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PROCEDE POUR LA SEPARATION GALVANIQUE DE METAUX SOUS L'INFLUENCE DE CHAMPS
A HAUTE FREQUENCE.
Lors de la galvanisation de métaux, il a déjà été proposé de su- perposer au courant continu des courants alternatifs à haute fréquence avec des fréquences allant jusqu'à 50 millions de Hertz pour neutraliser la passi- vité des anodes et pour augmenter la faculté de dispersion du bain. Une super- position de ce genre du courant continu avec des champs à haute fréquence res- tait cependant sans résultat dans la plupart des cas parce qu'une simple su- perposition ne suffisait pas à exercer une influence favorable sur le procédé de séparation.
Le procédé conforme à l'invention pour la séparation galvanique de métaux sous l'influence de champs à haute fréquence est essentiellement caractérisé par le fait qu'au champ du courant continu sont superposés au moins deux champs à haute fréquence avec des fréquences ne se différenciant que suffisamment peu l'une de l'autre pour que la fréquence intermédiaire pré- sente environ la valeur d'une molécule, ce qui a pour résultat de produire des phénomènes de résonance qui neutralisent ou amplifient partiellement la charge propre des ions et exercent par là une influence favorable sur la sé- paration des métaux.
De préférence, le montage des électrodes est accordé avec le gé- nérateur à haute fréquence de telle manière que se produise sur les électro- des un effet pelliculaire ou effet Kelvin, ce qui détermine le fait que, par suite de l'action fortement ionisante de la pellicule de l'effet Kelvin, une surtension des ions à décharger est supprimée et, par suite, des dispersions très élevées et des rendements en courant très importants sont obtenus. Il est avantageux que des fréquences intermédiaires élevées, par exemple entre 3,50 et 3,56 m. de longueur d'onde, soient accordées de telle manière que, sur la cathode, la structure cristalline du métal séparé soit influencée de
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façon que le précipité puisse être adapté à l'utilisation envisagée dans chaque cas pour le métal galvanisé.
L'utilisation du procédé conforme à l'in- vention permet d'obtenir une séparation des métaux particulièrement favora- ble, donc extrêmement épaisse se liant avec le métal de base de la manière la plus solide et à cristaux fins.
REVENDICATIONS.
1 - Procédé pour la séparation galvanique de métaux sous l'in-' fluence de champs à haute fréquence, caractérisé par le fait qu'au champ de courant continu sont superposés au moins deux champs à haute fréquence avec des fréquences se différenciant l'une de l'autre d'une quantité suffisamment faible pour que la fréquence intermédiaire présente sensiblement la valeur d'une molécule, ce qui a pour résultat de prdduire des phénomènes de réso- nance qui neutralisent ou amplifient partiellement la charge propre des ions et qui exercent par là une influence favorable sur la séparation des métaux.
2 - Procédé suivant 1 , caractérisé par le fait que le montage des électrodes est accordé avec le générateur de haute fréquence de telle manière que, sur les électrodes, se produise un effet pelliculaire ou effet Kelvin, ce qui a pour résultat que, par suite de l'action fortement ionisan- te de la pellicule de l'effet Kelvin, une surtension des ions à décharger est supprimée et qu'ainsi des dispersions très élevées et des rendements en courant très importants sont obtenus.
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PROCESS FOR GALVANIC SEPARATION OF METALS UNDER THE INFLUENCE OF FIELDS
HIGH FREQUENCY.
When galvanizing metals, it has already been proposed to apply high-frequency alternating currents to direct current with frequencies of up to 50 million Hertz to neutralize the passivity of the anodes and to increase the capacity of dispersion of the bath. Such superposition of direct current with high frequency fields was, however, in most cases unsuccessful because mere superposition was not sufficient to exert a favorable influence on the separation process.
The method according to the invention for the galvanic separation of metals under the influence of high frequency fields is essentially characterized in that at the direct current field are superimposed at least two high frequency fields with frequencies not differentiating that little enough of each other for the intermediate frequency to be about the value of one molecule, which results in the production of resonance phenomena which partially neutralize or amplify the proper charge of the ions and exert by there a favorable influence on the separation of metals.
Preferably, the arrangement of the electrodes is matched with the high frequency generator in such a way that a skin effect or Kelvin effect occurs on the electrodes, which determines that, as a result of the strongly ionizing action of the Kelvin effect film, an overvoltage of the ions to be discharged is suppressed and, as a result, very high dispersions and very high current yields are obtained. It is advantageous that high intermediate frequencies, for example between 3.50 and 3.56 m. of wavelength, are tuned in such a way that, on the cathode, the crystal structure of the separated metal is influenced by
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so that the precipitate can be adapted to the intended use in each case for the galvanized metal.
The use of the process according to the invention makes it possible to obtain a particularly favorable separation of metals, therefore extremely thick, which bonds with the base metal in the most solid and fine-crystal manner.
CLAIMS.
1 - Process for the galvanic separation of metals under the influence of high frequency fields, characterized in that at the direct current field are superimposed at least two high frequency fields with frequencies differing from one on the other hand, by an amount sufficiently small for the intermediate frequency to have substantially the value of one molecule, which has the result of producing resonance phenomena which partially neutralize or amplify the proper charge of the ions and which exert thereby a favorable influence on the separation of metals.
2 - Method according to 1, characterized in that the assembly of the electrodes is matched with the high frequency generator in such a way that, on the electrodes, a skin effect or Kelvin effect occurs, which has the result that, consequently due to the strongly ionizing action of the Kelvin effect film, an overvoltage of the ions to be discharged is suppressed and thus very high dispersions and very high current yields are obtained.
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