BE1030607A1 - Perselement en werkwijze voor het vervaardigen van perselementen - Google Patents

Abstract

Perselement (1) en werkwijze voor het vervaardigen van een gestructureerd perselement (1), waarbij een heterogeen masker (3) wordt aangebracht op een metalen basiselement (2) waarna een oppervlaktebehandeling wordt uitgevoerd en het heterogeen masker een zekere resistentie heeft tegen de oppervlaktebehandeling.

Description

1 BE2022/5454

Perselement en werkwijze voor het vervaardigen van perselementen

Deze uitvinding heeft betrekking op perselementen, een werkwijze voor het vervaardigen van perselementen, en beklede panelen bekomen met perselementen.

Meer speciaal heeft de uitvinding betrekking op de vervaardiging van perselementen die worden ingezet in een werkwijze voor het vervaardigen van beklede panelen, waarbij de beklede panelen van het type zijn dat een substraat en een erop aangebrachte decoratieve toplaag omvat. Het kan hierbij bijvoorbeeld gaan om vloerpanelen die hoofdzakelijk bestaan uit een substraat en een toplaag. Het substraat kan bijvoorbeeld omvatten een

MDF of HDF (Medium Density Fiberboard of High Density Fiberboard) paneel, waarop een toplaag, zoals een laminaattoplaag omvattende hars geïmpregneerde papierlagen, is aangebracht. Het substraat kan ook omvatten één of meerdere thermoplast gebaseerde lagen, waarbij dan een toplaag, zoals een laminaattoplaag omvattende thermoplast gebaseerde sublagen, is aangebracht. Andere voorbeelden voor mogelijke substraten zijn onder andere mineraal gebaseerde substraten, zoals cement gebaseerde, MgO gebaseerde of gipsgebaseerde substraten, of geopolymeer gebaseerde substraten.

In het bijzonder betreft de uitvinding perselementen die worden aangewend in een werkwijze voor het vervaardigen van beklede panelen met een gedrukt decor met een zich hierboven uitstrekkende doorzichtige of doorschijnende kunststoflaag. Het is bekend dat dergelijk decor, al dan niet mits tussenkomst van grondlagen, rechtstreeks op het substraat kan zijn gedrukt. Het decor kan evenwel ook zijn voorzien op een materiaalvel, zoals een papiervel of een plastiek folie, die in de voornoemde toplaag is opgenomen. Eventueel kan een doorzichtige of doorschijnende kunststoflaag een beschermlaag vormen boven het gedrukte decor en kan deze doorzichtige of doorschijnende kunststoflaag bijvoorbeeld slijtbestendige partikels zoals aluminiumoxide of korund omvatten. Het is niet uitgesloten dat deze beschermlaag eveneens een materiaalvel, zoals een papiervel of plastiekfolie, bevat. Het kan bijvoorbeeld gaan om de vervaardiging van laminaatvloerpanelen, bijvoorbeeld volgens een DPL (Direct Pressure Laminate) of HPL (High Pressure Laminate) techniek. In het geval van een DPL-techniek worden één of meerdere van hars voorziene materiaalvellen

2 BE2022/5454 samen met het substraat in een persinrichting gebracht waar zij aan de hand van een perselement en onder inwerking van verhoogde druk en temperatuur zowel onderling als met het substraat worden verbonden. In het geval van een HPL-techniek wordt de toplaag afzonderlijk gevormd op basis van twee of meer van hars voorziene materiaalvellen, alvorens de aldus verkregen toplaag op het substraat wordt aangebracht, bijvoorbeeld door deze op het substraat te lijmen. Volgens een andere mogelijkheid kan het gaan om de vervaardiging van kunststofgebaseerde vloerpanelen of vloerbekledingen, zoals bijvoorbeeld vinylpanelen, vinylbekleding en dergelijke meer.

Het is bekend, bijvoorbeeld uit het WO 01/96689 of het WO 2014/115086 dat aan het oppervlak of de sierzijde van dergelijke beklede panelen een reliëf van ingedrukte gedeelten kan worden gevormd, waarmee bijvoorbeeld de natuurlijke structuur van het in voornoemd decor weergegeven motief kan worden geïmiteerd. Zo bijvoorbeeld kan in het geval het decor een houtmotief weergeeft, worden gewerkt met een reliëf dat een houtstructuur imiteert. Dergelijk houtstructuur kan eventueel in overeenstemming zijn met het onderliggend decor, waarmee dan zogenaamde indrukkingen in register met het gedrukte decor worden bekomen.

Voor het realiseren van een reliëf aan de sierzijde worden zoals gekend gestructureerde perselementen aangewend. Voor de vervaardiging van dergelijke perselementen zijn verschillende technieken gekend bijvoorbeeld uit het WO 2006/066776, het EP 2 123 476, het EP 2 251 193, het EP 1 987 395 en het EP 2 834 076. Uit het EP’395 is een werkwijze bekend voor het vervaardigen van gestructureerde perselementen, waarbij de werkwijze minstens de volgende stappen omvat: - de stap van het voorzien van een element uit metaal, - de stap van het aanbrengen van een masker op een oppervlak van het element voor het afschermen van gedeelten van het voornoemde oppervlak; - de stap van het chemisch bewerken of etsen van niet afgeschermde gedeelten van het voornoemde oppervlak van het element; en - de stap van het verwijderen van het voornoemde masker.

3 BE2022/5454

De perselementen die aan de hand van de werkwijzen uit de stand van de techniek worden bekomen laten nog te wensen over, in het bijzonder wanneer zij worden ingezet voor het verwezenlijken van relatief diepe structuurgedeelten in het oppervlak van het betreffende perselement, bijvoorbeeld bij structuurgedeelten met een diepte groter dan 0,15 millimeter, of 0,3 millimeter of meer.

Bij het streven naar een diepe structuur kunnen verschillende cycli van maskervoorziening en etsen worden toegepast. Een dergelijke werkwijze leidt er echter toe dat uitsteeksels zijranden hebben met verontrustend zichtbare begrenzingen, zoals stapvormige/trapvormige abrupte veranderingen in hellingshoek. Deze begrenzingen worden gekopieerd in het oppervlak van de daarmee vervaardigde gecoate of gelamineerde panelen en leiden af van de in het algemeen fijne imitatie van een natuurlijke structuur, zoals bijvoorbeeld een houtstructuur, of een structuur die verlaagde randen vormt, zoals afgeschuinde randen. Een ander nadeel is ook dat er verschillende cycli nodig zijn waarbij er steeds een masker wordt aangebracht, er geëtst wordt, het masker terug verwijderd wordt. Dit neemt uiteraard veel tijd in beslag.

Het kan ook wenselijk zijn om subtiele hoogteverschillen te hebben in het perselement, bijvoorbeeld microstructuren. Dit betreffen dan bijvoorbeeld structuren met hoogteverschillen gelegen tussen bijvoorbeeld 5 en 30 micron. Met behulp van dergelijke microstructuren kunnen glansverschillen bekomen worden. Met bestaande oppervlaktebehandelingen is het moeilijk om deze microstructuren precies en/of op een repetitieve manier aan te brengen.

Dus zowel voor perselementen met microstructuren, als voor perselementen met diepe structuren, als voor perselementen met microstructuren en diepe structuren, laten de huidige werkwijzen voor het vervaardigen van perselementen, te wensen over.

Bij bestaande werkwijzen voor het vervaardigen van perselementen, waarbij er gebruik wordt gemaakt van etsen, worden er vaak nog bijkomende bewerkingsstappen uitgevoerd om de structuur van het perselement nog verder te optimaliseren. Dergelijke bijkomende bewerkingsstappen kunnen één of meerdere van volgende bewerkingen omvatten:

4 BE2022/5454 freesbewerkingen, laserbewerkingen, zandstralen, polieren, enz. Met dergelijke bijkomende bewerkingsstappen kan de structuur van het perselement verder geoptimaliseerd worden, echter voor deze bijkomende bewerkingsstappen is extra infrastructuur nodig.

De huidige uitvinding beoogt een alternatieve werkwijze voor het vervaardigen van een perselement, een alternatief perselement en een alternatief bekleed paneel, dat volgens verschillende voorkeurdragende uitvoeringsvormen van de uitvinding voordelen kan bieden ten opzichte van de stand van de techniek.

De uitvinding betreft een werkwijze voor het vervaardigen van een gestructureerd perselement, waarbij deze werkwijze minstens de volgende stappen omvat: -het voorzien van een metalen basiselement, zoals een plaat of rol. Dit metalen basiselement omvat bijvoorbeeld staal en/of koper en/of messing; -het aanbrengen van een masker op een oppervlak van het metalen basiselement, waarbij het masker een zekere resistentie heeft tegen een oppervlaktebehandeling om zo, ter hoogte van het masker, het oppervlak minstens tijdelijk af te schermen van de oppervlaktebehandeling; -het uitvoeren van de oppervlaktebehandeling; waarbij het genoemde masker een heterogene opbouw heeft, en minstens deze opbouw de mate van de genoemde resistentie tegen de oppervlaktebehandeling bepaalt.

Met een gestructureerd perselement wordt aangeduid een perselement omvattende een buitenste oppervlak met een bepaalde structuur/reliëf.

Het metalen basiselement kan bijvoorbeeld een plaat zijn, waarbij het perselement dan bijvoorbeeld een persplaat is. Het oppervlak van het metalen basiselement strekt zich dan hoofdzakelijk uit volgens een vlak. Het metalen basiselement kan ook een rol zijn, waarbij het perselement dan bijvoorbeeld een persrol is. Het oppervlak van het metalen basiselement is dan bij voorkeur cilindervormig. Het metalen basiselement kan bijvoorbeeld hoofdzakelijk uit staal vervaardigd zijn en al dan niet een bijkomende coating omvatten. Deze bijkomende coating kan koper en/of nikkel omvatten. Na de genoemde oppervlaktebehandeling en het eventuele verwijderen van het masker, kan het gevormde oppervlak worden afgewerkt met één of meerdere lagen omvattende chroom, zijnde chroomlagen. Een chroomlaag dient als bescherming tegen slijtage en mechanische beschadiging. Ze zorgt er ook voor dat platen omvattende harsen goed 5 loskomen van het perselement na het persen. Deze chroomlaag kan één of meerdere types chroom omvatten, afhankelijk van de gewenste glans. Deze chroomlaag kan uit één of meerdere lagen bestaan. Zo kan er bijvoorbeeld een basis chroomlaag worden aangebracht over het volledige oppervlak, die zorgt voor een bepaald glans, waarbij er dan op specifieke plaatsen en bijkomende chroomlaag wordt aangebracht met een andere glans.

Met een oppervlaktebehandeling wordt hier bij voorkeur een materiaal verwijderende oppervlaktebehandeling aangeduid. Door het verwijderen van materiaal worden er dalen gevormd en dus ook bergen, en wordt zo een oppervlaktestructuur gevormd. Het is ook mogelijk dat tijdens de oppervlaktebehandeling er enkel deuken en dergelijke worden aangebracht in het oppervlak, en dit zonder het verwijderen van materiaal. De oppervlaktebehandeling kan ook een combinatie zijn van het verwijderen van materiaal en het aanbrengen van deuken en dergelijke. De oppervlaktebehandeling, zoals aangeduid in de conclusies, kan één of meerdere van volgende behandelingen omvatten uit onderstaande niet-exhaustieve lijst: een etsbehandeling -bijvoorbeeld een chemische etsbehandeling met een etsvloeistof-, een polierbehandeling —bijvoorbeeld een mechanische polierbehandeling of een = elektropolierbehandeling-, een zandstraalbehandeling, een laserbehandeling, een freesbehandeling. Bovengenoemde behandelingen kunnen elk bestaan uit één of meerdere substappen. Met een etsbehandeling wordt hier bij voorkeur een chemische etsbehandeling aangeduid, waarbij het oppervlak bijvoorbeeld wordt blootgesteld aan een etsvloeistof. Men kan hiervoor bijvoorbeeld het basiselement zo aanbrengen in een etsbad gevuld met een etsvloeistof, dat minstens een gedeelte van het oppervlak wordt blootgesteld aan de etsvloeistof. Een andere mogelijkheid is om éénmaal of meerdere malen een etsvloeistof te vernevelen op het oppervlak van het metalen basiselement en dit door bijvoorbeeld het metalen basiselement onder een brug te verplaatsen omvattende spuitkoppen, waarbij de

6 BE2022/5454 spuitkoppen de etsvloeistof aanbrengen op het oppervlak tijdens het verplaatsen van het metalen basiselement onder de brug.

De oppervlaktebehandeling, zoals aangegeven in de conclusies, kan bijvoorbeeld ook betrekking hebben op één type oppervlaktebehandeling zoals hierboven weergegeven, zijnde bijvoorbeeld een etsbehandeling of een polierbehandeling of een laserbehandeling of een freesbehandeling. Andere oppervlaktebehandelingen zijn dan ook mogelijk, maar worden dan bijvoorbeeld aanzien als een bijkomende oppervlaktebehandeling die plaatsvindt voorafgaand, tijdens of na de eerstgenoemde oppervlaktebehandeling. Zo kan de oppervlaktebehandeling een etsbehandeling zijn die bestaat uit één of meerdere substappen.

Het genoemde masker heeft hier een heterogene opbouw, waardoor de resistentie tegen de oppervlaktebehandeling, bijvoorbeeld de etsbehandeling en/of de zandstraalbehandeling en/of de polierbehandeling, niet overal gelijk is. Bepaalde delen van het masker, de minder resistente delen, gaan hierdoor gevoeliger zijn aan de oppervlaktebehandeling dan andere delen, en dus gemakkelijker gaan afbreken/degraderen. Tijdens de oppervlaktebehandeling gaan hierdoor bepaalde delen van het masker gaan degraderen en zelfs volledig verdwijnen. Dit betekent dat gedeeltes van het oppervlak die eerst bedekt waren door het masker, tijdens de oppervlaktebehandeling niet meer bedekt zijn, en dus ook onderworpen worden aan de oppervlaktebehandeling. Tijdens de oppervlaktebehandeling gaan de gedeeltes waarop geen masker werd aangebracht, behandeld worden en zal er dus bij deze gedeeltes bijvoorbeeld materiaalverwijdering zijn. Echter ook bij gedeeltes die oorspronkelijk wel door het masker bedekt werden, maar waarbij het masker degradeert/afbreekt tijdens de oppervlaktebehandeling, zullen ook behandeld worden tijdens de oppervlaktebehandeling, waardoor er ook hier bijvoorbeeld materiaalverwijdering zal zijn. Bij deze laatstgenoemde gedeeltes zal er minder materiaalverwijdering zijn dan bij de eerstgenoemde gedeeltes, indien de oppervlaktebehandeling een materiaal verwijderende oppervlaktebehandeling is. Het grote voordeel is dat tijdens eenzelfde oppervlaktebehandeling, onderdelen van het oppervlak anders behandeld kunnen worden. Zo worden de onbedekte gedeeltes aan de volledige oppervlaktebehandeling

7 BE2022/5454 blootgesteld, worden bepaalde oorspronkelijk bedekte gedeeltes tijdelijk blootgesteld aan de oppervlaktebehandeling en dit vanaf een bepaald tijdstip van de oppervlaktebehandeling, afhankelijk van hoe snel het masker op die plaatsen degradeert, en worden bijvoorbeeld bepaalde gedeeltes van de bedekte gedeeltes niet blootgesteld aan de oppervlaktebehandeling. Deze perselementen kunnen hier op een eenvoudige wijze worden voorzien van de gewenste structuur en dit zonder de nood aan bijvoorbeeld meerdere cycli van maskervoorziening, etsen en maskerverwijdering, en/of de nood aan genoemde bijkomende behandelingsstappen zijnde bijvoorbeeld frezen of laserbehandeling, wanneer de oppervlaktebehandeling bijvoorbeeld een etsbehandeling, of een polierbehandeling of een zandstraalbehandeling omvat; en/of de nood aan het aanbrengen van meerdere maskers op eenzelfde plaats. Uiteraard kan men bij deze werkwijze ook gebruik maken van meerdere cycli van maskervoorziening en maskerverwijdering, en/of genoemde bijkomende behandelingsstappen.

Het masker kan één of meerdere van volgende omvatten, indien niet tegenstrijdig: een wax, (UV-)inkten, poeder dat met behulp van een laserbehandeling is vastgezet op het oppervlak, thermoplasten, coatings, acrylaten, thermosets, polystyrenen, epoxyverbindingen, een lak. Het is mogelijk dat het masker met twee of meerdere benamingen van bovengenoemde lijst kan worden aangeduid. Zo kan het masker een coating zijn omvattende een thermoset of kan het masker een lak zijn omvattende acrylaten.

Door de uitvinding kan men hier op een eenvoudige wijze, bijvoorbeeld met behulp van het éénmaal aanbrengen van een masker en het uitvoeren van een oppervlaktebehandeling die enkel gebruik maakt van bijvoorbeeld chemisch etsen, het gewenste perselement bekomen. Bij voorkeur wordt slechts éénmaal een masker aangebracht, waarna het metalen basiselement met het masker onderworpen wordt aan de oppervlaktebehandeling die een materiaal verwijderende oppervlaktebehandeling is.

Verder bij voorkeur omvat de oppervlaktebehandeling slechts een etsbehandeling. Deze etsbehandeling kan uit één of meerdere substappen ontstaan. Bijkomende oppervlaktebehandelingen zijn niet uitgesloten.

8 BE2022/5454

Ook verder bij voorkeur omvat deze werkwijze, na het uitvoeren van de oppervlaktebehandeling, een bijkomende stap van het verwijderen van het masker.

Hiermee wordt hier de stap aangeduid waarbij het nog resterende gedeelte van het masker verwijderd wordt. Dit omdat het mogelijk is dat de minder resistentie gedeeltes van het masker reeds tijdens de oppervlaktebehandeling deels of volledig verwijderd werden.

Ook meer resistente gedeeltes kunnen gedeeltelijk door de oppervlaktebehandeling verwijderd zijn, bijvoorbeeld dunner geworden zijn, maar bij deze meer resistente gedeeltes blijft bijvoorbeeld, het door deze meer resistente gedeeltes bedekte oppervlak, steeds bedekt tijdens de volledige oppervlaktebehandeling. Tijdens het verwijderen van het masker kan er een minieme structuurverandering zijn van het oppervlak, echter dit wordt hier dan niet aanzien als een onderdeel van de materiaal verwijderende oppervlaktebehandeling, gezien het hoofddoel enkel masker verwijdering is. Voor het verwijderen van het resterende masker kan men bijvoorbeeld gebruik maken van een reinigings- en/of neutralisatiemiddel. Men kan ook gebruik maken van een ultrasone vibrator of dergelijke. Men kan ook gebruik maken van laserablatie en/of frezen en/of polieren. Combinaties van meerdere technieken zijn ook mogelijk. Het grote voordeel bij deze werkwijze is dat, tijdens de oppervlaktebehandeling, reeds een deel van het masker verwijderd wordt, waardoor er bij de stap van het verwijderen van het masker, reeds minder masker aanwezig is en er dus minder nood is aan reinigings- en/of neutralisatiemiddel en/of deze stap in een kortere tijdsspanne kan worden uitgevoerd. De stap van het verwijderen van het masker, kan ook als een, bij voorkeur laatste, substap aanzien worden van de oppervlaktebehandeling, waarbij de resistentie van het masker dan zodanig is dat na de oppervlaktebehandeling het masker volledig verdwenen is. Bij voorkeur wordt de stap van het verwijderen van het masker als een bijkomende stap aanzien, naast de oppervlaktebehandeling, gezien er bij de stap van het verwijderen van het masker er bij voorkeur geen of nagenoeg geen verandering is van het reliëf van het oppervlak van het metalen basiselement.

Het is ook mogelijk dat de werkwijze geen stap omvat voor het verwijderen van het masker, dit omdat het masker bijvoorbeeld al volledig verdwenen is door de oppervlaktebehandeling (zie boven) of doordat het misschien wenselijk kan zijn dat een

9 BE2022/5454 deel van het masker blijft. Het resterende gedeelte van het masker zal hier dan mee de oppervlaktestructuur van het perselement bepalen.

In een voorkeurdragende uitvoeringsvorm deelt het masker het genoemde oppervlak van het metalen basiselement op in één of meerdere bedekte gedeeltes, waarop het masker zich bevindt, en één of meerdere onbedekte gedeeltes, waarop zich geen masker bevindt of zich nagenoeg geen masker bevindt -bijvoorbeeld enkel een basislaag-, en, waarbij het masker één of meerdere randgedeeltes en één of meerdere interne gedeeltes omvat, waarbij de één of meerdere interne gedeeltes elk volledig omringd worden door aanpalende één of meerdere randgedeeltes, en de één of meerdere randgedeeltes zich uitstrekken tussen aanpalende één of meerdere onbedekte gedeeltes van het oppervlak, en aanpalende één of meerdere interne gedeeltes van het masker, waarbij de werkwijze één of meerdere van volgende kenmerken omvat, zolang deze niet tegenstrijdig zijn: -de opbouw van het masker is zodanig dat ter hoogte van minstens één genoemd randgedeelte, de resistentie tegen de oppervlaktebehandeling, toeneemt vanaf een respectievelijk aanpalend onbedekt gedeelte tot een respectievelijk aanpalend intern gedeelte, bij voorkeur geleidelijk aan toeneemt. Tijdens de oppervlaktebehandeling zullen de randgedeeltes hier meer aangetast worden en kunnen ze zelf gedeeltelijk en/of volledig afbreken, waardoor de delen van het oppervlak die zich in het begin van de oppervlaktebehandeling onder deze randgedeeltes bevonden, tijdens de oppervlaktebehandeling bloot komen te liggen en deze delen dus ook bewerkt worden, maar minder bewerkt worden dan de onbedekte gedeeltes. Dit laat toe om een gestructureerd perselement met een reliëf met vlotte overgangen te bekomen, waarmee esthetische beklede panelen kunnen worden vervaardigd. -de opbouw van het masker is zodanig dat ter hoogte van minstens één genoemd randgedeelte, de dikte van het masker, toeneemt vanaf een respectievelijk aanpalend onbedekt gedeelte tot een respectievelijk aanpalend intern gedeelte, bij voorkeur geleidelijk aan toeneemt. Tijdens de oppervlaktebehandeling kan de dikte van het masker bijvoorbeeld afnemen, al dan niet geleidelijk aan. Dit betekent dat dunnere delen van het masker zelfs volledig kunnen verdwijnen tijdens de oppervlaktebehandeling, waardoor ter hoogte van deze dunnere gedeeltes het oppervlak ook zal bewerkt worden door de oppervlaktebehandeling, maar in mindere mate dan de onbedekte gedeeltes. Dit laat toe

10 BE2022/5454 om een gestructureerd perselement met een reliëf met vlotte overgangen te bekomen, waarmee esthetische beklede panelen kunnen worden vervaardigd. -de genoemde één of meerdere randgedeeltes, zijdelingse flanken vormen van het masker, waarbij deze zijdelings flanken bij voorkeur met een afronding overgaan in de aanpalende één of meerdere onbedekte gedeeltes.

Dergelijke flanken laten toe dat de randgedeeltes geleidelijk aan verdwijnen tijdens de etsbehandeling, eerst ter hoogte van de onbedekte gedeeltes en later richting de interne gedeeltes.

Dit laat toe om een gestructureerd perselement met een reliëf met vlotte overgangen te bekomen, waarmee esthetische beklede panelen kunnen worden vervaardigd.

-de dikte van het masker heterogeen is, zodat het masker dikkere secties omvat met een dikte hoger dan een bepaalde drempelwaarde en dunnere secties met een dikte lager dan deze drempelwaarde, waarbij bij voorkeur genoemde randgedeeltes minstens deel uitmaken van deze dunnere secties en waarbij verder bij voorkeur de dunnere secties direct aanpalen aan de één of meerdere onbedekte gedeeltes.

Deze drempelwaarde komt bijvoorbeeld overeen met de maximale dikte van het masker die tijdens de volledige oppervlaktebehandeling verwijderd kan worden.

Ter hoogte van dikkere secties, betekent dit dat zelfs na de oppervlaktebehandeling, het respectievelijke oppervlak nog steeds bedekt is, terwijl bij de dunnere secties het masker nagenoeg volledig verdwenen is na de oppervlaktebehandeling.

Bij de eventuele stap van het verwijderen van het masker,

moeten er hier dan enkel ter hoogte van de dikkere secties masker verwijderd worden.

-de opbouw van het masker is zodanig dat de resistentie tegen de oppervlaktebehandeling ter hoogte van minstens één genoemd intern gedeelte, hoger is dan de resistentie tegen de oppervlaktebehandeling ter hoogte van een genoemd aanpalend randgedeelte.

-de dikte van het masker ter hoogte van genoemde één of meerdere interne gedeeltes, steeds hoger is dan de dikte ter hoogte van corresponderende één of meerdere randgedeeltes.

-de chemische samenstelling van een genoemd randgedeelte, verschilt van de chemische samenstelling van een respectievelijk aanpalend intern gedeelte.

Zo kan door het verschil in chemische samenstelling, het randgedeelte minder resistent zijn dan het interne gedeelte, waardoor het randgedeelte tijdens de oppervlaktebehandeling volledig zal afbreken.

Dit laat toe om gestructureerd perselement met een reliëf met vlotte

Il BE2022/5454 overgangen te bekomen, waarmee esthetische beklede panelen kunnen worden vervaardigd. -het masker vervaardigd is uit minstens een uithardbare substantie, waarbij de uithardingsgraad ter hoogte van een genoemd randgedeelte, lager is dan de uithardingsgraad ter hoogte van een respectievelijk aanpalend intern gedeelte.

Bij een lagere uithardingsgraad kan het masker minder resistent zijn aan de oppervlaktebehandeling, waardoor de minder uitgeharde gedeeltes bijvoorbeeld volledig gaan afbreken tijdens de oppervlaktebehandeling. -genoemde een of meerdere randgedeeltes allen eenzelfde eerste chemische samenstelling hebben en genoemde een of meerdere interne gedeeltes allen eenzelfde tweede chemische samenstelling hebben, waarbij de eerste chemische samenstelling minder resistent is aan de oppervlaktebehandeling dan de tweede chemische samenstelling.

Bijvoorbeeld wanneer de oppervlaktebehandeling een etsbehandeling is of een etsbehandeling omvat, kunnen de maskergedeeltes met de tweede chemische samenstelling, resistenter zijn aan een in de etsbehandeling gebruikte etsvloeistof, dan de maskergedeeltes met de eerste chemische samenstelling.

Bijkomend of als alternatief kunnen de maskergedeeltes met de tweede chemische samenstelling, bijvoorbeeld beter hechten aan het oppervlak dan maskergedeeltes met de eerste chemische samenstelling, waardoor deze minder snel gaan afbreken/degraderen.

-het masker vervaardigd is uit minstens een uithardbare substantie, waarbij de uithardingsgraad ter hoogte van genoemde één of meerdere interne gedeeltes, groter is dan de uithardingsgraad ter hoogte van genoemde één of meerdere randgedeeltes.

-het masker opgebouwd is uit twee of meerdere lagen, zijnde minstens een bindingslaag en een tweede laag, waarbij deze lagen al dan niet uit meerdere sublagen zijn opgebouwd, waarbij de bindingslaag de binding tussen het oppervlak en de tweede laag versterkt, en waarbij ter hoogte van de randgedeeltes, de genoemde bindingslaag ontbreekt.

Deze bindingslaag kan bijvoorbeeld zorgen voor een hogere resistentie tegen de oppervlaktebehandeling.

-voorafgaand aan het aanbrengen van het masker, kan het oppervlak onderworpen worden aan een ultrasone behandeling.

Met behulp van de ultrasone behandeling kunnen gedeeltes van het aan te brengen masker, bijvoorbeeld beter gaan hechten aan het oppervlak.

De ultrasone behandeling kan hier dan bijvoorbeeld zorgen voor een zeer

12 BE2022/5454 goede hechting tussen het oppervlak en de interne gedeeltes, zodat het oppervlak ter hoogte van de interne gedeeltes, tijdens de volledige oppervlaktebehandeling, bedekt blijft.

Zo kunnen de interne gedeeltes en randgedeeltes vervaardigd zijn uit andere materialen, waarbij het materiaal waaruit de randgedeeltes vervaardigd zijn, minder goed hecht aan het oppervlak, dan het materiaal waaruit de interne gedeeltes vervaardigd zijn.

-er merktekens worden aangebracht op het oppervlak voorafgaand aan het aanbrengen van het masker op het oppervlak, waarbij het masker wordt gepositioneerd en/of heterogeen wordt opgebouwd op basis van de merktekens.

Het positioneren en/of heterogeen opbouwen kan plaatsvinden met behulp van één of meerdere detectiesystemen, zoals camera’s, die deze merktekens kunnen detecteren.

De merktekens kunnen bijvoorbeeld aangegeven, waar welke diktes gewenst zijn, waar welke uitharding gewenst is, waar er moet geprint worden -indien het masker geprint wordt-, enz.

Het masker kan bijvoorbeeld uit minstens twee materialen bestaan met elk een verschillende chemische samenstelling, waarbij de merktekens dan kunnen aangegeven waarop welk materiaal moet worden aangebracht.

Met behulp van merktekens kan men accuraat een heterogeen masker aanbrengen op het oppervlak.

-het masker kan bijvoorbeeld uit minstens twee materialen bestaan met elk een verschillende chemische samenstelling.

Zo kunnen de materialen bijvoorbeeld voorzien zijn om uit te harden onder invloed van zichtbaar licht of UV-straling, waarbij het ene materiaal, op basis van gewichtspercentages, meer foto-initiators omvat dan het tweede materiaal, zodanig dat het eerste materiaal meer gaat uitharden dan het tweede materiaal onder invloed van zichtbaar licht of UV-straling, waardoor men op eenvoudige wijze genoemde uitvoeringsvorm kan verkrijgen met verschillende uithardingsgraden zoals hierboven weergegeven.

-het masker vervaardigd is uit minstens een uithardbare substantie, het aangebrachte masker merktekens omvat en het masker minstens gedeeltelijk wordt uitgehard op basis van de merktekens.

-er gebruik wordt gemaakt van een greyscale printer, zodat de dikte van het masker kan variëren naargelang de plaats.

Zo kan deze greyscale printer bijvoorbeeld minstens één printvloeistof omvatten voor het printen van het masker, waarbij men dan met behulp van de greyscale printer kan kiezen voor elke plaats van het oppervlak, hoeveel druppeltjes van de printvloeistof, bijvoorbeeld tussen 0 en 7 druppels of tussen

13 BE2022/5454 0 en 5 druppels of tussen 0 en 10 druppels, men gaat aanbrengen. Alle gehele getallen - 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 en 10- in bovengenoemde ranges zijn hier dan mogelijk voor het aantal druppels De druppelgrootte kan bijvoorbeeld tussen 4 en 8 picoliter bedragen, bijvoorbeeld 6 picoliter zijn, waardoor, indien er de mogelijkheid is om tot 7 druppels te gaan, men kan variëren tussen 0 maal, éénmaal, tweemaal, driemaal, viermaal, vijfmaal, zesmaal en zevenmaal de bovengenoemde druppelgrootte. -het masker wordt aangebracht door een poeder aan te brengen op het metalen basiselement, waarna dit poeder met behulp van een laser wordt gesmolten en bevestigd wordt aan het oppervlak. Men kan hier kiezen op welke plaatsen het poeder al dan niet wordt bevestigd aan het oppervlak en/of de mate van bevestiging kan hier ook worden bepaald en/of de hoeveelheid poeder die op een bepaalde plaats wordt gestrooid kan ook worden gekozen. Het niet bevestigde poeder wordt bij voorkeur terug verwijderd voorafgaand aan de oppervlaktebehandeling, maar kan ook tijdens de oppervlaktebehandeling worden verwijderd. De hoeveelheid bevestigd poeder en/of de mate van bevestiging zorgen voor een heterogeen masker. -het masker minstens geprint wordt op het oppervlak en er hiervoor gebruik wordt gemaakt van minstens twee printkoppen die elk voorzien zijn een inkt met een verschillende chemische samenstelling te printen, om zo een heterogeen masker te printen. Deze printkoppen kunnen al dan niet het bovengenoemde greyscale systeem toepassen. Met behulp van het greyscale systeem kan men eenvoudig variëren in de aangebrachte dikte van de inkt.

In ideale omstandigheden is het wenselijk dat de onbedekte gedeeltes en de bedekte gedeeltes goed van elkaar gescheiden zijn en er zich dus geen masker bevindt boven op de onbedekte gedeeltes. Echter tijdens het aanbrengen van het masker is het mogelijk dat er geringe hoeveelheden van het masker ook de genoemde onbedekte gedeeltes in geringe mate gaan bedekken en/of kan het eenvoudiger zijn om continue aan te brengen, waarbij dan nagenoeg het volledige oppervlak bedekt wordt door het masker. De dikte van het masker ter hoogte van deze onbedekte gedeeltes zal echter gering zijn, bij voorkeur dunner dan 0,1 mm, nog meer bij voorkeur dunner dan 0,01 mm, het meest bij voorkeur dunner dan 10 of 1 micron. Men kan hier dan ook spreken van een basislaag die al dan niet aanwezig is op het volledige oppervlak van de onbedekte gedeeltes. Voor

14 BE2022/5454 de eenvoud spreken we hier echter van onbedekte gedeeltes, gezien men ervoor kan zorgen dat deze basislaag een geringe invloed zal hebben. De basislaag kan zo vervaardigd zijn dat na het starten van de oppervlaktebehandeling deze basislaag snel, bijvoorbeeld onmiddellijk, verdwijnt, waardoor gedeeltes die enkel bedekt werden met de basislaag nagenoeg de volledige oppervlaktebehandeling zullen ondergaan en men dan ook kan spreken van onbedekte gedeeltes die worden blootgesteld aan de volledige oppervlaktebehandeling. Zo kan men, indien het masker verkregen wordt met behulp van uitharding, geen uitharding uitvoeren van de basislaag. Indien men werkt met minstens twee chemische materialen voor het aanbrengen van het masker, waarbij deze chemische materialen een andere resistentie hebben tegen de oppervlaktebehandeling, kan de basislaag vervaardigd zijn uit het materiaal met de minste resistentie tegen de oppervlaktebehandeling. De basislaag is hier bij voorkeur steeds dunner dan de randgedeeltes en bij voorkeur steeds dunner dan de interne gedeeltes. Een andere mogelijkheid is om deze basislaag te verwijderen voorafgaand aan het starten van de oppervlaktebehandeling, door het uitvoeren van een andere behandeling, bijvoorbeeld een lokale polierbehandeling of zandstraalbehandeling ter hoogte van enkel de onbedekte gedeeltes.

Door een of meerdere van bovengenoemde kenmerken uit te voeren, wordt een perselement bekomen met de gewenste structuur, waarbij deze structuur geen ongewenste scherpe punten, ongewenste trapvormige overgangen, ongewenste overgangen tussen verschillende delen, enz. omvat waardoor beklede panelen die geperst worden met behulp van dit perselement ook de gewenste oppervlaktestructuur hebben en zo zeer esthetisch kunnen zijn. Zo kan het perselement bijvoorbeeld hebben relatief diepe dalen, bijvoorbeeld dalen van meer dan 0,15 mm of meer dan 0,30 mm diep en dit zonder scherpe structuren en/of kan het perselement microstructuren gelegen tussen bijvoorbeeld 5 en 30 micron omvatten, waarbij deze microstructuren zeer precies zijn aangebracht. Met andere woorden met behulp van bovengenoemde werkwijze kan een perselement met een zeer hoge precisie worden verkregen.

In een specifieke uitvoeringsvorm omvat de genoemde oppervlaktebehandeling minstens een etsbehandeling, waarbij deze etsbehandeling bij voorkeur twee of meerdere

15 BE2022/5454 substappen omvat, waarin telkens een etsvloeistof in contact wordt gebracht met het genoemde oppervlak.

Verder bij voorkeur zijn etsparameters van de etsbehandeling -zoals bijvoorbeeld de gebruikte etsvloeistof, de temperatuur van de etsvloeistof, de stroom van de etsvloeistof, enz.- bij de genoemde twee of meerdere substappen identiek, of minstens per één etsparameter verschillend. Zo kunnen de gebruikte etsvloeistoffen in de genoemde twee of meerdere substappen, identiek zijn, of verschillen ze minstens per twee. Met behulp van twee of meerdere verschillende etsvloeistoffen kan men zeer accuraat bepalen in welke substappen bepaalde gedeeltes van het masker, bijvoorbeeld de randgedeeltes, gaan degraderen en/of hoe snel de degradatie gaat en/of hoe geleidelijk aan de degradatie plaatsvindt. Het wegetsen van materiaal uit het basiselement, kan hierdoor zeer accuraat plaatsvinden, waardoor het perselement de gewenste structuur heeft. Ook met behulp van de parameters zoals temperatuur, stroom, enz. kan men zeer precies gaan wegetsen. Door te werken met substappen kan men preciezer gaan wegetsen en zo een perselement bekomen met een zeer hoge precisie.

Nog verder bij voorkeur zijn bij twee, al dan niet direct op elkaar volgende substappen, zijnde een hiernagenoemde eerste substap en een tweede substap, de etsparameters minstens voor één parameter verschillend, waarbij de randgedeeltes tijdens de eerste substap minstens gedeeltelijk afbreken en de randgedeeltes volledig zijn afgebroken na de tweede substap, en waarbij de interne gedeeltes na de tweede substap nog steeds hetzelfde gedeelte van het oppervlak van het metalen basiselement bedekken. De randgedeeltes worden hier bijvoorbeeld geleidelijk aan afgebroken, bijvoorbeeld van de aanpalende onbedekte gedeeltes tot de aanpalende interne gedeeltes, waardoor de persplaat de gewenste structuur verkrijgt.

Ook verder bij voorkeur breekt het masker tijdens één of meerdere genoemde substappen gedeeltelijk af. Verder bij voorkeur breken de randgedeeltes tijdens één of meerdere genoemde substappen volledig af en dit geleidelijk aan vanaf de respectievelijk onbedekte gedeeltes tot de respectievelijke interne gedeeltes.

16 BE2022/5454

Ook verder bij voorkeur breken, tijdens één of meerdere genoemde substappen, minstens de randgedeeltes nagenoeg volledig af. Tijdens de etsbehandeling komt het oppervlak ter hoogte van de randgedeeltes bloot te liggen en wordt het dus ook geëtst, maar minder dan de onbedekte gedeeltes.

In een voorkeurdragende uitvoeringsvorm is het masker heterogeen door één of meerdere van volgende verschilpunten uit de lijst omvattende: dikte, chemische samenstelling, hoeveelheid uitharding, bindingssterkte met het oppervlak.

In een specifieke uitvoeringsvorm wordt het masker geprint op het oppervlak, bij voorkeur digitaal geprint. Met behulp van printen, en nog meer met behulp van digitaal printen, kan men zeer specifiek en accuraat het gewenste masker aanbrengen. Met printen kan ook de correcte positie van het masker verkregen worden. Het is ook mogelijk om verschillende diktes te printen, en dit doordat men bijvoorbeeld gebruik maakt van een greyscale systeem en/of men meerdere lagen bovenop elkaar print. De chemische samenstelling bij het printen kan ook gekozen worden. Zo kan men bijvoorbeeld printen met minstens twee types inkt/materiaal met een verschillende chemische samenstelling, om zo bijvoorbeeld een masker te bekomen met genoemde randgedeeltes met een eerste chemische samenstelling en genoemde interne gedeeltes met een tweede chemische samenstelling.

Verder bij voorkeur wordt het masker met verschillende diktes geprint op het oppervlak.

Dit is bijvoorbeeld mogelijk door op bepaalde plaatsen slechts één laag te printen en op meerdere plaatsen bijvoorbeeld twee of meerdere lagen boven elkaar te printen en/of door het printdebiet, zijnde de hoeveelheid inkt per tijdstip, te wijzigen en/of door de printkop en/of het metalen basiselement sneller of trager te laten bewegen tijdens het aanbrengen van het masker en/of door gebruik te maken van een greyscale systeem.

In een specifieke uitvoeringsvorm omvat het masker minstens een uithardbare substantie, waarbij het masker, na het aanbrengen ervan op het oppervlak, wordt uitgehard en waarbij de uitharding ongelijkmatig gebeurt of is, zodat het masker gedeeltes omvat met een hogere uithardingsgraad en gedeeltes met een lagere uithardingsgraad. Gedeeltes met

17 BE2022/5454 een hogere uithardingsgraad kunnen resistenter zijn tegen de etsbehandeling dan de gedeeltes met een lagere uithardingsgraad. De hoeveelheid uitharding van gedeeltes van het masker zal dus bepalen hoe resistent deze gedeeltes zijn tegen de etsbehandeling.

Hierdoor kan men dus bepalen welke gedeeltes zullen afbreken tijdens de etsbehandeling en ook wanneer tijdens de etsbehandeling, waardoor het bekomen perselement de gewenste structuur heeft en men zeer accuraat de gewenste structuur kan aanbrengen met behulp van etsen. Het uitharden kan bijvoorbeeld plaatsvinden met behulp van warmte /

UV straling / zichtbaar licht / laser. Een andere hoeveelheid uitharding kan bijvoorbeeld bekomen worden door bepaalde plaatsen langer of minder lang bloot te stellen aan een uithardingsbron en/of te voorzien in materialen die sneller of minder snel gaan uitharden.

Verder bij voorkeur gebeurt de uitharding van het masker met behulp van een uithardingsbron, waarbij bijvoorbeeld deze uithardingsbron een digitaal aangestuurde uithardingsstraal omvat en/of de uithardingsbron in register wordt aangestuurd met het aangebrachte masker. Uitharding kan hier in register gebeuren. Zo kan het masker merktekens omvatten, waarbij de uitharding gebeurt op basis van deze merktekens. Het is ook mogelijk dat het aangebrachte masker eerst wordt ingescand en de uitharding gebeurt op basis hiervan en zo bijvoorbeeld de randen van het masker, zijnde bijvoorbeeld genoemde randgedeeltes, minder worden uitgehard dan genoemde interne gedeeltes.

In een specifieke uitvoeringsvorm wordt het masker vervaardigd door minstens poeder te strooien op het oppervlak, en dit poeder met behulp van een laserbron op de gewenste plaatsen vast te smelten op het oppervlak. Dit poeder kan zo worden aangebracht op het oppervlak dat de dikte homogeen is, of dat de dikte heterogeen is en er dus op bepaalde plaatsen, waar men een dikker masker wenst, meer poeder is per hoeveelheid oppervlak.

Met behulp van de laserbron kan men het poeder hechten aan het oppervlak en dit al dan niet met een verschillende hechtingssterkte. Door het verschil in hechtingssterkte en/of het verschil in dikte door de hoeveelheid poeder per oppervlak, is het masker heterogeen.

Op de plaatsen waar het poeder niet werd gehecht aan het oppervlak, kan het poeder terug worden verwijderd.

18 BE2022/5454

Deze uitvinding betreft eveneens een perselement voor het vervaardigen van beklede panelen, meer speciaal een laminaatpaneel, waarbij dit perselement een metalen basiselement met een door een oppervlaktebehandeling bekomen oppervlaktestructuur omvat, waarbij deze oppervlaktebehandeling bij voorkeur minstens een etsbehandeling omvat, waarbij deze etsbehandeling bij voorkeur twee of meerdere substappen omvat, waarin telkens een etsvloeistof in contact wordt gebracht met het metalen basiselement, waarbij deze oppervlaktestructuur minstens omvat één of meerdere basisgedeeltes die samen een grondvlak vormen en één of meerdere structuurgedeeltes die uitstulpingen vormen ten opzichte van het grondvlak, waarbij de basisgedeeltes bij voorkeur glooiend overgaan in de structuurgedeeltes.

Dit perselement wordt bij voorkeur bekomen met behulp van een werkwijze zoals hierboven beschreven. Alle voordelen en voorkeurdragende uitvoeringsvormen van de werkwijze hierboven beschreven, zijn dan ook van toepassing op dit perselement. Dit perselement kan hier een zeer hoge precisie hebben, zodat met behulp van dit perselement zeer esthetische beklede panelen vervaardigd kunnen worden.

Verder bij voorkeur omvatten de structuurgedeeltes één of meerdere voetgedeeltes en één of meerdere centrale gedeeltes, waarbij de één of meerdere centrale gedeeltes elk volledig omringd worden door aanpalende één of meerdere voetgedeeltes, en de één of meerdere voetgedeeltes zich uitstrekken tussen aanpalende één of meerdere basisgedeeltes, en aanpalende één of meerdere centrale gedeeltes, waarbij de centrale gedeeltes zich op een maximale afstand bevinden van het grondvlak, gezien volgens een richting loodrecht op het grondvlak of loodrecht op een raaklijn aan het grondvlak, en waarbij de maximale afstand van de voetgedeeltes tot het grondvlak, vanaf het aanpalende basisgedeelte tot het aanpalende centrale gedeelte, geleidelijk aan toeneemt en dit bij voorkeur met een constante toename. De toename is hier continue en dus niet trapsgewijs en/of met scherpe hoeken. Dit is zeer interessant om beklede panelen met diepe structuurgedeeltes te bekomen, met een maximale diepte van meer dan 0,1 mm, bij voorkeur meer dan 0,3 mm en nog meer bij voorkeur dieper dan 0,5 mm. Ook voor microstructuren is dit zeer interessant, gezien deze microstructuren hier een zeer hoge

19 BE2022/5454 precisie kunnen hebben, waardoor een bekleed paneel bekomen met een dergelijk perselement de gewenste glansgraden en overgangen tussen glansgraden heeft.

De maximale afstand tussen de top van een genoemd centraal gedeelte en het basisgedeelte kan bijvoorbeeld minstens 0,1 mm, bij voorkeur minstens 0,3 mm en het meest bij voorkeur minstens 0,5 mm bedragen en/of de maximale afstand tussen de top van een genoemd centraal gedeelte en het basisgedeelte kan bijvoorbeeld hoogstens 30 micron, bij voorkeur hoogstens 15 micron bedragen.

Bij voorkeur heeft de overgang tussen de voetgedeeltes en de basisgedeeltes de vorm van een afgeronde stompe hoek.

Ook bij voorkeur maken de voetgedeeltes deel uit van de flanken van de structuurgedeeltes of vormen ze mee de flanken van de structuurgedeeltes, waarbij deze flanken vrij zijn van scherpe spitsen en bij voorkeur zich elk hoofdzakelijk uitstrekken volgens een constante hellingshoek met het grondvlak.

Deze uitvinding betreft ook een bekleed paneel, meer speciaal laminaatpanelen, waarbij het bovenoppervlak van het bekleed paneel een oppervlaktestructuur omvat met één of meerdere basisgedeeltes die zich elk uitstrekken in nagenoeg éénzelfde grondvlak en één of meerdere uitsparingen, waarbij deze één of meerdere uitsparingen bij voorkeur glooiend overgaan in de één of meerdere basisgedeeltes.

Een dergelijk bekleed paneel wordt bij voorkeur bekomen met behulp van een persstap uitgevoerd met een perselement zoals hierboven weergegeven, waarbij nog verder bij voorkeur dit perselement bekomen wordt met een werkwijze zoals hierboven beschreven. De voordelen en uitvoeringsvormen beschreven voor de werkwijze en het perselement, zijn dan ook van toepassing op dit bekleed paneel.

Bij voorkeur, bij dit bekleed paneel, omvatten de uitsparingen één of meerdere randgedeeltes en één of meerdere interne gedeeltes, waarbij de één of meerdere interne gedeeltes elk volledig omringd worden door aanpalende één of meerdere randgedeeltes,

20 BE2022/5454 en de één of meerdere randgedeeltes zich uitstrekken tussen aanpalende één of meerdere basisgedeeltes, en aanpalende één of meerdere interne gedeeltes, waarbij de interne gedeeltes zich op een afstand bevinden van het grondvlak, gezien volgens een richting loodrecht op het grondvlak en waarbij de afstand van de randgedeeltes tot het grondvlak, vanaf het aanpalende basisgedeelte tot het aanpalende interne gedeeltes, geleidelijk aan toeneemt. Dit betreft een zeer esthetisch ogend bekleed paneel. Wanneer het bekleed paneel wordt bekomen met behulp van een persstap uitgevoerd met een perselement zoals hierboven weergegeven, dan komt de positie van de randgedeeltes en de interne gedeeltes van het bekleed paneel overeen met de positie van de randgedeeltes en de interne gedeeltes van het masker aangebracht op het perselement.

De maximale afstand tussen de bodem van een genoemd intern gedeelte en het basisgedeelte kan bijvoorbeeld minstens 0,1 mm, bij voorkeur minstens 0,3 mm en het meest bij voorkeur minstens 0,5 mm bedragen en/of de minimale afstand tussen de bodem van een genoemd intern gedeelte en het basisgedeelte kan bijvoorbeeld hoogstens 30 micron, bij voorkeur hoogstens 15 micron bedragen.

Verder bij voorkeur heeft de overgang tussen randgedeeltes en de basisgedeeltes de vorm van een afgeronde stompe hoek.

Met het inzicht de kenmerken van de uitvinding beter aan te tonen, zijn hierna, als voorbeeld zonder enig beperkend karakter, enkele voorkeurdragende uitvoeringsvormen beschreven, met verwijzing naar de bijgaande tekeningen, waarin: -figuur 1 een schematische weergave is van een doorsnede van een persplaat volgens de uitvinding; -figuur 2 een schematische weergave is van een doorsnede van een metalen basiselement waarop een masker is aangebracht voor het vervaardigen van de persplaat weergegeven in figuur 1, volgens een eerste uitvoeringsvorm van een werkwijze volgens uitvinding; -figuur 3 een schematische weergave is van een doorsnede van een metalen basiselement waarop een masker is aangebracht voor het vervaardigen van de persplaat weergegeven in figuur 1, volgens een tweede uitvoeringsvorm van een werkwijze volgens de uitvinding;

21 BE2022/5454 -figuur 4 een schematische weergave is van een doorsnede van een metalen basiselement waarop een masker is aangebracht voor het vervaardigen van de persplaat weergegeven in figuur 1, volgens een derde uitvoeringsvorm van een werkwijze volgens de uitvinding; -figuur 5 een schematische weergave is van een doorsnede van een metalen basiselement waarop een masker is aangebracht voor het vervaardigen van de persplaat weergegeven in figuur 1, volgens een vierde uitvoeringsvorm van een werkwijze volgens de uitvinding; -figuur 6 een schematische perspectiefvoorstelling is van een gedeelte van een bekleed paneel volgens de uitvinding, bekomen met een persplaat zoals weergegeven in figuur 1; -figuur 7 een schematische weergave is van een perspectiefvoorstelling van een gedeelte van een persplaat volgens de uitvinding.

De persplaat 1 die hier wordt omschreven is voorzien om beklede panelen 4 te vormen met diepe structuren 7, zijnde inkepingen 7 met een maximale diepte van meer dan 0,15 mm, bij voorkeur meer dan 0,3 mm. Deze uitvinding is echter niet beperkt hiertoe. Zo heeft deze uitvinding eveneens betrekking op persplaten/beklede panelen met microstructuren en eveneens op persplaten/beklede panelen met microstructuren en met hoge/diepe structuren. De persplaat 1 omvat hier een basisgedeelte dat een grondvlak vormt en één of meerdere structuurgedeeltes 8 die uitstulpingen vormen ten opzichte van het grondvlak, waarbij het basisgedeelte glooiend overgaat in de structuurgedeeltes 8. De structuurgedeeltes 8 omvatten elk een voetgedeelte 8b en een centraal gedeelte 8a, waarbij elk centrale gedeelte 8a elk volledig omringd wordt door het aanpalende voetgedeelte 8b, en elk voetgedeelte 8b zich uitstrekt tussen het basisgedeelte, en het aanpalende centrale gedeelte 8a. Het verschil tussen de voetgedeeltes 8b en de centrale gedeeltes 8a is niet zichtbaar in de verkregen persplaat 1. Dit wordt wel via lijnen weergegeven in figuur 1. Dit is mogelijk omdat de voetgedeeltes 8b zich uitstrekken ter hoogte van de tijdens de oppervlaktebehandeling afbrekende randgedeeltes 3b van het masker 3 (zie verder) en de centrale gedeeltes 8a zich uitstrekken ter hoogte van de interne gedeeltes 3a van het masker 3 (zie verder) zodanig dat de positie van genoemde voetgedeeltes 8b en de centrale gedeeltes 8a overeenkomen met de posities van de randgedeeltes 3b en de interne gedeeltes 3a van het masker 3.

22 BE2022/5454

De persplaat 1 schematisch weergegeven in figuur 1 heeft een maximale hoogte h en kan op verschillende manieren bekomen worden. Met behulp van figuren 2 tot 5 worden hieronder 4 mogelijke werkwijzen besproken, die allen werkwijzen volgens de uitvinding betreffen.

Al deze werkwijzen hebben volgende kenmerken gemeenschappelijk:

Het betreft steeds een werkwijze voor het vervaardigen van een gestructureerd perselement 1, waarbij deze werkwijzen minstens de volgende stappen omvatten: - het voorzien van een metalen basiselement 2 met een hoogte h, zijnde een plaat omvattende een te structureren oppervlak, waarbij de plaat vervaardigd is uit bijvoorbeeld staal met optioneel een koperen coating ter hoogte van het te structureren oppervlak. De hier weergegeven metalen basiselementen 2 zijn plaatvormig, echter cilindervormige metalen basiselementen zijn bijvoorbeeld ook mogelijk voor het bekomen van gestructureerde persrollen (hier niet weergegeven). -het aanbrengen van een masker 3 op een oppervlak van het metalen basiselement 2, waarbij het masker 3 een zekere resistentie heeft tegen een oppervlaktebehandeling om zo, ter hoogte van het masker 3, het oppervlak af te schermen van de oppervlaktebehandeling;, -het uitvoeren van de oppervlaktebehandeling; -het verwijderen van het masker 3; waarbij, het genoemde masker 3 een heterogene opbouw heeft, en minstens deze opbouw de mate van de genoemde resistentie tegen de oppervlaktebehandeling bepaalt.

Bij deze werkwijzen omvat de oppervlaktebehandeling minstens een etsbehandeling.

Deze etsbehandeling omvat twee of meerdere substappen, waarbij in elke substap het genoemde oppervlak in contact wordt gebracht met een etsvloeistof en dit door bijvoorbeeld het metalen basiselement 2 met het erop aangebrachte masker 3 zo aan te brengen in een etsbad omvattende een etsvloeistof, dat het oppervlak en het masker 3 in contact komen met de etsvloeistof. Zo kan men het metalen basiselement 2 bijvoorbeeld bij elke substap onderdompelen in de etsvloeistof en dit gedurende een aantal minuten,

23 BE2022/5454 bijvoorbeeld 1, 2, 3, 4, 5, 6 of meerdere minuten. De etsvloeistof kan ook verneveld worden op het metalen basiselement 2.

Zoals zichtbaar in figuren 2 tot 4 deelt het masker 3 het genoemde oppervlak van het metalen basiselement 2 op in één of meerdere bedekte gedeeltes, waarop het masker 3 zich bevindt, en één of meerdere onbedekte gedeeltes, waarop zich geen masker 3 bevindt, en, omvat het masker 3 meerdere randgedeeltes 3b en meerdere interne gedeeltes 3a, waarbij de interne gedeeltes 3a elk volledig omringd worden door aanpalende randgedeeltes 3b, en de randgedeeltes 3b zich uitstrekken tussen aanpalende één of meerdere onbedekte gedeeltes van het oppervlak, en aanpalende één of meerdere interne gedeeltes 3a van het masker 3.

In figuur 5 is zichtbaar dat het volledige oppervlak bedekt is met het masker 3, waarbij bepaalde gedeeltes enkel met een dunne basislaag 3c bedekt zijn. Gezien de geringe dikte van deze basislaag 3c en gezien deze basislaag 3c tijdens de oppervlaktebehandeling snel gaat verdwijnen, duiden we hier voor de eenvoud de gedeeltes van het oppervlak die enkel bedekt zijn door de basislaag 3c, hier ook aan als onbedekte gedeeltes zoals hierboven beschreven. Ook hier is er dan sprake van genoemde onbedekte gedeeltes en bedekte gedeeltes. Verder omvat het masker 3 uitstulpingen 3d ten opzichte van de basislaag 3c, waarbij deze uitstulpingen 3d ook genoemde randgedeeltes 3b en interne gedeeltes 3a omvatten (niet weergegeven in de figuur), waarbij de randgedeeltes 3b zich tussen de aanpalende basislaag 3c en respectievelijk aanpalende interne gedeeltes 34 uitstrekken. Figuren 2 tot 5 worden hieronder dan ook samen besproken.

De maskers 3 weergegeven in figuren 2 tot 5 hebben allen een heterogene opbouw, waardoor de resistentie van het masker 3 niet overal gelijk is en de etsbehandeling, op bepaalde plaatsen niet of wel in staat zal zijn om materiaal weg te nemen van het metalen basiselement 2. Op de plaatsen waar de etsbehandeling in staat is om materiaal weg te nemen, kan dit gedurende de volledige etsbehandeling en/of slechts vanaf een bepaalde substap en/of na een bepaalde tijd.

24 BE2022/5454

Zoals weergegeven in figuur 2 wordt het masker 3 opgebouwd uit één materiaal, bijvoorbeeld een wax of een lak of één inkt, waarbij de dikte van het masker 3 heterogeen is. De opbouw van het masker 3 is zodanig dat bij de genoemde randgedeeltes 3b, de dikte van het masker 3, toeneemt vanaf de respectievelijke aanpalende onbedekte gedeeltes tot de aanpalende interne gedeeltes 3a, waarbij deze toename geleidelijk is.

Door deze opbouw, neemt de resistentie van de randgedeeltes 3b van het masker 3 toe vanaf respectievelijke aanpalende onbedekt gedeeltes tot respectievelijke aanpalende interne gedeeltes 3a, en hier geleidelijk aan. Het resultaat is dat tijdens de etsbehandeling, de randgedeeltes 3b gaan degraderen vanaf de onbedekte gedeeltes richting de interne gedeeltes 3a toe, waardoor een perselement 1 met glooiende overgangen tussen de basisgedeeltes en de structuurgedeeltes 8 worden bekomen, met structuurgedeeltes 8 omvattende genoemde voetgedeeltes 8b en centrale gedeeltes 8a. Gezien er hier enkel sprake is van dikteverschil, en het materiaal steeds hetzelfde is, worden de randgedeeltes 3b en de interne gedeeltes 3a hier niet als aparte onderdelen van het masker 3 weergegeven, gezien de randgedeeltes 3b en de interne gedeeltes 3a in de praktijk ook niet zichtbaar zijn als aparte onderdelen van het masker 3. In de praktijk zijn enkel glooiende uitstulpingen zichtbaar.

In figuur 3 heeft het masker 3 steeds ongeveer dezelfde dikte, maar is het masker 3 opgebouwd uit twee materialen, zijnde een eerste materiaal en een tweede materiaal waarbij de resistentie van eerste materiaal tegen de etsbehandeling groter is dan de resistentie van het tweede materiaal tegen de etsbehandeling. De randgedeeltes 3b zijn opgebouwd uit het tweede materiaal en de interne gedeeltes 3a zijn opgebouwd uit het eerste materiaal. Het resultaat is dat tijdens de etsbehandeling, de randgedeeltes 3b gaan degraderen vanaf de onbedekte gedeeltes richting de interne gedeeltes 3a toe, waardoor een perselement 1 met glooiende overgangen tussen de basisgedeeltes en de structuurgedeeltes 8 wordt bekomen, met structuurgedeeltes 8 omvattende genoemde voetgedeeltes 8b en centrale gedeeltes 8a. Zo is het mogelijk dat tijdens een substap van de etsbehandeling er gebruik wordt gemaakt van een etsvloeistof, waarbij het tweede materiaal niet resistent is tegen deze vloeistof en het eerste materiaal wel resistent is of resistenter is dan het tweede materiaal. Het resultaat is dat tijdens deze substap minstens het tweede materiaal en dus minstens de randgedeeltes 3b degraderen. Er kan dan worden

25 BE2022/5454 gewerkt met een bijkomende substap, waarbij dan het oppervlak ter hoogte van de randgedeeltes 3b die verdwenen zijn, wordt bewerkt. Eventueel kan de oppervlaktebehandeling nog bijkomende behandelingen omvatten zoals zandstralen om zo bijvoorbeeld de dikte van het masker 3 ter hoogte van der randgedeeltes 3b geleidelijk aan te doen afnemen naar de onbedekte gedeeltes toe, en dit voorafgaand aan de etsbehandeling. Hiermee wordt bijkomend verzekerd dat de randgedeeltes 3b geleidelijk aan gaan afnemen en dit vanaf de onbedekte gedeeltes richting de interne gedeeltes 34, zodat de overgangen tussen de bekomen voetgedeeltes 8b en centrale gedeeltes 8a van het perselement 1 zeer glooiend zijn.

In figuur 4 is de dikte van het masker 3 heterogeen. De opbouw van het masker 3 is zodanig dat bij de genoemde randgedeeltes 3b, de dikte van het masker 3, toeneemt vanaf de respectievelijke aanpalende onbedekte gedeeltes tot de aanpalende interne gedeeltes 3a, waarbij deze toename geleidelijk is. Verder is het masker 3 opgebouwd uit twee materialen, zijnde een eerste materiaal en een tweede materiaal waarbij de resistentie van eerste materiaal tegen de etsbehandeling groter is dan de resistentie van het tweede materiaal. De randgedeeltes 3b zijn opgebouwd uit het tweede materiaal en de interne gedeeltes 3a zijn opgebouwd uit het eerste materiaal. Het resultaat is dat tijdens de etsbehandeling, de randgedeeltes 3b geleidelijk aan gaan degraderen vanaf de onbedekte gedeeltes richting de interne gedeeltes 3a toe, waardoor een perselement 1 met glooiende overgangen tussen de basisgedeeltes en de structuurgedeeltes 8 wordt bekomen, met structuurgedeeltes 8 omvattende genoemde voetgedeeltes 8b en centrale gedeeltes 8a.

Zoals weergegeven in figuur 5 wordt het masker 3 opgebouwd uit één materiaal, bijvoorbeeld een wax of een lak of één inkt, waarbij de dikte van het masker 3 heterogeen is. De opbouw van het masker 3 is zodanig dat bij de genoemde randgedeeltes 3b, de dikte van het masker 3, toeneemt vanaf de respectievelijke aanpalende onbedekte gedeeltes tot de aanpalende interne gedeeltes 3a, waarbij deze toename geleidelijk is.

Verder omvat het masker 3 steeds een basislaag 3c die het volledige oppervlak van het oppervlak bedekt, zodanig dat de randgedeeltes 3b steeds overgaan in de basislaag 3c.

Door deze opbouw, neemt de resistentie van de randgedeeltes 3b van het masker 3 toe vanaf respectievelijke aanpalende onbedekt gedeeltes tot respectievelijke aanpalende

26 BE2022/5454 interne gedeeltes 3a, en hier geleidelijk aan. Het resultaat is dat tijdens de etsbehandeling, de basislaag 3c nagenoeg onmiddellijk degradeert en de randgedeeltes 3b gaan degraderen vanaf de onbedekte gedeeltes richting de interne gedeeltes 3a toe, waardoor een perselement 1 met glooiende overgangen tussen de basisgedeeltes en de structuurgedeeltes 8 wordt bekomen, met structuurgedeeltes 8 omvattende genoemde voetgedeeltes 8b en centrale gedeeltes 8a. Een andere optie is dat er voorafgaand aan de etsbehandeling een ander type oppervlaktebehandeling wordt uitgevoerd zoals zandstralen, polieren, een laserbehandeling -zoals laserablatie- waarbij de basislaag 3c van het masker 3 verwijderd wordt. Het verwijderen van de basislaag 3c kan bijvoorbeeld 1n register plaatsvinden.

Met behulp van het perselement 1 zoals bekomen met behulp van bovengenoemde werkwijzen, kan een laminaatpaneel 4 worden geperst. Dit laminaatpaneel 4 omvat bijvoorbeeld een harde kern/substraat 6 vervaardigd uit bijvoorbeeld MDF, HDF, een mineraal gebaseerde plaat, een thermoplast gebaseerde plaat, waarbij er boven op deze harde kern/substraat 6 een toplaag 5 is aangebracht omvattende één of meerdere sublagen, waarbij deze sublagen kunnen omvatten hars geïmpregneerde papieren, thermoplastische lagen, enz. De persplaat 1 is hier in staat om zijn reliëf over te brengen op de toplaag 5. Het resultaat is een toplaag 5 omvattende een basisvlak 9 en glooiende uitsparingen 7 ten opzichte van dit basisvlak 9.

Claims (22)

27 BE2022/5454 Conclusies.

1. Werkwijze voor het vervaardigen van een gestructureerd perselement (1), waarbij deze werkwijze minstens de volgende stappen omvat: -het voorzien van een metalen basiselement (2), zoals een plaat of een rol; -het aanbrengen van een masker (3) op een oppervlak van het metalen basiselement (2), waarbij het masker (3) een zekere resistentie heeft tegen een oppervlaktebehandeling om zo, ter hoogte van het masker (3), het oppervlak minstens tijdelijk af te schermen van de oppervlaktebehandeling;, -het uitvoeren van de oppervlaktebehandeling; met het kenmerk dat, het genoemde masker (3) een heterogene opbouw heeft, en minstens deze opbouw de mate van de genoemde resistentie tegen de oppervlaktebehandeling bepaalt.

2. Werkwijze volgens conclusie 1, waarbij het masker (3) het genoemde oppervlak van het metalen basiselement (2) opdeelt in één of meerdere bedekte gedeeltes, waarop het masker (3) zich bevindt, en één of meerdere onbedekte gedeeltes, waarop zich geen of nagenoeg geen masker (3) bevindt, en, waarbij het masker (3) één of meerdere randgedeeltes (3b) en één of meerdere interne gedeeltes (3a) omvat, waarbij de één of meerdere interne gedeeltes (3a) elk volledig omringd worden door aanpalende één of meerdere randgedeeltes (3b), en de één of meerdere randgedeeltes (3b) zich uitstrekken tussen aanpalende één of meerdere onbedekte gedeeltes van het oppervlak, en aanpalende één of meerdere interne gedeeltes (3a) van het masker (3), waarbij de werkwijze één of meerdere van volgende kenmerken omvat, zolang deze niet tegenstrijdig zijn: -de opbouw van het masker (3) is zodanig dat ter hoogte van minstens één genoemd randgedeelte (3b), de resistentie tegen de oppervlaktebehandeling, toeneemt vanaf een respectievelijk aanpalend onbedekt gedeelte tot een respectievelijk aanpalend intern gedeelte (3a), bij voorkeur geleidelijk aan toeneemt; -de opbouw van het masker (3) is zodanig dat ter hoogte van minstens één genoemd randgedeelte (3b), de dikte van het masker (3), toeneemt vanaf een

28 BE2022/5454 respectievelijk aanpalend onbedekt gedeelte tot een respectievelijk aanpalend intern gedeelte (3a), bij voorkeur geleidelijk aan toeneemt; -de opbouw van het masker (3) is zodanig dat de resistentie tegen de oppervlaktebehandeling ter hoogte van minstens één genoemd intern gedeelte (3a), hoger is dan de resistentie tegen de oppervlaktebehandeling ter hoogte van een respectievelijk aanpalend randgedeelte (3b); -de chemische samenstelling van een genoemd randgedeelte (3b), verschilt van de chemische samenstelling van een respectievelijk aanpalend intern gedeelte (3a); -het masker (3) vervaardigd is uit minstens een uithardbare substantie, waarbij de uithardingsgraad ter hoogte van een genoemd randgedeelte (3b), lager is dan de uithardingsgraad ter hoogte van een respectievelijk aanpalend intern gedeelte (3a); -genoemde een of meerdere randgedeeltes (3b) allen eenzelfde eerste chemische samenstelling hebben en genoemde een of meerdere interne gedeeltes (3a) allen eenzelfde tweede chemische samenstelling hebben, waarbij de eerste chemische samenstelling minder resistent is aan de oppervlaktebehandeling dan de tweede chemische samenstelling; -het masker (3) minstens geprint wordt op het oppervlak en er hiervoor gebruik wordt gemaakt van minstens twee printkoppen die elk voorzien zijn een inkt met een verschillende samenstelling te printen, om zo een heterogeen masker (3) te printen, waarbij bij voorkeur de randgedeeltes (3b) met de ene genoemde printkop worden geprint en de interne gedeeltes (3a) met de andere genoemde printkop worden geprint.

3. Werkwijze volgens conclusie 1 of 2, waarbij de oppervlaktebehandeling één of meerdere van volgende behandelingen omvat: een etsbehandeling, een zandstraalbehandeling of een polierbehandeling.

4. Werkwijze volgens één van de voorgaande conclusies, met het kenmerk dat de genoemde oppervlaktebehandeling minstens een etsbehandeling omvat, en waarbij deze etsbehandeling bij voorkeur twee of meerdere substappen omvat,

29 BE2022/5454 waarin telkens een etsvloeistof in contact wordt gebracht met het genoemde oppervlak.

5. Werkwijze volgens conclusie 4, met het kenmerk dat etsparameters -zoals bijvoorbeeld de gebruikte etsvloeistof, de temperatuur van de etsvloeistof, de stroom van de etsvloeistof, enz.- bij de genoemde twee of meerdere substappen identiek zijn, of minstens voor één etsparameter verschillend zijn.

6. Werkwijze volgens conclusie 5, waarbij bij twee, al dan niet direct op elkaar volgende substappen, zijnde een hiernagenoemde eerste substap en een tweede substap, de etsparameters minstens voor één parameter verschillend zijn, waarbij de randgedeeltes (3b) tijdens de eerste substap minstens gedeeltelijk afbreken en de randgedeeltes (3b) volledig zijn afgebroken na de tweede substap, en waarbij de interne gedeeltes (3a) na de tweede substap nog steeds hetzelfde gedeelte van het oppervlak van het metalen basiselement (2) bedekken.

7. Werkwijze volgens één of meerdere van de conclusie 4 tot 6, met het kenmerk dat het masker (3) tijdens één of meerdere genoemde substappen gedeeltelijk afbreekt.

8. Werkwijze volgens één of meerdere van de conclusies 4 tot 7, met het kenmerk dat tijdens één of meerdere genoemde substappen minstens de randgedeeltes (3b) nagenoeg volledig afbreken.

9. Werkwijze volgens één of meerdere van de voorgaande conclusies, waarbij de opbouw van het masker (3) heterogeen is door één of meerdere van volgende verschilpunten uit de lijst omvattende: dikte, chemische samenstelling, hoeveelheid uitharding, bindingssterkte met het oppervlak.

10. Werkwijze volgens één van de voorgaande conclusies, met het kenmerk dat het masker (3) geprint wordt op het oppervlak, bij voorkeur digitaal geprint wordt.

30 BE2022/5454

11. Werkwijze volgens conclusie 10, waarbij het masker (3) met verschillende diktes geprint wordt op het oppervlak.

12. Werkwijze volgens één van de voorgaande conclusies, met het kenmerk dat het masker (3) minstens een uithardbare substantie omvat, waarbij het masker (3), na het aanbrengen ervan op het oppervlak, wordt uitgehard en waarbij de uitharding ongelijkmatig is, zodat het masker (3) gedeeltes omvat met een hogere uithardingsgraad en gedeeltes met een lagere uithardingsgraad.

13. Werkwijze volgens conclusie 12, waarbij de uitharding van het masker (3) gebeurt met behulp van een uithardingsbron, waarbij bijvoorbeeld deze uithardingsbron digitaal aangestuurd wordt, bijvoorbeeld een digitaal aangestuurde uithardingsstraal omvat, en/of de uithardingsbron in register wordt aangestuurd met het aangebrachte masker (3).

14. Perselement (1) voor het vervaardigen van beklede panelen (4), meer speciaal laminaatpanelen (4), waarbij dit perselement (1) een metalen basiselement (2) met een door een oppervlaktebehandeling bekomen oppervlaktestructuur omvat, waarbij deze oppervlaktebehandeling bij voorkeur een etsbehandeling omvat, waarbij deze oppervlaktestructuur minstens omvat één of meerdere basisgedeeltes die samen een grondvlak vormen en één of meerdere structuurgedeeltes (8) die uitstulpingen vormen ten opzichte van het grondvlak, waarbij de basisgedeeltes bij voorkeur glooiend overgaan in de structuurgedeeltes

(8).

15. Perselement (1) volgens conclusie 14, waarbij de structuurgedeeltes (8) één of meerdere voetgedeeltes (8b) en één of meerdere centrale gedeeltes (8a) omvatten, waarbij de één of meerdere centrale gedeeltes (8a) elk volledig omringd worden door aanpalende één of meerdere voetgedeeltes (8b), en de één of meerdere voetgedeeltes (8b) zich uitstrekken tussen aanpalende één of meerdere basisgedeeltes, en aanpalende één of meerdere centrale gedeeltes (8a), waarbij de centrale gedeeltes (8a) zich op een maximale afstand bevinden van het grondvlak, gezien volgens een richting loodrecht op het grondvlak of loodrecht op een

31 BE2022/5454 raaklijn aan het grondvlak, en waarbij de maximale afstand van de voetgedeeltes (8b) tot het grondvlak, vanaf het aanpalende basisgedeelte tot het aanpalende centrale gedeelte (8a), geleidelijk aan toeneemt en dit bij voorkeur met een constante toename.

16. Perselement (1) volgens conclusie 14 of 15, met het kenmerk dat de maximale afstand tussen de top van een genoemd centraal gedeelte (8a) en het basisgedeelte minstens 0,1 mm, bij voorkeur minstens 0,3 mm en het meest bij voorkeur minstens 0,5 mm bedraagt en/of waarbij de maximale afstand tussen de top van een genoemd centraal gedeelte (8a) en het basisgedeelte hoogstens 30 micron, bij voorkeur hoogstens 15 micron bedraagt.

17. Perselement (1) volgens één van de conclusie 14 tot 16, met het kenmerk dat de overgang tussen de voetgedeeltes (8b) en de basisgedeeltes de vorm heeft van een afgeronde stompe hoek.

18. Perselement (1) volgens één van de conclusies 14 of 17, waarbij de voetgedeeltes (8b) deel uitmaken van de flanken van de structuurgedeeltes (8) of mee de flanken van de structuurgedeeltes (8) vormen, waarbij deze flanken vrij zijn van scherpe spitsen en bij voorkeur zich elk hoofdzakelijk uitstrekken volgens een constante hellingshoek met het grondvlak.

19. Perselement (1), optioneel volgens één of meerdere van de conclusies 14 tot 18, waarbij het perselement (1) bekomen is volgens een werkwijze volgens één van de conclusies 1 tot 13.

20. Bekleed paneel (4), meer speciaal een laminaatpaneel (4), waarbij het bovenoppervlak van het bekleed paneel (4) een oppervlaktestructuur omvat met één of meerdere basisgedeeltes (9) die zich elk uitstrekken in nagenoeg éénzelfde grondvlak en één of meerdere uitsparingen (7), waarbij deze één of meerdere uitsparingen (7) bij voorkeur glooiend overgaan in de één of meerdere basisgedeeltes (9).

32 BE2022/5454

21. Bekleed paneel (4) volgens conclusie 20, waarbij de uitsparingen (7) één of meerdere randgedeeltes en één of meerdere interne gedeeltes omvatten, waarbij de één of meerdere interne gedeeltes elk volledig omringd worden door aanpalende één of meerdere randgedeeltes, en de één of meerdere randgedeeltes zich uitstrekken tussen aanpalende één of meerdere basisgedeeltes (9), en aanpalende één of meerdere interne gedeeltes, waarbij de interne gedeeltes zich op een afstand bevinden van het grondvlak, gezien volgens een richting loodrecht op het grondvlak en waarbij de afstand van een genoemd randgedeelte tot het grondvlak, vanaf het respectievelijke aanpalende basisgedeelte (9) tot het respectievelijke aanpalende interne gedeelte, geleidelijk aan toeneemt.

22. Bekleed paneel (4), optioneel volgens conclusie 20 of 21, waarbij het bekleed paneel (4) bekomen is door persen met een perselement (1) volgens één de conclusies 14 tot 19.