AT303870B - Verfahren zum Erzeugen einer Photolackmaske an der Oberfläche eines scheibenförmigen Halbleiterkörpers - Google Patents

Verfahren zum Erzeugen einer Photolackmaske an der Oberfläche eines scheibenförmigen Halbleiterkörpers

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AT303870B AT1044168A AT1044168A AT303870B AT 303870 B AT303870 B AT 303870B AT 1044168 A AT1044168 A AT 1044168A AT 1044168 A AT1044168 A AT 1044168A AT 303870 B AT303870 B AT 303870B
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50

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