BE776538A - Procede pour realiser un revetement qui se positionne de lui-meme, sur des zones de surface d'un corps semiconducteur, au moyen d'une laque photosensible - Google Patents
Procede pour realiser un revetement qui se positionne de lui-meme, sur des zones de surface d'un corps semiconducteur, au moyen d'une laque photosensibleInfo
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2061202A DE2061202C3 (de) | 1970-12-11 | 1970-12-11 | Verfahren zur selbstjustierenden Abdeckung von Flächenteilen auf der Oberfläche eines Halbleiterkörpers mit fotoempfindlichem Abdecklack |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BE776538A true BE776538A (fr) | 1972-04-04 |
Family
ID=5790759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BE776538A BE776538A (fr) | 1970-12-11 | 1971-12-10 | Procede pour realiser un revetement qui se positionne de lui-meme, sur des zones de surface d'un corps semiconducteur, au moyen d'une laque photosensible |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3816270A (cg-RX-API-DMAC10.html) |
| JP (1) | JPS5145475B1 (cg-RX-API-DMAC10.html) |
| BE (1) | BE776538A (cg-RX-API-DMAC10.html) |
| CA (1) | CA949230A (cg-RX-API-DMAC10.html) |
| DE (1) | DE2061202C3 (cg-RX-API-DMAC10.html) |
| FR (1) | FR2117915B1 (cg-RX-API-DMAC10.html) |
| GB (1) | GB1317697A (cg-RX-API-DMAC10.html) |
| IT (1) | IT943816B (cg-RX-API-DMAC10.html) |
| LU (1) | LU64425A1 (cg-RX-API-DMAC10.html) |
| NL (1) | NL7117001A (cg-RX-API-DMAC10.html) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4142893A (en) * | 1977-09-14 | 1979-03-06 | Raytheon Company | Spray etch dicing method |
| US4179802A (en) * | 1978-03-27 | 1979-12-25 | International Business Machines Corporation | Studded chip attachment process |
| JPS59124722A (ja) * | 1982-12-30 | 1984-07-18 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | レジスト・マスクの形成方法 |
-
1970
- 1970-12-11 DE DE2061202A patent/DE2061202C3/de not_active Expired
-
1971
- 1971-12-06 GB GB5647171A patent/GB1317697A/en not_active Expired
- 1971-12-07 FR FR7143812A patent/FR2117915B1/fr not_active Expired
- 1971-12-09 LU LU64425D patent/LU64425A1/xx unknown
- 1971-12-09 US US00206280A patent/US3816270A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-12-10 NL NL7117001A patent/NL7117001A/xx unknown
- 1971-12-10 BE BE776538A patent/BE776538A/xx unknown
- 1971-12-10 CA CA129,847A patent/CA949230A/en not_active Expired
- 1971-12-10 IT IT32216/71A patent/IT943816B/it active
- 1971-12-11 JP JP46100595A patent/JPS5145475B1/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1317697A (en) | 1973-05-23 |
| DE2061202C3 (de) | 1974-05-09 |
| JPS5145475B1 (cg-RX-API-DMAC10.html) | 1976-12-03 |
| LU64425A1 (cg-RX-API-DMAC10.html) | 1972-06-20 |
| IT943816B (it) | 1973-04-10 |
| DE2061202B2 (de) | 1973-10-11 |
| FR2117915B1 (cg-RX-API-DMAC10.html) | 1977-04-22 |
| CA949230A (en) | 1974-06-11 |
| FR2117915A1 (cg-RX-API-DMAC10.html) | 1972-07-28 |
| DE2061202A1 (de) | 1972-06-22 |
| NL7117001A (cg-RX-API-DMAC10.html) | 1972-06-13 |
| US3816270A (en) | 1974-06-11 |
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