BR112020009705A2 - processo para preparar um composto, método para obter um composto e composto - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Abstract
A presente divulgação refere-se a um processo para a preparação de 5-amino-1-(2,6-dicloro-4-triflúor-metil-fenil)-4-etil-sulfanil-1H-pirazol-3-carbonitrila e de compostos relacionados.
Description
[0001] Ao longo deste pedido de patente, várias publicações são mencionadas. As divulgações destes documentos na sua totalidade são aqui incorporadas por referência a este pedido de patente, a fim de descrever mais completamente o estado da técnica a que pertence esta invenção. Campo técnico
[0002] A presente divulgação refere-se a um processo para a preparação de 5-amino-1-(2,6-dicloro-4-triflúor-metil-fenil)- 4-etil-sulfanil-1H-pirazol-3-carbonitrila e de compostos relacionados. Histórico da invenção
[0003] Etiprole, 5-amino-1-[2,6-dicloro-4-(triflúor-metil) fenil]-4-(etil-sulfinil)-1H-pirazol-3-carbonitrila (Registro CAS nº 181587-01-9) é representado pela seguinte fórmula estrutural:
N H2N
N Cl Cl CF3
[0004] Etiprole pertence à família química do fenil- pirazol. Ele age como como bloqueador do canal de cloreto regulado por GABA e é usado para controlar insetos.
[0005] O composto 5-amino-1-(2,6-dicloro-4-triflúor-metil- fenil)-4-etil-sulfanil-1H-pirazol-3-carbonitrila da estrutura
N H2N
N Cl Cl CF3 é um importante intermediário na preparação de etiprole, e pode ser obtido pela tiolação do fenil-pirazol correspondente.
[0006] “Synthetic Communications”, 2012, 42, 3472-3481 divulga um processo de tiolação de fenil-pirazol com bissulfeto usando o complexo FeBr3/I2 como o catalisador em MeCN a 80°C. Esta reação exibe algumas desvantagens. Esta reação catalítica é executada em ar atmosférico, requerendo, portanto, oxigênio; devido à temperatura da reação, os bissulfetos requerem grupos funcionais aromáticos tendo um alto ponto de ebulição, e um tempo de reação muito longo. Estes requisitos tornam a reação inadequada para processos industriais. Primeiro, o tempo de reação extremamente longo torna a reação menos favorável. Segundo, as reações industriais são usualmente executadas em condições inertes que exigem a adição de oxigênio à reação que é altamente explosiva.
[0007] O pedido de patente indiano nº 331/MUM/2014 depositado em 30 de janeiro de 2014, divulga um processo para sintetizar tio-alquil-pirazol. A reação compreende reagir um haleto de alquil-sulfenila, um amino-pirazol, um sal de amina e um solvente selecionado de cloreto de etileno e cloreto de metileno, numa atmosfera inerte na faixa de temperatura de -20°C a 50°C.
[0008] Os solventes divulgados no pedido de patente indiano nº 331/MUM/2014 são voláteis e muito poluentes e são considerados carcinogênicos e muito problemáticos de usar, o sal de amina que é formado complexando uma amina com um ácido forte é muito corrosivo, e o tempo de reação é longo.
[0009] Baseado nas desvantagens dos processos acima, seria muito desejável ter um processo melhorado para a produção de 5-amino-1-(2,6-dicloro-4-triflúor-metil-fenil) -4-etil- sulfanil-1H-pirazol-3-carbonitrila que seja apropriado para uso industrial, simples, de baixo custo, muito eficiente, com curto tempo de reação e ambientalmente favorável, superando assim as deficiências da técnica anterior. Sumário da invenção
[0010] A presente invenção provê um processo para preparar um composto de fórmula (I) R1 S R2
N H2N
N (R3)n (I), o processo compreendendo reagir um composto de fórmula (II)
R2
N H2N
N (R3)n (II) com um bissulfeto tendo a estrutura R1-S-S-R1 e um agente de halogenação selecionado de cloreto de sulfurila, Cl2, Br2, I2, N-cloro-succinimida, N-bromo- succinimida e N-iodo- succinimida, na presença de um solvente de nitrila, sendo que: R1 é selecionado de alquila de C1-C6, haloalquila de C1- C6 , cicloalquila, heterociclila, arila e benzila; R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4 e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo-alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio- alquila de C1-C4, alquil-sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio; e n é um número inteiro de 1-5.
[0011] A presente invenção provê também um processo para preparar um composto de fórmula (I) R1 S R2
N H2N
N (R3)n
(I) compreendendo reagir um composto de fórmula (II) R2
N H2N
N (R3)n (II) com uma mistura de bissulfeto tendo a estrutura R1-S-S-R1 e um agente de halogenação selecionado de cloreto de sulfurila, Cl2, Br2, I2, N-cloro-succinimida, N-bromo- succinimida e N- iodo-succinimida, na presença de um solvente de nitrila, sendo que: R1 é selecionado de alquila de C1-C6, haloalquila de C1-C6, cicloalquila, heterociclila, arila e benzila; R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4 e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo-alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio- alquila de C1-C4, alquil-sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio; e n é um número inteiro de 1-5.
[0012] A presente invenção provê também um composto de fórmula (III)
NH R4 R2
N H2N
N (R3)n (III) na qual R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4 e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo-alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio-alquila de C1-C4, alquil-sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, R4 é alquila de C1-C4 opcionalmente substituído ou fenila opcionalmente substituído, e n é um número inteiro de 1-5.
[0013] A presente invenção provê ainda um processo para preparar etiprole tendo a estrutura
N H2N
N Cl Cl CF3 que compreende converter o composto de fórmula (II) num composto de fórmula (I), sendo que o composto de fórmula (I)
é preparado de acordo com qualquer incorporação da presente invenção.
[0014] A presente invenção provê ainda um processo para preparar fipronila tendo a estrutura
O F3C S CN
N H2N
N Cl Cl CF3 que compreende converter o composto de fórmula (II) num composto de fórmula (I), sendo que o composto de fórmula (I) é preparado de acordo com qualquer incorporação da presente invenção.
[0015] A presente invenção provê ainda um processo para preparar um composto tendo a fórmula (IV)
O R1 S R2
N H2N
N (R3)n (IV) compreendendo a oxidação do composto tendo a fórmula (I) com um agente oxidante, sendo que a oxidação é executada sem isolar o composto de fórmula (I) antes da etapa de oxidação e sendo que: R1 é selecionado de alquila de C1-C6, haloalquila de C1-C6, cicloalquila, heterociclila, arila e benzila; R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4 e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo-alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio- alquila de C1-C4, alquil-sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio; e n é um número inteiro de 1-5. Descrição detalhada da invenção Definições
[0016] Antes de definir em detalhes a presente invenção, pode ser útil fornecer definições de determinados termos a serem usados aqui. Salvo se definidos de outra forma, todos os termos técnicos e científicos aqui utilizados têm o mesmo significado que é comumente entendido por um especialista na técnica a que o assunto pertence. As definições seguintes são providas para maior clareza.
[0017] O termo “um” ou “uma” quando aqui usado inclui o singular e o plural, salvo de especificamente declarado de outra forma. Portanto, os termos “um”, “uma”, “pelo menos um” ou “pelo menos uma” podem ser usados de forma intercambiável neste pedido de patente.
[0018] Quando aqui usado, o termo “cerda de” usando juntamente com um valor numérico inclui ± 10% dos valores indicados. Além disso, os pontos extremos de todas as faixas direcionadas para o mesmo componente ou propriedade aqui incluídos incluem os pontos extremos, são independentemente combináveis e incluem todos os pontos e faixas intermediárias. Entenda-se que onde se provê uma faixa de parâmetro, todos os números inteiros dentro da faixa e décimos dos mesmos, também são providos pela invenção.
[0019] Do começo ao fim deste pedido de patente, as descrições de várias incorporações usam o termo “compreendendo”; entretanto, uma pessoa habilitada na técnica entenderá que em alguns casos específicos, uma incorporação pode ser descrita alternativamente usando a linguagem “consistindo essencialmente de” ou “consistindo de”. Em cada caso, os termos “compreendendo”, “consistindo essencialmente de” e “consistindo de” pretendem ter o mesmo significado que cada termo teria quando usado como a frase de transição de uma reivindicação de patente.
[0020] No contexto da presente invenção, os termos usados genericamente são definidos da seguinte maneira:
[0021] O termo “halogênio” denota em cada caso flúor, bromo, cloro ou iodo.
[0022] O termo “alquila de C1-C4” indica um radical alquila linear ou ramificado opcionalmente substituído compreendendo de 1 a 4 átomos de carbono, tal como metila, etila, propila, isopropila, butila, secbutila, isobutila ou terciobutila.
[0023] O termo “alquila de C1-C6” indica um radical alquila linear ou ramificado opcionalmente substituído compreendendo de 1 a 6 átomos de carbono. São exemplos os radicais especificados para alquila de C1-C4, fenila e hexila.
[0024] O termo “haloalquila de C1-C4” indica grupos alquila de cadeia normal ou ramificada opcionalmente substituídos tendo de 1 a 4 átomos de carbono, onde alguns ou todos os átomos de hidrogênio destes grupos foram substituídos por átomos de halogênios. Exemplos dos mesmos são clorometila,
bromometila, diclorometila, triclorometila, flúor-metila, diflúor-metila, triflúor-metila, cloro-flúor-metila, dicloro- flúor-metila, cloro-diflúor-metila, 1-cloroetila, 1- bromoetila, 1-flúor-etila, 2-flúor-etila, 2,2-diflúor-etila, 2,2,2-triflúor-etila, 2-cloro-2-flúor-etila, 2-cloro-2,2- diflúor-etila, 2,2-dicloro-2-flúor-ethyl, 2,2,2- tricloroetila, pentaflúor-etila, 3,3,3-triflúor-prop-1-ila, 1,1,1-triflúor-prop-2-ila, 3,3,3-tricloro-prop-1-ila, heptaflúor-isopropila, 1-clorobutila, 2-clorobutila, 3- clorobutila, 4-clorobutila, 1-flúor-butila, 2-flúor-butila, 3-flúor-butila, 4-flúor-butila e similares.
[0025] O termo “haloalquila de C1-C6” indica grupos alquila de cadeia normal ou ramificada opcionalmente substituídos tendo de 1 a 6 átomos de carbono, onde alguns ou todos os átomos de hidrogênio destes grupos foram substituídos por átomos de halogênios.
[0026] O termo “alcoxi de C1-C4” indica grupos alquila de cadeia normal ou ramificada opcionalmente substituídos compreendendo de 1 a 4 átomos de carbono, que estão ligados via um átomo de oxigênio ao restante da molécula. Exemplos de alcoxi de C1-C4 são metoxi, etoxi, n-propoxi, isopropoxi, n- butoxi, secbutoxi, isobutoxi e terciobutoxi.
[0027] O termo “haloalcoxi de C1-C4” indica grupos haloalquila de cadeia normal ou ramificada opcionalmente substituídos compreendendo de 1 a 4 átomos de carbono, que estão ligados via um átomo de oxigênio ao restante da molécula. Exemplos dos mesmos incluem cloro-metoxi, bromo- metoxi, dicloro-metoxi, tricloro-metoxi, flúor-metoxi, diflúor-metoxi, triflúor-metoxi, cloro-flúor-metoxi, dicloro- flúor-metoxi, cloro-diflúor-metoxi, 1-cloro-etoxi,1-bromo-
etoxi, 1-flúor-etoxi, 2-flúor-etoxi, 2,2-diflúor-etoxi, 2,2,2-triflúor-etoxi, 2-cloro-2-flúor-etoxi, 2-cloro-2,2- diflúor-etoxi, 2,2-dicloro-2-flúor-etoxi, 2,2,2-tricloro- etoxi, 1,1,2,2-tetraflúor-etoxi, 1-cloro-1,2,2-triflúor- etoxi, pentaflúor-etoxi, 3,3,3-triflúor-prop-1-oxi, 1,1,1- triflúor-prop-2-oxi, 3,3,3-tricloro-prop-1-oxi, 1- clorobutoxi, 2-clorobutoxi, 3-clorobutoxi, 4-clorobutoxi, 1- flúor-butoxi, 2-flúor-butoxi, 3-flúor-butoxi, 4-flúor-butoxi e similares.
[0028] O termo “cicloalquila” indica radicais de hidrocarbonetos não aromáticos saturados ou insaturados mono ou bicíclicos opcionalmente substituídos tendo de 3 a 14 átomos de carbono.
[0029] O termo “heterociclila” indica um radical cíclico completamente insaturado ou parcialmente saturado, saturado opcionalmente substituído, que contém 3 a 6 átomos no anel, dos quais 1 a 4 são do grupo consistindo de oxigênio, nitrogênio e enxofre. Exemplos dos mesmos compreendem piperidinila, pirrolidinila, tetraidrofuranila, diidrofuranila e oxetanila.
[0030] O termo “arila” indica radicais aromáticos carbocíclicos opcionalmente substituídos tendo de 6 a 14 átomos de carbono. Exemplos dos mesmos compreendem fenila, naftila, fluorenila, azulenila, antracenila e fenantrenila.
[0031] O termo “tio-alquila de C1-C6” indica radicais alquila saturados de cadeia normal ou ramificada opcionalmente substituídos tendo de 1 a 6 átomos de carbono que estão ligados via um átomo de enxofre ao restante da molécula. Exemplos de tio-alquila de C1-C6 incluem tio- metila, tio-etila, tio-propila, 1-metil-tietila, tio-butila,
1-metil-tio-propila, 2-metil-tio-propila e 1,1-dimetil-tio- etila.
[0032] O termo “ariloxi” refere-se a um grupo –O-arila.
[0033] O termo “aciloxi” refere-se a um grupo –O-acila.
[0034] O termo “alquilamino” refere-se a um grupo –NH- alquila.
[0035] O termo “alquilamido” refere-se a um grupo –NHC(O)- alquila ou –C(O)NH-alquila.
[0036] O termo “arilamino” refere-se a um grupo –NH-arila.
[0037] O termo “tio-arila” refere-se a um grupo –S-arila.
[0038] O termo “alquil-sulfonila” refere-se a um grupo –SO2-alquila.
[0039] O termo “alquil-sulfinila” refere-se a um grupo –SO-alquila.
[0040] O termo “aril-sulfonila” refere-se a um grupo –SO2-arila.
[0041] O termo “aril-sulfinila” refere-se a um grupo –SO-arila.
[0042] O termo “opcionalmente substituído” significa que um grupo pode ou não ser substituído ainda por um ou mais grupos tais como alquila de C1-C6, alquenila de C1-C6, alquinila de C1-C6, arila, halogênio, hidroxila, tio, amino, ciano, oxo, nitro, acila, amido, alcoxi de C1-6, alqueniloxi de C1-6, ariloxi, aciloxi, alquilamino de C1-6, arilamino, tio- alquila de C1-6, tio-arila, alquil-sulfonila, aril-sulfonila, alquil-sulfinila, aril-sulfinila, alquilamido de C1-8, e carboxila.
[0043] A presente invenção provê um processo para preparar um composto de fórmula (I)
R1 S R2
N H2N
N (R3)n (I) o processo compreendendo reagir um composto de fórmula (II) R2
N H2N
N (R3)n (II) com um bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 e um agente de halogenação selecionado de um grupo consistindo de cloreto de sulfurila, Cl2, Br2, I2 , N-cloro-succinimida, N-bromo- succinimida e N-iodo-succinimida, na presença de um solvente de nitrila, sendo que: R1 é selecionado de alquila de C1-C6, haloalquila de C1-C6, cicloalquila, heterociclila, arila e benzila; R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4 e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo-alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio-alquila de C1-C4, alquil-sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio; e n é um número inteiro de 1-5.
[0044] Em algumas incorporações, Br2 ou Cl2 ou I2 é opcionalmente gerado no local durante ou antes da reação do composto (II) para produzir o composto (I).
[0045] Em algumas incorporações, o bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 é opcionalmente gerado da oxidação dos grupos tiol correspondentes. Descrevem-se processos para preparar bissulfetos, por exemplo, em SYNTHESIS 2008, nº16, pp 2491-2509, cujo conteúdo aqui se incorpora por referência.
[0046] Em algumas incorporações, o bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 é opcionalmente gerado no local durante ou antes da reação do composto (II) para produzir o composto (I).
[0047] A presença do solvente de nitrila provê a formação de um intermediário altamente reativo que permite uma reação extremamente rápida.
[0048] A presença do solvente de nitrila agiliza o processo de formação do composto (I) a partir do composto (II).
[0049] A conversão do composto (II) no composto (I) na presença do solvente de nitrila é de pelo menos 95%.
[0050] O rendimento da reação do composto (II) para obter o composto (I) na presença do solvente de nitrila é de pelo menos 70%, 80% ou 90%. Em algumas incorporações, o rendimento da reação do composto (II) para obter o composto (I) na presença do solvente de nitrila é de pelo menos 90%.
[0051] O solvente de nitrila pode incluir, mas não se limita a acetonitrila, butironitrila, isobutironitrila, benzonitrila, propionitrila, isovaleronitrila, valeronitrila, 2-metil-butironitrila, hexanonitrila, iso-hexanonitrila ou qualquer combinação dos mesmos. Em algumas incorporações, o solvente de nitrila é acetonitrila.
[0052] Em algumas incorporações o processo compreende ainda solventes diferentes de nitrila. Os solventes diferentes de nitrilas podem incluir, mas não se limitam a monocloro- benzeno, tolueno, xilenos, metil-ciclo-hexano, diclorometano, clorofórmio, cloreto de etileno e triflúor-tolueno.
[0053] Em algumas incorporações, a reação do composto (II) para obter o composto (I) é executada na presença de pelo menos um solvente.
[0054] Em algumas incorporações, a reação é executada num solvente de nitrila.
[0055] Em algumas incorporações, a reação é executada em pelo menos dois solventes de nitrila.
[0056] Em algumas incorporações, a reação é executada numa mistura de um solvente de nitrila e pelo menos um solvente diferente de nitrila.
[0057] Em algumas incorporações, a reação do composto (II) para obter o composto (I) é executada na presença de pelo menos 10 %, 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90% ou 100% de um solvente de nitrila da quantidade total de solvente.
[0058] A reação do composto (II) para obter o composto (I) é executada na presença do solvente de nitrila ocorre muito rapidamente. Quando a quantidade de solvente de nitrila aumenta, a reação para obter o composto (I) é mais rápida.
[0059] A reação do composto (II) para obter o composto (I) na presença do solvente de nitrila ocorre em menos que 60, 50, 40, 30, 20, 10, 5 ou 1 minuto. Em algumas incorporações, a reação ocorre em menos que cerca de 5 minutos. Em algumas incorporações, a reação ocorre em menos que cerca de 1 minuto. Em algumas incorporações, a reação ocorre em menos que cerca de 0,5 minuto.
[0060] Em algumas incorporações, o agente de halogenação é cloreto de sulfurila.
[0061] Em algumas incorporações, a reação é executada numa atmosfera inerte.
[0062] Em algumas incorporações, a reação é executada numa atmosfera de N2.
[0063] Em algumas incorporações, a reação é executada sem adição externa de O2.
[0064] Em algumas incorporações, o bissulfeto é bissulfeto de dietila.
[0065] Em algumas incorporações, o bissulfeto é bissulfeto de bis(triflúor-metila).
[0066] Em algumas incorporações, o composto de fórmula (I) é
N H2N
N Cl Cl CF3
[0067] Em algumas incorporações, o composto de fórmula (I) é
F3C S CN
N H2N
N Cl Cl CF3
[0068] O processo para obter o composto de fórmula (I) pode ser executado ou no local, sendo que o composto (II) é misturado com bissulfeto, e se adiciona o agente de halogenação; ou continuamente, sendo que o bissulfeto reage com o agente de halogenação e a mistura resultante reage com o composto (II).
[0069] Em algumas incorporações, o bissulfeto R1-S-S-R1 reage com o agente de halogenação e com o composto de fórmula (II).
[0070] Em algumas incorporações, o bissulfeto R1-S-S-R1 reage com o agente de halogenação antes da reação com o composto de fórmula (II).
[0071] Em algumas incorporações, mistura-se o composto de fórmula (II) com o bissulfeto, e a mistura obtida reage com o agente de halogenação.
[0072] Em algumas incorporações, mistura-se o composto de fórmula (II) com o bissulfeto, antes da reação com o agente de halogenação.
[0073] Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o composto (II) é de cerca de 1:3 a cerca de 3:1. Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o composto (II) é de cerca de 1:2.
[0074] Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação é de cerca de 1:10 a cerca de 10:1. Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação é de cerca de 1:1. Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação é de cerca de 1:2.
[0075] Em algumas incorporações, a temperatura de reação é de cerca de -50°C a cerca de 50°C. Em algumas incorporações, a temperatura de reação é de cerca de -30°C a cerca de 10°C. Em algumas incorporações, a temperatura de reação é 0°C.
[0076] A presente invenção provê um processo para preparar um composto de fórmula (I) R1 S R2
N H2N
N (R3)n (I) o processo compreendendo reagir um composto de fórmula (II) R2
N H2N
N (R3)n (II) com uma mistura de bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 e um agente de halogenação selecionado de um grupo consistindo de cloreto de sulfurila, Cl2, Br2, I2, N-cloro-succinimida, N- bromo- succinimida e N-iodo-succinimida, na presença de um solvente de nitrila, sendo que: R1 é selecionado de alquila de C1-C6, haloalquila de C1-C6, cicloalquila, heterociclila, arila e benzila; R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4 e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo-alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio-alquila de C1-C4, alquil-sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio; e n é um número inteiro de 1-5.
[0077] Em algumas incorporações, Br2 ou Cl2 ou I2 é opcionalmente gerado no local durante ou antes da reação do composto (II) para produzir o composto (I).
[0078] Em algumas incorporações, o bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 é opcionalmente gerado da oxidação dos grupos tiol correspondentes. Descrevem-se processos para preparar bissulfetos, por exemplo, em SYNTHESIS 2008, nº16, pp 2491-2509, cujo conteúdo aqui se incorpora por referência.
[0079] Em algumas incorporações, o bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 é opcionalmente gerado no local durante ou antes da reação do composto (II) para produzir o composto (I).
[0080] A presença do solvente de nitrila provê a formação de um intermediário altamente reativo que permite uma reação extremamente rápida.
[0081] A presença do solvente de nitrila agiliza o processo de formação do composto (I) a partir do composto (II).
[0082] A conversão do composto (II) no composto (I) na presença do solvente de nitrila é de pelo menos 95%.
[0083] O rendimento da reação do composto (II) para obter o composto (I) na presença do solvente de nitrila é de pelo menos 90%.
[0084] O solvente de nitrila pode incluir, mas não se limita a acetonitrila, butironitrila, isobutironitrila, benzonitrila, propionitrila, isovaleronitrila, valeronitrila, 2-metil-butironitrila, hexanonitrila, iso-hexanonitrila ou qualquer combinação dos mesmos. Em algumas incorporações, o solvente de nitrila é acetonitrila.
[0085] Em algumas incorporações o processo compreende ainda solventes diferentes de nitrila. Os solventes diferentes de nitrilas podem incluir, mas não se limitam a monocloro- benzeno, tolueno, xilenos, metil-ciclo-hexano, diclorometano, clorofórmio, cloreto de etileno e triflúor-tolueno.
[0086] Em algumas incorporações, a reação do composto (II) para obter o composto (I) é executada na presença de pelo menos um solvente.
[0087] Em algumas incorporações, a reação é executada num solvente de nitrila.
[0088] Em algumas incorporações, a reação é executada em pelo menos dois solventes de nitrila.
[0089] Em algumas incorporações, a reação é executada numa mistura de um solvente de nitrila e pelo menos um solvente diferente de nitrila.
[0090] Em algumas incorporações, a reação do composto (II) para obter o composto (I) é executada na presença de pelo menos 10 %, 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90% ou 100% de um solvente de nitrila da quantidade total de solvente.
[0091] A reação do composto (II) para obter o composto (I) é executada na presença do solvente de nitrila ocorre muito rapidamente. Quando a quantidade de solvente de nitrila aumenta, a reação para obter o composto (I) é mais rápida.
[0092] A reação do composto (II) para obter o composto (I) na presença do solvente de nitrila ocorre em menos que 60, 50, 40, 30, 20, 10, 5 ou 1 minuto. Em algumas incorporações, a reação ocorre em menos que cerca de 5 minutos. Em algumas incorporações, a reação ocorre em menos que cerca de 1 minuto. Em algumas incorporações, a reação ocorre em menos que cerca de 0,5 minuto.
[0093] Em algumas incorporações, o agente de halogenação é cloreto de sulfurila.
[0094] Em algumas incorporações, a reação é executada numa atmosfera inerte.
[0095] Em algumas incorporações, a reação é executada numa atmosfera de N2.
[0096] Em algumas incorporações, a reação é executada sem adição externa de O2.
[0097] Em algumas incorporações, o bissulfeto é bissulfeto de dietila.
[0098] Em algumas incorporações, o bissulfeto é bissulfeto de bis(triflúor-metila).
[0099] Em algumas incorporações, o composto de fórmula (I) é
N H2 N
N Cl Cl CF3
[0100] Em algumas incorporações, o composto de fórmula (I) é F3C S CN
N H2N
N Cl Cl CF3
[0101] O processo para obter o composto de fórmula (I) pode ser executado ou no local, sendo que se mistura o composto (II) com bissulfeto, e se adiciona o agente de halogenação; ou continuamente, sendo que o bissulfeto reage com o agente de halogenação e a mistura resultante reage com o composto (II).
[0102] Em algumas incorporações, o bissulfeto R1-S-S-R1 reage com o agente de halogenação e com o composto de fórmula (II).
[0103] Em algumas incorporações, o bissulfeto R1-S-S-R1 reage com o agente de halogenação antes da reação com o composto de fórmula (II).
[0104] Em algumas incorporações, mistura-se o composto de fórmula (II) com o bissulfeto, e a mistura obtida reage com o agente de halogenação.
[0105] Em algumas incorporações, mistura-se o composto de fórmula (II) com o bissulfeto, antes da reação com o agente de halogenação.
[0106] Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o composto (II) é de cerca de 1:3 a cerca de 3:1. Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o composto (II) é de cerca de 1:2.
[0107] Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação é de cerca de 1:10 a cerca de 10:1. Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação é de cerca de 1:1. Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação é de cerca de 1:2.
[0108] Em algumas incorporações, a temperatura de reação é de cerca de -50°C a cerca de 50°C. Em algumas incorporações, a temperatura de reação é de cerca de -30°C a cerca de 10°C. Em algumas incorporações, a temperatura de reação é 0°C.
[0109] A presente invenção provê um processo para preparar um composto de fórmula (I) R1 S R2
N H2N
N (R3)n (I) o processo compreende reagir um composto de fórmula (II)
R2
N H2N
N (R3)n (II) com um bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 e um agente de halogenação selecionado de um grupo consistindo de cloreto de sulfurila, Cl2, Br2, I2 , N-cloro-succinimida, N-bromo- succinimida e N-iodo-succinimida, na presença de um solvente de nitrila, sendo que: R1 é selecionado de alquila de C1-C6, haloalquila de C1-C6, cicloalquila, heterociclila, arila e benzila; R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4 e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo-alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio-alquila de C1-C4, alquil-sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio; e n é um número inteiro de 1-5.
[0110] Em algumas incorporações, Br2 ou Cl2 ou I2 é opcionalmente gerado no local durante ou antes da reação do composto (II) para produzir o composto (I).
[0111] Em algumas incorporações, o bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 é opcionalmente gerado da oxidação dos grupos tiol correspondentes. Descrevem-se processos para preparar bissulfetos, por exemplo, em SYNTHESIS 2008, nº16, pp 2491-2509, cujo conteúdo aqui se incorpora por referência.
[0112] Em algumas incorporações, o bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 é opcionalmente gerado no local durante ou antes da reação do composto (II) para produzir o composto (I).
[0113] A presença do solvente de nitrila provê a formação de um intermediário altamente reativo que permite uma reação extremamente rápida.
[0114] A presença do solvente de nitrila agiliza o processo de formação do composto (I) a partir do composto (II).
[0115] A conversão do composto (II) no composto (I) na presença do solvente de nitrila é de pelo menos 95%.
[0116] O rendimento da reação do composto (II) para obter o composto (I) na presença do solvente de nitrila é de pelo menos 90%.
[0117] O solvente de nitrila pode incluir, mas não se limita a acetonitrila, butironitrila, isobutironitrila, benzonitrila, propionitrila, isovaleronitrila, valeronitrila, 2-metil-butironitrila, hexanonitrila, iso-hexanonitrila ou qualquer combinação dos mesmos. Em algumas incorporações, o solvente de nitrila é acetonitrila.
[0118] Em algumas incorporações o processo compreende ainda solventes diferentes de nitrila. Os solventes diferentes de nitrilas podem incluir, mas não se limitam a monocloro- benzeno, tolueno, xilenos, metil-ciclo-hexano, diclorometano, clorofórmio, cloreto de etileno e triflúor-tolueno.
[0119] Em algumas incorporações, a reação do composto (II) para obter o composto (I) é executada na presença de pelo menos um solvente.
[0120] Em algumas incorporações, a reação é executada num solvente de nitrila.
[0121] Em algumas incorporações, a reação é executada em pelo menos dois solventes de nitrila.
[0122] Em algumas incorporações, a reação é executada numa mistura de um solvente de nitrila e pelo menos um solvente diferente de nitrila.
[0123] Em algumas incorporações, a reação do composto (II) para obter o composto (I) é executada na presença de pelo menos 10 %, 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90% ou 100% de um solvente de nitrila da quantidade total de solvente.
[0124] A reação do composto (II) para obter o composto (I) é executada na presença do solvente de nitrila ocorre muito rapidamente. Quando a quantidade de solvente de nitrila aumenta, a reação para obter o composto (I) é mais rápida.
[0125] A reação do composto (II) para obter o composto (I) na presença do solvente de nitrila ocorre em menos que 60, 50, 40, 30, 20, 10, 5 ou 1 minuto. Em algumas incorporações, a reação ocorre em menos que cerca de 5 minutos. Em algumas incorporações, a reação ocorre em menos que cerca de 1 minuto. Em algumas incorporações, a reação ocorre em menos que cerca de 0,5 minuto.
[0126] Em algumas incorporações, o agente de halogenação é cloreto de sulfurila.
[0127] Em algumas incorporações, a reação é executada numa atmosfera inerte.
[0128] Em algumas incorporações, a reação é executada numa atmosfera de N2.
[0129] Em algumas incorporações, a reação é executada sem adição externa de O2.
[0130] Em algumas incorporações, o bissulfeto é bissulfeto de dietila.
[0131] Em algumas incorporações, o bissulfeto é bissulfeto de bis(triflúor-metila).
[0132] Em algumas incorporações, o composto de fórmula (I) é
N H2 N
N Cl Cl CF3
[0133] Em algumas incorporações, o composto de fórmula (I) é F3C S CN
N H2N
N Cl Cl CF3
[0134] O processo para obter o composto de fórmula (I) pode ser executado ou no local, sendo que o composto (II) é misturado com bissulfeto, e se adiciona o agente de halogenação; ou continuamente, sendo que o bissulfeto reage com o agente de halogenação e a mistura resultante reage com o composto (II).
[0135] Em algumas incorporações, o bissulfeto R1-S-S-R1 reage com o agente de halogenação e com o composto de fórmula (II).
[0136] Em algumas incorporações, o bissulfeto R1-S-S-R1 reage com o agente de halogenação antes da reação com o composto de fórmula (II).
[0137] Em algumas incorporações, mistura-se o composto de fórmula (II) com o bissulfeto, e a mistura obtida reage com o agente de halogenação.
[0138] Em algumas incorporações, mistura-se o composto de fórmula (II) com o bissulfeto, antes da reação com o agente de halogenação.
[0139] Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o composto (II) é de cerca de 1:3 a cerca de 3:1. Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o composto (II) é de cerca de 1:2.
[0140] Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação é de cerca de 1:10 a cerca de 10:1. Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação é de cerca de 1:1. Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação é de cerca de 1:2.
[0141] Em algumas incorporações, a temperatura de reação é de cerca de -50°C a cerca de 50°C. Em algumas incorporações, a temperatura de reação é de cerca de -30°C a cerca de 10°C. Em algumas incorporações, a temperatura de reação é 0°C.
[0142] A presente invenção provê também um processo para preparar um composto de fórmula (I)
R1 S R2
N H2N
N (R3)n (I) compreendendo reagir um composto de fórmula (II) R2
N H2N
N (R3)n (II) com uma mistura de bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 e um agente de halogenação selecionado de um grupo consistindo de cloreto de sulfurila, Cl2, Br2, I2, N-cloro-succinimida, N- bromo- succinimida e N-iodo-succinimida, na presença de um solvente de nitrila, sendo que: R1 é selecionado de alquila de C1-C6, haloalquila de C1-C6, cicloalquila, heterociclila, arila e benzila; R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4 e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo-alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio-alquila de C1-C4, alquil-sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio; e n é um número inteiro de 1-5.
[0143] Em algumas incorporações, Br2 ou Cl2 ou I2 é opcionalmente gerado no local durante ou antes da reação do composto (II) para produzir o composto (I).
[0144] Em algumas incorporações, o bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 é opcionalmente gerado da oxidação dos grupos tiol correspondentes. Descrevem-se processos para preparar bissulfetos, por exemplo, em SYNTHESIS 2008, nº16, pp 2491-2509, cujo conteúdo aqui se incorpora por referência.
[0145] Em algumas incorporações, o bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 é opcionalmente gerado no local durante ou antes da reação do composto (II) para produzir o composto (I).
[0146] A presença do solvente de nitrila provê a formação de um intermediário altamente reativo que permite uma reação extremamente rápida.
[0147] A presença do solvente de nitrila agiliza o processo de formação do composto (I) a partir do composto (II).
[0148] A conversão do composto (II) no composto (I) na presença do solvente de nitrila é de pelo menos 95%.
[0149] O rendimento da reação do composto (II) para obter o composto (I) na presença do solvente de nitrila é de pelo menos 90%.
[0150] O solvente de nitrila pode incluir, mas não se limita a acetonitrila, butironitrila, isobutironitrila, benzonitrila, propionitrila, isovaleronitrila, valeronitrila, 2-metil-butironitrila, hexanonitrila, iso-hexanonitrila ou qualquer combinação dos mesmos. Em algumas incorporações, o solvente de nitrila é acetonitrila.
[0151] Em algumas incorporações o processo compreende ainda solventes diferentes de nitrila. Os solventes diferentes de nitrilas podem incluir, mas não se limitam a monocloro- benzeno, tolueno, xilenos, metil-ciclo-hexano, diclorometano, clorofórmio, cloreto de etileno e triflúor-tolueno.
[0152] Em algumas incorporações, a reação do composto (II) para obter o composto (I) é executada na presença de pelo menos um solvente.
[0153] Em algumas incorporações, a reação é executada num solvente de nitrila.
[0154] Em algumas incorporações, a reação é executada em pelo menos dois solventes de nitrila.
[0155] Em algumas incorporações, a reação é executada numa mistura de um solvente de nitrila e pelo menos um solvente diferente de nitrila.
[0156] Em algumas incorporações, a reação do composto (II) para obter o composto (I) é executada na presença de pelo menos 10 %, 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90% ou 100% de um solvente de nitrila da quantidade total de solvente.
[0157] A reação do composto (II) para obter o composto (I) é executada na presença do solvente de nitrila ocorre muito rapidamente. Quando a quantidade de solvente de nitrila aumenta, a reação para obter o composto (I) é mais rápida.
[0158] A reação do composto (II) para obter o composto (I) na presença do solvente de nitrila ocorre em menos que 60, 50, 40, 30, 20, 10, 5 ou 1 minuto. Em algumas incorporações, a reação ocorre em menos que cerca de 5 minutos. Em algumas incorporações, a reação ocorre em menos que cerca de 1 minuto. Em algumas incorporações, a reação ocorre em menos que cerca de 0,5 minuto.
[0159] Em algumas incorporações, o agente de halogenação é cloreto de sulfurila.
[0160] Em algumas incorporações, a reação é executada numa atmosfera inerte.
[0161] Em algumas incorporações, a reação é executada numa atmosfera de N2.
[0162] Em algumas incorporações, a reação é executada sem adição externa de O2.
[0163] Em algumas incorporações, o bissulfeto é bissulfeto de dietila.
[0164] Em algumas incorporações, o bissulfeto é bissulfeto de bis(triflúor-metila).
[0165] Em algumas incorporações, o composto de fórmula (I) é
N H2 N
N Cl Cl CF3
[0166] Em algumas incorporações, o composto de fórmula (I) é F3C S CN
N H2N
N Cl Cl CF3
[0167] O processo para obter o composto de fórmula (I) pode ser executado ou no local, sendo que o composto (II) é misturado com bissulfeto, e se adiciona o agente de halogenação; ou continuamente, sendo que o bissulfeto reage com o agente de halogenação e a mistura resultante reage com o composto (II).
[0168] Em algumas incorporações, o bissulfeto R1-S-S-R1 reage com o agente de halogenação e com o composto de fórmula (II).
[0169] Em algumas incorporações, o bissulfeto R1-S-S-R1 reage com o agente de halogenação antes da reação com o composto de fórmula (II).
[0170] Em algumas incorporações, mistura-se o composto de fórmula (II) com o bissulfeto, e a mistura obtida reage com o agente de halogenação.
[0171] Em algumas incorporações, mistura-se o composto de fórmula (II) com o bissulfeto, antes da reação com o agente de halogenação.
[0172] Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o composto (II) é de cerca de 1:3 a cerca de 3:1. Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o composto (II) é de cerca de 1:2.
[0173] Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação é de cerca de 1:10 a cerca de 10:1. Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação é de cerca de 1:1. Em algumas incorporações, a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação é de cerca de 1:2.
[0174] Em algumas incorporações, a temperatura de reação é de cerca de -50°C a cerca de 50°C. Em algumas incorporações,
a temperatura de reação é de cerca de -30°C a cerca de 10°C. Em algumas incorporações, a temperatura de reação é 0°C.
[0175] A presente invenção provê também um composto de fórmula (III)
NH R4 R2
N H2N
N (R3)n (III) na qual, R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4 e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo-alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio-alquila de C1-C4, alquil-sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, n é um número inteiro de 1-5, e R4 é alquila de C1-C4 opcionalmente substituído ou fenila opcionalmente substituído.
[0176] Em algumas incorporações, o composto de fórmula (III) é
N H2N
N Cl Cl CF3
[0177] A presente invenção provê também um processo para preparar etiprole tendo a estrutura
N H2N
N Cl Cl CF3 que compreende converter o composto de fórmula (II) no composto de fórmula (I) preparado de acordo com qualquer incorporação da presente invenção.
[0178] A presente invenção provê também um processo para preparar fipronila, tendo a estrutura
O F3C S CN
N H2N
N Cl Cl CF3 que compreende converter o composto de fórmula (II) no composto de fórmula (I) preparado de acordo com qualquer incorporação da presente invenção.
[0179] Um processo para preparar fipronila ou etiprole convertendo o composto de fórmula (I) usando agente oxidante tal como peróxido de hidrogênio está descrito em US 20140155620 A1 e US 5,814,652, o conteúdo dos quais aqui se incorpora por referência.
[0180] A presente invenção provê também um processo para preparar um composto da fórmula (IV)
O R1 S R2
N H2N
N (R3)n (IV) compreendendo a oxidação do composto tendo a fórmula (I)
R1 S R2
N H2N
N (R3)n (I) com um agente oxidante, sendo que a oxidação é executada numa síntese telescópica sem isolar o composto de fórmula (I) antes da etapa de oxidação, e sendo que R1 é selecionado de alquila de C1-C6, haloalquila de C1-C6, cicloalquila, heterociclila, arila e benzila; R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4 e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo- alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio-alquila de C1-C4, alquil- sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio; e n é um número inteiro de 1-5.
[0181] A presente invenção provê também um processo para preparar um composto da fórmula (IV)
O R1 S R2
N H2N
N (R3)n
(IV) compreendendo a oxidação do composto tendo a fórmula (I) R1 S R2
N H2N
N (R3)n (I), com um agente oxidante, sendo que a oxidação é executada sem isolar o composto de fórmula (I) antes da etapa de oxidação, e sendo que R1 é selecionado de alquila de C1-C6, haloalquila de C1-C6, cicloalquila, heterociclila, arila e benzila; R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo-alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio- alquila de C1-C4, alquil-sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio; e n é um número inteiro de 1-5.
[0182] Em algumas incorporações, executa-se a oxidação sem precipitação do composto de fórmula (I) antes da etapa de oxidação.
[0183] Em algumas incorporações, executa-se a oxidação sem cristalização do composto de fórmula (I) antes da etapa de oxidação.
[0184] Em algumas incorporações, executa-se a oxidação diretamente no mesmo solvente no qual se dissolve o composto de fórmula (I).
[0185] Em algumas incorporações, executa-se a oxidação no mesmo solvente no qual se dissolve o composto de fórmula (I).
[0186] Em algumas incorporações, executa-se a oxidação numa mistura do mesmo solvente no qual se dissolve o composto de fórmula (I), e pelo menos um solvente adicional.
[0187] Em algumas incorporações, executa-se a oxidação num solvente diferente do solvente no qual se dissolve o composto de fórmula (I).
[0188] Em algumas incorporações, o processo para preparar o composto (I) e a etapa de oxidação para preparar o composto (IV) são executados numa síntese telescópica.
[0189] A presente invenção provê também um processo para preparar um composto da fórmula (IV)
O R1 S R2
N H2N
N (R3)n (IV) Compreendendo as etapas: (a) reagir o composto tendo a fórmula (II) com uma fonte de sulfeto para obter um composto tendo a fórmula (I)
R2
N H2N
N (R3)n (II) (b) oxidação do composto tendo a fórmula (I) R1 S R2
N H2N
N (R3)n (I) com um agente oxidante, sendo que a oxidação é executada sem isolar o composto de fórmula (I) antes da etapa de oxidação, e sendo que R1 é selecionado de alquila de C1-C6, haloalquila de C1-C6, cicloalquila, heterociclila, arila e benzila; R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo-alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio- alquila de C1-C4, alquil-sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio; e n é um número inteiro de 1-5.
[0190] Em algumas incorporações, executa-se a oxidação sem precipitação do composto de fórmula (I) antes da etapa de oxidação.
[0191] Em algumas incorporações, executa-se a oxidação sem cristalização do composto de fórmula (I) antes da etapa de oxidação.
[0192] Em algumas incorporações, executa-se a oxidação diretamente no mesmo solvente no qual se dissolve o composto de fórmula (I).
[0193] Em algumas incorporações, executa-se a oxidação no mesmo solvente no qual se dissolve o composto de fórmula (I).
[0194] Em algumas incorporações, executa-se a oxidação numa mistura do mesmo solvente no qual se dissolve o composto de fórmula (I), e pelo menos um solvente adicional.
[0195] Em algumas incorporações, executa-se a oxidação num solvente diferente do solvente no qual se dissolve o composto de fórmula (I).
[0196] Em algumas incorporações, o processo para preparar o composto (I) e a etapa de oxidação para preparar o composto (IV) são executados numa síntese telescópica.
[0197] Entenda-se que onde se prover uma faixa de parâmetro, todos os números inteiros dentro daquela faixa e décimos dos mesmos também serão providos pela invenção.
[0198] Cada incorporação aqui divulgada é considerada como sendo aplicável a cada uma das outras incorporações divulgadas. Assim, todas as combinações dos vários elementos aqui descritos estão dentro dos limites da abrangência da invenção.
[0199] Esta invenção será melhor entendida por referência aos detalhes experimentais a seguir, mas os especialistas na técnica compreenderão rapidamente que os experimentos específicos detalhados são apenas ilustrativos da invenção tal como descrita mais completamente nas reivindicações anexas.
[0200] A invenção é ilustrada pelos exemplos seguintes sem limita-la. Exemplos Exemplo 1
[0201] Carregou-se um reator agitado de 1 L com uma solução do composto (II) (35 g) em acetonitrila (220 mL) e a solução foi resfriada até -5°C. Soluções de cloreto de sulfurila (8 g) em acetonitrila (48 mL) e de bissulfeto de dietila (14,6 g) em acetonitrila (48 mL) foram adicionadas (em paralelo) usando bomba de seringa para um reator de fluxo a 0°C. A produção do reator de fluxo foi adicionada diretamente ao reator de 1 L. Após a adição da solução do reator de fluxo, a mistura reagente foi agitada na mesma temperatura por mais 10 minutos.
[0202] Aproveitamento: Na mistura reagente adicionou-se 140 mL de solução de bicarbonato de sódio a ~5%. Após completar a precipitação do sólido (se necessário, adiciona-se uma quantidade adicional de solução de bicarbonato de sódio ou água para completar a precipitação), a água foi filtrada e o sólido foi lavado com hexano e secado em forno para dar o produto puro (rendimento de 91%). Exemplo 2
[0203] Carregou-se um reator com uma solução do composto (II) (3,95 g) e bissulfeto de dietila (1,48 g) em acetonitrila e a solução foi resfriada até 0°C. Adicionou-se nesta solução, uma solução de cloreto de sulfurila (0,83 g) em acetonitrila (10 mL) usando bomba de seringa, e a mistura reagente foi agitada na mesma temperatura por mais 10 minutos.
[0204] Aproveitamento: Na mistura reagente adicionou-se 15 mL de solução de bicarbonato de sódio a ~5%. Após completar a precipitação do sólido (se necessário, adiciona-se uma quantidade adicional de solução de bicarbonato de sódio ou água para completar a precipitação), a água foi filtrada e o sólido foi lavado com hexano e secado em forno para dar o produto puro (rendimento de 90,5%).
Claims (30)
1. Processo para preparar um composto, de fórmula (I) R1 S R2
N H2N
N (R3)n (I) caracterizado pelo fato de compreender reagir um composto de fórmula (II) R2
N H2N
N (R3)n (II) com um bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 e um agente de halogenação selecionado de um grupo consistindo de cloreto de sulfurila, Cl2, Br2, I2 , N-cloro-succinimida, N-bromo- succinimida e N-iodo-succinimida, na presença de um solvente de nitrila, sendo que: R1 é selecionado de alquila de C1-C6, haloalquila de C1-C6, cicloalquila, heterociclila, arila e benzila; R2 é selecionado de ciano, nitro, halogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4 e cicloalquila, R3 é selecionado de halogênio, hidrogênio, alquila de C1-C4, haloalquila de C1-C4, alcoxi de C1-C4, halo-alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, tio-alquila de C1-C4, alquil-sulfinila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio, e alquil-sulfonila de C1-C4 que é não substituído ou substituído por um ou mais átomos de halogênio; e n é um número inteiro de 1-5.
2. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de o solvente de nitrila ser selecionado do grupo consistindo de acetonitrila, butironitrila, isobutironitrila, benzonitrila, propionitrila, isovaleronitrila, valeronitrila, 2-metil-butironitrila, hexanonitrila e iso-hexanonitrila e uma combinação dos mesmos.
3. Processo, de acordo com a reivindicação 2, caracterizado pelo fato de o solvente ser acetonitrila.
4. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 3, caracterizado pelo fato de compreender pelo menos um solvente diferente de nitrila.
5. Processo, de acordo com a reivindicação 4, caracterizado pelo fato de o solvente diferente de nitrila ser selecionado do grupo consistindo de monocloro-benzeno, tolueno, xilenos, metil-ciclo-hexano, diclorometano, clorofórmio, cloreto de etileno e triflúor-tolueno.
6. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de o agente de halogenação ser cloreto de sulfurila.
7. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de R1 ser grupo etila e R2 ser grupo ciano.
8. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de R1 ser triflúor-metila e R2 ser grupo ciano.
9. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de o bissulfeto tendo a fórmula R1-S-S-R1 ser gerado a partir da oxidação do tiol correspondente.
10. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de o composto de fórmula (I) ser
S CN
N H2N
N Cl Cl CF3
11. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de o composto de fórmula (I) ser F3C S CN
N H2N
N Cl Cl CF3
12. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1-11, caracterizado pelo fato de a razão molar entre o bissulfeto e o composto de fórmula (II) ser de cerca de 1:3 a cerca de 3:1.
13. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1-11, caracterizado pelo fato de a razão molar entre o bissulfeto e o agente de halogenação ser de cerca de 1:10 a cerca de 10:1.
14. Processo, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de: (I) o bissulfeto reagir com o agente de halogenação e a mistura resultante reagir com o composto de fórmula (II); ou (II) o composto de fórmula (II) ser misturado com o bissulfeto e a mistura resultante reagir com o agente de halogenação.
15. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1-11, caracterizado pelo fato de a temperatura de reação ser de cerca de -50°C a cerca de 50°C.
16. Processo, de acordo com a reivindicação 15, caracterizado pelo fato de a temperatura de reação ser de 0°C a 10°C.
17. Processo, de acordo com a reivindicação 16, caracterizado pelo fato de a temperatura de reação ser 0°C.
18. Método para obter um composto de fórmula (I), caracterizado pelo fato de compreender reagir um composto de fórmula (II) de acordo com o processo, conforme definido em qualquer uma das reivindicações de 1 a 7.
19. Processo para preparar um composto, tendo a fórmula:
O
S CN
N H2N
N Cl Cl CF3 caracterizado pelo fato de compreender reagir um composto de fórmula (I) preparado de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 18 com um agente oxidante.
20. Processo para preparar um composto, tendo a fórmula:
O F3C S CN
N H2N
N Cl Cl CF3 caracterizado pelo fato de compreender reagir um composto de fórmula (I) preparado de acordo com qualquer uma das reivindicações de 1 a 18 com um agente oxidante.
21. Processo para preparar um composto, tendo a fórmula (IV)
O R1 S R2
N H2N
N (R3)n (IV) caracterizado pelo fato de compreender a oxidação do composto tendo a fórmula (I) R1 S R2
N H2N
N (R3)n (I)
com um agente oxidante, sendo que a oxidação é realizada sem isolar o composto de fórmula (I) antes da etapa de oxidação e sendo que R1-R3 e n estão definidos em qualquer uma das reivindicações de 1 a 20.
22. Processo, de acordo com a reivindicação 21, caracterizado pelo fato de a oxidação ser realizada sem a precipitação do composto de fórmula (I) antes da etapa de oxidação.
23. Processo, de acordo com a reivindicação 21, caracterizado pelo fato de a oxidação ser realizada sem a cristalização do composto de fórmula (I) antes da etapa de oxidação.
24. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 21 a 23, caracterizado pelo fato de a oxidação ser realizada diretamente no mesmo solvente no qual o composto de fórmula (I) está dissolvido.
25. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 21 a 23, caracterizado pelo fato de se adicionar outro solvente ao solvente no qual o composto de fórmula (I) está dissolvido antes da etapa de oxidação.
26. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 21 a 23, caracterizado pelo fato de se adicionar outro solvente ao solvente no qual o composto de fórmula (I) está dissolvido, e o solvente original ser removido antes da etapa de oxidação.
27. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 21 26, caracterizado pelo fato de o composto de fórmula (IV) ser etiprole.
28. Processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações de 21 a 26, caracterizado pelo fato de o composto de fórmula (IV) ser fipronila.
29. Composto, de fórmula (III)
NH R4 R2
N H2N
N (R3)n (III) caracterizado pelo fato de R1-R3 e n estarem definidos em qualquer uma das reivindicações 1-28, e R4 ser opcionalmente substituído por alquila de C1-C6 ou opcionalmente substituído por fenila.
30. Composto, de acordo com a reivindicação 29, caracterizado pelo fato de ter a seguinte fórmula:
NH
CN
N H2N
N Cl Cl CF3 .
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