BG102467A - електростатичен йонен източник - Google Patents
електростатичен йонен източникInfo
- Publication number
- BG102467A BG102467A BG102467A BG10246798A BG102467A BG 102467 A BG102467 A BG 102467A BG 102467 A BG102467 A BG 102467A BG 10246798 A BG10246798 A BG 10246798A BG 102467 A BG102467 A BG 102467A
- Authority
- BG
- Bulgaria
- Prior art keywords
- ionic
- source
- delaying
- focusing
- acceleration
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Йонният източник намира приложение в йонните технологии. С него се получава йонен сноп от положителни йони от всички метали и полупроводници в твърдоагрегатно състояние с достатъчно висока за технологични приложения плътност и големина на йонния ток. Постига се 100% йонизация на работното веществопри минимални енергийни разходи, пълно контролиране разходимостта на йонния сноп и възможност за неговото фокусиране в петно с малък диаметър. Йонният източник има изключително дълъг експлоатационен срок и висока надеждност. Той се състои от йонен емитер с полево изпарение (1), снабден с фокусиращ (3), ускоряващ (5) и забавящ (6) електрод, системаза неутрализация (9) на йонния сноп, източник на подгряващо напрежение (10) за йонния емитер с полево изпарение (1), постояннотоков захранващ източник (8) и постояннотокови източници на фокусиращо (4), ускоряващо (2) и забавящо (7) напрежение.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| BG102467A BG62986B1 (bg) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | електростатичен йонен източник |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| BG102467A BG62986B1 (bg) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | електростатичен йонен източник |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BG102467A true BG102467A (bg) | 1999-11-30 |
| BG62986B1 BG62986B1 (bg) | 2000-12-29 |
Family
ID=3927452
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BG102467A BG62986B1 (bg) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | електростатичен йонен източник |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| BG (1) | BG62986B1 (bg) |
-
1998
- 1998-05-20 BG BG102467A patent/BG62986B1/bg unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BG62986B1 (bg) | 2000-12-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2523983A1 (en) | Ion generating element, ion generator, and electric device | |
| MY107109A (en) | Procedure and apparatus for the purification of air, flue gases or equivalent | |
| WO2002078043A3 (en) | Beam processing apparatus | |
| BR9612562A (pt) | Processo eletrolìtico para limpeza de superfìcie eletricamente condutoras. | |
| WO2002078041A3 (en) | Neutral particle beam processing apparatus | |
| WO2000068451A3 (en) | Magnetron negative ion sputter source | |
| ES2184265T3 (es) | Procedimiento y dispositivo de revestimiento por pvd. | |
| KR101023896B1 (ko) | 이온 발생장치 | |
| US20070166207A1 (en) | Plasma-generating device and method of treating a gaseous medium | |
| EP0740327A3 (en) | Ion beam processing apparatus | |
| EP0964425A3 (en) | Apparatus for processing a work piece with a uniformly neutralised ion beam | |
| ATE408890T1 (de) | Gerät zur verdampfung von werkstoffen zur beschichtung von gegenständen | |
| EP0531949B1 (en) | Fast atom beam source | |
| WO2002078407A3 (en) | Neutral particle beam processing apparatus | |
| WO2002078040A3 (en) | Neutral particle beam processing apparatus | |
| KR950007207A (ko) | 고속 원자빔 공급원 | |
| JPS57208029A (en) | Electric power unit for ion source | |
| DE69609358D1 (de) | Ionenquelle zur erzeugung von ionen aus gas oder dampf | |
| BR9805925A (pt) | Eletrodo frio para descargas de gás | |
| BG102467A (bg) | електростатичен йонен източник | |
| JP3536560B2 (ja) | 空気清浄装置 | |
| BG102068A (bg) | електростатична йонна пушка | |
| EP1164821A3 (en) | Static eliminator employing DC-biased corona with extended structure | |
| EP0874340A3 (en) | Low profile ionization chamber | |
| KR960019507A (ko) | 이중 모드 플라즈마 이온 주입 장치 및 이를 사용한 표면 개질 방법 |