AT132466B - Verfahren zur Herstellung von Glasteilungen, Rastern und Beugungsgittern auf photomechanischem Wege. - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Glasteilungen, Rastern und Beugungsgittern auf photomechanischem Wege.Info
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Description
<Desc/Clms Page number 1> Verfahren zur Herstellung von Glasteilungen, Rastern und Beugungsgittern auf photomechanischem Wege. Für viele wissenschaftliche und technische Zwecke, insbesondere für physikalische Messinstrumente, werden Glasteilungen gebraucht. Die Herstellung dieser Teilungen geschieht bisher im allgemeinen nach zwei Verfahren. Bei dem einen wird die Teilung in der Regel mit Hilfe einer Teilmasehine unmittelbar in das Glas eingeritzt ; bei dem andern wird das Glas zunächst mit einem säurefesten Überzug versehen. In diesen Überzug werden mit einem Werkzeug, wie beispielsweise einem Metallstichel, Striche oder Zahlen bis auf das Glas hindurch gezogen und die auf diese Weise blossgelegten Stellen des Glases werden mit Flusssäure geätzt. Nach der Einwirkung der Säure wird der Überzug, der das Glas von ihr geschützt hatte, mit einem Lösungsmittel entfernt. Beide Verfahren sind langwierig und teuer, sobald es sich um viele Striche oder Zahlen der Teilung handelt. Ferner ist es schwierig, einander vollkommen gleiche Teilungen auf diesem Wege herzustellen. da die Genauigkeit so angefertigter Teilungen von dem gleichmässigen Arbeiten der Teilmaschinen abhängt, das durch äussere Umstände beeinflusst wird. Auch ist es mühsam und kostspielig, wenn nicht unmöglich, nach den bis jetzt beschriebenen Verfahren unregelmässige Teilungen oder Teilungen aussergewöhnlicher Art, wie z. B. mit einer Teilung versehene beliebige Kurven, zu erzeugen. Diese Schwierigkeiten fallen weg bei der Herstellung von Glasteilungen auf photomechanischem Wege. Es sind schon photomeehanisehe Verfahren zur Herstellung von Glasätzul1gen vorgeschlagen worden, die meist auf der Anwendung von lichtempfindlichem Asphalt oder von Chromatkolloidsehiehten beruhen. Diese Verfahren haben jedoch grosse Nachteile und sind deshalb kaum in die Technik eingedrungen, denn die lichtempfindlichen Schichten sind entweder zu unempfindlich, wie z. B. der \shalt. oder zu wenig widerstandsfähig gegen die Einwirkung der Flusssäure, wie die Chromatkolloidsehiehten. Die Herstellung selbst sehr feiner geätzter Teilungen auf photomeehanischem Weg gelingt jedoch nach der Erfindung mit Sicherheit, wenn man Chromatkolloidschichten nicht unmittelbar verwendet, wie bei allen bis jetzt vorgeschlagenen photomechanischen Verfahren, sondern wenn man das zu ätzende Glas vor dem Aufbringen der lichtempfindlichen Schiebt unmittelbar mit einer Schicht aus Metall oder Metallverbindungen überzieht, die von vornherein sehr unempfindlich gegen Flusssäureeinwirkung ist. Das mit einer derartigen Schutzschicht versehene Glas wird dann erst mit der lichtempfindlichen Schicht überzogen. In dieser Schicht wird in üblicher Weise durch Verwendung eines negativen oder eines positiven Glasbildes die später zu ätzende Teilung durch Belichtung und darauf folgende Entwicklung erzeugt. Nach der Entwicklung der Kolloidschicht wird an den nunmehr freiliegenden Stellen die zwischen Glas und lichtempfindlicher Schicht liegende, metallische Schutzschicht durch ein Lösungsmittel entfernt und das Glas an den so jetzt vollkommen scl1ichtfrei gemachten Stellen der Einwirkung von Flusssäure ausgesetzt. Nach beendigter Ätzung werden die Schutzschicht und die lichtempfindliche Schicht durch Lösungsmittel entfernt. Auf dem Glas verbleibt nur die eingeätzte Teilung, die entweder ohne weiteres verwendet wird oder die auch zur besseren Sichtbarmachung mit den üblichen Mitteln eingeschwärzt oder sonstwie deutlich wahrnehmbar gemacht werden kann. Eine unmittelbar aufgebrachte Schutzschicht aus Metall oder Metallverbindungen bietet den Vorteil, dass sie leicht genügend dicht und dabei doch dünn und gleichmässig, frei von störenden Löchern zu erhalten ist, so dass sie trotz grosser Dünne der Einwirkung auch stärkster Flusssäure gut widersteht. Als Beispiele seien genannt von Metallschichten Platin, Gold, Silber oder Kupfer, von Metallen Sulfide oder Selenide des Bleis oder des Antimons. Ausser zur Herstellung von Teilungen für Messinstrumente kann das Verfahren auch zur Herstellung von Druckrastern und Beugungsgittern dienen. **WARNUNG** Ende DESC Feld kannt Anfang CLMS uberlappen**.
Claims (1)
- PATENT-ANSPRUCH : Verfahren zur Herstellung von Glasteilungen, Rastern und Beugungsgittern auf photomechanischem Wege, dadurch gekennzeichnet, dass das Glas zunächst unmittelbar mit einer gegen Flusssäure widerstandsfähigen Schutzschicht aus Metall oder Metallverbindungen versehen wird und dass dann auf dieser Schutzschicht die lichtempfindliche Schicht angebracht wird, die dazu dient, die zu erzeugende Teilung oder das zu erzeugende Bild auf das mit der Schutzschicht versehene Glas auf photographischem Wege zu übertragen, worauf die lichtempfindliche Schicht entwickelt, an den unbeliehteten Stellen durch Weglösen der Schutzschicht das Glas freigelegt und dann das Glas geätzt wird. **WARNUNG** Ende CLMS Feld Kannt Anfang DESC uberlappen**.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE132466X | 1931-03-13 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| AT132466B true AT132466B (de) | 1933-03-25 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT132466D AT132466B (de) | 1931-03-13 | 1932-03-10 | Verfahren zur Herstellung von Glasteilungen, Rastern und Beugungsgittern auf photomechanischem Wege. |
Country Status (1)
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|---|---|
| AT (1) | AT132466B (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE949802C (de) * | 1955-04-23 | 1956-09-27 | Wenczler & Heidenhain Patentve | Verfahren zur Herstellung von Linien enthaltenden Rastern auf Photomechanischem Wege |
-
1932
- 1932-03-10 AT AT132466D patent/AT132466B/de active
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|---|---|---|---|---|
| DE949802C (de) * | 1955-04-23 | 1956-09-27 | Wenczler & Heidenhain Patentve | Verfahren zur Herstellung von Linien enthaltenden Rastern auf Photomechanischem Wege |
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