BR112015029941B1 - Revestimento anti-solar de baixa emissividade - Google Patents

Abstract

revestimento anti-solar de baixa emissividade. a invenção refere-se a sistemas de revestimento anti-solar e de baixa emissividade que mudam muito pouco em propriedades quando são submetidos a um tratamento térmico. eles compreendem uma pilha de finas camadas compreendendo um arranjo alternado de n camadas funcionais refletoras das radiações infravermelhas e n+1 coberturas dielétricas, e uma camada de barreira diretamente sobreposta na última camada funcional mais afastada do substrato, caraterizados por:(i) a primeira cobertura dielétrica mais próxima do substrato compreender uma camada feita de um óxido, em contato direto com o substrato, (ii) a cobertura, ou coberturas, dielétrica(s) interna(s) rodeada(s) por duas camadas funcionais compreende(m) uma camada feita de um nitreto de silício ou de um óxido de silício com uma espessura superior a 5 nm, rodeada em ambos os lados por camadas feitas a partir de um óxido diferente de óxido de silício com espessuras superiores a 5 nm , (iii) a camada de barreira é baseada no óxido de zinco ou consiste em um óxido de índio possivelmente dopado com estanho, e (iv) a última cobertura dielétrica mais distante do substrato compreende, por ordem a partir do substrato: uma camada feita de um óxido diferente do óxido de silício com uma espessura superior a 3 nm e uma camada feita de um nitreto de silício ou de um óxido de silício com uma espessura superior a 10 nm.

Description

[001] A presente invenção refere-se a sistemas de revestimento que têm, simultaneamente, baixa emissividade e propriedades anti-solares e que podem ser incorporados em janelas de edifícios ou utilizados no domínio das vidraças dos automóveis.

[002] Tais sistemas de revestimento são geralmente formados a partir de um substrato transparente do tipo: folha de vidro coberta com um sistema de camadas finas compreendendo pelo menos duas camadas funcionais à base de um material que reflete as radiações infravermelhas e pelo menos três coberturas dielétricas, em que cada camada funcional é rodeada por coberturas dielétricas. As camadas funcionais são geralmente camadas de prata com uma espessura de alguns nanômetros. No que diz respeito às camadas dielétricas, elas são transparentes e tradicionalmente feitas a partir de óxidos e/ou nitretos de metal. Estas diferentes camadas são depositadas, por exemplo, por meio de técnicas de deposição por vácuo, tais como pulverização catódica assistida por campo magnético, mais vulgarmente referida como "pulverização com magnetrão".

[003] Estes sistemas de revestimento têm propriedades anti-solares que podem reduzir o risco de sobreaquecimento excessivo, por exemplo, num espaço fechado com grandes superfícies vidradas, e assim reduzir a carga de alimentação a ser tida em conta para o ar condicionado durante o verão. Neste caso, o revestimento deve permitir que a menor quantidade possível de radiação de energia solar total passe, ou seja, deve ter o menor fator solar (FS ou g) possível. No entanto, é altamente desejável que garanta um certo nível de transmissão da luz (LT), a fim de fornecer um nível suficiente de iluminação no interior do edifício. Estes requisitos algo conflituosos tanto expressam o desejo de obter uma unidade de revestimento com uma elevada seletividade (S) definida pela relação de transmissão da luz para o fator solar. Estes sistemas de revestimento também têm uma emissividade baixa, o que permite uma redução na perda de calor através de radiação infravermelha de comprimento de onda elevado. Assim, eles melhoram o isolamento térmico de grandes superfícies vidradas e reduzem as perdas de energia e os custos de aquecimento em períodos frios.

[004] Estes sistemas de revestimento são geralmente montados como várias unidades de revestimento, tais como unidades de revestimento duplas ou triplas ou até mesmo como unidades de revestimento laminadas, em que a folha de vidro portadora da pilha de revestimento é combinada com uma ou mais folhas de vidro, com ou sem revestimento, com a pilha de camadas múltiplas de baixa emissividade estando em contato com o espaço interno entre as folhas de vidro no caso de unidades múltiplas de revestimento, ou em contato com o adesivo intercamadas da unidade laminada no caso de unidades de revestimento laminadas.

[005] Em alguns casos, uma operação para reforçar mecanicamente o revestimento, tal como endurecimento térmico da folha, ou folhas, de vidro, torna-se necessária para melhorar a resistência a tensões mecânicas. Para aplicações particulares, pode também tornar-se necessário conferir às folhas de vidro uma curvatura mais ou menos complexa, por meio de uma operação de flexão a temperatura elevada. Nos processos de produção e de formação de sistemas de revestimento há certas vantagens para a realização dessas operações de tratamento térmico sobre o substrato já revestido em vez de revestir um substrato já tratado. Estas operações são conduzidas a uma temperatura relativamente alta, que é a temperatura à qual a camada funcional com base em material refletor de infravermelho, por exemplo, com base na prata, tende a deteriorar-se e perder as suas propriedades ópticas e as propriedades relativas à radiação infravermelha. Estes tratamentos térmicos consistem, em particular, no aquecimento da folha de vidro a uma temperatura superior a 560 °C ao ar, por exemplo, entre 560 °C e 700 °C, e em particular em torno de 640 °C a 670 °C, durante um período de cerca de 3, 4, 6, 8, 10, 12 ou mesmo 15 minutos, dependendo do tipo de tratamento e da espessura da folha. No caso de um tratamento de dobragem, a folha de vidro pode então ser dobrada para a forma desejada. O tratamento de endurecimento consiste então em arrefecer de um modo repentino a superfície da folha de vidro plana ou dobrada por jatos de ar ou de fluido de arrefecimento para se obter um reforço mecânico da folha.

[006] Portanto, no caso em que a folha de vidro revestida deve ser submetida a um tratamento térmico, cuidados bastante específicos devem ser tomados para formar uma estrutura de revestimento que seja capaz de resistir a um tratamento de endurecimento térmico e/ou de dobragem, por vezes referido daqui em diante pelo termo "temperável", sem perder as propriedades ópticas e/ou de energia para que tenha sido criada. Em particular, os materiais dielétricos usados para formar as coberturas dielétricas devem suportar as temperaturas elevadas do tratamento térmico sem exibir qualquer modificação estrutural adversa. Exemplos de materiais particularmente adequados para este uso são o óxido misto de zinco e estanho, nitreto de silício e nitreto de alumínio. É também necessário assegurar que as camadas funcionais, por exemplo, camadas à base de prata, não são oxidadas durante o tratamento, por exemplo, assegurando que no momento do tratamento existem camadas de barreira que são capazes de se oxidar no lugar da prata prendendo o oxigênio livre ou bloqueando o oxigênio livre migrando para a prata durante o tratamento térmico.

[007] Além disso, a formação destes conjuntos de camadas também deve resultar em cores satisfatórias, tanto em reflexão como em transmissão, com a demanda tendendo para a neutralidade mais completa possível. A dificuldade consiste em combinar os requisitos colorimétricos com os que estão associados com condições de "base": transmissão de luz elevada, emissividade muito baixa, capacidade de resistir a um tratamento térmico, todos ao mesmo tempo.

[008] Outro requisito que deve ser cada vez mais tomado em conta resulta do fato de que os produtos que não tenham sido tratados termicamente e de outros que tenham sido tratados termicamente devem, por vezes, ser combinados uns com os outros para a mesma aplicação, por exemplo, dentro da mesma fachada do edifício. Por conseguinte, era previamente necessário desenvolver e produzir dois tipos de pilhas de camadas de baixa-emissividade, em paralelo, um para unidades de revestimento não temperadas e o outro para unidades de revestimento destinadas a serem temperadas ou dobradas, e isto é complicado tanto em termos de pesquisa e desenvolvimento como na gestão de estoque de produção em particular. Desde então, as chamadas pilhas de revestimento "auto-correspondentes" têm sido desenvolvidas e mudam muito pouco nas suas propriedades, em particular nas suas propriedades ópticas e de energia, para o caso em que o substrato é submetido a um tratamento térmico de endurecimento ou de dobragem.

[009] Além disso, enquanto os princípios que regem as propriedades ópticas dos materiais que formam as camadas são bem conhecidos, uma dificuldade adicional reside nos métodos de produção dessas unidades de revestimento. As condições de deposição e, em particular, a taxa de deposição estão dependentes da natureza dos materiais considerados. A taxa de deposição deve ser suficiente para a produção industrial economicamente aceitável. Ela depende de múltiplos fatores que garantem a estabilidade da função ao longo do tempo e ao longo de toda a superfície da folha e a ausência de defeitos na camada.

[0010] Várias soluções foram propostas para atender a essas exigências diversas, mas nenhuma solução forneceu uma unidade de revestimento realmente satisfatória que nos permitirá cumprir com os requisitos destas novas demandas.

[0011] A EP 1 140 721 descreve pilhas de revestimento de camadas à base de prata do tipo de vidro / dielétrico I / Ag I / AZO / dielétrico II / Ag II / AZO / dielétrico III, em que, entre outros, os dielétricos incluem uma camada inferior de óxido misto de zinco e estanho e uma camada superior de óxido de zinco. A EP 1 140 721 dá a entender que as pilhas de revestimento que descreve podem ser tratadas com calor e que apenas apresentam pequenas variações nas suas propriedades ópticas após o tratamento térmico. No entanto, demonstrou-se que após o tratamento térmico uma névoa e manchas inaceitáveis apareceram em camadas deste tipo, e que a resistência elétrica por quadrado foi aumentada, em si dando uma emissividade mais elevada e, portanto, menos favorável (ver o nosso exemplo comparativo 1 descrito abaixo).

[0012] O documento WO03/010105 descreve pilhas de revestimento com camada dupla de prata, a especificidade das quais é a de incluir uma camada de Ti sob as camadas de prata. Todas as pilhas propostas começam com uma camada de nitreto sobre o vidro. Apresentam-se como capazes de serem tratadas termicamente, mantendo os níveis de desempenho térmico das pilhas de revestimento minimizando as modificações ópticas das mesmas e minimizando o aparecimento de defeitos ópticos. No entanto, as pilhas propostas têm uma falha não negligenciável: a estabilidade química destes produtos antes do tratamento térmico não é suficiente (ver também o exemplo comparativo 2 abaixo descrito). Assim, uma vez que estas camadas devem ser capazes de serem utilizadas sem um tratamento térmico subsequente, ou então armazenadas e possivelmente transportadas por vezes muito tempo antes de se submeterem a um tratamento térmico, a sua resistência ao envelhecimento antes do tratamento térmico tem de ser adequada.

[0013] Assim, o objetivo da invenção é o de procurar desenvolver um novo tipo de pilha de finas camadas de baixa-emissividade e anti-solares que seja eficaz em termos de propriedades ópticas e de energia e que mantenha estes níveis de desempenho se, em seguida, for ou não submetida a um tipo de tratamento térmico de endurecimento ou de flexão.

[0014] As seguintes informações são usadas na presente invenção:

[0015] • transmissão da luz (LT) é a percentagem do fluxo luminoso incidente, iluminante D65/2°, transmitida pelo revestimento.

[0016] • reflexão da luz (LR) é a percentagem de fluxo de luz incidente, iluminante D65/2°, refletida pelo revestimento. Pode ser medida a partir do lado da camada (LRc) ou do lado do substrato (LRg).

[0017] • transmissão de energia (ET) é a percentagem de radiação de energia incidente transmitida pelo revestimento calculada de acordo com o padrão EN410.

[0018] • reflexão de energia (ER) é a percentagem de radiação de energia incidente refletida pelo revestimento calculada de acordo com o padrão EN410. Ela pode ser medida no lado externo do edifício ou do veículo (ERext) ou no lado interno do edifício ou do veículo (ERint).

[0019] • fator solar (SF ou g) é a percentagem de radiação de energia incidente que é transmitida diretamente pelo revestimento, por um lado, e absorvida por este, em seguida irradiada no sentido oposto ao da fonte de energia em relação ao revestimento. É aqui calculado de acordo com o padrão EN410.

[0020] • o valor U (coeficiente k) e a emissividade (ε) são calculados de acordo com as normas EN673 e ISO 10292.

[0021] • os valores CIELAB 1976 (L*a*b*) são usados para definir os matizes. Eles são medidos com iluminante D65/10°.

[0022]

representa a variação da tonalidade durante o tratamento térmico, isto é, a diferença entre as cores antes e depois do tratamento térmico.

[0023] • a resistência por quadrado (R2) ("resistência de folha"), expressa em ohms por quadrado (□/□), mede a resistência elétrica de películas finas.

[0024] • Quando os valores são referidos como "na gama de entre a e b", eles podem ser iguais a a ou a b.

[0025] • O posicionamento da pilha de camadas em uma estrutura de revestimento múltiplo é dado de acordo com a numeração clássica sequencial das faces de uma unidade de revestimento, a face 1 estando no exterior do edifício ou do veículo e a face 4 (no caso de uma unidade de revestimento duplo) ou a face 6 (no caso de uma unidade de revestimento triplo) no interior.

[0026] • Quando se refere às camadas de nitreto de silício ou óxido de silício neste documento, deve entender- se que as camadas podem também incorporar uma pequena quantidade de alumínio, como é bem conhecido na arte de revestimentos pulverizados com magnetrão. Tal alumínio é incluído como agente de dopagem, em geral numa quantidade de 10% em peso, no máximo.

[0027] • Por uma questão de clareza, quando aqui se usam termos como "abaixo", "acima", "inferior", "superior", "primeiro" ou "último", é sempre no contexto de uma sequência de camadas a partir do vidro mais abaixo, indo para cima, para longe do vidro. Tais sequências podem compreender camadas intermédias adicionais, entre as camadas definidas, exceto quando um contato direto é especificado.

[0028] A presente invenção refere-se a uma unidade de revestimento de acordo com a reivindicação 1 e as reivindicações dependentes apresentam modalidades preferidas.

[0029] A invenção diz respeito a um revestimento compreendendo um substrato transparente provido de uma pilha de camadas finas compreendendo um arranjo alternado de n camadas funcionais refletoras da radiação infravermelha e n + 1 coberturas dielétricas, com n > 1, de tal modo que cada camada funcional esteja rodeada por coberturas dielétricas. Com efeito, a presente invenção refere-se exclusivamente a pilhas de revestimento compreendendo pelo menos duas camadas funcionais refletoras da radiação infravermelha. O revestimento de acordo com a invenção compreende uma camada de barreira sobreposta diretamente sobre a última camada funcional mais distante do substrato, e é caracterizado por: (i) a primeira cobertura dielétrica mais próxima do substrato compreender uma camada feita de um óxido, em contato direto com o substrato, (ii) a cobertura, ou coberturas, dielétrica(s) interna(s) rodeada(s) por duas camadas funcionais compreender(em) uma camada feita de um nitreto de silício ou de um óxido de silício com uma espessura superior a 5 nm, rodeada em ambos os lados por camadas feitas a partir de um óxido diferente de óxido de silício com espessuras superiores a 5 nm, (iii) a camada de barreira é à base de óxido de zinco ou consiste em um óxido de índio possivelmente dopado com estanho, e (iv) a última cobertura dielétrica mais distante do substrato compreende, por ordem a partir do substrato: uma camada feita de um óxido diferente do óxido de silício com uma espessura superior a 3 nm e uma camada feita de um nitreto de silício ou de um óxido de silício com uma espessura superior a 10 nm.

[0030] Por causa da seleção particular de camadas da pilha de revestimento e em primeiro lugar por causa da combinação da presença de uma camada feita de um óxido em contato direto com o substrato, uma camada de nitreto ou óxido de silício na cobertura, ou coberturas, dielétrica(s) interna(s) rodeada(s) por camadas de óxido, e de uma camada adequada de nitreto de silício ou óxido de silício na última cobertura dielétrica, tais unidades de revestimento podem assim proporcionar as seguintes vantagens (revestimento numa folha padrão de 6 mm de espessura transparente de vidro de soda-cal incorporado em uma unidade de revestimento dupla com mais uma folha de 4 mm de espessura de vidro transparente de soda-cal padrão, o espaço entre as folhas de vidro sendo de 15 mm cheio até 90% com argônio, pilha de camadas na posição 2): ■ uma elevada transmissão de luz (LT > 68%) ao mesmo tempo com uma emissividade baixa (e < 0,038, de preferência ε < 0,025) para limitar as perdas de calor; ■ um fator solar baixo (SF <41%), para permitir a redução do risco de excesso de sobreaquecimento como um resultado da luz do sol; ■ uma alta seletividade (LT/SF > 1,75); ■ uma propriedade de isolamento permitindo que um valor U < 1,1 W/(m2K), de preferência U < 1,0 W/(m2K) seja alcançado; ■ uma neutralidade da matiz na transmissão e na reflexão, seja em um único revestimento ou em revestimentos múltiplos, com valores preferenciais em revestimentos simples: na transmissão: 88 < L* < 94 -6 < a* < +4 -4 < b* < +4 na reflexão do lado substrato: 25 < L* < 40 -4 < a* < +3 -16 < b* < 0 ■ a possibilidade de ser tratado termicamente, sendo o revestimento resistente a altas temperaturas, ou de ser usado sem tratamento térmico; ■ uma aparência estética sem falha, com uma névoa extremamente limitada ou mesmo inexistente, sem ou depois do tratamento térmico, e a ausência de pontos inaceitáveis após o tratamento térmico; ■ a retenção de propriedades ópticas e de energia praticamente inalteradas após o tratamento térmico permitindo a utilização de produtos que tenham sido tratados termicamente ou não uns ao lado dos outros ("auto- correspondência"): pouca ou nenhuma mudança na cor em transmissão e em reflexão (ΔE* < 8, de preferência < 5, mais preferencialmente < 2) e/ou nenhuma ou pouca mudança na transmissão de luz e de reflexão e valores de energia (Δ = | (valor antes do tratamento térmico) - (valor após o tratamento térmico) | < 5, de preferência < 3, mais preferencialmente < 1), em revestimentos simples. ■ uma estabilidade química adequada para uso sem qualquer tratamento térmico ou para o intervalo de tempo antes do tratamento térmico, e em particular um resultado do teste de câmara climatizada ou o teste de pulverização de sal de acordo com a norma EN1036-2012 que não dá qualquer defeito ou qualquer descoloração visível a olho nu depois de 1 dia, de preferência ao fim de 3 dias.

[0031] Os inventores descobriram que não só foi essencial ter uma camada feita de um óxido (e não, como em várias pilhas de revestimento conhecidas, um nitreto tal como o nitreto de alumínio ou de silício) em contato direto com o substrato, em particular, para assegurar a estabilidade química do produto que não tenha sido tratado termicamente, mas também essencial para dispor de uma camada de nitreto ou óxido de silício rodeada por camadas de óxido na cobertura, ou coberturas, dielétrica(s) interna(s), em particular para limitar o aparecimento de névoa e a degradação da resistência por quadrado após tratamento térmico; e finalmente que foi essencial ter uma camada de nitreto de silício ou de óxido de silício acima de uma camada de óxido na última cobertura dielétrica, em adição a uma camada de barreira à base de óxido de zinco, ou que consiste num óxido de índio e possivelmente dopada com estanho, em particular para a estabilidade química do produto não tratado termicamente, e para a auto- correspondência e ausência de defeitos depois do tratamento térmico.

[0032] O primeiro dielétrico de acordo com a invenção compreende uma camada feita de um óxido, tal como uma única camada ou como a camada mais baixa. Vantajosamente, esta camada é feita a partir de um óxido, que está em contato direto com o substrato, é uma camada de um óxido de pelo menos um elemento selecionado de Zn, Sn, Ti e Zr. Ela é de preferência uma camada de óxido misto de zinco e estanho, mais preferencialmente uma camada de óxido misto de zinco e estanho, em que a proporção de zinco e estanho é perto de 50-50%, em peso, (Zn2SnO4), por exemplo, 52-48% em peso. O óxido misto de zinco e estanho pode ser vantajoso na medida em que tem uma velocidade de deposição boa em comparação, por exemplo, ao SiO2 ou Al2O3, e/ou pelo fato de possuir uma boa estabilidade em comparação, por exemplo, com o ZnO puro ou óxido de bismuto. Além disso, pode ser vantajoso na medida em que tem menos tendência para gerar névoa depois do tratamento térmico da pilha em comparação, por exemplo, aos óxidos de Ti ou Zr. A camada feita a partir de um óxido em contato direto com o substrato tem vantajosamente uma espessura de pelo menos 15 nm, preferencialmente de pelo menos 20 nm. Estes valores mínimos de espessura permitem, entre outros, assegurar a estabilidade química do produto que não tenha sido tratado termicamente, bem como assegurar a resistência ao tratamento térmico.

[0033] A primeira cobertura dielétrica tem de preferência uma espessura de pelo menos 15 nm, mais preferencialmente pelo menos 20 nm. A sua espessura é, de preferência, no máximo 55 nm, mais preferivelmente, no máximo, de 50 nm.

[0034] Demos o termo "cobertura(s) dielétrica(s) interna(s)" à(s) cobertura(s) dielétrica(s) rodeada(s) por duas camadas funcionais. No caso de uma pilha de revestimento com duas camadas funcionais, há uma única cobertura dielétrica interna. No caso de uma pilha de revestimento com três camadas funcionais, existem duas coberturas dielétricas internas. Na descrição seguinte quando é feita referência em geral à cobertura dielétrica interna, mesmo se não for especificado, as mesmas considerações se aplicam ao caso de ter várias coberturas dielétricas internas. A cobertura dielétrica interna de acordo com a invenção compreende uma camada feita de um nitreto de silício ou de um óxido de silício com uma espessura maior do que 5 nm, rodeada de ambos os lados por camadas feitas a partir de um óxido diferente de óxido de silício com espessuras superiores a 5 nm. Assim, a cobertura dielétrica interna de acordo com a invenção compreende a seguinte sequência: em ordem começando a partir do substrato, mas não necessariamente em contato direto: óxido diferente de SiO2 // Si3N4 ou SiO2 // óxido diferente de SiO2.

[0035] As camadas da cobertura dielétrica interna feitas a partir de um óxido diferente de óxido de silício com espessuras superiores a 5 nm são preferivelmente camadas de óxido de pelo menos um elemento selecionado de entre Zn, Sn, Ti e Zr. Estas são de preferência camadas de óxido misto de zinco e estanho, mais preferivelmente camadas de óxido misto de zinco e estanho, em que a proporção de zinco e estanho é perto de 50-50% em peso (Zn2SnO4), por exemplo, 52-48% em peso. Alternativamente, estas podem ser camadas de óxido misto de titânio e zircônio, por exemplo, numa proporção em peso de Ti/Zr igual a cerca de 65/35. As camadas da cobertura dielétrica interna feitas a partir de um óxido diferente de óxido de silício podem elas próprias ser formadas a partir de uma ou mais camadas. Elas têm de preferência uma espessura de pelo menos 5 nm, pelo menos 8 nm ou pelo menos 10 nm, mais preferencialmente pelo menos 12 nm ou de pelo menos 15 nm. A sua espessura é, de preferência, 50 nm no máximo ou 40 nm no máximo, mais preferivelmente 30 nm no máximo. Vantajosamente, a camada da cobertura dielétrica interna feita a partir de um óxido diferente de óxido de silício localizada sob a camada da cobertura dielétrica interna feita a partir de um nitreto de silício ou de um óxido de silício é mais espessa do que a que está localizada acima da última. Isto pode melhorar a "auto-correspondência" do produto.

[0036] A camada da cobertura dielétrica interna feita a partir de um nitreto de silício ou óxido de silício com uma espessura maior do que 5 nm, de um modo preferido tem uma espessura de pelo menos 8 nm ou de pelo menos 10 nm, mais preferencialmente de pelo menos 12 nm. A sua espessura é, de preferência, 55 nm no máximo, ou 50 nm no máximo, mais preferivelmente 45 nm no máximo. O nitreto de silício é geralmente preferido em vez do óxido de silício, uma vez que pode ser mais fácil para depositar industrialmente por pulverização de magnetrão e porque, com um índice de refração ligeiramente mais elevado do que o do óxido de silício (nSiN = 2,0; nSiO2 = 1,5), ele permite que ainda melhores propriedades opto-energéticas sejam obtidas. Alternativamente, esta camada pode ser, ao invés, uma camada de óxido de alumínio ou de nitreto de alumínio, no entanto, esta solução não era a preferida, principalmente por razões de durabilidade de revestimento.

[0037] A cobertura dielétrica interna de um modo preferido tem uma espessura de pelo menos 24 nm ou de pelo menos 30 nm, mais preferencialmente de pelo menos 35 nm ou de pelo menos 40 nm. A sua espessura é, de preferência, 150 nm no máximo, ou 120 nm no máximo, mais preferivelmente 100 nm no máximo.

[0038] Como a camada superior está diretamente debaixo e em contato com a camada funcional, pelo menos uma das coberturas dielétricas com uma camada funcional sobreposta sobre ela (isto é, a primeira cobertura dielétrica ou uma cobertura dielétrica interna), ou de preferência, cada cobertura dielétrica com uma camada funcional sobreposta sobre ela, pode vantajosamente também compreender uma camada à base de óxido de zinco, por vezes referida como camada de "nucleação" ou de "molhar", que auxilia o crescimento da prata na parte superior da mesma e ajuda a aumentar a resistência por quadrado do produto. Esta camada à base de óxido de zinco pode ser constituída por óxido de zinco ou, eventualmente, ser dopada com outros metais, por exemplo alumínio, numa proporção geralmente de 10%, em peso, no máximo, de preferência cerca de 2% em peso. De preferência tem uma espessura de 15 nm, no máximo, de preferência na gama de entre 1,5 e 10 nm, mais preferencialmente de entre 3 e 10 nm.

[0039] De acordo com a invenção, a pilha compreende uma camada de barreira sobreposta diretamente sobre a última camada funcional mais distante do substrato, ou seja, acima e em contato direto com a referida última camada funcional. Esta camada de barreira pode ser à base de óxido de zinco, (ou seja, compreendendo Zn numa quantidade de pelo menos 50% atômico, preferencialmente, pelo menos 60% atômico, mais preferencialmente pelo menos 70% atômico, ainda mais preferivelmente pelo menos 80% atômico, da parte metálica do óxido), ou é constituído por um óxido de índio possivelmente dopado com estanho. Mais preferencialmente, a referida barreira é constituída por um óxido de zinco, possivelmente dopado com alumínio ou de um óxido de índio possivelmente dopado com estanho. Ainda mais preferencialmente, a referida camada de barreira é uma camada de ZnO puro (designado como iZnO) ou uma camada de óxido de zinco dopado com alumínio (designado como AZO), numa proporção de 10%, em peso, no máximo, de preferência de cerca de 2% em peso. Estes tipos de barreira têm a vantagem de melhorar a "auto-correspondência" do produto e a resistência por quadrado. A camada de barreira tem de preferência uma espessura de 20 nm, no máximo, ou de 18 nm no máximo, mais preferencialmente 16 nm no máximo, de preferência no intervalo de entre 1 e 18 nm ou de entre 2 e 18 nm, mais preferencialmente de entre 3 e 16 nm.

[0040] A última cobertura dielétrica de acordo com a invenção mais distante do substrato compreende, por ordem a partir do substrato: uma camada feita de um óxido diferente do óxido de silício com uma espessura superior a 3 nm e uma camada feita de um nitreto de silício ou de um óxido de silício com uma espessura superior a 10 nm.

[0041] A camada da última cobertura dielétrica feita a partir de um óxido com uma espessura maior do que 3 nm é de preferência uma camada de óxido de pelo menos um elemento selecionado de Zn, Sn, Ti e Zr. Ela é de preferência uma camada de óxido misto de zinco e estanho, de maior preferência uma camada de óxido misto de zinco e estanho, em que a proporção de zinco e estanho é perto de 50-50% em peso (Zn2SnO4). De preferência tem uma espessura de pelo menos 4 nm, mais preferencialmente de pelo menos 5 nm ou, pelo menos, 6 nm. A sua espessura é, de preferência 25 nm, no máximo ou 20 nm, no máximo, mais preferencialmente 18 nm no máximo ou 15 nm no máximo.

[0042] Acima desta camada de óxido de última cobertura dielétrica, mas não necessariamente em contato direto com ela, está a camada que é feita a partir de um nitreto de silício ou de um óxido de silício com uma espessura superior a 10 nm. De preferência tem uma espessura de pelo menos 12 nm ou de pelo menos 14 nm, mais preferencialmente de pelo menos 15 nm ou de pelo menos 16 nm. A sua espessura é, de preferência 40 nm, no máximo ou 35 nm, no máximo, mais preferencialmente 30 nm no máximo ou 25 nm no máximo. O nitreto de silício é geralmente preferido ao em vez do óxido de silício, uma vez que pode ser mais fácil para depositar industrialmente por pulverização de magnetrão e porque pode proporcionar na última dielétrica uma melhor estabilidade mecânica e uma melhor resistência ao tratamento térmico do que um óxido de silício. Esta camada de nitreto de silício pode ser a última camada da pilha de revestimento. Alternativamente, esta camada pode ser, ao invés, uma camada de óxido de alumínio ou de nitreto de alumínio, no entanto, esta solução não era a preferida, principalmente por razões de durabilidade de revestimento.

[0043] Vantajosamente, a última cobertura dielétrica pode compreender uma cobertura de topo de proteção formando a última camada da pilha de revestimento. Esta consiste de preferência por um óxido ou óxido sub-estequiométrico de pelo menos um elemento selecionado de Ti e Zr, mais preferivelmente de um óxido misto de titânio e zircônio, por exemplo, numa proporção em peso de Ti/Zr próxima a 65/35. Uma tal camada pode melhorar a estabilidade química e/ou mecânica do revestimento. Esta cobertura de topo de proteção tem de preferência uma espessura de pelo menos 3 nm, de um modo preferido de pelo menos 5 nm. A sua espessura é, de preferência 15 nm, no máximo, ou 12 nm, no máximo, mais preferencialmente 10 nm no máximo ou 8 nm no máximo.

[0044] A última cobertura dielétrica tem de preferência uma espessura de pelo menos 10 nm ou de pelo menos 15 nm, mais preferencialmente de pelo menos 20 nm ou de pelo menos 22 nm. A sua espessura é, de preferência 80 nm, no máximo ou 60 nm, no máximo, mais preferencialmente 50 nm no máximo ou 48 nm no máximo.

[0045] As coberturas dielétricas podem compreender, adicionalmente, uma ou mais outras camadas dielétricas, devendo ser respeitados os contatos diretos entre as camadas acima descritas como essenciais: por exemplo, uma ou mais camadas de material dielétrico feito de óxido, nitreto ou oxinitreto de metal, de preferência ZnO, TiO2, SnO2, Si3N4, ZrO2, óxido misto de zinco e estanho ou óxido misto de titânio e zircônio. No caso de um óxido misto de zinco e estanho, este pode ter uma proporção de zinco e estanho próxima de 50-50%, em peso, ou uma proporção de zinco e estanho próxima de 90-10% em peso.

[0046] De um modo vantajoso, uma cobertura dielétrica interna pode compreender um material dielétrico com um índice de refração superior a 2,2. Este tipo de material pode, de fato, permitir que a seletividade do revestimento seja ainda aumentada. Ele é de preferência um óxido de pelo menos um elemento selecionado de Ti, Nb e Zr, mais preferivelmente óxido misto de titânio e zircônio, por exemplo, numa proporção em peso de Ti/Zr próxima de 65/35.

[0047] As camadas funcionais que refletem radiação infravermelha são preferivelmente camadas à base de prata que podem consistir em prata ou, eventualmente, ser dopadas com paládio ou ouro, por exemplo, numa proporção de 5% em peso no máximo, de preferência de cerca de 1% em peso. A incorporação de uma pequena quantidade de agente de dopagem na camada à base de prata pode melhorar a estabilidade química da pilha. As camadas funcionais vantajosamente apresentam uma espessura de pelo menos 6 nm ou de pelo menos 8 nm, de um modo preferido, de pelo menos 9 nm. A sua espessura é, de preferência, de 22 nm no máximo, ou de 20 nm no máximo, mais preferencialmente de 18 nm. Estes intervalos de espessura podem permitir a desejada baixa emissividade e que a função anti-solar seja alcançada mantendo uma boa transmissão da luz. Numa pilha de revestimento com duas camadas funcionais, pode ser preferido que a espessura da segunda camada funcional, que se encontra mais afastada do substrato, seja ligeiramente maior do que a primeira para se obter uma melhor seletividade. No caso de uma pilha de revestimento com duas camadas funcionais, a primeira camada funcional pode ter uma espessura de, por exemplo, entre 8 e 18 nm, e a segunda camada funcional pode ter uma espessura entre 10 e 20 nm.

[0048] Em algumas modalidades da invenção, a pilha pode também compreender uma camada de barreira sobreposta diretamente sobre (isto é, acima e em contato direto com) pelo menos uma ou preferencialmente em cada camada funcional que não seja a última camada funcional. A camada de barreira pode ser à base de óxido de zinco, (ou seja, compreendendo Zn numa quantidade de pelo menos 50% atômico, preferencialmente de pelo menos 60% atômico, mais preferencialmente de pelo menos 70% atômico, ainda mais preferivelmente de pelo menos 80% atômico, da parte metálica do óxido), ou é constituída por um óxido de índio possivelmente dopado com estanho. Mais preferencialmente, a referida barreira é constituída por um óxido de zinco, possivelmente dopado com alumínio ou de um óxido de índio possivelmente dopado com estanho. Ainda mais preferivelmente, a camada de barreira é uma camada de ZnO puro (designado como iZnO) ou uma camada de óxido de zinco dopado com alumínio (designado como AZO), numa proporção de 10%, em peso, no máximo, de preferência de cerca de 2% em peso. Estes tipos de barreira têm a vantagem de melhorar a "auto-correspondência" do produto e a resistência por quadrado. A camada de barreira tem de preferência uma espessura de 20 nm, no máximo, ou de 18 nm no máximo, mais preferencialmente 16 nm no máximo, de preferência no intervalo de entre 1 e 18 nm ou de entre 2 e 18 nm, mais preferencialmente de entre 3 e 16 nm.

[0049] Em algumas modalidades da invenção, a pilha de camadas finas compreende, pelo menos, ou consiste em, por ordem a partir do substrato: (i) uma camada de óxido misto de zinco e estanho com uma espessura no intervalo de entre 20 e 40 nm, (ii) uma camada de óxido de zinco, possivelmente dopado, com uma espessura no intervalo de entre 3 e 10 nm, (iii) uma primeira camada funcional à base de prata com uma espessura no intervalo de entre 9 e 17 nm, (iv) uma camada de barreira de óxido de zinco, possivelmente dopado com alumínio, com uma espessura no intervalo de entre 2 e 16 nm, (v) opcionalmente, uma camada de óxido de zinco ou uma camada à base de óxido de zinco compreendendo um outro metal (por exemplo Al) em uma proporção em peso Zn/metal de pelo menos 80/20, de um modo preferido de pelo menos 90/10, com uma espessura no intervalo de entre 4 e 10 nm, (vi) uma camada de óxido misto de zinco e estanho com uma espessura no intervalo de entre 10 e 50 nm, (vii) uma camada de nitreto de silício com uma espessura no intervalo de entre 10 e 50 nm, (viii) uma camada de óxido misto de zinco e estanho com uma espessura no intervalo de entre 5 e 50 nm, (ix) uma camada de óxido de zinco, possivelmente dopado, com uma espessura no intervalo de entre 3 e 10 nm, (x) uma segunda camada funcional à base de prata com uma espessura no intervalo de entre 10 e 20 nm, (xi) uma camada de barreira de óxido de zinco, possivelmente dopado com alumínio, com uma espessura no intervalo de entre 2 e 16 nm, (xii) opcionalmente, uma camada de óxido de zinco ou uma camada à base de óxido de zinco compreendendo um outro metal (por exemplo Al) em uma proporção em peso Zn/metal de pelo menos 80/20, de um modo preferido pelo menos 90/10, com uma espessura no intervalo de entre 4 e 10 nm, (xiii) uma camada de óxido misto de zinco e estanho com uma espessura no intervalo de entre 3 e 20 nm, (xiv) uma camada de nitreto de silício com uma espessura no intervalo de entre 10 e 35 nm, e (xv) opcionalmente, uma camada de óxido misto de titânio e zircônio com uma espessura no intervalo de entre 3 e 10 nm.

[0050] Nestas modalidades da invenção, a espessura da camada (vi) ou, se for o caso, a soma das espessuras das camadas (v) e (vi) é, vantajosamente, maior do que a soma das espessuras das camadas (viii) e (ix).

[0051] Em outras modalidades da invenção uma cobertura dielétrica interna compreende, pelo menos, ou consiste em, por ordem a partir do substrato: (i) opcionalmente, uma camada de óxido de zinco ou uma camada à base de óxido de zinco compreendendo um outro metal (por exemplo Al) em uma proporção em peso Zn/metal de pelo menos 80/20, de um modo preferido de pelo menos 90/10, com uma espessura no intervalo de entre 4 e 10 nm, (ii) uma camada de óxido misto de zinco e estanho com uma espessura no intervalo de entre 10 e 30 nm, (iii) uma camada de nitreto de silício com uma espessura no intervalo de entre 10 e 45 nm, (iv) uma camada de óxido misto de zinco e estanho com uma espessura no intervalo de entre 5 e 30 nm, (v) uma camada de óxido de zinco, possivelmente dopado, com uma espessura no intervalo de entre 3 e 10 nm, bem como uma camada de óxido misto de titânio e zircônio com uma espessura no intervalo de entre 2 e 30 nm entre as camadas (ii) e (iii) ou entre as camadas (iii) e (iv) ou duas camadas de óxido misto de titânio e zircônio com uma espessura no intervalo de entre 2 e 30 nm, uma entre as camadas (ii) e (iii) e a outra entre as camadas (iii) e (iv).

[0052] Nestas modalidades da invenção, a espessura da camada (ii) ou, se for o caso, a soma das espessuras das camadas (i) e (ii), à qual pode haver causa para adicionar a espessura de uma camada de óxido misto de titânio e zircônio, é vantajosamente maior do que a soma das espessuras das camadas (iv) e (v), a qual pode haver causa para adicionar a espessura de uma camada de óxido misto de titânio e zircônio.

[0053] As unidades de revestimento de acordo com a invenção são de preferência utilizadas em unidades de revestimento múltiplas, por exemplo unidades de revestimento duplas ou triplas. Elas podem ter as seguintes propriedades:

[0054] Modalidades particulares da invenção serão agora descritas a título de exemplo com referência aos Exemplos 1-10 e aos exemplos comparativos 1-4.

[0055] Todas as espessuras dos exemplos e dos exemplos comparativos são dadas em Angstroms. Todas as camadas foram depositados utilizando pulverização catódica assistida por campo magnético sob vácuo. Quando o tratamento térmico teve lugar, este foi realizado nas seguintes condições: cura em um forno estático a 670 °C durante 9 min. 30 seg. Exemplos 1 a 8

[0056] As pilhas de camadas de acordo com a invenção, registradas na Tabela I foram depositadas sobre uma folha de vidro e, em seguida, tratadas termicamente. Os valores de resistência por quadrado são apresentados na tabela, antes e depois do tratamento térmico, mostrando valores que foram muito pouco modificados por este tratamento (Δ <0,4). Estas unidades de revestimento provaram ser "temperáveis" e "auto-correspondentes". O produto tratado termicamente não apresenta névoa ou manchas e antes do tratamento térmico o produto tem uma boa estabilidade química.

[0057] As seguintes propriedades foram medidas em amostras de acordo com o Exemplo 1a, Exemplo 7 e Exemplo 8 antes do tratamento térmico e as variações Δ calculadas entre os valores antes e depois do tratamento térmico:

Exemplo 9

[0058] Um exemplo de pilha de revestimento com três camadas funcionais de acordo com a invenção foi depositado sobre uma folha de vidro e é mostrado na Tabela II.

[0059] Este tipo de pilha de revestimento é resistente ao tratamento térmico e é auto-correspondente (ΔE* <8). Em revestimentos duplos (como definido acima) dá um valor de LT de entre 50 e 65% e uma seletividade maior do que 1,9. Exemplos Comparativos 1 e 2

[0060] As pilhas de camadas que não estão em conformidade com a invenção registradas na Tabela III, foram depositadas sobre uma folha de vidro e, em seguida, tratadas termicamente. Os valores de resistência por quadrado são fornecidos na tabela para antes e depois do tratamento térmico mostrando valores que foram significativamente degradados por este tratamento. Estas unidades de revestimento não podem, portanto, ser consideradas "auto-correspondentes". Além disso, se desenvolveu uma névoa pesada perceptível a olho nu após o tratamento térmico nestes exemplos comparativos.

[0061] Comparação entre o Exemplo Comparativo 1 e os exemplos de acordo com a invenção demonstra: • a vantagem de ter uma camada de nitreto ou óxido de silício rodeada por camadas de óxido na(s) cobertura(s) dielétrica(s) interna(s), em particular para limitar o aparecimento de névoa e aumentar a resistência por quadrado depois do tratamento térmico, o que leva a um aumento equivalente da emissividade, e • a vantagem de ter uma camada de nitreto de silício acima de uma camada de óxido na última cobertura dielétrica, em particular para a auto-correspondência.

[0062] Exemplo Comparativo 2 mostra uma pilha de revestimento, em que a camada em contato com o vidro é feita de nitreto e não de um óxido como na presente invenção. As amostras de acordo com este exemplo foram submetidas aos testes em câmaras climáticas e o teste de pulverização de sal ("pulverização salina neutra") de acordo com a norma EN 1096-2012 antes de qualquer tratamento térmico. Depois de apenas 1 dia na câmara climática as amostras de acordo com o Exemplo Comparativo 2 estavam mais degradadas do que aquelas de acordo com o Exemplo 1; foi o mesmo após 3 dias. Depois de apenas 1 dia na pulverização de sal as amostras de acordo com o Exemplo Comparativo 2 estavam mais degradadas do que aquelas de acordo com o Exemplo 1; foi o mesmo após 2 dias. Estas degradações eram evidentes através do aparecimento de manchas e/ou defeitos visíveis a olho nu. Isto demonstra a vantagem de ter, em particular, uma camada feita de um óxido em contato direto com o substrato para uma melhor estabilidade química do produto que não tenha sido tratado termicamente.

[0063] Nas tabelas a seguir: • ZSO5 representa um óxido misto de zinco e estanho em que a proporção de zinco e estanho é perto de 50-50% em peso (Zn2Sn2O4) • AZO representa um óxido de zinco dopado com alumínio em uma proporção aproximada de 2% em peso • SiN representa um nitreto de silício • TZO representa um óxido misto de titânio e zircônio numa proporção em peso de Ti/Zr de cerca de 65/35

Exemplo 10 e Exemplos Comparativos 3 e 4

[0065] Um exemplo de pilha de revestimento de acordo com a invenção e dois Exemplos Comparativos não de acordo com a invenção foram depositados sobre uma folha de vidro, como se segue:

[0066] Foram observadas as seguintes propriedades:

[0067] Os resultados do Teste de Pulverização Salina Neutra são dados nesta tabela numa escala de 1 a 5, sendo 5 não degradado, e sendo 1 muito degradado.

[0068] A comparação entre o Exemplo 10 e os exemplos comparativos 3 e 4, mostra os efeitos vantajosos da presença da camada feita de um óxido diferente de óxido de silício na cobertura dielétrica superior, entre a camada de barreira e a camada de nitreto de silício: muito melhor resistência à Pulverização Salina Neutra e muito menor mudança na transmissão de luz e de energia devido ao tratamento térmico.

Claims (17)

1. Revestimento compreendendo um substrato transparente provido de uma pilha de finas camadas compreendendo um arranjo alternado de n camadas funcionais refletoras das radiações infravermelhas e n+1 coberturas dielétricas, com n> 1, de tal modo que cada camada funcional está rodeada por coberturas dielétricas, e uma camada de barreira sobreposta diretamente sobre a última camada funcional mais distante do substrato caracterizado por: (i) a primeira cobertura dielétrica mais próxima do substrato compreender uma camada feita de um óxido, em contato direto com o substrato, (ii) a cobertura, ou coberturas, dielétrica(s) interna(s) rodeada(s) por duas camadas funcionais que compreende(m) uma camada consistindo de um nitreto de silício ou de um óxido de silício com uma espessura superior a 5 nm, rodeada em ambos os lados por camadas feitas a partir de um óxido diferente de óxido de silício com espessuras superiores a 5 nm, (iii) a camada de barreira é baseada no óxido de zinco ou consiste em um óxido de índio ou em óxido de índio dopado com estanho, e (iv) a última cobertura dielétrica mais distante do substrato compreende, por ordem a partir do substrato: uma camada feita de um óxido diferente do óxido de silício com uma espessura superior a 3 nm e uma camada feita de um nitreto de silício ou de um óxido de silício com uma espessura superior a 10 nm.

2. Revestimento, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por a camada feita de um óxido em contato direto com o substrato ser uma camada de óxido misto de zinco e estanho.

3. Revestimento, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado por a camada feita de um óxido em contato direto com o substrato ter uma espessura de pelo menos 20 nm.

4. Revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado por as camadas feitas a partir de um óxido diferente de óxido de silício da cobertura, ou coberturas, dielétrica(s) interna(s) serem feitas de óxido misto de zinco e estanho.

5. Revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado por cada cobertura dielétrica, com uma camada funcional sobreposta sobre a mesma, compreender uma camada à base de óxido de zinco, diretamente debaixo e em contato com a camada funcional.

6. Revestimento, de acordo com a reivindicação 5, caracterizado por cada camada à base de óxido de zinco, diretamente sob e em contato com a camada funcional, ter uma espessura de 15 nm, no máximo.

7. Revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado por sobre e em contato direto com cada camada funcional a pilha compreender uma camada de barreira feita de um óxido de zinco ou um óxido de zinco dopado com alumínio ou um óxido de índio ou óxido de índio dopado com estanho.

8. Revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, caracterizado por a ou cada camada de barreira ter uma espessura de 20 nm, no máximo.

9. Revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado por a última cobertura dielétrica compreender adicionalmente uma cobertura de topo de proteção formando a última camada da pilha e que consiste em um óxido, ou um óxido subestequiométrico, de pelo menos um elemento selecionado de Ti e Zr.

10. Revestimento, de acordo com a reivindicação 9, caracterizado por a cobertura de topo de proteção ter uma espessura de 15 nm, no máximo.

11. Revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, caracterizado por a pilha de camadas finas compreender pelo menos, ou ser constituída por, em ordem começando a partir do substrato: (i) uma camada de óxido misto de zinco e estanho com uma espessura no intervalo de entre 20 e 40 nm, (ii) uma camada de óxido de zinco, ou óxido de zinco dopado, com uma espessura no intervalo de entre 3 e 10 nm, (iii) uma primeira camada funcional à base de prata com uma espessura no intervalo de entre 9 e 17 nm, (iv) uma camada de barreira de óxido de zinco, ou óxido de zinco dopado com alumínio, com uma espessura no intervalo de entre 2 e 16 nm, (v) opcionalmente, uma camada de óxido de zinco ou uma camada à base de óxido de zinco compreendendo um outro metal (por exemplo Al) em uma proporção em peso Zn/metal de pelo menos 80/20, com uma espessura no intervalo de entre 4 e 10 nm, (vi) uma camada de óxido misto de zinco e estanho com uma espessura no intervalo de entre 10 e 50 nm, (vii) uma camada de nitreto de silício com uma espessura no intervalo de entre 10 e 50 nm, (viii) uma camada de óxido misto de zinco e estanho com uma espessura no intervalo de entre 5 e 50 nm, (ix) uma camada de óxido de zinco, ou óxido de zinco dopado, com uma espessura no intervalo de entre 3 e 10 nm, (x) uma segunda camada funcional à base de prata com uma espessura no intervalo de entre 10 e 20 nm, (xi) uma camada de barreira de óxido de zinco, ou óxido de zinco dopado com alumínio, com uma espessura no intervalo de entre 2 e 16 nm, (xii) opcionalmente, uma camada de óxido de zinco ou uma camada à base de óxido de zinco compreendendo um outro metal (por exemplo Al) em uma proporção em peso Zn/metal de pelo menos 80/20, com uma espessura no intervalo de entre 4 e 10 nm, (xiii) uma camada de óxido misto de zinco e estanho com uma espessura no intervalo de entre 3 e 20 nm, (xiv) uma camada de nitreto de silício com uma espessura no intervalo de entre 10 e 35 nm, e (xv) opcionalmente, uma camada de óxido misto de titânio e zircônio com uma espessura no intervalo de entre 3 e 10 nm.

12. Revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, caracterizado por a pilha de camadas finas compreender uma camada de um material dielétrico com um índice de refração superior a 2,2 em pelo menos uma das coberturas dielétricas.

13. Revestimento, de acordo com a reivindicação 12, caracterizado por o material dielétrico com um índice de refração superior a 2,2 ser um óxido de pelo menos um elemento selecionado de Ti, Nb e Zr.

14. Revestimento, de acordo com a reivindicação 12 ou 13, caracterizado por uma cobertura dielétrica interna compreender, pelo menos, ou consistir em, por ordem começando a partir do substrato: (i) opcionalmente, uma camada de óxido de zinco ou uma camada à base de óxido de zinco compreendendo um outro metal (por exemplo Al) em uma proporção em peso Zn/metal de pelo menos 80/20, com uma espessura no intervalo de entre 4 e 10 nm, (ii) uma camada de óxido misto de zinco e estanho com uma espessura no intervalo de entre 10 e 30 nm, (iii) uma camada de nitreto de silício com uma espessura no intervalo de entre 10 e 45 nm, (iv) uma camada de óxido misto de zinco e estanho com uma espessura no intervalo de entre 10 e 30 nm, (v) uma camada de óxido de zinco, ou óxido de zinco dopado, com uma espessura no intervalo de entre 3 e 10 nm, bem como uma camada de óxido misto de titânio e zircônio com uma espessura no intervalo de entre 2 e 30 nm entre as camadas (ii) e (iii) ou entre as camadas (iii) e (iv) ou duas camadas de óxido misto de titânio e zircônio com uma espessura no intervalo de entre 2 e 30 nm, uma entre as camadas (ii) e (iii) e a outra entre as camadas (iii) e (iv).

15. Revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 12 e 13, caracterizado por as camadas feitas a partir de um óxido diferente do óxido de silício da cobertura, ou coberturas, dielétrica(s) interna(s) serem feitas a partir de óxido misto de titânio e zircônio.

16. Revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 15, caracterizado por mostrar uma variação na cor na transmissão e na reflexão entre o revestimento que não tenha sido tratado termicamente e o revestimento tratado termicamente definido por um ΔE* em revestimento simples de 8 no máximo.

17. Revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 16, caracterizado por mostrar uma variação nos valores de transmissão e reflexão de luz e de energia entre o revestimento que não tiver sido tratado termicamente e o revestimento que tiver sido tratado termicamente num revestimento simples de 5 no máximo.