pacte contra em uma superfície sólida, e também onde resulteuma separação de fluxo nas bordas de recirculação na entradado cone. A observação da formação de depósitos, na práticaconvencional, do processo FIOR DRI, sugeriu este entendimento.

A redução da velocidade do fluxo contrário aindase demonstra na Figura 10, a qual apresenta uma plotagem Bde velocidade de fluxo contrário calculada em uma distânciauniforme abaixo da placa de distribuição 54, para a disposi-ção de obstrução da Figura 2. Por comparação, a plotagemcorrespondente para a Figura 9 está incluída em A. Deve deobservar que a velocidade máxima de fluxo contrário é maisdo que dividida pela metade.

Uma modalidade de placa dupla de obstrução se en-contra ilustrada na Figura 6, a plotagem de linhas corres-pondentes conjugadas na Figura 8 e a plotagem de velocidadede fluxo contrário em C, na Figura 10. Os últimos dois dia-gramas são para porosidades de 0,6 da placa inferior 62a ede 0,45 para a placa superior 62b. Se observou que um desem-penho ainda melhor é obtido com a disposição de placa dupla,embora as porosidades de cada uma sejam substancialmentemais altas do que a da placa única 62. As porosidades indi-cadas acima oferecem um desempenho ideal, mas apenas poucomelhor do que se ambas fossem 0,45 ou 0,6. Em geral, no en-voltório de placa, as porosidades deveriam, de preferência,se encontrar em uma faixa entre 0,3 a 0,7 e mais altas par aplaca inferior do que para aplaca superior.

A separação de placas preferida 62a, 62b é umaquestão de experimentação em um contexto individual. A sepa-ração ideal, provavelmente irá aumentar com um diâmetro deplaca acrescido. Uma separação χ de cerca de 50 0 mm, provouser satisfatória para diâmetros de placas D= 1,3 mm; sendouma proporção preferida de x/D de cerca de 1/8 a 3/4.

As Figuras 7 a 9 revelam a maneira pela qual a(s)placa(s) de obstrução perfurada(s) modificam o fluxo do gás.

Com a placa convencional, não perfurada (Figura 9), se formaum único turbilhão, apresentando um forte fluxo de uma dire-ção, radialmente para o interior, através do lado inferiorda placa de distribuição 50. Para ambas as modalidades deacordo com a invenção, turbilhões múltiplos geram fluxosopostos radialmente internos e externos na placa 50. Seacredita que este modelo de fluxo contrário possa contribuirdiretamente para a redução da velocidade de fluxo cruzadonas embocaduras de ejetor.

Claims (13)

1. Estrutura de espaço de gás (20) paradispositivo de leito fluidizado, que inclui:uma estrutura (41), definindo uma ou mais paredeslaterais (42) e de base (43) , em torno do espaço de câmara(48) ;dispositivos, definindo uma entrada (45) de gáspara a câmara (48), arranjados de tal forma que o gás fluageralmente para cima para o interior da câmara (48), apartir da entrada (45);dispositivos de distribuição (50), se sobrepondo àreferida câmara (48) e possuindo múltiplas aberturas (52)através das quais o gás deixa a câmara (48) para formar umleito fluidizado, acima dos dispositivos de distribuição(50); edispositivos (60), dispostos entre a referidaentrada (45) e os referidos dispositivos de distribuição(50), para expandir ou difundir o fluxo de gás entre asaberturas (52);CARACTERIZADO pelo fato de que o dispositivo dedifusão de fluxo de gás (60) possui uma pluralidade deaberturas (65) para o fluxo do gás através das mesmas e ondeo referido dispositivo de fluxo de gás (60) e as referidasaberturas de fluxo (65) são dimensionadas e dispostas parareduzir de forma substancial a velocidade de fluxo cruzadodo referido gás nas referidas aberturas (52).

2. Estrutura de espaço de gás (20), de acordo coma reivindicação 1, CARACTERIZADA pelo fato de que o referidodispositivo difusor de fluxo de gás (60) inclui pelo menosuma placa de obstrução perfurada (62).

3. Estrutura de espaço de gás (20), de acordo coma reivindicação 2, CARACTERIZADA pelo fato de que existe umaplaca de obstrução perfurada (62), possuindo uma porosidadeentre 0,1 e 0,6.

4. Estrutura de espaço de gás (20), de acordo coma reivindicação 3, CARACTERIZADA pelo fato de que a referidaporosidade é de 0,2.

5. Estrutura de espaço de gás (20), de acordo coma reivindicação 2, CARACTERIZADA pelo fato de que existemduas placas de obstrução (62) .

6. Estrutura de espaço de gás (20), de acordo coma reivindicação 5, CARACTERIZADA pelo fato de que asreferidas placas de obstrução (62), cada uma, possuem umaporosidade na faixa de 0,3 a 0,7.

7. Estrutura de espaço de gás (20), de acordo coma reivindicação 5 ou 6, CARACTERIZADA pelo fato de que oespaçamento entre as placas (60) não é maior do que 3/4 dodiâmetro da placa de obstrução.

8. Estrutura de espaço de gás (20), de acordo comqualquer uma das reivindicações 1 a 7, CARACTERIZADA pelofato de que a estrutura de entrada de espaço de gás (20) ésubstancialmente axialmente simétrica em torno de um eixovertical central.

9. Estrutura de espaço de gás (20), de acordo comqualquer uma das reivindicações 1 a 8, CARACTERIZADA pelofato de que o referido dispositivo de distribuição (50)inclui uma placa de distribuição (50) e aberturas (52) namesma incluindo ejetores (54), que são cones convergentesvoltados ara cima.

10. Estrutura de espaço de gás (20), de acordo comqualquer uma das reivindicações 1 a 9, CARACTERIZADA pelofato de que o dispositivo de difusão de fluxo de gás 60) seestende, em geral, de forma paralela à placa de distribuição(50) e, em geral, a meio caminho da placa de distribuição(50) e da entrada de gás (45).

11. Estrutura de espaço de gás (20), de acordo comqualquer uma das reivindicações 1 a 10, CARACTERIZADA pelofato de ser montada em um reator de leito fluidizado, a fimde prover um suporte de leito fluidizado no reator.

12. Reator de leito fluidizado (12) para reduçãode partículas de óxido de ferro, incluindo:uma estrutura de entrada de espaço de gás (20),possuindo uma estrutura (41) que define uma ou mais paredeslaterais (42) e de base (43) , em torno do espaço de câmara(48) ;dispositivos, definindo uma entrada de gás (45)para a câmara (48), arranjados de tal forma que o gás fluageralmente para cima para o interior da câmara (48), apartir da entrada (45);dispositivos de distribuição (50), se sobrepondo àreferida câmara (48) e possuindo múltiplas aberturas (52),definidas por ejetores convergentes para cima (54), atravésdos quais o referido gás deixa a câmara (48) para formar umleito fluidizado acima do dispositivo de distribuição (50);edispositivos (60), dispostos entre a referidaentrada (45) e os referidos dispositivos de distribuição(50), para expandir ou difundir o fluxo de gás entre asaberturas (52);CARACTERIZADO pelo fato de ser constituída dedispositivos (60) na referida estrutura de entrada de espaçode gás (20), dispostos a fim de reduzir, substancialmente, avelocidade de fluxo cruzado nos referidos ejetores (54) ecom isso minimizar a proporção de formação de depósitos nosou de forma adjacente aos ejetores (54), os quais diminuem ofluxo a partir do espaço de câmara (48).

13. Reator de leito fluidizado (12), de acordo coma reivindicação 12, CARACTERIZADO pelo fato de que odispositivo de difusão de fluxo de gás (60) possui uma oumais placas perfuradas de obstrução (62).