JP2006265712A - Standard position indicating device and metal mask position alignment device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば、有機EL素子製造工程で使われる蒸着マスクに使用される、多数の微少な細長い開口部を備えたマスク部を有するメタルマスクのような、極く薄い且つ剛性の異なる領域を備えたメタルマスクをゆがみのない平坦な状態で枠状のフレームに固定するに際し、メタルマスクの位置アラインメントを取る装置に関し、また、メタルマスクの位置アラインメントを取る際にメタルマスク内の複数箇所の基準位置を示すために用いるのに好適な基準位置指示装置に関する。 The present invention provides an extremely thin region having different rigidity such as a metal mask having a mask portion having a large number of minute elongated openings, which is used for a vapor deposition mask used in an organic EL element manufacturing process. A device for aligning the position of the metal mask when fixing the metal mask to the frame-like frame in a flat state without distortion, and a reference for multiple locations within the metal mask when aligning the position of the metal mask The present invention relates to a reference position indicating device suitable for use in indicating a position.
従来、有機EL素子製造において真空蒸着が行われており、その蒸着マスクとして、蒸着を許容する多数の細長い微少な開口部を備えたマスク部を有するメタルマスクが使用されている。そして蒸着に当たってはそのメタルマスクを、前記マスク部よりも大きい開口を備えた剛性の大きい枠状のフレームに磁石等によって取り付けていた。しかしながら、近年、パターニングの微細化が進み、マスク部に形成している開口部が微細になり且つメタルマスクの板厚自体も薄くなってくると、メタルマスクを単に枠状のフレームに磁石等を用いて固定しただけでは、マスク部にゆがみやたるみが生じ、開口部の精度が維持できなくなるという問題が生じた。 Conventionally, vacuum vapor deposition is performed in the manufacture of organic EL elements, and a metal mask having a mask portion having a large number of elongated minute openings that allow vapor deposition is used as the vapor deposition mask. In vapor deposition, the metal mask is attached to a frame having a large rigidity having an opening larger than that of the mask by a magnet or the like. However, in recent years, when the patterning has been miniaturized and the openings formed in the mask portion have become finer and the thickness of the metal mask itself has become thinner, the metal mask is simply attached to a frame-like frame with a magnet or the like. Only by using and fixing, there arises a problem that the mask portion is distorted or sag, and the accuracy of the opening cannot be maintained.
そこで、本出願人はこの問題を解決すべく検討の結果、極く薄い金属板で製作し且つ複数のマスク部を形成した構造の多面付けのメタルマスクでも、メタルマスクの4辺のそれぞれを、複数のクランプで把持し、各クランプによって前記メタルマスクにテンションを加え、かつそのテンションを各クランプごとに調整することで、メタルマスクをしわやたるみの無い平坦な状態とし、各マスク部の開口部を直線状に且つ一定ピッチに保持できること及びその状態で枠状のフレームにスポット溶接等によって固定することで、クランプを外した後においてもメタルマスクをテンションが掛けられ平坦となった状態に保持でき、従って、単純な構造のフレームを用いて多面付けマスクをゆがみやたるみの無い状態に保持できることを見出し、そのメタルマスクをゆがみやたるみの無い状態で枠状のフレームに固定する方法及び装置を開発した(特開2004−311335号公報参照)。 Therefore, as a result of studies to solve this problem, the applicant of the present invention manufactured each of the four sides of the metal mask even in a multi-sided metal mask having a structure in which a plurality of mask portions are formed with an extremely thin metal plate. Holding the metal mask with a plurality of clamps, applying tension to the metal mask with each clamp, and adjusting the tension for each clamp makes the metal mask flat without wrinkles and sagging, and opens each mask portion. Can be held in a straight line and at a constant pitch, and in this state, the metal mask can be held flat by being tensioned even after the clamp is removed by fixing it to the frame-like frame by spot welding or the like. Therefore, it has been found that a multi-face mask can be held without distortion and sagging by using a frame with a simple structure. Tarumasuku developed a method and apparatus for securing the frame-shaped frame without distortion and sagging state (see JP 2004-311335).
ところが、この方法及び装置にも更に改良すべき点のあることが判明した。すなわち、メタルマスクの4辺のそれぞれにテンションを加えてフレームに固定する際、単にメタルマスクにゆがみやたるみが無いようにテンションを調整しただけでは、メタルマスクに生じる伸びが必ずしも均一とはならず、そのためメタルマスクに形成している複数のマスク部の位置が適正な位置からずれてしまうことがあった。例えば、有機EL素子製造に用いる蒸着用の多面付けマスクの場合、各マスク部の位置に関して±10μm以下のトータルピッチが求められることがあるが、メタルマスクに対するテンションの掛け具合によっては、そのピッチの誤差が大きくなるとか、全体的にねじれたような配置になることがあった。これを防ぐには、メタルマスクにテンションを加えた状態で、いくつかのマスク部の位置を、X−Y方向(縦横方向)の位置を高精度(ミクロンオーダー)で測定可能な測長装置を用いて測定し、適正な位置となるようにテンションを調整するという方法を採ればよい。しかしながら、この方法には、(1)測長装置は高価である、(2)測長に時間を要するため、作業効率が悪い、(3)一度に複数箇所の位置管理ができない等の問題があった。
そこで、本発明者らは、高価な測長装置を用いることなく、簡単な操作でメタルマスク内の複数箇所の位置を高精度で適正な位置となるように管理することを可能とするため、メタルマスクに形成している開口部の適正位置を定めるための基準マークを形成したガラススケールを用いることに着目し、図10に示すように、X、Y、θステージ23の上面に透過用照明装置24とガラススケール25を取り付け、そのガラススケール25を、テンションユニット13によってテンションを付与された状態のメタルマスク1の下面に近接した位置に位置させ、ガラススケール25の上面に形成されている基準マークとメタルマスク1の開口部の位置をCCDカメラ30で監視し、X、Y、θステージ23でガラススケール25をメタルマスク1に対して粗位置決めした後、メタルマスクに形成している開口部の複数個を、それに対応したガラススケールの基準マークに一致させるようにテンション調整を行うことで、メタルマスク内の複数箇所の位置を高精度で適正な位置に位置決めする構成のメタルマスク位置アラインメント装置を開発した。
Therefore, in order to enable the present inventors to manage the positions of a plurality of locations in the metal mask with high accuracy and appropriate positions with a simple operation without using an expensive length measuring device, Focusing on the use of a glass scale on which a reference mark for defining an appropriate position of the opening formed in the metal mask is used, as shown in FIG. 10, the upper surface of the X, Y,
ところが、この装置にも更に改良すべき点のあることが判明した。すなわち、メタルマスク1を大型化すると、それに伴いガラススケール25及び透過用照明装置24も大型化し、それを支えるX、Y、θステージ23も大型化し、特に、X、Y、θステージ23の大型化はコストアップの最大の要因となってしまう。そこで、図11に示すように、X、Y、θステージ23として小型のものを用い、且つ透過用照明装置24も小型化して下方に配置することでコストダウンを図ることができるが、その場合、図11に誇張して示すように、ガラススケール25の支持されていない領域に自重による撓みが発生する。この撓みが大きくなると、メタルマスク1とガラススケール25との間隔Lが大きくなってしまう。CCDカメラ30でメタルマスク1の開口部40とガラススケール25の基準マーク42とを同時に撮像して両者の位置が一致しているか否かを判断するには両者が共にCCDカメラの焦点深度内に入っていることが必要であり、従って、CCDカメラ30による撮像位置におけるガラススケール25とメタルマスク1のギャップ間隔LがCCDカメラの焦点深度よりも小さくなっている必要があるが、ガラススケール25の撓みが大きくなると、ギャップ間隔LがCCDカメラの焦点深度よりも大きくなる領域が広くなり、撮像位置によっては、CCDカメラ30によってメタルマスクの開口部40とガラススケール25の基準マーク42とを同時に撮像することができないという問題が生じた。ガラススケールに生じる撓みを抑制するには、ガラススケールの厚さを厚くして剛性を上げることが考えられるが、ガラススケールのコストが高くなってしまう。
However, it has been found that there are further improvements in this device. That is, when the size of the
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、メタルマスクのような平面状の被測定材の複数箇所に対する基準位置を示すために用いるガラススケールを、小型のX、Y、θステージで支持しながら、ガラススケールの周縁領域に生じる恐れのある自重による撓みを抑制して、前記被測定材に対してほぼ一定のギャップ寸法で位置させることを可能とした装置(基準位置指示装置という)を提供することを課題とする。また、その基準位置指示装置を用いたメタルマスク位置アラインメント装置を提供することも課題とする。 The present invention has been made in view of such problems, and supports a glass scale used to indicate a reference position with respect to a plurality of locations of a planar measurement target material such as a metal mask with small X, Y, and θ stages. However, an apparatus (referred to as a reference position indicating device) that can be positioned with a substantially constant gap size with respect to the material to be measured by suppressing bending due to its own weight that may occur in the peripheral area of the glass scale. The issue is to provide. Another object of the present invention is to provide a metal mask position alignment apparatus using the reference position indicating apparatus.
上記課題を解決すべくなされた本願請求項1に係る発明は、平面状の被測定材の複数箇所に対する基準位置を示す複数の基準マークを備えた平板状のガラススケールと、該ガラススケールが水平になるように該ガラススケールの中央領域を保持したX、Y、θステージと、前記ガラススケールの周縁領域の自重による撓みを抑制するように前記ガラススケールの下面を支えるように配置されたボール型支持装置を有することを特徴とする基準位置指示装置である。
The invention according to
請求項2に係る発明は、上記した請求項1記載の基準位置指示装置において、前記ボール型支持装置を、前記ガラススケールの4隅近傍を支持するように設けるという構成としたものである。 According to a second aspect of the present invention, in the reference position indicating device according to the first aspect, the ball-type support device is provided so as to support the vicinity of the four corners of the glass scale.
請求項3に係る発明は、上記した請求項1又は2記載の基準位置指示装置において、前記ボール型支持装置に、前記ガラススケールを支持するボールの高さ位置を調整することの可能な高さ調整機構を設けておくという構成としたものである。 According to a third aspect of the present invention, in the reference position indicating device according to the first or second aspect, a height capable of adjusting a height position of a ball supporting the glass scale on the ball type support device. An adjustment mechanism is provided.
請求項4に係る発明は、上記した請求項1から3のいずれか1項記載の基準位置指示装置において、前記ガラススケールの下面に反射鏡を積層し、前記ボール型支持装置を前記反射鏡の下面を支えるように配置するという構成としたものである。 According to a fourth aspect of the present invention, in the reference position indicating device according to any one of the first to third aspects, a reflecting mirror is laminated on a lower surface of the glass scale, and the ball-type support device is attached to the reflecting mirror. The arrangement is such that the lower surface is supported.
請求項5に係る発明は、請求項1から3のいずれか1項記載の基準位置指示装置をメタルマスク位置アラインメント装置に適用したものである。すなわち、請求項5に係る発明は、多数の開口部を有するメタルマスクの4辺の各々の複数箇所を把持してテンションを加えることができるように配置された複数のテンションユニットと、前記メタルマスクに形成している多数の開口部のうち、少なくとも複数の開口部の適正位置を示す位置に形成され、前記開口部よりも小サイズの複数の基準マークを有するガラススケールを備え、該ガラススケールが前記複数のテンションユニットで張られた状態のメタルマスクの下面に近接した位置となるように配置された請求項1から3のいずれか1項記載の基準位置指示装置と、前記ガラススケールの下面側に配置された透過用照明装置と、前記複数のテンションユニットで張られた状態のメタルマスクの上方に配置され、前記メタルマスクの開口部と前記ガラススケールの基準マークの重なり部分を撮像する撮像手段と、前記複数のテンションユニットが付与するテンションを調整可能な調整手段とを有するメタルマスク位置アラインメント装置である。
According to a fifth aspect of the present invention, the reference position indicating device according to any one of the first to third aspects is applied to a metal mask position alignment device. That is, the invention according to
請求項6に係る発明は、請求項4記載の基準位置指示装置をメタルマスク位置アラインメント装置に適用したものである。すなわち、請求項6に係る発明は、多数の開口部を有するメタルマスクの4辺の各々の複数箇所を把持してテンションを加えることができるように配置された複数のテンションユニットと、前記メタルマスクに形成している多数の開口部のうち、少なくとも複数の開口部の適正位置を示す位置に形成され、前記開口部よりも小サイズの複数の基準マークを有するガラススケールを備え、該ガラススケールが前記複数のテンションユニットで張られた状態のメタルマスクの下面に近接した位置となるように配置された請求項4記載の基準位置指示装置と、前記複数のテンションユニットで張られた状態のメタルマスクの上方に配置され、前記メタルマスクの開口部と前記ガラススケールの基準マークの重なり部分を撮像する撮像手段と、前記複数のテンションユニットが付与するテンションを調整可能な調整手段とを有するメタルマスク位置アラインメント装置である。
According to a sixth aspect of the present invention, the reference position indicating device according to the fourth aspect is applied to a metal mask position alignment device. That is, the invention according to claim 6 includes a plurality of tension units arranged so that tension can be applied by holding a plurality of locations on each of the four sides of the metal mask having a large number of openings, and the metal mask. A glass scale having a plurality of reference marks having a plurality of reference marks having a size smaller than that of the plurality of openings, the glass scale having a plurality of reference marks smaller than the openings. 5. The reference position indicating device according to
請求項7に係る発明は、上記した請求項5又は6記載のメタルマスク位置アラインメント装置において、前記撮像手段を、4箇所の開口部を同時に撮像しうるよう4個設けるという構成としたものである。 According to a seventh aspect of the present invention, in the metal mask position alignment apparatus according to the fifth or sixth aspect of the present invention, four image pickup means are provided so that four openings can be picked up simultaneously. .
上記した本発明の基準位置指示装置では、ガラススケールの下面を、或いはガラススケールの下面側に反射鏡を配した場合にはその反射鏡の下面をボール型支持装置で支える構成としているので、小型のX、Y、θステージでガラススケールの中央領域のみを支持した場合であっても、且つガラススケールが、例えば、1000mm×1000mm以上のような大型であっても、ガラススケールのX、Y、θステージで支持されていない領域の自重による撓みを抑制でき、そのガラススケールと被測定材とのギャップ寸法をガラススケールの全面に渡ってほぼ均一にでき、従って、ガラススケールと被測定材とをCCDカメラの焦点深度内に収めることができ、ガラススケールに形成している基準マークを用いた被測定材の位置アラインメントを良好に行うことができる。また、ガラススケールの支持には、小型のX、Y、θステージとボール型支持装置を用いているので、ガラススケールの全面を支持する大型のX、Y、θステージを用いる場合に比べてコストダウンを図ることができ、また、小型のX、Y、θステージを用い且つガラススケールの肉厚を厚くして剛性を高める場合に比べてもコストダウンを図ることができる。更に、ガラススケール下面或いはガラススケール下面側の反射鏡の下面をボール型支持装置で支持しているため、ガラススケール或いは反射鏡はボール型支持装置に対してスムーズに移動することができ、従って、ガラススケールを被測定材に対して位置決めするためにX、Y、θステージでガラススケールを移動させた際にスムーズな移動が可能であり、支障なく位置決めを行うことができる。 In the above-described reference position indicating device of the present invention, when the reflecting mirror is arranged on the lower surface of the glass scale or on the lower surface side of the glass scale, the lower surface of the reflecting mirror is supported by the ball type support device. Even when only the central region of the glass scale is supported by the X, Y, and θ stages of the glass scale, even if the glass scale is large, for example, 1000 mm × 1000 mm or more, the X, Y, The deflection due to the weight of the area not supported by the θ stage can be suppressed, and the gap between the glass scale and the material to be measured can be made almost uniform over the entire surface of the glass scale. Position alignment of the material to be measured using a reference mark formed on the glass scale that can be stored within the focal depth of the CCD camera It can be performed well. In addition, since a small X, Y, θ stage and a ball-type support device are used to support the glass scale, the cost is lower than when a large X, Y, θ stage that supports the entire surface of the glass scale is used. The cost can be reduced as compared with the case of using a small X, Y, θ stage and increasing the thickness of the glass scale to increase the rigidity. Further, since the lower surface of the glass scale or the lower surface of the reflecting mirror on the lower surface side of the glass scale is supported by the ball type support device, the glass scale or the reflecting mirror can move smoothly with respect to the ball type support device. When the glass scale is moved on the X, Y, and θ stages in order to position the glass scale with respect to the material to be measured, the glass scale can be moved smoothly, and positioning can be performed without any trouble.
ここで、ボール型支持装置をガラススケールの4隅近傍にそれぞれ設けておくと、撓みが最も大きくなる領域をボール型支持装置で支持できるので、ガラススケールと被測定材との間のギャップ寸法を一層均一にできる利点が得られる。 Here, if the ball-type support device is provided in the vicinity of the four corners of the glass scale, the ball-type support device can support the region where the deflection is the largest, so the gap dimension between the glass scale and the material to be measured can be set. The advantage of being more uniform is obtained.
また、前記ボール型支持装置にボールの高さ位置を調整することの可能な高さ調整機構を設けておくと、ボール型支持装置の製造精度、組み付け精度をあまり高くしなくしても、高さ調整機構による調整によってガラススケールと被測定材との間のギャップ寸法を均一に調整することができ、ボール型支持装置の製造及び組み付けが容易になるという利点が得られる。 Further, if a height adjusting mechanism capable of adjusting the height position of the ball is provided in the ball type support device, the height can be increased even if the manufacturing accuracy and assembly accuracy of the ball type support device are not so high. The adjustment by the adjusting mechanism can uniformly adjust the gap size between the glass scale and the material to be measured, and the advantage that the manufacturing and assembling of the ball-type support device is facilitated can be obtained.
本発明のメタルマスク位置アラインメント装置によれば、メタルマスクの4辺にテンションを加えた状態でその下面にガラススケールを近接して位置させ、メタルマスクの複数箇所の開口部とガラススケールの基準マークの重ね合わせ状態を見ることでメタルマスクの開口部が所定の適正な位置となっているか否かを見ることができ、メタルマスクの開口部をガラススケールの基準マークに合わせ込むようにメタルマスクに付与するテンションを調整することで、メタルマスク内の位置を高精度で適正となる位置に合わせ、アラインメントを取ることができ、例えば、メタルマスクに複数のマスク部が形成されている場合において各マスク部の位置を高精度で所定の位置に位置決めすることができる。このアラインメントを行なうに際しては、メタルマスクの開口部とガラススケールの基準マークを合わせればよいので、判断が容易であり、メタルマスクのテンション調整を容易に行なうことができ、短時間での調整が可能である。更に、測長装置が不要なため、安価な装置で機能を満足でき、経済的に有利である。更に、ガラススケールが大型である場合においても、ガラススケールの周縁領域の自重による撓みを抑制できるので、ガラススケールとメタルマスクとのギャップ寸法をほぼ一定で且つCCDカメラの焦点深度内に保つことができ、メタルマスクの所望位置においてCCDカメラによってメタルマスクの開口部とガラススケールの基準マークを一緒に撮像して両者の重なりを確認することができ、大型のメタルマスクについても良好に位置アラインメントを行うことができる。 According to the metal mask position alignment apparatus of the present invention, the glass scale is positioned close to the lower surface of the metal mask in a state where tension is applied to the four sides of the metal mask. It is possible to see whether or not the opening of the metal mask is at a predetermined proper position by looking at the overlapping state of the metal mask, so that the opening of the metal mask is aligned with the fiducial mark on the glass scale. By adjusting the tension to be applied, the position in the metal mask can be aligned with an appropriate position with high accuracy, and alignment can be achieved. For example, when a plurality of mask portions are formed on the metal mask, each mask The position of the part can be positioned at a predetermined position with high accuracy. When performing this alignment, it is only necessary to align the opening of the metal mask with the fiducial mark on the glass scale, making it easy to make judgments, making it easy to adjust the tension of the metal mask, and making adjustments in a short time. It is. Further, since a length measuring device is unnecessary, the function can be satisfied with an inexpensive device, which is economically advantageous. Furthermore, even when the glass scale is large, it is possible to suppress bending due to its own weight in the peripheral area of the glass scale, so that the gap dimension between the glass scale and the metal mask can be kept almost constant and within the focal depth of the CCD camera. In addition, the CCD camera can image the metal mask opening and the glass scale reference mark together at the desired position of the metal mask to confirm the overlap between the two, and the large metal mask can be well aligned. be able to.
ここで、前記撮像手段を、4箇所の開口部を同時に撮像しうるよう4個設けておくと、4箇所の開口部を同時に監視しながらテンション調整を行なうことができ、テンション調整を容易に且つ敏速に行なうことができる利点が得られる。 Here, if four image pickup means are provided so that four openings can be picked up simultaneously, tension adjustment can be performed while simultaneously monitoring the four openings. The advantage is that it can be done quickly.
本発明は、ゆがみやたるみのない平坦な状態に保持する必要がある任意のメタルマスクに対して適用可能であるが、特に精密さを要求される有機EL素子製造用の蒸着用多面付けマスクとして使用するメタルマスクに適用することが好ましい。以下、有機EL素子製造における蒸着用多面付けマスクとして使用するメタルマスクを例にとって本発明の好適な実施の形態を説明する。図1は本発明の実施の形態に係る基準位置指示装置を備えたメタルマスク位置アラインメント装置(以下アラインメント装置と略称する)の主要部分の概略斜視図、図2はそのアラインメント装置を、一部を断面で示す概略側面図、図3はアラインメント装置に設けているテンションユニットの概略側面図、図4はアラインメント装置に設けている複数のテンションユニット及びそれに保持されているメタルマスクを示す概略平面図、図5はガラススケールを支持したボール型支持装置及びその周辺を示す概略側面図、図6は他の実施の形態に係るアラインメント装置を、一部を断面で示す概略側面図、図7は、これらのアラインメント装置で取り扱うメタルマスク及びそれを固定する枠状のフレームを示す概略斜視図、図8はフレームにメタルマスクを固定して形成した蒸着マスクユニットの概略斜視図、図9(a)はガラススケールに形成している基準マークを拡大して示す概略平面図、(b)はメタルマスクに形成している開口部を拡大して示す概略平面図、(c)は開口部と基準マークの重なり領域を撮像してモニターに表示した状態を示す概略正面図である。 The present invention can be applied to any metal mask that needs to be kept flat without distortion or sagging, but is particularly suitable as a multi-face mask for vapor deposition for manufacturing an organic EL element that requires precision. It is preferable to apply to the metal mask to be used. Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described by taking a metal mask used as a multi-face mask for vapor deposition in manufacturing an organic EL element as an example. FIG. 1 is a schematic perspective view of a main part of a metal mask position alignment apparatus (hereinafter abbreviated as an alignment apparatus) provided with a reference position indicating apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partial view of the alignment apparatus. FIG. 3 is a schematic side view showing a tension unit provided in the alignment apparatus, FIG. 4 is a schematic plan view showing a plurality of tension units provided in the alignment apparatus, and a metal mask held by the tension unit. FIG. 5 is a schematic side view showing a ball-type support device supporting a glass scale and its surroundings, FIG. 6 is a schematic side view showing a part of an alignment device according to another embodiment, and FIG. FIG. 8 is a schematic perspective view showing a metal mask handled by the alignment device of FIG. FIG. 9A is a schematic plan view showing an enlarged reference mark formed on the glass scale, and FIG. 9B is formed on the metal mask. FIG. 2C is a schematic plan view showing an enlarged opening, and FIG. 3C is a schematic front view showing a state where an overlapping area between the opening and the reference mark is imaged and displayed on a monitor.
図7において、1は蒸着マスクとして使用する直角四辺形状のメタルマスクであり、複数のマスク部2を縦横に並べて形成している。各マスク部2は、蒸着を許容する多数の微少な開口部を備えたものである。各マスク部における開口部の形状、配列は任意であり、例えば、細長いスリット状の開口部を平行に並べたもの、矩形状の開口部を縦方向に並べると共に平行にも並べたもの等を挙げることができる。マスク部2に形成されている多数の開口部は、その内の一部のものが後述するように、メタルマスク1の位置決めに使用される。3はメタルマスク1を取り付けるための剛性の大きい枠状のフレームであり、メタルマスク1の多数のマスク部2を形成した領域(有効領域という)を包含する大きさの開口4を備えている。メタルマスク1は、フレーム3よりも縦横両方向ともに大きいサイズに作られており、フレーム3の外周縁にほぼ対応する位置に、折り曲げることで容易に切断可能な易切断線5を形成している。なお、易切断線5は、メタルマスク1に加える引張力には耐え得る強度を備えたものである。メタルマスク1の厚さ、マスク部2の寸法、それに形成した開口部の寸法等は特に限定するものではないが、代表的なものとして、メタルマスク1の厚さは30〜200μm、マスク部2の寸法は長さが50〜70mm、幅が30〜50mm、開口部の幅が40〜100μm、開口部間の無孔部分の幅が80〜200μm等を例示できる。
In FIG. 7,
図1、図2、図4において、全体を参照符号10で示すアラインメント装置は、支持台11と、その支持台11に、メタルマスク1の4辺の各々の複数箇所を把持してテンションを加えることができるように配置された複数のテンションユニット13を備えている。
1, 2, and 4, an alignment apparatus generally indicated by a
各テンションユニット13は、図3に拡大して示すように、ベース部材15と、そのベース部材15に直動案内16を介して移動可能に保持されたクランプ17と、クランプ17を往復動させる駆動手段18等を備えている。ここで、駆動手段18にはエアシリンダが用いられているが、エアシリンダに代えて、油圧シリンダ、サーボモータ等を用いてもよい。クランプ17は、固定爪17aと、可動爪17bと、可動爪17bを固定爪17aに強く押し付けて両者の間にメタルマスク1を把持するよう可動爪17bを旋回させ且つ閉位置に保持するトグル機構及びエアシリンダ(共に図示せず)等を備えている。各テンションユニット13は、図4から良く分かるように、メタルマスク1の各辺をそれぞれ複数のテンションユニット13で把持してその辺に直角方向にテンションを加えることができるように配置されている。更に、メタルマスク1の各辺を把持するように配置されている複数のテンションユニット13のクランプ17は、メタルマスク1のマスク部2と非マスク部に合わせて配置されており、従って、メタルマスク1のマスク部2を形成した縦方向に延びる領域及び横方向に延びる領域と、マスク部の無い縦方向に延びる領域及び横方向に延びる領域とを、すなわち剛性の異なる領域を、それぞれ別個のクランプ17で引っ張ってテンションを付与することが可能である。
As shown in an enlarged view in FIG. 3, each
複数のテンションユニット13にそれぞれ設けられている駆動手段18には、メタルマスク1に付与するテンションを個々に調整できるよう、その駆動手段による駆動力を個々に調整する調整手段(図示せず)が設けられている。更に具体的には、駆動手段18を構成するエアシリンダにはエア供給配管が接続されており、そのエア供給配管に、各エアシリンダへの供給圧力を個々に調整可能なレギュレータが調整手段として設けられている。なお、全部のテンションユニット13の駆動手段(エアシリンダ)18を同時に作動させることができるよう、これらのエアシリンダに連結されているエア供給配管には共通の開閉弁を介してエアが供給されるようになっており、且つ各エアシリンダの作動タイミングを調整することができるよう各エアシリンダへのエア供給配管にスピードコントローラも設けられている。
The driving means 18 provided in each of the plurality of
図2、図3において、テンションユニット13のベース部材15には、フレーム3を支持するフレーム支え20が設けられている。このフレーム支え20は、その上にフレーム3を乗せることで、フレーム3を水平面内の所定位置に位置決めすると共にフレーム3の上面が、クランプ17に把持されてテンションを付与されているメタルマスク1にほぼ接する位置となるように上下方向にも位置決めすることができるように配置されている。
2 and 3, a
更に、支持台11には、基準位置指示装置22が設けられている。基準位置指示装置22は、X、Y、θステージ23と、それに保持されたガラススケール25と、ガラススケール25の下面を支持するように配置されたボール型支持装置26と、ガラススケール25を下方から照明するように配置された透過用照明装置24等を備えている。
Further, the
ガラススケール25は、透明なガラス基板の表面に多数の基準マークを、メタルマスク1の開口部の適正位置を示すように形成したものであり、その基準マークにメタルマスク1に形成している開口部を合わせることで、メタルマスク1をゆがみやたるみの無い平坦な状態とし且つ複数のマスク部2のピッチを適正値として各マスク部2を所定位置に位置決めすることができるように設けるものである。図9はガラススケール25に形成する基準マークとメタルマスク1のマスク部2に形成している開口部との関係を説明するものである。図9(b)に示すように、メタルマスク1の複数のマスク部2のそれぞれには、多数の開口部40が形成されている。開口部40の形状、サイズ、ピッチ等は所望の蒸着パターンに応じて定められるものであるが、1例として、図示したような矩形状で幅が50μm、長さが150μmの開口部40が用いられているものとする。この開口部40を備えたメタルマスク1に対して用いるガラススケール25には、図9(a)に示すように、多数の基準マーク42が形成されており、各基準マスク42は、開口部40よりも縦横両方ともに小さいサイズに、例えば、幅が30μm、長さが130μmに作られている。これによって、基準マスク42と開口部40とがそれぞれの中心を合わせて重ね合った状態では、ガラススケール25の下側から透過用照明装置24(図2参照)で照明した状態で基準マスク42と開口部40との重なり部分を上方から撮像して図9(c)に示すようにモニター43に表示すると、開口部40内に基準マーク42が入り、基準マーク42の外側に矩形状の明るい部分44が現れる。この矩形状の明るい部分44を目視することで、或いは画像処理して認識することで、基準マーク42と開口部40とが正しく重なっていることを認識できる。
The
ガラススケール25に形成する基準マーク42は、メタルマスク1に形成している全ての開口部40に対応させて設けておくことが好ましく、これにより、任意の位置のマスク部2の開口部40を基準マーク42に合わせてマスク部2の位置決めを行なうことができるが、これに限らず、ガラススケール25の所望の領域のみに基準マーク42を形成するようにしてもよい。メタルマスク1の位置合わせに際しては、全部のマスク部2について位置合わせを行なわなくても、4箇所程度のマスク部2、例えば、図9(b)に示すように、メタルマスク1に複数のマスク部2を縦横に並べて設けている場合、最も外側の列で最も外側に位置するマスク部2(A、B、C、Dに示す位置のマスク部)について位置合わせを行なえば、他のマスク部2の位置も適正な位置となることが多いので、これらの複数箇所のマスク部2について位置合わせを行なうことができるよう、これらのマスク部2に対応する領域に基準マーク42を形成しておけばよい。また、一つのマスク部2について位置合わせを行なうために用いる開口部40は一つで良いので、一つのマスク部2に対応する領域に設ける基準マーク42は1個あればよいが、単に1個の基準マーク42を設けただけでは、その基準マークの位置を探すのが困難となるため、一つのマスク部2に対して多数の基準マーク42を形成しておくことが好ましく、更には、一つのマスク部2の全開口部40に対応して基準マーク42を形成しておくことが一層好ましい。このように、メタルマスク1のA、B、C、Dで示す領域のマスク部2の全開口部40に対応させてガラススケール25に基準マーク42を形成しておくと、メタルマスク1の下にガラススケール25を重ね合わせた状態で、メタルマスク1の各辺に加えるテンションを調整して、A、B、C、Dに示す位置の各マスク部2にある任意の1個の開口部40を対応する基準マーク42に合わせることで、メタルマスク1をゆがみやたるみの無い状態に張り且つ各マスク部2を所定の位置に位置決めすることができる。
The reference marks 42 formed on the
図2において、X、Y、θステージ23は、ガラススケール25を支持して、そのガラススケール25をメタルマスク1の下面に近接した位置に位置させるものであり、ガラススケール25を支持した支持面(上面)を、水平面内で縦方向(X方向)、横方向(Y方向)に位置調整することができると共に中心の垂直な軸線を中心として回転方向(θ方向)にも位置調整することができる機能を備えている。この機能により、X、Y、θステージ23は支持しているガラススケール25をメタルマスク1に対してX−Y方向及びθ方向に位置決めすることができる。ここで用いるX、Y、θステージ23は、支持面がガラススケール25よりもかなり小面積の小型のものであり、小型のものを用いることでコストダウンを図っている。X、Y、θステージ23の支持面の大きさは、例えば、ガラススケールのサイズが1000mm×1000mm×厚さ5mmの場合に、100〜300mm×100〜300mm程度でよい。
In FIG. 2, an X, Y, θ
図2及び図5において、ボール型支持装置26は、回転自在に保持されたボール26aを備え、そのボール26aで対象物を支えることができる構造のものであり、ここでは、そのボール26aでガラススケール25の下面を支持するように配置されている。このボール型支持装置26は、X、Y、θステージ23によって中央領域を支持されているガラススケール25の周縁領域の自重による撓みを抑制するように設けたものであり、自重による撓みが大きい4隅近傍を支えるようにそれぞれ配置されている。このボール型支持装置26でガラススケール25の下面を支えることで、ガラススケール25の自重による撓みを抑制し、ガラススケール25を水平状態に保持することができる。更に、ボール型支持装置26でガラススケール25を支持した際、ガラススケール25の下面を回転自在なボール26aで支えるため、ガラススケール25をX、Y、θステージ23によって移動或いは旋回させた際にスムーズな移動或いは旋回が可能である。
2 and 5, the ball
ボール型支持装置26には、ボールの高さ位置を調整することの可能な高さ調整機構26bが設けられている。高さ調整機構26bには、通常、調整ねじ方式のものが用いられ、特に、精密な調整が可能なようにピッチの小さい精密ねじを用いた高さ調整機構を用いることが好ましい。このように高さ調整機構26bを設けたことで、ボール型支持装置26で支持するガラススケール25の高さ位置を調整することができ、ガラススケール25のボール型支持装置26で支持した部分の高さを、X、Y、θステージ23で支持した部分の高さに高精度で一致させることができ、従ってガラススケール25を高精度で水平に保持することができる。なお、高さ調整機構26bは必須のものではなく、これを省略し、ボール型支持装置26を所望の高さとなるように製造し、組み付ける構成としてもよいが、高さ調整機構26bを設けておくと、ボール型支持装置26の製造精度や組み付け精度を低くしてもよく、このため、製造及び組み付けが容易となる。
The ball
X、Y、θステージ23及びボール型支持装置26によって支持されているガラススケール25は、複数のテンションユニット13によって張られているメタルマスク1の直ぐ下で、メタルマスク1に非接触ではあるが、極めて近接した位置となるように配置されている。ここで、ガラススケール25をメタルマスク1に対して非接触としたのは、両者が擦れ合って傷が付くのを防止するためであり、近接配置したのは、ガラススケール25の基準マーク42とメタルマスク1の開口部40とを同時に且つ正確に撮像可能とするためである。ガラススケール25とメタルマスク1の間隔は、後述するCCDカメラ30の焦点深度内に入るように設定されるもので、好ましくは50〜200μm程度に、更に好ましくは50〜100μm程度に設定しておく。前記したように、ガラススケール25はボール型支持装置26で支持されることで、撓みを抑制され、高精度で水平状態に保たれているため、ガラススケール25とメタルマスク1との間隔はガラススケール25の全面においてきわめて均一となっており、どの位置でもCCDカメラ30の焦点深度内に保たれている。
The
図1、図2において、アラインメント装置10は更に、支持台11に固定されている側枠27に水平に移動可能に保持された移動台28と、その移動台28に保持された4個の撮像手段30を備えている。この撮像手段30は、ガラススケール25の基準マークとメタルマスク1の開口部とを同時に撮像可能なものであり、この実施の形態ではCCDカメラが用いられている。CCDカメラ30は、メタルマスク1の領域A、B、C、Dにあるマスク部2の一つの開口部(好ましは、多数のマスク部2を配置した領域の四隅に近い位置の開口部)を同時に撮像することができる位置にそれぞれ設けられており、且つ、その焦点深度は、メタルマスク1の開口部とガラススケール25の基準マークを同時に撮像できるように定められている。
1 and 2, the
次に、上記構成のアラインメント装置10によるアラインメント動作を説明する。撮像手段30を保持している移動台28が、複数のテンションユニット13及びガラススケール25等の上方を外れた待機位置にある状態で、複数のテンションユニット13のフレーム支え20にフレーム3を保持させ、次いで、その上にメタルマスク1を乗せ、その4辺を複数のテンションユニット13のクランプ17で把持させる。この状態が図4に示す状態である。この際、複数の位置決めピン(図示せず)を用いてフレーム3に対してメタルマスク1を位置決めしておく。次に、移動台28がガラススケール25の上方に移動してきて、所定位置に停止する(図2参照)。次に、各クランプ17に連結している駆動手段(エアシリンダ)18に加圧エアを送って各クランプ17をメタルマスク1から離れる方向に移動させ、メタルマスク1に多数のクランプによって縦横両方向に小さいテンションを加え、メタルマスク1を張った状態とする。その後、位置決めピンを外してメタルマスク1に大きいテンションを支障なく加えることができるようにする。なお、メタルマスク1から位置決めピンを外しても、フレーム3に対するメタルマスク1の位置はあまり変動することはなく、メタルマスク1のフレーム3に対する所望の位置決め精度は保たれる。
Next, an alignment operation performed by the
次に、CCDカメラ30で撮像を開始し、モニター43(図9参照)に画像を表示する。オペレータはそれを確認しながら、X、Y、θステージ23を調整してガラススケール25の位置をX方向、Y方向、θ方向に移動させ、ガラススケール25の基準マーク42をメタルマスク1の開口部40に粗位置決めする。この際、ガラススケール25はボール型支持装置26の回転自在なボール26aによって支持されているためスムーズに移動でき、良好に粗位置決めされる。粗位置決めした後は、X、Y、θステージ23をその位置に固定し、モニター43で確認しながら、メタルマスク1にテンションを加えている複数のテンションユニット13の駆動手段18の駆動力を個々に調整してメタルマスク1に加えるテンションを調整し、4箇所の開口部40を対応する基準マーク42に一致させてゆく。そして、4箇所の開口部40が基準マーク42に一致すると、メタルマスク1に形成されている複数のマスク部2がそれぞれ所定の位置に位置決めされたこととなる。また、メタルマスク1はゆがみやたるみのない平坦な状態で且つマスク部2の開口部が平行に引き揃えられた状態となる。すなわち、メタルマスク位置アラインメントが完成する。
Next, imaging is started by the
その後は、メタルマスク1にテンションを加えた状態で、移動台28をメタルマスク1の上方を外れた待機位置に戻し、メタルマスク1をフレーム3にレーザ等(図示せず)を用いてスポット溶接(図4の符号33参照)し、固定する。その後、メタルマスク1をクランプ17から外し、メタルマスク1の周縁部分を易切断線5を利用して除去する。以上により、図8に示すように、フレーム3にメタルマスク1を多数のスポット溶接部33で固定した構成の蒸着マスクユニット8が製造される。
Thereafter, with the tension applied to the
得られた蒸着マスクユニット8では、メタルマスク1がゆがみやたるみの無い状態で且つマスク部2の開口部が正確に平行に揃った状態に保たれており、且つ各マスク部の位置も所定の寸法精度内に保たれている。かくして、この蒸着マスクユニット8を用いて蒸着を行うことにより、微細なパターンの蒸着を多面付けで正確に行うことができる。例えば、この蒸着マスクユニット8にガラス基板等の被蒸着基材を取り付け、蒸着機にセットし、有機EL素子の有機層又はカソード電極の蒸着を行うことで、微細なパターンの蒸着を位置精度良く行うことができ、高品質の有機層又はカソード電極を形成できる。
In the obtained vapor
なお、上記した実施の形態では、ガラススケール25の下方に透過用照明装置24を設け、ガラススケール25とメタルマスク1を透過した光をCCDカメラ30で撮像することで、ガラススケール25の基準マーク42とメタルマスク1の開口部40の重なり状態を監視しているが、CCDカメラ30による撮像は、下方からの透過光に限らず、表面側からの照明による反射光を用いる構成としてもよい。その場合、ガラススケール25の下に反射鏡を設けておくことが、メタルマスク1の開口部40を通過する反射光量を増すことができるので、好ましい。図6はその場合の実施の形態に係る基準位置指示装置22Aを用いたアラインメント装置を示すものである。この基準位置指示装置22Aでは、ガラススケール25の下面に反射鏡35を積層しておき、そのガラススケール25と反射鏡35との中央領域をX、Y、θステージ23で支持し、周縁領域の反射鏡35の下面をボール型支持装置26で支持する構成としている。この構成においても、ガラススケール25の自重による撓みをボール型支持装置26で抑制して、ガラススケール25を高精度で水平に保つことができ、従って、メタルマスク1とガラススケール25との間のギャップ寸法をガラススケール25の全面に渡って均一に保つことができ、ガラススケール25の基準マーク42とメタルマスク1の開口部40の重なり状態をCCDカメラ30で監視して、メタルマスクの位置アラインメントを正確に行うことができる。
In the above-described embodiment, the
以上に本発明の好適な実施の形態を説明したが、本発明はこの実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載の範囲内で適宜変更可能である。例えば、上記した実施の形態では、メタルマスク1に付加するテンション調整の際に、メタルマスク1の開口部40とガラススケール25の基準マーク42が正しく重なっているか否かの判断をモニター43を目視して行なっているが、目視による代わりにCCDカメラ30からの信号を画像処理して判定する構成としてもよい。また、上記実施の形態では、CCDカメラ30を4箇所に設けているが、これに限らず、1個或いは2個のCCDカメラ30を用い、そのCCDカメラ30を撮像すべき位置に移動させて用いる方法を採っても良い。ただし、図示の実施の形態のように、4箇所にCCDカメラ30を設けておくと、4箇所の開口部40を監視しながらテンション調整を行なうことができ、テンション調整を容易に且つ敏速に行なうことができる利点が得られる。更に、上記の実施の形態では、4個のマスク部2の開口部をガラススケールの基準マークに合わせることで、メタルマスク1の位置決めを行なっているが、位置合わせに用いるマスク部2は4個に限らず、適宜増減可能であり、例えばメタルマスクの縦方向のみ、或いは横方向のみの位置決めで十分な場合には、2個のマスク部2の開口部を用いて位置合わせを行なえばよい。
The preferred embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to this embodiment, and can be changed as appropriate within the scope of the claims. For example, in the above-described embodiment, when adjusting the tension applied to the
1 メタルマスク
2 マスク部
3 フレーム
4 開口
5 易切断線
8 蒸着マスクユニット
10 アラインメント装置
11 支持台
13 テンションユニット
15 ベース部材
16 直動案内
17 クランプ
17a 固定爪
17b 可動爪
18 駆動手段(エアシリンダ)
20 フレーム支え
22、22A 基準位置指示装置
23 X、Y、θステージ
24 透過用照明装置
25 ガラススケール
26 ボール型支持装置
26a ボール
26b 高さ調整機構
27 側枠
28 移動台
30 撮像手段(CCDカメラ)
33 スポット溶接部
40 開口部
42 基準マーク
43 モニター
44 明るい部分
DESCRIPTION OF
20
33
Claims (7)
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103143868A (en) * | 2013-03-08 | 2013-06-12 | 唐军 | Metal mask plate tensioning machine |
US8505389B2 (en) | 2009-09-11 | 2013-08-13 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask defect testing apparatus |
JP2014098592A (en) * | 2012-11-13 | 2014-05-29 | Dainippon Printing Co Ltd | Dimensional measuring apparatus for metal sheets, and dimensional measuring method for metal sheets |
CN107765170A (en) * | 2017-10-27 | 2018-03-06 | 珠海市博杰电子有限公司 | A kind of test device for eliminating flexible PCB breathing |
CN109177179A (en) * | 2018-09-30 | 2019-01-11 | 中煤航测遥感集团有限公司 | Mash welder and spot welding system |
US11484971B2 (en) | 2018-07-25 | 2022-11-01 | Japan Display Inc. | Manufacturing device for mask unit |
-
2005
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8505389B2 (en) | 2009-09-11 | 2013-08-13 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask defect testing apparatus |
TWI420235B (en) * | 2009-09-11 | 2013-12-21 | Samsung Display Co Ltd | Mask defect testing apparatus |
JP2014098592A (en) * | 2012-11-13 | 2014-05-29 | Dainippon Printing Co Ltd | Dimensional measuring apparatus for metal sheets, and dimensional measuring method for metal sheets |
CN103143868A (en) * | 2013-03-08 | 2013-06-12 | 唐军 | Metal mask plate tensioning machine |
CN107765170A (en) * | 2017-10-27 | 2018-03-06 | 珠海市博杰电子有限公司 | A kind of test device for eliminating flexible PCB breathing |
US11484971B2 (en) | 2018-07-25 | 2022-11-01 | Japan Display Inc. | Manufacturing device for mask unit |
CN109177179A (en) * | 2018-09-30 | 2019-01-11 | 中煤航测遥感集团有限公司 | Mash welder and spot welding system |
CN109177179B (en) * | 2018-09-30 | 2024-03-01 | 中煤航测遥感集团有限公司 | Spot welding machine and spot welding system |
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