BR112019021667A2

BR112019021667A2 - Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão, dispositivo de conversão fotoelétrica, líquido de revestimento para formar a película de baixa reflexão para o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão e método de produção para o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão

Info

Publication number: BR112019021667A2
Application number: BR112019021667-7A
Authority: BR
Inventors: Koyo Mizuho; Nakazawa Tatsuhiro; Kawazu Mitsuhiro
Original assignee: Nippon Sheet Glass Company, Limited
Priority date: 2017-04-27
Filing date: 2018-04-19
Publication date: 2020-05-12
Also published as: WO2018198936A1; JP7083342B2; EP3617165A1; JPWO2018198936A1; ES2917523T3; EP3617165B1; AR111733A1; CN110546117B; EP3617165A4; US11661519B2; US20210115263A1; CN110546117A; PL3617165T3; CL2019003040A1

Abstract

a presente invenção refere-se a um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão formada sobre pelo menos uma superfície principal do substrato transparente. a película de baixa reflexão é uma película porosa na qual partícula de sílica finas esféricas sólidas que têm um diâmetro de partícula médio de 80 a 150 nm são fixadas em um aglutinante que inclui a sílica como um componente principal. o aglutinante também inclui um composto de alumínio. a película de baixa reflexão contém, em % em massa: de 55 a 70% das partículas de sílica finas; de 25 a 40% da sílica do aglutinante; de 0,1 a 1,5% do composto de alumínio em termos de al2o3, e de 0,25 a 3% de um componente orgânico. a espessura da película de baixa reflexão é de 80 a 800 nm. o ganho de transmitância do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão, definido como o aumento da transmitância média para comprimentos de onda de 380 a 850 nm em relação à transmitância média do substrato transparente sem a película de baixa reflexão para os ditos comprimentos de onda, é de pelo menos 2,5%. o componente orgânico inclui ß-cetoéster e uma ß-dicetona.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para SUBSTRATO TRANSPARENTE REVESTIDO COM PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO, DISPOSITIVO DE CONVERSÃO FOTOELÉTRICA, LÍQUIDO DE REVESTIMENTO PARA FORMAR A PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO PARA O SUBSTRATO TRANSPARENTE REVESTIDO COM PELÍCULA DE BAIXA

REFLEXÃO E MÉTODO DE PRODUÇÃO PARA O SUBSTRATO TRANSPARENTE REVESTIDO COM PELÍCULA DE BAIXA

REFLEXÃO.

CAMPO TÉCNICO

[001] A presente invenção refere-se a um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão, a um dispositivo de conversão fotoelétrica que inclui o mesmo, a um líquido de revestimento para formar a película de baixa reflexão de um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão e a um método de produção de um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão. ANTECEDENTES DA TÉCNICA

[002] Com a finalidade de melhorar a função de um substrato de vidro ou de cerâmica em seu uso pretendido, é formada uma película de baixa reflexão para aumentar a quantidade de luz a ser transmitida ou para evitar o brilho causado pela reflexão na superfície do substrato. [003] Tais películas de baixa reflexão são aplicadas, por exemplo, em folhas de vidro para uso nas placas de vidro dos veículos, em vitrines ou em dispositivos de conversão fotoelétrica. A chamada célula solar de película fina, que é um tipo de dispositivo de conversão fotoelétrica, emprega uma folha de vidro em que é formada uma pilha com uma película de camada inferior, uma película condutora transparente, uma camada de conversão fotoelétrica feita de silício amorfo ou similar e um eletrodo de película fina no lado de trás que é arranjada nesta ordem. Uma película de baixa reflexão é formada na superfície principal da folha

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2/42 de vidro oposta à superfície principal que suporta a pilha, a saber, na superfície principal em que incide a luz solar. Tal célula solar que tem uma película de baixa reflexão formada no lado em que incide a luz solar permite que uma quantidade maior de luz solar alcance a camada de conversão fotoelétrica ou o elemento de célula solar e gere, desse modo, uma quantidade maior de eletricidade.

[004] As películas de baixa reflexão geralmente mais usadas são as películas dielétricas formadas por um processo, tal como a deposição a vácuo, o bombardeamento iônico ou a deposição de vapor químico (CVD). Em alguns casos, uma película fina contendo partículas que contém partículas finas, tais como partículas finas de silica, é usada como uma película de baixa reflexão. Tal película fina contendo partículas é formada pela aplicação de um líquido de revestimento que contém partículas finas em um substrato transparente por uma técnica tal como imersão, revestimento por fluxo ou aspersão.

[005] Por exemplo, o documento JP 2014-032248 A (Literatura de Patente 1) apresenta um vidro de cobertura para dispositivos de conversão fotoelétrica que é formado pela aplicação de um líquido de revestimento que contém partículas finas e um precursor de aglutinante a uma folha de vidro que tem asperezas de superfície por meio de aspersão, em seguida por secagem a 400°C e então calcinação a 610°C por 8 minutos. A película de baixa reflexão formada neste vidro de cobertura pode produzir um aumento de pelo menos 2,37% na transmitância de luz média na faixa de comprimentos de onda de 380 a 1.100 nm.

[006] Além disso, o documento JP 2013-537873 A (Literatura de Patente 2) apresenta um substrato revestido de vidro produzido por deposição de um sol que contém tetra-etóxi-silano, acetonato de acetila de alumínio e silica coloidal em uma folha de vidro por meio de revestimento por imersão, seguido por tratamento com calor a 680°C

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3/42 por 180 segundos. A película de baixa reflexão formada neste substrato de vidro pode produzir um aumento de 2,5% na transmitância de luz média na faixa de comprimentos de onda de 300 a 1.100 nm.

[007] O documento JP 2014-015543 A (Literatura de Patente 3) apresenta um substrato de silício com um revestimento formado pela aplicação de uma composição de revestimento que contém silica coloidal, tetra-alcóxi-silano e nitrato de alumínio ao substrato ao usar um revestidor giratório e então secando a composição de revestimento aplicada a 100°C por 1 minuto, e a silica coloidal tem um diâmetro de partículas dispersas maior do que o diâmetro da partícula primária médio e tem um fator de formato e uma razão de aspecto que são maiores do que 1 por uma certa quantidade ou mais. Este revestimento tem um teor de refração de 1,40 ou menos, embora nenhuma menção seja feita ao aumento na transmitância de luz média causado por este revestimento.

LISTA DE CITAÇÕES

Literatura de Patente

[008] Literatura de Patente 1: JP 2014-032248A

[009] Literatura de Patente 2: JP 2013-537873A

[0010] Literatura de Patente 3: JP 2014-015543A

SUMÁRIODA INVENÇÃO PROBLEMA TÉCNICO

[0011] Por exemplo, quando uma folha de vidro revestida com uma película de baixa reflexão é usada como substrato transparente em um dispositivo de conversão fotoelétrica, o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão é necessário não somente para haver um efeito melhorado na transmitância de luz, mas também para ter maior durabilidade. Desse modo, por exemplo, os substratos transparentes revestidos com película de baixa reflexão para uso em dispositivos de conversão fotoelétrica ainda apresentam espaço para a

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4/42 melhoria em termos de aumentar a durabilidade enquanto são mantidas boas propriedades ópticas, tais como alta transmitância, quando comparadas com aquelas obtidas convencionalmente.

[0012] Tendo em vista tais circunstâncias, um objetivo da presente invenção consiste na apresentação de um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão que tem maior durabilidade, bem como tem propriedades ópticas comparáveis àquelas obtidas convencionalmente. Outro objetivo da presente invenção consiste na apresentação de um dispositivo de conversão fotoelétrica que inclui tal substrato transparente revestido com película de baixa reflexão. Ainda outro objetivo da presente invenção consiste na apresentação de um líquido de revestimento para a formação de uma película de baixa reflexão de tal substrato transparente revestido com película de baixa reflexão e na apresentação de um método de produção do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão.

SOLUÇÃO DO PROBLEMA

[0013] Um primeiro aspecto da presente invenção apresenta um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão que inclui um substrato transparente e uma película de baixa reflexão formados em pelo menos uma superfície principal do substrato transparente, em que a película de baixa reflexão é uma película porosa que inclui: partículas de silica finas que são sólidas e esféricas e que têm um diâmetro de partícula médio de 80 a 150 nm; e um aglutinante que contém a silica como componente principal, e as partículas de silica finas são ligadas pelo aglutinante, o aglutinante também contém um composto de alumínio, a película de baixa reflexão contém como componentes:

a 70% em massa de partículas de silica finas;

a 40% em massa de silica do aglutinante;

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0,1 a 1,5% em massa de composto de alumínio em termos de AI2O3; e

0,25 a 3% de um componente orgânico, a película de baixa reflexão tem uma espessura de 80 a 800 nm, ganho de transmitância é de 2,5% ou mais, e 0 ganho de transmitância é definido como um aumento da transmitância média do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão em uma faixa de comprimentos de onda de 380 a 850 nm em relação à transmitância média do substrato transparente não revestido com a película de baixa reflexão na faixa de comprimentos de onda, e componente orgânico inclui pelo menos um selecionado do grupo que consiste em um β-cetoéster e um β-dicetona.

[0014] Um segundo aspecto da presente invenção apresenta um dispositivo de conversão fotoelétrica que inclui 0 substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com 0 primeiro aspecto da presente invenção.

[0015] Um terceiro aspecto da presente invenção apresenta um líquido de revestimento para formação de uma película de baixa reflexão de um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão, e 0 líquido de revestimento inclui: partículas de silica finas que são sólidas e esféricas e que têm um diâmetro de partícula médio de 80 a 150 nm; um composto de silício hidrolisável; um complexo de quelato de alumínio e um solvente, em que composto de silício hidrolisável inclui um composto representado pela seguinte fórmula (i): S1X4, onde X é pelo menos um selecionado de um grupo alcóxi, de um grupo acetóxi, de um grupo alquenilóxi, de um amino grupo e de um átomo do halogênio, complexo de quelato de alumínio contém: pelo menos um ligando de polidentato selecionado do grupo que consiste em um

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6/42 ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-cetoéster e um ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-dicetona; e um ou dois grupos alcóxi ligados diretamente ao átomo de alumínio, o solvente inclui um solvente orgânico miscível com água e tem um ponto de ebulição de 70°C ou mais alto, e mais baixo do que 180°C, a razão entre a massa de partículas de silica finas, tal como calculada em termos de S1O2, e a massa do componente de óxido de silício contido no composto de silício hidrolisável, tal como calculado em termos de S1O2 (partículas de silica finas:composto de silício hidrolisável) é de 57:43 a 74:26, quando a soma da massa de partículas de silica finas, tal como calculada em termos de S1O2, e a massa do componente de óxido de silício contido no composto de silício hidrolisável, tal como calculada em termos de S1O2, é definida como 100 partes em massa, a quantidade do complexo de quelato de alumínio é de 0,6 a 8 partes em massa, e quando uma película de baixa reflexão que tem uma espessura de 80 a 800 nm é formada em um substrato transparente ao usar 0 líquido de revestimento, 0 ganho de transmitância é de 2,5% ou mais, e 0 ganho de transmitância é definido como um aumento da transmitância média do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão em uma faixa de comprimentos de onda de 380 a 850 nm em relação à transmitância média do substrato transparente não revestido com a película de baixa reflexão na faixa de comprimentos de onda.

[0016] Um quarto aspecto da presente invenção apresenta um método para produção de um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com 0 primeiro aspecto da presente invenção, e 0 método inclui:

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7/42 uma etapa de aplicação para aplicar um líquido de revestimento a fim de formar a película de baixa reflexão no substrato transparente; e uma etapa de aquecimento para aquecer o substrato transparente com o líquido de revestimento aplicado, em que o líquido de revestimento é o líquido de revestimento de acordo com o terceiro aspecto da presente invenção, e na etapa de aquecimento, a temperatura máxima experimentada pela superfície do substrato transparente é de 350°C ou mais baixa, e o período de tempo durante o qual a superfície do substrato transparente tem uma temperatura de 130°C ou mais alta é de 5 minutos ou menos.

EFEITOS VANTAJOSOS DA INVENÇÃO

[0017] A presente invenção apresenta um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão que tem maior durabilidade, bem como tem propriedades ópticas comparáveis àquelas obtidas convencionalmente. A presente invenção também apresenta um dispositivo de conversão fotoelétrica que inclui um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão.

DESCRIÇÃO DAS MODALIDADES

[0018] Uma modalidade do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com a presente invenção será descrita.

[0019] O substrato transparente revestido com película de baixa reflexão da presente modalidade inclui um substrato transparente e uma película de baixa reflexão formada pelo menos na superfície principal do substrato transparente.

[0020] A película de baixa reflexão será descrita em primeiro lugar. [0021] A película de baixa reflexão na presente modalidade é composta de uma película porosa que inclui partículas de silica finas

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8/42 que são sólidas e esféricas e um aglutinante que contém a silica como componente principal, e as partículas de silica finas são ligadas pelo aglutinante. O aglutinante também contém um composto de alumínio. A película porosa, a saber, a película de baixa reflexão, tem uma espessura física de 80 a 800 nm, de preferência maior do que 100 nm e 500 nm ou menos, e com mais preferência maior do que 100 nm e 150 nm ou menos. O aglutinante que contém a silica como componente principal refere-se a um aglutinante que contém 50% em massa ou mais de silica.

[0022] As partículas de silica finas são partículas primárias mais ou menos esféricas que têm um diâmetro de partícula médio de 80 a 150 nm, de preferência maior do que 100 nm e 150 nm ou menos. A silica tem uma dureza maior do que os materiais de polímero orgânicos. A silica tem um teor de refração relativamente baixo, e desse modo pode oferecer uma redução maior no teor de refração aparente da película porosa que inclui o aglutinante e as partículas de silica finas. Além disso, as partículas primárias mais ou menos esféricas feitas de silica e que têm diâmetros uniformes são produzidas comercialmente com baixo custo e estão amplamente disponíveis em termos de quantidade, de qualidade e de custo. O diâmetro de partícula médio das partículas de silica finas, tal como aqui definido, refere-se a um diâmetro de partícula (D50) em volume cumulativo de 50% em uma distribuição de tamanho de partícula medida pela análise da distribuição de tamanho de partícula por difração a laser.

[0023] O teor do composto de alumínio na película de baixa reflexão é de 0,1 a 1,5% em massa, de preferência de 0,2 a 1,0% em massa, em termos de AI2O3.

[0024] O composto de alumínio contido no aglutinante é de preferência um complexo de quelato de alumínio. Quando 0 aglutinante contém 0 composto de alumínio em uma quantidade que está dentro da

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9/42 faixa acima em termos de AI2O3, a película de baixa reflexão pode ganhar um aumento na durabilidade, em particular na resistência a abrasão após 0 contato com a água durante um longo período do tempo, enquanto mantém boas propriedades ópticas.

[0025] Os complexos de quelato de alumínio que podem ser usados são aqueles que contêm pelo menos um ligando de polidentato selecionado do grupo que consiste em um ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-cetoéster e um ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-dicetona. Isto é, pelo menos um ligando de polidentato do complexo de quelato de alumínio usado pode ser um ligando que tem uma estrutura de β-cetoéster e/ou uma estrutura de βdicetona. Todos os ligandos de polidentato contidos no complexo de quelato de alumínio podem ter uma estrutura de β-cetoéster. Um complexo de quelato de alumínio que contém tal ligando de polidentato é altamente estável em um líquido de revestimento para a formação da película de baixa reflexão.

[0026] O complexo de quelato de alumínio pode conter um ou dois grupos alcóxi ligados diretamente ao átomo de alumínio e um ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-cetoéster ou uma estrutura de β-dicetona. Neste caso, 0 número de átomos de carbono no ou em cada grupo alcóxi é de preferência, por exemplo, 1 a 8. O termo 0 ou cada grupo alcóxi pode indicar, por exemplo, pelo menos um selecionado do grupo que consiste em um grupo i-propóxi, um grupo nbutóxi e um grupo sec-butóxi. É considerado que quando 0 complexo de quelato de alumínio contém um grupo alcóxi ligado diretamente ao átomo de alumínio, uma estrutura reticulada que tem 0 átomo de alumínio como um elemento central pode ser introduzida no aglutinante. [0027] Quando 0 complexo de quelato de alumínio contém um ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-cetoéster, é preferível que nesta estrutura de β-cetoéster 0 número de átomos de

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10/42 carbono no ácido carboxílico que constitui o éster seja de 4 a 6 e o número de átomos de carbono no álcool que constitui o éster seja de 1 a 3. É mais preferível que na estrutura de β-cetoéster o número de átomos de carbono no ácido carboxílico que constitui o éster seja de 4 e o número de átomos de carbono no álcool que constitui o éster seja de 2.

[0028] Os exemplos dos complexos de quelato de alumínio apropriados para o uso como o complexo de quelato de alumínio contido no aglutinante são aqueles que contêm o acetoacetato de etila, o acetonato de acetila, o acetoacetato de etila, o acetoacetato de isopropila, o 3-oxopentanoato de etila ou o 3-oxo-4-metilpentanoato de etila como um ligando de polidentato.

[0029] A película de baixa reflexão contém um componente orgânico em uma quantidade de 0,2 a 3% em massa, de preferência de 0,4 a 2,1% em massa. Este componente orgânico inclui pelo menos um selecionado do grupo que consiste em um β-cetoéster e um β-dicetona. Por exemplo, quando o composto de alumínio é um complexo de quelato de alumínio, o componente orgânico inclui um componente orgânico derivado de um ligando de complexo de quelato de alumínio. O componente orgânico pode conter um grupo alquila. O grupo alquila pode ser, por exemplo, um grupo metila ou grupo etila.

[0030] O teor das partículas de silica finas na película de baixa reflexão é de 55 a 70% em massa e de preferência de 60 a 70% em massa. O teor de silica do aglutinante é de 25 a 40% em massa e de preferência de 30 a 40% em massa.

[0031] A razão entre o teor das partículas de silica finas e o teor de silica do aglutinante (partículas de silica finas:sílica do aglutinante) na película de baixa reflexão está na faixa de 57:43 a 74:26, de preferência na faixa de 60:40 a 70:30, em termos de razão de massa. Quanto mais alta a razão do teor de partículas de silica finas, maior pode ser o efeito

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11/42 de redução da refletância da película de baixa reflexão da presente modalidade. Isso ocorre devido a um aumento no vácuo entre as próprias partículas de silica finas ou entre as partículas finas e o substrato transparente. Se, no entanto, a razão do teor de partículas de silica finas for excessivamente alta, a durabilidade da película de baixa reflexão da presente modalidade vai se deteriorar. Isso porque a razão do teor excessivamente alta de partículas de silica finas resulta em uma redução no efeito dessa silica no aglutinante, que serve para ligar as partículas de silica finas juntas ou ligar as partículas finas ao substrato transparente. Se a razão do teor de partículas de silica finas for excessivamente baixa, o vácuo mencionado acima será muito estreito, tendo por resultado que o efeito de redução da refletância da película de baixa reflexão da presente modalidade irá diminuir.

[0032] Como fonte de silica do aglutinante, um composto de silício hidrolisável ou um hidrolisato do composto de silício hidrolisável podem ser usados. Este composto de silício hidrolisável pode incluir um composto representado pela fórmula (I) abaixo. Na fórmula (I), X é pelo menos um selecionado do grupo que consiste em um grupo alcóxi, um grupo acetóxi, um grupo alquenilóxi, um amino grupo e um átomo de halogênio.

[0033] SiX₄ (I)

[0034] Tal como descrito acima, um composto de silício hidrolisável representado por um alcóxido de silício pode ser usado como a fonte de silica do aglutinante. Os exemplos de alcóxido de silício incluem o tetrametóxi-silano, o tetra-etóxi-silano, o tetra-isopropóxi-silano, o metiltrietóxi-silano, o metil-trimetóxi-silano, o etil-trietóxi-silano e o etiltrimetóxi-silano. Esses compostos de silício hidrolisáveis podem ser formados no aglutinante através da hidrólise e da policondensação por um processo chamado de sol-gel.

[0035] A hidrólise do composto de silício hidrolisável pode ser

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12/42 realizada de qualquer maneira apropriada. A hidrólise é realizada de preferência em uma solução que contém as partículas de silica finas descritas acima, porque isso promove uma reação de policondensação entre os grupos silanol presentes nas superfícies das partículas finas e os grupos silanol formados pela hidrólise do composto de silício hidrolisável tal como um alcóxido de silício, levando desse modo a um aumento na proporção de aglutinante que contribui para melhorar a resistência da ligação entre as partículas de silica finas. Especificamente, é preferível preparar um líquido de revestimento para formação da película de baixa reflexão sequencialmente, ao adicionar um catalisador de hidrólise e um alcóxido de silício a uma solução que contém as partículas de silica finas enquanto a solução é agitada.

[0036] Um ácido ou uma base podem ser usados como catalisador de hidrólise. Os ácidos, em particular os ácidos inorgânicos tais como o ácido clorídrico, o ácido nítrico, o ácido sulfúrico e o ácido fosfórico, são de preferência usados, e o ácido clorídrico é usado com mais preferência. Isso ocorre porque as condições ácidas permitem uma dispersão melhor das partículas de silica finas e resultam em estabilidade mais alta do líquido de revestimento do que as condições de base. É desejável usar como o catalisador de hidrólise um ácido que tenha um alto grau de dissociação eletrolítica em uma solução aquosa. Especificamente, é desejável usar um ácido que tenha uma constante de dissociação de ácido pKa (que se refere à primeira constante de dissociação de ácido quando o ácido é um ácido polibásico) de 2,5 ou menos.

[0037] Em seguida, será descrito o substrato transparente usado no substrato transparente revestido com película de baixa reflexão da presente modalidade.

[0038] Por exemplo, uma folha de vidro ou um substrato composto de um polímero orgânico são usados como substrato transparente. Os

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13/42 exemplos do substrato composto de um polímero orgânico incluem folhas e películas feitas de resina acrílica, de resina de policarbonato, de resina de poliestireno ou de resina de poliéster. Um exemplo em que uma folha de vidro é usada como o substrato transparente é aqui descrito.

[0039] A folha de vidro não é limitada a nenhuma em particular. Para permitir que a película de baixa reflexão provida na superfície principal da folha de vidro tenha uma superfície lisa, a folha de vidro é de preferência uma folha de vidro que tem uma superfície microscopicamente lisa. Por exemplo, a folha de vidro pode ser uma folha de vidro flutuante que tem uma superfície principal com uma lisura tal que a aspereza média aritmética é de, por exemplo, 1 nm ou menos, e de preferência de 0,5 nm ou menos. A aspereza média aritmética, tal como aqui descrito, corresponde àquela tal como especificado no documento JIS B 0601-1994.

[0040] A folha de vidro pode ser uma folha de vidro figurada com uma superfície que tem asperezas macroscópicas que são grandes o bastante para serem observadas a olho nu. As asperezas macroscópicas, tal como aqui descrito, referem-se às asperezas para as quais o espaçamento médio Sm é da ordem dos milímetros, tal como determinado pelo ajuste de um comprimento de avaliação na ordem dos centímetros no perfil de aspereza. O espaçamento médio Sm das asperezas na superfície da folha de vidro figurada é de preferência de 0,3 mm ou mais, com mais preferência de 0,4 mm ou mais, e ainda com mais preferência de 0,45 mm ou mais, e é de preferência de 2,5 mm ou menos, com mais preferência de 2,1 mm ou menos, ainda com mais preferência de 2,0 mm ou menos, e particularmente de preferência de

1,5 mm ou menos. O espaçamento médio Sm, tal como aqui descrito, refere-se a uma média dos comprimentos dos períodos de pico-vale no perfil de aspereza que são determinados com base nos pontos em que

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14/42 o perfil de aspereza cruza a linha média. Também é preferível que as asperezas da superfície da folha de vidro figurada tenham uma altura máxima Ry de 0,5 pm a 10 pm, em particular de 1 pm a 8 pm, bem como que tenham um espaçamento médio Sm dentro da faixa acima. O espaçamento médio Sm e a altura máxima Ry, tal como aqui descrito, correspondem aos especificados no documento JIS (Japanese Industrial Standards) B 0601-1994. Mesmo tal folha de vidro figurada pode ter uma aspereza média aritmética Ra de vários nanômetros ou menos, em particular de 1 nm ou menos, quando a folha de vidro figurada é examinada microscopicamente (tal como na medição de aspereza de superfície pela observação do microscópio de força atômica (AFM) em que o comprimento da avaliação no perfil de aspereza é de várias centenas de nanômetros). Desse modo, a folha de vidro figurada pode ser considerada uma folha de vidro que tem uma superfície microscopicamente lisa e que pode ser usada apropriadamente como o substrato transparente do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão da presente modalidade.

[0041] A folha de vidro usada pode ter uma composição similar àquela das folhas de vidro figuradas comuns ou das folhas de vidro arquitetônicas. A folha de vidro é de preferência tão livre quanto possível dos componentes de coloração. Na folha de vidro, o teor de óxido de ferro, que é um componente típico da coloração, e de preferência de 0,06% em massa ou menos, em particular de 0,02% em massa ou menos, em termos de FezOa.

[0042] A folha de vidro pode ser uma folha de vidro com uma película diferente da película de baixa reflexão e formada em uma superfície principal da folha de vidro oposta àquela em que a película de baixa reflexão será formada. Um exemplo de folhas de vidro apropriadas para serem providas com a película de baixa reflexão da

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15/42 presente modalidade é uma folha de vidro revestida com película condutora transparente. Esta folha de vidro revestida com película condutora transparente é, por exemplo, uma que tenha uma película condutora transparente provida na superfície principal de qualquer uma das folhas de vidro, tal como descrito acima, e em que uma ou mais camadas inferiores e uma camada condutora transparente que contém, por exemplo, óxido de estanho dopado com flúor como componente principal, são empilhadas em ordem na superfície principal da folha de vidro.

[0043] O substrato transparente revestido com película de baixa reflexão descrito acima da presente modalidade pode exibir um ganho de transmitância de 2,5% ou mais, de preferência de 2,6% ou mais, ou mesmo 2,7% ou mais, e também pode exibir grande durabilidade. O ganho de transmitância é relacionado à superfície do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão onde a película de baixa reflexão é formada, e refere-se a um aumento da transmitância média do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão em uma faixa de comprimentos de onda de 380 a 850 nm em relação à transmitância média do substrato transparente não revestido com a película de baixa reflexão na faixa de comprimentos de onda.

[0044] O substrato transparente revestido com película de baixa reflexão da presente modalidade pode ser projetado de modo que, quando a refletância média da superfície onde a película de baixa reflexão é formada, é determinada em uma faixa de comprimentos de onda de 360 a 740 nm na presença e na ausência da película de baixa reflexão, a diferença calculada pela subtração da refletância média da superfície na presença da película de baixa reflexão a partir da refletância média da superfície na ausência da película de baixa reflexão (efeito de redução da refletância) é de 3,0% ou mais e de preferência de 3,2% ou mais. O substrato transparente revestido com película de

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16/42 baixa reflexão da presente modalidade pode ter propriedades de reflexão excelentes.

[0045] O substrato transparente revestido com película de baixa reflexão da presente modalidade também tem uma excelente resistência a abrasão. Em particular, o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão da presente modalidade exibe uma resistência a abrasão excelente após o contato com a água durante um longo período de tempo. Por exemplo, quando o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão da presente modalidade é submetido a um teste de fricção com tecido seco após imersão em água, em que o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão é imerso em água por 50 horas e subsequentemente a superfície formada pela película de baixa reflexão é friccionada com um pano seco, a diferença na refletância média da superfície formada pela película de baixa reflexão nos comprimentos de onda de 360 a 740 nm antes e depois do teste pode ser, por exemplo, de 1% ou menos ou mesmo de 0,5% ou menos.

[0046] O substrato transparente revestido com película de baixa reflexão da presente modalidade pode ser formado pela aplicação de um líquido de revestimento à superfície principal de um substrato transparente, tal como uma folha de vidro, para formar uma película úmida, e pela secagem e endurecimento da película úmida. Isto é, a película de baixa reflexão pode ser formada pela aplicação de um líquido de revestimento para formar a película de baixa reflexão em um substrato transparente, seguido por uma etapa de aquecimento da secagem e endurecimento da película úmida do líquido de revestimento. [0047] Em seguida, será descrito o líquido de revestimento para formação da película de baixa reflexão do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão da presente modalidade.

[0048] O líquido de revestimento da presente modalidade inclui:

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17/42 partículas de silica finas que são sólidas e esféricas e que têm um diâmetro de partícula médio de 80 a 150 nm; um composto de silício hidrolisável; um complexo de quelato de alumínio; e um solvente.

[0049] O composto de silício hidrolisável no líquido de revestimento inclui um composto representado pela seguinte fórmula (I): S1X4, onde X é pelo menos um selecionado do grupo que consiste em um grupo alcóxi, um grupo acetóxi, um grupo alquenilóxi, um amino grupo e um átomo de halogênio.

[0050] Os exemplos do composto de silício hidrolisável que pode ser usado incluem alcóxidos de silício, tais como: tetra-alcóxi-silanos, tais como 0 tetra-metóxi-silano, 0 tetra-etóxi-silano e 0 tetra-isopropóxisilano; metil-trietóxi-silano; metil-trimetóxi-silano; etil-trietóxi-silano; e etil-trimetóxi-silano.

[0051] O complexo de quelato de alumínio no líquido de revestimento contém pelo menos um ligando de polidentato selecionado do grupo que consiste em um ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-cetoéster e um ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-dicetona. O complexo de quelato de alumínio também pode conter um ou dois grupos alcóxi ligados diretamente ao átomo de alumínio. Neste caso, 0 número de átomos de carbono no ou em cada grupo alcóxi é de preferência, por exemplo, de 1 a 8. O termo 0 ou cada grupo alcóxi pode indicar pelo menos um selecionado do grupo que consiste em um grupo i-propóxi, um grupo n-butóxi e um grupo secbutóxi. É considerado que quando 0 complexo de quelato de alumínio contém um grupo alcóxi ligado diretamente ao átomo de alumínio, uma estrutura reticulada que tem 0 átomo de alumínio como elemento central pode ser introduzido no aglutinante.

[0052] Quando 0 complexo de quelato de alumínio no líquido de revestimento contém um ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-cetoéster, é preferível que nesta estrutura de β-cetoéster 0 número

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18/42 de átomos de carbono no ácido carboxílico que constitui o éster seja de 4 a 6 e o número de átomos de carbono no álcool que constitui o éster seja de 1 a 3. É mais preferível que na estrutura de β-cetoéster, o número de átomos de carbono no ácido carboxílico que constitui o éster seja de 4 e o número de átomos de carbono no álcool que constitui o éster seja de 2.

[0053] Os exemplos dos complexos de quelato de alumínio apropriados para uso como o complexo de quelato de alumínio no líquido de revestimento são aqueles que contêm o acetoacetato de etila, o acetonato de acetila, o acetoacetato de etila, o acetoacetato de isopropila, o 3-oxopentanoato de etila ou o 3-oxo-4-metilpentanoato de etila como um ligando de polidentato.

[0054] O solvente no líquido de revestimento inclui um solvente orgânico miscível com água. Este solvente orgânico inclui um solvente orgânico que tem um ponto de ebulição de 70°C ou mais alto e mais baixo do que 180°C. Os exemplos do solvente orgânico incluem o etanol (ponto de ebulição: 78°C), o 2-propanol (ponto de ebulição: 83°C), o 1metóxi-2-propanol (ponto de ebulição: 121 °C), a acetilacetona (ponto de ebulição: 141 °C), o acetato de metoxipropila (ponto de ebulição: 146°C), o 3-metóxi-1 -butanol (ponto de ebulição: 160°C), o álcool de diacetona (ponto de ebulição: 168°C) e o 3-metóxi-3-metil-1 -butanol (ponto de ebulição: 174°C). Em uma modalidade preferida, o solvente orgânico consiste em um solvente orgânico que tem um ponto de ebulição de 70°C ou mais alto e mais baixo do que 180°C. Em outra modalidade preferida, o solvente orgânico inclui um solvente orgânico que tem um ponto de ebulição de 70°C ou mais alto e mais baixo do que 180°C como componente principal e também inclui um outro solvente orgânico que tem um ponto de ebulição mais alto. Um solvente orgânico que tem um ponto de ebulição de 180 a 250°C pode ser usado como solvente orgânico de ponto de ebulição mais alto. Neste caso, a taxa de secagem

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19/42 após a aplicação pode ser desacelerada para facilitar o nivelamento da película do líquido de revestimento, de modo que os efeitos, tais como a redução da aplicação desigual e a obtenção de uma aparência uniforme, podem ser esperados. É desejável que a quantidade de solvente orgânico de ponto de ebulição mais alto contido no líquido de revestimento seja de 5% em massa ou menos com respeito à quantidade total do líquido de revestimento. Os exemplos de solvente orgânico de ponto de ebulição mais alto incluem o propileno glicol (ponto de ebulição: 187°C), o éter monometílico de dietileno glicol (ponto de ebulição: 193°C), o hexileno glicol (ponto de ebulição: 198°C) e o dietileno glicol (ponto de ebulição: 244°C).

[0055] No líquido de revestimento da presente modalidade, a razão entre a massa das partículas de silica finas, tal como calculada em termos de S1O2, e a massa de um componente de óxido de silício contido no composto de silício hidrolisável, tal como calculado em termos de S1O2 (partículas de silica finas:composto de silício hidrolisável), está na faixa de 57:43 a 74:26 e de preferência na faixa de 60:40 a 70:30.

[0056] No líquido de revestimento da presente modalidade, quando a soma da massa das partículas de silica finas, tal como calculada em termos de S1O2, e a massa do componente de óxido de silício contido no composto de silício hidrolisável, tal como calculado em termos de S1O2, é definida como 100 partes em massa, a quantidade do complexo de quelato de alumínio está na faixa de 0,6 a 8 partes em massa e de preferência na faixa de 1 a 5 partes em massa.

[0057] Além disso, quando uma película de baixa reflexão que tem uma espessura de 80 a 800 nm é formada em um substrato transparente ao usar 0 líquido de revestimento da presente modalidade, 0 ganho de transmitância pode ser de 2,5% ou mais, e 0 ganho de transmitância é definido como um aumento da transmitância média do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão em uma

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20/42 faixa de comprimentos de onda de 380 a 850 nm em relação à transmitância média do substrato transparente não revestido com a película de baixa reflexão na faixa de comprimentos de onda.

[0058] O líquido de revestimento da presente modalidade também pode conter um catalisador de hidrólise para o composto de silício hidrolisável. Um ácido ou uma base podem ser usados como o catalisador de hidrólise. Do ponto de vista da estabilidade do líquido de revestimento, é desejável usar um ácido, em particular um ácido inorgânico, mais particularmente o ácido clorídrico. Isso ocorre porque as condições ácidas permitem uma melhor dispersão das partículas de silica finas e conferem maior estabilidade ao líquido de revestimento do que as condições de base. É desejável usar como catalisador de hidrólise um ácido que tenha um alto grau de dissociação eletrolítica em uma solução aquosa. Especificamente, é desejável usar um ácido que tenha uma constante de dissociação de ácido pKa (que se refere à primeira constante de dissociação de ácido quando o ácido é um ácido polibásico) de 2,5 ou menos.

[0059] O método usado para aplicar o líquido de revestimento à superfície principal de um substrato transparente pode ser qualquer método conhecido, tal como o revestimento por rotação, o revestimento por rolo, o revestimento por barra, o revestimento por imersão ou o revestimento por aspersão. O revestimento por aspersão é superior em termos de eficiência de produção em massa. O revestimento por rolo e o revestimento por barra são superiores em termos de uniformidade da aparência da película resultante, bem como em termos de eficiência de produção em massa.

[0060] É preferível que, na etapa de aquecimento da secagem e endurecimento da película úmida do líquido de revestimento, a temperatura máxima experimentada pela superfície do substrato transparente seja de 350°C ou mais baixa, e que o período de tempo

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21/42 durante o qual a superfície do substrato transparente tenha uma temperatura de 130°C mais alta seja de 5 minutos ou menos. O aquecimento na etapa de aquecimento é de preferência tal que o período de tempo durante o qual a superfície do substrato transparente tenha uma temperatura de 100°C ou mais alta é de 30 segundos ou mais.

[0061] Com base na descrição anterior, o método de produção do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão da presente modalidade é, por exemplo, um método que inclui: uma etapa de aplicação para aplicar um líquido de revestimento a fim de formar a película de baixa reflexão no substrato transparente; e uma etapa de aquecimento para aquecer o substrato transparente com o líquido de revestimento aplicado, em que o líquido de revestimento é o líquido de revestimento descrito acima da presente modalidade, e, na etapa de aquecimento, a temperatura máxima experimentada pela superfície do substrato transparente é de 350°C ou mais baixa, e o período de tempo durante o qual a superfície do substrato transparente tem uma temperatura de 130°C ou mais alta é de 5 minutos ou menos.

[0062] O substrato transparente revestido com película de baixa reflexão da presente modalidade pode ser empregado como uma folha de vidro para uso em um dispositivo de conversão fotoelétrica. Isto é, o dispositivo de conversão fotoelétrica de acordo com uma modalidade da presente invenção inclui o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão da presente modalidade. Um exemplo do dispositivo de conversão fotoelétrica é uma célula solar. No dispositivo de conversão fotoelétrica, o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão é disposto de uma maneira tal que a película de baixa reflexão está no lado da incidência de luz. Para componentes que não sejam a folha de vidro usada no lado da incidência de luz do dispositivo de conversão fotoelétrica, a saber, o substrato transparente revestido

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22/42 com película de baixa reflexão da presente modalidade, os componentes dos dispositivos de conversão fotoelétrica conhecidos podem ser usados tal como apropriado.

EXEMPLOS

[0063] Em seguida, a presente invenção será descrita em mais detalhes com Exemplos. Para os Exemplos e os Exemplos Comparativos, o método de medição da espessura de cada uma das películas de baixa reflexão formadas em um substrato transparente (uma folha de vidro nos Exemplos e nos Exemplos Comparativos) e os métodos de avaliação das várias propriedades serão descritos em primeiro lugar.

ESPESSURA DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0064] A espessura de cada película de baixa reflexão foi determinada ao usar uma fotografia obtida com um microscópio eletrônico de varredura de emissão de campo (FE-SEM). A película de baixa reflexão foi observada com um microscópio eletrônico de varredura de emissão de campo (S-4500, fabricado pela Hitachi, Ltd.). A espessura da película de baixa reflexão foi medida em cinco pontos em uma fotografia FE-SEM obtida de cima em um ângulo de 30°, de uma seção transversal da película de baixa reflexão, e a média dos valores medidos foi calculada como a espessura da película de baixa reflexão.

PROPRIEDADES DA REFLEXÃO

[0065] Nos Exemplos e nos Exemplos Comparativos, tal como descritos abaixo, uma folha de vidro revestida com película condutora transparente foi usada como o substrato transparente de cada substrato transparente revestido com película de baixa reflexão, e a película de baixa reflexão foi formada na superfície da folha de vidro em que a película condutora transparente não foi provida. Na medição da refletância, para medir a refletância da película de baixa reflexão

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23/42 sozinha, a película condutora transparente da folha de vidro foi removida por jato de areia, e uma pintura preta foi aplicada na superfície que recebeu o jato de areia. A curva de refletância (espectro de reflexão) da superfície da folha de vidro em que a película de baixa reflexão foi formada foi medida ao usar um espectrocolorímetro (CM-2600d, fabricado pela Konica Minolta, Inc.). Do mesmo modo, a curva de refletância foi obtida da mesma maneira para a refletância da folha de vidro que ainda não tinha sido revestida com a película de baixa reflexão. Cada uma dentre a refletância da folha de vidro antes da formação da película de baixa reflexão e a refletância da folha de vidro após a formação da película de baixa reflexão teve a sua média calculada em relação à faixa de comprimentos de onda de 360 a 740 nm para determinar a refletância média antes da formação da película de baixa reflexão e a refletância média após a formação da película de baixa reflexão. A refletância média após a formação da película de baixa reflexão foi subtraída da refletância média antes da formação da película de baixa reflexão para determinar a diferença na refletância média, e o efeito de redução da refletância foi avaliado.

PROPRIEDADES DE TRANSMISSÃO

[0066] A curva de transmitância (espectro de transmissão) do substrato transparente (a folha de vidro nos Exemplos e nos Exemplos Comparativos) foi medida ao usar um espectrofotômetro (U-4100, fabricado pela Hitachi High-Tech Science Corporation) antes de depois da formação da película de baixa reflexão. A transmitância média foi calculada pelo cálculo da média da transmitância medida em relação à faixa de comprimentos de onda de 380 a 850 nm. O aumento da transmitância média da folha de vidro revestida com a película de baixa reflexão em relação à transmitância média da folha de vidro não revestida com a película de baixa reflexão foi determinado como um ganho de transmitância.

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24/42

RESISTÊNCIA A ABRASÀO

[0067] Para cada substrato transparente revestido com película de baixa reflexão, a superfície formada pela película de baixa reflexão foi submetida a 70 ou 250 ciclos de abrasão com um abrasivo, CS-10F, a uma carga de 4 N ao usar um verificador de abrasão alternante (fabricado pela Taber Industries). Para a porção que recebeu a abrasão submetida a 70 ciclos de abrasão, a curva de refletância (espectro de reflexão) foi medida da mesma maneira que no teste das propriedades de reflexão descrito acima, e a média da refletância visível na faixa de comprimentos de onda de 360 a 740 nm foi determinada. A diferença entre a média da refletância visível tal como determinada após 70 ciclos de abrasão e a média da refletância visível da folha de vidro tal como determinada na faixa de comprimentos de onda de 360 a 740 nm antes da formação da película de baixa reflexão foi calculada, e o efeito da redução de refletância após 70 ciclos de abrasão foi avaliado. Para a porção que recebeu a abrasão submetida a 250 ciclos de abrasão, a mudança na refletância visível da porção antes e depois da abrasão foi medida ao usar um espectrocolorímetro (CM-2600d, fabricado pela Konica Minolta, Inc.). A mudança na refletância visível foi determinada com base nas médias da refletância visível na faixa de comprimentos de onda de 360 a 740 nm.

RESISTÊNCIA A ABRASÀO APÓS A IMERSÃO EM ÁGUA

[0068] Cada substrato transparente revestido com película de baixa reflexão foi imerso em água a 80°C por 50 horas. Depois disso, o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão foi seco, e sua superfície formada pela película de baixa reflexão recebeu a abrasão ao usar um verificador de abrasão alternante (fabricado pela Taber Industries). A abrasão foi realizada ao colocar um pano seco (tecido não trançado) em contato com a película de baixa reflexão e alternando o pano seco quatro vezes com uma carga de 4 N aplicada à

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25/42 película de baixa reflexão. A refletância média da superfície formada pela película de baixa reflexão foi medida após o teste de abrasão, e a diferença da refletância média da superfície formada pela película de baixa reflexão tal como medido antes do teste de abrasão foi calculada. As refletâncias médias foram as médias da refletância na faixa de comprimentos de onda de 360 a 740 nm, e o método de medição das refletâncias médias foi o mesmo que aquele descrito em propriedades de reflexão acima.

EXEMPLO 1

PREPARAÇÃO DO LÍQUIDO DE REVESTIMENTO

[0069] Uma quantidade de 28,3 partes em massa da dispersão de partículas de silica finas (Quartron PI-7, fabricadas por Fuso Chemical Co., Ltd., contendo partículas primárias mais ou menos esféricas com um diâmetro de partícula primário médio de 125 nm e com uma concentração de sólidos de 23% em massa), 58,6 partes em massa de 1-metóxi-2-propanol (solvente) e 1 parte em massa de ácido clorídrico 1N (catalisador de hidrólise) foram misturadas por agitação. Enquanto a mistura era agitada, 12,1 partes em massa de tetra-etóxi-silano (ortosilicato de etila, fabricado pela Tama Chemicals Co., Ltd.) foram adicionadas. A agitação continuou por 8 horas com a temperatura mantida a 40°C, e o tetra-etóxi-silano foi assim hidrolisado para obter uma solução de hidrolisato.

[0070] Na solução de hidrolisato, a razão entre a massa das partículas de silica finas, tal como calculada em termos de S1O2, e a massa do componente de óxido de silício contido no aglutinante, tal como calculada em termos de S1O2, era de 65:35, e a concentração de sólidos, tal como calculada em termos de S1O2, era de 10% em massa. [0071] Uma quantidade de 85,00 g da solução de hidrolisato, 14,15 g de 1-metóxi-2-propanol (solvente) e 0,85 g da solução de complexo de quelato de alumínio (uma solução preparada pela dissolução de

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26/42 dibutóxido de (etil-acetoacetato)alumínio, DX-9740 fabricado pela Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., em 1-metóxi-2-propanol (solvente) a uma concentração de 10% em massa) foi misturada por agitação para obter o líquido de revestimento do Exemplo 1. Nos sólidos do líquido de revestimento, o teor das partículas de silica finas era de 64,6% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do componente de óxido de silício contido no aglutinante era de 34,8% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do composto de alumínio era de 0,17% em massa, tal como calculado em termos de AI2O3, e 0 teor do componente orgânico (0 componente orgânico derivado de um ligando de complexo de quelato de alumínio) era de 0,42% em massa. O teor de cada componente nos sólidos do líquido de revestimento corresponde ao teor do componente na película de baixa reflexão a ser formada. O mesmo se aplica aos Exemplos e aos Exemplos Comparativos descritos a seguir. Para este líquido de revestimento, quando a quantidade de um óxido de silício (derivado das partículas de silica finas e tetra-alcóxi-silano), tal como calculado em termos de S1O2, foi definida como 100 partes em massa, a quantidade do composto de alumínio como complexo de quelato de alumínio era de 1 parte em massa.

FORMAÇÃO DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0072] No exemplo 1, uma película de baixa reflexão foi formada na superfície principal de uma folha de vidro revestida com película condutora transparente para obter um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão. Esta folha de vidro era uma folha de vidro revestida com película condutora transparente fabricada pela Nippon Sheet Glass Co. Ltd. com uma espessura de 3,2 mm. Esta folha de vidro tinha uma composição de silicato de soda-cal típica e tinha uma película condutora transparente formada por CVD on-line em uma superfície principal e incluía uma camada condutora transparente. A

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27/42 folha de vidro foi cortada em uma peça de 200 mm x 300 mm, que foi imersa em uma solução alcalina (LBC-1, um líquido de limpeza alcalino produzido pela LEYBOLD Co., Ltd.) e lavada com a ajuda de um líquido de limpeza ultrassônico. A peça de folha de vidro foi enxaguada com água deionizada e então seca a uma temperatura comum para preparar a folha de vidro para a formação da película de baixa reflexão. As propriedades de transmissão da folha de vidro não provida com a película de baixa reflexão foram avaliadas tal como descrito acima, e a transmitância média foi determinada como sendo de 83,2%.

[0073] No Exemplo 1, um revestidor por rolo foi usado para aplicar o líquido de revestimento do Exemplo 1 a essa superfície principal da folha de vidro acima que não foi provida com a película condutora transparente. A aplicação foi feita de tal maneira que a película do líquido aplicado tinha uma espessura de 1 a 5 pm. Em seguida, o líquido de revestimento aplicado à folha de vidro foi seco e endurecido por ar quente. Esta secagem com ar quente foi realizada ao usar um secador de ar quente do tipo de correia transportadora e passando a folha de vidro por um bocal de injeção de ar quente uma vez, com a temperatura do ar quente ajustada a 350°C, e a distância entre o bocal e folha de vidro foi ajustada em 25 mm, e a velocidade da correia ajustada em 0,3 m/min. Na secagem, o período de tempo durante o qual a folha de vidro com o líquido de revestimento aplicado ficou em contato com o ar quente foi de 80 segundos, e o período de tempo durante o qual a superfície de vidro com o líquido de revestimento aplicado teve uma temperatura de 130°C ou mais alta foi de 40 segundos, e a temperatura máxima alcançada pela superfície de vidro foi de 150°C. Após a secagem e o endurecimento, a folha de vidro foi deixada para resfriar a temperatura ambiente para formar uma película de baixa reflexão na folha de vidro.

[0074] Para o substrato transparente revestido com película de

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28/42 baixa reflexão obtido desse modo, as várias propriedades descritas acima foram avaliadas. Os resultados são mostrados na Tabela 1. EXEMPLO 2

PREPARAÇÃO DO LÍQUIDO DE REVESTIMENTO

[0075] Um líquido de revestimento foi preparado da mesma maneira que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de que a quantidade da solução de hidrolisato foi de 85,00 g, a quantidade de 1-metóxi-2propanol (solvente) foi de 13,30 g e a quantidade de complexo de quelato de alumínio da solução foi de 1,70 g. Nos sólidos deste líquido de revestimento, o teor das partículas de silica finas foi de 64,2% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do componente de óxido de silício contido no aglutinante foi de 34,6% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do composto de alumínio foi de 0,33% em massa, tal como calculado em termos de AI2O3, e 0 teor do componente orgânico (componente orgânico derivado de um ligando do complexo de quelato de alumínio) foi de 0,84% em massa. Para este líquido de revestimento, quando a quantidade de óxido de silício (derivado das partículas de silica finas e do tetra-alcóxi-silano), tal como calculado em termos de S1O2, foi definida como 100 partes em massa, a quantidade do composto de alumínio como 0 complexo de quelato de alumínio foi de 2 partes em massa.

FORMAÇÃO DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0076] No Exemplo 2, uma película de baixa reflexão foi formada da mesma maneira que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de usar 0 líquido de revestimento acima do Exemplo 2, e as várias propriedades descritas acima foram avaliadas. Os resultados são mostrados na Tabela 1.

EXEMPLO 3

PREPARAÇÃO DO LÍQUIDO DE REVESTIMENTO

[0077] Um líquido de revestimento foi preparado da mesma maneira

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29/42 que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de que a quantidade da solução de hidrolisato foi de 85,00 g, a quantidade de 1-metóxi-2propanol (solvente) foi de 12,45 g e a quantidade de solução de complexo de quelato de alumínio foi de 2,55 g. Nos sólidos deste líquido de revestimento, o teor das partículas de silica finas foi de 63,9% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do componente de óxido de silício contido no aglutinante foi de 34,4% em massa, tal como calculado em termos de SiO2, 0 teor do composto de alumínio foi de 0,50% em massa, tal como calculado em termos do AI2O3, e 0 teor do componente orgânico (componente orgânico derivado de um ligando do complexo de quelato de alumínio) foi de 1,26% em massa. Para este líquido de revestimento, quando a quantidade de um óxido de silício (derivado das partículas de silica finas e do tetra-alcóxi-silano), tal como calculado em termos de S1O2, foi definida como 100 partes em massa, a quantidade do composto de alumínio como 0 complexo de quelato de alumínio foi de 3 partes em massa.

FORMAÇÃO DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0078] No Exemplo 3, uma película de baixa reflexão foi formada da mesma maneira que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de usar 0 líquido de revestimento acima do Exemplo 3, e as várias propriedades descritas acima foram avaliadas. Os resultados são mostrados na Tabela 1.

EXEMPLO 4

PREPARAÇÃO DO LÍQUIDO DE REVESTIMENTO

[0079] Um líquido de revestimento foi preparado da mesma maneira que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de que a quantidade da solução de hidrolisato foi de 85,00 g, a quantidade de 1-metóxi-2propanol (solvente) foi de 10,75 g e a quantidade da solução de complexo de quelato de alumínio foi de 4,25 g. Nos sólidos deste líquido de revestimento, 0 teor das partículas de silica finas foi de 63,1% em

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30/42 massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do componente de óxido de silício contido no aglutinante foi de 34,0% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do composto de alumínio foi de 0,82% em massa, tal como calculado em termos de AI2O3, e 0 teor do componente orgânico (componente orgânico derivado de um ligando de complexo de quelato de alumínio) foi de 2,07% em massa. Para este líquido de revestimento, quando a quantidade de um óxido de silício (derivado de partículas de silica finas e do tetra-alcóxi-silano), tal como calculado em termos de S1O2, foi definida como 100 partes em massa, a quantidade do composto de alumínio como 0 complexo de quelato de alumínio foi de 5 partes em massa.

FORMAÇÃO DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0080] No Exemplo 4, uma película de baixa reflexão foi formada da mesma maneira que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de usar 0 líquido de revestimento acima do Exemplo 4, e as várias propriedades descritas acima foram avaliadas. Os resultados são mostrados na Tabela 1.

EXEMPLO 5

PREPARAÇÃO DO LÍQUIDO DE REVESTIMENTO

[0081] No Exemplo 5, uma solução preparada pela dissolução de dibutóxido de (etil-acetoacetato)alumínio (fabricada pela Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) em 1-metóxi-2-propanol (solvente) a uma concentração de 10% em massa foi usada como a solução de complexo de quelato de alumínio. Uma quantidade de 85,00 g da solução de hidrolisato, de 13,30 g de 1-metóxi-2-propanol (solvente) e de 1.700 g da solução de complexo de quelato de alumínio foi misturada por agitação. À exceção disso, um líquido de revestimento foi preparado da mesma maneira que aquela no Exemplo 1. Nos sólidos deste líquido de revestimento, 0 teor das partículas de silica finas foi de 64,2% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do componente

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31/42 de óxido de silício contido no aglutinante foi de 34,5% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do composto de alumínio foi de 0,37% em massa, tal como calculado em termos de AI2O3, e 0 teor do componente orgânico (componente orgânico derivado de um ligando de complexo de quelato de alumínio) foi de 0,93% em massa. Para este líquido de revestimento, quando a quantidade de um óxido de silício (derivado das partículas de silica finas e do tetra-alcóxi-silano), tal como calculado em termos de S1O2 foi definida como 100 partes em massa, a quantidade do composto de alumínio como 0 complexo de quelato de alumínio foi de 2 partes em massa.

FORMAÇÃO DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0082] No Exemplo 5, uma película de baixa reflexão foi formada da mesma maneira que 0 Exemplo 1, exceto pelo fato de usar 0 líquido de revestimento acima do Exemplo 5, e as várias propriedades descritas acima foram avaliadas. Os resultados são mostrados na Tabela 1. EXEMPLO COMPARATIVO 1

PREPARAÇÃO DO LÍQUIDO DE REVESTIMENTO

[0083] Uma solução de cloreto de alumínio aquosa (uma solução que tem uma concentração de AICI3 de 47,6% em peso, que foi preparada pela dissolução de cloreto de alumínio hexa-hidratado de grau de reagente fabricada pela Sigma-Aldrich Co., LLC, em água deionizada) foi usada em vez de qualquer solução de complexo de quelato de alumínio. Uma quantidade de 85,00 g da solução de hidrolisato, de 12,99 g de 1-metóxi-2-propanol (solvente) e de 2,01 g da solução aquosa de cloreto de alumínio foi misturada por agitação. À exceção disso, um líquido de revestimento foi preparado da mesma maneira que aquela no Exemplo 1. Nos sólidos deste líquido de revestimento, 0 teor das partículas de silica finas foi de 61,9% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do componente de óxido de silício contido no aglutinante foi de 33,3% em massa, tal

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32/42 como calculado em termos de S1O2, 0 teor do composto de alumínio foi de 4,7% em massa, tal como calculado em termos de AI2O3, e 0 teor de qualquer componente orgânico foi de 0% em massa. Para este líquido de revestimento, quando a quantidade de um óxido de silício (derivado das partículas de silica finas e do tetra-alcóxi-silano), tal como calculado em termos de S1O2, foi definida como 100 partes em massa, a quantidade do composto de alumínio como 0 cloreto de alumínio foi de

6,5 partes em massa.

FORMAÇÃO DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0084] No Exemplo Comparativo 1, uma película de baixa reflexão foi formada da mesma maneira que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de usar 0 líquido de revestimento acima do Exemplo Comparativo 1, e as várias propriedades descritas acima foram avaliadas. Deve ser observado que no teste para avaliação da resistência a abrasão após a imersão em água, 0 tempo de imersão do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão em água foi diminuído para 20 horas. Os resultados são mostrados na Tabela 2.

EXEMPLO COMPARATIVO 2

PREPARAÇÃO DO LÍQUIDO DE REVESTIMENTO

[0085] No Exemplo Comparativo 2, um líquido de revestimento que não contém nenhum composto de alumínio foi preparado. Especificamente, um líquido de revestimento foi preparado da mesma maneira que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de misturar somente 85,00 g da solução de hidrolisato e 15,00 g de 1-metóxi-2-propanol (solvente) por agitação sem adicionar a solução de complexo de quelato de alumínio. Nos sólidos deste líquido de revestimento, 0 teor das partículas de silica finas foi de 65,0% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do componente de óxido de silício contido no aglutinante foi de 35,0% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor de qualquer composto de alumínio foi de 0% em massa e 0

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33/42 teor de qualquer componente orgânico foi de 0% em massa. FORMAÇÃO DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0086] No Exemplo Comparativo 2, uma película de baixa reflexão foi formada da mesma maneira que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de usar o líquido de revestimento acima do Exemplo Comparativo 2, e as várias propriedades descritas acima foram avaliadas. Os resultados são mostrados na Tabela 2.

EXEMPLO COMPARATIVO 3

PREPARAÇÃO DO LÍQUIDO DE REVESTIMENTO

[0087] Um líquido de revestimento foi preparado da mesma maneira que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de que a quantidade da solução de hidrolisato foi de 85,00 g, a quantidade de 1-metóxi-2propanol (solvente) foi de 14,575 g e a quantidade de solução de complexo de quelato de alumínio foi de 0,425 g. Nos sólidos deste líquido de revestimento, o teor das partículas de silica finas foi de 64,8% em massa, tal como calculado em termos de S1O2,0 teor do componente de óxido de silício contido no aglutinante foi de 34,9% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do composto de alumínio foi de 0,084% em massa, tal como calculado em termos de AI2O3, e 0 teor do componente orgânico (componente orgânico derivado de um ligando de complexo de quelato de alumínio) foi de 0,21 % em massa. Para este líquido de revestimento, quando a quantidade de um óxido de silício (derivado das partículas de silica finas e do tetra-alcóxi-silano), tal como calculado em termos de S1O2, foi definida como 100 partes em massa, a quantidade do composto de alumínio como 0 complexo de quelato de alumínio foi de 0,5 partes em massa.

FORMAÇÃO DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0088] No Exemplo Comparativo 3, uma película de baixa reflexão foi formada da mesma maneira que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de usar 0 líquido de revestimento acima do Exemplo Comparativo

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3, e as várias propriedades descritas acima foram avaliadas. Os resultados são mostrados na Tabela 2.

EXEMPLO COMPARATIVO 4

PREPARAÇÃO DO LÍQUIDO DE REVESTIMENTO

[0089] No Exemplo Comparativo 4, uma solução preparada pela dissolução de tris(acetonato de acetila) de alumínio (fabricado pela Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) em 1-metóxi-2-propanol (solvente) a uma concentração de 10% em massa foi usada como a solução de complexo de quelato de alumínio. Uma quantidade de 85,00 g da solução de hidrolisato, de 13,30 g de 1-metóxi-2-propanol (solvente) e de 1,70 g da solução de complexo de quelato de alumínio foi misturada por agitação. À exceção disso, um líquido de revestimento foi preparado da mesma maneira que aquela no Exemplo 1. Nos sólidos deste líquido de revestimento, o teor das partículas de silica finas foi de 63,6% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do componente de óxido de silício contido no aglutinante foi de 34,3% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do composto de alumínio foi de 0,31% em massa, tal como calculado em termos de AI2O3, e 0 teor do componente orgânico (componente orgânico derivado de um ligando do complexo de quelato de alumínio) foi de 1,80% em massa. Para este líquido de revestimento, quando a quantidade de um óxido de silício (derivado das partículas de silica finas e do tetra-alcóxisilano), tal como calculado em termos de S1O2, foi definida como 100 partes em massa, a quantidade do composto de alumínio como 0 complexo de quelato de alumínio foi de 2 partes em massa.

FORMAÇÃO DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0090] No Exemplo Comparativo 4, 0 complexo de quelato de alumínio não foi dissolvido no líquido de revestimento, e a formação da película ao usar 0 líquido de revestimento foi impossível.

EXEMPLO COMPARATIVO 5

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PREPARAÇÃO DO LÍQUIDO DE REVESTIMENTO

[0091] No Exemplo Comparativo 5, uma solução preparada pela dissolução de tris(etil-acetoacetato) de alumínio (fabricado pela Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) em 1-metóxi-2-propanol (solvente) a uma concentração de 10% em massa foi usada como a solução de complexo de quelato alumínio. Uma quantidade de 85,00 g da solução de hidrolisato, de 13,30 g de 1 -metóxi-2-propanol (solvente) e de 1,70 g da solução de complexo de quelato de alumínio foi misturada por agitação. À exceção disso, um líquido de revestimento foi preparado da mesma maneira que aquela no Exemplo 1. Nos sólidos deste líquido de revestimento, o teor das partículas de silica finas foi de 63,7% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do componente de óxido de silício contido no aglutinante foi de 34,3% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do composto de alumínio foi de 0,24% em massa, tal como calculado em termos de AI2O3, e 0 teor do componente orgânico (componente orgânico derivado de um ligando do complexo de quelato de alumínio) foi de 1,83% em massa. Para este líquido de revestimento, quando a quantidade de um óxido de silício (derivado das partículas de silica finas e do tetra-alcóxi-silano), tal como calculado em termos de S1O2, foi definida como 100 partes em massa, a quantidade do composto de alumínio como 0 complexo de quelato de alumínio foi de 2 partes em massa.

FORMAÇÃO DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0092] No Exemplo Comparativo 5, 0 complexo de quelato de alumínio não foi dissolvido no líquido de revestimento, e a formação da película ao usar 0 líquido de revestimento foi impossível.

EXEMPLO COMPARATIVO 6

PREPARAÇÃO DO LÍQUIDO DE REVESTIMENTO

[0093] No Exemplo Comparativo 6, uma solução preparada pela dissolução do tri-sec-butóxido de alumínio (fabricado pela Tokyo

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Chemical Industry Co., Ltd.) em 1-metóxi-2-propanol (solvente) a uma concentração de 10% em massa foi usada em vez de qualquer solução de complexo de quelato de alumínio. Uma quantidade de 85,00 g da solução de hidrolisato, de 13,30 g de 1-metóxi-2-propanol (solvente) e de 1,70 g da solução de tri-sec-butóxido de alumínio foi misturada por agitação. À exceção disso, um líquido de revestimento foi preparado da mesma maneira que aquela no Exemplo 1. Nos sólidos deste líquido de revestimento, o teor das partículas de silica finas foi de 64,7% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do componente de óxido de silício contido no aglutinante foi de 34,9% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do composto de alumínio foi de 0,41% em massa, tal como calculado em termos de AI2O3, e 0 teor de qualquer componente orgânico foi de 0% em massa. Para este líquido de revestimento, quando a quantidade de um óxido de silício (derivado das partículas de silica finas e do tetra-alcóxi-silano), tal como calculado em termos de S1O2, foi definida como 100 partes em massa, a quantidade do composto de alumínio como 0 tri-sec-butóxido de alumínio foi de 2 partes em massa.

FORMAÇÃO DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0094] No Exemplo Comparativo 6, 0 tri-sec-butóxido de alumínio não foi dissolvido no líquido de revestimento, e a formação da película ao usar 0 líquido de revestimento foi impossível.

EXEMPLO COMPARATIVO 7

PREPARAÇÃO DO LÍQUIDO DE REVESTIMENTO

[0095] Um líquido de revestimento foi preparado da mesma maneira que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de que a quantidade de solução de hidrolisato foi de 85,00 g, a quantidade de 1-metóxi-2propanol (solvente) foi de 6,50 g e a quantidade de solução de complexo de quelato de alumínio foi de 8,5 g. Nos sólidos deste líquido de revestimento, 0 teor das partículas de silica finas foi de 61,3% em

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37/42 massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do componente de óxido de silício contido no aglutinante foi de 33,0% em massa, tal como calculado em termos de S1O2, 0 teor do composto de alumínio foi de 1,59% em massa, tal como calculado em termos de AI2O3, e 0 teor do componente orgânico (componente orgânico derivado de um ligando do complexo de quelato de alumínio) foi de 4,03% em massa. Para este líquido de revestimento, quando a quantidade de um óxido de silício (derivado das partículas de silica finas e do tetra-alcóxi-silano), tal como calculado em termos de S1O2, foi definida como 100 partes em massa, a quantidade do composto de alumínio como 0 complexo de quelato de alumínio foi de 10 partes em massa.

FORMAÇÃO DA PELÍCULA DE BAIXA REFLEXÃO

[0096] No Exemplo Comparativo 7, uma película de baixa reflexão foi formada da mesma maneira que aquela no Exemplo 1, exceto pelo fato de usar 0 líquido de revestimento acima do Exemplo Comparativo 7, e as várias propriedades descritas acima foram avaliadas. Deve ser notado que no teste para avaliação da resistência a abrasão após imersão em água, 0 tempo de imersão do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão na água foi diminuído para 30 horas. Os resultados são mostrados na Tabela 2.

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TABELA 1

	Exemplo 1	Exemplo 2	Exemplo 3	Exemplo 4	Exemplo 5
Película de baixa refletância
Partículas de silica finas		% em massa	64,6	64,2	63,9	63,1	64,2
Aglutinante	Silica	% em massa	34,8	34,6	34,4	34,0	34,5
	Composto de alumínio	% em massa (Ί)	0,17	0,33	0,50	0,82	0,37
Componente orgânico		% em massa	0,42	0,84	1,26	2,07	0,93
Espessura da película de baixa reflexão		nm	140	140	140	140	140
Líquido de revestimento
Componente de silica	Partículas finas	Razão de massa	65	65	65	65	65
	Aglutinante	Razão de massa	35	35	35	35	35
Composto de alumínio	Tipo ⁽*²⁾		AI(EAA)(OBu)₂	AI(EAA)(OBu)₂	AI(EAA)(OBu)₂	AI(EAA)(OBu)₂	AI(EAA)(OiPr)₂
	Partes em massa ⁽*³⁾		1	2	3	5	2
Propriedades
	Propriedades ópticas	Ganho de transmitância (%)	2,55	2,67	2,72	2,71	2,71

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		Efeito de redução da refletância (%)	3,10	3,27	3,22	3,11	3,20
	Resistência a abrasão	70 ciclos (%)	2,45	2,53	2,50	2,40	2,45
		250 ciclos (%)	1,28	1,27	1,30	1,35	1,43
Resistência a abrasão após imersão em água (%)	0,51	0,22	0,12	0,25	0,31

(*1) % em massa do composto de alumínio, tal como calculado em termos de AI2O3.

(*2) EAA: Acetoacetato de etila, OBu: Grupo butóxi, OiPr: Grupo isopropóxi (*3) Partes em massa com respeito a 100 partes em massa do componente de silica

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TABELA 2

	Exemplo Comparativo 1	Exemplo Comparativo 2	Exemplo Comparativo 3	Exemplo Comparativo 4	Exemplo Comparativo 5	Exemplo Comparativo 6	Exemplo Comparativo 7
Pelícu	a de baixa ref	etância
Partículas de silica finas		% em massa	61,9	65,0	64,8	63,6	63,7	64,7	61,3
Aglutinante	Silica	% em massa	33,3	35,0	34,9	34,3	34,3	34,9	33,0
	Composto de alumínio	% em massa ⁽*¹⁾	4,7	0	0,084	0,31	0,24	0,41	1,59
Componen te orgânico		% em massa	0	0	0,21	1,80	1,83	0	4,03
Espessura da película de baixa reflexão		nm	140	140	140	-	-	-	140
Líquido de revestimento
Componen te de silica	Partículas finas	Razão de massa	65	65	65	65	65	65	65
	Aglutinante	Razão de massa	35	35	35	35	35	35	35
Composto de alumínio	Tipo ⁽*²⁾		AICI3	-	AI(EAA)(OB u)₂	Al(acac)s	AI(EAA)₃	AI(OBu)₃	AI(EAA)(OB u)₂
	Partes em massa ⁽*³⁾		6,5	0	0,5	2	2	2	10
Propriedades

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	Propriedad es ópticas	Ganho de transmitânc ia (%)	2,65	2,68	2,55	A formação da película foi impossível (complexo Al não foi dissolvido)	A formação da película foi impossível (complexo Al não foi dissolvido)	A formação da película foi impossível (complexo Al não foi dissolvido)	2,70
		Efeito de redução da refletância (%)	3,18	3,25	3,09	3,25
	Resistência a abrasão	70 ciclos (%)	2,12	2,55	2,43	1,95
		250 ciclos (%)	1,56	1,44	1,30	1,81
Resistência a abrasão após imersão em água (%)	(3,06/20h)	2,42	2,16	(2,7/30h)

(*2) EAA: Acetoacetato de etila, OBu: Grupo butóxi, acac: Acetilacetona (*3) partes em massa com respeito a 100 partes em massa do componente de silica

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[0097] Os substratos transparentes revestidos com película de baixa reflexão dos Exemplos 1 a 5 exibiram propriedades ópticas excelentes e também tinham grande durabilidade (alta resistência a abrasão e resistência a abrasão após imersão em água). Por outro lado, os substratos transparentes revestidos com película de baixa reflexão dos Exemplos Comparativos 1 a 3 e 7 apresentaram durabilidade inferior, em particular na resistência a abrasão após imersão em água, embora tenham apresentado boas propriedades ópticas. Nos Exemplos Comparativos 4 a 6, o composto de alumínio (complexo de quelato de alumínio ou tri-sec-butóxido de alumínio) não foi suficientemente dissolvido no solvente no líquido de revestimento, e a formação de uma película de baixa reflexão foi impossível.

APLICABILIDADE INDUSTRIAL

[0098] A presente invenção apresenta um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão que tem propriedades ópticas excelentes e também tem durabilidade excelente.

Claims

REIVINDICAÇÕES

1. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão que compreende um substrato transparente e uma película de baixa reflexão formada sobre pelo menos uma superfície principal do substrato transparente, caracterizado pelo fato de que:

a película de baixa reflexão é uma película porosa que compreende: partículas de silica finas que são sólidas e esféricas e que têm um diâmetro de partícula médio de 80 a 150 nm; e um aglutinante que contém a silica como um componente principal, em que as partículas de silica finas são ligadas pelo aglutinante, o aglutinante também contém um composto de alumínio, a película de baixa reflexão contém como componentes: de 55 a 70% em massa das partículas de silica finas;

de 25 a 40% em massa da silica do aglutinante;

de 0,1 a 1,5% em massa do composto de alumínio em termos de AI2O3; e de 0,25 a 3% de um componente orgânico, a película de baixa reflexão tem uma espessura de 80 a 800 nm, um ganho de transmitância é de 2,5% ou mais, em que 0 ganho de transmitância é definido como um aumento da transmitância média do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão em uma faixa de comprimentos de onda de 380 a 850 nm em relação à transmitância média do substrato transparente não revestido com a película de baixa reflexão na faixa de comprimentos de onda, e

0 componente orgânico compreende pelo menos um selecionado do grupo que consiste em um β-cetoéster e uma βdicetona.
2. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que

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2/8 o composto de alumínio é um complexo de quelato de alumínio, e o complexo de quelato de alumínio contém pelo menos um ligando de polidentato selecionado do grupo que consiste em um ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-cetoéster e um ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-dicetona.
3. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com a reivindicação 2, caracterizado pelo fato de que o complexo de quelato de alumínio também contém um ou dois grupos alcóxi ligados diretamente ao átomo de alumínio.
4. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com a reivindicação 3, caracterizado pelo fato de que o número de átomos de carbono no ou em cada grupo alcóxi é de 1 a

8.
5. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com a reivindicação 4, caracterizado pelo fato de que o ou cada grupo alcóxi é pelo menos um selecionado do grupo que consiste em um grupo i-propóxi, um grupo n-butóxi, e um grupo secbutóxi.
6. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com qualquer uma das reivindicações 2 a 5, caracterizado pelo fato de que todos os ligandos de polidentato contidos no complexo de quelato de alumínio têm uma estrutura de β-cetoéster.
7. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com qualquer uma das reivindicações 2 a 6, caracterizado pelo fato de que na estrutura de β-cetoéster:

o número de átomos de carbono no ácido carboxílico que constitui o éster é de 4 a 6, e o número de átomos de carbono no álcool que constitui o éster é de 1 a 3.

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3/8
8. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de que na estrutura de β-cetoéster:

o número de átomos de carbono no ácido carboxílico que constitui o éster é 4, e o número de átomos de carbono no álcool que constitui o éster é 2.
9. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado pelo fato de que a silica do aglutinante é derivada de ou um composto de silício hidrolisável ou um hidrolisato do mesmo adicionado a um líquido de revestimento para formar a película de baixa reflexão, e o composto de silício hidrolisável compreende um composto representado pela fórmula (I) a seguir:

SiX₄ (I), na qual X é pelo menos um selecionado de um grupo alcóxi, um grupo acetóxi, um alquenilóxi, um amino grupo, e um átomo de halogênio.
10. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que o composto de silício hidrolisável é um tetra-alcóxi silano.
11. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, caracterizado pelo fato de que quando o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão é sujeitado a um teste de esfregação com pano seco pósimersão com água em que o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão é imerso na água por 50 horas e subsequentemente uma superfície formada pela película de baixa

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4/8 reflexão é friccionada com um pano seco, uma diferença na refletância média da superfície formada pela película de baixa reflexão em uma faixa de comprimentos de onda de 360 a 740 nm antes e depois do teste é de 1% ou menos.
12. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 11, caracterizado pelo fato de que a película de baixa reflexão é formada por uma etapa de aquecimento executada depois que um líquido de revestimento para a formação da película de baixa reflexão é aplicado ao substrato transparente, e na etapa de aquecimento, uma temperatura máxima experimentada por uma superfície do substrato transparente é de 350°C ou menor, e um período de tempo durante o qual a superfície do substrato transparente tem uma temperatura de 130°C ou mais é de 5 minutos ou menos.
13. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 12, caracterizado pelo fato de que o substrato transparente é uma folha de vidro.
14. Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão de acordo com a reivindicação 13, caracterizado pelo fato de que uma película que compreende uma camada condutora transparente é formada sobre uma superfície principal do substrato transparente que é oposta à superfície principal sobre a qual a película de baixa reflexão é formada.
15. Dispositivo de conversão fotoelétrica, caracterizado pelo fato de que compreende o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão como definido em qualquer uma das reivindicações 1

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5/8 a 14.
16. Líquido de revestimento para a formação de uma película de baixa reflexão de um substrato transparente revestido com película de baixa reflexão, em que o líquido de revestimento é caracterizado pelo fato de que compreende: partículas de silica finas que são sólidas e esféricas e têm um diâmetro de partícula médio de 80 a 150 nm; um composto de silício hidrolisável; um complexo de quelato de alumínio; e um solvente, em que o composto de silício hidrolisável compreende um composto representado pela fórmula (I) a seguir: S1X4, na qual X é pelo menos um selecionado de um grupo alcóxi, um grupo acetóxi, um grupo alquenilóxi, um grupo amino, e um átomo de halogênio, em que 0 complexo de quelato de alumínio contém: pelo menos um ligando de polidentato selecionado do grupo que consiste em um ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-cetoéster e um ligando de polidentato que tem uma estrutura de β-dicetona; e um ou dois grupos alcóxi ligados diretamente ao átomo de alumínio, em que 0 solvente compreende um solvente orgânico miscível com água e tem um ponto de ebulição de 70°C ou maior e menor que 180°C, uma razão entre a massa das partículas de silica finas, tal como calculada em termos de S1O2, e a massa de um componente de óxido de silício contido no composto de silício hidrolisável, tal como calculada em termos de S1O2 (partículas de silica finas:composto de silício hidrolisável), é de 57:43 a 74:26, quando uma soma da massa das partículas de silica finas, tal como calculada em termos de S1O2, e a massa do componente de óxido de silício contido no composto de silício hidrolisável, tal como calculada em termos de S1O2, é definida como 100 partes em massa, a quantidade do complexo de quelato de alumínio é de 0,6 a 8 partes em

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6/8 massa, e quando uma película de baixa reflexão que tem uma espessura de 80 a 800 nm é formada sobre um substrato transparente ao usar o líquido de revestimento, um ganho de transmitância é de 2,5% ou mais, em que o ganho de transmitância é definido como um aumento da transmitância média do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão em uma faixa de comprimentos de onda de 380 a 850 nm em relação à transmitância média do substrato transparente não revestido com a película de baixa reflexão na faixa de comprimentos de onda.
17. Líquido de revestimento de acordo com a reivindicação 16, caracterizado pelo fato de que também compreende um ácido que tem uma constante de dissociação de ácido pKa igual a 2,5 ou menos como um catalisador da hidrólise para o composto de silício hidrolisável.
18. Líquido de revestimento de acordo com a reivindicação 16 ou 17, caracterizado pelo fato de que o composto de silício hidrolisável é um tetra-alcóxi silano.
19. Líquido de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 16 a 18, caracterizado pelo fato de que o número de átomos de carbono no ou em cada grupo alcóxi é de 1 a 8.
20. Líquido de revestimento de acordo com a reivindicação 19, caracterizado pelo fato de que o ou cada grupo alcóxi é pelo menos um selecionado do grupo que consiste em um grupo i-propóxi, um grupo n-butóxi, e um grupo sec-butóxi.
21. Líquido de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 16 a 20, caracterizado pelo fato de que todos os ligandos de polidentato contidos no complexo de quelato de alumínio têm uma estrutura de β-cetoéster.
22. Líquido de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 16 a 21, caracterizado pelo fato de que na estrutura

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7/8 de β-cetoéster:

o número de átomos de carbono no ácido carboxílico que constitui o éster é de 4 a 6, e o número de átomos de carbono no álcool que constitui o éster é de 1 a 3.
23. Líquido de revestimento de acordo com a reivindicação 22, caracterizado pelo fato de que na estrutura de β-cetoéster, o número de átomos de carbono no ácido carboxílico que constitui o éster é 4, e o número de átomos de carbono no álcool que constitui o éster é 2.
24. Método para a produção do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão como definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 14, em que o método é caracterizado pelo fato de que compreende:

uma etapa de aplicação para aplicar um líquido de revestimento para formar a película de baixa reflexão para o substrato transparente; e uma etapa de aquecimento para aquecer o substrato transparente com o líquido de revestimento aplicado, em que o líquido de revestimento é o líquido de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 16 a 23, e na etapa de aquecimento, uma temperatura máxima experimentada por uma superfície do substrato transparente é de 350°C ou maior, e um período de tempo durante o qual a superfície do substrato transparente tem uma temperatura de 130°C ou mais é de 5 minutos ou menos.
25. Método para a produção do substrato transparente revestido com película de baixa reflexão como definido na reivindicação

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24, caracterizado pelo fato de que quando o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão produzido pelo método é sujeitado a um teste de esfregação com pano seco pós-imersão com água em que o substrato transparente revestido com película de baixa reflexão é imerso na água por 50 horas e subsequentemente uma superfície formada pela película de baixa reflexão é friccionada com um pano seco, uma diferença na refletância média da superfície formada pela película de baixa reflexão em uma faixa de comprimentos de onda de 360 a 740 nm antes e depois do teste é de 1% ou menos.