AT408403B - Vakummdichtes gehäusesystem für zweipolige bauelemente und verfahren zu dessen herstellung - Google Patents

Vakummdichtes gehäusesystem für zweipolige bauelemente und verfahren zu dessen herstellung Download PDF

Info

Publication number
AT408403B
AT408403B AT2802000A AT2802000A AT408403B AT 408403 B AT408403 B AT 408403B AT 2802000 A AT2802000 A AT 2802000A AT 2802000 A AT2802000 A AT 2802000A AT 408403 B AT408403 B AT 408403B
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
housing
paste
metallization
vacuum
glass ceramic
Prior art date
Application number
AT2802000A
Other languages
English (en)
Other versions
ATA2802000A (de
Inventor
Heinz Ing Homolka
Karl Ing Ochsenhofer
Roland Dr Reicher
Walter Dr Smetana
Original Assignee
Walter Dr Smetana
Karl Ing Ochsenhofer
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Walter Dr Smetana, Karl Ing Ochsenhofer filed Critical Walter Dr Smetana
Priority to AT2802000A priority Critical patent/AT408403B/de
Priority to AU33482/01A priority patent/AU3348201A/en
Priority to EP01905483A priority patent/EP1257779A1/de
Priority to PCT/AT2001/000048 priority patent/WO2001063200A1/de
Publication of ATA2802000A publication Critical patent/ATA2802000A/de
Application granted granted Critical
Publication of AT408403B publication Critical patent/AT408403B/de

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F42AMMUNITION; BLASTING
    • F42BEXPLOSIVE CHARGES, e.g. FOR BLASTING, FIREWORKS, AMMUNITION
    • F42B3/00Blasting cartridges, i.e. case and explosive
    • F42B3/10Initiators therefor
    • F42B3/12Bridge initiators
    • F42B3/13Bridge initiators with semiconductive bridge
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F42AMMUNITION; BLASTING
    • F42CAMMUNITION FUZES; ARMING OR SAFETY MEANS THEREFOR
    • F42C19/00Details of fuzes
    • F42C19/08Primers; Detonators
    • F42C19/12Primers; Detonators electric

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Connections Effected By Soldering, Adhesion, Or Permanent Deformation (AREA)
  • Air Bags (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



   Die Erfindung bezieht sich auf die Herstellung eines vakuumdichten Gehäuses für zweipolige
Bauelemente gemäss Ausführung nach Anspruch 1 und Verfahren nach Anspruch 11. 



   Aufgrund seiner hohen mechanischen Festigkeit, seiner einfachen und kostengünstigen Herstellbarkeit entspricht es insbesondere den Erfordernissen für Airbagzünder-Gehäuse. Als Zündelemente für Airbagsysteme finden Widerstandsdrähte, Schichtwiderstände (realisiert in Dünnoder Dickschichttechnik) sowie auf Halbleiterchips hergestellte Widerstandsbahnen Anwendung. 



   Derzeit werden Airbagzündelemente in modifizierten TO-Gehäusen mit Glasdurchführungen gekapselt bzw. in anderen aufwendig herstellbaren Gehäusen eingebaut. Um ein ungewolltes Zünden des Zündsatzes, ausgelöst durch elektrostatische Entladung, zu vermeiden, muss sichergestellt werden, dass einer der Zündelementeanschlüsse elektrisch mit der metallischen Gehäusekappe verbunden ist. 



   Die WO   96/24024   A1 weist auf eine Ausführungsform des Gehäuses hin, bei der ein Halbleiterzünder auf einen Keramikgehäuseboden montiert wird. Die Anschlussstifte sind als MetallGlasdurchführungen im Gehäuseboden fixiert. Die Verbindung zwischen den Kontaktflächen auf dem Halbleiterzünder und den Anschlussstiften wird über Drahtbrücken hergestellt. Es wird in der Patentschrift kritisch vermerkt, dass der Keramikgehäuseboden bruchgefährdet ist, wenn der Zündsatz eingebracht bzw. verpresst wird. Die vakuumdichten Metall-Glasdurchführungen stellen einen bedeutenden Kostenfaktor dar. Darüber hinaus ist keine elektrische Verbindung zwischen einem der beiden Anschlüsse und dem Gehäuse gegeben. In einer anderen Ausführung wird ein MetallTO-Gehäuse verwendet, das von einem Metallgehäuseboden und einer metallischen Gehäusekappe gebildet wird.

   Ein Anschlussstift ist in einer Metall-Glasdurchführung vom Gehäuseboden elektrisch isoliert, während der zweite auf der Unterseite des Gehäusebodens befestigt ist. Wird nun ein Anschluss des Halbleiterzündelements mit dem Gehäuseboden über ein Drahtbrücke verbunden, so ist dieser zugleich auch mit der Gehäusekappe elektrisch verbunden. Der zweite Anschluss des Zündelements ist mit dem elektrisch isoliert ausgeführten Anschlussstift über eine weitere Drahtbrücke kontaktiert. Die Glasdurchführung im Gehäuseboden des TO-Gehäuses stellt eine teure Ausführungsvariante dar. 



   Die US 5,798,476 A beschreibt die simultane Montage und Kontaktierung eines Dünnschichtzündelements auf einem metallischen Gehäuseboden. Auch in dieser Ausführung ist ein Anschlussstift in einer Glasdurchführung im Metallgehäuseboden fixiert. Der zweite Anschlussstift ragt als Zapfen aus dem Gehäuseboden heraus. In einem Arbeitsgang werden die Glasdurchführung für den Anschlussstift hergestellt, das Substrat mit dem Dünnschichtzündelement mit dem Gehäuseboden mit einem Glaslot sowie die Kontaktflächen des Zündelements durch Hartlöten mit den beiden Anschlussstiften verbunden. Die Herstellung und die Montage des Zündelements sind aufwendig. 



   In der US 5,113,764 A werden vier modifizierte Ausführungsformen von   Metailgehäusen   beschrieben, wobei der Gehäuseboden von der Gehäusekappe durch Kunststoffeinlagen elektrisch isoliert ist. Bei sämtlichen Ausführungen wird ein Anschluss des Halbleiterzündelementes mit dem Gehäuseboden, der andere mit dem Mantel der Gehäusekappe über Zungen und Stege, die in das Gehäuseinnere hineinragen, verbunden. Durch den Einbau der Stege bzw. Zungen in das Gehäuse ist die Herstellung dieser Gehäuseausführung mit hohem Aufwand verbunden. 



   Aufgabe der Erfindung ist es, den Aufbau und ein Verfahren für die Herstellung eines vakuumdichten Gehäuses für zweipolige Bauelemente anzugeben, wobei ein Anschluss des Bauelements mit der Gehäusekappe und einem Anschlussstift des Gehäuses elektrisch verbunden ist, während der zweite Bauelementeanschluss vom ersten isoliert über den Gehäuseboden mit dem zweiten Anschlussstift des Gehäuses elektrisch verbunden ist. 



   Diese Aufgabe wird erfindungsgemäss durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 1 bzw. durch das Verfahren nach Anspruch 11gelöst. Dabei wird der Gehäuseboden von einem kreisförmigen Stahlplättchen, auf das als elektrisch isolierende Zwischenschicht eine nicht durchgehende Glaskeramikbeschichtung aufgebracht ist, gebildet. Letztere besteht aus Si02, BaO,   AI203   und einer anorganischen Farbstoffverbindung, wie sie beispielsweise als Pastensystem zur Beschichtung von ferritischen Stählen unter der Bezeichnung IP 222 SL bei der W. C. Heraeus GmbH, Hanau DE oder ESL 4914 bei ESL Agmet Ltd., Reading GB erhältlich ist, während das Glaskeramiksystem ESL 4916 zur Beschichtung von austenitischen Stählen ausgelegt ist.

   Wesentlich bei der Erfindung ist, dass eine elektrisch leitende Verbindung zwischen dem Stahlsubstrat und einer Kontaktfläche auf der Glaskeramikschicht über eine   Durchkontaktierungsmetallisierung   her 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 gestellt wird. In der Glaskeramikschicht, die im Siebdruckverfahren auf den Stahlträger aufgebracht wird, befindet sich ein Durchkontaktierungsloch, das mit einer Leiterpaste, ebenfalls im Siebdruckverfahren, aufgefüllt wird. Es liegt hiebei der Erfindung die Erkenntnis zugrunde, dass hiefür ein glasfnttefreies Au-Pastensystem, wie beispielsweise die Leiterpaste C 5754 der W. C. Heraeus GmbH eingesetzt wird. Um einen niederohmigen Übergangswiderstand zwischen Stahl und Au-Metallisierung zu erhalten, müssen die Glaskeramikbeschichtung und Au-Paste gemeinsam gesintert werden.

   Wird hingegen zuvor die Glaskeramikbeschichtung alleine gesintert, so bildet sich auf der von Dickschichtpaste unabgedeckten Stahloberfläche im Bereich des Durchkontaktierungsloches eine Oxidschicht aus, so dass bei Aufbringen einer Au-Metallisierung kein niederohmiger Übergangswiderstand und/oder keine zuverlässige Haftung der Metallisierungsschicht auf dem Stahl erzielt wird. Konventionelle PdAg-Pasten der Dickschichttechnik bzw. glashältige Leiterpasten sind für Kontaktierungen auf Stahl ungeeignet, da sie keine niederohmigen Übergangswiderstände liefern. Selbst das PdAg-Pastensystem ESL D-9695 Steel, eine Leiterpaste, die zum Kontaktieren bzw. zum Bedrucken von Stahl modifiziert worden ist, ist hiefür ungeeignet.

   Um eine niederohmige Kontaktierung mit dem Stahl, sowie eine ausreichende Haftfestigkeit zu erzielen, muss nämlich diese Paste grossflächig verdruckt werden. Die Abmessungen der Kontaktfläche auf der Stahlplatte des Gehäusebodens betragen hingegen lediglich ca. 200   }im   x 200   m.   



   Danach werden lötbare Kontaktfelder als Anschlüsse für die Bauelemente mit einer konventionellen Leiterpaste auf der Glaskeramikschicht ebenfalls im Siebdruckverfahren aufgebracht, wobei eines der Kontaktfelder die Au-Kontaktierung am Rand des Durchkontaktierungsloches überlappt und das zweite in eine beispielsweise ringförmige   Metallisierungsfläche   konzentrisch zum Rand des Stahlplättchens übergeht. 



   Der Abstand zwischen den beiden Kontaktfeldern und die Grösse der Kontaktfelder sind auf die Grösse des zweipoligen Bauelements, das in das Gehäuse eingesetzt werden soll bzw. dessen Anschlüsse abgestimmt. 



   Nachfolgend wird eine metallische Gehäusekappe unter Schutzgasatmosphäre mit der ringförmigen Metallisierungsfläche auf dem Stahl-Glaskeramik-Gehäuseboden durch Löten oder Schweissen verbunden. Am Gehäusemantel der Gehäusekappe befindet sich ein gekröpft ausgeführter Anschlussstift, der durch Löten oder Schweissen mit diesem verbunden worden ist. Der zweite Anschlussstift ist auf der Unterseite des Stahlplättchens angelötet oder angeschweisst. 



   Fig. 1a und 1b zeigen den Grundriss und eine Querschnittansicht vom Aufbau des Gehäuses gemäss einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, bestückt mit einem zweipoligen SMD-Bauelement. 



   Fig. 2a und 2b zeigen den Grundriss und eine Querschnittansicht vom Aufbau des Gehäuses gemäss einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, bestückt mit einem Halbleiterchip-Bauelement. 



   Fig. 3a und 3b zeigen den Grundriss und eine Querschnittansicht vom Aufbau des Gehäuses gemäss einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, wobei das Gehäuse mit einem Zündelement bestückt und einem Zündsatz aufgefüllt ist. 



   Das Gehäuse (100) umfasst einen Gehäuseboden (101), der von einem mit einer Glaskeramikbeschichtung (103) versehenen Stahlplättchen (102) gebildet wird, auf dem zwei   Kontaktfelder   (105) und (105') angeordnet sind, wobei das zweite Kontaktfeld (105') über die Durchkontaktierung (104) mit dem Stahlplättchen (102) elektrisch verbunden ist, während das erste Kontaktfeld (105) in eine ringförmige Randmetallisierung (106) übergeht. Das Gehäuse (100) umfasst weiters eine Gehäusekappe (107), die über eine Löt- oder Schweissverbindung (108) mit dem Gehäuseboden (101) verbunden ist, wobei zwischen dem Kontaktfeld (105) und der Gehäusekappe (107) über die Randmetallisierung (106) und die Fügestelle (108) eine elektrisch leitende Verbindung hergestellt wird.

   Am Gehäuse sind zwei voneinander elektrisch isolierte metallische Anschlussstifte (109) und (110) angeordnet, wobei der Anschlussstift (109) auf die Unterseite des Stahlplättchens und der zweite, gekröpft ausgeführte Anschlussstift (110) auf den Mantel der Gehäusekappe (107) gelötet, geklebt oder geschweisst werden. Das Stahlplättchen (102) ist ein ferritischer oder austenitischer Stahl beispielsweise des Typs 1. 4404 oder 1. 4301. Die konventionelle Dickschichttechnik wird angewandt, um die Glaskeramikbeschichtung (103),   Durchkontaktierungsmetallisierung   (104), Kontaktfelder (105) und (105') sowie die Randmetallisierung (106) herzustellen, wobei handels- übliche Pastensysteme der Hersteller HERAEUS, ESL oder DUPONT eingesetzt werden.

   Für die 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 Durchkontaktierungsmetallisierung (104) wird eine glasfrittefreie Au-Dickschichtleiterpaste, für die Kontaktfelder (105) und (105') sowie die Randmetallisierung (106) werden lötfähige bzw. schweissbare Dickschichtleiterpasten, deren leitfähige Phase beispielsweise aus einer PdAg-Legierung besteht, eingesetzt. Es werden vorzugsweise Pasten verwendet, die bei einer Temperatur von 850 C gesintert werden können. 



   Wesentlich bei der Erfindung ist, dass sich ein niedriger Übergangswiderstand bei Kontakterung der Stahlplatte (102) mit einer glasfrittefreien Au-Dickschichtleiterpaste einstellt, wodurch es ermöglicht wird, eine elektrisch leitende Verbindung zwischen Stahlplatte (102) und dem Kontaktfeld (105') über eine Durchkontaktierungsmetallisierung (104) herzustellen. Es sind hiebei folgende Prozessschritte einzuhalten:   #   Drucken der Glaskeramikpaste mittels Siebdruckverfahrens auf eine Stahlplatte. 



   Trocknen der aufgedruckten Paste bei 150  C über eine Zeitdauer von ca. 10 Minuten. 



   Wiederholen der ersten beiden Prozessschritte, bis eine Gesamtschichtdicke von ca. 90  m erzielt wird. Es sind hiefür etwa 3 Durchläufe notwendig. 



   Drucken der glasfrittefreien Au-Paste über/in das Durchkontaktierungsloch. 



   Trocknen der aufgedruckten Paste bei 150  C über eine Zeitdauer von ca. 10 Minuten. 



   Gemeinsames Sintern von Glaskeramikpaste und der glasfrittefreien Au-Paste bei 850  C, wobei sich eine Schichtdicke von ca. 45 um für die Glaskeramikbeschichtung ergeben sollte. 



   Nachfolgend werden die Kontaktfelder (105), (105') und die Randmetallisierung (106) mit einer löt- bzw. schweissbaren Dickschichtleiterpaste hergestellt. Es können hiefür PdAg-, PdAu- oder PdAuPt-Pasten eingesetzt werden, wobei folgende Verfahrensschritte eingehalten werden sollten:
Drucken der Dickschichtleiterpaste mittels Siebdruckverfahrens auf die Glaskeramikbeschich- tung. 



   Trocknen der aufgedruckten Paste bei 150  C über eine Zeitdauer von ca. 10 Minuten. 



    #   Brennen der Paste in einem Durchlaufofen bei einer Spitzentemperatur von 850  C. 



   Anschliessend wird das zweipolige Bauelement (111) mit den Anschlusskontakten A und B, das in das Gehäuse montiert werden soll, auf die vorbeloteten Kontaktfelder (105) und (105') aufgesetzt und nach Methoden der konventionellen SMD-Technik verlötet. Vorzugsweise werden hiefür Lotpasten verwendet, die im Siebdruckverfahren oder mittels Dispenser aufgebracht werden können. Es muss hiebei ein Lot verwendet werden, das einen höheren Schmelzpunkt oder eine höhere eutektische Temperatur besitzt, als jenes, das später zum Verlöten der Gehäusekappe (107) mit der Metallisierung (106) des Gehäusebodens (101) eingesetzt wird.

   Um zu vermeiden, dass die während des Verlötens freiwerdenden Flussmittel- und Lösungsmitteldämpfe in das Innere der Gehäusekappe entweichen, sich dort anreichern und zu einer Schädigung des Bauteils führen können, wird das Lot nicht in Pastenform aufgebracht, sondern es werden zum Verlöten des Gehäuses lösungs- und flussmittelfreie Lotformteile verwendet, die zwischen Gehäusekapperand und Randmetallisierung (106) positioniert werden. Das Verlöten des Gehäuses (100) muss in einem Lötofen unter reduzierender Schutzgasatmosphäre erfolgen. 



   Anschliessend werden auf die Unterseite des Gehäusebodens, genauer auf das Stahlplättchen (102), der Anschlussstift (109) und auf die Aussenwand der Gehäusekappe (107) der gekröpfte Anschlussstift (110) angeschweisst (Laser- oder Widerstandsschweissen). 



   Fig. 2 zeigt ein anderes Ausführungsbeispiel der Erfindung. Es können auch andere Bauelemente (113), insbesondere Halbleiterchips, in das Gehäuse eingesetzt werden, deren Anschlüsse über die Bonddrähte C und D mit den Kontaktfeldern (105) und (105') verbunden werden. Zusätzlich wird hiebei ein weiteres Kontaktfeld (112) zwischen den beiden Kontaktfeldern (105) und (105') mit PdAg- oder Au-Paste nach dem Verfahren der Dickschichttechnik aufgebracht, auf das das Bauelement (113) durch Kleben oder Löten fixiert wird. 



   In einer weiteren Ausführungsvariante, insbesondere wenn der Halbleiterchip mit Au-Bonddrähten kontaktiert werden soll, kann für die Herstellung der Kontaktfelder (105) und (105') anstelle der PdAg-Paste eine glasfrittefreie Au-Paste verwendet werden, wodurch auf den separaten Druck der Durchkontaktierungsmetallisierung (104) verzichtet werden kann. Es werden in einem Arbeitsgang das Kontaktfeld (105) und gleichzeitig mit dem Kontaktfeld (105') die Durchkontaktierung zur Stahlplatte im Siebdruckverfahren, sowie bei Bedarf, insbesondere wenn in das Gehäuse ein Halbleiterchip montiert werden soll, ein weiteres Kontaktfeld (112) hergestellt, auf das durch Kleben oder Löten das Bauelement (113) fixiert wird.

   Nach dem Sintern der Au-Paste wird die PdAg-Paste 

 <Desc/Clms Page number 4> 

 zur Herstellung der Randmetallisierung (106) im Siebdruckverfahren aufgebracht, wobei der Übergang zum Kontaktfeld (105) überlappend ausgeführt ist. Die Reihenfolge des Pastenauftrags und der Überlappung kann jedoch bei Bedarf variiert werden. 



   Ein weiterer Anwendungsbereich dieser Erfindung bezieht sich auf Airbag-Zündelemente. So kann das in der WO 99118586 A1 beschriebene Zündelement integriert auf dem Gehäuseboden hergestellt werden. Ebenso können beispielsweise die in US 4,780,060 A, EP 697708 A1 oder WO 96/24024 A1 beschriebenen Ausführungsformen von Zündelementen in das Gehäuse (100) eingebaut und mit den Kontaktfeldern (105) und (105') durch Bonden, Löten oder Kleben kontaktiert werden. 



   Für die Airbag-Zündelemente muss die Ausführung der Gehäusekappe (107) in Fig. 1 u.U. variiert werden. Um ein sicheres Auslösen der Zündung sicherzustellen, muss ein inniger Kontakt zwischen Zündsatz und Zündelement hergestellt werden. Geeignete Massnahmen beim Aufsetzen der Gehäusekappe bzw. durch entsprechend konstruktive Massnahmen dienen dazu, dass der Zündsatz im Gehäuse gegen das Zündelement gepresst wird bzw. ein konstanter Anpressdruck aufrechterhalten wird. Ein in die Gehäusekappe integriertes Anpresssystem, wie in US 5,732, 634 A1 beschrieben, stellt eine geeignete Ausführungsvariante dar. Eine bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung für eine Gehäusekappe wird nachfolgend unter Bezugnahme auf Fig. 3 näher erläutert. 



   Die metallische Gehäusekappe   (114)   ist geteilt ausgeführt. Sie besteht aus einem zylinderförmigen Stutzen (115) aus einer Ni-Fe- oder einer Cu-Fe-Legierung und einem tiefgezogenen Gehäusedeckel (116) aus der gleichen Metallegierung wie der Stutzen, jedoch von geringerer Wandstärke. Der Stutzen (115) wird mit dem Metallisierungsring (106) des Gehäusebodens (101) verlötet oder verschweisst. Der Stutzen (115) wird mit dem Zündsatz (117) aufgefüllt und anschlie- &num;end der Gehäusedeckel (116) auf den Stutzen (115) aufgesetzt. Ein metallischer Stempel presst den Gehäusedeckel (116) gegen den Zündsatz (117), wobei Lufteinschlüsse entlang des federnden Saumes (118) des Gehäusedeckels (116) entweichen können. In der Folge wird der Zündsatz (117) mit dem Zündelement (120) verpresst.

   Sobald der vorgewählte Soll-Druckwert des Stempels erreicht ist, wird der Gehäusedeckel (116) entlang seines Saumes (118) mit dem Stutzen (115) laserverschweisst. Der Stempel sowie der dickwandige Stutzen (115) wirken während des Schweissvorgangs als Kühlkörper, die ein Erwärmen des Zündsatzes (117) über seine Zündtemperatur verhindern. Im gleichen Arbeitsgang können der Anschlussstift (109) sowie der gekröpft ausgeführte Anschlussstift (119) an die Stahlplatte (102) und an den Stutzen (115) geschweisst werden. Das Gehäuse kann noch zusätzlich, wie bei Airbag-Zündern üblich, kunststoffumspritzt werden, wodurch der Anschlussstift (119) mechanisch abgestützt wird und eine allfällige Kurzschlussgefahr zwischen Anschlussstift (119) und Stahlplatte (102) verringert wird. 



   PATENTANSPRÜCHE: 
1. Vakuumdichtes Gehäuse (100) zum Einbau von zweipoligen Bauelementen, bestehend aus einem Gehäuseboden mit einer daraufmontierten Gehäusekappe und zwei Anschluss- stiften, dadurch gekennzeichnet, dass es aus einem zweilagigen Gehäuseboden (101) besteht, der sich aus einem metallischen Grundkörper (102) und einer Isolationsschicht (103) zusammensetzt, wobei ein Metallisierungsring (106) auf der Isolationsschicht (103) des Gehäusebodens angeordnet ist, ein erstes Kontaktfeld (105) auf der Isolationsschicht (103), das elektrisch leitend mit dem Metallisierungsring (106) verbunden ist, ein zweites
Kontaktfeld (105') auf der Isolationsschicht (103), das elektrisch leitend mit dem metalli- schen Grundkörper (102) des Gehäusebodens verbunden ist, ein erster Anschlussstift (109), der auf dem metallischen Grundkörper (102) des Gehäusebodens befestigt ist,

   eine
Gehäusekappe (107), auf deren Aussenmantel ein zweiter Anschlussstift (110) befestigt ist und die mit dem Metallisierungsring (106) des Gehäusebodens durch eine Löt- oder
Schweissverbindung verbunden ist.

Claims (1)

  1. 2. Vakuumdichtes Gehäuse (100) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Gehäuseboden (101) aus einem ferritischen oder austenitischen Stahl als als metallischer Grundkörper (102) und einer Glaskeramikbeschichtung als Isolationsschicht (103) besteht. <Desc/Clms Page number 5>
    3. Vakuumdichtes Gehäuse (100) nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Metallisierungsring (106) aus einer löt- oder schweissbaren PdAg- oder PdAu-Dickschicht- leiterbahnmetallisierung, die Kontaktfelder (105) und (105') aus einer bondbaren Au-Dick- schichtleiterbahnmetallisierung bestehen.
    4. Vakuumdichtes Gehäuse (100) nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen den Kontaktfeldern (105) und (105') ein weiteres Kontaktfeld (112) angeordnet ist, das aus einer löt- oder klebbaren Au- oder PdAu-Dickschichtleiterbahnmetallisierung besteht und auf das vorzugsweise ein ungehäuster Halbleiterchip montiert wird.
    5 Vakuumdichtes Gehause (100) nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Metallisierungsring (106) aus einer löt- oder schweissbaren, die Kontaktfelder (105) und (105') aus einer lötbaren PdAg- oder PdAu-Dickschichtleiterbahnmetallisierung bestehen.
    6. Vakuumdichtes Gehäuse (100) nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrisch leitfähige Verbindung zwischen 1. Lage (102) des Gehäusebodens und dem Kontaktfeld (105') auf der 2. Lage (103) des Gehäusebodens aus einer Durchkontaktie- rung (104) mit einer glasfrittefreien Au-Dickschichtleiterbahnmetallisierung besteht.
    7. Vakuumdichtes Gehäuse (100) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Gehäusekappe (114) aus einem dickwandigen Stutzen (115) und einem tiefgezogenen Deckel (116) besteht, der entlang des Saumes (118) mit der Innenwand des Stutzens ver- schweisst ist.
    8. Vakuumdichtes Gehäuse (100) nach Anspruch 1 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Gehäusekappe (107) bzw. (114) aus einer NiFe- oder CuFe-Legierung besteht.
    9. Vakuumdichtes Gehäuse (100) nach Anspruch 1,7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens einer der Anschlussstifte (109) und (110) bzw. (119) gekröpft ausgeführt ist und dass der Anschlussstift (109) mit der Stahlplatte (102) des Gehäusebodens und der Anschlussstift (110) bzw. (119) mit der Gehäusekappe (107) bzw. mit dem Stutzen (115) entweder durch Schweissen, Löten oder Kleben verbunden sind.
    10. Vakuumdichtes Gehäuse (100) nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeich- net, dass das Gehäuse kunststoffumspritzt ist.
    11. Verfahren zur Herstellung eines vakuumdichten Gehäuses für zweipolige Bauelemente mit einem zweilagigen Gehäuseboden (101) nach Anspruch 1, bestehend aus aus einem Grundkörper (102), an dem ein Anschlussstift (109) fixiert und der von einer Isolationslage (103) bedeckt ist, mit einem Metallisierungsring (106), Kontaktfeldern (105), (105') wahl- weise mit einem zusätzlichen Kontaktfeld (112), die auf der Isolationsschicht (103) ange- ordnet sind, einer Durchkontaktisierungsmetallisierung (104), die den Grundkörper (102) ankontaktiert und vom Kontaktfeld (105') überlappt wird, einer Gehäusekappe (107) oder (114), auf der ein gekröpft ausgeführter Anschlussstift (110) bzw.
    (119) fixiert ist, gekenn- zeichnet durch folgende Verfahrensschritte : # Drucken der Glaskeramikpaste mittels Siebdruckverfahrens zur Herstellung der Iso- lationsschicht (103) auf einer Stahlplatte, die den metallischen Grundkörper (102) des Gehäusebodens (101) bildet; Trocknen der aufgedruckten Paste; Drucken der Au-Paste zur Herstellung der Durchkontaktierungsmetallisierung (104) ; Trocknen der aufgedruckten Paste; Gemeinsames Sintern der getrockneten Glaskeramikpastenschicht und der getrockne- ten Au-Paste; Wiederholen der der fünf ersten Prozessschritte auf dem gleichen Substrat, bis die gewünschte Gesamtschichtdicke der Glaskeramikbeschichtung erreicht wird;
    Drucken der PdAg- oder PdAu-Leiterpaste mittels Siebdruckverfahren zur Herstellung des Metallisierungsrings (106) und/oder der beiden Kontaktfelder (105) und (105') auf die durch die Glaskeramikbeschichtung gebildete Isolationsschicht (103) ; Trocknen der aufgedruckten Paste; Sintern der getrockneten Paste; 12. Verfahren zum Herstellen eines Gehäuses (100) nach Anspruch 11, dadurch gekennzeich- net, dass anstelle einer Glaskeramikpaste eine ungebrannte ("grüne") Glaskeramikfolie verwendet wird, die durch Laminieren anstelle eines Siebdruckverfahrens auf das Stahl <Desc/Clms Page number 6> substrat aufgebracht und mit diesem versintert wird.
    13. Verfahren zum Herstellen eines Gehäuses (100) nach Anspruch 11, dadurch gekennzeich- net, dass anstelle eines Beschichtungsprozesses mit Glaskeramikpaste ein bereits email- liertes Stahlsubstrat verwendet wird.
AT2802000A 2000-02-23 2000-02-23 Vakummdichtes gehäusesystem für zweipolige bauelemente und verfahren zu dessen herstellung AT408403B (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AT2802000A AT408403B (de) 2000-02-23 2000-02-23 Vakummdichtes gehäusesystem für zweipolige bauelemente und verfahren zu dessen herstellung
AU33482/01A AU3348201A (en) 2000-02-23 2001-02-23 Vacuum-tight housing for mounting at least bipolar components and method for theproduction thereof
EP01905483A EP1257779A1 (de) 2000-02-23 2001-02-23 Vakuumdichtes gehäuse zum einbau von mindestens zweipoligen bauelementen sowie verfahren zu dessen herstellung
PCT/AT2001/000048 WO2001063200A1 (de) 2000-02-23 2001-02-23 Vakuumdichtes gehäuse zum einbau von mindestens zweipoligen bauelementen sowie verfahren zu dessen herstellung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AT2802000A AT408403B (de) 2000-02-23 2000-02-23 Vakummdichtes gehäusesystem für zweipolige bauelemente und verfahren zu dessen herstellung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
ATA2802000A ATA2802000A (de) 2001-03-15
AT408403B true AT408403B (de) 2001-11-26

Family

ID=3670723

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT2802000A AT408403B (de) 2000-02-23 2000-02-23 Vakummdichtes gehäusesystem für zweipolige bauelemente und verfahren zu dessen herstellung

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP1257779A1 (de)
AT (1) AT408403B (de)
AU (1) AU3348201A (de)
WO (1) WO2001063200A1 (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114456821B (zh) * 2022-01-13 2023-12-01 五冶集团上海有限公司 一种焦炉横拉条保护罩在线更换方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0410592A (ja) * 1990-04-27 1992-01-14 Matsushita Electric Works Ltd 封止構造
US5113764A (en) * 1989-09-25 1992-05-19 Olin Corporation Semiconductor bridge (SCB) packaging system
WO1996024024A1 (en) * 1995-01-31 1996-08-08 Quantic Industries, Inc. Improved semiconductor bridge explosive device
US5732634A (en) * 1996-09-03 1998-03-31 Teledyne Industries, Inc. Thin film bridge initiators and method of manufacture
US5798476A (en) * 1996-03-25 1998-08-25 Trw Inc. Initiator for an air bag inflator

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3416735A1 (de) * 1984-05-07 1985-11-07 Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf Elektrisches zuendelement
JPH0610468B2 (ja) 1986-08-07 1994-02-09 サンデン株式会社 容量可変圧縮機
US5140906A (en) * 1991-11-05 1992-08-25 Ici Americas, Inc. Airbag igniter having double glass seal
FR2723663B1 (fr) 1994-08-10 1996-10-31 Motorola Semiconducteurs Dispositifs fusibles a semiconducteur
US5939660A (en) * 1997-03-12 1999-08-17 Trw Inc. Inflator for an inflatable vehicle occupant protection device
AT405591B (de) 1997-10-03 1999-09-27 Schaffler & Co Heizelement und verfahren zu dessen herstellung

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5113764A (en) * 1989-09-25 1992-05-19 Olin Corporation Semiconductor bridge (SCB) packaging system
JPH0410592A (ja) * 1990-04-27 1992-01-14 Matsushita Electric Works Ltd 封止構造
WO1996024024A1 (en) * 1995-01-31 1996-08-08 Quantic Industries, Inc. Improved semiconductor bridge explosive device
US5798476A (en) * 1996-03-25 1998-08-25 Trw Inc. Initiator for an air bag inflator
US5732634A (en) * 1996-09-03 1998-03-31 Teledyne Industries, Inc. Thin film bridge initiators and method of manufacture

Also Published As

Publication number Publication date
ATA2802000A (de) 2001-03-15
AU3348201A (en) 2001-09-03
EP1257779A1 (de) 2002-11-20
WO2001063200A1 (de) 2001-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3233225C2 (de)
EP0162149A1 (de) Elektrischer Kondensator als Chip-Bauelement
EP1036419A1 (de) Verfahren zur anbringung von aussenelektroden an festkörperaktoren
DE3725438A1 (de) Verfahren zur herstellung einer verdrahteten mikrosicherung
EP0972288B1 (de) Verfahren zur herstellung einer sensoranordnung für die temperaturmessung
EP1756537A1 (de) Temperaturfühler und verfahren zu dessen herstellung
EP0941020A2 (de) Leiterplatte mit SMD-Bauelementen
EP0436529B1 (de) Gasentladungs-überspannungsableiter
AU611082B2 (en) Passive electronic component
US4953273A (en) Process for applying conductive terminations to ceramic components
DE69118308T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Verbindung für eine integrierte Schaltung
DE10123684A1 (de) Leiterplatte mit einer darauf aufgebrachten Kontakthülse
AT408403B (de) Vakummdichtes gehäusesystem für zweipolige bauelemente und verfahren zu dessen herstellung
DE29519294U1 (de) Elektrisches Gerät
DE19743737A1 (de) Dickschichtleiterplatte und Verfahren zur Bildung einer Drahtbondelektrode darauf
DE19945794C2 (de) Verfahren zum Herstellen einer Metall-Keramik-Leiterplatte mit DurchKontaktierungen
DE19915745A1 (de) Montagestruktur von elektronischen Teilen und Montageverfahren von elektronischen Teilen
DE9015206U1 (de) Widerstandsanordnung in SMD-Bauweise
DE4029681C2 (de)
EP3200568B1 (de) Batteriebrücke und verfahren zum aktivieren einer elektronischen vorrichtung
EP0418555B1 (de) Verfahren zum Herstellen eines Festelektrolykondensators in Chip-Bauweise
DE10345768B4 (de) Anschlussmittel und Verfahren zum Kontaktieren des Anschlussmittels
DE10121969C1 (de) Schaltungsanordnung in Druckkontaktierung und Verfahren zu seiner Herstellung
EP1085792B1 (de) Verfahren zum Herstellen einer Leiterplatte sowie Leiterplatte
AT404207B (de) Verfahren zum herstellen elektrischer schaltkreise

Legal Events

Date Code Title Description
ELJ Ceased due to non-payment of the annual fee