KR20230009943A - Manufacturing support system and manufacturing support method - Google Patents
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Abstract
반도체 제조 장치를 이용한 제조를 지원하는 제조 지원 시스템은, 사용 주체에서 사용되거나 또는 사용될 예정의 반도체 제조 장치를 특정하는 정보, 및, 해당 반도체 제조 장치에서 실행되는 제조 프로세스를 특정하는 정보를 유지하는, 평가 주체에 배치된 유지부와, 반도체 제조 장치에서 사용되는 재료를 공급하는 재료 공급 주체로부터 제공된 해당 재료를 특정하는 정보와, 유지부에 의해 유지되는 정보에 근거하여, 해당 재료의 적부를 평가하는, 평가 주체에 배치된 평가부와, 평가부에 의한 평가 결과를 재료 공급 주체에 제공하는 평가 결과 제공부를 포함한다. A manufacturing support system that supports manufacturing using a semiconductor manufacturing apparatus maintains information specifying a semiconductor manufacturing apparatus used or scheduled to be used by a user, and information specifying a manufacturing process executed in the semiconductor manufacturing apparatus, Evaluating suitability of the material based on information specifying the material supplied from the holding unit arranged in the evaluation body and the material supplying body supplying the material used in the semiconductor manufacturing apparatus, and the information held by the holding unit , an evaluation unit arranged in the evaluation subject, and an evaluation result providing unit providing the evaluation result by the evaluation unit to the material supplying subject.
Description
본 발명은, 반도체 제조 장치를 이용한 제조를 지원하는 제조 지원 시스템 및 제조 지원 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a manufacturing support system and a manufacturing support method for supporting manufacturing using a semiconductor manufacturing apparatus.
반도체 장치의 제조를 함에 있어서는, 사전(事前)의 성능 평가 등에 의해, 리드 타임을 단축하는 다양한 어프로치가 제안되고 있다. 이러한 어프로치 중 하나로서, 일본 특개 2003-259015호 공보(특허 문헌 1)는, 반도체 제조 장치를 판매하기 위한 사전 활동으로서, 반도체 제조 장치 벤더의 프로세스 기술자와 반도체 디바이스 메이커(고객)의 프로세스 기술자가 서로 상대방에게 가지 않고, 반도체 디바이스 프로세스 또는 반도체 제조 장치 성능에 대한 회의를 실현할 수 있는 전자 회의 시스템을 개시한다.In the manufacture of semiconductor devices, various approaches for shortening the lead time have been proposed by prior performance evaluation and the like. As one of these approaches, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-259015 (Patent Document 1) is a preliminary activity for selling semiconductor manufacturing equipment, in which process engineers of semiconductor manufacturing equipment vendors and semiconductor device manufacturers (customers) interact with each other. Disclosed is an electronic conference system capable of realizing a conference on semiconductor device processes or semiconductor manufacturing equipment performance without going to the other party.
상술의 일본 특개 2003-259015호 공보(특허 문헌 1)에 개시되는 전자 회의 시스템은, 반도체 제조 장치를 판매하기 위한 사전 활동을 상정한 것으로, 반도체 디바이스 메이커로부터 제공되는 샘플을 이용하여 사전에 성능을 평가하는 것이다. The electronic conference system disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-259015 (Patent Document 1) assumes prior activities for selling semiconductor manufacturing equipment, and its performance is tested in advance using samples provided from semiconductor device manufacturers. to evaluate
그렇지만, 실제의 반도체 장치의 제조 프로세스에서는, 재료 메이커 등으로부터 제공되는 다양한 재료가 이용되기 때문에, 반도체 디바이스 메이커의 프로세스 기술자가 재료 선택을 포함하는 지식을 가지고 있지 않으면, 적당한 품질의 반도체 장치를 제조할 수 있다고는 할 수 없다. However, since various materials provided from material manufacturers and the like are used in the actual semiconductor device manufacturing process, it is impossible to manufacture a semiconductor device of appropriate quality unless the process engineer of the semiconductor device maker has knowledge including material selection. can't say it can
본 발명의 목적은, 이러한 반도체 제조 장치를 이용한 반도체 장치의 제조를 지원하는 새로운 구조를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a novel structure that supports manufacturing of a semiconductor device using such a semiconductor manufacturing apparatus.
본 발명의 어느 국면에 따르면, 반도체 제조 장치를 이용한 제조를 지원하는 제조 지원 시스템이 제공된다. 제조 지원 시스템은, 사용 주체에서 사용되거나 또는 사용될 예정의 반도체 제조 장치를 특정하는 정보, 및, 해당 반도체 제조 장치에서 실행되는 제조 프로세스를 특정하는 정보를 유지하는, 평가 주체에 배치된 유지부와, 반도체 제조 장치에서 사용되는 재료를 공급하는 재료 공급 주체로부터 제공된 해당 재료를 특정하는 정보와, 유지부에 의해 유지되는 정보에 근거하여, 해당 재료의 적부를 평가하는, 평가 주체에 배치된 평가부와, 평가부에 의한 평가 결과를 재료 공급 주체에 제공하는 평가 결과 제공부를 포함한다. According to one aspect of the present invention, a manufacturing support system for supporting manufacturing using a semiconductor manufacturing apparatus is provided. The manufacturing support system includes a holding unit disposed in an evaluation body that holds information specifying a semiconductor manufacturing device used or scheduled to be used in a user body, and information specifying a manufacturing process executed in the semiconductor manufacturing device; An evaluation unit disposed in the evaluation body that evaluates the suitability of the material based on the information specifying the material provided by the material supply entity supplying the material used in the semiconductor manufacturing apparatus and the information held by the holding unit; , and includes an evaluation result providing unit that provides the evaluation result by the evaluation unit to the material supplying entity.
본 발명의 다른 국면에 따르면, 반도체 제조 장치를 이용한 제조를 지원하는 제조 지원 방법이 제공된다. 제조 지원 방법은, 평가 주체에 배치된 유지부가, 사용 주체에서 사용되거나 또는 사용될 예정의 반도체 제조 장치를 특정하는 정보, 및, 해당 반도체 제조 장치에서 실행되는 제조 프로세스를 특정하는 정보를 유지하는 스텝과, 평가 주체에 있어서, 반도체 제조 장치에서 사용되는 재료를 공급하는 재료 공급 주체로부터 제공된 해당 재료를 특정하는 정보와, 유지부에 의해 유지되는 정보에 근거하여, 해당 재료의 적부를 평가하는 스텝과, 평가하는 스텝에 의한 평가 결과를 재료 공급 주체에 제공하는 스텝을 포함한다.According to another aspect of the present invention, a manufacturing support method for supporting manufacturing using a semiconductor manufacturing apparatus is provided. A manufacturing support method includes a step of holding, by a holding unit disposed in an evaluation body, information specifying a semiconductor manufacturing device used or scheduled to be used in a user body, and information specifying a manufacturing process to be executed in the semiconductor manufacturing device; , a step of evaluating suitability of the material based on information specifying the material provided from a material supplying subject supplying material used in the semiconductor manufacturing apparatus and information held by the holding unit in the evaluation subject; and a step of providing the evaluation result by the step of evaluating to the material supplier.
반도체 제조 장치를 이용한 반도체 장치의 제조를 지원하는 새로운 구조를 제공할 수 있다.It is possible to provide a new structure that supports manufacturing of a semiconductor device using a semiconductor manufacturing apparatus.
도 1은 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템의 개요를 설명하기 위한 모식도이다.
도 2는 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템에서 실행되는 처리 순서를 나타내는 시퀀스도이다.
도 3은 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템의 응용예 중 하나를 설명하기 위한 모식도이다.
도 4는 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템의 응용예 중 하나에서 실행되는 처리 순서를 나타내는 순서도이다.
도 5는 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템을 구성하는 관리 장치의 장치 구성의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 6은 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템에 있어서의 데이터 유지의 실장예를 나타내는 모식도이다.1 is a schematic diagram for explaining the outline of a manufacturing support system according to the present embodiment.
2 is a sequence diagram showing the processing sequence executed in the manufacturing support system according to the present embodiment.
3 is a schematic diagram for explaining one of the application examples of the manufacturing support system according to the present embodiment.
4 is a flowchart showing a processing sequence executed in one of the application examples of the manufacturing support system according to the present embodiment.
5 is a schematic diagram showing an example of the device configuration of the management device constituting the manufacturing support system according to the present embodiment.
6 is a schematic diagram showing an implementation example of data retention in the manufacturing support system according to the present embodiment.
본 발명의 실시의 형태에 대해, 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다. 또한, 도면 중의 동일 또는 상당 부분에 대해서는, 동일 부호를 부여하고 그 설명은 반복하지 않는다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Embodiment of this invention is described in detail, referring drawings. In addition, the same code|symbol is attached|subjected to the same or equivalent part in drawing, and the description is not repeated.
<A. 제조 지원 시스템의 구성 및 처리의 개요> <A. Outline of configuration and processing of manufacturing support system>
우선, 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템(1)의 구성 및 제조 지원 시스템(1)에 있어서의 처리의 개요에 대해 설명한다. 제조 지원 시스템(1)은, 반도체 제조 장치를 이용한 제조를 지원한다. 이하의 설명에 있어서는, 주로, 반도체 제조 장치에서 사용되는 각종의 재료의 공급에 관해서 설명하지만, 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템(1)은 이러한 범위로 한정되는 것은 아니다. First, the configuration of the
도 1은, 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템(1)의 개요를 설명하기 위한 모식도이다. 도 1을 참조하여, 제조 지원 시스템(1)에는, 주로, 반도체 제조 장치(50)를 사용하는 1 또는 복수의 사용 주체(20)와, 반도체 제조 장치(50)에서 사용되는 재료(60)를 공급하는 1 또는 복수의 재료 공급 주체(30)와, 재료 공급 주체(30)가 공급하는 재료(60)의 적부를 사전에 평가하는 평가 주체(10)가 관여한다. 1 is a schematic diagram for explaining the outline of a
도 1에 있어서는, 평가 주체(10)와 사용 주체(20) 중 하나인 「사용 주체 X」 사이에 교환되는 정보에 「X」를 부여하고, 평가 주체(10)와 재료 공급 주체(30) 중 하나인 「재료 공급 주체 A」 사이, 및, 「사용 주체 X」와「재료 공급 주체 A」 사이에서 교환되는 정보에 「A」를 부여하고 있다. 예를 들면, 「장치 정보 X」와 「장치 정보 A」 같이, 명칭이 같고 「X」나 「A」의 부호가 다른 정보에 대해서는 같은 내용의 정보여도 좋고, 다른 내용의 정보여도 좋다. 이하의 도 2~도 4에 있어서도 마찬가지이다. In Fig. 1, "X" is assigned to information exchanged between "user X", which is one of the
본 명세서에 있어서, 사용 주체(20)는, 반도체 제조 장치(50)를 임의의 형태로 사용하는 유저를 포함하는 용어이며, 예를 들면, 반도체 메이커, 반도체 디바이스 메이커, 어셈블리 하우스(반도체 제조에 있어서의 패키지 조립 공정만을 하청받는 기업), OSAT(반도체 수탁 패키지·테스트 사업을 행하는 기업), 파운드리 기업(반도체 칩의 제조를 전문으로 행하는 기업) 등을 포함한다. In this specification, the subject of
본 명세서에 있어서, 「재료 공급 주체」는, 반도체 제조 장치(50)에서 사용되는 임의의 재료(60)를 제조 및/또는 판매하는 임의의 주체를 포함하고, 「평가 주체(10)」 및 「사용 주체(20)」와는 다른 주체이다. In this specification, "material supply entity" includes any entity that manufactures and/or sells any
예를 들면, 반도체 제조 장치(50)로서는, 반도체 칩을 포함하는 전자 부품을 수지 봉지하는 몰드 장치, 및, 반도체 칩을 포함하는 전자 부품을 개편화하는 싱귤레이션 장치를 상정한다. 이러한 수지 봉지 장치는, 기판(리드 프레임, 프린트 기판, 세라믹스제 기판, 금속제 기판, 글라스 기판, 반도체제 기판, 수지제 기판 등) 위에 장착된 반도체 칩을 수지에 의해 봉지한다. 재료 공급 주체(30)는, 반도체 칩을 봉지하는 수지나 기판을 재료(60)로서 공급한다. 반도체 제조 장치(50)에서 사용되는 재료(60)는, 이러한 수지나 기판에 한정하지 않고, 반도체 제조 장치(50)의 제조 프로세스에 관계하는 임의의 소비재를 포함한다. For example, as the
사용 주체(20)는, 재료 공급 주체(30)가 공급하는 재료(60)를 사용하여, 반도체 제조 장치(50)에 의해 반도체 장치를 제조한다. 사용 주체(20)는, 자신의 반도체 제조 장치(50)의 제조 프로세스 등을 고려하여, 재료 공급 주체(30)에 대해서 공급해야 할 재료(60)의 사양이나 품질 성능 등을 지정한다. 재료 공급 주체(30)는, 지정된 사양 및 품질 성능을 만족시키는 재료(60)를 공급한다. The
그렇지만, 모든 사용 주체(20)가 제조 프로세스에 대해 충분한 지견을 가지고 있다고는 할 수 없다. 또, 새롭게 도입한 반도체 제조 장치(50)의 초기 조정 단계에 있어서는, 시행 착오를 반복하면서 제조 프로세스를 최적화함과 함께, 사용하는 재료(60)의 사양이나 품질 성능 등을 결정하는 작업도 발생한다. However, it cannot be said that all
제조 프로세스의 최적화를 함에 있어서는, 평가 장치를 이용하여, 반도체 제조 장치(50)에 의해 제조된 반도체 장치 또는 그 반제품을 평가할 필요가 있다. 그렇지만, 모든 사용 주체(20)가 평가 장치를 보유하고 있다고는 할 수 없으며, 특히, 제조되는 반도체 장치의 미세화 등에 따라, 보다 고성능의 평가 장치가 필요하다. 또, 보유하고 있었다고 해도 평가 장치로부터 출력되는 평가 결과를 제조 프로세스에 대해서 적절히 피드백할 수 없는 사용 주체(20)도 존재할 수 있다. In optimizing the manufacturing process, it is necessary to evaluate the semiconductor device manufactured by the
본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템(1)은, 사용 주체(20)가 사용하는 반도체 제조 장치(50)에 관한 상술한 바와 같은 과제에 대해서, 해결 수단을 제공한다. 즉, 평가 주체(10)는, 사용 주체(20)가 행하고 있던 평가 작업의 일부 또는 전부를 담당함과 함께, 재료 공급 주체(30)가 공급하는 재료(60)의 사양이나 품질 성능 등의 사전 평가도 담당한다. 이러한 평가 주체(10)의 존재 및 제공하는 서비스에 의해, 제조 프로세스 자체에 대해 충분한 지견을 가지지 않은 사용 주체(20), 및, 제조 프로세스의 품질 평가를 충분히 행할 수 없는 사용 주체(20)여도, 반도체 제조 장치(50)를 사용한 반도체 장치의 제조를 용이하게 할 수 있다. The
또, 재료 공급 주체(30)에 있어서는, 공급 목적지의 사용 주체(20)가 사용하는 반도체 제조 장치(50)에 적절한 재료를 공급할 수 있는 확실성을 높일 수 있으므로, 보다 강고한 공급 체제를 실현할 수 있다. In addition, in the material supply
평가 주체(10)는, 기본적으로는, 사용 주체(20)가 사용하는 반도체 제조 장치(50)와 실질적으로 동일한 반도체 제조 장치(50)와, 평가 장치(12)를 가지고 있다. 평가 주체(10)는, 기본적으로는, 반도체 제조 장치(50)의 메이커 또는 그 관련 회사인 것이 매우 적합하다. 단, 반도체 제조 장치(50)의 메이커 또는 그 관련 회사로 한정하지 않고, 임의의 단체 또는 개인이 평가 주체(10)가 되어도 좋다. The
삼자의 사이에서 교환되는 정보를 관리하기 위해서, 평가 주체(10), 사용 주체(20) 및 재료 공급 주체(30)에는, 관리 장치(14), 관리 장치(24) 및 관리 장치(34)를 각각 배치해도 좋다. In order to manage information exchanged between the third party, the
평가 주체(10)와 사용 주체(20) 사이에서는, 장치 정보, 평가 정보, 프로세스 정보, 및 인정 정보가 교환된다. 평가 주체(10)와 재료 공급 주체(30) 사이에서는, 장치 정보, 평가 정보, 프로세스 정보, 및 재료 정보가 교환된다. 사용 주체(20)와 재료 공급 주체(30) 사이에서는, 장치 정보, 평가 정보, 프로세스 정보, 및 인정 정보가 교환된다. 여기서, 삼자의 사이에서 교환되는 각각의 정보에 대해 설명한다. Between the
장치 정보는, 사용 주체(20)에서 사용되거나 또는 사용될 예정의 반도체 제조 장치(50)를 특정하는 정보를 포함한다. 장치 정보는, 대상(對象)인 반도체 제조 장치(50)에 있어서 이용되는 가환(可換) 부재 등을 특정하기 위한 정보를 더 포함하고 있어도 좋다. The device information includes information specifying the
평가 정보는, 대상인 재료(60)를, 대상인 제조 조건 하에서, 대상인 반도체 제조 장치(50)에서 사용했을 때의 평가 결과를 포함한다. The evaluation information includes an evaluation result when the
프로세스 정보는, 대상인 반도체 제조 장치(50)에서 실행되는 제조 프로세스를 특정하는 정보를 포함한다. 전형적으로는, 프로세스 정보는, 대상인 반도체 제조 장치(50)에 적용되는 제조 조건을 정의하는 정보를 포함한다. The process information includes information specifying a manufacturing process to be executed in the target
재료 정보는, 대상인 재료(60)에 관한 정보를 포함한다. Material information includes information about the
인정 정보는, 대상인 반도체 제조 장치(50)를 포함하는 제조 프로세스에 있어서의 요구 사양을 포함한다. 인정 정보는, 사용 주체(20)에 의해 정해진다. The authorization information includes required specifications in a manufacturing process including the target
도 2는, 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템(1)에서 실행되는 처리 순서를 나타내는 시퀀스도이다. 도 1 및 도 2를 참조하여, 제조 지원 시스템(1)에서 실행되는 처리 순서의 일례에 대해 설명한다. 도 2에 나타내는 예에서는, 평가 주체(10)가 반도체 제조 장치(50)의 메이커인 경우를 상정하고, 사용 주체(20)가 새로운 반도체 제조 장치(50)를 도입하는 국면을 상정한다. 이러한 국면에 있어서, 재료 공급 주체(30)는, 새롭게 도입되는 반도체 제조 장치(50)에서 사용되는 재료(60)를 개발한다. Fig. 2 is a sequence diagram showing the processing sequence executed in the
재료(60)의 개발의 국면에 있어서, 재료 공급 주체(30)는, 사용 주체(20) 등으로부터 제시된 제조 조건 등에 따라서, 재료(60)의 개발을 행한다(스텝 S2). 재료 공급 주체(30)는, 개발된 재료(60)의 일부(재료 샘플) 및 재료 정보를 평가 주체(10)에 제공한다(스텝 S4). 또한, 평가 주체(10)가 재료 샘플을 분석할 수 있는 경우에는, 재료 정보를 반드시 제공하지 않아도 좋다. In the phase of development of the
평가 주체(10)는, 장치 정보(사용 주체(20)에서 사용되거나 또는 사용될 예정의 반도체 제조 장치(50)를 특정하는 정보), 및, 프로세스 정보(반도체 제조 장치(50)에서 실행되는 제조 프로세스를 특정하는 정보)를 미리 유지하고 있다. The
평가 주체(10)는, 재료 공급 주체(30)로부터 제공된 재료 샘플을 이용하여, 평가를 행한다(스텝 S6). 보다 구체적으로는, 평가 주체(10)는, 재료 공급 주체(30)로부터 제공된 재료(60)를 특정하는 정보와, 평가 주체(10)가 유지하는 정보(장치 정보 및 프로세스 정보)에 근거하여, 재료(60)의 적부를 평가한다. 그리고, 평가 주체(10)는, 평가에 의해 얻어진 평가 결과와 함께, 장치 정보 및 프로세스 정보를 재료 공급 주체(30)에 제공한다(스텝 S8). The evaluation
재료(60)의 개발의 국면에 있어서는, 스텝 S2~S8의 처리(※1)가 반복 실행된다. 이와 같이, 평가 주체(10)는, 상이한 복수의 재료(60)에 대해, 재료(60)의 적부를 평가하는 처리를 각각 행하도록 해도 좋다. 구체적으로는, 적부를 평가하는 처리에 있어서는, 일례로서 재료(60)의 조성비를 이용할 수가 있다. In the phase of development of the
1 또는 복수의 재료에 대해 평가 결과가 얻어진 후, 필요에 따라서, 평가 주체(10)와 재료 공급 주체(30) 사이에서, 사용 주체(20)에 공급되는 후보가 되는 재료가 결정된다(스텝 S10). 그리고, 평가 주체(10)는, 후보로서 결정된 재료에 대해, 장치 정보, 평가 정보 및 프로세스 정보를 사용 주체(20)에 제공한다(스텝 S12). 마찬가지로, 재료 공급 주체(30)는, 후보로서 결정된 재료에 대해, 장치 정보, 평가 정보 및 프로세스 정보를 사용 주체(20)에 제공한다(스텝 S14). After the evaluation result is obtained for one or a plurality of materials, a candidate material to be supplied to the
또한, 스텝 S12에 있어서 평가 주체(10)로부터 제공되는 장치 정보, 평가 정보 및 프로세스 정보와, 스텝 S14에 있어서 재료 공급 주체(30)로부터 제공되는 장치 정보, 평가 정보 및 프로세스 정보는, 기본적으로는 일치한다. 이것은, 각각의 주체로부터 제공되는 정보의 동일성을 확인하는 것으로, 정보 제공의 미스 등을 방지하는 것을 목적으로 하고 있다. 처리의 간소화의 관점에서는, 스텝 S12 및 스텝 S14 중 어느 한쪽을 생략하도록 해도 좋다. In addition, the device information, evaluation information, and process information provided from the evaluation
사용 주체(20)는, 제공된 장치 정보, 평가 정보 및 프로세스 정보를 참조하여, 최종적인 성능 확인을 행한다(스텝 S16). 사용 주체(20)는, 성능 확인의 내용을 승낙하면, 평가 주체(20)에 대해서 인정 정보를 송신함(스텝 S18)과 동시에, 재료 공급 주체(30)에 대해서 인정 정보를 송신한다(스텝 S20). The
이상의 처리에 의해, 제조 프로세스의 사전 평가는 완료한다. 그리고, 사용 주체(20)는, 평가 주체(10)(이 예에서는, 반도체 제조 장치(50)의 메이커)에 대해서, 인정 정보를 포함하는 반도체 제조 장치를 발주하고(스텝 S22), 재료 공급 주체(30)에 대해서, 인정 정보를 포함하는 재료를 발주한다(스텝 S24). With the above processing, the preliminary evaluation of the manufacturing process is completed. Then, the user subject 20 places an order for the semiconductor manufacturing apparatus including the authorization information from the evaluation subject 10 (in this example, the manufacturer of the semiconductor manufacturing apparatus 50) (step S22), and the material supplying subject matter Regarding (30), an order is made for the material including the authorization information (step S24).
평가 주체(10)(반도체 제조 장치(50)의 메이커)는, 사용 주체(20)로부터의 발주에 따라, 반도체 제조 장치(50)를 제조하고(스텝 S26), 제조한 반도체 제조 장치(50)를 사용 주체(20)에 납입한다(스텝 S28). 또, 재료 공급 주체(30)는, 사용 주체(20)로부터의 발주에 따라, 재료(60)를 제조하고(스텝 S30), 제조한 재료(60)를 사용 주체(20)에 납입한다(스텝 S32). The evaluation subject 10 (the manufacturer of the semiconductor manufacturing apparatus 50) manufactures the
도 2에 나타내는 바와 같은 처리 순서에 따라, 제조 프로세스의 사전 평가는 완료한다. According to the processing procedure as shown in Fig. 2, the preliminary evaluation of the manufacturing process is completed.
또한, 도 2에는, 제조 프로세스의 사전 평가의 처리 순서를 나타내지만, 반도체 제조 장치(50)를 납입한 후에, 사용 주체(20)가 제조 프로세스의 재검토 등을 희망하는 경우에는, 스텝 S2~S20까지의 처리가 재차 실행되어도 좋다. 2 shows the processing procedure of the preliminary evaluation of the manufacturing process. After the
<B. 평가 처리> <B. Evaluation processing>
다음에, 평가 주체(10)에 의한 평가 처리의 일례에 대해 설명한다. Next, an example of evaluation processing by the
전형적으로는, 평가 주체(10)는, 반도체 제조 장치(50)의 메이커 또는 그 관련 회사이며, 사용 주체(20)가 사용하는 반도체 제조 장치(50)와 실질적으로 동일한 반도체 제조 장치(50)를 가지고 있다. 혹은, 사용 주체(20)가 사용하는 반도체 제조 장치(50)와 실질적으로 동일한 반도체 제조 장치(50)를 준비할 수 있다. Typically, the
평가 주체(10)는, 재료 공급 주체(30)로부터 제공된 재료 샘플을 이용하여, 사용 주체(20)에서 사용되거나 혹은 사용될 예정의 반도체 제조 장치(50)와 실질적으로 동일한 반도체 제조 장치(50)에 있어서, 사용 주체(20)가 실시 예정의 제조 프로세스 또는 실시하고 있는 제조 프로세스를 재현한다. 재현된 제조 프로세스에 의해 제조된 제품(반도체 장치) 또는 그 반제품은 평가 장치(12)에 의해 평가된다. 혹은, 재현된 제조 프로세스에 의한 반도체 제조 장치(50)에의 영향 등을 평가할 수도 있다. The
이와 같이, 평가 주체(10)는, 장치 정보(사용 주체(20)에서 사용되거나 또는 사용될 예정의 반도체 제조 장치(50)를 특정하는 정보), 및, 프로세스 정보(반도체 제조 장치(50)에서 실행되는 제조 프로세스를 특정하는 정보)를 유지하고 있고, 재료 공급 주체(30)로부터 제공된 재료(60)를 특정하는 정보와, 평가 주체(10)가 유지하는 정보(장치 정보 및 프로세스 정보)에 근거하여, 재료(60)의 적부를 평가한다. 그리고, 평가 주체(10)는, 평가 결과를 재료 공급 주체(30)에 제공한다. In this way, the
재현된 제조 프로세스에 의해 제조된 반도체 장치 또는 그 반제품의 평가는, 형상 관찰에 의해 행해도 좋다. 평가 항목으로서는, (1) 외형 치수 및 휘어짐량, (2) 단면 관찰상, (3) 열시(熱時) 휘어짐량 변이, (4) 내부 관찰 결과, (5) 경도 측정 결과, 등을 들 수 있다. 이러한 평가 항목에 대응하여, 반도체 장치 또는 반도체 장치의 반제품의 품질을 평가하기 위한 평가 장치(12)로서는, 형상을 측정하는 측정 장치, 단면 관찰상을 취득하는 현미경, 내부 관찰을 행하기 위한 탐사 장치, 경도를 측정하기 위한 경도계 중 어느 하나를 포함하고 있어도 좋다. Evaluation of the semiconductor device manufactured by the reproduced manufacturing process or its semi-finished product may be performed by shape observation. Evaluation items include (1) external dimensions and amount of warping, (2) cross-section observation, (3) change in warping amount under heat, (4) internal observation results, and (5) hardness measurement results. there is. Corresponding to these evaluation items, the
보다 구체적으로는, (1) 외형 치수 및 휘어짐량, 및, (3) 열시 휘어짐량 변이의 평가에는, 평가 장치(12)로서, 가열 휘어짐 측정 장치(TSM)나 초음파 탐사 장치(SAT) 등의 형상을 측정하는 측정 장치가 이용된다. (2) 단면 관찰상의 평가에는, 평가 장치(12)로서, 광학 현미경이나 주사 전자 현미경(SEM) 등이 이용된다. (4) 내부 관찰 결과의 평가에는, 평가 장치(12)로서, 초음파 탐사 장치나 X선 투시 장치 등이 이용된다. (5) 경도 측정 결과의 평가에는, 평가 장치(12)로서, 경도계 등이 이용된다. More specifically, for the evaluation of (1) external dimensions and amount of warp and (3) variation in the amount of warp when heated, as the
재현된 제조 프로세스에 의한 반도체 제조 장치(50)에의 영향의 평가는, 반도체 제조 장치(50)에 사용되는 금형 및 치공구를 관찰하는 것에 의해 행해도 좋다. 평가 항목으로서는, (1) 금형 표면의 오염의 유무, (2) 브레이드 마모 상태, (3) 브레이드 마모량, 등을 들 수 있다. 이러한 평가 항목에 대응하여, 실질적으로 동일한 반도체 제조 장치(50)의 손모를 평가하기 위한 구성으로서, 관찰 장치 및 탐사 장치 중 어느 하나를 포함하고 있어도 좋다. The evaluation of the influence of the reproduced manufacturing process on the
보다 구체적으로는, (1) 금형 표면의 오염의 유무의 평가는, 인간의 눈으로 보아 행해도 좋고, 평가 장치(12)로서 관찰 장치 등을 이용하여도 좋다. (2) 브레이드 마모 상태의 평가에는, 평가 장치(12)로서, 초음파 탐사 장치나 X선 투시 장치 등이 이용된다. (3) 브레이드 마모량의 평가에는, 형상을 측정하는 측정 장치가 이용된다. More specifically, (1) evaluation of the presence or absence of contamination on the mold surface may be performed by human eyes, or an observation device or the like may be used as the
상술한 항목에 한정되지 않고, 임의의 평가 항목에 따라, 1 또는 복수의 평가 장치(12)가 이용되어도 좋다. It is not limited to the above-mentioned items, and one or a plurality of
이와 같이, 평가 주체(10)의 평가부로서는, 사용 주체(20)에서 사용되거나 또는 사용될 예정의 반도체 제조 장치(50)와 실질적으로 동일한 반도체 제조 장치(50)와, 해당 실질적으로 동일한 반도체 제조 장치(50)에 의해 제조된 반도체 장치 또는 해당 반도체 장치의 반제품의 품질, 및/또는, 해당 실질적으로 동일한 반도체 제조 장치(50)의 손모를 평가하는 평가 장치(12)를 포함하고 있어도 좋다. In this way, as the evaluation unit of the
전형적으로는, 반도체 제조 장치(50)를 이용하여 제조 프로세스를 재현하는 것으로 평가를 행하는 것이 되지만, 일부 또는 전부의 평가를 시뮬레이션에 의해 실현해도 좋다. 시뮬레이션에 의해 평가를 행하는 경우, 반도체 제조 장치(50)의 모델을 준비함과 함께, 재료 공급 주체(30)로부터 공급되는 재료 정보에 따른 모델을 생성하는 것으로, 대상인 제조 프로세스에 대한 시뮬레이션을 실현할 수 있다. 또한, 시뮬레이션에 의해 평가하는 경우, 재료 공급 주체(30)로부터 평가 주체(10)에 대해서, 재료 샘플을 반드시 제공하지 않아도 좋다. Typically, the evaluation is performed by reproducing the manufacturing process using the
이와 같이, 평가 주체(10)의 평가부로서는, 사용 주체(20)에서 사용되거나 또는 사용될 예정의 반도체 제조 장치(50)의 모델을 이용한 시뮬레이션 장치를 포함하고 있어도 좋다. 시뮬레이션을 이용하는 것으로, 현실로 반도체 제조 장치(50)를 가지고 있지 않아도, 평가를 행할 수가 있다. In this way, the evaluation unit of the
<C. 정보의 상세> <C. Details of information>
다음에, 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템(1)에 있어서 교환되는 정보의 상세에 대하여 설명한다. Next, details of information exchanged in the
(c1:장치 정보) (c1: device information)
장치 정보는, 대상인 반도체 제조 장치(50) 및 이용되는 가환 부재 등을 특정하기 위한 정보를 포함한다. 보다 구체적으로는, 반도체 제조 장치(50)가 몰드 장치이면, 장치 정보는, (1) 장치 타입(형식 번호), 및, (2) 금형 타입(형식 번호) 등을 포함한다. The device information includes information for specifying the target
또, 반도체 제조 장치(50)가 싱귤레이션 장치이면, 장치 정보는, (1) 장치 타입(형식 번호), (2) 키트(품종용 유닛 부품)의 형식 번호, (3) 브레이드의 형식 번호 등을 포함한다. In addition, if the
(c2:평가 정보) (c2: evaluation information)
평가 정보는, 대상인 재료(60)를, 대상인 제조 조건 하에서, 대상인 반도체 제조 장치(50)에서 사용했을 때의 평가 결과를 포함한다. 보다 구체적으로는, 평가 정보는, 대상인 재료(60)를 이용하여, 대상인 반도체 제조 장치(50)에 의해 제조된 반도체 장치의 품질의 평가 결과, 및, 반도체 제조 장치(50)의 손모 정도의 평가 결과 등을 포함한다. The evaluation information includes an evaluation result when the material 60 as a target is used in the
반도체 장치의 품질의 평가 결과의 일례로서, 형상 관찰 결과 등을 들 수 있다. 형상 관찰 결과로서는, (1) 반도체 장치의 외형 치수 및 휘어짐량, (2) 반도체 장치의 단면 관찰상(광학 현미경에 의한 관찰이나 주사 전자 현미경(SEM)에 의한 관찰), (3) 반도체 장치의 열시 휘어짐량 변이, (4) 반도체 장치의 초음파에 의한 내부 관찰 결과(예를 들면, 결함이나 공극의 유무 등), (5) 반도체 장치의 X선에 의한 내부 관찰 결과(예를 들면, 결함이나 공극의 유무 등), (6) 반도체 장치의 경도 측정 결과, 등을 포함한다. A shape observation result etc. are mentioned as an example of the evaluation result of the quality of a semiconductor device. As the shape observation results, (1) the external dimension and warpage amount of the semiconductor device, (2) a cross-sectional observation image of the semiconductor device (observation with an optical microscope or a scanning electron microscope (SEM)), (3) the semiconductor device Variation in the amount of warp when heated, (4) results of internal observation of semiconductor devices by ultrasonic waves (eg, presence or absence of defects or voids), (5) results of internal observation of semiconductor devices by X-rays (eg, defects or voids) presence/absence of voids, etc.), (6) hardness measurement results of the semiconductor device, and the like.
또, 반도체 제조 장치(50)의 손모 정도의 평가 결과의 일례로서, 금형 및 치공구의 관찰 결과 등을 들 수 있다. 금형 및 치공구의 관찰 결과로서는, (1) 금형 표면의 오염의 유무(눈으로 봄), (2) 브레이드 마모 상태(광학 현미경에 의한 관찰이나 주사 전자 현미경에 의한 관찰), (3) 브레이드 마모량, 등을 포함한다. Moreover, as an example of the evaluation result of the wear degree of the
(c3:프로세스 정보) (c3: Process information)
프로세스 정보는, 대상인 반도체 제조 장치(50)에 적용되는 제조 조건을 정의하는 정보를 포함한다. 보다 구체적으로는, 반도체 제조 장치(50)가 몰드 장치이면, 프로세스 정보는, (1) 금형 온도, (2) 수지 중량 및 불균일량, (3) 프리 히팅 시간, (4) 성형 압력, (5) 성형 프로파일(수지 주입 압력 및 금형 위치의 시간적 변이 등), 등을 포함한다. The process information includes information defining manufacturing conditions applied to the target
또, 반도체 제조 장치(50)가 싱귤레이션 장치이면, 컷 프로세스에 관한 프로세스 정보는, (1) 회전 수, (2) 컷 스피드, (3) 컷 횟수, (4) 절삭 저항, (5) 냉각수 량, 등을 포함한다. In addition, if the
(c4:재료 정보) (c4: material information)
재료 정보는, 대상인 재료(60)에 관한 정보를 포함한다. 보다 구체적으로는, 재료(60)가 수지 재료이면, 재료 정보는, (1) 유동성을 나타내는 지표인 스파이럴 플로우, (2) 겔 타임, (3) 글라스 전이 온도, (4) 선 팽창 계수, (5) 필러 함유량, (6) 필러 입경 분포, (7) 수분 함유율, (8) 밀도, 등을 포함한다. Material information includes information about the
또, 재료(60)가 기판 재료이면, 재료 정보는, (1) 배선 도금의 두께 및 불균일 측정 결과, (2) 배선 레지스트의 두께 및 불균일 측정 결과 등을 포함한다. Further, if the
(c5:인정 정보) (c5: Authorization information)
인정 정보는, 대상인 반도체 제조 장치(50)를 포함하는 제조 프로세스에 있어서의 요구 사양을 포함한다. 보다 구체적으로는, 인정 정보는, (1) 반도체 제조 장치의 보증치를 만족시키는 아닌지의 판정 결과, (2) cpk(공정 능력 지수), (3) 브레이드 수명 예측 등을 포함한다. The authorization information includes required specifications in a manufacturing process including the target
또한, 상술한 항목은 일례이며, 제조 프로세스나 재료(60)의 종류 등에 따라, 임의의 항목을 각각의 정보에 포함시킬 수가 있다. Incidentally, the items described above are examples, and arbitrary items can be included in each piece of information depending on the manufacturing process, the type of
<D. 응용예> <D. Application example>
상술의 설명에 있어서는, 주로, 사전(事前)의 성능 평가에 적용되는 예를 나타냈지만, 이것에 한정하지 않고, 다양한 응용이 가능하다. 예를 들면, 재료 공급 주체(30)가 제조하는 재료(60)의 품질을 보증하기 위해서 이용되어도 좋다. 이 경우, 재료 공급 주체(30)는, 평가 주체(10)로부터 제공된 평가 결과를 대응하는 재료(60)와 관련지어, 사용 주체(20)에 공급해도 좋다. In the above description, an example mainly applied to prior performance evaluation has been shown, but it is not limited to this, and various applications are possible. For example, it may be used in order to guarantee the quality of the material 60 manufactured by the material supply
도 3은, 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템(1)의 응용예 중 하나를 설명하기 위한 모식도이다. 도 4는, 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템(1)의 응용예 중 하나로 실행되는 처리 순서를 나타내는 시퀀스도이다. 3 is a schematic diagram for explaining one of the application examples of the
도 3을 참조하여, 사용 주체(20)가 반도체 제조 장치(50)를 사용하여 반도체 장치를 제조하고 있는 상황에 있어서, 재료 공급 주체(30)가 공급하는 재료(60)의 품질을 평가 주체(10)가 사전에 평가하는 예를 상정한다. Referring to FIG. 3 , in a situation in which the
도 3 및 도 4를 참조하여, 재료(60)를 공급하는 국면에 있어서, 재료 공급 주체(30)는, 사용 주체(20) 등으로부터 미리 제시된 제조 조건 등에 따라서, 재료(60)를 제조한다(스텝 S52). 재료 공급 주체(30)는, 제조한 재료(60)의 일부(재료 샘플) 및 재료 정보를 평가 주체(10)에 제공한다(스텝 S54). 3 and 4, in the phase of supplying the
평가 주체(10)는, 재료 공급 주체(30)로부터 제공된 재료 샘플을 이용하여, 평가를 행한다(스텝 S56). 그리고, 평가 주체(10)는, 평가에 의해 얻어진 평가 결과를 재료 공급 주체(30)에 제공한다(스텝 S58). The evaluation
재료 공급 주체(30)는, 평가 주체(10)로부터 제공된 평가 결과를 제조한 재료(60)에 첨부하여 사용 주체(20)에 공급한다(스텝 S60). 사용 주체(20)는, 재료 공급 주체(30)로부터 납입된 재료(60)에 첨부되어 있는 평가 결과를 확인한 다음, 반도체 제조 장치(50)에 사용한다. The material supply
또한, 스텝 S56 및 S58에 있어서는, 평가 주체(10)에 의한 평가의 결과가 타당한 경우에 한해서, 재료 공급 주체(30)에 대해서 평가 결과를 제공하도록 해도 좋다. In addition, in step S56 and S58, you may make it provide the evaluation result with respect to the material supply
도 3 및 도 4에 나타내는 바와 같은 구조를 채용하는 것으로, 재료 공급 주체(30)로부터 사용 주체(20)에 공급되는 재료(60)가 대상인 반도체 제조 장치(50)에 적합한 것을 보다 확실히 보증할 수 있다. By employing the structure shown in FIGS. 3 and 4 , it is possible to more reliably ensure that the material 60 supplied from the
또한, 도 3 및 도 4에 나타나는 품질 평가는, 예를 들면, 재료(60)의 제조 로트마다 행해도 좋다. In addition, you may perform the quality evaluation shown in FIG. 3 and FIG. 4 for every manufacturing lot of the
<E. 관리 장치> <E. Management device>
다음에, 평가 주체(10), 사용 주체(20) 및 재료 공급 주체(30)에 각각 배치되는 관리 장치(14), 관리 장치(24) 및 관리 장치(34)에 대해 설명한다. 제조 지원 시스템(1)에 있어서는, 실체적으로는, 관리 장치(14), 관리 장치(24) 및 관리 장치(34)가 필요한 정보를 교환한다. Next, the
도 5는, 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템(1)을 구성하는 관리 장치(14)의 장치 구성의 일례를 나타내는 모식도이다. 또한, 관리 장치(24) 및 관리 장치(34)에 대해서도 도 5에 나타내는 장치 구성과 같다. 5 is a schematic diagram showing an example of the device configuration of the
도 5를 참조하여, 관리 장치(14)는, 컴퓨터를 이용하여 실현되어 있고, 주된 컴포넌트로서, 프로세서(102)와, 메인 메모리(104)와, 입력부(106)와, 표시부(108)와, 출력부(110)와, 2차 기억 장치(120)와, 통신부(126)를 포함한다. 이들 컴포넌트는, 내부 버스(128)에 접속된다. Referring to FIG. 5 , the
프로세서(102)는, 관리 장치(14)가 제공하는 기능에 필요한 처리를 실행하는 연산 주체이며, 2차 기억 장치(120)에 저장되어 있는 프로그램 또는 프로그램 모듈(module)을 실행하는 것으로, 필요한 기능을 실현한다. 프로세서(102)는, 멀티 코어 및/또는 멀티 프로세서여도 좋고, 요구되는 부하 처리 능력에 따라, 필요한 수의 코어 또는 프로세서 수가 설정된다. The
메인 메모리(104)는, 프로세서(102)가 프로그램을 실행하기 위해서 필요한 워킹 메모리를 제공한다. 메인 메모리(104)는, 실행되는 프로그램의 코드나 워킹 데이터를 일차적으로 유지하는 불휘발성 메모리이다.
입력부(106)는, 오퍼레이터 등으로부터의 조작을 접수하는 컴포넌트이며, 예를 들면, 키보드, 마우스, 터치 패널 등을 이용하여 실장된다. 표시부(118)는, 오퍼레이터 등에 처리 결과 등의 정보를 제시하는 컴포넌트이며, 예를 들면, 디스플레이 등을 이용하여 실장된다. 출력부(110)는, 관리 장치(14) 내의 정보를 유형화하여 출력하는 컴포넌트이며, 예를 들면, 프린터 등을 이용하여 실장된다. The
2차 기억 장치(120)는, 유지부의 일례이며, 오퍼레이팅 시스템(도시하지 않음)에 더하여, 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템(1)에 있어서 필요한 기능을 제공하기 위한 처리 실현 모듈(122) 및 각종 데이터로 이루어지는 데이터군(124)을 저장하고 있다. 평가 주체(10)의 관리 장치(14)의 데이터군(124)은, 전형적으로는, 인정 정보, 장치 정보 및 프로세스 정보를 포함한다. The
통신부(126)는, 사용 주체(20) 및/또는 재료 공급 주체(30)와 통신하기 위한 컴포넌트이며, 예를 들면, 유선 LAN 통신 인터페이스, 무선 LAN 통신 인터페이스, 공중 네트워크 통신 인터페이스 등을 이용하여 실장된다. 통신 대상이 되는 사용 주체(20) 및/또는 재료 공급 주체(30)의 수 및 통신 형태 등에 의존하여, 복수 종류 또는 복수개의 통신부(126)를 실장해도 좋다. The
상술의 설명에 있어서는, 평가 주체(10)(관리 장치(14)), 사용 주체(20)(관리 장치(24)) 및 재료 공급 주체(30)(관리 장치(34)) 사이에서, 필요한 정보를 직접 교환하는 구성예를 나타내지만, 이러한 구성에 한정하지 않고, 특정의 주체가 정보를 관리하도록 해도 좋다. In the above description, between the evaluation subject 10 (management device 14), the use subject 20 (management device 24), and the material supply subject 30 (management device 34), necessary information Although an example of a configuration in which ? is directly exchanged is shown, it is not limited to this configuration, and a specific subject may manage information.
도 6은, 본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템(1)에 있어서의 데이터 유지의 실장예를 나타내는 모식도이다. 도 6(a)에는, 평가 주체(10)가 필요한 데이터를 관리하는 실장예를 나타고, 도 6(b)에는, 재료 공급 주체(30)가 필요한 데이터를 관리하는 실장예를 나타낸다. 6 is a schematic diagram showing an implementation example of data retention in the
도 6(a)를 참조하여, 평가 주체(10)는, 재료 공급 주체(30)로부터 제공된 재료 샘플에 대한 평가 정보를 관리하고 있고, 재료 공급 주체(30)에 대해서는, 평가 정보에 대신하여, 관리하고 있는 평가 정보에 액세스하기 위한 URL 등의 특정 정보를 제공한다. 또한, 재료 공급 주체(30)는, 평가 주체(10)로부터 제공된 특정 정보를 사용 주체(20)에 제공한다. Referring to Fig. 6 (a), the
재료 공급 주체(30) 및 사용 주체(20)는, 특정 정보에 근거하여, 평가 주체(10)가 관리하는 평가 주체에 액세스할 수가 있다. 또한, 평가 주체(10)가 관리하는 평가 정보에의 액세스에는, 액세스 코드(패스워드) 등의 각종 제한을 마련해도 좋다. The
이러한 구성을 채용하는 것으로, 재료 공급 주체(30)(관리 장치(34))에 있어서의 컴퓨팅 리소스를 저감할 수 있음과 아울러, 제조 지원 시스템(1)과 관련되는 처리를 간소화할 수 있다. By adopting such a structure, while being able to reduce the computing resource in the material supply main body 30 (management device 34), the process associated with the
도 6(b)를 참조하여, 평가 주체(10)는, 재료 공급 주체(30)로부터 제공된 재료 샘플에 대한 평가 정보를 재료 공급 주체(30)에 송신한다. 재료 공급 주체(30)는, 평가 주체(10)로부터 수신한 평가 정보를 관리한다. 재료 공급 주체(30)는, 자신이 관리하는 평가 정보에 액세스하기 위한 URL등의 특정 정보를 사용 주체(20)에 제공한다. Referring to FIG. 6B , the
사용 주체(20)는, 특정 정보에 근거하여, 재료 공급 주체(30)가 관리하는 평가 정보에 액세스할 수가 있다. 또한, 재료 공급 주체(30)가 관리하는 평가 정보에의 액세스에는, 액세스 코드(패스워드)등의 각종 제한을 마련해도 좋다. The
이러한 구성을 채용하는 것으로, 사용 주체(20)(관리 장치(24))에 있어서의 컴퓨팅 리소스를 저감할 수 있음과 아울러, 제조 지원 시스템(1)과 관련되는 처리를 간소화할 수 있다. By adopting such a structure, while being able to reduce computing resources in the user 20 (management device 24), the processing associated with the
상술의 설명에 있어서는, 평가 주체(10), 사용 주체(20) 및 재료 공급 주체(30)에 관리 장치(14), 관리 장치(24) 및 관리 장치(34)가 각각 배치되는 구성예를 나타내지만, 이것에 한정하지 않고, 이른바 클라우드 컴퓨터와 같이, 복수의 컴퓨터가 네트워크를 통하여 연결되는 시스템의 일부를 이용하여, 필요한 처리 및 기능을 실현해도 좋다. In the above description, configuration examples in which the
본 실시의 형태에 따른 제조 지원 시스템(1)은, 어떠한 컴퓨팅 환경에서도 실현 가능하고, 현실로 실장하는 시점에서의 공지의 기술을 임의로 이용하여, 또는, 현실로 실장하는 나라나 지역의 법률 등에 따라서, 임의의 실장 형태를 채용할 수가 있다. 본 발명의 기술적 범위는, 특정의 실장 형태로 한정되는 것은 아니고, 임의의 실장 형태를 포함할 수 있는 것이다. The
<F. 이점> <F. Benefits>
목적으로 하는 제조 프로세스에 대해서, 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 장치에서 사용되는 재료가 적절한가 아닌가를 사전에 평가하는 것은, 충분한 지견이 필요하고, 또 많은 시간도 필요로 한다. 이러한 많은 리소스를 필요로 하는 평가 처리를, 재료 공급 주체와도 연계하여, 평가 주체(전형적으로는, 반도체 제조 장치의 메이커 등)가 실시하는 것으로, 반도체 제조 장치 및 재료를 포함한 종합적인 평가를 행할 수가 있다. Evaluating in advance whether or not the semiconductor manufacturing equipment and the materials used in the semiconductor manufacturing equipment are suitable for the target manufacturing process requires sufficient knowledge and also requires a lot of time. The evaluation process, which requires a lot of resources, is carried out by the evaluation entity (typically, a semiconductor manufacturing equipment manufacturer, etc.) in cooperation with the material supply entity, so that a comprehensive evaluation including semiconductor manufacturing equipment and materials can be performed. there is a number
이러한 종합적인 평가를 실시할 수 있는 제조 지원 시스템을 제공하는 것으로, 재료 공급 주체는, 고객인 사용 주체가 희망하는 제조 프로세스에 적합한 재료를 적절히 제공하는 것을 확실화할 수 있다. 또, 사용 주체는, 충분한 지견을 가지지 않아도, 평가 주체의 지견을 이용하여, 보다 조기에 또한 확실히, 목적으로 하는 제조 프로세스를 실현할 수 있다. 또한, 평가 주체는, 자신이 보유하는 지견을 이용하여, 다양한 재료 공급 주체 및 사용 주체를 지원할 수가 있다. By providing a manufacturing support system capable of performing such a comprehensive evaluation, the material supply entity can ensure that the material supply entity appropriately provides materials suitable for the manufacturing process desired by the user entity, which is the customer. In addition, even if the user subject does not have sufficient knowledge, the target manufacturing process can be realized more quickly and reliably by using the knowledge of the evaluation subject. In addition, the evaluation entity can support various material supply entities and users by using the knowledge possessed by the evaluation entity.
이번 개시된 실시의 형태는, 모든 점에서 예시이며 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 하는 것이다. 본 발명의 범위는, 상기한 실시의 형태의 설명이 아니라 청구의 범위에 의해 나타나고, 청구의 범위와 균등의 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.Embodiment disclosed this time should be considered as an illustration and not restrictive in all respects. The scope of the present invention is indicated by the scope of the claims rather than the description of the above-described embodiments, and is intended to include all changes within the scope and meaning equivalent to the scope of the claims.
1 제조 지원 시스템, 10 평가 주체, 12 평가 장치, 14, 24, 34 관리 장치, 20 사용 주체, 30 재료 공급 주체, 50 반도체 제조 장치, 60 재료, 102 프로세서, 104 메인 메모리, 106 입력부, 108, 118 표시부, 110 출력부, 120 2차 기억 장치, 122 처리 실현 모듈, 124 데이터군, 126 통신부, 128 내부 버스. 1 Manufacturing support system, 10 evaluation entity, 12 evaluation device, 14, 24, 34 management device, 20 user entity, 30 material supply entity, 50 semiconductor manufacturing device, 60 material, 102 processor, 104 main memory, 106 input unit, 108, 118 display unit, 110 output unit, 120 secondary storage unit, 122 processing realization module, 124 data group, 126 communication unit, 128 internal bus.
Claims (8)
사용 주체에서 사용되거나 또는 사용될 예정의 반도체 제조 장치를 특정하는 정보, 및, 해당 반도체 제조 장치에서 실행되는 제조 프로세스를 특정하는 정보를 유지하는, 평가 주체에 배치된 유지부와,
상기 반도체 제조 장치에서 사용되는 재료를 공급하는 재료 공급 주체로부터 제공된 해당 재료를 특정하는 정보와, 상기 유지부에 의해 유지되는 정보에 근거하여, 해당 재료의 적부를 평가하는, 상기 평가 주체에 배치된 평가부와,
상기 평가부에 의한 평가 결과를 상기 재료 공급 주체에 제공하는 평가 결과 제공부를 구비하는 제조 지원 시스템. As a manufacturing support system that supports manufacturing using a semiconductor manufacturing apparatus,
a holding unit disposed in the evaluation body that holds information specifying a semiconductor manufacturing apparatus used or to be used in the user body, and information specifying a manufacturing process executed in the semiconductor manufacturing apparatus;
Arranged in the evaluation body, which evaluates the suitability of the material based on information specifying the material supplied from the material supply body supplying the material used in the semiconductor manufacturing apparatus, and the information held by the holding unit. evaluation department,
A manufacturing support system comprising an evaluation result providing unit for providing an evaluation result by the evaluation unit to the material supplier.
상기 평가부는,
상기 사용 주체에서 사용되거나 또는 사용될 예정의 반도체 제조 장치와 실질적으로 동일한 반도체 제조 장치와,
해당 실질적으로 동일한 반도체 제조 장치에 의해 제조된 반도체 장치 또는 해당 반도체 장치의 반제품의 품질, 및, 해당 실질적으로 동일한 반도체 제조 장치의 손모(損耗) 중, 적어도 한쪽을 평가하는 평가 장치를 포함하는 제조 지원 시스템. According to claim 1,
The evaluation unit,
A semiconductor manufacturing apparatus substantially identical to a semiconductor manufacturing apparatus used or planned to be used by the user;
Manufacturing support including an evaluation device that evaluates at least one of the quality of a semiconductor device manufactured by the substantially identical semiconductor manufacturing device or a semi-finished product of the semiconductor device, and wear and tear of the substantially identical semiconductor manufacturing device system.
상기 평가 장치는, 상기 반도체 장치 또는 상기 반도체 장치의 반제품의 품질을 평가하기 위한 구성으로서, 형상을 측정하는 측정 장치, 단면 관찰상을 취득하는 현미경, 내부 관찰을 행하기 위한 탐사 장치, 경도를 측정하기 위한 경도계 중, 어느 하나를 포함하는 제조 지원 시스템. According to claim 2,
The evaluation device is a configuration for evaluating the quality of the semiconductor device or a semi-finished product of the semiconductor device, and includes a measuring device for measuring a shape, a microscope for obtaining a cross-sectional observation image, a probe device for observing the inside, and a hardness measurement device. A manufacturing support system including any one of hardness testers for
상기 평가 장치는, 상기 실질적으로 동일한 반도체 제조 장치의 손모를 평가하기 위한 구성으로서, 관찰 장치 및 탐사 장치 중 어느 하나를 포함하는 제조 지원 시스템. According to claim 2 or 3,
The manufacturing support system according to claim 1 , wherein the evaluation device includes any one of an observation device and a search device as a configuration for evaluating wear and tear of the substantially identical semiconductor manufacturing device.
상기 평가 장치는, 상기 사용 주체에서 사용되거나 또는 사용될 예정의 반도체 제조 장치의 모델을 이용한 시뮬레이션 장치를 포함하는 제조 지원 시스템. According to any one of claims 2 to 4,
The manufacturing support system of claim 1 , wherein the evaluation device includes a simulation device using a model of a semiconductor manufacturing device used or scheduled to be used by the user.
상기 재료 공급 주체는, 상기 평가 주체로부터 제공된 평가 결과를 대응하는 재료와 관련지어, 상기 사용 주체에 공급하는 제조 지원 시스템. According to any one of claims 1 to 5,
The manufacturing support system of claim 1 , wherein the material supply entity associates the evaluation result provided from the evaluation entity with a corresponding material, and supplies the material to the user entity.
상기 평가부는, 상이한 복수의 재료에 대해, 재료의 적부를 평가하는 처리를 각각 행하는 제조 지원 시스템. According to any one of claims 1 to 6,
The manufacturing support system according to claim 1 , wherein the evaluation unit performs a process of evaluating suitability of materials for a plurality of different materials, respectively.
평가 주체에 배치된 유지부가, 사용 주체에서 사용되거나 또는 사용될 예정의 반도체 제조 장치를 특정하는 정보, 및, 해당 반도체 제조 장치에서 실행되는 제조 프로세스를 특정하는 정보를 유지하는 스텝과,
상기 평가 주체에 있어서, 상기 반도체 제조 장치에서 사용되는 재료를 공급하는 재료 공급 주체로부터 제공된 해당 재료를 특정하는 정보와, 상기 유지부에 의해 유지되는 정보에 근거하여, 해당 재료의 적부를 평가하는 스텝과,
상기 평가하는 스텝에 의한 평가 결과를 상기 재료 공급 주체에 제공하는 스텝을 구비하는 제조 지원 방법.As a manufacturing support method for supporting manufacturing using a semiconductor manufacturing apparatus,
a step in which a holding unit disposed in the evaluation body holds information specifying a semiconductor manufacturing device used or to be used in the user body, and information specifying a manufacturing process to be executed in the semiconductor manufacturing device;
Evaluating, in the evaluation body, the suitability of the material based on information specifying the material provided from a material supply body supplying the material used in the semiconductor manufacturing apparatus and information held by the holding unit. class,
and a step of providing the evaluation result of the evaluation step to the material supplier.
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