BR112019026591A2

BR112019026591A2 - dispositivo e método de pós-tratamento para pós-tratamento de pelo menos gases a jusante de um processo de gaseificação de leito fluidizado, e unidade lógica e uso

Info

Publication number: BR112019026591A2
Application number: BR112019026591-0A
Authority: BR
Inventors: Ralf Abraham; Domenico Pavone; Dobrin Toporov; Herbert Palmowski
Original assignee: Plurality Partners B.V.
Priority date: 2017-06-14
Filing date: 2018-06-08
Publication date: 2020-07-14
Also published as: US11401476B2; US20210147755A1; RU2019141475A; RU2019141475A3; CN111201307A; RU2769442C2; ZA201908363B; CA3069029A1; DE102017210044A1; EP3638753A1; KR20200028898A; WO2018228946A1

Abstract

A invenção refere-se a um dispositivo de pós-tratamento (10) para o pós-tratamento de pelo menos gases a jusante de uma gaseificação em leito fluidizado, em particular a jusante de um gaseificador HTW (1) de uma gaseificação em leito fluidizado pressurizado, com uma unidade de separação de partículas (2; 11) a jusante do processo de gaseificação em leito fluidizado e a montante de um resfriador de gás (3) utilizável, em que o dispositivo de pós-tratamento compreende uma unidade intermediária de resfriamento (12) a jusante da gaseificação em leito fluidizado e a montante da unidade de separação de partícula (11) com uma linha de retorno (B1) de vapor de gaseificação (B) acoplável à gaseificação de leito fluidizado. Além disso, a invenção refere-se a um método para pós-tratamento de pelo menos gases a jusante de uma gaseificação em leito fluidizado e o uso de uma unidade de resfriamento intermediária.

Description

“DISPOSITIVO E MÉTODO DE PÓS-TRATAMENTO PARA PÓS-TRATAMENTO DE PELO MENOS GASES A JUSANTE DE UM PROCESSO DE GASEIFICAÇÃO DE LEITO FLUIDIZADO, E UNIDADE LÓGICA E USO”

[0001] A presente invenção se refere a um arranjo e a um método para o pós-tratamento de pelo menos gases a jusante de um processo de gaseificação em leito fluidizado, particularmente, a jusante de um gaseificado de HTW. Em particular, a separação de partículas e o resfriamento precisam, então, ocorrer. Além disso, a invenção refere-se, também, ao uso de componentes para tratar o gás nesse arranjo. Em particular, a invenção se refere a um arranjoo e um método de acordo com o preâmbulo da reivindicação respectiva.

[0002] A gaseificação (HTW) Winkler de alta temperatura é realizada em pressão elevada e pode ser descrita como um processo de gaseificação em leito fluidizado carregado por pressão, particularmente para pressões acima de 20 bar, nas quais a poeira é descarregada para fora do sistema. Em contrapartida, a gaseificação em leito fluidizado Winkler original foi realizada em pressão ambiente. A gaseificação HTW pode ser usada vantajosamente para uma ampla faixa de aplicações. Por exemplo, pode-se mencionar: produção de gás de síntese particularmente para produtos da indústria petroquímica, aplicações em usinas de forças para geração de força ou gaseificação de biomassa, resíduo doméstico ou carvão negro que tem um alto teor de cinzas.

[0003] Convencionalmente, um ciclone de retorno é usado em gaseificação HTW. Um gás cru carregado com poeira fina é conduzido do gaseificador a um resfriador de gás cru por meio do ciclone de retorno. Em muitos casos, a eficiência ou eficácia da separação de poeira no ciclone de retorno não é suficientemente alta, particularmente, em altas pressões ou altas densidades de gás devido a problemas em separação de partículas. Por esse motivo, um ou mais filtros de gás são dispostos a jusante do ciclone de retorno ou resfriador de gás cru. No entanto, essa não é uma medida particularmente satisfatória. Devido à separação de partículas inadequada, uma alta concentração de matéria estranha, particularmente carbono, é depositada nos filtros de gás morno, em que a matéria estranha pode, então, não ser mais utilizada de maneira simples, porém precisa ser devolvida ao processo de maneira complexa ou precisa ser descartada separadamente. Em particular, a matéria estranha que se acumula no filtro de gás morno precisa ser devolvida ao gaseificador por mio de um sistema de circulação (particularmente, também transportadores de parafuso) ou podem ser incinerados em caldeiras separadas com grande esforço, que precisam ser supridas com combustíveis auxiliares ocasionalmente.

[0004] O documento nº EP 1 201 731 A1 descreve um gaseificador de leito fluidizado que tem uma primeira e segunda zonas pós- gaseificação, que em contrapartida a gaseificadores HTW convencionais, permite que todas as cinzas permaneçam no sistema por meio de uma zona de retorno. Em uma zona de respingo fornecida acima da zona de leito fluidizado, o carregamento de poeira do gás cru é abaixado antes da entrada em uma zona de resfriamento. O resfriamento ocorre dissipando-se vapor superaquecido a uma faixa de temperatura, de preferência, de 550 a 650 ºC.

[0005] O documento nº DE 10 2006 017 353 A1 descreve um método quase não pressurizado para purificação de gás de processo integrado, em que o resfriamento intermediário a 150 a 700 Cea remoção de poeira ocorrem em um então chamado multiciclone e em uma fileira a jusante de filtros de metal de sinterização

[0006] O documento nº DE 43 39 973 C1 descreve um método para a gaseificação de matéria residual.

[0007] No entanto, os métodos até então não podem ser usados de maneira satisfatória em muitos sentidos em combinação com gaseificação em leito fluidizado, particularmente, não para a gaseificação HTW ou durante a mesma. As exigências aumentadas em termos de eficiência, pureza e flexibilidade no processo exigem desenvolvimento adicional de usinas existentes e métodos.

[0008] O objetivo da invenção é fornecer um arranjo e um método em combinação com um processo de gaseificação em leito fluidizado, particularmente, gaseificação HTW, com o qual vários materiais de entrada podem ser tratados vantajosamente na gaseificação em leito fluidizado, ou após a mesma, particularmente gaseificação em leito fluidizado carregada por pressão (processo HTW). Em particular, a faixa mais ampla possível de pressões de operação deve ser possibilitada. Obviamente, um bom custo-benefício e alta confiabilidade operacional também são desejados para, ao final, garantir boa prontidão para aplicações práticas.

[0009] De acordo com a invenção, essa tarefa é obtida por um arranjo de pós-tratamento para o pós-tratamento de pelo menos gases (e opcionalmente também para o pós-tratamento de produto de fundo) a jusante ou no lado de descarga de um processo de gaseificação em leito fluidizado, particularmente, a jusante de um gaseificador HTW de um processo de gaseificação em leito fluidizado carregado por pressão que tem uma unidade de separação de partículas disposto/passível de disposição a jusante do processo de gaseificação em leito fluidizado e a montante de um resfriador de gás (cru) utilizável para o pós-tratamento adicional dos gases, em que o arranjo de pós- tratamento compreende uma unidade de resfriamento intermediário a jusante do processo de gaseificação em leito fluidizado e a montante da unidade de separação de partículas que tem um retorno, acoplado/passível de acoplamento ao processo de gaseificação em leito fluidizado, para vapor de gaseificação. Isso fornece alta eficiência geralmente durante gaseificação em leito fluidizado e especialmente em combinação com um gaseificador HTW. A vapor pode ser usado diretamente com um meio de gaseificação. Em particular, a separação de matéria estranha ou poeira pode ocorrer com mais eficácia. Por último, mas não menos importante, uma eficiência de desgaseificação, particularmente uma alta eficiência de desgaseificação, pode ser obtida. Além disso, os custos de usina podem ser reduzidos, particularmente, em relação a transportadores de parafuso (rolos de descarga) que não são mais necessários durante a operação do filtro de gás morno.

[0010] Um arranjo “a jusante de um processo de gaseificação em leito fluidizado”, particularmente, “a jusante de um gaseificador HTW" se refere a um arranjo através do componente respectivo na direção de fluxo do gás em direção a uma descarga de gás de síntese.

[0011] Doravante, a referência será feita de maneira intercambiável a gaseificação em leito fluidizado e simultaneamente gaseificação HTW e vice-versa. A unidade de resfriamento intermediário pode ser disposta diretamente a jusante do gaseificador HTW, em outras palavras, sem a interposição de componentes adicionais ou etapas de método.

[0012] A unidade de separação de partículas pode ser disposta diretamente a jusante da unidade de resfriamento intermediário, em outras palavras sem a interposição de componentes adicionais ou etapas de método.

[0013] Um arranjo “no lado de descara de” se refere a um arranjo na direção de fluxo de material de produtos de fundo, em outras palavras na direção a um componente de usina, por meio dos quais o produto de fundo ou poeira são descarregados.

[0014] O arranjo de pós-tratamento também pode compreender, então, também os componentes já usados até então em um processo HTW, por exemplo, o gaseificador HTW e/ou o resfriador de gás cru.

[0015] De acordo com uma modalidade, a unidade de separação de partículas é construída como uma unidade de filtro de cartucho de ciclone. Desse modo, pode-se obter vantagens relacionadas a método; em particular, a separação fina eficaz em filtros cerâmicos a jusante se torna possível. A unidade de filtro de cartucho de ciclone pode ser construída a junto da unidade de resfriamento intermediário como um componente de usina/método combinados.

[0016] De acordo com uma modalidade, a unidade de filtro de cartucho de ciclone tem um retorno de poeira acoplado/passível de acoplamento ao processo de gaseificação em leito fluidizado ou ao gaseificador HTW. Um processo eficiente se torna, então, possível. Em particular, isso resulta na vantagem de que a unidade de filtro de cartucho de ciclone pode ser usada repetidamente como um tipo de pré-separador.

[0017] De acordo com uma modalidade, o arranjo de pós-tratamento compreende uma câmara de oxidação de produto de fundo disposta/passível de disposição no lado de descarga do processo de gaseificação em leito fluidizado ou o gaseificador HTW, particularmente, acoplado/passível de acoplamento ao gaseificador HTW, particularmente, preparado para converter carbono. O carbono pode, então, ser reduzido de maneira que o produto de fundo se torne adequado para descarte em aterro particularmente quando tiver menos que 4 por cento de em peso.

[0018] De acordo com uma modalidade, o arranjo de pós-tratamento compreende uma unidade de resfriamento de produto de fundo disposta/passível de disposição no lado de descarga do processo de gaseificação em leito fluidizado ou do gaseificador HTW, particularmente, disposta/passível de disposição no lado de descarga de uma/da câmara de oxidação de produto de fundo ou acoplada/passível de acoplamento à mesma.

[0019] De acordo com uma modalidade, a unidade de filtro de cartucho de ciclone é combinada com a unidade de resfriamento intermediário em uma unidade. Desse modo, também pode-se cobrir uma ampla faixa de temperatura. A unidade combinada pode ser disposta diretamente a jusante do gaseificador HTW.

[0020] A tarefa mencionada acima é solucionada de acordo com a invenção por um método para o pós-tratamento de pelo menos gases (e opcionalmente também para o pós-tratamento de produto de fundo) a jusante e no lado de descarga respectivamente de um processo de gaseificação em leito fluidizado ou um gaseificador HTW de um processo de gaseificação em leito fluidizado carregado por pressão que compreende uma unidade de separação de partículas disposta/passível de disposição a jusante do processo de gaseificação em leito fluidizado e do gaseificador HTW respectivamente e a montante de um processo de resfriamento de gás (cru) utilizável para o pós- tratamento adicional dos gases, em que o gás do processo de gaseificação em leito fluidizado é submetido a resfriamento intermediário a montante do separação de partículas ou é disposto por meio de pelo menos uma unidade de resfriamento intermediário combinada com a um retomo do vapor de gaseificação do resfriamento intermediário ou uma unidade de resfriamento intermediário de volta ao processo de gaseificação em leito fluidizado. Um método vantajoso pode, então, fornecido, particularmente também um método de aplicação flexível com custo-benefício.

[0021] O vapor de gaseificação pode, então, retornar do resfriamento intermediário para o processo de gaseificação em leito fluidizado, desse modo, particularmente uma alta flexibilidade em relação aos parâmetros de processo pode ser obtida. Em particular, o resultado também é um modelo compacto. Por último, mas não menos importante, um sistema de travamento não é exigido.

[0022] De acordo com uma modalidade, o resfriamento intermediário ocorre a aproximadamente 650 “ºC, particularmente, de aproximadamente 950 ºC a pelo menos aproximadamente 650 ºC ou exatamente 650 ºC. O acoplamento a uma/à unidade de filtro de cartucho de ciclone pode, então, ocorre de maneira simples. Desse modo, uma temperatura de pelo menos aproximadamente 650 ºC também se refere a uma temperatura na faixa de 640 a 660 ºC.

[0023] De acordo com uma modalidade, uma separação de partículas é realizada por meio de uma unidade de filtro de cartucho de ciclone. A carga ou deformação de unidades de filtro adicionais pode ser, então, minimizada. A unidade de filtro de cartucho de ciclone oferece vantagens para todo o processo, particularmente, na cadeia de processo descrita no presente documento.

[0024] De acordo com uma modalidade, a poeira retorna para o processo de separação de partículas no processo de gaseificação em leito fluidizado. Isso resulta em vantagens relacionadas ao processo.

[0025] De acordo com uma modalidade, a oxidação do produto de fundo ocorre, particularmente de carbono, no lado de descarga do processo de gaseificação em leito fluidizado. O produto de fundo do processo de gaseificação em leito fluidizado ou do gaseificador HTW é oxidado, particularmente, em uma câmara de oxidação disposta a jusante do gaseificador HTW. Por último, mas não menos importante, isso permite ou simplifica a transferência do produto de fundo ao aterro.

[0026] De acordo com uma modalidade, o resfriamento de produto de fundo ocorre no lado de descarga do processo de gaseificação em leito fluidizado ou no lado de descarga do gaseificador HTW, particularmente, no lado de descarga de um/do processo de oxidação do produto de fundo ou uma câmara de oxidação correspondente. Isso resulta em vantagens mencionadas acima.

[0027] De acordo com uma modalidade, a jusante do processo de gaseificação em leito fluidizado ou do gaseificador HTW, o gás é submetido em sequência primeiramente ao resfriamento intermediário, em seguida, a separação de partículas e, em seguida, um/o processo de resfriamento de gás (cru). Essa combinação de métodos resulta em processo geral que é utilizável de maneira particularmente flexível, também em combinação com um modelo de usina simplificado.

[0028] De acordo com uma modalidade, é produzido o gás de síntese pelo qual o gás do processo de gaseificação em leito fluidizado a jusante do processo de resfriamento de gás (cru) é conduzido através de pelo menos uma unidade de lavagem de água, uma unidade de turno e uma unidade de dessulfuração. O método pode, então, ser acoplado de maneira simples a etapas pós-tratamento adicionais. A unidade de turno pode ser fornecida por meio um leito fixo com um conversor catalítico. Desse modo, o filtro de gás morno usado anteriormente não é mais necessário, particularmente, devido ao filtro de cartucho de ciclone.

[0029] O método descrito anteriormente pode ser realizado vantajosamente por meio de um arranjo de pós-tratamento descrito anteriormente.

[0030] A tarefa mencionada acima também é realizada de acordo com a invenção por uma unidade lógica preparada para controlar um método descrito anteriormente, particularmente, em um pós- tratamento disposto descrito anteriormente, em que a unidade lógica é acoplada à unidade de resfriamento intermediário e é preparada para regular o resfriamento dos gases, particularmente, em uma faixa entre 950 ºC e 650 ºCe é preparada para regular um suprimento de gás a uma unidade de separação de partículas ou também a uma câmara de oxidação de produto de fundo, particularmente para regular pelo menos um fluxo de volume. Isso resulta em vantagens mencionadas acima.

[0031] A tarefa mencionada acima também é obtida, de acordo com a invenção, com o uso de uma unidade de resfriamento intermediário a jusante de um processo de gaseificação em leito fluidizado ou um gaseificador HTW e a montante de uma unidade de separação de partículas para gases do processo de gaseificação em leito fluidizado, combinado com um retorno de poeira da unidade de resfriamento de volta ao processo de gaseificação em leito fluidizado, particularmente, na produção de gás de síntese em um arranjo de pós-tratamento ou em um processo descrito anteriormente. Isso resulta em vantagens mencionadas acima.

[0032] Os recursos e vantagens adicionais da invenção surgem da descrição de pelo menos uma modalidade com o uso de desenhos, assim como dos próprios desenhos. Em relação aos sinais de referência que não são descritos com referência a um desenho individual, a referência deve ser feita aos outros desenhos. São mostrados em uma representação esquemática em cada caso:

[0033] A Figura 1 um arranjo que tem um gaseificador HTW, no qual o gás é descarregado a jusante em um ciclone de retorno e em um produto de fundo parafuso de resfriamento, e

[0034] A Figura 2 um arranjo de pós-tratamento de acordo com uma modalidade integrada a jusante ou no lado de descarga de um gaseificador HTW.

[0035] A Figura 1 retrata um gaseificador Winkler de alta temperatura (HTW) 1, um ciclone de retorno (separador de partícula) 2 disposto a jusante do mesmo em um primeiro trajeto de fluxo de gás, em que a jusante do mesmo está um resfriador de gás cru 3, um filtro de gás morno 4, um processo de lavagem de água ou unidade de lavagem de água 5, um processo de turno ou uma unidade de turno 6, a processo de dessulfuração ou unidade de dessulfuração 7, assim como em cada caso a jusante do gaseificador HTW 1, há disposto em segundo terceiro e trajeto de fluxo de gás respectivamente um dispositivo de transporte, particularmente, o parafuso 8, projetado uma vez como um parafuso de resfriamento 8a para poeira e projetado uma vez como um parafuso de resfriamento 8b para o produto de fundo, mais a jusante do mesmo, em cada caso, um parafuso de descarga 8c, e por fim, uma câmara de leito fluidizado 9.

[0036] Há um retorno de poeira A1 da poeira A do separador de partícula 2 de volta para o gaseificador HTW 1. O gaseificador HTW 1 é suprido com vapor de gaseificação B assim como ar, oxigênio, CO2 (alimentado C) assim como o combustível D. A câmara de leito fluidizado 9 é alimentada com o produto de fundo que contém carbono E e a poeira que contém carbono F. O gás de síntese G é descarregado a jusante da unidade de dessulfuração 7.

[0037] A Figura 2 retrata um arranjo de pós- tratamento 10 que tem um processo de separação de partículas ou uma unidade de separação de partículas 11, particularmente, construída como uma unidade de filtro de cartucho de ciclone. O resfriamento intermediário ou uma unidade de resfriamento intermediário 12 é fornecido a jusante do gaseificador HTIW 1 e a montante da unidade de filtro de cartucho de ciclone 11.

[0038] Há um retorno de poeira A1 da poeira A do separador de partícula 2 de volta para o gaseificador HTW 1. O gaseificador HTW 1 é suprido com vapor de gaseificação B, sendo que o dito vapor de gaseificação B pode retornar da unidade de resfriamento intermediário 12 por meio de uma linha de retorno B1. O gaseificador HTW 1 também é suprido com ar, oxigênio, CO2 (alimentação C) assim como combustível D.

[0039] A jusante da unidade de filtro de cartucho de ciclone 5 disposto em um primeiro trajeto de fluxo de gás, há disposto um resfriador de gás cru 3, um processo de lavagem de água ou uma unidade de lavagem de água 5, um processo de turno ou uma unidade de turno 6 assim como um processo de dessulfuração ou uma unidade de dessulfuração 7. O gás de síntese G é descarregado a jusante da unidade de dessulfuração 7. Um filtro de gás morno (sinal de referência 4 na Figura 1) não é mais necessário. Por conta do filtro de cartucho de ciclone 11, um filtro de gás morno pode ser omitido.

[0040] O dispositivo de transporte, particularmente parafusos, não são fornecidos. Em vez disso, a jusante do gaseificador HTW 1 em um segundo trajeto de fluxo de gás, há disposto uma oxidação do processo de produto de fundo ou pelo menos uma câmara de oxidação 13 para o produto de fundo e um processo de resfriamento de produto de fundo ou pelo menos uma unidade de resfriamento de produto de fundo 14. As cinzas H são descarregadas a jusante do processo de resfriamento de produto de fundo 14.

[0041] Uma unidade lógica 20 é acoplada pelo menos ao gaseificador HTW 1, à unidade de separação de partículas 11, à unidade de resfriamento intermediário 12, à câmara de oxidação 13 e/ou à unidade de resfriamento de produto de fundo 14.

[0042] LISTA DE SINAIS DE REFERÊNCIA

[0043] 1 Processo de gaseificação em leito fluidizado com gaseificador Winkler de alta temperatura (HTW)

[0044] 2 Ciclone de retorno (separador de partícula)

[0045] 3 Resfriador de gás (cru) ou resfriamento de gás (cru)

[0046] 4 Filtro de gás morno

[0047] 5 Processo de lavagem de água ou unidade de lavagem de água

[0048] 6 Processo de turno ou unidade de turno

[0049] 7 Processo de dessulfuração ou unidade de dessulfuração

[0050] 8 Dispositivo de transporte, particularmente, um parafuso

[0051] 8a Parafuso de resfriamento para poeira

[0052] 8b Parafuso de resfriamento para produto de fundo

[0053] 8c Parafuso de descarga

[0054] 9 Câmara de leito fluidizado

[0055] A; A1 Poeira ou retorno de poeira

[0056] B; B1 Vapor de gaseificação ou retorno para vapor de gaseificação

[0057] C Ar, oxigênio, CO2

[0058] D Combustível

[0059] E Produto de fundo que contém C

[0060] F Poeira que contém C

[0061] G Gás de síntese

[0062] H Cinza

[0063] 10 Arranjo de pós-tratamento

[0064] 11 Processo de separação de partículas ou unidade de separação de partículas, particularmente, uma unidade de filtro de cartucho de ciclone

[0065] 12 Resfriamento intermediário ou unidade de resfriamento intermediário

[0066] 13 Oxidação de produto de fundo ou câmara de oxidação para produto de fundo

[0067] 14 Resfriamento de produto de fundo ou unidade de resfriamento de produto de fundo

[0068] 20 Unidade lógica

Claims

REIVINDICAÇÕES

1. Dispositivtro de pós-tratamento (10) para pós- tratamento de pelo menos gases a jusante de uma gaseificação em leito fluidizado, em particular a jusante de um gaseificador HTW (1) de uma gaseificação em leito fluidizado pressurizado com uma unidade de separação de partículas (2; 11) que pode ser disposta a jusante do sistema de gaseificação de leito fluidizado e a montante de um resfriador de gás (3) que pode ser usado para posterior tratamento posterior dos gases; em que o dispositivo é caracterizado pelo fato de que compreende uma unidade de resfriamento intermediária (12) que pode ser disposta a jusante do processo de gaseificação em leito fluidizado e a montante da unidade de separação de partículas (11), em que tem um retorno (B1) para o vapor de gaseificação (B) que pode acoplado ao processo de gaseificação de leito fluidizado.

2. Dispositivo de pós-tratamento, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a unidade de separação de partículas (11) é projetada como uma unidade de filtro de cartucho de ciclone.

3. Dispositivo de pós-tratamento, de acordo com a reivindicação 2, caracterizado pelo fato de que a unidade de filtro de cartucho de ciclone (11) possui um retorno de poeira (A1) que pode ser acoplado ao processo de gaseificação de leito fluidizado.

4. Dispositivo de pós-tratamento, de acordo com uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que o dispositivo de pós- tratamento (10) compreende uma câmara de oxidação do produto de fundo (13) que pode ser disposta no lado de descarga do processo de gaseificação de leito fluidizado, particularmente um que pode ser acoplado a um/ao gaseificador HTW.

5. Dispositivo de pós-tratamento, de acordo com uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que o arranjo de pós- tratamento (10) compreende uma unidade de resfriamento de produto de fundo (14) que pode ser disposta no lado de descarga do processo de gaseificação de leito fluidizado, particularmente do gaseificador HTW (1), particularmente uma que pode ser disposta no lado de descarga de uma/da câmara de oxidação do produto de fundo (13).

6. Dispositivo de pós-tratamento, de acordo com uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que a unidade de separação de partículas (11) é combinada com a unidade de resfriamento (12) em uma unidade.

7. Método para o pós-tratamento de pelo menos gases a jusante de um processo de gaseificação em leito fluidizado, particularmente a jusante de um gaseificador HTW (1) de um processo de gaseificação em leito fluidizado pressurizado caracterizado pelo fato de que compreende um processo de separação de partículas (11) que pode ser disposto a jusante do processo de gaseificação de leito fluidizado e a montante de um resfriador de gás (3) que pode ser usado para pós-tratamento posterior dos gases; definido pelo gás do processo de gaseificação em leito fluidizado ser submetido a um resfriamento intermediário (12) a montante do processo de separação de partículas (11), combinado com um retorno do vapor de gaseificação (B) do resfriamento intermediário de volta ao processo de gaseificação em leito fluidizado.

8. Método, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de que o resfriamento intermediário (12) ocorre a 650 “ºC, particularmente a partir de aproximadamente 950 ºC.

9. Método, de acordo com a reivindicação 7 ou 8, caracterizado pelo fato de que a separação de partículas (11) é realizada por meio de uma unidade de filtro de cartucho de ciclone; e/ou em que a poeira (A) é retornada do processo de separação de partículas (11) para o processo de gaseificação em leito fluidizado, particularmente para o gaseificador HTW (1).

10. Método, de acordo com uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que uma oxidação do produto de fundo ocorre no lado de descarga do processo de gaseificação em leito fluidizado; e/ou em que o resfriamento do produto de fundo (14) ocorre no lado de descarga do processo de gaseificação de leito fluidizado, particularmente no lado de descarga de uma/da oxidação (13) do produto de fundo.

11. Método, de acordo com uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que o gás a jusante do processo de gaseificação em leito fluidizado é submetido primeiro a resfriamento intermediário (12), depois, separação de partículas (11) e então, a um/ao resfriamento de gás (3) em sequência.

12. Método, de acordo com uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que o gás de síntese (G) é produzido pelo gás que é guiado para fora do processo de gaseificação em leito fluidizado a jusante do resfriamento de gás (3) através de pelo menos uma unidade de lavagem de água (5), uma unidade de turno e uma unidade de dessulfuração (7).

13. Método, de acordo com uma das reivindicações anteriores, caracterizado pelo fato de que é realizado por meio de um dispositivo de pós-tratamento (1) de acordo com uma das reivindicações anteriores.

14. Unidade lógica (20) configurada para controlar um método, de acordo com uma das reivindicações anteriores, em que a unidade lógica é caracterizada pelo fato de que é acoplada a uma unidade de resfriamento intermediária (12) e é configurada para regular o resfriamento dos gases, particularmente em uma faixa entre 950 ºC e 650 ºC, e é configurada para regular um suprimento de gás a uma unidade de separação de partículas ou também a uma câmara de oxidação do produto de fundo, particularmente para regular pelo menos um fluxo de volume.

15. Uso de uma unidade de resfriamento intermediária (12) a jusante de um processo de gaseificação em leito fluidizado, particularmente a jusante de um gaseificador HTW (1) e a montante de uma unidade de separação de partículas (11) para gases do processo de gaseificação em leito fluidizado, em combinação com um retorno de pó (B1) da unidade de resfriamento intermediária (12) de volta ao processo de gaseificação em leito fluidizado, particularmente em relação à produção de gás de síntese em um dispositivo de pós-tratamento (10) ou em relação a um método de acordo com uma das reivindicações anteriores.

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