KR20160072148A - Method for manufacturing glass film laminate, glass film laminate, and method for manufacturing electronic device - Google Patents

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Abstract

유리 필름의 핸들링성의 향상을 꾀하면서 유리 필름의 수율 및 양품율의 향상을 실현하는 유리 필름 적층체 및 유리 필름 적층체의 제조 방법을 제공한다. 지지 유리(12) 상에 유리 필름(10)을 적층해서 제작되는 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법으로서, 유리 필름(10)과 지지 유리(12)의 적어도 주변부(10d·12d)에 초음파(US)를 인가하는 초음파 인가 공정(STEP-1-1)과, 초음파 인가 공정(STEP-1-1)을 거친 유리 필름(10)과 지지 유리(12)를 세정하는 세정 공정(STEP-1-2)과, 세정 공정(STEP-1-2)을 거친 지지 유리(12) 상에 유리 필름(10)을 적층해서 유리 필름 적층체(1)를 제작하는 제작 공정(STEP-1-3)을 구비한다.Provided are a glass film laminate and a method for producing a glass film laminate which realize improvement in the handling properties of the glass film while improving the yield and yield of the glass film. A method for producing a glass film laminate (1) produced by laminating a glass film (10) on a support glass (12) A cleaning step STEP-1 for cleaning the glass film 10 and the supporting glass 12 which have been subjected to the ultrasonic wave applying step (STEP-1-1) (STEP-1-3) for manufacturing the glass-film laminate 1 by laminating the glass film 10 on the supporting glass 12 having passed through the cleaning step (STEP-1-2) Respectively.

Description

유리 필름 적층체의 제조 방법, 유리 필름 적층체, 전자 디바이스의 제조 방법{METHOD FOR MANUFACTURING GLASS FILM LAMINATE, GLASS FILM LAMINATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a glass film laminate, a glass film laminate, and a method for manufacturing an electronic device,

본 발명은 유리 필름 적층체의 제조 방법, 유리 필름 적층체, 전자 디바이스의 제조 방법의 기술에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a glass film laminate, a glass film laminate, and a method of manufacturing an electronic device.

공간절약화의 관점으로부터 종래 보급되고 있었던 CRT형 디스플레이 대신에 최근에는 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이가 보급되고 있다.A flat panel display such as a liquid crystal display, a plasma display, and an organic EL display has recently been popular instead of the CRT type display which has been conventionally used from the viewpoint of space saving.

그리고, 이들 플랫 패널 디스플레이에 있어서는 더한층 박형화에의 요구가 존재하고 있다.In these flat panel displays, there is a demand for further thinning.

최근, 플랫 패널 디스플레이 등의 디바이스에 사용되는 기판이나 커버 유리에는 더한층의 박화와 높은 가요성을 실현하는 것에의 요구가 높아지고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, a substrate and a cover glass used for a device such as a flat panel display have been increasingly demanded to realize further thinning and high flexibility.

유리 기판에 가요성을 부여하기 위해서는 유리 기판을 박화하는 것이 유효하며, 하기 특허문헌 1에는 두께 200㎛이하의 유리 필름이 제안되어 있다.In order to impart flexibility to the glass substrate, it is effective to thin the glass substrate, and in the following Patent Document 1, a glass film having a thickness of 200 m or less has been proposed.

플랫 패널 디스플레이나 태양 전지 등의 전자 디바이스에 사용되는 유리 기판에는 가공 처리나 세정 처리 등, 여러가지 제조 관련 처리가 이루어진다.The glass substrate used in electronic devices such as flat panel displays and solar cells is subjected to various manufacturing related treatments such as processing and cleaning.

그런데, 이들 전자 디바이스에 사용되는 유리 기판을 박화하면, 유리는 취성재료이기 때문에, 다소의 응력변화에 의해 파손에 이르고, 상술한 각종 전자 디바이스의 제조 관련 처리를 행할 때에, 취급이 매우 곤란하다고 하는 문제가 있다.However, when the glass substrate used for these electronic devices is thinned, since the glass is a brittle material, breakage is caused by a slight change in stress, and it is very difficult to handle the above-described various electronic device manufacturing related treatments there is a problem.

또한, 두께 200㎛이하의 유리 필름은 가요성이 풍부하므로 처리를 행할 때에 위치 결정을 행하기 어려워 패터닝시에 어긋남 등이 생긴다고 하는 문제도 있다.Further, since the glass film having a thickness of 200 占 퐉 or less is rich in flexibility, it is difficult to perform positioning at the time of processing, and there arises a problem that misalignment occurs at the time of patterning.

또한 박화한 유리 필름의 취급성을 향상시키기 위해서, 하기 특허문헌 1에서는 지지 유리 상에 유리 필름을 적층시킨 유리 필름 적층체가 제안되어 있다.In order to improve handling properties of a thinned glass film, a glass film laminate in which a glass film is laminated on a supporting glass has been proposed in Patent Document 1 below.

이러한 유리 필름 적층체에 의하면, 단체에서는 강도나 강성이 없는 유리 필름을 이용해도 지지 유리의 강성이 높기 때문에, 처리시에 유리 필름 적층체 전체로서 위치 결정이 용이하게 된다.According to such a glass film laminate, since the rigidity of the supporting glass is high even if a glass film having no strength or rigidity is used as a single member, the positioning of the glass film laminate as a whole can be facilitated at the time of processing.

또한 처리 종료후에는 유리 필름을 지지 유리로부터 박리하는 것이 가능하게 되어 있다.Further, after the end of the treatment, the glass film can be peeled from the support glass.

유리 필름 적층체의 두께를 종래의 유리 기판의 두께와 동일하게 하면 종래의 유리 기판용의 전자 디바이스 제조라인을 공용해서 전자 디바이스를 제조하는 것도 가능하게 된다.When the thickness of the glass film laminate is made equal to the thickness of the conventional glass substrate, it becomes possible to manufacture an electronic device by sharing a conventional electronic device manufacturing line for a glass substrate.

일본 특허공개 2011-183792호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-183792

특허문헌 1에 나타내어진 유리 필름 적층체를 이용하여 액정 패널 등의 전자 디바이스를 제조할 경우, 유리 필름 적층체에 대하여 레지스트액을 도포하는 공정(레지스트 공정)이 존재하는 것이 일반적이다. 그리고, 레지스트 공정에서 유리 필름 적층체에 도포된 레지스트액은 감광, 가열, 건조 등의 방법에 의해 고화된다. When an electronic device such as a liquid crystal panel is produced using the glass film laminate shown in Patent Document 1, there is generally a process (resist process) for applying a resist solution to the glass film laminate. Then, the resist solution applied to the glass film laminate in the resist process is solidified by a method such as light exposure, heating, and drying.

또한 특허문헌 1에 나타내어진 종래의 유리 필름 적층체(1)에서는 도 16에 나타내듯이, 유리 필름(10)과 지지체(11)가 되는 지지 유리(12)의 계면(13)에 기포(14)가 형성되는 경우가 있다. 그리고, 그 기포(14)에는 유리 필름(10)의 외주 둘레에서 대기로 연통하는 형태로 형성되는 것이 있다. 또한, 이하에서는 이러한 기포(14)를 오픈 기포(14a)라고 부르는 것으로 규정한다.In the conventional glass film laminate 1 shown in Patent Document 1, a bubble 14 is formed on the interface 13 of the glass film 10 and the support glass 12 serving as the support 11, May be formed. The bubbles 14 are formed in the form of communicating with the atmosphere around the outer periphery of the glass film 10. Hereinafter, these bubbles 14 are referred to as open bubbles 14a.

그리고, 계면(13)에 오픈 기포(14a)가 존재하는 유리 필름 적층체(1)에서는 레지스트 공정에서 도포한 레지스트액이 오픈 기포에 들어가 버린다고 하는 문제가 있다.In the glass film laminate 1 having the open bubble 14a at the interface 13, there is a problem that the resist liquid applied in the resist process enters the open bubble.

또한 오픈 기포(14a)에 들어간 레지스트액은 그 후 고화되지만, 그 고화된 레지스트액에 의해, 오픈 기포(14a)가 존재하는 부위의 유리 필름(10)과 지지 유리(12)가 고착된다는 문제가 있었다.Further, although the resist liquid which has entered the open bubble 14a solidifies after that, there is a problem that the glass film 10 and the support glass 12 at the portion where the open bubble 14a is present are fixed by the solidified resist solution there was.

또한, 레지스트액으로 고착된 유리 필름 적층체(1)는 지지 유리(12)와 유리 필름(10)을 분리할 때에, 그 고착된 부위가 잘 박리되지 않아 유리 필름(10)의 파손을 초래하고, 유리 필름(10)의 수율이 악화됨과 아울러, 유리 필름 적층체(1)로부터 얻은 유리 필름(10)의 양품율도 악화된다는 문제가 있었다. Further, when the support film 12 and the glass film 10 are separated from each other, the glass film laminate 1 fixed with the resist solution does not easily peel off the adhered portions, causing breakage of the glass film 10 , The yield of the glass film 10 deteriorates and the yield of the glass film 10 obtained from the glass film laminate 1 also deteriorates.

그래서, 레지스트액에 의한 지지 유리와 유리 필름의 고착을 방지함으로써, 유리 필름의 박리시에 있어서의 파손의 발생을 억제해서 유리 필름의 수율 및 양품율의 향상을 꾀하는 것이 요구되고 있었다.Therefore, it has been demanded to prevent the breakage of the glass film at the time of peeling by preventing the fixation of the support glass and the glass film by the resist solution, thereby improving the yield and the yield of the glass film.

본 발명은 이러한 현상의 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 유리 필름의 핸들링성의 향상을 꾀하면서, 유리 필름 적층체에 있어서의 적층계면의 오픈 기포의 발생을 방지하여 유리 필름의 수율 및 양품율의 향상을 실현하는 유리 필름 적층체 및 유리 필름 적층체의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to improve the handling property of a glass film and to prevent the occurrence of open bubbles in a laminated interface in a glass film laminate, And to provide a method for producing a glass film laminate and a glass film laminate.

본 발명의 해결하고자 하는 과제는 이상과 같으며, 다음에 이 과제를 해결하기 위한 수단을 설명한다.The problems to be solved by the present invention are as described above, and means for solving this problem will be described below.

본원의 제 1 발명은 지지체 상에 유리 필름을 적층해서 제작되는 유리 필름 적층체의 제조 방법으로서, 상기 유리 필름과 상기 지지체의 적어도 주변부에 초음파를 인가하는 초음파 인가 공정과, 상기 초음파 인가 공정을 거친 상기 유리 필름과 상기 지지체를 세정하는 세정 공정과, 상기 세정 공정을 거친 상기 지지체 상에 상기 유리 필름을 적층해서 유리 필름 적층체를 제작하는 적층 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for producing a glass film laminate, which is produced by laminating a glass film on a support, comprising the steps of applying an ultrasonic wave to at least a peripheral portion of the glass film and the support, A cleaning step of cleaning the glass film and the support, and a laminating step of laminating the glass film on the support subjected to the cleaning step to produce a glass film laminate.

본원의 제 2 발명은 상기 지지체는 지지 유리인 것을 특징으로 한다.The second invention of the present application is characterized in that the support is a support glass.

본원의 제 3 발명은 상기 초음파 인가 공정에 있어서 호른형 초음파 발생기를 이용하여 초음파를 인가하는 것을 특징으로 한다.The third invention of the present application is characterized in that the ultrasonic wave is applied using the horn type ultrasonic generator in the ultrasonic wave applying step.

본원의 제 4 발명은 상기 초음파 인가 공정에 있어서, 상기 호른형 초음파 발생기를 이용하여 상기 유리 필름과 상기 지지 유리의 상기 주변부에만 초음파를 인가하는 것을 특징으로 한다.The fourth invention of the present application is characterized in that, in the ultrasonic wave applying step, ultrasonic waves are applied only to the peripheral portion of the glass film and the supporting glass using the horn type ultrasonic generator.

본원의 제 5 발명은 상기 초음파 인가 공정에 있어서, 상기 유리 필름과 상기 지지 유리를 초음파 세정조의 내부에 있어서 액체에 침지하고, 상기 초음파 세정조에 의해, 상기 유리 필름과 상기 지지 유리의 전체에 초음파를 인가하는 것을 특징으로 한다.According to a fifth aspect of the present invention, in the ultrasonic wave applying step, the glass film and the supporting glass are immersed in a liquid in the ultrasonic cleaning bath, and ultrasonic waves are applied to the entirety of the glass film and the supporting glass by the ultrasonic cleaning bath .

본원의 제 6 발명은 상기 유리 필름 적층체의 상기 유리 필름과 상기 지지 유리의 계면에 존재하는 기포로서, 상기 유리 필름의 끝변에 접하는 기포인 오픈 기포의 유무를 검사하는 오픈 기포 검사 공정을 더 구비하는 것을 특징으로 한다.The sixth invention of the present application further includes an open cell bubble inspection step of inspecting the presence or absence of open bubbles which are bubbles in contact with the ends of the glass film as bubbles existing at the interface between the glass film and the support glass of the glass film laminate .

본원의 제 7 발명은 상기 오픈 기포 검사 공정에 있어서, 상기 유리 필름의 주변부에 대응한 상기 유리 필름 적층체의 주변부에 있어서의 상기 오픈 기포 이외의 기포의 유무를 더 검사하는 것을 특징으로 한다.The seventh invention of the present application is characterized in that the presence or absence of bubbles other than the open bubbles in the peripheral portion of the glass film laminate corresponding to the peripheral portion of the glass film is further inspected in the open bubble inspection process.

본원의 제 8 발명은 상기 유리 필름 적층체의 주변부는 상기 유리 필름의 끝변으로부터 10mm이상의 폭인 것을 특징으로 한다.The eighth invention of the present application is characterized in that the peripheral portion of the glass film laminate has a width of 10 mm or more from the end of the glass film.

본원의 제 9 발명은 상기 유리 필름 적층체의 주변부 이외의 기포의 개수가 0.1개/㎡이상이며 또한 10000개/㎡이하인 것을 특징으로 한다.The ninth invention of the present application is characterized in that the number of bubbles other than the peripheral portion of the glass film laminate is 0.1 / m 2 or more and 10000 / m 2 or less.

본원의 제 10 발명은 유리 필름과 지지 유리를 직접 적층해서 제작되는 유리 필름 적층체로서, 상기 유리 필름의 모든 끝변이 간극없이 상기 지지 유리와 접하고 있는 것을 특징으로 한다.The tenth aspect of the present invention is a glass film laminate formed by directly laminating a glass film and a supporting glass, wherein all the ends of the glass film are in contact with the supporting glass without gaps.

본원의 제 11 발명은 상기 유리 필름은 상기 유리 필름의 모든 끝변으로부터 10mm이상의 폭에서 간극없이 상기 지지 유리와 접하고 있는 것을 특징으로 한다.The eleventh invention of the present application is characterized in that the glass film is in contact with the support glass at a width of 10 mm or more from all the ends of the glass film without gaps.

본원의 제 12 발명은 상기 유리 필름 적층체의 상기 유리 필름과 상기 지지 유리가 간극없이 접하고 있는 부위 이외의 부위에 있어서의 기포의 개수가 0.1개/㎡이상이며 또한 10000개/㎡이하인 것을 특징으로 한다.The twelfth invention of the present application is characterized in that the number of bubbles in the portion other than the portion where the glass film and the supporting glass are in contact with each other is not less than 0.1 / m 2 and not more than 10000 / m 2 do.

본원의 제 13 발명은 상기 지지 유리에 박막층이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.The thirteenth invention of the present application is characterized in that a thin film layer is formed on the support glass.

본원의 제 14 발명은 전자 디바이스 제조 관련 처리전에 지지체 상에 유리 필름을 적층해서 유리 필름 적층체를 제작하는 적층 공정과, 상기 유리 필름 적층체에 있어서의 상기 유리 필름에 전자 디바이스 제조 관련 처리를 행함으로써 상기 유리 필름 적층체의 상기 유리 필름 상에 소자를 형성하고, 밀봉기판으로 상기 소자를 밀봉해서 지지체가 부착된 전자 디바이스를 제작하는 공정과, 상기 지지체가 부착된 전자 디바이스에 있어서의 전자 디바이스 제조 관련 처리후의 상기 유리 필름을 상기 지지체로부터 박리해서 전자 디바이스를 제조하는 공정을 갖는 전자 디바이스의 제조 방법으로서, 상기 적층 공정은 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 유리 필름 적층체의 제조 방법에 의해 유리 필름 적층체를 제작하는 공정인 것을 특징으로 한다.The fourteenth invention of the present application relates to a lamination process for producing a glass film laminate by laminating a glass film on a support before an electronic device manufacturing related process and a process for manufacturing an electronic device on the glass film laminate A step of forming an element on the glass film of the glass film laminate and sealing the element with a sealing substrate to manufacture an electronic device with a supporting body attached thereto; And a step of peeling the glass film after the related processing from the support to produce an electronic device, wherein the laminating step is a step of forming the glass film laminate according to any one of claims 1 to 8 And a step of forming a glass film laminate by the method .

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명의 효과로서 이하에 나타내는 효과를 발휘한다.The following effects can be obtained as the effects of the present invention.

본원의 제 1 발명에 의하면, 유리 필름 적층체의 주변부에 오픈 기포가 생기는 것을 방지할 수 있다.According to the first invention of the present application, open bubbles can be prevented from being formed in the peripheral portion of the glass film laminate.

이에 따라 레지스트 공정시에 유리 필름과 지지체의 계면에 레지스트액이 침투하는 것을 방지할 수 있고, 나아가서는 유리 필름과 지지체의 고착을 방지해서 유리 필름이 박리시에 파손되는 것을 방지할 수 있다.As a result, it is possible to prevent the resist solution from penetrating into the interface between the glass film and the support during the resist process, and to prevent the glass film from adhering to the support and to prevent the glass film from being broken at the time of peeling.

본원의 제 2 발명에 의하면, 지지체로서 지지 유리를 사용하는 경우에 있어서, 유리 필름 적층체의 주변부에 오픈 기포가 생기는 것을 방지할 수 있다.According to the second invention of the present application, when the supporting glass is used as the supporting body, it is possible to prevent open bubbles from being formed in the peripheral portion of the glass film laminate.

본원의 제 3 발명에 의하면, 유리 필름 및 지지체의 주변부로부터 통상의 오픈 기포의 요인이 되는 이물을 확실하게 제거할 수 있다.According to the third invention of the present application, it is possible to reliably remove foreign matter which is a factor of ordinary open bubbles from the peripheral portion of the glass film and the support.

본원의 제 4 발명에 의하면, 오픈 기포의 요인이 되는 이물의 제거에 요하는 시간을 단축할 수 있다.According to the fourth invention of the present application, it is possible to shorten the time required for removal of foreign matter, which is a cause of open bubbles.

본원의 제 5 발명에 의하면, 유리 필름 및 지지체의 주변부로부터 오픈 기포의 요인이 되는 이물을 확실하게 제거할 수 있다.According to the fifth invention of the present application, it is possible to reliably remove foreign matter which is a factor of open bubbles from the peripheral portion of the glass film and the support.

또한 유리 필름 및 지지체의 주변부 이외의 부위의 이물을 제거함으로써, 유리 필름의 양품율을 향상시킬 수 있다.Further, by removing the foreign substances from the glass film and the portions other than the peripheral portion of the support, the yield of the glass film can be improved.

본원의 제 6 발명에 의하면, 오픈 기포가 발생하고 있는 유리 필름 적층체를 배제할 수 있다.According to the sixth invention of the present application, it is possible to exclude a glass film laminate in which open bubbles are generated.

이에 따라 제조 관련 처리후의 유리 필름의 수율을 향상시킬 수 있다.Thus, the yield of the glass film after the production-related treatment can be improved.

본원의 제 7 발명에 의하면, 오픈 기포의 유무를 검사한 후에 오픈 기포가 생기는 것을 방지할 수 있다.According to the seventh invention of the present application, open bubbles can be prevented from occurring after the presence of open bubbles is inspected.

이에 따라 제조 관련 처리후의 유리 필름의 수율을 확실하게 향상시킬 수 있다.Thus, the yield of the glass film after the production-related treatment can be reliably improved.

본원의 제 8 발명에 의하면, 유리 필름 적층체의 주변부에 있어서 오픈 기포가 생기는 것을 확실하게 방지할 수 있다.According to the eighth aspect of the present invention, it is possible to reliably prevent open bubbles from occurring in the peripheral portion of the glass film laminate.

본원의 제 9 발명에 의하면, 시간이나 비용을 억제하면서, 유리 필름 적층체의 주변부로부터 내측에 있어서의 클로즈 기포의 발생을 확실하게 억제할 수 있다.According to the ninth invention of the present application, it is possible to reliably suppress the occurrence of closed bubbles inside the peripheral portion of the glass film laminate while suppressing time and cost.

본원의 제 10 발명에 의하면, 레지스트 공정시에 유리 필름과 지지체의 계면에 레지스트액이 침투하는 것을 방지할 수 있고, 나아가서는 유리 필름과 지지체의 고착을 방지하여 박리시에 유리 필름이 파손되는 것을 방지할 수 있다.According to the tenth aspect of the present invention, it is possible to prevent penetration of the resist solution into the interface between the glass film and the support during the resist process, and furthermore, to prevent the glass film from adhering to the support and to break the glass film .

본원의 제 11 발명에 의하면, 유리 필름의 수율을 향상시킬 수 있다. According to the eleventh invention of the present application, the yield of the glass film can be improved.

본원의 제 12 발명에 의하면, 시간과 비용을 억제시키면서, 유리 필름 적층체의 주변부로부터 내측에 있어서의 클로즈 기포의 발생을 확실하게 억제할 수 있다.According to the twelfth aspect of the present invention, it is possible to reliably suppress the occurrence of closed bubbles inside the peripheral portion of the glass film laminate while suppressing time and cost.

본원의 제 13 발명에 의하면, 유리 필름의 박리가 용이하게 되며, 유리 필름의 수율을 향상시킬 수 있다.According to the thirteenth invention of the present application, the peeling of the glass film is facilitated, and the yield of the glass film can be improved.

본원의 제 14 발명에 의하면, 전자 디바이스의 수율을 향상시킬 수 있다.According to the fourteenth invention of the present application, the yield of the electronic device can be improved.

도 1은 본 발명에 따른 유리 필름 적층체의 제조 방법을 포함하는 전자 디바이스(유리 필름)의 제조 방법을 나타내는 모식도.
도 2는 유리 필름의 제작 방법(오버플로우 다운드로우법)을 나타내는 모식도.
도 3은 유리 필름 적층체의 제작 상황을 나타내는 사시 모식도.
도 4는 유리 필름과 지지 유리의 접합 메커니즘을 설명하기 위한 모식도, (a)수산기끼리의 수소결합의 상황을 나타내는 도면, (b)물분자를 개재하는 수소결합의 상황을 나타내는 도면.
도 5는 본 발명에 따른 유리 필름 적층체의 다른 실시형태를 나타내는 모식도.
도 6은 본 발명에 따른 유리 필름 적층체의 제조 방법을 나타내는 플로우 도.
도 7은 본 발명에 따른 유리 필름 적층체의 구성부재를 나타내는 모식도, (a)유리 필름을 나타내는 평면 모식도, (b)지지 유리를 나타내는 평면 모식도.
도 8은 본 발명에 따른 유리 필름 적층체를 나타내는 모식도, (a)평면 모식도, (b)측면 모식도.
도 9는 본 발명에 따른 유리 필름 적층체의 제조 방법에 있어서의 호른형 초음파 발생기에 의한 초음파의 인가상황을 나타내는 사시 모식도.
도 10은 유리 필름 적층체(주변부에 오픈 기포가 있는 상태)를 나타내는 평면 모식도.
도 11은 유리 필름 적층체(주변부에 클로즈 기포가 있는 상태)를 나타내는 평면 모식도.
도 12는 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(주변부의 내측에 클로즈 기포가 있는 상태)를 나타내는 평면 모식도.
도 13은 본 발명에 따른 유리 필름 적층체의 일례인 지지 유리가 부착된 전자 디바이스를 나타내는 모식도.
도 14는 유리 필름 적층체에 있어서의 오픈 기포에 대한 레지스트액의 침투 상황을 나타내는 평면 모식도.
도 15는 본 발명에 따른 유리 필름 적층체에 있어서의 양품율의 개선 상황을 확인한 실험 결과를 나타내는 도면.
도 16은 종래의 오픈 기포가 존재하는 유리 필름 적층체를 나타내는 평면 모식도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a schematic view showing a method for producing an electronic device (glass film) including a method for producing a glass film laminate according to the present invention. Fig.
2 is a schematic diagram showing a method for producing a glass film (overflow down draw method);
Fig. 3 is a perspective view showing a production state of a glass film laminate; Fig.
FIG. 4 is a schematic view for explaining a bonding mechanism of a glass film and a supporting glass, (a) a diagram showing the state of hydrogen bonding among hydroxyl groups, and (b) a hydrogen bonding state intervening between water molecules.
5 is a schematic view showing another embodiment of a glass film laminate according to the present invention.
6 is a flow chart showing a method for producing a glass film laminate according to the present invention.
7 is a schematic view showing the constituent members of the glass film laminate according to the present invention, (a) a plan view showing a glass film, and (b) a plan view showing a support glass.
8 is a schematic view showing a glass film laminate according to the present invention, (a) a plan view, and (b) a side view.
9 is a perspective view showing an application state of ultrasonic waves by the horn type ultrasonic generator in the method of manufacturing the glass film laminate according to the present invention.
10 is a plan view schematically showing a glass film laminate (a state in which open bubbles are present in the peripheral portion);
11 is a plan view schematically showing a glass film laminate (a state in which a surrounding bubble is present in a peripheral portion);
12 is a plan view schematically showing a glass film laminate according to the present invention (a state in which the inside of the peripheral portion has closed bubbles);
13 is a schematic view showing an electronic device to which a supporting glass is attached, which is an example of a glass film laminate according to the present invention.
14 is a plan schematic diagram showing a penetration state of the resist solution to open bubbles in the glass film laminate.
Fig. 15 is a view showing experimental results confirming the improvement of the yield of the glass film laminate according to the present invention. Fig.
16 is a plan view schematically showing a conventional glass film laminate having open bubbles.

이하, 본 발명에 따른 유리 필름 적층체의 바람직한 실시형태에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the glass film laminate according to the present invention will be described with reference to the drawings.

우선, 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법에 대해서 설명한다.First, a method of manufacturing the glass film laminate 1 according to the present invention will be described.

본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법에서는 도 1에 나타내듯이, 제 1 공정에 있어서 지지체(11) 상에 유리 필름(10)을 적층함으로써 유리 필름 적층체(1)가 제작된다.In the method of manufacturing the glass film laminate 1 according to the present invention, as shown in Fig. 1, the glass film laminate 1 is produced by laminating the glass film 10 on the support 11 in the first step .

유리 필름(10)은 규산염 유리, 실리카 유리가 사용되며, 바람직하게는 붕규산 유리가 사용되며, 가장 바람직하게는 무알칼리 유리가 사용된다.As the glass film 10, silicate glass, silica glass is used, preferably borosilicate glass is used, and most preferably, alkali-free glass is used.

유리 필름(10)에 알칼리 성분이 함유되어 있으면, 표면에 있어서 양이온의 탈락이 발생하여 소위 소다 불기의 현상이 생겨 구조적으로 거칠어진다. 이 경우, 유리 필름(10)을 만곡시켜서 사용하고 있으면, 경년 열화에 의해 거칠어진 부분부터 파손될 가능성이 있다.When an alkali component is contained in the glass film 10, the cation is dropped on the surface, and so-called soda-blanketing phenomenon is caused and the glass is structurally roughened. In this case, if the glass film 10 is used in a curved shape, there is a possibility that the glass film 10 is broken from a rough portion due to aged deterioration.

또한, 여기에서 말하는 무알칼리 유리란 알칼리 성분(알칼리 금속산화물)이 실질적으로 포함되어 있지 않은 유리로서, 구체적으로는 알칼리 성분이 3000ppm이하인 유리이다.The alkali-free glass referred to herein is a glass substantially free of an alkali component (alkali metal oxide), specifically a glass having an alkali component of 3,000 ppm or less.

본 발명에서 사용하는 무알칼리 유리의 알칼리 성분의 함유량은 바람직하게는 1000ppm이하이며, 보다 바람직하게는 500ppm이하, 더욱 바람직하게는 300ppm이하이다.The content of the alkali component of the alkali-free glass used in the present invention is preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, and still more preferably 300 ppm or less.

유리 필름(10)의 두께는 바람직하게는 300㎛이하, 보다 바람직하게는 5∼200㎛, 가장 바람직하게는 5∼100㎛이다.The thickness of the glass film 10 is preferably 300 占 퐉 or less, more preferably 5 to 200 占 퐉, and most preferably 5 to 100 占 퐉.

이에 따라 유리 필름(10)의 두께를 보다 얇게 해서 적절한 가요성을 부여할 수 있다.Accordingly, the thickness of the glass film 10 can be made thinner to give appropriate flexibility.

두께를 보다 얇게 한 유리 필름(10)은 핸들링성이 곤란하며, 또한, 위치 결정 미스나 패터닝시의 휘어짐 등의 문제가 생기기 쉽지만, 후술하는 지지체(11)를 사용함으로써 패터닝 등의 제조 관련 처리 등을 용이하게 행할 수 있다.The glass film 10 having a thinner thickness is difficult to handle and has problems such as warpage during positioning and patterning. However, by using the support member 11 to be described later, Can be easily performed.

또한, 유리 필름(10)의 두께가 5㎛ 미만이면, 유리 필름(10)의 강도가 부족하게 되기 쉬워지고, 지지체(11)로부터 유리 필름(10)을 박리하기 어려워질 우려가 있다.If the thickness of the glass film 10 is less than 5 占 퐉, the strength of the glass film 10 tends to become insufficient, and the glass film 10 may be difficult to peel off from the support member 11. [

지지체(11)는 유리 필름(10)을 지지 가능하면, 그 재질에 관해서는 특별히 한정되지 않고, 합성 수지판, 천연 수지판, 목판, 금속판, 유리판, 세라믹판, 결정화 유리판 등의 판상체를 사용할 수 있다. 또한 지지체(11)의 두께에 대해서도 특별히 한정되지 않고, 지지체로서 선택한 재질의 강성에 따라 적당하게 지지체(11)의 두께를 선택해도 좋다. 유리 필름(10)의 핸들링의 개선 등을 목적으로 하는 경우에는 PET 필름 등의 수지 필름을 사용해도 좋다. 또한, 상기 판상체의 표면에 유리 필름(10)과의 접착성이나 박리성을 조정하기 위해서 후술하는 수지층을 적당히 형성함으로써, 지지체(11)로 해도 좋다.The supporting member 11 is not particularly limited as far as the glass film 10 can be supported, and a plate member such as a synthetic resin plate, a natural resin plate, a wood plate, a metal plate, a glass plate, a ceramic plate, . The thickness of the support body 11 is not particularly limited, and the thickness of the support body 11 may be appropriately selected in accordance with the rigidity of the material selected as the support body. For the purpose of improving the handling of the glass film 10, a resin film such as a PET film may be used. The support 11 may be formed by appropriately forming a resin layer to be described later in order to adjust the adhesion and peelability of the plate material to the glass film 10.

지지체(11)에는 지지 유리(12)를 사용하는 것이 바람직하다. 이에 따라 전자 디바이스 제조 관련 처리시의 열 처리나 약액 처리, 노광 처리 등에 대해서 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)는 그 특성이나 형상이 안정되기 때문에, 유리 필름 적층체(1)의 안정된 적층 상태를 유지하는 것이 가능하게 된다. It is preferable to use the supporting glass 12 for the supporting body 11. [ As a result, the characteristics and shape of the glass film 10 and the supporting glass 12 are stable with respect to the heat treatment, the chemical solution treatment, the exposure treatment and the like in the electronic device manufacturing related processing, It is possible to maintain the state.

지지 유리(12)는 유리 필름(10)과 마찬가지로, 규산염 유리, 실리카 유리, 붕규산 유리, 무알칼리 유리 등이 사용된다.Like the glass film 10, silicate glass, silica glass, borosilicate glass, alkali-free glass, or the like is used for the support glass 12.

지지 유리(12)에 대해서는 유리 필름(10)과의 30∼380℃에 있어서의 열팽창계수의 차가 5×10-7/℃ 이내인 유리를 사용하는 것이 바람직하다.As for the supporting glass 12, it is preferable to use a glass having a difference in thermal expansion coefficient from 30 占 폚 to 380 占 폚 with the glass film 10 within 5 占10-7 / 占 폚.

그리고, 팽창률의 차를 억제하는 관점으로부터 지지 유리(12)와 유리 필름(10)은 동일한 조성을 갖는 유리를 사용하는 것이 가장 바람직하다.From the viewpoint of suppressing the difference in the expansion ratio, it is most preferable to use glass having the same composition as the support glass 12 and the glass film 10.

지지 유리(12)의 두께는 400㎛이상인 것이 바람직하다. 지지 유리(12)의 두께가 400㎛ 미만이면, 지지 유리(12)를 단체로 취급하는 경우에, 강도의 면에서 문제가 생길 우려가 있다. 지지 유리(12)의 두께는 400∼700㎛인 것이 바람직하고, 500∼700㎛인 것이 가장 바람직하다.The thickness of the supporting glass 12 is preferably 400 탆 or more. When the thickness of the supporting glass 12 is less than 400 탆, there is a possibility that a problem may occur in terms of strength when the supporting glass 12 is handled as a single unit. The thickness of the supporting glass 12 is preferably 400 to 700 占 퐉, and most preferably 500 to 700 占 퐉.

이에 따라 지지 유리(12)로 유리 필름(10)을 확실하게 지지하는 것이 가능해짐과 아울러, 지지 유리(12)로부터 유리 필름(10)을 박리할 때에 발생할 수 있는 유리 필름(10)의 파손을 효과적으로 억제하는 것이 가능해진다.This makes it possible to reliably support the glass film 10 with the supporting glass 12 and to prevent the glass film 10 from being damaged when the glass film 10 is peeled from the supporting glass 12 It is possible to suppress effectively.

또한, 후술하는 레지스트액의 도포시(제 3 공정) 등에 도면에 나타내지 않은 세터 상에 유리 필름 적층체(1)를 적재하는 경우에는 지지 유리(12)의 두께는 400㎛미만(예를 들면 300㎛ 등, 유리 필름(10)과 동일한 두께)이어도 좋다.When the glass film laminate 1 is placed on a setter not shown in the drawing at the time of application of a resist solution to be described later (third step), the thickness of the supporting glass 12 is less than 400 mu m (for example, 300 The same thickness as that of the glass film 10).

본 발명에 사용되는 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)는 다운드로우법에 의해 성형되어 있는 것이 바람직하고, 오버플로우 다운드로우법에 의해 성형되어 있는 것이 보다 바람직하다.The glass film 10 and the supporting glass 12 used in the present invention are preferably formed by a down-draw method, and more preferably, they are formed by an overflow down-draw method.

특히, 도 2에 나타내는 오버플로우 다운드로우법은 성형시에 유리판의 양면이 성형 부재와 접촉하지 않는 성형법이며, 얻어진 유리판의 양면(투광면)에는 상처가 생기기 어려워 연마하지 않아도 높은 표면 품위를 얻을 수 있다. 물론, 본 발명에 사용되는 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)는 플로트법이나 슬롯 다운드로우법, 롤아웃법, 업드로우법, 리드로우법 등에 의해 성형된 것이어도 좋다.In particular, the overflow down-draw method shown in Fig. 2 is a molding method in which both surfaces of the glass sheet do not come into contact with the molding member at the time of molding, and scratches are hardly generated on both surfaces (light projecting surfaces) of the obtained glass sheet. have. Of course, the glass film 10 and the supporting glass 12 used in the present invention may be formed by a float method, a slot-down-draw method, a roll-out method, an up-draw method, a reedrow method or the like.

도 2에 나타내는 오버플로우 다운드로우법에 있어서, 단면이 쐐기형의 성형체(20)의 하단부(21)로부터 유하한 직후의 유리 리본(G)은 냉각 롤러(22)에 의해 폭방향의 수축이 규제되면서 하방으로 잡아 늘려져서 소정의 두께까지 얇아진다. 다음에 상기 소정 두께에 도달한 유리 리본(G)을 도면에 나타내지 않은 서냉로(어닐러)로 서서히 냉각하여 유리 리본(G)의 열변형을 제거하고, 유리 리본(G)을 소정 치수로 절단함으로써, 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)가 각각 성형된다.In the overflow down-draw method shown in Fig. 2, the glass ribbon (G) immediately after the section is wiped from the lower end portion (21) of the wedge-shaped formed body (20) And is stretched downward to be thinned to a predetermined thickness. Next, the glass ribbon G having reached the predetermined thickness is gradually cooled by a slow cooling furnace (not shown) to remove thermal deformation of the glass ribbon G, and the glass ribbon G is cut to a predetermined size Whereby the glass film 10 and the supporting glass 12 are respectively molded.

이하, 지지체(11)로서 지지 유리(12)를 채용한 실시형태에 대해서 설명한다. 지지 유리(12)의 재질에 기인한 특유의 설명 개소 이외의 부분에 대해서는 적당하게 지지 유리(12)를 지지체(11)로 대체해서 적용하는 것으로 한다.Hereinafter, an embodiment in which the supporting glass 12 is used as the supporting body 11 will be described. The supporting glass 12 is replaced with the supporting body 11 appropriately for the portions other than the specific portions due to the material of the supporting glass 12. [

도 3에 나타내듯이, 유리 필름(10)에는 접촉면(10a)과 유효면(10b)을 설정하고 있다.As shown in Fig. 3, the glass film 10 has the contact surface 10a and the effective surface 10b.

접촉면(10a)은 지지 유리(12)와 적층할 때에, 상기 지지 유리(12)와 대향해서 접촉하는 측의 면이다.The contact surface 10a is a surface on the side facing the support glass 12 when the support glass 12 and the support glass 12 are stacked.

또한 유효면(10b)은 접촉면(10a)과는 반대측의 면으로서, 소자의 형성 등의 제조 관련 처리가 실시되는 측의 면이다.The effective surface 10b is a surface on the side opposite to the contact surface 10a, and is a surface to which manufacturing related processing such as formation of elements is performed.

또한 지지 유리(12)에는 접촉면(12a)과 반송면(12b)을 설정하고 있다. The supporting glass 12 also has a contact surface 12a and a carrying surface 12b.

접촉면(12a)은 유리 필름(10)과 적층할 때에, 상기 유리 필름(10)과 대향하여 접촉하는 측의 면이다.The contact surface 12a is a surface of the glass film 10 which is in contact with the glass film 10 when the glass film 10 and the glass film 10 are laminated.

또한 반송면(12b)은 접촉면(12a)과는 반대측의 면으로서, 유리 필름 적층체(1)가 반송 롤러 위를 반송될 때에, 상기 반송 롤러에 접하는 측의 면이다.The conveying surface 12b is a surface opposite to the contact surface 12a and is a surface on the side in contact with the conveying roller when the glass film laminate 1 is conveyed on the conveying roller.

도 3에서는 지지 유리(12) 상에 대략 동일면적의 유리 필름(10)이 적층되어 있지만, 지지 유리(12)가 유리 필름(10)으로부터 돌출되도록 적층되어 있어도 좋다.In Fig. 3, the glass film 10 having substantially the same area is laminated on the supporting glass 12, but the supporting glass 12 may be laminated so as to protrude from the glass film 10.

이 경우, 지지 유리(12)의 유리 필름(10)로부터의 돌출량은 0.5∼10mm인 것이 바람직하고, 0.5∼1mm인 것이 보다 바람직하다. In this case, the projecting amount of the supporting glass 12 from the glass film 10 is preferably 0.5 to 10 mm, more preferably 0.5 to 1 mm.

지지 유리(12)의 돌출량을 적게 함으로써 유리 필름(10)의 유효면(10b)의 면적을 보다 넓게 확보할 수 있다.By reducing the projecting amount of the supporting glass 12, the area of the effective surface 10b of the glass film 10 can be widened.

또한 지지 유리(12) 상에 유리 필름(10)을 적층하는 공정은 감압 하에서 행해도 좋다. 이에 따라 유리 필름(10)과 지지 유리(12)를 적층시켰을 때에 양자간에 생기는 기포를 저감시킬 수 있다.The step of laminating the glass film 10 on the supporting glass 12 may be performed under reduced pressure. Accordingly, the bubbles generated between the glass film 10 and the supporting glass 12 can be reduced when the glass film 10 and the supporting glass 12 are laminated.

유리 필름(10)의 접촉면(10a)과, 지지 유리(12)의 접촉면(12a)의 표면 거칠기(Ra)가 2.0nm이하인 것이 바람직하다. 이에 따라 유리 필름과 지지 유리가 매끄러운 표면끼리 접촉하기 때문에 밀착성이 좋고, 접착제를 사용하지 않아도 유리 필름과 지지 유리를 강고하고 안정되게 적층시키는 것이 가능해진다.The surface roughness Ra of the contact surface 10a of the glass film 10 and the contact surface 12a of the support glass 12 is preferably 2.0 nm or less. As a result, smooth surfaces of the glass film and the support glass come into contact with each other, so that the adhesiveness is good and the glass film and the support glass can be stacked firmly and stably without using an adhesive.

유리 필름(10)과 지지 유리(12)를 접착제 없이 강고하게 적층하기 위해서는 본 발명에 있어서 사용하는 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)의 각각의 접촉면(10a ·12a)의 표면 거칠기(Ra)는 각각 1.0nm이하인 것이 바람직하고, 0.5nm이하인 것이 보다 바람직하고, 0.2nm이하인 것이 가장 바람직하다.In order to firmly laminate the glass film 10 and the supporting glass 12 without an adhesive agent, the surface roughness Ra (Ra) of each of the contact surfaces 10a, 12a of the glass film 10 and the supporting glass 12 used in the present invention ) Is preferably 1.0 nm or less, more preferably 0.5 nm or less, and most preferably 0.2 nm or less.

본 실시형태에서는 유리 필름(10)과 지지 유리(12)의 상호 접촉하는 측의 표면 거칠기(Ra)를 각각 2.0nm이하로 하고 있고, 제 1 공정에서는 상호 접촉하는 측의 면의 표면 거칠기(Ra)가 각각 2.0nm이하인 유리 필름(10)과 지지 유리(12)를 적층해서 유리 필름(10)을 지지 유리(12)에 대하여 강고하게 고정함으로써, 유리 필름 적층체(1)가 제작된다.In the present embodiment, the surface roughness Ra of the side where the glass film 10 and the supporting glass 12 are in contact with each other is 2.0 nm or less, and in the first step, the surface roughness Ra The glass film 10 and the supporting glass 12 are stacked to securely fix the glass film 10 to the supporting glass 12 so that the glass film laminate 1 is manufactured.

유리 필름(10)과 지지 유리(12)의 각 접촉면(10a·12a)의 표면 거칠기(Ra)가 2.0nm이하가 되도록 평활화하면, 이들 2개의 평활한 유리 기판을 밀착시켰을 경우에 유리 기판끼리가 접착제 없이 박리가능한 정도로 고착해서 유리 필름 적층체(1)가 된다. 이 현상은 다음 메커니즘에 의하면 추찰된다.If the surface roughness Ra of each of the contact surfaces 10a and 12a of the glass film 10 and the support glass 12 is made to be 2.0 nm or less when these two smooth glass substrates are brought into close contact with each other, And is adhered to a degree that can be peeled off without an adhesive, whereby the glass film laminate 1 is obtained. This phenomenon is presumed according to the following mechanism.

도 4(a)에 나타내듯이, 유리 필름(10)의 표면(접촉면(10a))과 지지 유리(12)의 표면(접촉면(12a))에 형성된 수산기끼리의 수소결합에 의해 서로 끌어 당긴다고 생각된다. 또는 도 4(b)와 같이 유리 필름(10)과 지지 유리(12)의 계면(13)에 존재하는 물분자를 개재해서 수소결합이 형성됨으로써 유리 필름(10)과 지지 유리(12)가 서로 고착하는 것도 있다고 여겨지고 있다.It is thought that the hydroxyl groups formed on the surface (contact surface 10a) of the glass film 10 and the surface (contact surface 12a) of the support glass 12 are attracted to each other by hydrogen bonding between the hydroxyl groups as shown in Fig. 4 (a) do. Hydrogen bonds are formed via the water molecules present at the interface 13 between the glass film 10 and the supporting glass 12 as shown in Fig. 4 (b), so that the glass film 10 and the supporting glass 12 It is said that there is also something to stick to.

또한, 본 실시형태에서는 지지 유리(12) 상에 유리 필름(10)을 직접 적층하고 있지만, 도 5에 나타내는 바와 같이, 지지 유리(12) 상에 박막층(15)을 형성한 후에 유리 필름(10)을 적층시켜도 좋다. 박막층(15)에는 ITO, ZrO2 등의 무기 산화물이나, SiNx, TiN, CrN, TiAlN, AlCrN 등의 질화물, Ti 등의 금속, 다이아몬드 라이크 카본, TiC, WC 등의 탄화물, MgF2 등의 불화물을 사용하는 것이 바람직하다. 또한 그 때는 박막층(15)의 표면 거칠기(Ra)는 각각 2.0nm이하, 1.0nm이하, 0.5nm이하, 0.2nm이하인 것이 이 순서로 바람직하다. 또한 박막층(15)에는 수지를 이용해도 좋고, 그 때는 유리 필름(10)은 마지막으로 박리되므로 지지 유리(12) 상에 형성되어 있는 박막층(15)에는 미점착성의 것을 사용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 폴리에틸렌, 폴리염화비닐, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리염화비닐리덴, 폴리프로필렌, 폴리비닐알콜, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 폴리아크릴로니트릴, 에틸렌아세트산 비닐 공중합체, 에틸렌-비닐알콜 공중합체, 에틸렌-메타크릴산 공중합체, 나일론, 셀로판, 실리콘 수지 등을 사용할 수 있고, 박막층(15)은 재질 자신에 점착성을 갖고 있는 경우에 대해서는 기재만을 사용해도 좋고, 기재의 양면에 별도 점착제를 도포한 것을 사용해도 좋고, 기재 없이 점착층만이어도 좋다.5, after the thin film layer 15 is formed on the supporting glass 12, the glass film 10 is directly laminated on the supporting glass 12, ) May be laminated. Thin film layer 15 is a fluoride, such as ITO, an inorganic oxide or, SiN x of ZrO 2 such as, TiN, CrN, TiAlN, carbide, MgF a nitride, metal, diamond-like carbon, TiC, WC and so on, such as Ti, such as AlCrN 2 Is preferably used. In this case, the surface roughness Ra of the thin film layer 15 is preferably 2.0 nm or less, 1.0 nm or less, 0.5 nm or less and 0.2 nm or less in this order. A resin may be used for the thin film layer 15, and at this time, the glass film 10 is finally peeled off. Therefore, the thin film layer 15 formed on the supporting glass 12 is preferably not tacky. In this case, it is preferable to use a polyolefin such as polyethylene, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, polyvinylidene chloride, polypropylene, polyvinyl alcohol, polyester, polycarbonate, polystyrene, polyacrylonitrile, ethylene-vinyl acetate copolymer, , Ethylene-methacrylic acid copolymer, nylon, cellophane, silicone resin and the like can be used. In the case where the thin film layer 15 has adhesiveness to the material itself, only a substrate may be used, Or a pressure-sensitive adhesive layer may be used without a substrate.

한편, 유리 필름(10)의 유효면(10b)의 표면 거칠기는 특별히 한정되지 않지만, 후술하는 제 3 공정에 있어서, 소자의 형성 처리 등을 행하는 점에서 표면 거칠기(Ra)가 2.0nm이하인 것이 바람직하고, 1.0nm이하가 보다 바람직하고, 0.5nm이하가 더욱 바람직하고, 0.2nm이하가 가장 바람직하다. 지지 유리(12)의 반송면(12b)의 표면 거칠기는 특별히 한정되지 않는다.On the other hand, the surface roughness of the effective surface 10b of the glass film 10 is not particularly limited, but it is preferable that the surface roughness Ra is 2.0 nm or less in the third step which will be described later, More preferably 1.0 nm or less, still more preferably 0.5 nm or less, and most preferably 0.2 nm or less. The surface roughness of the conveying surface 12b of the supporting glass 12 is not particularly limited.

본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법에서는 도 1 및 도 6에 나타내듯이, 제 1 공정에 있어서, 유리 필름(10)과 지지 유리(12)를 직접 적층해서 유리 필름 적층체(1)를 제작하는 공정인 적층 공정(STEP-1-3) 전에 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)의 각각에 초음파(US)를 인가하는 초음파 인가 공정(STEP-1-1)과, 초음파 인가 공정(STEP-1-1)을 거친 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)에 부착된 이물을 세정해서 제거하는 세정 공정(STEP-1-2)을 갖는 점에 특징을 갖고 있다.1 and 6, in the first process, the glass film 10 and the supporting glass 12 are directly laminated to form a glass film laminate ( (STEP-1-1) for applying an ultrasonic wave US to each of the glass film 10 and the supporting glass 12 before the lamination step (STEP-1-3) And a cleaning step (STEP-1-2) for cleaning and removing the foreign substance adhered to the glass film 10 and the supporting glass 12 after the ultrasonic application step (STEP-1-1).

초음파 인가 공정(STEP-1-1) 및 세정 공정(STEP-1-2)은 유리 필름 적층체(1)의 계면(13)에 오픈 기포가 생기는 것을 방지하기 위한 공정이다.The ultrasonic wave application step (STEP-1-1) and the cleaning step (STEP-1-2) are processes for preventing open air bubbles from occurring at the interface 13 of the glass film laminate 1.

도 16에 나타내듯이, 유리 필름(10)과 지지 유리(12)를 적층할 때에 계면(13)에 이물이 있으면 그 이물에 의해 유리 필름(10)과 지지 유리(12)가 국소적으로 밀착되지 않고, 유리 필름 적층체(1)의 계면(13)에 기포(14)가 형성되는 경우가 있다. As shown in Fig. 16, if there is foreign matter on the interface 13 when the glass film 10 and the supporting glass 12 are laminated, the glass film 10 and the supporting glass 12 are locally adhered to each other The bubbles 14 may be formed on the interface 13 of the glass film laminate 1.

즉 유리 필름(10)의 접촉면(10a) 및 지지 유리(12)의 접촉면(12a)에 있어서의 이물을 확실하게 제거하면, 계면(13)에 기포(14)가 형성되는 것을 방지할 수 있다.That is, it is possible to prevent the bubble 14 from being formed on the interface 13 by surely removing the foreign matter on the contact surface 10a of the glass film 10 and the contact surface 12a of the support glass 12. [

도 16에 나타내듯이, 기포(14)에는 유리 필름(10)의 끝변(10c)에 접하고 있는 기포(14)인 오픈 기포(14a)와, 유리 필름(10)의 끝변(10c)에 접하고 있지 않은 기포(14)인 클로즈 기포(14b)가 존재하고 있다. The open bubble 14a which is the bubble 14 which is in contact with the end 10c of the glass film 10 and the open bubble 14b which is not in contact with the end 10c of the glass film 10 There is a closed bubble 14b which is a bubble 14. [

오픈 기포(14a)란 유리 필름 적층체(1)에 있어서의 유리 필름(10)과 지지 유리(12)의 계면(13)에 존재하는 기포(14) 중 유리 필름(10)의 끝변(10c)에 접하고 있는 기포를 말하고, 외부와 연통하고 있다. 또 클로즈 기포(14b)는 유리 필름(10)의 끝변(10c)에 접하고 있지 않고, 외부와도 연통하지 않고 있다.The open bubble 14a refers to the end 10c of the glass film 10 among the bubbles 14 existing in the interface 13 between the glass film 10 and the support glass 12 in the glass film laminate 1. [ Which is in contact with the outside. In addition, the closed bubble 14b does not contact the end 10c of the glass film 10 and does not communicate with the outside.

본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법에서는 초음파 인가 공정(STEP-1-1) 및 세정 공정(STEP-1-2)에 있어서의 이물의 제거를 도 7(a), (b)에 나타내듯이, 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)의 각 표면의 적어도 주변부(10d·12d)에 대하여 행한다.In the manufacturing method of the glass film laminate 1 according to the present invention, the removal of foreign substances in the ultrasonic wave application step (STEP-1-1) and the cleaning step (STEP-1-2) , At least the peripheral portions 10d and 12d of the respective surfaces of the glass film 10 and the supporting glass 12 are performed.

또한, 유리 필름(10)의 주변부(10d)란 도 7(a)에 나타내듯이, 유리 필름(10)의 접촉면(10a)에 있어서의 4개의 각 끝변(10c·10c···)으로부터 소정의 폭(L)의 범위(우상향의 사선을 그은 범위)를 가리키고, 지지 유리(12)의 주변부(12d)란 도 7(b)에 나타내듯이, 지지 유리(12)의 접촉면(12a)에 있어서의 4개의 각 끝변(12c·12c···)으로부터 소정의 폭(M)의 범위(우하향의 사선을 그은 범위)를 가리킨다.The peripheral portion 10d of the glass film 10 is a portion of the glass film 10 which has been cut out from the four edges 10c, 10c, ... of the contact surface 10a of the glass film 10, And the peripheral portion 12d of the support glass 12 indicates the range of the width L of the contact surface 12a of the support glass 12 as shown in Fig. Refers to a range of a predetermined width M (a range drawn by an oblique slanting line) from each of the four end edges 12c, 12c,.

그리고, 도 8(a)에 나타내듯이, 주변부(10d·12d)가 겹치는 범위(망형상으로 사선을 그은 소정의 폭(N)의 범위)를 유리 필름 적층체(1)에 있어서의 주변부(1d)라고 규정한다.As shown in Fig. 8 (a), the range of overlapping of the peripheral portions 10d and 12d (the range of the predetermined width (N) ).

또한, 유리 필름(10)의 주변부(10d)와 지지 유리(12)의 주변부(12d)는 범위가 완전하게 일치할 필요는 없고, 유리 필름(10)의 주변부(10d)가 지지 유리(12)의 주변부(12d)보다 돌출되어 있어도 좋고, 반대로, 지지 유리(12)의 주변부(12d)가 유리 필름(10)의 주변부(10d)보다 돌출되어 있어도 좋다.The peripheral portion 10d of the glass film 10 and the peripheral portion 12d of the supporting glass 12 need not completely coincide with each other and the peripheral portion 10d of the glass film 10 is not in contact with the supporting glass 12, The peripheral portion 12d of the supporting glass 12 may protrude from the peripheral portion 10d of the glass film 10. In this case,

주변부(1d)에 존재하는 이물은 오픈 기포(14a)의 요인이 될 가능성이 특히 높다. 또한 주변부(10d·12d)에 존재하는 이물에 기인해서 발생한 클로즈 기포(14b)는 외부로부터의 응력이나 경시변화 등에 의해 위치가 어긋남으로써 오픈 기포(14a)로 변화될 가능성이 높다.The foreign matter present in the peripheral portion 1d is particularly likely to be a factor of the open bubble 14a. Further, the closed bubble 14b caused by the foreign matter existing in the peripheral portions 10d and 12d is highly likely to be changed to the open bubble 14a by deviating its position due to external stress or change with time.

즉 오픈 기포(14a)를 확실하게 방지하기 위해서는 주변부(1d)에 있어서의 클로즈 기포(14b)의 형성도 방지할 필요가 있다.That is, in order to reliably prevent the open bubble 14a, it is necessary to prevent formation of the closed bubble 14b in the peripheral portion 1d.

이 때문에, 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법에서는 초음파 인가 공정(STEP-1-1) 및 세정 공정(STEP-1-2)에 의해 주변부(10d·12d)에 존재하는 이물을 확실하게 제거해서 주변부(1d)에 이물이 없도록 하는 구성으로 하고 있다. 그리고, 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)는 주변부(1d)에 오픈 기포(14a)가 존재하지 않도록 제작되고, 도 8(b)에 나타내듯이, 유리 필름(10)의 끝변(10c·10c···)이 지지 유리(12)의 접촉면(12a)에 대하여 간극없이 접하고 있다.Therefore, in the manufacturing method of the glass film laminate 1 according to the present invention, it is possible to prevent the foreign matter present in the peripheral portions 10d and 12d by the ultrasonic wave application step (STEP-1-1) and the cleaning step (STEP- So that no foreign matter is present in the peripheral portion 1d. The glass film laminate 1 according to the present invention is manufactured so that the open bubble 14a does not exist in the peripheral portion 1d and the end portions 10c and 10d of the glass film 10 are formed as shown in FIG. 10c ... contact the contact surface 12a of the support glass 12 without gaps.

또한 주변부(10d) 이외의 클로즈 기포(14b)가 적은 것이 바람직하다. It is also preferable that the closed bubble 14b other than the peripheral portion 10d is small.

구체적으로는 기포의 원환산시 직경이 5mm이상인 것이 10000개/㎡이하인 것이 바람직하고, 1000개/㎡이하인 것이 보다 바람직하고, 100개/㎡이하인 것이 더욱 바람직하고, 10개/㎡이하인 것이 가장 바람직하다.Specifically, it is preferable that the diameter of the bubbles is 5,000 mm or more when the bubble is converted, more preferably 10000 / m2 or less, more preferably 1000 / m2 or less, still more preferably 100 / m2 or less, most preferably 10 / Do.

이것은 소자(전자 디바이스)의 제조 관련 처리 등을 행할 때는 평활성이 요청되므로 주변부(10d) 이외의 클로즈 기포(14b)에 관해서도 적은 쪽이 바람직한 것에 의한다.This is because smoothness is required when processing related to the manufacturing of the device (electronic device), etc., and therefore, the closed bubble 14b other than the peripheral portion 10d is preferably smaller.

또한 주변부(10d) 이외의 클로즈 기포(14b)의 기포개수는 0.1개/㎡이상인 것이 바람직하다.The number of bubbles of the closed bubbles 14b other than the peripheral portion 10d is preferably 0.1 bubbles / m 2 or more.

이것은 주변부(10d) 이외의 클로즈 기포(14b)의 개수를 가급적 적게 하고자 하면 세정 등에 시간을 요하기 때문이며, 유리 필름 적층체의 제작시에 비용이 상승될 우려가 있는 것에 의한다. 주변부(10d) 이외의 클로즈 기포(14b) 기포개수는 0.5개/㎡이상인 것이 바람직하고, 1개/㎡이상인 것이 보다 바람직하고, 2개/㎡이상인 것이 더욱 바람직하다.This is because if it is desired to reduce the number of the closed bubbles 14b other than the peripheral portion 10d as much as possible, it takes time for cleaning or the like, and there is a fear that the cost may be increased at the time of manufacturing the glass film laminate. The number of bubbles of the closed bubbles 14b other than the peripheral portion 10d is preferably 0.5 / m 2 or more, more preferably 1 / m 2 or more, and still more preferably 2 / m 2 or more.

그리고, 본 실시형태에 따른 유리 필름 적층체(1)에 있어서의 주변부(1d)의 소정의 폭(N)은 10mm로 하고 있고, 본 발명에 따른 유리 필름 적층체에 있어서의 소정의 폭(N)은 10mm이상으로 하는 것이 바람직하다.The predetermined width N of the peripheral portion 1d in the glass film laminate 1 according to the present embodiment is 10 mm and the predetermined width N of the glass film laminate according to the present invention ) Is preferably 10 mm or more.

이것은 유리 필름(10)의 끝변(10c)으로부터 10mm미만의 위치에서 생긴 기포(14)는 오픈 기포(14a)가 될 가능성이 특히 높고, 또한 그 범위에서 생긴 클로즈 기포(14b)는 외부로부터의 응력이나 경시변화 등에 의해 위치가 어긋남으로써 오픈 기포(14a)로 변화될 가능성이 있는 것에 의한다.This is because the probability that the bubble 14 formed at a position less than 10 mm from the end 10c of the glass film 10 becomes the open bubble 14a is particularly high and the close bubble 14b generated in the range is the stress It is possible that the position of the open bubble 14a may be changed due to a change in the position of the open bubble 14a or a change over time.

또한, 유리 필름(10)의 끝변(10c)으로부터 10mm이상 내측에 존재하는 이물은 오픈 기포(14a)의 요인이 되기 어려운 것에 의한다.This is because the foreign matter existing 10 mm or more from the end 10c of the glass film 10 is unlikely to be a cause of the open bubble 14a.

또한 초음파 인가 공정(STEP-1-1)에 있어서 초음파(US)를 인가하는 범위는 주변부(10d·12d)(도 7(a)(b)에 나타내는 소정의 폭(L이나 M)의 범위)보다 내측에 미치는 범위로 해도 좋거나, 또는 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)의 전체면(전체 범위)에 초음파(US)를 인가해도 좋다.The range in which the ultrasonic waves US are applied in the ultrasonic wave applying step STEP-1-1 is the range of the peripheral portions 10d and 12d (the range of the predetermined widths (L and M) shown in Figs. 7A and 7B) Or the ultrasonic waves US may be applied to the entire surface (entire range) of the glass film 10 and the supporting glass 12. [

이것은 주변부(10d·12d)보다 더 내측에 존재하는 이물까지 제거해 둠으로써 유리 필름(10)의 양품율 향상에 기여할 수 있는 것에 의한다.This is because it is possible to contribute to the improvement of the yield of the glass film 10 by removing the foreign substances which are located further inside than the peripheral portions 10d and 12d.

또한 도 9에 나타내듯이, 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 적층 방법에서는 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)에 초음파(US)를 인가하는 수단으로서 호른형 초음파 발생기(30)를 사용하는 구성으로 하고 있다.9, in the method of laminating the glass film laminate 1 according to the present invention, the horn type ultrasonic generator 30 is used as means for applying ultrasonic waves US to the glass film 10 and the supporting glass 12, Is used.

호른형 초음파 발생기(30)는 조 타입의 초음파 발생기에 비해 국소적으로 보다 강력한 초음파(US)를 인가할 수 있다고 하는 점에서, 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)의 표면에 부착되어 있는 이물을 제거하는 용도에 바람직하다. 특히 호른형 초음파 발생기(30)를 사용했을 경우, 통상의 문질러서 씻는 것으로는 제거할 수 없는 표면에 부착된 유리분 등을 제거할 수 있다.The horn-type ultrasonic generator 30 is attached to the surface of the glass film 10 and the supporting glass 12 in that the ultrasonic wave generator 30 can apply a stronger ultrasonic wave (US) It is preferable for the purpose of removing foreign matter. In particular, when the horn-type ultrasonic generator 30 is used, it is possible to remove the glass powder adhering to the surface which can not be removed by rubbing with a normal rubbing.

또한 호른형 초음파 발생기(30)는 작업자가 초음파(US)를 인가하는 장소를 선택하면서 주사를 할 수 있으므로 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)에 있어서 이물이 오픈 기포(14a)의 요인이 되는 부위(즉 소정의 폭(L이나 M)의 범위)를 우선적으로 선택해서 초음파(US)를 인가할 수 있다.The horn-type ultrasonic generator 30 can perform scanning while selecting the location where the ultrasonic wave US is applied. Therefore, the foreign matter in the glass film 10 and the supporting glass 12 is a factor of the open bubble 14a (That is, the range of the predetermined width (L or M)) can be preferentially selected and the ultrasonic wave US can be applied.

그리고, 호른형 초음파 발생기(30)를 사용해서 소정의 폭(L이나 M)의 범위에만 초음파(US)를 인가하는 구성으로 하면, 초음파(US)의 인가작업에 요하는 시간의 단축을 꾀할 수 있고, 효율 좋게 오픈 기포(14a)의 발생을 방지할 수 있다.When the ultrasonic wave US is applied to only the range of the predetermined width (L or M) using the horn-type ultrasonic generator 30, the time required for the application of the ultrasonic wave US can be shortened And the occurrence of the open bubble 14a can be prevented with high efficiency.

또한 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법에서는 초음파 인가 공정(STEP-1-1)에 있어서, 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)에 초음파(US)를 인가할 때에는 액체(31)를 넣은 조(32)의 내부에 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)를 배치하고, 액체(31)에 침지한 상태에서 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)에 초음파(US)를 인가하는 구성으로 하고 있다.In the method of manufacturing the glass film laminate 1 according to the present invention, when ultrasonic waves US are applied to the glass film 10 and the supporting glass 12 in the ultrasonic wave application step (STEP-1-1) The glass film 10 and the supporting glass 12 are disposed in the tank 32 in which the glass film 10 and the supporting glass 12 are immersed in the liquid 31. The glass film 10 and the supporting glass 12 are immersed in the liquid 31, US) is applied.

본 실시형태에서는 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)를 침지하는 액체(31)로서 순수를 사용하고 있다. 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)를 침지하는 액체(31)로서는 순수 이외의 액체를 사용하는 것도 가능하며, 예를 들면 에탄올 등을 사용해도 좋다.In the present embodiment, pure water is used as the liquid 31 for immersing the glass film 10 and the supporting glass 12. As the liquid 31 for immersing the glass film 10 and the supporting glass 12, liquid other than pure water can be used, and for example, ethanol or the like may be used.

또한 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법에서는 조(32)로서 초음파 세정조를 이용하여, 초음파 세정 공정을 더 갖고 있어도 좋다. 즉, 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)에 대하여 호른형 초음파 발생기(30)로 초음파(US)를 인가하는 전후, 또는 인가하고 있는 중에 아울러 조(초음파 세정조)(32)에서 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)의 전체에 초음파를 인가해도 좋다. Further, in the production method of the glass film laminate 1 according to the present invention, the ultrasonic cleaning step may be further carried out using the ultrasonic cleaning bath as the bath 32. [ That is, before, after, or during the application of the ultrasonic waves US to the horn-type ultrasonic generator 30 with respect to the glass film 10 and the supporting glass 12, The ultrasonic wave may be applied to the whole of the support glass 10 and the support glass 12.

초음파 세정조를 이용하여 유리 필름(10) 및 지지 유리(12) 전체에 초음파를 인가하면서, 소정의 폭(L이나 M)의 범위에 호른형 초음파 발생기(30)로 초음파를 더 인가하는 구성으로 하면, 주변부(1d)에 있어서의 오픈 기포(14a)의 발생을 방지할 뿐만 아니라, 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)의 전체 범위에 부착된 이물을 제거할 수 있으므로 유리 필름(10)의 양품율 향상을 꾀하는 것이 가능하게 된다.Ultrasonic waves are applied to the entirety of the glass film 10 and the supporting glass 12 by using an ultrasonic cleaning tank and ultrasonic waves are further applied to the horn type ultrasonic generator 30 in a range of a predetermined width (L or M) It is possible to prevent the occurrence of the open bubble 14a in the peripheral portion 1d and to remove the foreign matter adhered to the entire range of the glass film 10 and the supporting glass 12, It is possible to improve the yield of the product.

도 1 및 도 6에 나타내듯이, 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법에서는 유리 필름 적층체(1)를 제작한 후에 유리 필름 적층체(1)의 주변부(1d)에 오픈 기포(14a)가 없는지의 여부를 검사하는 제 2의 공정인 오픈 기포 검사 공정(STEP-2)을 구비하고 있다.As shown in Figs. 1 and 6, in the method for producing a glass film laminate 1 according to the present invention, after the glass film laminate 1 is produced, open bubbles 1b are formed in the peripheral portion 1d of the glass film laminate 1, (STEP-2), which is the second step of checking whether or not there is an air bubble 14a.

이 오픈 기포 검사 공정(STEP-2)에서는 도 10에 나타내는 주변부(1d)에 오픈 기포(14a)가 존재하는 유리 필름 적층체(1)를 불량품으로서 배제한다.In this open bubble inspection process (STEP-2), the glass film laminate 1 in which the open bubble 14a is present in the peripheral portion 1d shown in Fig. 10 is rejected as a defective product.

오픈 기포 검사 공정(STEP-2)으로서는 육안에 의한 검사 외에, 엣지 라이트, 현미경, 라인 카메라 등을 적당하게 사용해서 광학적인 검사 등을 사용할 수 있다.As the open bubble inspection process (STEP-2), optical inspection can be used by appropriately using an edge light, a microscope, a line camera and the like in addition to the visual inspection.

즉 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법은 유리 필름 적층체(1)의 유리 필름(10)과 지지 유리(12)의 계면(13)에 존재하는 기포(14)로서, 유리 필름(10)의 끝변(10c)에 접하는 오픈 기포(14a)의 유무를 검사하는 오픈 기포 검사 공정(STEP-2)을 더 구비하는 것이다.That is, the method for producing the glass film laminate 1 according to the present invention is a method for producing the glass film laminate 1 of the present invention in which the bubble 14 existing in the interface 13 between the glass film 10 of the glass film laminate 1 and the supporting glass 12, (STEP-2) for inspecting the presence or absence of an open bubble 14a in contact with the end 10c of the film 10 as shown in FIG.

이러한 구성에 의해, 오픈 기포(14a)가 발생하고 있는 유리 필름 적층체(1)를 배제할 수 있고, 또 이에 따라 유리 필름(10)의 수율을 향상시킬 수 있다.With such a configuration, the glass film laminate 1 on which the open bubble 14a is generated can be excluded, and thus the yield of the glass film 10 can be improved.

또한 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법에서는 오픈 기포 검사 공정(STEP-2)에 있어서, 주변부(1d)에 있어서의 오픈 기포(14a) 뿐만 아니라, 주변부(1d)에 있어서의 클로즈 기포(14b)의 유무도 검사하는 구성으로 해도 좋다.In the manufacturing method of the glass film laminate 1 according to the present invention, in the open bubble inspection step (STEP-2), not only the open bubble 14a in the peripheral portion 1d but also the open bubble in the peripheral portion 1d The presence or absence of the closed bubble 14b may also be inspected.

클로즈 기포(14b)는 검사시에 있어서 유리 필름(10)의 끝변(10c)에 접하지 않지만, 경시변화나 외력 등의 영향으로 끝변(10c)에 접하는 위치로 이동할 가능성이 있는 것이며, 검사후에 오픈 기포(14a)로 변화될 가능성을 갖고 있는 것이다.The closed bubble 14b does not touch the end 10c of the glass film 10 at the time of inspection but is likely to move to a position in contact with the end 10c due to a change with time or an external force, It is likely to change into the bubble 14a.

이 때문에, 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법에서는 (STEP-2)에 있어서, 도 11에 나타내는 주변부(1d)에 클로즈 기포(14b)가 존재하는 유리 필름 적층체(1)도 불량품으로서 배제하는 구성으로 하고 있다.Therefore, in the production method of the glass film laminate 1 according to the present invention, in the step (STEP-2), the glass film laminate 1 in which the closed cells 14b are present in the peripheral portion 1d shown in Fig. Is also rejected as a defective product.

한편, 오픈 기포 검사 공정(STEP-2)에서는 도 12에 나타내는 주변부(1d)보다 더 내측에 기포(14)(클로즈 기포(14b))가 존재하는 유리 필름 적층체(1)에 대해서는 양품으로서 취급한다.On the other hand, in the open air bubble inspection step (STEP-2), the glass film laminate 1 in which the bubble 14 (closed bubble 14b) is present inside the peripheral portion 1d shown in Fig. do.

또한, 오픈 기포 검사 공정(STEP-2)에서 불량품으로 판정된 유리 필름 적층체(1)는 유리 필름(10)과 지지 유리(12)로 분리되고, 제 1 공정으로 되돌림으로써 각각 재이용할 수 있다.The glass film laminate 1 determined as defective in the open cell bubble inspection process (STEP-2) is separated into the glass film 10 and the support glass 12, and can be reused by returning to the first process .

도 1에 나타내는 제 3 공정에서는 전자 디바이스 제조 관련 처리를 행한다. 도 13은 지지 유리가 부착된 전자 디바이스(40)를 나타내는 도면이지만, 유리 필름 적층체(1)의 유리 필름(10) 상에 액정이나 유기 EL, 태양 전지 등의 소자(41)를 형성한다. 그리고, 도 1에 나타내듯이, 소자(41)의 형성에 있어서는 소자(41)를 부분적으로 보호하기 위해서, 유리 필름 적층체(1)에 대하여 레지스트액(42)이 도포된다. 그 레지스트액(42)은 감광·건조·가열 등의 방법에 의해 고화된다.In the third step shown in Fig. 1, electronic device manufacturing related processing is performed. Fig. 13 is a view showing an electronic device 40 with a supporting glass, but elements 41 such as liquid crystal, organic EL, and solar cell are formed on the glass film 10 of the glass film laminate 1. 1, in order to partially protect the element 41 in the formation of the element 41, the resist film 42 is applied to the glass film laminate 1. The resist solution 42 is solidified by a method such as photosensitive drying, drying, and heating.

이 때 가령, 유리 필름 적층체(1)가 도 14에 나타내듯이, 그 계면(13)에 오픈 기포(14a)가 존재하고 있는 유리 필름 적층체(1)이면 그 오픈 기포(14a)에는 레지스트액(42)이 침투하여 감광·건조 등의 방법에 의해 그 후 고화되고, 유리 필름(10)과 지지 유리(12)가 고착된다. 그 때문에 전술한 오픈 기포 검사 공정(STEP-2)에 있어서, 이러한 오픈 기포(14a)를 갖는 유리 필름 적층체(1)에 대해서는 불량품으로서 배제하고 있다.14, if the glass film laminate 1 has open bubbles 14a at its interface 13, the open bubbles 14a are filled with the resist solution The glass film 10 is adhered to the supporting glass 12 by the method such as drying and the like. Therefore, in the above-described open cell inspection process (STEP-2), the glass film laminate 1 having such an open cell 14a is excluded as a defective product.

그리고, 소자(41)를 커버 유리(43)로 밀봉함과 아울러 액정 패널의 경우에는 액정의 주입(도면에는 나타내지 않는다) 등을 실시해서 지지 유리가 부착된 전자 디바이스(40)를 형성한다.Then, the device 41 is sealed with the cover glass 43, and in the case of the liquid crystal panel, injection of liquid crystals (not shown) is performed to form the electronic device 40 to which the supporting glass is attached.

또한, 도 13에 나타내는 형태에서는 커버 유리(43)와 유리 필름(10)을 직접 접착하고 있지만, 적당히 공지의 유리 프릿이나 스페이서 등을 사용해서 커버 유리(43)와 유리 필름(10)을 접착해도 좋다.Although the cover glass 43 and the glass film 10 are directly bonded in the form shown in Fig. 13, the cover glass 43 and the glass film 10 may be adhered to each other by using a suitably known glass frit or spacer good.

그리고, 소자(41)의 밀봉에 사용하는 밀봉기판으로서는 전술의 유리 필름(10)과 마찬가지로 규산염 유리, 실리카 유리, 붕규산 유리, 무알칼리 유리 등으로 이루어지는 커버 유리(43)가 사용된다.As the sealing substrate used for sealing the element 41, a cover glass 43 made of silicate glass, silica glass, borosilicate glass, alkali-free glass or the like is used in the same manner as the glass film 10 described above.

커버 유리(43)에 대해서는 유리 필름(10)과의 30∼380℃에 있어서의 열팽창계수의 차가 5×10-7/℃ 이내인 유리를 사용하는 것이 바람직하다.As for the cover glass 43, it is preferable to use glass having a difference in thermal expansion coefficient from 30 占 폚 to 380 占 폚 with the glass film 10 within 5 占10-7 / 占 폚.

이에 따라 제작된 전자 디바이스(50)의 주변환경의 온도가 변화되었다고 해도 팽창률의 차에 의한 열휘어짐이나 유리 필름(10) 및 커버 유리(43)의 갈라짐 등이 생기기 어렵고, 파손되기 어려운 전자 디바이스(50)로 하는 것이 가능해진다.Accordingly, even if the temperature of the surrounding environment of the manufactured electronic device 50 changes, heat deflection due to the difference in the expansion ratio and cracking of the glass film 10 and the cover glass 43 are hardly caused, 50) can be obtained.

그리고, 팽창률의 차를 억제하는 관점에서 커버 유리(43)와 유리 필름(10)은 동일한 조성을 갖는 유리를 사용하는 것이 가장 바람직하다. From the viewpoint of suppressing the difference in expansion rate, it is most preferable to use glass having the same composition as the cover glass 43 and the glass film 10.

커버 유리(43)의 두께는 바람직하게는 300㎛이하, 보다 바람직하게는 5∼200㎛, 가장 바람직하게는 5∼100㎛이다. 이에 따라 커버 유리(43)의 두께를 보다 얇게 해서 적절한 가요성을 부여할 수 있다. 커버 유리(43)의 두께가 5㎛ 미만이면, 커버 유리(43)의 강도가 부족하게 될 우려가 있다.The thickness of the cover glass 43 is preferably 300 占 퐉 or less, more preferably 5 to 200 占 퐉, and most preferably 5 to 100 占 퐉. Accordingly, the thickness of the cover glass 43 can be made thinner to give appropriate flexibility. If the thickness of the cover glass 43 is less than 5 占 퐉, the strength of the cover glass 43 may be insufficient.

다음에 지지 유리가 부착된 전자 디바이스(40)는 제 4 공정에 있어서, 지지 유리(12)로부터 유리 필름(10)이 박리되어 소자(41)가 형성된 형태의 유리 필름(10)인 전자 디바이스(50)가 제작된다.The electronic device 40 to which the supporting glass is attached is manufactured in such a manner that the glass film 10 is peeled from the supporting glass 12 and the device 41 is formed, 50 are manufactured.

본 발명에 따른 제 4 공정은 도 1에 나타내는 바와 같이, 지지 유리가 부착된 전자 디바이스(40)를 전자 디바이스(50)(유리 필름(10))와 지지 유리(12)로 분리하는 공정이다.The fourth step according to the present invention is a step of separating the electronic device 40 with the supporting glass attached thereto into the electronic device 50 (the glass film 10) and the supporting glass 12 as shown in Fig.

지지 유리(12)로부터 전자 디바이스(50)를 박리할 때에는 유리 필름(10)과 지지 유리(12)의 계면(13)에 쐐기체(도면에는 나타내지 않는다)를 삽입하면서, 유리 필름(10)의 단부를 지지 유리(12)로부터 이간하는 방향으로 잡아 당김으로써 전자 디바이스(50)(유리 필름(10))를 박리할 수 있다.When the electronic device 50 is peeled from the support glass 12, a wedge body (not shown) is inserted into the interface 13 between the glass film 10 and the support glass 12, The electronic device 50 (the glass film 10) can be peeled off by pulling the end portion in the direction away from the supporting glass 12.

가령, 유리 필름(10)과 지지 유리(12)가 고착된 도 14에 나타내는 유리 필름 적층체(1)에서는 레지스트액(42)에 의한 고착부에 지지 유리(12)로부터 유리 필름(10)을 박리할 때에 응력이 집중하고, 이 고착부를 기점으로 해서 유리 필름(10)이 파손될 가능성이 높아진다.14, in which the glass film 10 and the supporting glass 12 are fixed, the glass film 10 from the supporting glass 12 is adhered to the fixed part by the resist solution 42 Stress is concentrated at the time of peeling, and there is a high possibility that the glass film 10 is broken starting from the fixing portion.

한편, 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)(도 8 및 도 12 참조)와 같이, 주변부(1d)에 있어서의 오픈 기포(14a)의 생성을 방지하는 형태에 있어서는 계면(13)에 레지스트액(42)이 침투하는 일이 없기 때문에, 고화된 레지스트액(42)에 기인해서 유리 필름(10)과 지지 유리(12)가 고착되지 않고, 그리고, 박리시에 유리 필름(10)이 파손되는 일도 없다.On the other hand, in the form of preventing the formation of open bubbles 14a in the peripheral portion 1d as in the case of the glass film laminate 1 (see Figs. 8 and 12) according to the present invention, The glass film 10 and the supporting glass 12 are not fixed due to the solidified resist solution 42 because the liquid 42 does not penetrate and the glass film 10 is damaged There is nothing to be done.

또한 도 1에 나타내듯이, 제 4 공정에서 박리된 지지 유리(12)(지지체(11))는 제 1 공정으로 되돌려서 다시 유리 필름 적층체(1)를 제작하는데에 재이용할 수 있다.Further, as shown in Fig. 1, the supporting glass 12 (supporting member 11) peeled off in the fourth step is returned to the first step and can be reused for producing the glass film laminate 1 again.

그리고, 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법과 같이, 유리 필름(10)의 파손을 억제하는 구성으로 함으로써, 지지 유리(12)의 재이용율도 향상시킬 수 있고, 유리 필름 적층체(1)의 비용 삭감에도 기여할 수 있다.In addition, as in the manufacturing method of the glass film laminate 1 according to the present invention, by restraining the breakage of the glass film 10, it is possible to improve the reuse ratio of the support glass 12, It is possible to contribute to cost reduction of (1).

이상에서 설명한 대로, 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법은 유리 필름(10)과 지지 유리(12)를 적층해서 제작되는 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법으로서, 유리 필름(10)과 지지 유리(12)의 적어도 주변부(10d·12d)에 초음파(US)를 인가하는 초음파 인가 공정(STEP-1-1)과, 초음파 인가 공정(STEP-1-1)을 거친 유리 필름(10)과 지지 유리(12)를 세정하는 세정 공정(STEP-1-2)과, 세정 공정(STEP-1-2)을 거친 유리 필름(10)과 지지 유리(12)를 적층해서 유리 필름 적층체(1)를 제작하는 적층 공정(STEP-1-3)을 구비하는 것이다.As described above, the manufacturing method of the glass film laminate 1 according to the present invention is a manufacturing method of the glass film laminate 1 produced by laminating the glass film 10 and the supporting glass 12, (STEP-1-1) for applying an ultrasonic wave US to at least peripheral portions 10d and 12d of the support glass 10 and the support glass 12 and a glass A cleaning step STEP-1-2 for cleaning the film 10 and the supporting glass 12 and a glass film 10 and a supporting glass 12 having been subjected to the cleaning step STEP- And a lamination step (STEP-1-3) for producing the film laminate 1.

이러한 구성에 의해, 유리 필름 적층체(1)의 주변부(1d)에 오픈 기포(14a)가 발생하는 것을 방지할 수 있다.With such a configuration, the open bubble 14a can be prevented from being generated in the peripheral portion 1d of the glass film laminate 1.

이에 따라 레지스트 공정(제 3 공정)시에 유리 필름(10)과 지지 유리(12)의 계면(13)에 레지스트액(42)이 침투하는 것을 방지할 수 있고, 나아가서는 유리 필름(10)과 지지 유리(12)의 고착을 방지해서 박리시에 유리 필름(10)이 파손하는 것을 방지할 수 있다.This makes it possible to prevent the resist liquid 42 from penetrating into the interface 13 between the glass film 10 and the supporting glass 12 at the time of the resist process (third process), and further, It is possible to prevent the support glass 12 from sticking and to prevent the glass film 10 from being broken at the time of peeling.

다음에 본 발명에 따른 유리 필름 적층체(1)의 제조 방법의 효과를 확인한 실험 결과에 관하여 설명한다.Next, experimental results confirming the effect of the manufacturing method of the glass film laminate (1) according to the present invention will be described.

본 실험에서는 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤제의 박판 유리(제품명:OA-10G)를 이용하여 350mm×450mm×0.2mm의 것을 유리 필름으로서 사용하고, 360mm×460mm×0.5mm의 것을 지지 유리로서 사용했다.In this experiment, a sheet of glass having a size of 350 mm x 450 mm x 0.2 mm was used as a glass film using a thin plate glass (product name: OA-10G) manufactured by Nippon Denkimaru Kabushiki Kaisha, and a sheet of 360 mm x 460 mm x 0.5 mm did.

그리고, 상기 사양의 유리 필름 및 지지 유리를 이용하여 실시예 1∼실시예 3에 따른 유리 필름 적층체(1)와, 비교예 1에 따른 유리 필름 적층체(1)가 임의의 비율로 혼재한 합계 4종류의 유리 필름 적층체를 각각 100매 제작했다.The glass film laminate 1 according to Examples 1 to 3 and the glass film laminate 1 according to Comparative Example 1 were mixed together in an arbitrary ratio using the above-mentioned glass film and supporting glass 100 pieces of four kinds of glass film laminate in total were produced.

또 각 접촉면(10a·12a)의 세정은 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)에 알칼리성 세제를 첨가한 세정액을 가하면서 우레탄제 스폰지로 문질러 씻음으로써 행했다.Each of the contact surfaces 10a and 12a was cleaned by rubbing the glass film 10 and the supporting glass 12 with a urethane sponge while applying a cleaning liquid to which an alkaline detergent was added.

실시예 1에 따른 유리 필름 적층체(1)는 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)의 각 주변부(10d·12d)에만 호른형 초음파 발생기(선단면적 20×80mm)로 초음파(주파수 25kHz)를 30초간 인가한 후에 각 접촉면(10a·12a)을 세정하고, 그 후 직접 적층해서 제작했다.The glass film laminate 1 according to Example 1 was ultrasonically irradiated (frequency 25 kHz) with a horn type ultrasonic wave generator (tip area 20 x 80 mm) only at the peripheral portions 10d and 12d of the glass film 10 and the supporting glass 12, For 30 seconds, cleaning the respective contact surfaces 10a and 12a, and then directly laminating them.

그리고, 실시예 1에 따른 유리 필름 적층체(1)에 대해서는 하여는 계면(13)내의 기포(14)의 개수에 의해서만 양부판정을 행했다.The glass film laminate 1 according to Example 1 was judged only by the number of bubbles 14 in the interface 13.

또한, 계면(13)내의 기포(14)의 개수에 의한 검사에서는 기포(14)의 개수가 100개/㎡이하인 경우에 양품으로 판정했다(이하 동일).In the inspection by the number of bubbles 14 in the interface 13, when the number of bubbles 14 was 100 pieces / m 2 or less, it was judged to be good (the same applies hereinafter).

또한 실시예 2에 따른 유리 필름 적층체(1)는 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)의 각 접촉면(10a·12a)(전체면)에 호른형 초음파 발생기(동상)로 초음파(주파수 25kHz)를 30초간 인가한 후에, 각 접촉면(10a·12a)을 세정하고, 그 후 직접 적층해서 제작했다. The glass film laminate 1 according to the second embodiment is obtained by ultrasonic wave (frequency 25 kHz) as a horn type ultrasonic generator (in phase) on each contact surface 10a, 12a (entire surface) of the glass film 10 and the support glass 12 ) Was applied for 30 seconds, and then the respective contact surfaces 10a and 12a were cleaned and then directly laminated.

그리고, 실시예 2에 따른 유리 필름 적층체(1)에 대해서는 계면(13)내의 기포(14)의 개수에 의해서만 양부판정을 행했다.For the glass film laminate 1 according to the second embodiment, only the number of the bubbles 14 in the interface 13 was judged.

또한, 실시예 3에 따른 유리 필름 적층체(1)는 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)의 각 접촉면(10a·12a)(전체면)에 호른형 초음파 발생기(동상)로 초음파(주파수 25kHz)를 30초간 인가한 후에, 각 접촉면(10a·12a)을 세정하고, 그 후 직접 적층해서 제작했다. The glass film laminate 1 according to the third embodiment is obtained by ultrasonic wave (frequency) in a horn type ultrasonic generator (in-phase) on each contact surface 10a, 12a (entire surface) of the glass film 10 and the support glass 12, 25 kHz) for 30 seconds, cleaning the respective contact surfaces 10a and 12a, and then directly laminating them.

그리고, 실시예 3에 따른 유리 필름 적층체(1)에 대해서는 우선, 계면(13)내의 기포(14)의 개수를 카운트하고, 양부판정을 행함과 아울러 주변부(1d)(L=10mm)에 있어서의 오픈 기포(14a) 및 클로즈 기포(14b)의 유무를 검사함으로써 양부 판정을 더 행했다.For the glass film laminate 1 according to the third embodiment, the number of the bubbles 14 in the interface 13 is counted and the judgment is made as to whether the bubbles 14 are present in the peripheral portion 1d (L = 10 mm) And the presence or absence of the open bubble 14a and the closed bubble 14b of the open bubble 14a.

한편, 비교예 1에 따른 유리 필름 적층체(1)는 초음파의 인가는 행하지 않고, 각 접촉면(10a·12a)의 세정만을 행하고, 그 후 직접 적층해서 제작했다. On the other hand, the glass film laminate 1 of Comparative Example 1 was produced by performing only cleaning of the respective contact surfaces 10a and 12a without directly applying ultrasonic waves, and then laminating them directly.

그리고, 비교예 1에 따른 유리 필름 적층체(1)에 대해서는 계면(13)내의 기포(14)의 개수에 의해서만 양부판정을 행했다.For the glass film laminate 1 according to the comparative example 1, only the number of bubbles 14 in the interface 13 was judged.

이렇게 해서, 실시예 1∼실시예 3 및 비교예 1에 따른 각 유리 필름 적층체에 대해서 양부판정이 일어났을 경우에, 최종제품으로서의 패널 양품율의 차이가 어떻게 되는지를 정리한 결과를 도 15에 나타내고 있다.Fig. 15 shows the result of summarizing the difference in the panel yield rate as a final product when the judgment of both sides is made for each of the glass film laminate according to the first to third embodiments and the first comparative example Respectively.

실시예 1에 따른 유리 필름 적층체(1)의 경우, 계면(13)에 있어서의 기포(14)의 유무만으로 판정한 결과, 최종 패널에 있어서, 1개의 불량품이 생기고, 최종 패널 양품율이 99%가 되었다.In the case of the glass film laminate 1 according to the first embodiment, only one bubble 14 in the interface 13 is determined. As a result, one defective product is produced in the final panel, and the final panel good rate is 99 %.

또한 실시예 2에 따른 유리 필름 적층체(1)의 경우, 계면(13)에 있어서의 기포(14)의 유무만으로 판정한 결과, 최종 패널에 있어서, 2개의 불량품이 생기고, 최종 패널 양품율이 98%가 되었다.In the case of the glass film laminate 1 according to the second embodiment, only the presence or absence of the bubbles 14 in the interface 13 determines that there are two defective products in the final panel, 98%.

또한, 실시예 3에 따른 유리 필름 적층체(1)의 경우, 계면(13)에 있어서의 기포(14)의 유무와, 주변부(1d)에 있어서의 오픈 기포(14a) 및 클로즈 기포(14b)의 유무로 판정한 결과, 최종 패널에 있어서 불량품이 생기는 일이 없고, 최종 패널 양품율이 100%가 되었다.In the case of the glass film laminate 1 according to the third embodiment, the presence or absence of the bubble 14 at the interface 13 and the presence or absence of the open bubble 14a and the closed bubble 14b in the peripheral portion 1d, It was found that there was no defective product in the final panel, and the final panel yield rate was 100%.

한편, 비교예 1에 따른 유리 필름 적층체(1)의 경우, 계면(13)에 있어서의 기포(14)만으로 판정한 결과, 최종 패널에 있어서 10개의 불량품이 생기고, 최종 패널 양품율이 89%가 되었다.On the other hand, in the case of the glass film laminate 1 according to the comparative example 1, only the bubbles 14 in the interface 13 were determined. As a result, ten defective products were produced in the final panel, .

그리고, 도 15에 나타내는 실험 결과에 의하면, 실시예 1∼실시예 3에 따른 각 유리 필름 적층체(1·1·1)와 같이, 유리 필름(10) 및 지지 유리(12)에 초음파(US)를 인가함과 아울러, 그 후 세정하고나서 유리 필름 적층체(1)를 제작함으로써 초음파(US)를 인가하지 않는 경우(즉 비교예 1의 경우)에 비해 보다 많은 최종 패널 양품매수를 얻을 수 있는 것을 확인할 수 있었다.According to the experimental results shown in Fig. 15, ultrasonic waves (US) were applied to the glass film 10 and the supporting glass 12 as in the case of each of the glass film laminate 1 · 1 · 1 according to the first to third embodiments. The number of final panel good products can be obtained as compared with the case where ultrasonic waves US are not applied (that is, in the case of Comparative Example 1) by applying the glass film laminate 1 after cleaning after that .

또한 이 실험 결과에 의하면, 실시예 3에 따른 유리 필름 적층체(1)와 같이, 유리 필름 적층체(1)의 주변부(1d)에 오픈 기포(14a) 및 클로즈 기포(14b)가 없는 것을 확인함으로써 최종제품에 있어서의 수율을 더 향상할 수 있는 것을 확인할 수 있었다.The results of this experiment confirm that the open bubble 14a and the closed bubble 14b do not exist in the peripheral portion 1d of the glass film laminate 1 as in the case of the glass film laminate 1 according to the third embodiment It was confirmed that the yield in the final product can be further improved.

1: 유리 필름 적층체
1d: 주변부
10: 유리 필름
10c: 끝변
10d: 주변부
12: 지지 유리
12d: 주변부
14: 기포
14a: 오픈 기포
14b: 클로즈 기포
30: 호른형 초음파 발생기
31: 액체
32: 조(초음파 세정조)1: Glass film laminate
1d: peripheral portion
10: glass film
10c:
10d: peripheral portion
12: Support glass
12d: peripheral portion
14: Bubble
14a: open bubble
14b: Close bubble
30: Horn type ultrasonic generator
31: liquid
32: Joe (ultrasonic cleaning tank)

Claims (14)

지지체 상에 유리 필름을 적층해서 제작되는 유리 필름 적층체의 제조 방법으로서,
상기 유리 필름과 상기 지지체의 적어도 주변부에 초음파를 인가하는 초음파 인가 공정과,
상기 초음파 인가 공정을 거친 상기 유리 필름과 상기 지지체를 세정하는 세정 공정과,
상기 세정 공정을 거친 상기 지지체 상에 상기 유리 필름을 적층해서 유리 필름 적층체를 제작하는 적층 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체의 제조 방법.A production method of a glass film laminate produced by laminating a glass film on a support,
An ultrasonic wave applying step of applying ultrasonic waves to at least peripheral portions of the glass film and the support,
A cleaning step of cleaning the glass film and the support after the ultrasonic application step;
And a laminating step of laminating the glass film on the support subjected to the cleaning step to produce a glass film laminate. 제 1 항에 있어서,
상기 지지체는 지지 유리인 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체의 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein the support is a support glass. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 초음파 인가 공정에 있어서,
호른형 초음파 발생기를 이용하여 초음파를 인가하는 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체의 제조 방법.3. The method according to claim 1 or 2,
In the ultrasonic wave applying step,
Wherein ultrasonic waves are applied using a horn type ultrasonic wave generator. 제 3 항에 있어서,
상기 초음파 인가 공정에 있어서,
상기 유리 필름과 상기 지지 유리의 상기 주변부에만 초음파를 인가하는 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체의 제조 방법.The method of claim 3,
In the ultrasonic wave applying step,
Wherein ultrasonic waves are applied only to the peripheral portion of the glass film and the supporting glass. 제 2 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유리 필름과 상기 지지 유리를 초음파 세정조의 내부에 있어서 액체에 침지하고, 상기 초음파 세정조에 의해 상기 유리 필름과 상기 지지 유리 전체에 초음파 세정을 행하는 초음파 세정 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체의 제조 방법.5. The method according to any one of claims 2 to 4,
And an ultrasonic cleaning step of immersing the glass film and the supporting glass in a liquid inside the ultrasonic cleaning bath and ultrasonic cleaning the whole of the glass film and the supporting glass by the ultrasonic cleaning bath. ≪ / RTI > 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유리 필름 적층체의 상기 유리 필름과 상기 지지 유리의 계면에 존재하는 기포로서, 상기 유리 필름의 끝변에 접하는 기포인 오픈 기포의 유무를 검사하는 오픈 기포 검사 공정을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체의 제조 방법.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Characterized by further comprising an open cell inspection step of inspecting the presence or absence of open cells as bubbles which are in contact with the ends of the glass film as bubbles existing at the interface between the glass film and the support glass of the glass film laminate Wherein the method comprises the steps of: 제 6 항에 있어서,
상기 오픈 기포 검사 공정에 있어서,
상기 유리 필름의 주변부에 대응한 상기 유리 필름 적층체의 주변부에 있어서의 상기 오픈 기포 이외의 기포의 유무를 더 검사하는 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체의 제조 방법.The method according to claim 6,
In the open bubble inspection process,
The presence or absence of bubbles other than the open bubbles in the peripheral portion of the glass film laminate corresponding to the peripheral portion of the glass film is further inspected. 제 7 항에 있어서,
상기 유리 필름 적층체의 주변부는 상기 유리 필름의 끝변으로부터 10mm이상의 폭인 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체의 제조 방법.8. The method of claim 7,
Wherein the peripheral portion of the glass film laminate has a width of 10 mm or more from the end of the glass film. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
상기 유리 필름 적층체의 주변부 이외의 기포의 개수가 0.1개/㎡이상이며 또한 10000개/㎡이하인 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체의 제조 방법.9. The method according to claim 7 or 8,
Wherein the number of bubbles other than the peripheral portion of the glass film laminate is 0.1 / m2 or more and 10000 / m2 or less. 유리 필름과 지지 유리를 직접 적층해서 제작되는 유리 필름 적층체로서,
상기 유리 필름의 모든 끝변이 간극없이 상기 지지 유리와 접하고 있는 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체.A glass film laminate which is produced by directly laminating a glass film and a supporting glass,
Wherein all of the end edges of the glass film are in contact with the support glass without gaps. 제 10 항에 있어서,
상기 유리 필름은 상기 유리 필름의 모든 끝변으로부터 10mm이상의 폭에서 간극없이 상기 지지 유리와 접하고 있는 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체.11. The method of claim 10,
Wherein the glass film is in contact with the support glass at a width of 10 mm or more from all the ends of the glass film without gaps. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
상기 유리 필름 적층체의 상기 유리 필름과 상기 지지 유리가 간극없이 접하고 있는 부위 이외의 부위에 있어서의 기포의 개수가 0.1개/㎡이상이며 또한 10000개/㎡이하인 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체.The method according to claim 10 or 11,
Wherein the number of bubbles in the portion of the glass film laminate other than the portion where the glass film and the support glass are in contact with each other is 0.1 / m2 or more and 10000 / m2 or less. 제 10 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 지지 유리에 박막층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 유리 필름 적층체.13. The method according to any one of claims 10 to 12,
And a thin film layer is formed on the supporting glass. 전자 디바이스 제조 관련 처리전에 지지체 상에 유리 필름을 적층해서 유리 필름 적층체를 제작하는 적층 공정과,
상기 유리 필름 적층체에 있어서의 상기 유리 필름에 전자 디바이스 제조 관련 처리를 행함으로써 상기 유리 필름 적층체의 상기 유리 필름 상에 소자를 형성하고, 밀봉기판으로 상기 소자를 밀봉해서 지지체가 부착된 전자 디바이스를 제작하는 공정과,
상기 지지체가 부착된 전자 디바이스에 있어서의 전자 디바이스 제조 관련 처리후의 상기 유리 필름을 상기 지지체로부터 박리해서 전자 디바이스를 제조하는 공정을 갖는 전자 디바이스의 제조 방법으로서,
상기 적층 공정은 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 유리 필름 적층체의 제조 방법에 의해 유리 필름 적층체를 제작하는 공정인 것을 특징으로 하는 전자 디바이스의 제조 방법.A lamination step of laminating a glass film on a support before an electronic device manufacturing related process to produce a glass film laminate,
An element is formed on the glass film of the glass film laminate by performing an electronic device manufacturing process on the glass film in the glass film laminate and the element is sealed with a sealing substrate to form an electronic device ,
And a step of peeling the glass film after the electronic device manufacturing related processing in the electronic device with the support attached thereon from the support to produce an electronic device,
Wherein said laminating step is a step of producing a glass film laminate by the method for producing a glass film laminate according to any one of claims 1 to 9.
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