AT516291A3 - Verfahren zum Beschichten eines Substrats sowie Beschichtungsanlage - Google Patents
Verfahren zum Beschichten eines Substrats sowie Beschichtungsanlage Download PDFInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats (16) mit einem Lack, mit den folgenden Schritten: - der Lack wird auf das Substrat (16) mittels einer beweglichen Düse (20) aufgesprüht, - anschließend wird der auf das Substrat (16) aufgetragene Lack mit Lösungsmittel besprüht. Die Erfindung betrifft ferner eine Beschichtungsanlage zum Belacken von Substraten.
Description
indung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats (16) mit einem Lack, mit den folgenden Schritten:
- der Lack wird auf das Substrat (16) mittels einer beweglichen Düse (20) aufgesprüht,
- anschließend wird der auf das Substrat (16) aufgetragene Lack mit Lösungsmittel besprüht.
Die Erfindung betrifft ferner eine Beschichtungsanlage zum Belacken von Substraten.
DVR 0078018
Recherchenbericht zu A 50787/2015
Klassifikation des Anmeldungsgegenstands gemäß IPC:
G03F 7/16 (2006.01); B05D 1/02 (2006.01); B05D 3/10 (2006.01)
Klassifikation des Anmeldungsgegenstands gemäß CPC:
G03F 7/16 (2013.01); B05D 1/02 (2013.01); B05D 3/107 (2013.01)
Recherchierter Prüfstoff (Klassifikation):
G03F, B05D
Konsultierte Online-Datenbank:
EPODOC, WPIAP
Dieser Recherchenbericht wurde zu den am 15.09.2015 eingereichten
Claims (2)
- Ansprüchen 1-18 erstellt.Kategorie*)Bezeichnung der Veröffentlichung:Ländercode, Veröffentlichungsnummer, Dokumentart (Anmelder), Veröffentlichungsdatum, Textstelle oder Figur soweit erforderlichBetreffendAnspruchXAAUS 5952050 A (DOAN TRUNG T [US]) 14. September 1999 (14.09.1999)Anspruch 1; Zusammenfassung; AbbildungenUS 2013089668 A1 (INAGAKI YUKIHIKO [JP], GOTO TOMOHIRO [JP]) 11. April 2013 (11.04.2013)Zusammenfassung; Abbildungen; Ansprüche 1-3, 7JP 2005334810 A (ALPS ELECTRIC CO LTD) 08. Dezember 2005 (08.12.2005)Abbildungen; Zusammenfassung [ermittelt am 22.07.2016], ermittelt aus: EPOQUE WPI Datenbank, AN 2006-0321271, 21-181-18Datum der Beendigung der Recherche: 1 1 Prüfer(in):
- 22.07.2016 Seite 1 von 1 MÜLLER-HIEL Renate *) Kategorien der angeführten Dokumente: A Veröffentlichung, die den allgemeinen Stand der Technik definiert.X Veröffentlichung von besonderer Bedeutung: der Anmeldungs- P Dokument, das von Bedeutung ist (Kategorien X oder Y), jedoch nach gegenstand kann allein aufgrund dieser Druckschrift nicht als neu bzw. auf dem Prioritätstag der Anmeldung veröffentlicht wurde.erfinderischer Tätigkeit beruhend betrachtet werden. E Dokument, das von besonderer Bedeutung ist (Kategorie X), aus demY Veröffentlichung von Bedeutung: der Anmeldungsgegenstand kann nicht ein „älteres Recht“ hervorgehen könnte (früheres Anmeldedatum, jedoch als auf erfinderischer Tätigkeit beruhend betrachtet werden, wenn die nachveröffentlicht, Schutz ist in Österreich möglich, würde Neuheit in FrageVeröffentlichung mit einer oder mehreren weiteren Veröffentlichungen stellen).dieser Kategorie in Verbindung gebracht wird und diese Verbindung für & Veröffentlichung, die Mitglied der selben Patentfamilie ist. einen Fachmann naheliegend ist./ 1DVR 0078018
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| EP4476001A1 (de) * | 2022-02-09 | 2024-12-18 | TheraDep Technologies, Inc. | Verfahren zur herstellung von beschichtungen sowie zugehörige vorrichtungen und systeme |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5952050A (en) * | 1996-02-27 | 1999-09-14 | Micron Technology, Inc. | Chemical dispensing system for semiconductor wafer processing |
| JP2005334810A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Alps Electric Co Ltd | スプレーコート装置及びスプレーコート方法 |
| US20130089668A1 (en) * | 2011-10-05 | 2013-04-11 | Yukihiko Inagaki | Coating method and coating apparatus |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5887294A (ja) * | 1981-11-18 | 1983-05-25 | Sonitsukusu:Kk | 微小部分表面処理方法及びその装置 |
| FR2692274A1 (fr) * | 1992-06-10 | 1993-12-17 | Du Pont | Nouvelle laque à base de silicium, son emploi en tant que revêtement de substrat et les substrats ainsi obtenus. |
| EP0618504B1 (de) | 1993-03-25 | 2001-09-26 | Tokyo Electron Limited | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Filmes |
| US5482212A (en) * | 1994-07-05 | 1996-01-09 | Kobryn; Scott | Vehicle washing machine |
| KR0178680B1 (ko) * | 1996-07-13 | 1999-04-01 | 윤종용 | 반도체장치 제조용의 포토레지스트 박리조성물 및 그를 이용한 반도체장치의 제조방법 |
| JP3254574B2 (ja) * | 1996-08-30 | 2002-02-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成方法及びその装置 |
| US6248168B1 (en) | 1997-12-15 | 2001-06-19 | Tokyo Electron Limited | Spin coating apparatus including aging unit and solvent replacement unit |
| JP2000000517A (ja) * | 1998-06-15 | 2000-01-07 | Kansai Paint Co Ltd | 複層塗膜補修塗装法 |
| AT409462B (de) | 1998-10-08 | 2002-08-26 | Thallner Erich | Vorrichtung zum belacken von substraten |
| AT409348B (de) | 1999-04-22 | 2002-07-25 | Thallner Erich | Vorrichtung zum auftragen von materialien auf substrate, insbesondere zum belacken von si-wafern |
| JP2001102287A (ja) | 1999-09-29 | 2001-04-13 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | レジスト塗布現像装置、および下層反射防止膜のエッジカット方法 |
| JP2001225006A (ja) * | 2000-02-17 | 2001-08-21 | Kansai Paint Co Ltd | 自動車車体の塗装方法 |
| JP2001286793A (ja) * | 2000-04-05 | 2001-10-16 | Bb Ricchi:Kk | エアーブラシ |
| DE60135455D1 (de) * | 2000-05-16 | 2008-10-02 | Univ Minnesota | It einer mehrfachdüsenanordnung |
| JP2002126595A (ja) * | 2000-10-19 | 2002-05-08 | Toyota Industries Corp | 自動車ボディの処理装置および処理方法 |
| US20030033948A1 (en) * | 2001-08-02 | 2003-02-20 | Buono Ronald M. | Spray coating method of producing printing blankets |
| US6844029B2 (en) * | 2001-10-26 | 2005-01-18 | Kansai Paint Co., Ltd. | Photocurable primer composition and coating method by use of the same |
| JP2003236799A (ja) * | 2002-02-20 | 2003-08-26 | Minoru Sasaki | スプレーコーティングによるレジスト膜の成膜方法とこれを実施したレジスト膜の成膜装置 |
| DE10351963B4 (de) | 2003-11-07 | 2013-08-22 | Süss Microtec Lithography Gmbh | Verfahren zum Belacken von Halbleitersubstraten |
| KR100699348B1 (ko) * | 2005-10-11 | 2007-03-23 | 삼성전자주식회사 | 포토레지스트 용액을 효율적으로 사용하는 분사식포토레지스트 코팅 장치 및 방법 |
| JP4895397B2 (ja) * | 2008-03-13 | 2012-03-14 | 富士フイルム株式会社 | 配線基板の製造方法および配線基板の製造装置 |
| JP5726807B2 (ja) * | 2012-04-24 | 2015-06-03 | 東京エレクトロン株式会社 | パターン形成方法、パターン形成装置、及びコンピュータ可読記憶媒体 |
| JP6873704B2 (ja) * | 2014-05-06 | 2021-05-19 | ヘンケル アイピー アンド ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | ジェットバルブを用いた多成分接着剤の塗布装置及び方法 |
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5952050A (en) * | 1996-02-27 | 1999-09-14 | Micron Technology, Inc. | Chemical dispensing system for semiconductor wafer processing |
| JP2005334810A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Alps Electric Co Ltd | スプレーコート装置及びスプレーコート方法 |
| US20130089668A1 (en) * | 2011-10-05 | 2013-04-11 | Yukihiko Inagaki | Coating method and coating apparatus |
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