AT248459B - Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen mit Si-gebundenen aromatischen Resten - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen mit Si-gebundenen aromatischen RestenInfo
- Publication number
- AT248459B AT248459B AT328264A AT328264A AT248459B AT 248459 B AT248459 B AT 248459B AT 328264 A AT328264 A AT 328264A AT 328264 A AT328264 A AT 328264A AT 248459 B AT248459 B AT 248459B
- Authority
- AT
- Austria
- Prior art keywords
- radicals
- sep
- general formula
- sum
- bonded
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims description 4
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 claims description 32
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 16
- 125000001997 phenyl group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 5
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical group C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 4
- WPWHSFAFEBZWBB-UHFFFAOYSA-N 1-butyl radical Chemical compound [CH2]CCC WPWHSFAFEBZWBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 229910003691 SiBr Inorganic materials 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C1=CC=CC=C1 KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 2
- FAFBWBXHGZHDSJ-UHFFFAOYSA-N (4-silylphenyl)silane Chemical class [SiH3]C1=CC=C([SiH3])C=C1 FAFBWBXHGZHDSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQJPWWLJDNCSCN-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenyltetramethyldisiloxane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C1=CC=CC=C1 YQJPWWLJDNCSCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N Phenanthrene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- MODPJAHDRSXKAB-UHFFFAOYSA-N benzyl-fluoro-methylsilane Chemical compound C[SiH](F)CC1=CC=CC=C1 MODPJAHDRSXKAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWAXDPWQPGZNIO-UHFFFAOYSA-N benzylsilane Chemical compound [SiH3]CC1=CC=CC=C1 UWAXDPWQPGZNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGPCFXZWLWDDDU-UHFFFAOYSA-N chloro(propyl)silane Chemical compound CCC[SiH2]Cl BGPCFXZWLWDDDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- XKBAVCUSVIEVHR-UHFFFAOYSA-N dibromo(methyl)silane Chemical compound C[SiH](Br)Br XKBAVCUSVIEVHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZVUWRFHKOJYTH-UHFFFAOYSA-N diphenhydramine Chemical group C=1C=CC=CC=1C(OCCN(C)C)C1=CC=CC=C1 ZZVUWRFHKOJYTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000012262 resinous product Substances 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical compound Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKQNYQDSIDKVJZ-UHFFFAOYSA-N triphenylsilane Chemical compound C1=CC=CC=C1[SiH](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AKQNYQDSIDKVJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
<Desc/Clms Page number 1>
Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen mit Si-gebundenen aromatischen Resten
Erfindungsgem ss werden Organosiliciumverbindungen mit Si-gebundenen aromatischen Resten dadurch hergestellt, dass Silane der allgemeinen Formel
EMI1.1
worin R Alkylreste mit weniger als 5 C-Atomen, Aralkylreste mit nicht mehr als 4 aliphatisch gebundenen C-Atomen, Alkarylreste mit nicht mehr als 4 aliphatisch gebundenen C-Atomen oder Arylreste, und X Halogenatome bedeuten, m 1 oder 2, n 0, 1, 2 oder 3 und die Summe von m + n 1, 2,3 oder 4 ist, und/oder Siloxane der allgemeinen Formel
EMI1.2
worin R die angegebene Bedeutung hat, p und r jeweils 0, 1 oder 2 und die Summe von p + r mindestens 1 ist, mit aromatischen Verbindungen der allgemeinen Formel
EMI1.3
worin R'Aralkylreste mit nicht mehr als 4 aliphatisch gebundenen C-Atomen,
R" Alkarylreste mit nicht mehr als 4 aliphatisch gebundenen C-Atomen, Arylreste oder Reste, welche mit dem Benzolkem der allgemeinen Formel (III) zweimal verbunden sind (ihn also z. B. zu einem Naphthalinring ergänzen), bedeuten, a und b jeweils 0, 1 oder 2 und die Summe von a + b 0, 1 oder 2 ist, bei Temperaturen von mindestens 350 C und gegebenenfalls unter Druck im Sinne eines Ersatzes mindestens eines direkt an ein Siliciumatom geknüpften Wasserstoffatoms durch einen aromatischen Rest umgesetzt werden.
Unter den Bedingungen des erfindungsgemässen Verfahrens wird die Verbindung (III) unter Bildung von Arylradikalen gespalten ; diese reagieren mit den Si-H-Bindungen unter Ersatz von mindestens einem H-Atom in den Silanen (I) und/oder Siloxanen (II). Die freigewordenen H-Atome vereinigen sich dann mit den Resten R'unter Bildung von Verbindungen der Formel R'H nach folgenden Formelschemata :
<Desc/Clms Page number 2>
EMI2.1
EMI2.2
eingesetzt werden, worin R und X die angegebene Bedeutung haben. Bevorzugt sind Silane mit einem oder mehr Halogenatomen, da. diese handelsübliche Ausgangsprodukte für die Herstellung von Siloxanen sind.
Beispiele für Reste X sind Brom-, Fluor-oder Jodatome und vorzugsweise Chloratome. Beispiele für Reste R in den Silanen (I) und Siloxanen (tri) sind beliebige Alkylreste wie Methyl-, Äthyl-, Propyl-oder Butylrest ; Aralkylreste wie Benzyl-, Cuminyl-, Phenäthyl-, Benzhydryl-, Tritylreste ; Alkarylreste wie Tolyl-, Xylyl-, Duryl-, Cumyl- oder Thymylreste und Arylreste wie Phenyl-, Xenyl-, Naphthyl-, Anthracyl-, Fluorenyl- oder P. yrenylreste, die in beliebiger Kombination vorhanden sein können. BevorzugteResteR sind Äthyl- und Xenylreste und insbesondere Methyl- und Phenylreste. Wenn mehr als ein Rest R vorhanden ist, können diese gleich oder verschieden sein.
Ebenso können bei Vorhandensein von mehr als einem Rest X diese gleich oder verschieden sein, obgleich sie im allgemeinen gleich sein.
Weiterhin können Silane (I) oder Siloxane (H) einer bestimmten Art, oder Gemische von zwei oder mehr verschiedenen Arten von Silanen oder Siloxanen oder Gemische von mindestens einem Silan und mindestens einem Siloxan der genannten Art eingesetzt werden.
Beispiele für einsatzbereite Silane (I) sind Trichlorsilan, Methyldibromsilan, Methylbenzylfluorsilan, Triphenylsilan, Dichlorsilan, n-Propylchlorsilan und Phenylmethylsilan.
Als Siloxane (II) können solche der allgemeinen Formeln
EMI2.3
verwendet werden. Diese Siloxane können besonders leicht durch Hydrolyse der entsprechenden Halogensilane, z.B. solchen der allgemeinen Formeln R3 SiX, HSiR2X und H2SiRX gewonnen werden.
Vorzugsweise werden als Ausgangsverbindungen Silane (I) eingesetzt, da Disiloxane bei den Temperaturen des erfindungsgemässen Verfahrens nicht so stabil sind und die Ausbeuten daher geringer als bei Einsatz von Silanen sind.
Beispiele für Reste R'in den aromatischen Verbindungen (III) sind Aralkylreste wie Benzyl-, Phen-
EMI2.4
Tolyl-, Xylyl- und Cumylreste. Ferner können die Reste R" mit dem Benzolkern der aromatischen Verbindung (III) nochmals verbunden sein, so dass der Formelrest R"C6H4- beispielsweise auch ein Naphthylrest sein kann.
Wenn in Komponente (III) mehr als ein Rest R'vorhanden ist, umfassen die Verbindungen folgende. allgemeine Formelgruppierungen :
EMI2.5
<Desc/Clms Page number 3>
EMI3.1
Temperaturen schon eine geringe Umsetzung ermöglichen, ist es vorteilhaft, Temperaturen von min- destens 3500C anzuwenden, um eine deutlich sichtbare Umsetzung in angemessener Zeit zu erzielen.
Oberhalb von 3500C bewirkt eine weitere Temperatursteigerung eine Beschleunigung der Umsetzung.
Das Arbeiten bei Temperaturen von oberhalb etwa 6500C ist jedoch wenig vorteilhaft, da hiebei bereits beträchtliche Zersetzungserscheinungen der Reaktionspartner auftreten, so dass als Hauptprodukt ein zähes
Harz erhalten wird. Die besten Ergebnisse hinsichtlich Reaktionsgeschwindigkeit und geringer Zer- setzungsneigung werden in einem Temperaturbereich zwischen 400 und 5500C erzielt. Die optimale
Temperatur ist natürlich in jedem Fall von der Stabilität der einzelnen Reaktionsteilnehmer sowie der
Reaktionsgeschwindigkeit des betreffenden Systems abhängig.
Da bei den üblichen Arbeitstemperaturen die Reaktionsteilnehmer bei Atmosphärendruck wahrschein- lich alle gasförmig vorliegen, ist das Arbeiten unter Druck vorteilhaft, damit ein ausreichender Kontakt der Reaktionspartner garantiert wird. Obgleich einige der aktivsten Partner, z. B. Diphenylmethan, schon bei oder nahe bei Atmosphärendruck reagieren, werden die Ausbeuten an dem gewünschten Um- setzungsprodukt bei Arbeiten unter Druck erhöht. Der von den Reaktionspartnem im geschlossenen System selbst erzeugte Druck führt zu ausgezeichneten Ausbeuten. Üblicherweise wird die Reaktion in einem geschlossenen Reaktionsgefäss, z. B. verschlossenen Glasrohren, Autoklaven, Bomben aus gewöhnlichem oder rostfreiem Stahl oder andern geeigneten Druckgefässen durchgeführt.
Das Arbeiten in Glasapparaturen ist nicht unbedingt erforderlich, obgleich in Glasgefässen unerwünschte Nebenreaktionen vermieden werden können. Reaktionsgefässe, die beispielsweise von Halogensilanen nicht angegriffen werden, können ebenfalls verwendet werden.
Bei erhöhter Temperatur beginnt die erfindungsgemässe Umsetzung spontan. Im allgemeinen genügen für eine vollständige oder nahezu vollständige Umsetzung Reaktionszeiten von etwa 1 h bei 5000C. Die Reaktionszeit kann jedoch in Abhängigkeit von der Temperatur und der Art der Reaktionsteilnehmer beliebig kürzer oder länger gewählt werden.
Eine besondere Ausführungsart des erfindungsgemässen Verfahrens besteht in der Herstellung von Disilylbenzolen, bei welchen 2 Silylgruppen mit ein und demselben Benzolkern verknüpft werden. Hiebei werden vorteilhaft Silane (I) mit Verbindungen der allgemeinen Formel R'C H R'umgesetzt, worin die beidenReste R', die gleich oder verschieden sein können, in Ortho-, Meta-oder Parastellung des Benzolkerns angeordnet sein können. Das Verfahren eignet sich vorzugsweise zur Herstellung von p-Disilylbenzolderivaten. Als Nebenprodukte entstehen ausserdem Monosilylarylverbindungen. Bevorzugte Reste R'für diese Umsetzung sind Benzyl- und Benzhydrylreste.
MitHilfe des erfindungsgemässenverfahrens können auf direktem Wege Arylsilane synthetisiert werden, die wertvolle Ausgangsprodukte bei der Herstellung von Organopolysiloxanen, z. B. in flüssiger Form oder in Form von elastomeren oder harzartigen Produkten mit hoher Hitzebeständigkeit, Strahlenwiderstandsfähigkeit und mechanischer Festigkeit, sind.
Beispiel l : 0, 472 g (0, 005 Mol) frisch destilliertes Dimethylchlorsilan [ (CHJHSiCl] und 0, 84 g (0, 005 Mol) Diphenylmethan wurden in ein kleines Glasrohr eingeschmolzen, wobei das freie Volumen etwa das Zweifache des Flüssigkeitsvolumens betrug. Das verschlossene Röhrchen wurde 30 min in einem Verbrennungsofen auf 5500C (Temperaturkontrolle) erhitzt. Die abgekühlte Probe wurde anschliessend durch Chromatographie in der Gas-und Flüssigphase, durch kernmagnetische Resonanzbestimmung und Infrarotspektrum analysiert. Die Ausbeute an Phenyldimethylchlorsilan [CH(CH) SiCl] betrug 771o nach der gaschromatographischen Analyse und 59, 50/0 nach der kemmagnetischen Resonanzbestimmung.
Ausserdem wurden in dem Reaktionsgemisch noch 24-27 Mol- an zwangläufig als 2. Umsetzungsprodukt entstehendem Toluol festgestellt.
EMI3.2
EMI3.3
<Desc/Clms Page number 4>
erhitzt. Die gaschromatographische Analyse ergab eine Ausbeute von etwa 20%
EMI4.1
Beispiel 3 : In gleicher Weise wie in Beispiel 1 wurden jeweils 0, 005 Mol der folgenden Arylverbindungen bei den angegebenen Temperaturen und Zeiten mit 0,005 Mol (CH3)2HSiCl in einem verschlossenen Glasrohr erhitzt. Die Ausbeuten wurden nach gaschromatographischen Analysen und kemmagnetischen Resonanzbestimmungen festgestellt.
EMI4.2
<tb>
<tb>
Phenylverbindungen <SEP> Temperatur-Zeit <SEP> in <SEP> C6H5(CH3)2SiCl,
<tb> in <SEP> C <SEP> Stunden <SEP> Ausbeute <SEP> in <SEP> % <SEP>
<tb> C6H5CH2-#-C6H5 <SEP> 500 <SEP> 0,5 <SEP> 21
<tb> C6H5CH2C6H5 <SEP> 500 <SEP> 0,5 <SEP> 58
<tb> 500 <SEP> 1,0 <SEP> 85
<tb> 550 <SEP> 0,5 <SEP> 64
<tb> C6H5CH(C6H5)2 <SEP> 500 <SEP> 0,5 <SEP> 51
<tb> 500 <SEP> 1,0 <SEP> 72
<tb> C6H5CH2CH2C6H5 <SEP> 500 <SEP> 0,5 <SEP> 41
<tb>
Bei den angeführten Reaktionen gab es wenig oder keine Spalt- oder Nebenproduktbildung, ausserdem reaktionsgemäss zwangläufig entstehenden 2. Umsetzungprodukt der allgemeinen Formel R'H, auch bei 5500C nicht. Das bedeutet, dass die nicht umgesetzten Stoffe wiedergewonnen und gegebenenfalls erneut eingesetzt werden können, wodurch die Ausbeuten weiter vergrössert werden können.
Beispiel 4: Eine rostfreie Stahlbombe mit 1,41Fassungsvermögen wurde mit 24, 1 g (0, 255 Mol)
EMI4.3
Dann wurde die Bombe abgekühlt und entleert. Die gaschromatographische Analyse ergab einen Umsatz von 55%. Durch Destillation wurden 20, 5 g (0, 120 Mol) Phenyldimethylchlorsilan erhalten, was einer Ausbeute von 471o entsprach. Weniger als 4% des Bombeninhaltes warhochsiedender Rückstand.
Beispiel 5 : Bei Einsatz folgender Silane an Stelle des (CH) HSiCl aus Beispiel 1 wurden die folgenden Arylsilane gebildet.
EMI4.4
<tb>
<tb>
Silan <SEP> Arylsilan
<tb> H2SiCl2 <SEP> C6H5SiCl2 <SEP> und
<tb> (C6H5)2SiCl2
<tb> HSiCl, <SEP> C, <SEP> Hs <SEP> SiCl3 <SEP>
<tb> n-C4H9 <SEP> (H)SiCl2 <SEP> n-C4H9(C6H5)SiCl2
<tb> CH3 <SEP> (CH3C6H4)(H)SiBr <SEP> CH3(CH3C6H4)(C6H5)SiBr
<tb> (C6H5)2SiH2 <SEP> (C6H5)3SiH
<tb> C6H5C6H4 <SEP> (CH3)2SiH <SEP> C6H5C6H4(CH3)2SiC6H5
<tb> C6H5CH2(H)2SiF <SEP> C6H5CH2(C6H5)(H)SiF <SEP> und
<tb> C6H5CH2 <SEP> (C6H5)2SiF
<tb>
<Desc/Clms Page number 5>
EMI5.1
EMI5.2
EMI5.3
siloxan und 1, 68 g (0, 01 Mol) Diphenylmethan wurde, wie in Beispiel 1 beschrieben, in ein Glasrohr eingeschmolzen und 30 min auf 5000C erhitzt. Die Analyse des abgekühlten Produktes ergab eine lObige Ausbeute an Diphenyltetramethyldisiloxan.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH : Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen mit Si-gebundenen aromatischen Resten, EMI5.4 EMI5.5 EMI5.6 Halogenatome bedeuten, m 1 oder 2, n 0, 1, 2 oder 3 und die Summe von m + n l, 2,3 oder 4 ist, und/oder Siloxane der allgemeinen Formel EMI5.7 worin R die angegebene Bedeutung hat, p und r jeweils 0, 1 oder 2 und die Summe von p + r mindestens 1 ist, mit aromatischen Verbindungen der allgemeinen Formel EMI5.8 worin R'Aralkylreste mit nicht mehr als 4 aliphatisch gebundenen C-Atomen, R"Alkarylreste mit nicht mehr als 4 aliphatisch gebundenen C-Atomen, Arylreste oder Reste, welche mit dem Benzolkern der allgemeinen Formel (III) zweimal verbunden sind (ihn also z.B. zu einem Naphthalinring ergänzen), be- <Desc/Clms Page number 6> deuten, 3 und b jeweils 0, 1 oder 2 und die Summe von a + b 0, 1 oder 2 ist, bei Temperaturen von mindestens 350 C und gegebenenfalls unter Druck, im Sinne eines Ersatzes mindestens eines direkt an ein Siliciumatom geknüpften Wasserstoffatomes durch einen aromatischen Rest, umgesetzt werden.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US248459XA | 1963-04-19 | 1963-04-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| AT248459B true AT248459B (de) | 1966-07-25 |
Family
ID=21822694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT328264A AT248459B (de) | 1963-04-19 | 1964-04-15 | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen mit Si-gebundenen aromatischen Resten |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| AT (1) | AT248459B (de) |
-
1964
- 1964-04-15 AT AT328264A patent/AT248459B/de active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69517132T2 (de) | Alkylhydridsiloxane | |
| EP0600266B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von SiH-Gruppen aufweisenden Organopolysiloxanen | |
| DE2849092A1 (de) | Silylphosphate und verfahren zu deren herstellung | |
| DE2709137A1 (de) | Verfahren zur herstellung von hydrogensilanen | |
| DE3314734A1 (de) | Verfahren zum umwandeln der polysilane in hochsiedenden resten | |
| DE2630744C3 (de) | Verfahren zur Umwandlung von Organosiloxanen | |
| DE3410644A1 (de) | Verfahren zur herstellung von dimethyldichlorsilan | |
| DE2148669A1 (de) | Verfahren zur herstellung von organosiloxanen | |
| DE69418783T2 (de) | Umsetzung von hochsiedenden Rückständen der Direktsynthese aus Chlorsilanmonomere in Gegenwart von Chlor | |
| EP0075865A2 (de) | Hexafluoropropyl-oxy-alkyl-silane | |
| DE1264442B (de) | Verfahren zum Austausch von Si-gebundenen Wasserstoff- und Chloratomen in Silanen | |
| DE3518878C2 (de) | ||
| DE69022491T2 (de) | Herstellung von Tertiär-Kohlenwasserstoff-Silyl-Verbindungen. | |
| DE2351258A1 (de) | Verfahren zum umlagern von alkylsilanen und alkylhydrogensilanen | |
| DE2345923C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von halogensubstituierten linearen oder verzweigten OrganopolysUoxanen | |
| AT248459B (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen mit Si-gebundenen aromatischen Resten | |
| EP0401684B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiloxanen | |
| EP0601578B1 (de) | Verfahren zur Entfernung von Wasserstoffhaltigen Silanen aus Silanen | |
| EP0600479A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Dimethylchlorsilan | |
| DE69309584T2 (de) | Alkoxysilane mit Azasilacycloalkylgruppe und Tetrametyldisiloxane mit Azasilacycloalkylgruppe | |
| EP0004310B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Silanen | |
| DE3208829C2 (de) | ||
| US3334122A (en) | Method of preparing arylsilanes | |
| DE870555C (de) | Verfahren zur Herstellung von phenylenbrueckenhaltigen chlorierten Polyorganosilanen | |
| US3362977A (en) | Method for making organosilanes |