ATE348497T1 - Verfahren und vorrichtung zur steuerung eines glühentladungsplasmas unter atmosphärischem druck - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur steuerung eines glühentladungsplasmas unter atmosphärischem druck

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ATE348497T1
ATE348497T1 AT04077286T AT04077286T ATE348497T1 AT E348497 T1 ATE348497 T1 AT E348497T1 AT 04077286 T AT04077286 T AT 04077286T AT 04077286 T AT04077286 T AT 04077286T AT E348497 T1 ATE348497 T1 AT E348497T1
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Yoichiro Kamiyama
Jan Bastiaan Bouwstra
De Sanden Mauritius Cornel Van
Eugen Aldea
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Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009538989A (ja) * 2006-05-30 2009-11-12 フジフィルム マニュファクチャリング ユーロプ ビー.ブイ. パルス化大気圧グロー放電を使用する堆積の方法及び装置
EP2032738A1 (de) 2006-06-16 2009-03-11 Fuji Film Manufacturing Europe B.V. Verrfahren und vorrichtung zur atomlagenabscheidung unter verwendung eines atmosphärendruckglimmentladungsplasmas
US8338307B2 (en) 2007-02-13 2012-12-25 Fujifilm Manufacturing Europe B.V. Substrate plasma treatment using magnetic mask device
JP5597551B2 (ja) 2008-02-01 2014-10-01 フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー.ヴィ. 移動基材のプラズマ表面処理の装置、方法および当該方法の使用
JP5473946B2 (ja) 2008-02-08 2014-04-16 フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー.ヴィ. Wvtrバリア性を改善した多層スタック構造体の製造方法
EP2528082A3 (de) 2008-02-21 2014-11-05 FUJIFILM Manufacturing Europe B.V. Plasmabehandlungsvorrichtung mit einem Luftdruck-Glimmentladungselektrodenaufbau
EP2299922B1 (de) 2008-05-30 2016-11-09 Colorado State University Research Foundation Gerät zur erzeugung von plasma
US8994270B2 (en) 2008-05-30 2015-03-31 Colorado State University Research Foundation System and methods for plasma application
WO2009146432A1 (en) 2008-05-30 2009-12-03 Colorado State University Research Foundation Plasma-based chemical source device and method of use thereof
WO2011123125A1 (en) 2010-03-31 2011-10-06 Colorado State University Research Foundation Liquid-gas interface plasma device
EP2145701A1 (de) * 2008-07-16 2010-01-20 AGC Flat Glass Europe SA Verfahren und Anlage für die Oberflächenvorbereitung durch dielektrische Barriere Entladung
EP2396452A1 (de) 2009-02-12 2011-12-21 Fujifilm Manufacturing Europe BV Zweischichtige barriere auf polymersubstrat
EP2226832A1 (de) 2009-03-06 2010-09-08 FUJIFILM Manufacturing Europe B.V. Substratplasmabehandlung mittels Seitenlaschen
US9120073B2 (en) * 2009-06-05 2015-09-01 Eon Labs, Llc Distributed dielectric barrier discharge reactor
US8083737B2 (en) 2009-08-26 2011-12-27 Tyco Healthcare Group Lp Gas-enhanced surgical instrument with mechanism for cylinder puncture
US8222822B2 (en) * 2009-10-27 2012-07-17 Tyco Healthcare Group Lp Inductively-coupled plasma device
JP5689653B2 (ja) 2009-12-03 2015-03-25 富士フイルム株式会社 電荷輸送膜、その製造方法及びこれを用いた発光素子並びに光電変換素子
JP5616657B2 (ja) * 2010-03-12 2014-10-29 富士フイルム株式会社 表面処理方法
JP2013529352A (ja) 2010-03-31 2013-07-18 コロラド ステート ユニバーシティー リサーチ ファウンデーション 液体−気体界面プラズマデバイス
US8436271B2 (en) * 2010-04-14 2013-05-07 Baruch Boris Gutman Thermal nucleus fusion torch method
GB201012226D0 (en) 2010-07-21 2010-09-08 Fujifilm Mfg Europe Bv Method for manufacturing a barrier on a sheet and a sheet for PV modules
GB201012225D0 (en) 2010-07-21 2010-09-08 Fujifilm Mfg Europe Bv Method for manufacturing a barrier layer on a substrate and a multi-layer stack
GB201110117D0 (en) 2011-06-16 2011-07-27 Fujifilm Mfg Europe Bv method and device for manufacturing a barrie layer on a flexible substrate
GB201117242D0 (en) 2011-10-06 2011-11-16 Fujifilm Mfg Europe Bv Method and device for manufacturing a barrier layer on a flexible subtrate
GB201210836D0 (en) 2012-06-19 2012-08-01 Fujifilm Mfg Europe Bv Method and device for manufacturing a barrier layer on a flexible substrate
US9532826B2 (en) 2013-03-06 2017-01-03 Covidien Lp System and method for sinus surgery
US9555145B2 (en) 2013-03-13 2017-01-31 Covidien Lp System and method for biofilm remediation
US11452982B2 (en) 2015-10-01 2022-09-27 Milton Roy, Llc Reactor for liquid and gas and method of use
US10882021B2 (en) 2015-10-01 2021-01-05 Ion Inject Technology Llc Plasma reactor for liquid and gas and method of use
US10010854B2 (en) 2015-10-01 2018-07-03 Ion Inject Technology Llc Plasma reactor for liquid and gas
US10187968B2 (en) 2015-10-08 2019-01-22 Ion Inject Technology Llc Quasi-resonant plasma voltage generator
US10046300B2 (en) 2015-12-09 2018-08-14 Ion Inject Technology Llc Membrane plasma reactor
US10542613B2 (en) * 2016-04-04 2020-01-21 University Of South Carolina Suppression of self pulsing DC driven nonthermal microplasma discharge to operate in a steady DC mode
JP7018119B2 (ja) 2018-02-13 2022-02-09 富士フイルム株式会社 大気圧プラズマ発生装置、大気圧プラズマ発生回路、及び、大気圧プラズマ発生方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT388814B (de) * 1985-11-15 1989-09-11 Paar Anton Kg Verfahren und vorrichtung zum erzeugen eines hf-induzierten edelgasplasmas
JPH02303357A (ja) * 1989-05-18 1990-12-17 Hitachi Lighting Ltd スイッチング電源装置
US5095247A (en) * 1989-08-30 1992-03-10 Shimadzu Corporation Plasma discharge apparatus with temperature sensing
DE69304522T2 (de) * 1992-04-16 1997-01-23 Advanced Energy Ind Inc Stabilisator fuer schalt-mode geleistet radio-frequenz plasma einrichtung
US5414324A (en) * 1993-05-28 1995-05-09 The University Of Tennessee Research Corporation One atmosphere, uniform glow discharge plasma
CA2205817C (en) * 1996-05-24 2004-04-06 Sekisui Chemical Co., Ltd. Treatment method in glow-discharge plasma and apparatus thereof
JP3492878B2 (ja) * 1997-03-05 2004-02-03 パイオニア株式会社 面放電型プラズマディスプレイパネルの駆動方法
US6475350B2 (en) * 1997-07-18 2002-11-05 Noxtech Inc Method for removing NOx and other pollutants from gas streams using a plasma assisted catalyst
JP2000164578A (ja) * 1998-11-30 2000-06-16 Hitachi Ltd プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
US6433553B1 (en) * 1999-10-27 2002-08-13 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Method and apparatus for eliminating displacement current from current measurements in a plasma processing system
KR20020018902A (ko) * 2000-09-04 2002-03-09 김영남 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법
US6774569B2 (en) * 2002-07-11 2004-08-10 Fuji Photo Film B.V. Apparatus for producing and sustaining a glow discharge plasma under atmospheric conditions
US7288204B2 (en) * 2002-07-19 2007-10-30 Fuji Photo Film B.V. Method and arrangement for treating a substrate with an atmospheric pressure glow plasma (APG)
EP1403902A1 (de) * 2002-09-30 2004-03-31 Fuji Photo Film B.V. Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung eines Glühentladungsplasmas unter atmosphärischem Druck
JP2004134716A (ja) * 2002-10-11 2004-04-30 Mori Engineering:Kk 2電源方式プラズマ発生装置
JP2004227990A (ja) * 2003-01-24 2004-08-12 Kunihide Tachibana プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置

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US7399944B2 (en) 2008-07-15

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