KR20110102439A - Glass laminate and manufacturing method therefor - Google Patents

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KR20110102439A
KR20110102439A KR1020117015775A KR20117015775A KR20110102439A KR 20110102439 A KR20110102439 A KR 20110102439A KR 1020117015775 A KR1020117015775 A KR 1020117015775A KR 20117015775 A KR20117015775 A KR 20117015775A KR 20110102439 A KR20110102439 A KR 20110102439A
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thin
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사또시 곤도
도모유끼 시미즈
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아사히 가라스 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 제1 주면 및 제2 주면을 갖는 박판 유리 기판, 제1 주면 및 제2 주면을 갖는 지지 유리 기판, 및 박리 용이성을 갖는 수지층을 갖고, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면과 상기 지지 유리 기판의 제1 주면에 고정된 상기 수지층이 밀착하도록, 상기 박판 유리 기판과 상기 지지 유리 기판이 상기 수지층을 개재하여 적층된 유리 적층체이며, 상기 박판 유리 기판이, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면의 외주의 적어도 일부가 상기 지지 유리 기판의 제1 주면의 외주로부터 돌출되도록 적층되어 있는 유리 적층체에 관한 것이다.This invention has the thin glass substrate which has a 1st main surface and a 2nd main surface, the support glass substrate which has a 1st main surface, and a 2nd main surface, and the resin layer which has easy peelability, The 1st main surface and said support of the said thin glass substrate The thin glass substrate and the supporting glass substrate are laminated glass via the resin layer so that the resin layer fixed to the first main surface of the glass substrate is in close contact, and the thin glass substrate is formed of the thin glass substrate. It relates to the glass laminated body laminated | stacked so that at least one part of the outer periphery of a 1st main surface may protrude from the outer periphery of the 1st main surface of the said support glass substrate.

Description

유리 적층체 및 그의 제조 방법 {GLASS LAMINATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR}Glass laminate and manufacturing method thereof {GLASS LAMINATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR}

본 발명은 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 등에 사용되는 유리 기판을 포함하는 유리 적층체 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the glass laminated body containing the glass substrate used for a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display, etc., and its manufacturing method.

액정 표시 장치(LCD), 유기 EL 표시 장치(OLED), 특히 휴대 전화나 디지털 카메라 등의 휴대형 표시 장치의 분야에서는, 표시 장치의 경량화, 박형화가 중요한 과제로 되어 있다.In the field of liquid crystal display devices (LCDs), organic EL display devices (OLEDs), especially portable display devices such as mobile phones and digital cameras, weight reduction and thinning of display devices are important problems.

이 과제에 대응하기 위하여, 표시 장치에 사용하는 유리 기판의 판 두께를 더욱 얇게 하는 것이 요망되고 있다. 유리 기판의 판 두께를 얇게 하는 방법으로서는, 일반적으로, 표시 장치용 부재를 유리 기판의 표면에 형성하기 전 또는 형성한 후에, 불산 등을 사용하여 유리 기판을 에칭 처리하고, 필요에 따라서 추가로 물리 연마하여 얇게 하는 방법이 행해진다.In order to cope with this problem, it is desired to further reduce the thickness of the glass substrate used for the display device. As a method of thinning the plate | board thickness of a glass substrate, generally, before or after forming the member for display apparatuses on the surface of a glass substrate, a glass substrate is etched using hydrofluoric acid etc., and further physical as needed. A method of polishing and thinning is performed.

그러나, 표시 장치용 부재를 유리 기판의 표면에 형성하기 전에 에칭 처리 등을 하여 유리 기판의 판 두께를 얇게 하면, 유리 기판의 강도가 저하되어 휨량도 커진다. 그로 인해 기존의 표시 장치용 부재의 제조 라인에서 처리하는 것이 곤란해지는 문제가 생긴다.However, when the plate thickness of a glass substrate is made thin by performing an etching process etc. before forming the member for display apparatuses on the surface of a glass substrate, the intensity | strength of a glass substrate will fall and the curvature amount will also increase. For this reason, the problem which becomes difficult to process by the manufacturing line of the existing member for display apparatuses arises.

또한, 표시 장치용 부재를 유리 기판의 표면에 형성한 후에 에칭 처리 등을 하여 유리 기판을 얇게 하면, 표시 장치용 부재를 유리 기판의 표면에 형성하는 과정에 있어서 유리 기판의 표면에 형성된 미세한 흠집이 현재화하는 문제, 즉 에치피트(etchpit)의 발생이라는 문제가 생긴다.In addition, when the glass substrate is thinned by forming an display device member on the surface of the glass substrate and then performing an etching process or the like, fine scratches formed on the surface of the glass substrate in the process of forming the display device member on the glass substrate surface The problem of presenting, namely the occurrence of etchpit, arises.

따라서, 이와 같은 문제를 해결하는 것을 목적으로 하여, 판 두께가 얇은 유리 기판(이하에서는 「박판 유리 기판」이라고도 함)을 다른 지지 유리 기판과 접합하여 유리 적층체로 하고, 그 상태에서 표시 장치를 제조하기 위한 소정의 처리를 실시하고, 그 후, 박판 유리 기판과 지지 유리 기판을 분리하는 방법 등이 제안되어 있다.Therefore, for the purpose of solving such a problem, a thin glass substrate (hereinafter also referred to as a "thin glass substrate") is bonded to another supporting glass substrate to form a glass laminate, and a display device is manufactured in that state. The predetermined process for doing this is performed, and the method of isolate | separating a thin glass substrate and a support glass substrate after that is proposed.

예를 들어 하기 특허문헌 1에는, 박판 유리 기판과 지지 유리 기판을 적층시켜 이루어지는 박판 유리 적층체이며, 상기 박판 유리 기판과 상기 지지 유리 기판이 박리 용이성 및 비점착성을 갖는 실리콘 수지층을 개재하여 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 박판 유리 적층체가 기재되어 있다.For example, in following patent document 1, it is a thin glass laminated body which laminated | stacks a thin glass substrate and a support glass substrate, and the said thin glass substrate and the said support glass substrate are laminated | stacked through the silicone resin layer which has easy peelability and non-tackiness. The thin glass laminated body characterized by the above-mentioned is described.

국제 공개 제2007/018028호 팸플릿International Publication No. 2007/018028 Pamphlet

특허문헌 1에 있어서, 박판 유리 기판과 지지 유리 기판의 상대적인 대소 관계에 대해서는, 지지 유리 기판은 박판 유리 기판과 동일 크기, 혹은 그것보다 큰 것이 바람직하다고 기재되어 있다. 즉, 특허문헌 1에서는, 박판 유리 기판의 제1 주면의 외주가 지지 유리 기판의 제1 주면의 외주보다 내주측으로 들어가는 것을 나타내고 있다. 이 구성에서, 박판 유리 기판을 지지 유리 기판으로부터 박리하는 공정에 투입시키면, 다음과 같은 문제가 상정된다. 박판 유리 기판과 수지층의 경계에 박리용 칼날을 삽입하고자 하면, 상기 경계에 박리용 칼날이 삽입되는 것이 아니라, 수지층에 파고 들어가도록 삽입된다. 이로 인해, 박리용 칼날에 의해 수지층을 부분적으로 파괴해 버려, 파괴된 수지층의 일부가 박판 유리 기판에 부착된 채로 남는 문제를 발생시킨다.In patent document 1, about the relative magnitude relationship of a thin glass substrate and a support glass substrate, it is described that a support glass substrate is the same size as a thin glass substrate, or it is larger than it. That is, patent document 1 has shown that the outer periphery of the 1st main surface of a thin glass substrate enters an inner peripheral side rather than the outer periphery of the 1st main surface of a support glass substrate. In this configuration, when the thin glass substrate is put into a step of peeling from the supporting glass substrate, the following problem is assumed. When the peeling blade is to be inserted into the boundary between the thin glass substrate and the resin layer, the peeling blade is not inserted into the boundary but inserted into the resin layer. For this reason, the resin layer is partially destroyed by the peeling blade, which causes a problem that a part of the broken resin layer remains attached to the thin glass substrate.

도 5, 도 6은 종래의 유리 적층체의 단부를 나타낸 확대 단면도이다. 도 5는 박판 유리 기판(52)의 제2 주면(52b)측으로부터 유리 적층체(50)를 부감하였을 때에, 지지 유리 기판(53)의 제1 주면(53a)의 외주와 박판 유리 기판(52)의 제1 주면(52a)의 외주가 실질적으로 겹치는 형태의 유리 적층체(50)의 단부 부근의 확대 단면도이다. 즉, 박판 유리 기판(52)과 지지 유리 기판(53)이 동일 크기의 형태이다. 또한, 도 6은 박판 유리 기판(62)의 제2 주면(62b)측으로부터 유리 적층체(60)를 부감하였을 때에, 지지 유리 기판(63)의 제1 주면(63a)의 외주가 박판 유리 기판(62)의 제1 주면(62a)의 외주보다 외측으로 돌출되어 있는 형태의 유리 적층체(60)의 단부 부근의 확대 단면도이다. 즉, 지지 유리 기판(63)이 박판 유리 기판(62)보다 큰 형태이다.5 and 6 are enlarged cross-sectional views showing end portions of a conventional glass laminate. 5 shows the outer circumference of the first main surface 53a of the supporting glass substrate 53 and the thin glass substrate 52 when the glass laminate 50 is reduced from the second main surface 52b side of the thin glass substrate 52. It is an expanded sectional view of the edge vicinity of the glass laminated body 50 of the form in which the outer periphery of the 1st main surface 52a of () overlaps substantially. That is, the thin glass substrate 52 and the support glass substrate 53 are of the same size. 6, when the glass laminated body 60 was reduced from the 2nd main surface 62b side of the thin glass substrate 62, the outer periphery of the 1st main surface 63a of the support glass substrate 63 becomes a thin glass substrate. It is an expanded sectional view of the edge vicinity of the glass laminated body 60 of the form which protrudes outward from the outer periphery of the 1st main surface 62a of 62. FIG. That is, the support glass substrate 63 is larger than the thin glass substrate 62.

도 5, 도 6의 유리 적층체(50, 60)의 형태에서, 박판 유리 기판(52, 62)을 지지 유리 기판(53, 63)으로부터 박리하는 공정에 투입하면, 박리용 칼날(15)의 선단이 박판 유리 기판의 제1 주면(52a, 62a)과 수지층(54, 64)의 경계에 삽입되는 것이 아니라, 수지층(54, 64)에 파고 들어가도록 삽입된다. 이로 인해, 박리용 칼날(15)이 수지층(54, 64)을 파괴하여, 수지층의 일부가 박판 유리 기판의 제1 주면(52a, 62a)에 남은 채로, 지지 유리 기판(53, 63)으로부터 박리된다.In the form of the glass laminated bodies 50 and 60 of FIG. 5 and FIG. 6, when the thin glass substrates 52 and 62 are put into the process of peeling from the support glass substrates 53 and 63, the peeling blade 15 of The tip is not inserted into the boundary between the first main surfaces 52a and 62a and the resin layers 54 and 64 of the thin glass substrate, but is inserted into the resin layers 54 and 64. For this reason, the peeling blade 15 destroys the resin layers 54 and 64, and a part of the resin layer remains on the first main surfaces 52a and 62a of the thin glass substrate, thereby supporting the supporting glass substrates 53 and 63. Peeling off.

또한, 지지 유리 기판의 단부에 오목 함몰부를 형성하여, 박판 유리 기판을 박리하기 쉽게 하는 것을 생각할 수 있지만, 지지 유리 기판에 오목 함몰부를 형성하기 위한 공정이 필요해져, 유리 적층체의 생산 시간이 더 걸리는 문제를 발생시킨다.In addition, although it can be considered to form a concave depression at the end of the supporting glass substrate to facilitate peeling of the thin glass substrate, a step for forming the concave depression in the supporting glass substrate is required, and the production time of the glass laminate is further increased. Cause trouble.

본 발명자는 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 거듭하여, 본 발명을 완성하였다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor earnestly examined and completed this invention in order to solve the said subject.

즉, 본 발명은 이하의 (1) 내지 (8)에 관한 것이다.That is, this invention relates to the following (1)-(8).

(1) 제1 주면 및 제2 주면을 갖는 박판 유리 기판, 제1 주면 및 제2 주면을 갖는 지지 유리 기판, 및 박리 용이성을 갖는 수지층을 갖고, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면과 상기 지지 유리 기판의 제1 주면에 고정된 상기 수지층이 밀착하도록, 상기 박판 유리 기판과 상기 지지 유리 기판이 상기 수지층을 개재하여 적층된 유리 적층체이며, (1) It has a thin glass substrate which has a 1st main surface and a 2nd main surface, the support glass substrate which has a 1st main surface, and a 2nd main surface, and the resin layer which has easy peelability, The 1st main surface and said support of the said thin glass substrate The thin glass substrate and the supporting glass substrate are laminated glass via the resin layer so that the resin layer fixed to the first main surface of the glass substrate is in close contact with each other,

상기 박판 유리 기판이, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면의 외주의 적어도 일부가 상기 지지 유리 기판의 제1 주면의 외주로부터 돌출되도록 적층되어 있는 유리 적층체.The said laminated glass substrate is laminated | stacked so that at least one part of the outer periphery of the 1st main surface of the said thin glass substrate may protrude from the outer periphery of the 1st main surface of the said support glass substrate.

(2) 상기 박판 유리 기판의 제1 주면과 상기 지지 유리 기판의 제1 주면이 직사각형 형상을 하고 있고, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면의 세로 및/또는 가로의 각각의 길이가 상기 지지 유리 기판의 제1 주면의 세로 및/또는 가로의 각각의 길이보다 긴, (1)에 기재된 유리 적층체.(2) The first main surface of the thin glass substrate and the first main surface of the supporting glass substrate have a rectangular shape, and the length of each of the length and / or the horizontal length of the first main surface of the thin glass substrate is the supporting glass substrate. The glass laminated body as described in (1) longer than each length of the longitudinal and / or horizontal of the 1st main surface of the.

(3) 상기 박판 유리 기판의 제1 주면의 세로 및/또는 가로의 각각의 길이가 상기 지지 유리 기판의 제1 주면의 세로 및/또는 가로의 각각의 길이보다 0.2㎜ 내지 20㎜ 긴, (1) 또는 (2)에 기재된 유리 적층체.(3) The length of each of the length and / or width of the first main surface of the thin glass substrate is 0.2 mm to 20 mm longer than the length of each of the length and / or width of the first main surface of the supporting glass substrate, (1 ) Or the glass laminate according to (2).

(4) 상기 박판 유리 기판의 제1 주면의 외주 전체가 상기 지지 유리 기판의 제1 주면의 외주보다 외측으로 돌출되어 있는, (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 기재된 유리 적층체.(4) The glass laminate according to any one of (1) to (3), wherein the entire outer circumference of the first main surface of the thin glass substrate protrudes outward from the outer circumference of the first main surface of the supporting glass substrate.

(5) 상기 수지층을 형성하는 수지가 아크릴 수지, 폴리올레핀 수지, 폴리우레탄 수지 및 실리콘 수지로부터 선택되는 적어도 하나인, (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 기재된 유리 적층체.(5) The glass laminated body in any one of (1)-(4) whose resin which forms the said resin layer is at least 1 chosen from an acrylic resin, a polyolefin resin, a polyurethane resin, and a silicone resin.

(6) 상기 수지층의 두께가 5 내지 50㎛인, (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 유리 적층체.(6) The glass laminated body in any one of (1)-(5) whose thickness of the said resin layer is 5-50 micrometers.

(7) 상기 박판 유리 기판과 상기 지지 유리 기판과의 선 팽창 계수의 차가 150×10-7/℃ 이하인, (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 기재된 유리 적층체.(7) The glass laminated body in any one of (1)-(6) whose difference of the linear expansion coefficient of the said thin glass substrate and the said support glass substrate is 150x10 <-7> / degreeC or less.

(8) 상기 (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재된 유리 적층체의 제조 방법이며, 상기 지지 유리 기판의 제1 주면에 박리 용이성을 갖는 수지층을 형성하여 고정하는 수지층 형성 공정과, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면에, 상기 지지 유리 기판의 제1 주면 상에 고정된 상기 수지층을 밀착하는 밀착 공정을 포함하는 유리 적층체의 제조 방법.(8) It is a manufacturing method of the glass laminated body in any one of said (1)-(7), The resin layer formation process of forming and fixing the resin layer which has easy peelability on the 1st main surface of the said support glass substrate, The manufacturing method of the glass laminated body including the adhesion process which adhere | attaches the said resin layer fixed on the 1st main surface of the said support glass substrate to the 1st main surface of the said thin glass substrate.

또한 본 발명자는, 이들 본 발명의 유리 적층체 또는 제조 방법을 이용하여 형성되는 다음의 표시 장치용 패널 및 표시 장치에 관한 이하의 발명을 완성시켰다.Moreover, this inventor completed the following invention about the following display apparatus panels and display apparatuses formed using these glass laminated bodies or a manufacturing method of this invention.

(9) 상기 (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재된 유리 적층체에 있어서의 상기 박판 유리 기판의 제2 주면에 표시 장치용 부재를 갖는, 지지체를 갖는 표시 장치용 패널.(9) The display device panel which has a support body which has a member for display devices on the 2nd main surface of the said thin glass substrate in the glass laminated body in any one of said (1)-(7).

(10) 상기 (9)에 기재된, 지지체를 갖는 표시 장치용 패널을 사용하여 형성되는 표시 장치용 패널.(10) The panel for display devices formed using the panel for display devices which has a support body as described in said (9).

(11) 상기 (10)에 기재된 표시 장치용 패널을 갖는 표시 장치.(11) The display device which has a panel for display devices as described in said (10).

(12) 상기 (8)에 기재된 유리 적층체의 제조 방법, 및 얻어진 유리 적층체에 있어서의 상기 박판 유리 기판의 제2 주면에 표시 장치용 부재를 형성하는 공정을 포함하는, 지지체를 갖는 표시 장치용 패널의 제조 방법.(12) The display apparatus which has a support body containing the manufacturing method of the glass laminated body as described in said (8), and the process of forming a member for display apparatuses on the 2nd main surface of the said thin glass substrate in the obtained glass laminated body. Method for producing a panel for

(13) 상기 (12)에 기재된, 지지체를 갖는 표시 장치용 패널의 제조 방법, 및 얻어진 지지체를 갖는 표시 장치용 패널에 있어서의 상기 박판 유리 기판과 상기 지지 유리 기판을, 상기 박판 유리 기판이 상기 지지 유리 기판으로부터 돌출되어 있는 개소를 기점으로 하여 박리하는 박리 공정을 포함하는 표시 장치용 패널의 제조 방법.(13) The said thin glass substrate and the said support glass substrate in the manufacturing method of the panel for display apparatuses which have a support body, and the obtained support body as described in said (12), The said thin glass substrate is said The manufacturing method of the panel for display apparatuses containing the peeling process of peeling from the location which protrudes from a support glass substrate as a starting point.

(14) 상기 (13)에 기재된 표시 장치용 패널의 제조 방법, 및 얻어진 표시 장치용 패널을 사용하여 표시 장치를 얻는 공정을 포함하는 표시 장치의 제조 방법.(14) The manufacturing method of the display apparatus containing the manufacturing method of the panel for display apparatus of said (13), and the process of obtaining a display apparatus using the obtained display apparatus panel.

본 발명에 의해 얻어진 유리 적층체는 지지 유리 기판에 특별한 가공이 불필요하며, 박판 유리 기판을 지지 유리 기판으로부터 박리하는 공정에 있어서, 수지층을 파괴하지 않고 밀착한 박판 유리 기판과 수지층을 용이하고 또한 단시간에 박리할 수 있다.The glass laminated body obtained by this invention does not need a special process to a support glass substrate, and in the process of peeling a thin glass substrate from a support glass substrate, it is easy to adhere | attach the thin glass substrate and resin layer which were in close contact, without destroying a resin layer. Moreover, it can peel in a short time.

또한, 본 발명의 유리 적층체의 제조 방법에 따르면, 유리 기판간에 혼입된 기포나 먼지 등의 이물질에 의한 유리 결함의 발생이나 에치피트의 발생을 억제할 수 있다.Moreover, according to the manufacturing method of the glass laminated body of this invention, generation | occurrence | production of a glass defect and generation | occurrence | production of etch pits by foreign substances, such as a bubble and dust mixed between glass substrates, can be suppressed.

또한, 이와 같은 유리 적층체를 포함하는, 지지체를 갖는 표시 장치용 패널을 제공할 수 있다. 또한, 이와 같은 지지체를 갖는 표시 장치용 패널을 사용하여 형성되는 표시 장치용 패널 및 표시 장치를 제공할 수 있다.Moreover, the panel for display apparatus which has a support body containing such a glass laminated body can be provided. In addition, a display device panel and a display device formed using the display device panel having such a support can be provided.

또한, 이와 같은 지지체를 갖는 표시 장치용 패널, 표시 장치용 패널 및 표시 장치를 제조하는 방법을 제공할 수 있다.Further, a display device panel, a display device panel, and a method of manufacturing the display device having such a support can be provided.

도 1은 본 발명의 유리 적층체의 실시 형태를 나타내는 개략 정면도이다.
도 2는 도 1의 A-A' 단면을 도시하는 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 유리 적층체의 실시 형태의 단부를 도시하는 개략 단면도이다.
도 4의 (a), (b) 및 (c)는 본 발명의 유리 적층체의 다른 실시 형태를 나타내는 개략 정면도이다.
도 5는 종래의 유리 적층체의 실시 형태의 단부를 도시하는 개략 단면도이다.
도 6은 종래의 유리 적층체의 실시 형태의 단부를 도시하는 개략 단면도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic front view which shows embodiment of the glass laminated body of this invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating the AA ′ cross section of FIG. 1.
It is a schematic sectional drawing which shows the edge part of embodiment of the glass laminated body of this invention.
(A), (b) and (c) is a schematic front view which shows other embodiment of the glass laminated body of this invention.
It is a schematic sectional drawing which shows the edge part of embodiment of the conventional glass laminated body.
It is a schematic sectional drawing which shows the edge part of embodiment of the conventional glass laminated body.

본 발명의 유리 적층체의 실시 형태에 대하여 도면을 사용하여 설명한다.Embodiment of the glass laminated body of this invention is described using drawing.

도 1은 본 발명의 유리 적층체(이하, 단순히 「적층체」라고도 함)의 실시 형태를 나타내는 개략 정면도이며, 도 2는 도 1의 A-A' 단면도(개략 단면도)이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic front view which shows embodiment of the glass laminated body (henceforth simply "laminated body") of this invention, and FIG. 2 is sectional drawing (A-A ') of FIG.

본 실시 형태의 적층체(10)는 박판 유리 기판(12), 지지 유리 기판(13) 및 수지층(14)을 갖고, 양 유리 기판에 수지층(14)을 끼우도록 적층되어 있다.The laminated body 10 of this embodiment has the thin glass substrate 12, the support glass substrate 13, and the resin layer 14, and is laminated | stacked so that the resin layer 14 may be clamped on both glass substrates.

그리고, 도 1에 도시한 바와 같이 정면으로부터 보면, 본 실시 형태의 적층체(10)는 박판 유리 기판(12), 수지층(14) 및 지지 유리 기판(13)이 각각 직사각형이며, 박판 유리 기판(12)의 제1 주면(12a)의 외주의 적어도 일부가 지지 유리 기판(13)의 제1 주면(13a)의 외주보다 주면 방향의 외측으로 돌출되도록 위치하고 있다.And as shown in FIG. 1, as for the laminated body 10 of this embodiment, in the laminated body 10 of this embodiment, the thin glass substrate 12, the resin layer 14, and the support glass substrate 13 are each rectangular, and a thin glass substrate At least a part of the outer circumference of the first main surface 12a of (12) is positioned to protrude outward in the main surface direction than the outer circumference of the first main surface 13a of the support glass substrate 13.

수지층(14)은 지지 유리 기판(13)의 제1 주면(13a)에 고정되어 있고, 박판 유리 기판(12)의 제1 주면(12a)에 밀착하고 있다. 또한, 수지층(14)은 박판 유리 기판(12)의 제1 주면(12a)에 대하여 박리 용이성을 구비하고 있다. 여기서, 박판 유리 기판(12)이 갖는 2개의 주면 중 지지 유리 기판(13)의 측(수지층(14)의 측)의 주면이 제1 주면(12a)이며, 반대측의 주면이 제2 주면(12b)이다. 또한, 지지 유리 기판(13)이 갖는 2개의 주면 중 박판 유리 기판(12)의 측(수지층(14)이 존재하는 측)의 주면이 제1 주면(13a)이며, 반대측의 주면이 제2 주면(13b)이다.The resin layer 14 is fixed to the first main surface 13a of the supporting glass substrate 13, and is in close contact with the first main surface 12a of the thin glass substrate 12. In addition, the resin layer 14 is equipped with peelability with respect to the 1st main surface 12a of the thin glass substrate 12. Moreover, as shown in FIG. Here, of the two main surfaces which the thin glass substrate 12 has, the main surface of the side (side of the resin layer 14) of the support glass substrate 13 is the 1st main surface 12a, and the main surface on the opposite side is the 2nd main surface ( 12b). Moreover, of the two main surfaces which the support glass substrate 13 has, the main surface of the side of the thin glass substrate 12 (the side in which the resin layer 14 exists) is the 1st main surface 13a, and the main surface on the opposite side is 2nd It is the main surface 13b.

도 3은 박판 유리 기판(12)의 제1 주면(12a)의 외주의 일부가 지지 유리 기판(13)의 제1 주면(13a)의 외주의 일부보다 외측으로 돌출되어 있는, 본 실시 형태의 적층체(10)의 단부 부근의 확대 단면도이다. 이 경우, 박리용 칼날(15)의 선단은 박판 유리 기판(12)의 제1 주면(12a)을 손상시키지 않도록 댄 후, 박판 유리 기판(12)과 수지층(14)의 경계를 향하여 제1 주면(12a) 상을 미끄러지게 할 수 있다. 박리용 칼날(15)을 미끄러지게 함으로써, 수지층(14)을 파괴하지 않고 박판 유리 기판(12)과 수지층(14)의 경계에 박리용 칼날(15)의 선단이 삽입되어, 박판 유리 기판(12)을 지지 유리 기판(13)으로부터 박리하는 것이 가능해진다.3 is a lamination of the present embodiment in which a part of the outer circumference of the first main surface 12a of the thin glass substrate 12 protrudes outward than a part of the outer circumference of the first main surface 13a of the supporting glass substrate 13. It is an expanded sectional view of the edge vicinity of the sieve 10. FIG. In this case, the front end of the peeling blade 15 is placed so as not to damage the first main surface 12a of the thin glass substrate 12, and then the first edge is directed toward the boundary between the thin glass substrate 12 and the resin layer 14. The main surface 12a can be slid. By sliding the peeling blade 15, the tip of the peeling blade 15 is inserted at the boundary between the thin glass substrate 12 and the resin layer 14 without destroying the resin layer 14, and the thin glass substrate It becomes possible to peel off 12 from the support glass substrate 13.

다음에, 본 실시 형태의 적층체가 갖는 박판 유리 기판, 지지 유리 기판 및 수지층의 각각에 대하여 설명한다.Next, each of the thin glass substrate, support glass substrate, and resin layer which the laminated body of this embodiment has is demonstrated.

본 발명에 있어서의 박판 유리 기판에 대하여 설명한다.The thin glass substrate in the present invention will be described.

박판 유리 기판의 두께, 형상, 크기, 물성(열수축률, 표면 형상, 내약품성 등), 조성 등은 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 종래의 LCD, OLED 등의 표시 장치용 유리 기판과 마찬가지이면 된다.The thickness, shape, size, physical properties (heat shrinkage rate, surface shape, chemical resistance, etc.), composition, and the like of the thin glass substrate are not particularly limited, and may be the same as, for example, glass substrates for display devices such as conventional LCDs and OLEDs. .

박판 유리 기판의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 0.7㎜ 미만인 것이 바람직하고, 0.5㎜ 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.4㎜ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 0.05㎜ 이상인 것이 바람직하고, 0.07㎜ 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.1㎜ 이상인 것이 더욱 바람직하다.Although the thickness of a thin glass substrate is not specifically limited, It is preferable that it is less than 0.7 mm, It is more preferable that it is 0.5 mm or less, It is further more preferable that it is 0.4 mm or less. Moreover, it is preferable that it is 0.05 mm or more, It is more preferable that it is 0.07 mm or more, It is still more preferable that it is 0.1 mm or more.

박판 유리 기판의 형상은 제한되지 않지만, 직사각형인 것이 바람직하다. 여기서 직사각형이라 함은, 실질적으로 대략 직사각형이며, 주변부의 코너를 잘라낸(코너 컷트한) 형상도 포함한다.Although the shape of a thin glass substrate is not restrict | limited, It is preferable that it is rectangular. A rectangle here is substantially a rectangle and also includes the shape which cut off the corner of the periphery (corner cut).

박판 유리 기판의 크기는 제한되지 않지만, 예를 들어 직사각형의 경우에는 100 내지 2000㎜×100 내지 2000㎜여도 되고, 500 내지 1000㎜×500 내지 1000㎜인 것이 바람직하다.Although the size of a thin glass substrate is not restrict | limited, For example, in the case of a rectangle, 100-2000 mm x 100-2000 mm may be sufficient, and it is preferable that it is 500-1000 mm x 500-1000 mm.

이와 같은 바람직한 두께 및 바람직한 크기여도, 본 실시 형태의 적층체는 박판 유리 기판과 지지 유리 기판을 용이하게 박리할 수 있다.Even if it is such a preferable thickness and preferable size, the laminated body of this embodiment can peel easily a thin glass substrate and a support glass substrate.

박판 유리 기판의 열수축률, 표면 형상, 내약품성 등의 특성도 특별히 제한되지 않고, 제조하는 표시 장치의 종류에 따라 다르다.The properties such as thermal shrinkage, surface shape, chemical resistance and the like of the thin glass substrate are not particularly limited, and vary depending on the type of display device to be manufactured.

단, 박판 유리 기판의 열수축률은 작은 것이 바람직하다. 구체적으로는 열수축률의 지표인 선 팽창 계수가 150×10-7/℃ 이하인 것을 사용하는 것이 바람직하고, 100×10-7/℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 45×10-7/℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 그 이유는 열수축률이 크면 고정밀한 표시 장치를 만들기 어려워지기 때문이다. 또한, 박판 유리 기판의 선 팽창 계수는 0/℃ 이상인 것이 바람직하다.However, it is preferable that the thermal contraction rate of a thin glass substrate is small. Specifically preferred that the surface of linear expansion coefficient of the heat shrinkage rate using not more than 150 × 10 -7 / ℃ is, 100 × 10 -7 / ℃ and preferably, 45 × 10 -7 / ℃ or less is more than or less desirable. The reason for this is that a high thermal shrinkage rate makes it difficult to produce a high-precision display device. Moreover, it is preferable that the linear expansion coefficient of a thin glass substrate is 0 / degreeC or more.

또한, 본 발명에 있어서 선 팽창 계수는 JIS R3102(1995년)에 규정된 것을 의미한다.In addition, in this invention, a linear expansion coefficient means what was prescribed | regulated to JIS R3102 (1995).

박판 유리 기판의 조성은, 예를 들어 종래 알려져 있는 알칼리 금속 산화물을 함유하는 유리, 무알칼리 유리와 마찬가지여도 된다. 그 중에서도, 열수축률이 작으므로 무알칼리 유리인 것이 바람직하다.The composition of the thin glass substrate may be the same as, for example, a glass containing an alkali metal oxide known in the art or an alkali free glass. Especially, since thermal contraction rate is small, it is preferable that it is an alkali free glass.

다음에, 본 발명에 있어서의 지지 유리 기판에 대하여 설명한다.Next, the support glass substrate in this invention is demonstrated.

지지 유리 기판은 수지층을 개재하여 박판 유리 기판을 지지하여, 박판 유리 기판의 강도를 보강한다.The supporting glass substrate supports the thin glass substrate through the resin layer to reinforce the strength of the thin glass substrate.

지지 유리 기판의 두께, 형상, 물성(열수축률, 표면 형상, 내약품성 등), 조성 등은 특별히 제한되지 않는다.The thickness, shape, physical properties (heat shrinkage rate, surface shape, chemical resistance, etc.), composition, and the like of the supporting glass substrate are not particularly limited.

지지 유리 기판의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 본 실시 형태의 적층체를 현행의 표시 장치용 부재의 제조 공정에서 처리할 수 있는 두께인 것이 필요하다.Although the thickness in particular of a support glass substrate is not restrict | limited, It is necessary that it is thickness which can process the laminated body of this embodiment in the manufacturing process of the member for display devices of the present.

예를 들어 0.1 내지 1.1㎜의 두께인 것이 바람직하고, 0.3 내지 0.8㎜인 것이 보다 바람직하고, 0.4 내지 0.7㎜인 것이 더욱 바람직하다.For example, it is preferable that it is 0.1-1.1 mm in thickness, It is more preferable that it is 0.3-0.8 mm, It is still more preferable that it is 0.4-0.7 mm.

예를 들어, 현행의 제조 공정이 두께 0.5㎜의 기판을 처리하도록 설계된 것이며, 박판 유리 기판의 두께가 0.1㎜인 경우, 지지 유리 기판의 두께와 수지층의 두께의 합을 0.4㎜로 한다. 또한, 현행의 제조 라인은 두께가 0.7㎜인 유리 기판을 처리하도록 설계되어 있는 것이 가장 일반적이지만, 예를 들어 박판 유리 기판의 두께가 0.4㎜이면, 지지 유리 기판의 두께와 수지층의 두께의 합을 0.3㎜로 한다.For example, the current manufacturing process is designed to process a substrate having a thickness of 0.5 mm, and when the thickness of the thin glass substrate is 0.1 mm, the sum of the thickness of the supporting glass substrate and the thickness of the resin layer is 0.4 mm. In addition, the current manufacturing line is most commonly designed to process a glass substrate having a thickness of 0.7 mm, but, for example, if the thickness of the thin glass substrate is 0.4 mm, the sum of the thickness of the supporting glass substrate and the thickness of the resin layer. Is 0.3 mm.

지지 유리 기판의 두께는 상기 박판 유리 기판보다 두꺼운 것이 바람직하다.It is preferable that the thickness of a support glass substrate is thicker than the said thin glass substrate.

지지 유리 기판의 형상은 제한되지 않지만, 직사각형인 것이 바람직하다. 단, 여기서 직사각형이라 함은, 실질적으로 대략 직사각형이며, 주변부의 코너를 잘라낸(코너 컷트한) 형상도 포함한다.Although the shape of a support glass substrate is not restrict | limited, It is preferable that it is rectangular. However, the rectangle here is substantially substantially rectangular, and also includes the shape which cut out the corner of the peripheral part (corner cut).

본 발명에 있어서의 지지 유리 기판의 크기는 제한되지 않지만, 박판 유리 기판보다 작은 것이 바람직하다. 즉, 지지 유리 기판의 제1 주면의 세로 및/또는 가로의 각각의 길이는 박판 유리 기판의 제1 주면의 세로 및/또는 가로의 각각의 길이보다 짧은 것이 바람직하다. 여기서 세로라 함은, 도 1에 있어서, 박판 유리 기판의 짧은 변 방향이며 화살표 Xa의 방향이며, 가로라 함은, 도 1에 있어서, 박판 유리 기판의 긴 변 방향이며 화살표 Xb의 방향인 것을 의미한다. 박판 유리 기판과 지지 유리 기판의 세로의 길이 및/또는 가로의 길이의 차의 범위로서는, 0.2㎜ 이상 20㎜ 이하인 것이 바람직하다. 이 길이의 차가 0.2㎜ 이상 20㎜ 이하이면, 박판 유리 기판을 지지 유리 기판으로부터 박리하는 공정에 있어서, 박리용 칼날에 의한 수지층의 파괴를 방지할 수 있으므로 바람직하다. 또한, 박판 유리 기판의 돌출 부분이 휘기 어렵고, 꺾이기 어려워지므로 바람직하다. 이 길이의 차가 2㎜ 이상 15㎜ 이하인 것이 더욱 바람직하다.Although the size of the support glass substrate in this invention is not restrict | limited, It is preferable that it is smaller than a thin glass substrate. That is, it is preferable that the length of each of the length and / or the horizontal of the first main surface of the supporting glass substrate is shorter than the length of each of the length and / or the width of the first main surface of the thin glass substrate. Here, vertical means the short side direction of the thin glass substrate in FIG. 1, and is the direction of arrow Xa, and horizontal means the long side direction of the thin glass substrate in FIG. 1, and is the direction of arrow Xb. do. It is preferable that they are 0.2 mm or more and 20 mm or less as a range of the difference of the longitudinal length and / or the horizontal length of a thin glass substrate and a support glass substrate. When the difference of this length is 0.2 mm or more and 20 mm or less, in the process of peeling a thin glass substrate from a support glass substrate, since breakage of the resin layer by a peeling blade can be prevented, it is preferable. Moreover, since the protrusion part of a thin glass substrate becomes hard to bend and becomes difficult to bend, it is preferable. It is more preferable that the difference of this length is 2 mm or more and 15 mm or less.

또한, 박판 유리 기판의 제1 주면의 외주의 일부가 지지 유리 기판의 제1 주면의 외주보다 외측으로 돌출되어 있는 개소 수는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어 도 4의 (a) 내지 (c)는 본 발명의 적층체의 다른 실시 형태의 개략 정면도이다. 이들 도면에서는 이해를 용이하게 하기 위하여, 박판 유리 기판의 제1 주면과 지지 유리 기판의 제1 주면만을 기재하고 있다.In addition, the number of locations in which a part of the outer periphery of the 1st main surface of a thin glass substrate protrudes outward rather than the outer periphery of the 1st main surface of a support glass substrate is not restrict | limited. For example, FIG.4 (a)-(c) is a schematic front view of other embodiment of the laminated body of this invention. In these figures, in order to make understanding easy, only the 1st main surface of a thin glass substrate and the 1st main surface of a support glass substrate are described.

도 4의 (a)에 있어서의 실시 형태에서는, 박판 유리 기판의 제1 주면(42a)의 4변 중 2변이 지지 유리 기판의 제1 주면(43a)의 외주보다 외측으로 돌출되어 있다. 도 4의 (b)에 있어서의 실시 형태에서는, 박판 유리 기판의 제1 주면(42a)의 4변 중 3변이 지지 유리 기판의 제1 주면(43a)의 외주보다 외측으로 돌출되어 있다. 도 4의 (c)에 있어서의 실시 형태에서는, 박판 유리 기판의 제1 주면(42a)의 4변 모두가 지지 유리 기판의 제1 주면(43a)의 외주보다 외측으로 돌출되어 있다. 이들 도 4의 (a) 내지 (c)의 실시 형태 중에서, 도 4의 (c)의 실시 형태가 바람직하다. 그 이유는 이하와 같다. 박판 유리 기판을 지지 유리 기판으로부터 박리하는 공정에 있어서, 박리용 칼날의 삽입 방향과 적층체의 박판 유리 기판 돌출 방향이 대향하도록, 적층체의 박판 유리 돌출 방향을 확인하여 상기 공정에 투입하는 작업이 필요해진다. 도 4의 (c)의 실시 형태와 같이, 박판 유리 기판의 제1 주면의 외주 모두가 지지 유리 기판의 제1 주면의 외주보다 외측으로 돌출되어 있으면, 적층체의 박판 유리 돌출 방향을 확인하는 작업이 불필요해지므로 바람직하다.In embodiment in FIG.4 (a), two sides of four sides of the 1st main surface 42a of a thin glass substrate protrude outward from the outer periphery of the 1st main surface 43a of a support glass substrate. In embodiment in FIG.4 (b), three of four sides of the 1st main surface 42a of a thin glass substrate protrude outward from the outer periphery of the 1st main surface 43a of a support glass substrate. In embodiment in FIG.4 (c), all four sides of the 1st main surface 42a of a thin glass substrate protrude outward from the outer periphery of the 1st main surface 43a of a support glass substrate. Among these embodiments of FIGS. 4A to 4C, the embodiments of FIG. 4C are preferred. The reason is as follows. In the step of peeling the thin glass substrate from the supporting glass substrate, the operation of checking the thin glass projection direction of the laminate and inserting it into the step so that the insertion direction of the peeling blade and the laminated glass substrate projection direction of the laminate face each other. It becomes necessary. As in the embodiment of FIG. 4C, when all of the outer periphery of the first main surface of the thin glass substrate protrudes outward from the outer periphery of the first main surface of the supporting glass substrate, the work of confirming the thin glass protruding direction of the laminate This is preferable because it becomes unnecessary.

지지 유리 기판의 선 팽창 계수는 박판 유리 기판의 선 팽창 계수와 실질적으로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 실질적으로 동일하면, 본 실시 형태의 적층체를 열 처리하였을 때에, 박판 유리 기판 또는 지지 유리 기판에 휨이 발생하기 어려운 점에서 바람직하다.The linear expansion coefficient of the support glass substrate may be substantially the same as or different from the linear expansion coefficient of the thin glass substrate. If it is substantially the same, when heat-processing the laminated body of this embodiment, it is preferable at the point which a curvature hardly arises in a thin glass substrate or a support glass substrate.

박판 유리 기판과 지지 유리 기판의 선 팽창 계수의 차는 150×10-7/℃ 이하인 것이 바람직하고, 100×10-7/℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 50×10-7/℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다.The difference between the coefficient of linear expansion of the thin plate glass substrate and the supporting glass substrate is not more than 150 × 10 -7 / ℃ is preferred, more preferably not more than 100 × 10 -7 / ℃ is preferred, and less than 50 × 10 -7 / ℃ .

지지 유리 기판의 조성은, 예를 들어 알칼리 금속 산화물을 함유하는 유리, 무알칼리 유리와 마찬가지여도 된다. 그 중에서도, 열수축률이 작으므로 무알칼리 유리인 것이 바람직하다.The composition of the supporting glass substrate may be the same as, for example, a glass containing an alkali metal oxide or an alkali free glass. Especially, since thermal contraction rate is small, it is preferable that it is an alkali free glass.

다음에, 본 발명에 있어서의 수지층에 대하여 설명한다.Next, the resin layer in this invention is demonstrated.

본 실시 형태의 적층체에 있어서 수지층은 상기 지지 유리 기판의 제1 주면에 고정되어 있다. 그리고, 수지층은 상기 박판 유리 기판의 제1 주면과 밀착하고 있지만, 용이하게 박리할 수 있다. 즉, 수지층은 상기 박판 유리 기판에 대하여 박리 용이성을 갖는다.In the laminated body of this embodiment, the resin layer is being fixed to the 1st main surface of the said support glass substrate. And although the resin layer is in close contact with the 1st main surface of the said thin glass substrate, it can peel easily. That is, a resin layer has easy peelability with respect to the said thin glass substrate.

본 실시 형태의 적층체에 있어서, 수지층과 박판 유리 기판은 점착제가 갖는 점착력에 의해서는 부착되어 있지 않고, 고체 분자간에 있어서의 반데르발스력에 기인하는 힘, 즉, 밀착력에 의해 부착되어 있다.In the laminate of the present embodiment, the resin layer and the thin glass substrate are not attached by the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive, but are attached by a force caused by van der Waals forces between solid molecules, that is, adhesion. .

수지층의 두께는 특별히 제한되지 않는다. 5 내지 50㎛인 것이 바람직하고, 5 내지 30㎛인 것이 보다 바람직하고, 7 내지 20㎛인 것이 더욱 바람직하다. 수지층의 두께가 이와 같은 범위이면, 박판 유리 기판과 수지층의 밀착이 충분해지기 때문이다. 또한, 기포나 이물질이 개재해도, 박판 유리 기판의 왜곡 결함의 발생을 억제할 수 있기 때문이다. 또한, 수지층의 두께가 지나치게 두꺼우면, 형성하는 데 시간 및 재료를 필요로 하므로 경제적이지 않다.The thickness of the resin layer is not particularly limited. It is preferable that it is 5-50 micrometers, It is more preferable that it is 5-30 micrometers, It is further more preferable that it is 7-20 micrometers. It is because the adhesiveness of a thin glass substrate and a resin layer becomes enough that the thickness of a resin layer is such a range. Moreover, even if foam | bubble and a foreign material exist, it is because generation | occurrence | production of the distortion defect of a thin glass substrate can be suppressed. In addition, if the thickness of the resin layer is too thick, it is not economical because it takes time and materials to form.

또한, 수지층은 2층 이상으로 이루어져 있어도 된다. 이 경우 「수지층의 두께」는 모든 수지층의 합계의 두께를 의미하는 것으로 한다.In addition, the resin layer may consist of two or more layers. In this case, "thickness of the resin layer" shall mean the thickness of the sum total of all the resin layers.

또한, 수지층이 2층 이상으로 이루어지는 경우에는, 각각의 층을 형성하는 수지의 종류가 달라도 된다.In addition, when a resin layer consists of two or more layers, the kind of resin which forms each layer may differ.

수지층은 표면 장력이 30mN/m 이하인 것이 바람직하고, 25mN/m 이하인 것이 보다 바람직하고, 22mN/m 이하인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같은 표면 장력이면, 보다 용이하게 박판 유리 기판과 박리할 수 있고, 동시에 박판 유리 기판과의 밀착도 충분해지기 때문이다. 또한, 수지층은 표면 장력이 15mN/m 이상인 것이 바람직하다.It is preferable that a surface tension is 30 mN / m or less, It is more preferable that it is 25 mN / m or less, It is still more preferable that it is 22 mN / m or less. If it is such a surface tension, it can peel more easily with a thin glass substrate, and also the adhesiveness with a thin glass substrate becomes sufficient at the same time. Moreover, it is preferable that surface tension of a resin layer is 15 mN / m or more.

또한, 수지층의 유리 전이점은 실온(25℃ 정도)보다 낮거나, 또는 유리 전이점을 갖지 않는 재료로 이루어지는 것이 바람직하다. 비점착성의 수지층이 되고, 보다 박리 용이성을 갖고, 보다 용이하게 박판 유리 기판과 박리할 수 있고, 동시에 박판 유리 기판과의 밀착도 충분해지기 때문이다.Moreover, it is preferable that the glass transition point of a resin layer consists of a material lower than room temperature (about 25 degreeC), or does not have a glass transition point. It is because it becomes a non-adhesive resin layer, has peelability more easily, can peel with a thin glass substrate more easily, and at the same time, adhesiveness with a thin glass substrate becomes sufficient.

또한, 수지층은 내열성을 갖고 있는 것이 바람직하다. 예를 들어 상기 박판 유리 기판의 제2 주면 상에 표시 장치용 부재를 형성하는 경우에, 본 실시 형태의 적층체를 열처리에 제공할 수 있기 때문이다.Moreover, it is preferable that a resin layer has heat resistance. For example, when forming the member for display apparatuses on the 2nd main surface of the said thin glass substrate, it is because the laminated body of this embodiment can be provided for heat processing.

또한, 수지층의 탄성률이 지나치게 높으면 박판 유리 기판과의 밀착성이 낮아지는 경향이 있다. 또한, 탄성률이 지나치게 낮으면 박리 용이성이 낮아진다.Moreover, when the elasticity modulus of a resin layer is too high, there exists a tendency for adhesiveness with a thin glass substrate to become low. Moreover, when elastic modulus is too low, peelability will become low.

수지층을 형성하는 수지의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어 아크릴 수지, 폴리올레핀 수지, 폴리우레탄 수지 및 실리콘 수지를 들 수 있다. 몇 가지의 종류의 수지를 혼합하여 사용할 수도 있다. 그 중에서도 실리콘 수지가 바람직하다. 실리콘 수지는 내열성이 우수하고, 또한 박판 유리 기판에 대한 박리 용이성이 우수하기 때문이다. 또한, 지지 유리 기판 표면의 실라놀기와의 축합 반응에 의해, 지지 유리 기판에 고정하기 쉽기 때문이다. 실리콘 수지층은 예를 들어 300 내지 400℃ 정도에서 1시간 정도 처리해도, 박리 용이성이 거의 열화되지 않는 점도 바람직하다.The kind of resin which forms a resin layer is not specifically limited. For example, an acrylic resin, a polyolefin resin, a polyurethane resin, and a silicone resin is mentioned. Several kinds of resins may be mixed and used. Especially, silicone resin is preferable. It is because silicone resin is excellent in heat resistance and also excellent in peelability with respect to a thin glass substrate. Moreover, it is because it is easy to fix to a support glass substrate by condensation reaction with the silanol group of the surface of a support glass substrate. It is also preferable that a silicone resin layer hardly deteriorates peelability even if it processes about 1 hour at 300-400 degreeC, for example.

또한, 수지층은 실리콘 수지 중에서도 박리지용 실리콘으로 이루어지는 것이 바람직하고, 그의 경화물인 것이 바람직하다. 박리지용 실리콘은 직쇄상의 디메틸폴리실록산을 분자 내에 포함하는 실리콘을 주제로 하는 것이다. 이 주제와 가교제를 포함하는 조성물을, 촉매, 광중합 개시제 등을 사용하여 상기 지지 유리 기판의 표면(제1 주면)에 경화시켜 형성한 수지층은, 우수한 박리 용이성을 가지므로 바람직하다. 또한, 유연성이 높으므로, 박판 유리 기판과 수지층의 사이에 기포나 먼지 등의 이물질이 혼입되어도, 박판 유리 기판의 왜곡 결함의 발생을 억제할 수 있다.Moreover, it is preferable that a resin layer consists of silicone for release papers among silicone resins, and it is preferable that it is hardened | cured material. Silicone for release papers is based on silicone containing linear dimethylpolysiloxane in a molecule | numerator. Since the resin layer formed by hardening | curing the composition containing this subject matter and a crosslinking agent on the surface (first main surface) of the said support glass substrate using a catalyst, a photoinitiator, etc. has excellent peelability, it is preferable. Moreover, since flexibility is high, generation | occurrence | production of the distortion defect of a thin glass substrate can be suppressed even if foreign matters, such as a bubble and dust, mix between a thin glass substrate and a resin layer.

이와 같은 박리지용 실리콘은 그의 경화 기구에 의해 축합 반응형 실리콘, 부가 반응형 실리콘, 자외선 경화형 실리콘 및 전자선 경화형 실리콘으로 분류되지만, 모두 사용할 수 있다. 이들 중에서도 부가 반응형 실리콘이 바람직하다. 경화 반응의 용이함, 수지층을 형성하였을 때에 박리 용이성의 정도가 양호하고, 내열성도 높기 때문이다.Such release paper silicone is classified into condensation reaction type silicone, addition reaction type silicone, ultraviolet curing type silicone, and electron beam curing type silicone by its curing mechanism, but all can be used. Among these, addition reaction type silicone is preferable. This is because the degree of ease of peeling is good and the heat resistance is high when the curing reaction is easy and the resin layer is formed.

또한, 박리지용 실리콘은 형태적으로 용제형, 에멀전형 및 무용제형이 있고, 어느 형도 사용 가능하다. 이들 중에서도 무용제형이 바람직하다. 생산성, 안전성, 환경 특성의 면이 우수하기 때문이다. 또한, 수지층을 형성할 때의 경화시, 즉, 가열 경화, 자외선 경화 또는 전자선 경화시에 발포를 발생시키는 용제를 포함하지 않으므로, 수지층 중에 기포가 잔류하기 어렵기 때문이다.In addition, the release paper silicone has a solvent type, an emulsion type, and a non-solvent type in form, and any type can be used. Among these, a solventless type is preferable. This is because it is excellent in terms of productivity, safety and environmental characteristics. In addition, since it does not contain the solvent which generate | occur | produces foaming at the time of hardening at the time of forming a resin layer, ie, heating hardening, ultraviolet curing, or electron beam hardening, it is because a bubble is hard to remain in a resin layer.

또한, 박리지용 실리콘으로서, 구체적으로는 시판되고 있는 상품명 또는 제품 번호로서 KNS-320A, KS-847(모두 신에쯔 실리콘사제), TPR6700(GE 도시바 실리콘사제), 비닐실리콘 「8500」(아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제)과 메틸히드로겐폴리실록산 「12031」(아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제)의 조합, 비닐실리콘 「11364」(아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제)와 메틸히드로겐폴리실록산 「12031」(아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제)의 조합, 비닐실리콘 「11365」(아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제)와 메틸히드로겐폴리실록산 「12031」(아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제)의 조합 등을 들 수 있다.Moreover, as silicone for release papers, KNS-320A, KS-847 (all are Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.), TPR6700 (made by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.), vinyl silicone "8500" specifically as a brand name or a product number which are commercially available Combination of Wagaku Kogyo Co., Ltd.) and methyl hydrogen polysiloxane `` 12031 '' (Arakawa Kagaku Kogyo Co., Ltd.), vinyl silicone `` 11364 '' (Arakawa Kagaku Kogaku Co., Ltd.) A combination of methyl hydrogen polysiloxane "12031" (made by Arakawa Chemical Co., Ltd.), vinyl silicone "11365" (made by Arakawa Chemical Co., Ltd.) and methylhydrogen polysiloxane "12031" (Araca And Kagaku Kogyo Co., Ltd.).

또한, KNS-320A, KS-847 및 TPR6700은 미리 주제와 가교제를 함유하고 있는 실리콘이다.In addition, KNS-320A, KS-847, and TPR6700 are silicones containing a main material and a crosslinking agent previously.

또한, 수지층을 형성하는 실리콘 수지는, 실리콘 수지층 중의 성분이 박판 유리 기판으로 이행하기 어려운 성질, 즉 낮은 실리콘 이행성을 갖는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the silicone resin which forms a resin layer has the property which a component in a silicone resin layer is hard to transfer to a thin glass substrate, ie, low silicone transferability.

이와 같은 본 실시 형태의 적층체에 있어서의 상기 박판 유리 기판의 제2 주면에, 표시 장치용 부재를 형성함으로써 지지체를 갖는 표시 장치용 패널을 얻을 수 있다.By forming a member for a display device on the second main surface of the thin glass substrate in such a laminate of the present embodiment, a display device panel having a support can be obtained.

표시 장치용 부재라 함은, 종래의 LCD, OLED 등의 표시 장치용 유리 기판이 그의 표면에 갖는 발광층, 보호층, 컬러 필터, 액정, 산화인듐주석(ITO)을 포함하는 투명 전극 등, 각종 회로 패턴 등을 의미한다.The display device member includes various circuits such as a light emitting layer, a protective layer, a color filter, a liquid crystal, and a transparent electrode containing indium tin oxide (ITO) that a conventional glass substrate for a display device such as LCD and OLED has on its surface. Pattern or the like.

또한, 이와 같은 표시 장치용 패널로부터 표시 장치를 얻을 수 있다. 표시 장치로서는 LCD, OLED를 들 수 있다. LCD로서는 TN형, STN형, FE형, TFT형, MIM형을 들 수 있다.In addition, a display device can be obtained from such a display device panel. As a display apparatus, LCD and OLED are mentioned. Examples of the LCD include TN type, STN type, FE type, TFT type, and MIM type.

다음에, 본 실시 형태의 적층체의 제조 방법의 일례를 설명한다.Next, an example of the manufacturing method of the laminated body of this embodiment is demonstrated.

본 실시 형태의 적층체의 제조 방법은 특별히 제한되지 않지만, 상기 지지 유리 기판의 제1 주면 상에 박리 용이성을 갖는 수지층을 형성하여 고정하는 수지층 형성 공정과, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면에, 상기 지지 유리 기판의 제1 주면 상에 고정된 상기 수지층을 밀착하는 밀착 공정을 포함하는 유리 적층체의 제조 방법인 것이 바람직하다. 이와 같은 제조 방법을, 이하에서는 「본 실시 형태의 제조 방법」이라고도 한다.Although the manufacturing method of the laminated body of this embodiment is not specifically limited, The resin layer formation process of forming and fixing the resin layer which has easy peelability on the 1st main surface of the said support glass substrate, and the 1st main surface of the said thin glass substrate It is preferable that it is a manufacturing method of the glass laminated body containing the adhesion process which adhere | attaches the said resin layer fixed on the 1st main surface of the said support glass substrate. Such a manufacturing method is also called "the manufacturing method of this embodiment" below.

본 실시 형태의 제조 방법에서 사용하는 상기 박판 유리 기판 및 상기 지지 유리 기판 자체의 제조 방법은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어 종래 공지의 방법으로 제조할 수 있다. 예를 들어 종래 공지의 유리 원료를 용해하여 용융 유리로 한 후, 플로트법, 퓨전법, 다운 드로우법, 슬롯 다운법, 리드로우법 등에 의해 판 형상으로 성형하여 얻을 수 있다.The manufacturing method of the said thin glass substrate and the said support glass substrate itself used by the manufacturing method of this embodiment is not specifically limited. For example, it can manufacture by a conventionally well-known method. For example, after melt | dissolving a conventionally well-known glass raw material into molten glass, it can shape | mold and obtain it in plate shape by the float method, the fusion method, the down draw method, the slot down method, the reed method.

본 실시 형태의 제조 방법에 있어서의 수지층 형성 공정에 대하여 설명한다.The resin layer formation process in the manufacturing method of this embodiment is demonstrated.

상기 지지 유리 기판의 표면(제1 주면)에 수지층을 형성하는 방법도 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 필름 형상의 수지를 지지 유리 기판의 표면에 접착하는 방법을 들 수 있다. 구체적으로는, 필름의 표면과 높은 접착력을 부여하기 위하여, 지지 유리 기판의 표면에 표면 개질 처리(프라이밍 처리)를 행하고, 지지 유리 기판의 제1 주면에 접착하는 방법을 들 수 있다. 예를 들어, 실란 커플링제와 같은 화학적으로 밀착력을 향상시키는 화학적 방법(프라이머 처리)이나, 프레임(화염) 처리와 같이 표면 활성기를 증가시키는 물리적 방법, 샌드블라스트 처리와 같이 표면의 조도를 증가시킴으로써 걸림을 증가시키는 기계적 처리 방법 등이 예시된다.The method of forming a resin layer in the surface (first main surface) of the said support glass substrate is not specifically limited, either. For example, the method of sticking film-shaped resin to the surface of a support glass substrate is mentioned. Specifically, in order to provide high adhesive force with the surface of a film, the surface modification process (priming process) is performed to the surface of a support glass substrate, and the method of sticking to the 1st main surface of a support glass substrate is mentioned. For example, a chemical method such as a silane coupling agent (primer treatment), a physical method of increasing surface active groups such as a flame (flame) treatment, or a surface blast by increasing the surface roughness such as sandblast treatment Mechanical treatment methods for increasing the temperature and the like are exemplified.

또한, 예를 들어, 공지의 방법에 의해 수지층이 되는 수지 조성물을, 지지 유리 기판의 제1 주면 상에 코팅하는 방법을 들 수 있다. 공지의 방법으로서는 스프레이 코팅법, 다이 코팅법, 스핀 코팅법, 딥 코팅법, 롤 코팅법, 바 코팅법, 스크린 인쇄법, 그라비아 코팅법을 들 수 있다. 이와 같은 방법 중에서, 수지 조성물에 종류에 따라서 적절히 선택할 수 있다.For example, the method of coating the resin composition used as a resin layer on a 1st main surface of a support glass substrate by a well-known method is mentioned. Known methods include spray coating, die coating, spin coating, dip coating, roll coating, bar coating, screen printing, and gravure coating. In such a method, it can select suitably according to a kind to a resin composition.

또한, 수지 조성물을 지지 유리 기판의 제1 주면 상에 코팅하는 경우, 그의 도포 시공량은 1 내지 100g/㎡인 것이 바람직하고, 5 내지 20g/㎡인 것이 보다 바람직하다.Moreover, when coating a resin composition on the 1st main surface of a support glass substrate, it is preferable that it is 1-100 g / m <2>, and, as for the coating amount, it is more preferable that it is 5-20 g / m <2>.

예를 들어 부가 반응형 실리콘으로 수지층을 형성하는 경우, 직쇄상의 디메틸폴리실록산을 분자 내에 포함하는 실리콘(주제), 가교제 및 촉매를 포함하는 수지 조성물을, 상기한 스프레이 코팅법 등의 공지의 방법에 의해 지지 유리 기판 상에 도포 시공하고, 그 후에 가열 경화시킨다. 가열 경화 조건은 촉매의 배합량에 따라서도 상이하지만, 예를 들어, 주제 및 가교제의 합계량 100질량부에 대하여, 백금계 촉매를 2질량부 배합한 경우, 대기 중에서 50℃ 내지 250℃, 바람직하게는 100℃ 내지 200℃에서 반응시킨다. 또한, 이 경우의 반응 시간은 5 내지 60분간, 바람직하게는 10 내지 30분간으로 한다. 낮은 실리콘 이행성을 갖는 실리콘 수지층으로 하기 위해서는, 실리콘 수지층 중에 미반응의 실리콘 성분이 남지 않도록, 경화 반응을 가능한 한 진행시키는 것이 바람직하다. 상기한 바와 같은 반응 온도 및 반응 시간이면, 실리콘 수지층 중에 미반응의 실리콘 성분이 남지 않도록 할 수 있으므로 바람직하다. 상기한 반응 시간보다 지나치게 길거나, 반응 온도가 지나치게 높은 경우에는, 실리콘 수지의 산화 분해가 동시에 일어나, 저분자량의 실리콘 성분이 생성되어 실리콘 이행성이 높아질 가능성이 있다. 실리콘 수지층 중에 미반응의 실리콘 성분이 남지 않도록 경화 반응을 가능한 한 진행시키는 것은, 가열 처리 후의 박리성을 양호하게 하기 위해서도 바람직하다.For example, when forming a resin layer from addition reaction type | mold silicone, well-known methods, such as the above-mentioned spray coating method, for the resin composition containing the silicone (topic), crosslinking agent, and catalyst which contain linear dimethylpolysiloxane in a molecule | numerator It apply | coats on a support glass substrate by heat, and it heat-cures after that. Although the heat-hardening conditions differ also with the compounding quantity of a catalyst, For example, when 2 mass parts of platinum-type catalysts are mix | blended with respect to 100 mass parts of total amounts of a main body and a crosslinking agent, it is 50 degreeC-250 degreeC in air | atmosphere, Preferably The reaction is carried out at 100 ° C to 200 ° C. In addition, the reaction time in this case is 5 to 60 minutes, Preferably it is 10 to 30 minutes. In order to set it as the silicone resin layer which has low silicone transferability, it is preferable to advance hardening reaction as much as possible so that an unreacted silicone component may not remain in a silicone resin layer. The reaction temperature and reaction time as described above are preferable because unreacted silicone components can be left in the silicone resin layer. If the reaction time is too long or the reaction temperature is too high, oxidative decomposition of the silicone resin may occur at the same time, and a low molecular weight silicone component may be generated to increase silicon transferability. It is preferable to advance hardening reaction as much as possible so that unreacted silicone component may not remain in a silicone resin layer, in order to make the peelability after heat processing favorable.

또한, 예를 들어 수지층을, 박리지용 실리콘을 사용하여 제조한 경우, 지지 유리 기판 상에 도포 시공한 박리지용 실리콘을 가열 경화하여 실리콘 수지층을 형성한 후, 밀착 공정에서 지지 유리 기판의 실리콘 수지 형성면에 박판 유리 기판을 적층시킨다. 박리지용 실리콘을 가열 경화시킴으로써, 실리콘 수지 경화물이 지지 유리 기판과 화학적으로 결합한다. 또한, 앵커 효과에 의해 실리콘 수지층이 지지 유리 기판과 결합한다. 이들 작용에 의해, 실리콘 수지층이 지지 유리 기판에 견고하게 고정된다.In addition, for example, when a resin layer is manufactured using silicone for release paper, after heat-hardening the silicone for release paper apply | coated on the support glass substrate, and after forming a silicone resin layer, the silicone of a support glass substrate in an adhesion process is carried out. A thin glass substrate is laminated on the resin formation surface. By heat-hardening silicone for release paper, a silicone resin hardened | cured material bonds chemically with a support glass substrate. Moreover, a silicone resin layer couple | bonds with a support glass substrate by an anchor effect. By these actions, the silicone resin layer is firmly fixed to the supporting glass substrate.

밀착 공정에 대하여 설명한다.The adhesion process will be described.

밀착 공정은 상기 박판 유리 기판의 제1 주면에, 상기 지지 유리 기판의 제1 주면 상에 고정된 상기 수지층을 밀착하는 공정이다. 박판 유리 기판과 수지층은 매우 근접한, 상대하는 고체 분자간에 있어서의 반데르발스력에 기인하는 힘, 즉, 밀착력에 의해 수지층과 밀착한다. 이 경우, 지지 유리 기판과 박판 유리 기판과 수지층을 개재하여 적층시킨 상태로 유지할 수 있다.A contact process is a process of contact | adhering the said resin layer fixed on the 1st main surface of the said support glass substrate to the 1st main surface of the said thin glass substrate. The thin glass substrate and the resin layer are in close contact with the resin layer by a force attributable to van der Waals forces between the adjacent solid molecules, that is, adhesion. In this case, it can hold | maintain in the state laminated | stacked through the support glass substrate, the thin glass substrate, and the resin layer.

지지 유리 기판에 고정된 수지층의 표면에 박판 유리 기판을 적층시키는 방법은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어 공지의 방법을 이용하여 실시할 수 있다. 예를 들어, 상압 환경 하에서 수지층의 표면에 박판 유리 기판을 겹친 후, 롤이나 프레스를 사용하여 수지층과 박판 유리 기판을 압착시키는 방법을 들 수 있다. 롤이나 프레스로 압착함으로써 수지층과 박판 유리 기판이 보다 밀착하므로 바람직하다. 또한, 롤 또는 프레스에 의한 압착에 의해, 수지층과 박판 유리 기판 사이에 혼입되고 있는 기포가 비교적 용이하게 제거되므로 바람직하다. 진공 라미네이트법이나 진공 프레스법에 의해 압착하면, 기포의 혼입의 억제나 양호한 밀착의 확보가 보다 바람직하게 행해지므로 보다 바람직하다. 진공 하에서 압착함으로써, 미소한 기포가 잔존한 경우에도, 가열에 의해 기포가 성장하는 일이 없어, 박판 유리 기판의 왜곡 결함으로 이어지기 어렵다는 이점도 있다.The method of laminating a thin glass substrate on the surface of the resin layer fixed to the supporting glass substrate is not particularly limited. For example, it can carry out using a well-known method. For example, after laminating a thin glass substrate on the surface of a resin layer in an atmospheric pressure environment, the method of crimping | bonding a resin layer and a thin glass substrate using a roll or a press is mentioned. Since a resin layer and a thin glass substrate contact more closely by crimping | bonding with a roll or a press, it is preferable. Moreover, since the bubble mixed in between a resin layer and a thin glass substrate is removed comparatively easily by the crimping | bonding by a roll or a press, it is preferable. When it crimps | bonds by the vacuum lamination method or the vacuum press method, it is more preferable because suppression of mixing of foam | bubble, and ensuring good adhesion are performed more preferable. By pressing under vacuum, even when a minute bubble remains, the bubble does not grow by heating, and there is also an advantage that it is difficult to lead to distortion defects of the thin glass substrate.

밀착 공정에서는, 지지 유리 기판의 수지층의 표면에 박판 유리 기판을 적층시킬 때에는, 박판 유리 기판의 표면을 충분히 세정하여, 클린도가 높은 환경에서 적층하는 것이 바람직하다. 수지층과 박판 유리 기판 사이에 이물질이 혼입되어도, 수지층이 변형되므로 박판 유리 기판의 표면의 평탄성에 영향을 주는 일은 없지만, 클린도가 높을수록 그 평탄성은 양호해지므로 바람직하다.In a close_contact | adherence process, when laminating a thin glass substrate on the surface of the resin layer of a support glass substrate, it is preferable to wash | clean the surface of a thin glass substrate sufficiently and to laminate | stack in an environment with high cleanness. Even if foreign matter is mixed between the resin layer and the thin glass substrate, the resin layer is deformed, so that the flatness of the surface of the thin glass substrate is not affected. However, the higher the cleanness, the better the flatness is.

이와 같은 본 실시 형태의 제조 방법에 의해 본 실시 형태의 유리 적층체를 제조할 수 있다.The glass laminated body of this embodiment can be manufactured by such a manufacturing method of this embodiment.

본 실시 형태의 유리 적층체의 제조 방법에, 또한 얻어진 본 실시 형태의 유리 적층체에 있어서의 상기 박판 유리 기판의 제2 주면에, 표시 장치용 부재를 형성하는 공정을 포함하는 제조 방법에 의해, 지지체를 갖는 표시 장치용 패널을 제조할 수 있다.By the manufacturing method including the process of forming the member for display apparatuses in the manufacturing method of the glass laminated body of this embodiment further on the 2nd main surface of the said thin glass substrate in the obtained glass laminated body of this embodiment, The panel for display devices which have a support body can be manufactured.

여기서 표시 장치용 부재는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어 LCD가 갖는 어레이나 컬러 필터를 들 수 있다. 또한, 예를 들어 OLED가 갖는 투명 전극, 홀 주입층, 홀 수송층, 발광층, 전자 수송층을 들 수 있다.The member for display device is not specifically limited here. For example, the array and color filter which LCD has can be mentioned. Moreover, the transparent electrode, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron carrying layer which OLED has, for example are mentioned.

이러한 표시 장치 부재를 형성하는 방법도 특별히 제한되지 않고, 종래 공지의 방법과 마찬가지이면 된다.The method for forming such a display device member is also not particularly limited, and may be the same as a conventionally known method.

예를 들어, 표시 장치로서 TFT-LCD를 제조하는 경우, 종래 공지의 유리 기판 상에 어레이를 형성하는 공정, 컬러 필터를 형성하는 공정, 어레이가 형성된 유리 기판과 컬러 필터가 형성된 유리 기판을 시일재 등을 개재하여 접합하는 공정(어레이·컬러 필터 접합 공정) 등의 각종 공정과 마찬가지이면 된다. 보다 구체적으로는, 이들 공정에서 실시되는 처리로서, 예를 들어 순수 세정, 건조, 성막, 레지스트액 도포, 노광, 현상, 에칭 및 레지스트 제거를 들 수 있다. 또한, 어레이·컬러 필터 접합 공정을 실시한 후에 행해지는 공정으로서, 액정 주입 공정 및 액정 주입구 밀봉 공정이 있고, 이들 공정에서 실시되는 처리를 들 수 있다.For example, when manufacturing a TFT-LCD as a display apparatus, it seals the process of forming an array on a conventionally well-known glass substrate, the process of forming a color filter, the glass substrate in which the array was formed, and the glass substrate in which the color filter was formed. What is necessary is just to be the same as the various processes, such as the process (array color filter bonding process) of joining through etc. More specifically, as the process performed in these processes, pure water washing | cleaning, drying, film-forming, resist liquid application | coating, exposure, image development, etching, and resist removal are mentioned, for example. Moreover, as a process performed after performing an array color filter bonding process, there exist a liquid crystal injection process and a liquid crystal injection hole sealing process, and the process performed by these processes is mentioned.

또한, OLED를 제조하는 경우를 예로 들면, 박판 유리 기판의 제2 주면 상에 유기 EL 구조체를 형성하기 위한 공정으로서, 투명 전극을 형성하는 공정, 홀 주입층ㆍ홀 수송층ㆍ발광층ㆍ전자 수송층 등을 증착하는 공정, 밀봉 공정 등의 각종 공정을 포함하고, 이들 공정에서 실시되는 처리로서, 구체적으로는 예를 들어, 성막 처리, 증착 처리, 밀봉판의 접착 처리 등을 들 수 있다.In the case of manufacturing OLED, for example, a process for forming an organic EL structure on a second main surface of a thin glass substrate, a process of forming a transparent electrode, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and the like Various processes, such as the process of vapor deposition and a sealing process, are included, As a process performed by these processes, a film-forming process, vapor deposition process, the adhesion process of a sealing plate, etc. are mentioned specifically ,.

이와 같이 하여 지지체를 갖는 표시 장치용 패널을 제조할 수 있다.In this way, a panel for a display device having a support can be manufactured.

또한, 이와 같은 지지체를 갖는 표시 장치용 패널을 얻은 후, 또한 얻어진 지지체를 갖는 표시 장치용 패널에 있어서 상기 박판 유리 기판과 상기 지지 유리 기판을 박리(박리 공정)함으로써 표시 장치용 패널을 얻을 수 있다.Moreover, after obtaining the panel for display devices which have such a support body, in the obtained display device panel which has a support body, the panel for display devices can be obtained by peeling (peeling process) the said thin glass substrate and the said support glass substrate. .

표시 장치용 패널은, 예를 들어, 상기한 바와 같은 본 실시 형태의 제조 방법에 의해 얻어진 지지체를 갖는 표시 장치용 패널에 있어서 상기 박판 유리 기판과 상기 지지 유리 기판을 박리함으로써 제조할 수 있다. 박리하는 방법은 특별히 제한되지 않는다. 구체적으로는, 예를 들어, 지지 유리 기판의 제1 주면의 외주보다 외측으로 돌출되어 있는, 박판 유리 기판의 제1 주면 상에 박리용 칼날을 댄다. 다음에 박판 유리 기판과 수지층의 경계를 향하여, 박리용 칼날을 박판 유리 기판의 제1 주면 상을 미끄러지게 한다. 그리고, 상기 경계에 박리용 칼날을 삽입하여 박리의 계기를 부여한 후에, 상기 경계에 물과 압축 공기의 혼합 유체를 분사하여, 박판 유리 기판을 박리할 수 있다. 바람직하게는, 상기 지지체를 갖는 표시 장치용 패널의 지지 유리 기판이 상측, 패널측이 하측으로 되도록 정반 상에 설치한다. 그 후, 패널측 기판을 정반 상에 진공 흡착한다(양면에 지지 유리 기판이 적층되어 있는 경우는 순차 행함). 이 상태에서, 박리용 칼날을 박판 유리 기판의 제1 주면에 대고, 박판 유리 기판의 제1 주면 상을, 박판 유리 기판과 수지층의 경계를 향하여 미끄러지게 하여, 상기 경계에 박리용 칼날을 삽입시킨다. 그 후, 박판 유리 기판과 수지층의 경계에 물과 압축 공기의 혼합 유체를 분사시켜, 지지 유리 기판의 단부를 수직 상방으로 인장해 올린다. 그렇게 하면 수지층과 박판 유리 기판의 경계에 공기층이 형성되고, 그 공기층이 상기 경계의 전체면에 퍼져 지지 유리 기판을 용이하게 박리할 수 있다(표시 장치의 전방면측 및 배면측의 박판 유리 기판의 양쪽에 지지 유리 기판이 적층되어 있는 경우는 본 조작을 한쪽면씩 반복함).A display device panel can be manufactured by peeling the said thin glass substrate and the said support glass substrate in the panel for display devices which have a support body obtained by the manufacturing method of this embodiment as described above, for example. The method of peeling is not particularly limited. Specifically, a peeling blade is attached on the 1st main surface of the thin glass substrate which protrudes outward rather than the outer periphery of the 1st main surface of a support glass substrate, for example. Next, the peeling blade slides on the first main surface of the thin glass substrate toward the boundary between the thin glass substrate and the resin layer. And after inserting a peeling blade at the said boundary and giving the opportunity of peeling, the mixed glass of water and compressed air can be sprayed at the said boundary, and a thin glass substrate can be peeled off. Preferably, the support glass substrate of the panel for display devices which has the said support body is provided on a surface plate so that an upper side and a panel side may become a lower side. Thereafter, the panel-side substrate is vacuum-adsorbed onto the surface plate (when the supporting glass substrates are laminated on both surfaces thereof, they are sequentially performed). In this state, the peeling blade is applied to the first main surface of the thin glass substrate, and the upper surface of the first glass surface of the thin glass substrate is slid toward the boundary between the thin glass substrate and the resin layer to insert the cutting blade into the boundary. Let's do it. Thereafter, a mixed fluid of water and compressed air is injected at the boundary between the thin glass substrate and the resin layer, and the end portion of the supporting glass substrate is stretched vertically upward. Then, an air layer is formed at the boundary between the resin layer and the thin glass substrate, and the air layer is spread over the entire surface of the boundary so that the supporting glass substrate can be easily peeled off (the thin glass substrate on the front side and the back side of the display device). If the supporting glass substrates are laminated on both sides of the substrate, the present operation is repeated one by one).

또한, 얻어진 표시 장치용 패널을 사용하여 표시 장치를 얻는 공정을 포함하는 제조 방법에 의해 표시 장치를 제조할 수 있다.Moreover, a display apparatus can be manufactured by the manufacturing method including the process of obtaining a display apparatus using the obtained display apparatus panel.

여기서 표시 장치를 얻는 공정에 있어서의 조작은 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 종래 공지의 방법으로 표시 장치를 제조할 수 있다.Here, the operation in the step of obtaining the display device is not particularly limited, and for example, the display device can be manufactured by a conventionally known method.

<실시예><Examples>

(실시예 1) (Example 1)

처음에 세로 715㎜, 가로 595㎜, 판 두께 0.4㎜, 선 팽창 계수 38×10-7/℃의 지지 유리 기판(아사히 가라스 가부시키가이샤제, AN100)을 준비하고, 순수 세정, UV 세정하여 표면을 청정화하였다.First, a supporting glass substrate (AN100, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a length of 715 mm, a width of 595 mm, a sheet thickness of 0.4 mm, and a coefficient of linear expansion of 38 × 10 −7 / ° C. was prepared. The surface was cleaned.

다음에, 무용제 부가 반응형 박리지용 실리콘 100질량부와, 백금계 촉매 2질량부의 혼합물을, 지지 유리 기판의 제1 주면 상에 세로 714㎜, 가로 594㎜의 크기로, 스크린 인쇄기로 도포 시공하였다(도포 시공량 30g/㎡). 그리고, 180℃에서 30분간 대기 중에서 가열 경화하여 두께 20㎛의 실리콘 수지층을 얻었다.Next, a mixture of 100 parts by mass of a solvent-free addition-type release paper silicone and a mixture of 2 parts by mass of a platinum-based catalyst was coated on a first main surface of the supporting glass substrate with a screen printing machine having a length of 714 mm and a width of 594 mm. (Coating amount 30 g / m 2). And it heat-hardened in air | atmosphere for 30 minutes at 180 degreeC, and obtained the silicone resin layer of 20 micrometers in thickness.

다음에, 세로 720㎜, 가로 600㎜, 판 두께 0.3㎜, 선 팽창 계수 38×10-7/℃의 박판 유리 기판(아사히 가라스 가부시키가이샤제, AN100)의 제1 주면(이후에 실리콘 수지층과 접촉시키는 측의 면)을 순수 세정, UV 세정하여 청정화하였다. 그리고, 상기 지지 유리 기판의 제1 주면 상의 실리콘 수지층의 표면과 박판 유리 기판의 제1 주면을, 실온 하, 진공 프레스에 의해 양쪽 기판의 무게중심이 겹치도록 접합하여 유리 적층체 A(본 발명의 적층체 A)를 얻었다.Next, the first principal plane of the thin glass substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., AN100) having a length of 720 mm, a width of 600 mm, a sheet thickness of 0.3 mm, and a coefficient of linear expansion of 38 x 10 -7 / deg. The surface on the side in contact with the ground layer) was purified by pure water cleaning and UV cleaning. And the surface of the silicone resin layer on the 1st main surface of the said support glass substrate, and the 1st main surface of a thin glass substrate are bonded so that the center of gravity of both board | substrates may overlap by vacuum press at room temperature, and glass laminated body A (this invention) Laminated body A) was obtained.

이와 같은 실시예 1에 관한 유리 적층체 A에 있어서, 박판 유리 기판 및 지지 유리 기판은 실리콘 수지층과 기포를 발생시키지 않고 밀착하고 있고, 볼록 형상 결점도 없어 평활성도 양호하였다.In the glass laminated body A which concerns on such Example 1, the thin glass substrate and the support glass substrate were closely_contact | adhered without generating a bubble, and there was no convex flaw and smoothness was also favorable.

(실시예 2) (Example 2)

실시예 2는 실시예 1과 마찬가지이지만, 보다 판 두께가 얇은 박판 유리 기판을 사용하였다.Example 2 was the same as Example 1, but the thin glass substrate with thinner plate | board thickness was used.

처음에 세로 718㎜, 가로 598㎜, 판 두께 0.6㎜, 선 팽창 계수 38×10-7/℃의 지지 유리 기판(아사히 가라스 가부시키가이샤제, AN100)을 순수 세정, UV 세정하여 표면을 청정화하였다.Initially, the supporting glass substrate (AN100, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., AN100) having a 718 mm length, 598 mm width, 0.6 mm thickness, and a coefficient of linear expansion of 38 × 10 −7 / ° C. is purely cleaned and UV cleaned to clean the surface. It was.

다음에 수지층을 형성하기 위한 수지로서, 양쪽 말단에 비닐기를 갖는 직쇄상 폴리오르가노실록산과, 분자 내에 히드로실릴기를 갖는 메틸히드로겐폴리실록산을 사용하였다. 그리고, 이를 백금계 촉매와 혼합하여 혼합물을 제조하고, 지지 유리 기판의 제1 주면 상에 세로 715㎜, 가로 595㎜의 크기로 다이 코팅 장치로 도포 시공하여(도포 시공량 20g/㎡), 180℃에서 30분간 대기 중에서 가열 경화하여 두께 20㎛의 실리콘 수지층을 형성하였다. 여기서, 히드로실릴기와 비닐기의 몰비는 1/1이 되도록, 직쇄상 폴리오르가노실록산과 메틸히드로겐폴리실록산의 혼합비를 조정하였다. 백금계 촉매는 직쇄상 폴리오르가노실록산과 메틸히드로겐폴리실록산의 합계 100질량부에 대하여 5질량부 첨가하였다.Next, as the resin for forming the resin layer, linear polyorganosiloxanes having vinyl groups at both ends and methylhydrogenpolysiloxanes having a hydrosilyl group in the molecule were used. Then, the mixture was mixed with a platinum-based catalyst to prepare a mixture, and coated on a first main surface of the supporting glass substrate by a die coating apparatus having a length of 715 mm and a width of 595 mm (coating amount 20 g / m 2), 180 It heat-hardened in air | atmosphere for 30 minutes at ° C, and formed the silicone resin layer of 20 micrometers in thickness. Here, the mixing ratio of the linear polyorganosiloxane and the methylhydrogenpolysiloxane was adjusted so that the molar ratio of the hydrosilyl group and the vinyl group was 1/1. 5 mass parts of platinum-type catalysts were added with respect to a total of 100 mass parts of linear polyorganosiloxane and methylhydrogen polysiloxane.

다음에, 박판 유리 기판으로서, 세로 720㎜, 가로 600㎜, 두께 0.1㎜, 선 팽창 계수 38×10-7/℃의 유리 기판(아사히 가라스 가부시키가이샤제, AN100)을 사용하여, 지지 유리 기판의 제1 주면 상의 실리콘 수지층의 표면과 박판 유리 기판을, 실온 하, 진공 프레스에 의해 양쪽 기판의 무게중심이 겹치도록 접합하여 유리 적층체 B(본 발명의 적층체 B)를 얻었다.Next, as a thin glass substrate, support glass was used using a glass substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., AN100) having a length of 720 mm, a width of 600 mm, a thickness of 0.1 mm, and a linear expansion coefficient of 38 × 10 −7 / ° C. The surface of the silicone resin layer on the 1st main surface of a board | substrate, and a thin glass substrate were bonded together so that the center of gravity of both board | substrates may overlap by vacuum press at room temperature, and glass laminated body B (laminate B of this invention) was obtained.

이와 같은 실시예 2에 관한 유리 적층체 B에 있어서, 박판 유리 기판 및 지지 유리 기판은 실리콘 수지층과 기포를 발생시키지 않고 밀착하고 있고, 볼록 형상 결점도 없어 평활성도 양호하였다.In the glass laminated body B which concerns on such Example 2, the thin glass substrate and the support glass substrate were in close contact with each other without generating bubbles, and there was no convex flaw and smoothness was also good.

(실시예 3) (Example 3)

본 예에서는, 실시예 2에서 얻은 유리 적층체 B를 사용하여 LCD를 제조한다.In this example, an LCD is manufactured using the glass laminate B obtained in Example 2.

2장의 유리 적층체 B를 준비하여, 1장은 어레이 형성 공정에 제공하여 박판 유리 기판의 제2 주면 상에 어레이를 형성한다. 나머지 1장은 컬러 필터 형성 공정에 제공하여 박판 유리 기판의 제2 주면 상에 컬러 필터를 형성한다.Two glass laminates B are prepared and one sheet is provided to the array forming step to form an array on the second main surface of the thin glass substrate. The other one is provided to a color filter formation process, and forms a color filter on the 2nd main surface of a thin glass substrate.

어레이가 형성된 유리 적층체와 컬러 필터가 형성된 유리 적층체를 시일재를 개재하여 접합한 후, 두께 0.25㎜의 스테인리스제 박리용 칼날을, 지지 유리 기판의 제1 주면의 외주보다 외측으로 돌출되어 있는 박판 유리 기판의 제1 주면에 댄다. 다음에, 박판 유리 기판과 수지층의 경계를 향하여 박판 유리 기판의 제1 주면 상을 미끄러지게 하여, 상기 경계에 박리용 칼날을 삽입시킨다. 그 후, 상기 경계를 향하여 압축 공기와 물의 혼합 유체를 분사한 후에, 각각의 지지 유리 기판을 박리한다. 박리 후의 지지 유리 기판 상에 고착되어 있는 수지층에 흠집은 존재하지 않고, 박판 유리 기판에도 수지가 남아 있지 않다.After joining the glass laminated body in which the array was formed, and the glass laminated body in which the color filter was formed through the sealing material, the 0.25 mm-thick stainless steel peeling blade protrudes outward from the outer periphery of the 1st main surface of a support glass substrate. It hangs on the 1st main surface of a thin glass substrate. Next, the first main surface of the thin glass substrate is slid toward the boundary between the thin glass substrate and the resin layer, and a peeling blade is inserted into the boundary. Then, after spraying the mixed fluid of compressed air and water toward the said boundary, each supporting glass substrate is peeled off. Scratches do not exist in the resin layer fixed on the support glass substrate after peeling, and resin does not remain in a thin glass substrate.

계속해서, 지지 유리 기판을 박리한 유리 기판을 절단하고, 세로 51㎜×가로 38㎜의 168개의 셀로 분단한 후, 액정 주입 공정 및 주입구의 밀봉 공정을 실시하여 액정 셀을 형성한다. 형성된 액정 셀에 편광판을 부착하는 공정을 실시하고, 계속해서 모듈 형성 공정을 실시하여 LCD를 얻는다. 이와 같이 하여 얻어지는 LCD는, 특성상 문제는 발생하지 않는다.Subsequently, the glass substrate which peeled the support glass substrate was cut | disconnected, and it divides into 168 cells of length 51mm x width 38mm, and performs a liquid crystal injection process and the sealing process of an injection port, and forms a liquid crystal cell. The process of adhering a polarizing plate to the formed liquid crystal cell is performed, and a module formation process is performed subsequently, and an LCD is obtained. LCD obtained in this way does not produce a problem in characteristic.

(실시예 4) (Example 4)

본 예에서는, 실시예 1에서 얻은 유리 적층체 A를 사용하여 LCD를 제조한다.In this example, LCD is manufactured using the glass laminate A obtained in Example 1.

2장의 유리 적층체 A를 준비하여, 1장은 어레이 형성 공정에 제공하여 박판 유리 기판의 제2 주면에 어레이를 형성한다. 나머지 1장은 컬러 필터 형성 공정에 제공하여 박판 유리 기판의 제2 주면에 컬러 필터를 형성한다.Two glass laminates A are prepared and one sheet is provided to the array forming step to form an array on the second main surface of the thin glass substrate. The other one is provided to a color filter formation process, and a color filter is formed in the 2nd main surface of a thin glass substrate.

어레이가 형성된 유리 적층체와 컬러 필터가 형성된 유리 적층체를 시일재를 개재하여 접합한 후, 두께 0.25㎜의 스테인리스제 박리용 칼날을, 지지 유리 기판의 제1 주면의 외주보다 외측으로 돌출되어 있는 박판 유리 기판의 제1 주면에 댄다. 다음에, 박판 유리 기판의 제1 주면 상을, 박판 유리 기판과 수지층의 경계를 향하여 미끄러지게 하여, 상기 경계에 박리용 칼날을 삽입시킨다. 그 후, 상기 경계를 향하여 물과 압축 공기의 혼합 유체를 분사한 다음에, 각각의 지지 유리 기판을 박리한다. 박리 후의 지지 유리 기판 상에 고착되어 있는 수지층에 흠집은 존재하지 않고, 박판 유리 기판에도 수지가 남아 있지 않다.After joining the glass laminated body in which the array was formed, and the glass laminated body in which the color filter was formed through the sealing material, the 0.25 mm-thick stainless steel peeling blade protrudes outward from the outer periphery of the 1st main surface of a support glass substrate. It hangs on the 1st main surface of a thin glass substrate. Next, on the 1st main surface of a thin glass substrate, it slides toward the boundary of a thin glass substrate and a resin layer, and a peeling blade is inserted in the said boundary. Thereafter, a mixed fluid of water and compressed air is injected toward the boundary, and then each supporting glass substrate is peeled off. Scratches do not exist in the resin layer fixed on the support glass substrate after peeling, and resin does not remain in a thin glass substrate.

계속해서, 화학적 에칭 처리에 의해 각각의 박판 유리 기판의 두께를 0.15㎜로 한다. 화학적 에칭 처리 후의 박판 유리 기판의 표면에는 광학적으로 문제가 되는 에치피트의 발생은 보이지 않는다.Subsequently, the thickness of each thin glass substrate is made 0.15 mm by a chemical etching process. On the surface of the thin glass substrate after the chemical etching treatment, the occurrence of etch pits, which are optically problematic, is not seen.

그 후, 지지 유리 기판을 박리한 유리 기판을 절단하여, 세로 51㎜×가로 38㎜의 168개의 셀로 분단한 후, 액정 주입 공정 및 주입구의 밀봉 공정을 실시하여 액정 셀을 형성한다. 형성된 액정 셀에 편광판을 부착하는 공정을 실시하고, 계속해서 모듈 형성 공정을 실시하여 LCD를 얻는다. 이렇게 하여 얻어지는 LCD는 특성상 문제는 발생하지 않는다.Then, the glass substrate from which the support glass substrate was peeled off was cut | disconnected, and it divided into 168 cells of length 51mm x width 38mm, and performs a liquid crystal injection process and the sealing process of an injection port, and forms a liquid crystal cell. The process of adhering a polarizing plate to the formed liquid crystal cell is performed, and a module formation process is performed subsequently, and an LCD is obtained. LCD obtained in this way does not produce a problem in characteristic.

(실시예 5) (Example 5)

본 예에서는, 실시예 2에서 얻은 유리 적층체 B를 사용하여 OLED를 제조한다.In this example, OLED is manufactured using the glass laminate B obtained in Example 2.

투명 전극을 형성하는 공정, 보조 전극을 형성하는 공정, 홀 주입층ㆍ홀 수송층ㆍ발광층ㆍ전자 수송층 등을 증착하는 공정, 이들을 밀봉하는 공정에 제공하여, 적층체의 박판 유리 기판의 제2 주면 상에 유기 EL 구조체를 형성한다.A step of forming a transparent electrode, a step of forming an auxiliary electrode, a step of depositing a hole injection layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron transporting layer, and the like, and a step of sealing them, on the second main surface of the thin glass substrate of the laminate. An organic EL structure is formed on the substrate.

두께 0.25㎜의 스테인리스제 박리용 칼날을, 지지 유리 기판의 제1 주면의 외주보다 외측으로 돌출되어 있는 박판 유리 기판의 제1 주면에 댄다. 다음에, 박리용 칼날을 적층체의 박판 유리 기판과 수지층의 경계를 향하여 박판 유리 기판의 제1 주면 상을 미끄러지게 하여, 상기 경계에 삽입시킨다. 그 후, 상기 경계를 향하여 압축 공기와 물의 혼합 유체를 분사한 다음에, 각각의 지지 유리 기판을 박리한다. 박리 후의 지지 유리 기판 상에 고착되어 있는 수지층에 흠집은 존재하지 않고, 박판 유리 기판에도 수지가 남아 있지 않다.A stainless steel peeling blade having a thickness of 0.25 mm is attached to the first main surface of the thin glass substrate that protrudes outward from the outer circumference of the first main surface of the supporting glass substrate. Next, the peeling blade is slid onto the first main surface of the thin glass substrate toward the boundary between the thin glass substrate and the resin layer of the laminate, and is inserted into the boundary. Thereafter, a mixed fluid of compressed air and water is injected toward the boundary, and then each supporting glass substrate is peeled off. Scratches do not exist in the resin layer fixed on the support glass substrate after peeling, and resin does not remain in a thin glass substrate.

계속해서, 박판 유리 기판을 레이저 커터 또는 스크라이브-브레이크법을 이용하여 절단하고, 세로 41㎜×가로 30㎜의 288개의 셀로 분단한 후, 유기 EL 구조체가 형성된 유리 기판과 대향 기판을 조립하고, 모듈 형성 공정을 실시하여 OLED를 작성한다. 이렇게 하여 얻어지는 OLED는 특성상 문제는 발생하지 않는다.Subsequently, the thin glass substrate is cut using a laser cutter or scribe-break method, divided into 288 cells of 41 mm in length and 30 mm in width, and then a glass substrate and an opposing substrate on which an organic EL structure is formed are assembled, and a module The formation process is performed to create an OLED. The OLED obtained in this way does not produce a problem in characteristic.

(비교예 1) (Comparative Example 1)

본 예에서의 적층체는 지지 유리 기판의 세로 및 가로의 크기를, 박판 유리 기판과 동일한 크기인, 세로 720㎜, 가로 600㎜로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하였다. 얻어진 비교예 1에 관한 유리 적층체 C는 실리콘 수지층과 기포를 발생하지 않고 유리 기판이 밀착하고 있고, 볼록 형상 결점도 없고 평활성도 양호하였다.The laminated body in this example was similar to Example 1 except having changed the magnitude | size of the length and width of a support glass substrate to length 720mm and width 600mm which are the same size as a thin glass substrate. In the glass laminated body C which concerns on the obtained comparative example 1, the glass substrate was in close_contact | adherence without generating a silicone resin layer and foam | bubble, and there was no convex flaw and smoothness was also favorable.

계속해서, 2장의 유리 적층체 C를 준비하여, 1장은 어레이 형성 공정에 제공하여 박판 유리 기판의 제2 주면에 어레이를 형성한다. 나머지 1장은 컬러 필터 형성 공정에 제공하여 박판 유리 기판의 제2 주면에 컬러 필터를 형성한다.Subsequently, two glass laminated bodies C are prepared, one is provided to an array formation process, and an array is formed in the 2nd main surface of a thin glass substrate. The other one is provided to a color filter formation process, and a color filter is formed in the 2nd main surface of a thin glass substrate.

어레이가 형성된 적층체와 컬러 필터가 형성된 적층체를 시일재를 개재하여 접합한 후, 두께 0.25㎜의 스테인리스제 박리용 칼날을 박판 유리 기판의 제1 주면에 댄다. 다음에, 박판 유리 기판의 제1 주면 상을 박판 유리 기판과 수지층의 경계를 향하여 미끄러지게 하여, 상기 경계에 박리용 칼날을 삽입시킨다. 그 후, 상기 경계를 향하여 물과 압축 공기의 혼합 유체를 분사한 다음에, 각각의 지지 유리 기판을 박리한다. 박리 후의 지지 유리 기판 상에 고착되어 있는 수지층에, 박리용 칼날에 의한 흠집이 나 있고, 박판 유리 기판의 제1 주면에 수지의 일부가 부착되어 남아 있다. 그로 인해, 표시 장치 제조 공정에 있어서, 박판 유리 기판의 제1 주면 상에 부착한 수지의 일부를 면도칼 등으로 깎아내는 공정이 더 필요해진다.After bonding the laminated body in which an array was formed, and the laminated body in which the color filter was formed through the sealing material, the stainless steel peeling blade of 0.25 mm in thickness is attached to the 1st main surface of a thin glass substrate. Next, the first main surface of the thin glass substrate is slid toward the boundary between the thin glass substrate and the resin layer, and a peeling blade is inserted into the boundary. Thereafter, a mixed fluid of water and compressed air is injected toward the boundary, and then each supporting glass substrate is peeled off. The resin layer adhered on the supporting glass substrate after peeling has a scratch by the blade for peeling off, and a part of resin remains on the 1st main surface of a thin glass substrate. Therefore, in the display apparatus manufacturing process, the process of scraping off a part of resin adhering on the 1st main surface of a thin glass substrate with a razor or the like is further needed.

본 발명을 상세하게 또한 특정한 실시 형태를 참조하여 설명하였지만, 본 발명의 사상과 범위를 일탈하지 않고 여러 가지 변경이나 수정을 가할 수 있는 것은 당업자에게 있어서 명백하다.Although this invention was detailed also demonstrated with reference to the specific embodiment, it is clear for those skilled in the art that various changes and correction can be added without deviating from the mind and range of this invention.

본 출원은 2009년 1월 9일 출원된 일본 특허 출원 제2009-003405호에 기초하는 것이고, 그의 내용은 여기에 참조로서 포함된다.This application is based on the JP Patent application 2009-003405 of an application on January 9, 2009, The content is taken in here as a reference.

<산업상 이용 가능성> Industrial availability

본 발명에 의해 얻어진 박판 유리 기판은 각종 표시 장치의 유리 기판으로서 사용할 수 있다.The thin glass substrate obtained by the present invention can be used as a glass substrate of various display devices.

10, 50, 60: 유리 적층체
12, 52, 62: 박판 유리 기판
12a, 42a, 52a, 62a: 박판 유리 기판의 제1 주면
12b, 52b, 62b: 박판 유리 기판의 제2 주면
13, 53, 63: 지지 유리 기판
13a, 43a: 지지 유리 기판의 제1 주면
13b: 지지 유리 기판의 제2 주면
14, 54, 64: 수지층
15: 박리용 칼날
Xa: 세로 방향 화살표
Xb: 가로 방향 화살표
10, 50, 60: glass laminate
12, 52, 62: thin glass substrate
12a, 42a, 52a, 62a: first main surface of thin glass substrate
12b, 52b, 62b: second main surface of thin glass substrate
13, 53, 63: support glass substrate
13a, 43a: first main surface of support glass substrate
13b: second main surface of the supporting glass substrate
14, 54, 64: resin layer
15: peeling blade
Xa: vertical arrow
Xb: horizontal arrows

Claims (8)

제1 주면 및 제2 주면을 갖는 박판 유리 기판, 제1 주면 및 제2 주면을 갖는 지지 유리 기판, 및 박리 용이성을 갖는 수지층을 갖고, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면과 상기 지지 유리 기판의 제1 주면에 고정된 상기 수지층이 밀착하도록, 상기 박판 유리 기판과 상기 지지 유리 기판이 상기 수지층을 개재하여 적층된 유리 적층체이며,
상기 박판 유리 기판이, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면의 외주의 적어도 일부가 상기 지지 유리 기판의 제1 주면의 외주로부터 돌출되도록 적층되어 있는 유리 적층체.
The thin glass substrate which has a 1st main surface and a 2nd main surface, the support glass substrate which has a 1st main surface, and a 2nd main surface, and the resin layer which has easy peelability, and the 1st main surface of the said thin glass substrate and the said support glass substrate The thin glass substrate and the supporting glass substrate are glass laminates laminated through the resin layer so that the resin layer fixed to the first main surface is in close contact,
The said laminated glass substrate is laminated | stacked so that at least one part of the outer periphery of the 1st main surface of the said thin glass substrate may protrude from the outer periphery of the 1st main surface of the said support glass substrate.
제1항에 있어서, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면과 상기 지지 유리 기판의 제1 주면이 직사각형 형상을 하고 있고, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면의 세로 및/또는 가로의 각각의 길이가 상기 지지 유리 기판의 제1 주면의 세로 및/또는 가로의 각각의 길이보다 긴 유리 적층체.The first main surface of the thin glass substrate and the first main surface of the supporting glass substrate have a rectangular shape, and the length of each of the length and / or the horizontal length of the first main surface of the thin glass substrate is equal to the above. A glass laminate longer than each of the longitudinal and / or transverse lengths of the first major surface of the supporting glass substrate. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면의 세로 및/또는 가로의 각각의 길이가 상기 지지 유리 기판의 제1 주면의 세로 및/또는 가로의 각각의 길이보다 0.2㎜ 내지 20㎜ 긴 유리 적층체.The length of each of the length and / or width of the first main surface of the thin glass substrate is 0.2 mm greater than the length of each of the length and / or width of the first main surface of the supporting glass substrate. To 20 mm long glass laminate. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면의 외주 전체가 상기 지지 유리 기판의 제1 주면의 외주보다 외측으로 돌출되어 있는 유리 적층체.The glass laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the entire outer circumference of the first main surface of the thin glass substrate protrudes outward from the outer circumference of the first main surface of the supporting glass substrate. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수지층을 형성하는 수지가 아크릴 수지, 폴리올레핀 수지, 폴리우레탄 수지 및 실리콘 수지로부터 선택되는 적어도 하나인 유리 적층체.The glass laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the resin forming the resin layer is at least one selected from an acrylic resin, a polyolefin resin, a polyurethane resin, and a silicone resin. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수지층의 두께가 5 내지 50㎛인 유리 적층체.The glass laminated body of any one of Claims 1-5 whose thickness of the said resin layer is 5-50 micrometers. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 박판 유리 기판과 상기 지지 유리 기판의 선 팽창 계수의 차가 150×10-7/℃ 이하인 유리 적층체.The glass laminate according to any one of claims 1 to 6, wherein a difference between the linear expansion coefficients of the thin glass substrate and the supporting glass substrate is 150 × 10 −7 / ° C. or less. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 유리 적층체의 제조 방법이며, 상기 지지 유리 기판의 제1 주면에 박리 용이성을 갖는 수지층을 형성하여 고정하는 수지층 형성 공정과, 상기 박판 유리 기판의 제1 주면에, 상기 지지 유리 기판의 제1 주면 상에 고정된 상기 수지층을 밀착하는 밀착 공정을 포함하는 유리 적층체의 제조 방법.It is a manufacturing method of the glass laminated body of any one of Claims 1-7, The resin layer formation process of forming and fixing the resin layer which has easy peelability on the 1st main surface of the said support glass substrate, and the said thin glass The manufacturing method of the glass laminated body including the adhesion process which adhere | attaches the said resin layer fixed on the 1st main surface of the said support glass substrate to the 1st main surface of a board | substrate.
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