JP2005116359A - Image display device - Google Patents

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JP2005116359A JP2003349531A JP2003349531A JP2005116359A JP 2005116359 A JP2005116359 A JP 2005116359A JP 2003349531 A JP2003349531 A JP 2003349531A JP 2003349531 A JP2003349531 A JP 2003349531A JP 2005116359 A JP2005116359 A JP 2005116359A
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Tomoya Onishi
智也 大西
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image display device using high voltage, capable of increasing reliability by preventing discharge generation. <P>SOLUTION: The image display device comprises a rear plate having at least an electron beam source, a face plate having a phosphor body for emitting light when receiving an electron beam radiation, and an anode electrode for applying electron acceleration voltage, and an enclosure for making the rear plate and the face plate vacuum-tight to maintain vacuum inside the device. No foreign particle of 10 μm or more exists in the vacuum sealed area of the image display device. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、フィールドエミッションディスプレイ(FED)などの電子線を利用した画像表示装置に関する。   The present invention relates to an image display apparatus using an electron beam such as a field emission display (FED).

CRTをはじめとする画像表示装置は、より一層の大判化が求められ研究が盛んに行なわれている。また大判化に伴い装置の薄型化・軽量化・低コスト化が重要な課題となっている。しかしながら、CRTは高電圧で加速した電子を偏向電極で偏向し、フェイスプレート上の蛍光体を励起するため、大判化をおこなうと原理的に奥行きが必要となり、薄型・軽量のものを提供する事が困難である。発明者らは前記の問題を解決し得る画像表示装置として、表面伝導型電子放出素子、ならびにこの表面伝導型電子放出素子を用いた画像表示装置について研究を行ってきた。   Image display devices such as CRTs are actively researched as they are required to have a larger size. In addition, with the increase in size, it is important to make the device thinner, lighter, and lower in cost. However, CRT deflects electrons accelerated by a high voltage with a deflecting electrode and excites the phosphor on the faceplate. Therefore, when a large format is used, a depth is required in principle, and a thin and lightweight product is provided. Is difficult. The inventors have studied a surface conduction electron-emitting device and an image display device using the surface conduction electron-emitting device as an image display device that can solve the above-described problems.

発明者らは、たとえば図10に示すマルチ電子ビーム源の応用を試みてきた。図中、4101は表面伝導型放出素子を模式的に示したもの、4102は列方向配線、4103は行方向配線であり、単純マトリクス状に配線したマルチ電子ビーム源を構成している。また、図10はこのマルチ電子ビーム源を用いた陰極線管(なお画像表示パネルと記載する場合もある)の構造であり、マルチ電子ビーム源を備えた外容器底4001(なおリアプレートと表記する場合もある。)と側壁4003(なお支持枠、外容器枠と記載する場合もある)と、蛍光体層4201およびメタルバック4203を備えたフェイスプレート4002からなる構造である。また、フェイスプレート4002上の蛍光体層4201には、電子ビームにより励起し発光させる蛍光体と、外光の反射を抑え蛍光体の混色を防ぐためのブラックマトリクスが設けられている。また、蛍光体層4201およびメタルバック4203には高圧導入端子より高電圧が印加されており、アノード電極を形成している。このような画像表示装置は、例えば特許文献1などに開示されている。   The inventors have tried to apply the multi-electron beam source shown in FIG. 10, for example. In the figure, reference numeral 4101 schematically shows a surface conduction electron-emitting device, 4102 is a column direction wiring, 4103 is a row direction wiring, and constitutes a multi-electron beam source wired in a simple matrix. FIG. 10 shows the structure of a cathode ray tube (also referred to as an image display panel) using this multi-electron beam source, and the outer container bottom 4001 provided with the multi-electron beam source (represented as a rear plate). And a side plate 4003 (which may be described as a support frame or an outer container frame), and a face plate 4002 provided with a phosphor layer 4201 and a metal back 4203. In addition, the phosphor layer 4201 on the face plate 4002 is provided with a phosphor that is excited by an electron beam to emit light and a black matrix that suppresses reflection of external light and prevents color mixture of the phosphor. In addition, a high voltage is applied to the phosphor layer 4201 and the metal back 4203 from the high voltage introduction terminal to form an anode electrode. Such an image display device is disclosed in, for example, Patent Document 1.

上記のような前記画像表示装置は、アノード電極の一部であるメタルバック4203に高電圧(なお加速電圧もしくはアノード電圧と表記する場合もある)を印加し、リアプレート4001とフェイスプレート4002の間に電界を生じさせ、電子ビーム源4101から放出した電子を加速し、蛍光体を励起させ発光させることにより画像を形成する。ここで、画像表示装置の輝度は加速電圧に大きく依存するため、高輝度化をおこなうためには加速電圧を高くする必要がある。また、画像表示装置の薄型化を実現するためには、画像表示パネルの厚さを薄くしなければならず、そのためリアプレート4001とフェイスプレート4002の距離を小さくしなければならない。このことより、リアプレート4001とフェイスプレート4002の間にはかなり高い電界が生じることになる。
特開2002−216633号公報
The image display apparatus as described above applies a high voltage (also referred to as an acceleration voltage or an anode voltage) to the metal back 4203 which is a part of the anode electrode, and between the rear plate 4001 and the face plate 4002. An image is formed by generating an electric field, accelerating the electrons emitted from the electron beam source 4101, exciting the phosphor, and emitting light. Here, since the luminance of the image display device greatly depends on the acceleration voltage, it is necessary to increase the acceleration voltage in order to increase the luminance. In order to reduce the thickness of the image display device, it is necessary to reduce the thickness of the image display panel. Therefore, the distance between the rear plate 4001 and the face plate 4002 must be reduced. As a result, a considerably high electric field is generated between the rear plate 4001 and the face plate 4002.
JP 2002-216633 A

しかしながら、以上説明した表示パネルにおいては、以下のような問題点があった。   However, the display panel described above has the following problems.

図11は、上述の表示パネルの断面を示す模式図である。   FIG. 11 is a schematic view showing a cross section of the display panel described above.

前記画像表示装置は、電子ビーム源4101を有するリアプレート4001とアノード電極であるメタルバック4203のあるフェイスプレート4002を有しており、アノード電極4203に加速電圧Vaが印加されている。ここでアノード電極4203は、フェイスプレート4002とリアプレート4001の間の真空ギャップにより絶縁されている。ここで真空ギャップの寸法は画像表示パネルの奥行きを規定することになり小さいほうが好ましい。しかしながら表示パネルの奥行きが小さくなると、同じ電圧をアノード電極4203に印加しても、それを距離で除した値である電界強度は大きくなってしまい、放電する確率が増加してしまう。放電が生じると画像表示装置の画質を著しく劣化してしまう可能性もあり、画像表示装置の信頼性向上にあたり大きな問題となる。   The image display device includes a rear plate 4001 having an electron beam source 4101 and a face plate 4002 having a metal back 4203 as an anode electrode, and an acceleration voltage Va is applied to the anode electrode 4203. Here, the anode electrode 4203 is insulated by a vacuum gap between the face plate 4002 and the rear plate 4001. Here, the dimension of the vacuum gap defines the depth of the image display panel, and is preferably smaller. However, when the depth of the display panel is reduced, even if the same voltage is applied to the anode electrode 4203, the electric field intensity, which is a value obtained by dividing the same voltage by the distance, increases, and the probability of discharge increases. When the discharge occurs, the image quality of the image display apparatus may be significantly deteriorated, which is a serious problem in improving the reliability of the image display apparatus.

ここでリアプレート4001上の電子ビーム源4101から放出された電子はフェイスプレート4002に飛翔しなければならないので、画像表示装置のリアプレート4001・フェイスプレート4002・側壁4003に囲まれた内部は真空に保たれる必要がある。真空中における放電の原因としては、(1)カソード(ここではリアプレート4001)上に存在する微小突起に電界集中による電子放出が発生し、微小突起に流れる電流によるジュール熱で微小突起が加熱される(陰極加熱説)、もしくは対向のアノード(ここではフェイスプレート4002)が電子衝突により加熱される(陽極加熱説)ことにより放電にいたる、(2)電極に付着しているクランプ・微小粒子などが静電力で遊離・加速されて電極に衝突し、電極や粒子が加熱されることにより放電にいたる(クランプ説)、などがあげられる。   Here, since electrons emitted from the electron beam source 4101 on the rear plate 4001 must fly to the face plate 4002, the inside of the image display device surrounded by the rear plate 4001, the face plate 4002, and the side wall 4003 is evacuated. Need to be kept. The causes of discharge in vacuum are as follows: (1) Electron emission due to electric field concentration occurs in the microprotrusions existing on the cathode (here, the rear plate 4001), and the microprotrusions are heated by Joule heat due to the current flowing through the microprotrusions. (Cathode heating theory), or the opposite anode (face plate 4002 in this case) is heated by electron impact (anode heating theory), resulting in discharge, (2) clamps, fine particles attached to the electrode, etc. Are released and accelerated by electrostatic force, collide with the electrode, and the electrode and particles are heated to cause discharge (clamp theory).

また、画像表示パネルの大判化を行うと、製造プロセス中に混入する異物粒子や部材から脱落する部材脱落物が、面積の増大に伴い混入する可能性が高くなる。したがって、表示パネルを大判化すればするほど(2)のクランプ説/異物粒子による放電の影響が大きくなる。   Further, when the image display panel is enlarged, there is a high possibility that foreign particles mixed during the manufacturing process and member dropouts falling off the members are mixed in as the area increases. Therefore, the larger the display panel is, the greater the influence of the discharge due to the clamp theory / foreign particles in (2).

このような画像表示パネルの製造工程において、100umよりも小さい異物粒子の混入は、(1)リアプレート/フェイスプレートともに数十〜数百μm大きさの構造物が作りこまれているため、同等以下の大きさの粒子は発見しづらい、(2)リアプレート/フェイスプレートの基板サイズが大きいため、異物を除去しようとしても再付着しやすい、(3)異物粒子サイズが小さくなると、異物の除去自体が困難になる、などの問題が発生する。したがって、表示パネルの製造工程の設計を行う際に、上記のような異物についてその混入・発生の防止/検査・発見方法/除去方法などの設計が必要不可欠である。上記のような理由から画像表示パネル中に存在が許される異物粒子の大きさを明確にし、それをもとに製造工程の設計を行うことが切望されていた。   In the manufacturing process of such an image display panel, mixing of foreign particles smaller than 100 μm is equivalent to (1) a structure having a size of several tens to several hundreds μm is built in both the rear plate and the face plate. Particles of the following sizes are difficult to find, (2) The rear plate / face plate has a large substrate size, so it is easy to reattach even when trying to remove foreign matter. (3) Foreign matter removal when the foreign particle size is small Problems such as difficulty in itself occur. Therefore, when designing the manufacturing process of the display panel, it is indispensable to design the foreign matters as described above, such as the prevention / inspection / discovery method / removal method of contamination / generation. For the reasons described above, it has been desired to clarify the size of foreign particles allowed to exist in the image display panel and to design the manufacturing process based on the size.

本発明はこれらの問題を解決することにより画像表示装置の放電を抑制し、良好な歩留まり、さらには信頼性の高い画像表示装置を提供することを目的とする。   It is an object of the present invention to provide an image display device that suppresses discharge of the image display device by solving these problems, has a good yield, and has high reliability.

本発明の画像表示装置は前記課題を解決する手段として、
少なくとも電子ビーム源を有するリアプレートと、
電子ビーム照射により発光する蛍光体および電子加速電圧を印加するためのアノード電極を有するフェイスプレートと、
該リアプレートと該フェイスプレートを真空気密するための外囲器を備え、
内部が真空に保たれている画像表示装置において、
該画像表示装置の真空気密領域には、10μm以上の異物粒子が存在しないことを特徴とする。
The image display apparatus of the present invention is a means for solving the above-described problems.
A rear plate having at least an electron beam source;
A face plate having a phosphor that emits light by electron beam irradiation and an anode electrode for applying an electron acceleration voltage;
An envelope for vacuum-tightening the rear plate and the face plate;
In the image display device in which the inside is kept in vacuum,
The image display device is characterized in that no foreign particles of 10 μm or more are present in the vacuum-tight region.

ここで、平均電界強度とはアノード電圧(アノード電極の電位とリアプレート電位の差)をフェイスプレートとリアプレートの平均間隔で除した値とする。また、画像表示パネル内の真空度は平均自由行程が十分長くなり、パッシェン則にてもっとも放電電圧の低くなる真空度(パッシェンミニマム)よりも十分低くなる1.0[Pa]以下とする。   Here, the average electric field strength is a value obtained by dividing the anode voltage (the difference between the potential of the anode electrode and the rear plate potential) by the average distance between the face plate and the rear plate. The degree of vacuum in the image display panel is set to 1.0 [Pa] or less, which is sufficiently lower than the degree of vacuum (Paschen minimum) at which the mean free path is sufficiently long and the discharge voltage is the lowest according to Paschen's law.

また、ここでいう異物粒子とは、次のように定義することとする。   Further, the foreign particles here are defined as follows.

<形状>形状は球形に限らず、粒状・薄片状・フレーク状・微結晶などどのような形状も指す。異物粒子による放電は、粒子が静電力により部材から離脱し、電極間電圧により加速されて、対向電極に衝突して破壊が起こるために、粒子は静電力で離脱することが放電するのに必要となる。したがってここでいう異物粒子とは、画像表示パネル構成部材(例;リアプレート上の構造物(電極など))に固定(付着ではない)されているものは含まず、可動性の物とする。   <Shape> The shape is not limited to a spherical shape, but refers to any shape such as granular, flaky, flaky, or microcrystalline. Discharge due to foreign particles is necessary for discharging because particles are detached from the member by electrostatic force, accelerated by the interelectrode voltage, and collide with the counter electrode to cause destruction. It becomes. Accordingly, the foreign particles referred to here do not include those fixed (not attached) to the image display panel constituting member (eg, a structure (electrode or the like) on the rear plate), and are assumed to be movable.

<大きさ>大きさは、粒子径のうち最長となる部分をもって粒子の大きさとする(長細い形状のものは、長手の径の長さを大きさとする)。   <Size> The size is defined as the size of the particle with the longest part of the particle diameter (in the case of an elongated shape, the length of the longitudinal diameter is the size).

<材料>可動性のものであれば材料は限定されない。たとえば部材の一部が脱落して可動性になったものは異物粒子とする。   <Material> The material is not limited as long as it is movable. For example, a part of the member that falls off and becomes movable is regarded as a foreign particle.

また、本発明の画像表示装置は、アノード電極に印加されるアノード電圧が7kV以上であることを特徴とする。   In the image display device of the present invention, the anode voltage applied to the anode electrode is 7 kV or more.

また、本発明の画像表示装置は、前記リアプレートと前記フェイスプレートの平均間隔が2mm以下であることを特徴とする。   In the image display device of the present invention, an average interval between the rear plate and the face plate is 2 mm or less.

また、本発明の画像表示装置は、前記画像表示装置は耐大気圧支持構造(スペーサ)を備えたことを特徴とする。   The image display device of the present invention is characterized in that the image display device includes an atmospheric pressure-resistant support structure (spacer).

また、本発明の画像表示装置は、前記画像表示装置の前記フェイスプレートは、メタルバックを備えたことを特徴とする。   The image display device of the present invention is characterized in that the face plate of the image display device includes a metal back.

また、本発明の画像表示装置は、
少なくとも電子ビーム源を有するリアプレートと、
電子ビーム照射により発光する蛍光体および電子加速電圧を印加するためのアノード電極を有するフェイスプレートと、
該リアプレートと該フェイスプレートを真空気密するための外囲器を備え、
内部が真空に保たれている画像表示装置において、
該画像表示装置の真空気密領域には、3μm以上の異物粒子が存在しないことを特徴とする。
Moreover, the image display device of the present invention includes:
A rear plate having at least an electron beam source;
A face plate having a phosphor that emits light by electron beam irradiation and an anode electrode for applying an electron acceleration voltage;
An envelope for vacuum-tightening the rear plate and the face plate;
In the image display device in which the inside is kept in vacuum,
The image display device is characterized in that no foreign particles having a size of 3 μm or more exist in the vacuum-tight region.

また、本発明の画像表示装置は、前記画像表示装置において、前記電子ビーム源は表面伝導型電子放出素子である事を特徴とする。   The image display device of the present invention is characterized in that in the image display device, the electron beam source is a surface conduction electron-emitting device.

〔作用〕
本発明の画像表示装置は、上記のように画像表示装置の真空気密領域には10μm以上の異物粒子が存在しないことにより、異物粒子起因の放電の発生をなくすことができ、信頼性の高い画像表示装置を得ることができる。
[Action]
As described above, the image display device of the present invention can eliminate the occurrence of discharge due to foreign particles because there are no foreign particles having a size of 10 μm or more in the vacuum-tight region of the image display device. A display device can be obtained.

このことは以下のように説明できる。   This can be explained as follows.

異物粒子による放電は、異物粒子が画像表示パネル内の電界により帯電し、クーロン力を受けることにより、異物粒子が加速しエネルギーを得て対向基板に衝突、電極や粒子が加熱されることにより放電にいたる。   Discharge due to foreign particles is charged when the foreign particles are charged by the electric field in the image display panel and are subjected to Coulomb force, so that the foreign particles are accelerated to obtain energy and collide with the counter substrate, and the electrodes and particles are heated. To go.

ここで、球状の粒子の粒径(半径)をrとし、平行平板電極にはさまれたギャップ間の電圧をV/電界をE(ギャップをdとするとE=V/d)とすると、粒子の帯電電荷量q(絶対値)は次の数式1のようにあらわされる。   Here, when the particle size (radius) of the spherical particles is r, and the voltage between the gaps sandwiched between the parallel plate electrodes is V / electric field is E (E = V / d where the gap is d), the particles The charged charge amount q (absolute value) is expressed by the following formula 1.

ここでεは媒質の誘電率(ここでは真空)とする。誘起される電荷量は、粒子がカソード側に付着している場合はマイナスであり、アノード側に付着している場合にはプラスとなる。そのため帯電した異物粒子には、対向基板に向かう方向へ近似的に以下の力Fがくわわり、この力Fにより粒子は電界からエネルギーを得て、運動エネルギーを蓄える(数式2)。   Here, ε is the dielectric constant of the medium (here, vacuum). The amount of charge induced is negative when the particles are attached to the cathode side, and is positive when the particles are attached to the anode side. For this reason, the charged foreign particles are approximately subjected to the following force F in the direction toward the counter substrate, and by this force F, the particles obtain energy from the electric field and store kinetic energy (Formula 2).

粒子が一方の電極から、もう一方の電極に飛翔するまでに蓄える運動エネルギーは、粒子が飛び出す寸前にもっているポテンシャルエネルギーに等しくなるため、   Since the kinetic energy that is stored by the time a particle flies from one electrode to the other electrode is equal to the potential energy that is about to come out,

となる(数式3)。 (Equation 3)

したがって、粒子の得るエネルギーおよび電荷量は電圧Vと粒子半径rに依存し、電圧Vが大きくなる/粒子半径rが大きくなることによって、粒子のもつエネルギーおよび電荷量が大きくなる。これらのことから、異物粒子による放電は電圧Vと異物粒子半径rに依存していることが予測される。   Therefore, the energy and charge amount obtained by the particles depend on the voltage V and the particle radius r, and the energy and charge amount of the particles increase as the voltage V increases / the particle radius r increases. From these facts, it is predicted that the discharge by the foreign particles depends on the voltage V and the foreign particle radius r.

異物粒子による放電における放電時の電界強度の異物粒径(直径)依存性は、粒径が大きくなるに従い放電時の電界強度が低下する。発明者等は更に鋭意検討した結果、使用する電極の材料(リアプレートおよびフェイスプレート)や、電極の寸法、粒子の散布量、使用時間などのパラメーターが異物粒子による放電に関係あることを見出し、実際の画像表示パネルに近い状態で、異物粒子による放電における放電時の電界強度の異物粒径(直径)依存性を取得した(図1に示す)。   The dependence of the electric field strength upon discharge in the discharge caused by foreign particles on the particle size (diameter) of the discharge decreases as the particle size increases. As a result of further intensive studies, the inventors have found that parameters such as the electrode material used (rear plate and face plate), the electrode dimensions, the amount of particles dispersed, and the usage time are related to the discharge due to foreign particles, In a state close to an actual image display panel, the particle size (diameter) dependence of the electric field strength at the time of discharge in the discharge with foreign particles was obtained (shown in FIG. 1).

図1からわかるように、平均電界強度が1×10^6[V/m]の際には、該画像表示装置の真空気密領域には、10μm以上の異物粒子を存在させないことにより、放電が発生せず信頼性の高い画像表示装置を得ることができる。   As can be seen from FIG. 1, when the average electric field strength is 1 × 10 ^ 6 [V / m], discharge is not caused by the presence of foreign particles of 10 μm or more in the vacuum-tight region of the image display device. A highly reliable image display device that does not occur can be obtained.

また、前記のような画像表示装置は、電圧で加速した電子線を蛍光体に照射して発光させるのだが、蛍光体は一般に加速電圧が高いほうが発光効率が高い(〜30kV程度の領域で)傾向をもつので、高輝度化には高加速電圧が必要になる。ここで数式3からわかるように、粒子のもつエネルギーは単に電界強度だけでなく、加速電圧の依存性もある。したがって、アノード電極に印加されるアノード電圧が7kV以上であるような画像表示装置で、10μm以上の異物粒子の存在をなくすことにより、高輝度を得ると同時に放電が発生せず信頼性の高い画像表示装置を得ることができる。   In addition, the image display device as described above emits light by irradiating a phosphor with an electron beam accelerated by a voltage, but the phosphor generally has higher luminous efficiency when the acceleration voltage is higher (in the region of about 30 kV). Since it has a tendency, high acceleration voltage is required for high brightness. Here, as can be seen from Equation 3, the energy of the particles is not only the electric field strength, but also depends on the acceleration voltage. Therefore, in an image display device in which the anode voltage applied to the anode electrode is 7 kV or more, by eliminating the presence of foreign particles of 10 μm or more, high luminance is obtained and at the same time, no discharge occurs and a highly reliable image. A display device can be obtained.

また、前記の画像表示装置は薄型化が求められているのだが、表示パネルのギャップを小さくすると、電界強度が増大してしまう。したがって前記リアプレートと前記フェイスプレートの平均間隔が2mm以下である画像表示装置において、10μm以上の異物粒子の存在をなくすことにより、表示パネルの薄型化を可能とすると同時に放電が発生せず信頼性の高い画像表示装置を得ることができる。   Further, the image display device is required to be thin, but if the gap of the display panel is reduced, the electric field strength is increased. Accordingly, in the image display device in which the average distance between the rear plate and the face plate is 2 mm or less, the presence of foreign particles of 10 μm or more can be reduced, and the display panel can be made thin and at the same time, no discharge is generated and the reliability is reduced. High image display device can be obtained.

また、前記の画像表示装置の大判化を測るために、画像表示パネルの面積が大きくすると、画像表示パネルにかかる大気圧が増大する。そのため、画像表示パネルには耐大気圧支持構造(スペーサ)が必要となる。このような大判の画像表示装置では、異物が混入しやすく除去しにくいため異物による放電がさらに問題となる。   Further, if the area of the image display panel is increased in order to measure the size of the image display device, the atmospheric pressure applied to the image display panel increases. Therefore, the image display panel needs an atmospheric pressure resistant support structure (spacer). In such a large-sized image display device, since foreign matter is easily mixed and difficult to remove, discharge due to the foreign matter becomes a further problem.

また、前記の画像表示装置のフェイスプレートに、CRTの分野で公知であるメタルバック(主として材料はアルミニウムで、1μm以下の薄膜)を用いることがある。これは、蛍光体の発光は全方位にわたるため、後方(リアプレート側)に出た光を金属膜で反射させ前方(観察者、ユーザー)側に取り出し、発光効率を向上させると同時にアノード電極の役割を果たすものである。ここで、メタルバックは薄膜状(1μm以下)のアルミニウムを使用することが多い。またメタルバックはガラス基板などに密着しているわけではなくポーラスな蛍光体に部分的に接合している形態のため、その膜は弱く熱容量も小さい。このことよりアノード電極にメタルバックを使用した画像表示装置では、異物粒子による放電が起こりやすくなる。したがってフェイスプレートにメタルバックを備えた画像表示装置において、10μm以上の異物粒子の存在をなくすことにより、高輝度を得ると同時に放電が発生せず信頼性の高い画像表示装置を得ることができる。   Also, a metal back (mainly made of aluminum and a thin film of 1 μm or less) known in the field of CRT may be used for the face plate of the image display device. This is because the phosphor emits light in all directions, and the light emitted backward (rear plate side) is reflected by the metal film and extracted forward (observer, user) side to improve the luminous efficiency and at the same time the anode electrode It plays a role. Here, the metal back often uses a thin film (1 μm or less) of aluminum. In addition, the metal back is not in close contact with a glass substrate or the like but is partially bonded to a porous phosphor, so that the film is weak and has a small heat capacity. For this reason, in an image display device using a metal back for the anode electrode, discharge due to foreign particles is likely to occur. Therefore, by eliminating the presence of foreign particles of 10 μm or more in an image display device having a metal plate on the face plate, it is possible to obtain a high-reliability image display device with high luminance and no discharge.

また、薄型化かつ高輝度を達成するために、表示パネルの平均電界強度が5×10^6[V/m]以上になる場合には、画像表示装置の真空気密領域には、3μm以上の異物粒子を存在させないことで、放電が発生せず信頼性の高い画像表示装置を得ることができる。   Further, in order to achieve thinning and high luminance, when the average electric field strength of the display panel is 5 × 10 6 [V / m] or more, the vacuum hermetic region of the image display device has 3 μm or more. By eliminating the presence of foreign particles, a highly reliable image display device can be obtained without discharge.

本発明によれば、少なくとも電子ビーム源を有するリアプレートと、電子ビーム照射により発光する蛍光体および電子加速電圧を印加するためのアノード電極を有するフェイスプレートと、該リアプレートと該フェイスプレートを真空気密するための外囲器を備え、内部が真空に保たれている画像表示装置において、該画像表示装置の真空気密領域に存在する異物粒子の大きさを制限することにより、異物粒子による放電をなくすことができ、歩留まり良く信頼性の高い画像表示装置を得ることができる。   According to the present invention, at least a rear plate having an electron beam source, a phosphor that emits light by electron beam irradiation, and a face plate having an anode electrode for applying an electron acceleration voltage, the rear plate and the face plate are evacuated. In an image display device provided with an airtight envelope and maintained in a vacuum inside, by restricting the size of foreign particles present in the vacuum airtight region of the image display device, discharge due to foreign particles is prevented. Therefore, an image display device with high yield and high reliability can be obtained.

以下に図面を参照して、この発明を実施するための最良の形態を例示的に詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない場合は、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨の物ではない。   The best mode for carrying out the present invention will be exemplarily described in detail below with reference to the drawings. However, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of the components described in this embodiment are not intended to limit the scope of the present invention to those unless otherwise specified. Absent.

以下に図2および図3を参照し、本発明第1の実施例について説明する。   The first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

図2は、実施例に用いた表示パネルの斜視図であり、内部構造を示すためにパネルの一部を切り欠いて示している。   FIG. 2 is a perspective view of the display panel used in the embodiment, and a part of the panel is cut away to show the internal structure.

図中、1001は外容器底(なおリアプレートと表記する場合もある)、1003は側壁、1002はフェイスプレートであり、1001〜1003により表示パネルの内部を真空に維持するための気密容器を形成している。ここでリアプレート1001とフェイスプレート1002の間の間隔(ギャップ)は5mmとした。   In the figure, reference numeral 1001 denotes an outer container bottom (sometimes referred to as a rear plate), 1003 denotes a side wall, and 1002 denotes a face plate, and 1001 to 1003 form an airtight container for maintaining the inside of the display panel in a vacuum. doing. Here, the interval (gap) between the rear plate 1001 and the face plate 1002 was set to 5 mm.

ここで、リアプレート1001には表面伝導型放出素子1101がN×M個形成されている。(N,Mは2以上の正の整数であり、目的とする表示画素数に応じて適宜設定される。本実施例においては、N=240,M=80とした。)前記N×M個の表面伝導型放出素子1101は、M本の行方向配線1103とN本の列方向配線1102により単純マトリクス配線されている。前記、1101〜1103によって構成される部分をマルチ電子ビーム源と呼ぶ。   Here, N × M surface conduction electron-emitting devices 1101 are formed on the rear plate 1001. (N and M are positive integers of 2 or more, and are appropriately set according to the target number of display pixels. In this embodiment, N = 240 and M = 80.) N × M The surface conduction electron-emitting devices 1101 are simply matrix-wired by M row-directional wirings 1103 and N column-directional wirings 1102. The portion constituted by 1101 to 1103 is called a multi-electron beam source.

また、フェイスプレート1002は、蛍光体膜1201を内包するアノード電極1204を有し、高圧導入部1005を通じてアノード電位が供給されている。高圧取り出し部には不図示の高圧導入端子がフェイスプレート1002側に設けられており、高圧電源1006に接続されている。   The face plate 1002 includes an anode electrode 1204 that encloses the phosphor film 1201, and an anode potential is supplied through the high-pressure introduction unit 1005. The high voltage take-out section is provided with a high voltage introduction terminal (not shown) on the face plate 1002 side, and is connected to a high voltage power source 1006.

このような画像表示装置を、後述する製造工程により作製し、工程中に随時異物粒子の除去工程を行うことで、10μm以上の異物粒子が混入していない画像表示装置を得た。ここで、表示パネル中の異物粒子の観察法は後述する。   Such an image display device was manufactured by a manufacturing process described later, and a foreign particle removal process was performed as needed during the process, thereby obtaining an image display device in which foreign particles of 10 μm or more were not mixed. Here, a method for observing foreign particles in the display panel will be described later.

このようにして得た画像表示装置に、アノード電圧5kVを印加したところ、長期間に渡り放電が起こらず、安定した画像を表示できた。   When an anode voltage of 5 kV was applied to the image display device thus obtained, no discharge occurred over a long period of time, and a stable image could be displayed.

次に、表示パネルに用いたマルチ電子ビーム源について説明する。   Next, the multi electron beam source used for the display panel will be described.

本発明の画像表示装置に用いるマルチ電子ビーム源は、冷陰極素子を単純マトリクス配もしくははしご型配置した電子源であれば、冷陰極素子の材料や形状あるいは製法に制限はない。したがって、たとえば表面伝導型電子放出素子や、電界放出型(FE型)電子放出素子、あるいはMIM型電子放出素子などの電子放出素子を用いることができる。   As long as the multi electron beam source used in the image display apparatus of the present invention is an electron source in which the cold cathode elements are arranged in a simple matrix or a ladder, there is no limitation on the material, shape or manufacturing method of the cold cathode elements. Therefore, for example, an electron-emitting device such as a surface conduction electron-emitting device, a field emission type (FE type) electron-emitting device, or an MIM type electron-emitting device can be used.

ただし、表示画面が大きくてしかも安価な表示装置が求められる状況のもとでは、これらの冷陰極素子の中でも、表面伝導型電子放出素子が特に好ましい。表面伝導型放出素子は、比較的製造方法が単純なため、大面積化や製造コストの低減が容易である。したがって、高輝度で大画面の画像表示装置のマルチ電子ビーム源に用いるには、最も好適であると言える。   However, a surface conduction electron-emitting device is particularly preferable among these cold cathode devices under a situation where a display device having a large display screen and a low price is required. Since the surface conduction electron-emitting device is relatively simple to manufacture, it is easy to increase the area and reduce the manufacturing cost. Therefore, it can be said that it is most suitable for use in a multi-electron beam source of a high-luminance and large-screen image display device.

次に、図3をもちいて本発明を適用した画像表示装置の表示パネルの製造法について、具体的な例を示して説明する。   Next, a method for manufacturing a display panel of an image display device to which the present invention is applied will be described with reference to FIG.

(リアプレート工程)
<工程R−1;異物除去(1)>
厚さ3mmのソーダライムガラス基板に以下の異物除去方法(1)を行った。
(Rear plate process)
<Step R-1; foreign matter removal (1)>
The following foreign substance removal method (1) was performed on a 3 mm thick soda lime glass substrate.

異物除去(1);ガラス基板に付着している異物粒子、および油分・汚れを除去するために、ウェット洗浄を行った。洗浄液としては水・アルカリ性水溶液・酸性水溶液・アルコールやケトンなどの有機溶剤などが使用される。また、必要に応じて界面活性剤などを添加したり、多種類の液体を混合して洗浄液として用いたり、数種の液体を順次用いて洗浄してもよい。また、洗浄の際に洗浄液およびまたはガラス基板を加熱する事によって洗浄効果を高めることができる。   Foreign matter removal (1): In order to remove foreign matter particles adhering to the glass substrate, oil and dirt, wet cleaning was performed. As the cleaning liquid, water, an alkaline aqueous solution, an acidic aqueous solution, an organic solvent such as alcohol or ketone, and the like are used. Further, if necessary, a surfactant or the like may be added, various kinds of liquids may be mixed and used as a washing liquid, or several kinds of liquids may be sequentially used for washing. Further, the cleaning effect can be enhanced by heating the cleaning liquid and / or the glass substrate during cleaning.

<工程R−2;配線、電極の形成>
洗浄した青板ガラスの表面に、0.5[μm]のSiO2層をスパッタリングにより形成し、スパッタ成膜法とフォトリソグラフィー法を用いて表面伝導型電子放出素子の素子電極1105を形成する。材質はTiとNiを積層したものである。また、素子電極間隔は2[μm]とした(図6(a))。
<Step R-2: Formation of wiring and electrodes>
A 0.5 [μm] SiO 2 layer is formed by sputtering on the surface of the cleaned soda glass, and an element electrode 1105 of a surface conduction electron-emitting device is formed by using a sputtering film forming method and a photolithography method. The material is a laminate of Ti and Ni. The element electrode spacing was 2 [μm] (FIG. 6A).

続いて、Agペーストを所定の形状に印刷し、焼成することにより列方向配線1102を形成した。列方向配線1102は電子源形成領域の外部まで延長され、電子源駆動用配線となる(図6(b))。   Subsequently, an Ag paste was printed in a predetermined shape and baked to form column-direction wirings 1102. The column direction wiring 1102 is extended to the outside of the electron source formation region and becomes an electron source driving wiring (FIG. 6B).

次に、PbOを主成分とし、ガラスバインダを混合したペーストを用い、同じく印刷法により絶縁層1106を形成する。これは上記列方向配線1102と後述の行方向配線1103を絶縁するものである。尚、素子電極1105の部分には切り欠きを設けて、行方向配線1103と素子電極1105の接続をとるようにしてある(図6(c))。   Next, an insulating layer 1106 is formed by a printing method using a paste containing PbO as a main component and a glass binder. This insulates the column direction wiring 1102 from the row direction wiring 1103 described later. Note that a notch is provided in the portion of the element electrode 1105 to connect the row direction wiring 1103 and the element electrode 1105 (FIG. 6C).

続いて、行方向配線1103を上記絶縁層1106上に形成する(図6(d))。方法は列方向配線1102の場合と同じである。   Subsequently, row direction wirings 1103 are formed on the insulating layer 1106 (FIG. 6D). The method is the same as in the case of the column direction wiring 1102.

<工程R−3;異物除去(1)>
素子電極および配線を作成した基板に付着した異物粒子を除去するために、異物除去を行う。ここでは、工程R−1と同様に異物除去(1)(ウェット洗浄)を行った。
<Step R-3; Foreign matter removal (1)>
Foreign matter removal is performed in order to remove foreign matter particles adhering to the substrate on which the device electrodes and wiring are formed. Here, foreign matter removal (1) (wet cleaning) was performed as in step R-1.

<工程R−4;電子ビーム源作製>
続いて、PdOよりなる導電性膜1104を形成する。導電性膜1104の形成方法は、行・列方向配線1102・1103を形成した基板(リアプレート)1001上に、スパッタリング法によりCr膜を形成し、フォトリソグラフィー法により、導電性膜1104の形状に対応する開口部をCr膜に形成する。続いて、有機Pd錯体化合物の溶液を塗布して、大気中300[℃]の焼成を行って、PdO膜を形成した後、上記Cr膜をウェットエッチングにより除去して、リフトオフにより所定の形状の素子膜1104とする(図6(e))。
<Step R-4; Production of electron beam source>
Subsequently, a conductive film 1104 made of PdO is formed. The conductive film 1104 is formed by forming a Cr film by sputtering on a substrate (rear plate) 1001 on which row / column-direction wirings 1102 and 1103 are formed, and forming the conductive film 1104 into a shape by photolithography. Corresponding openings are formed in the Cr film. Subsequently, a solution of an organic Pd complex compound is applied and baked at 300 [° C.] in the atmosphere to form a PdO film. Then, the Cr film is removed by wet etching, and a predetermined shape is formed by lift-off. The element film 1104 is formed (FIG. 6E).

次に、上記リアプレート1001を、不図示の真空排気装置に接続し排気する。装置内の圧力が10−4[Pa]以下となったところで、フォーミング処理を行う。フォーミング工程は、行方向の各行毎に、行方向配線に波高値の漸増するパルス電圧を印加して行った。尚、フォーミング用のパルスの電流値を測定して、電子放出素子の抵抗値を同時に測定し、1素子あたりの抵抗値が1[MΩ]を越えたところで、その行のフォーミング処理を終了し、次の行の処理に移る。これを繰り返して、全ての行についてフォーミング処理を完了する。 Next, the rear plate 1001 is connected to a vacuum exhaust device (not shown) and exhausted. When the pressure in the apparatus becomes 10 −4 [Pa] or less, a forming process is performed. The forming process was performed by applying a pulse voltage having a gradually increasing peak value to the row direction wiring for each row in the row direction. In addition, the current value of the forming pulse is measured, the resistance value of the electron-emitting device is measured at the same time, and when the resistance value per element exceeds 1 [MΩ], the forming process for the row is terminated. Move on to the next line. This is repeated to complete the forming process for all rows.

次に、活性化工程処理を行う。この処理に先立ち、上記真空装置を、圧力を10−5[Pa]以下まで下げる。続いて、アセトンを真空装置内に導入する。圧力は1.3×10−2[Pa]となるよう導入量を調整した。続いて、行方向配線にパルス電圧を印加する。1パルス毎にパルスを加える行方向配線を隣の行に切り替え、順次行方向の各配線にパルスを印加することを繰り返す。この処理の結果、各電子放出素子の電子放出部近傍に炭素を主成分とする堆積膜が形成され、素子電流Ifおよび放出電流Ieが大きくなる。このようにして画像表示装置の電子ビーム源1101を作製した。 Next, an activation process is performed. Prior to this treatment, the vacuum apparatus lowers the pressure to 10 −5 [Pa] or less. Subsequently, acetone is introduced into the vacuum apparatus. The introduction amount was adjusted so that the pressure was 1.3 × 10 −2 [Pa]. Subsequently, a pulse voltage is applied to the row direction wiring. The row direction wiring to which a pulse is applied for each pulse is switched to the adjacent row, and the pulse is sequentially applied to each wiring in the row direction. As a result of this processing, a deposited film containing carbon as a main component is formed in the vicinity of the electron emission portion of each electron emission device, and the device current If and the emission current Ie increase. In this manner, an electron beam source 1101 of the image display device was manufactured.

<工程R−5;異物除去(2)>
電子ビーム源1101を作製したリアプレート1001に付着した異物粒子を除去するために、以下の異物除去(2)を行った。
<Step R-5; Foreign matter removal (2)>
In order to remove the foreign particles adhering to the rear plate 1001 from which the electron beam source 1101 was manufactured, the following foreign matter removal (2) was performed.

異物除去(2);リアプレート(後述のフェイスプレート工程においては、フェイスプレート)への影響を小さくするため、ドライエアクリーニングを行った。ドライクリーニングの方法としては高圧のドライエアーを吹き付けることにより、異物粒子を吹き飛ばす手法を用いた。ここで、吹き飛んだ異物粒子が再付着するのを防ぐために、集塵手段を設けると更に効果が期待される。集塵手段としてはドライエアー吹き付けと同時に、エアーの吸引を行うのが効果的であるが、これに限ったものではない。また、吹き付けるドライエアーに超音波を重畳してやることにより、更に異物除去の効果を向上することができる。以上のようにして作製したリアプレート1001を、後述する封着工程で、フェイスプレート1002と一体化を行う。   Foreign matter removal (2): In order to reduce the influence on the rear plate (face plate in the face plate process described later), dry air cleaning was performed. As a dry cleaning method, a method of blowing off foreign particles by blowing high-pressure dry air was used. Here, in order to prevent the foreign particles that have been blown off from re-adhering, it is expected that a further effect will be expected if dust collecting means is provided. As a dust collecting means, it is effective to suck air simultaneously with dry air blowing, but it is not limited to this. Moreover, the effect of removing foreign matters can be further improved by superimposing ultrasonic waves on the dry air to be blown. The rear plate 1001 manufactured as described above is integrated with the face plate 1002 in a sealing step described later.

(フェイスプレート工程)
<工程F−1;異物除去(1)>
厚さ3mmのソーダライムガラス基板にリアプレート工程R−1と同様に異物除去(1)(ウェット洗浄)を行った。
(Face plate process)
<Step F-1; Foreign matter removal (1)>
Foreign matter removal (1) (wet cleaning) was performed on a 3 mm thick soda lime glass substrate in the same manner as in the rear plate step R-1.

<工程F−2;アノード電極作製>
洗浄を行ったガラス基板に、アノード電極1204を作製した。アノード電極1204はスパッタリングにより透明導電膜であるITOを成膜した。
<Step F-2; anode electrode production>
An anode electrode 1204 was formed on the cleaned glass substrate. As the anode electrode 1204, ITO, which is a transparent conductive film, was formed by sputtering.

<工程F−3;異物除去(1)>
アノード電極1204を作製したフェイスプレート1002に、リアプレート工程R−1と同様に異物除去(1)(ウェット洗浄)を行った。
<Step F-3; Foreign matter removal (1)>
Foreign matter removal (1) (wet cleaning) was performed on the face plate 1002 on which the anode electrode 1204 was manufactured in the same manner as in the rear plate step R-1.

<工程F−4;蛍光体膜作製>
ガラスペーストおよび黒色顔料および銀粒子を含有したペーストを用い、図9(a)のようなマトリクス状のブラックマトリクス1202を、スクリーン印刷法により厚さ10μmで作製した。またここで、ブラックマトリクス1202は、蛍光体の混色防止や、ビームが多少ずれても色ずれを起さない様にするためや、外光を吸収し画像のコントラストを向上する、等の理由で設けられる。本実施例ではスクリーン印刷法によりブラックマトリックスを作製したが、もちろんこれに限定されるものではなく、たとえばフォトリソグラフィー法をもちいて作製してもよい。また、ブラックマトリクス1202の材料として、ガラスペーストと黒色顔料および銀粒子を含んだペーストを用いたが、もちろんこれに限定されるものではなく、たとえばカーボンブラックなどを用いてもよい。またブラックマトリクス1202は、本実施例では図9(a)のように、マトリクス状に作製したが、もちろんこれに限定される訳ではなく、図9(b)のようなデルタ状配列やストライプ状配列(不図示)やそれ以外の配列であっても良い。
<Step F-4; Preparation of phosphor film>
Using a glass paste and a paste containing black pigment and silver particles, a matrix-like black matrix 1202 as shown in FIG. 9A was produced by a screen printing method with a thickness of 10 μm. Here, the black matrix 1202 is used for preventing color mixing of the phosphor, preventing color shift even if the beam is slightly deviated, and absorbing external light to improve image contrast. Provided. In this embodiment, the black matrix is produced by the screen printing method. However, the present invention is not limited to this, and may be produced by using, for example, a photolithography method. Further, as the material of the black matrix 1202, a glass paste, a paste containing black pigments and silver particles are used, but it is of course not limited thereto, and for example, carbon black may be used. In this embodiment, the black matrix 1202 is formed in a matrix shape as shown in FIG. 9A. However, the black matrix 1202 is not limited to this. Of course, the black matrix 1202 is not limited to this. An array (not shown) or any other array may be used.

次に、図9(a)に示すように、ブラックマトリクス1202の開口部に、赤色・青色・緑色の蛍光体ペーストを用いてスクリーン印刷法により、3色の蛍光体を1色づつ3回に分けて作製した。本実施例ではスクリーン印刷法を用いて蛍光体膜を作製したが、もちろんこれに限定される訳ではなく、たとえばフォトリソグラフィー法などにより作製しても良い。また蛍光体はCRTの分野で用いられているP22の蛍光体とし、赤色(P22−RE3;Y2O2S:Eu3+)、青色(P22−B2;ZnS:Ag,Al)、緑色(P22−GN4;ZnS:Cu,Al)のものを用いたが、もちろんこれに限定される訳ではなく、その他の蛍光体を用いても良い。   Next, as shown in FIG. 9 (a), the phosphors of three colors are applied to the openings of the black matrix 1202 three times for each color by screen printing using a red, blue, and green phosphor paste. Separately produced. In this embodiment, the phosphor film is produced by using the screen printing method, but it is of course not limited to this, and it may be produced by, for example, a photolithography method. The phosphor is a P22 phosphor used in the field of CRT, and is red (P22-RE3; Y2O2S: Eu3 +), blue (P22-B2; ZnS: Ag, Al), green (P22-GN4; ZnS: Although Cu, Al) is used, it is of course not limited to this, and other phosphors may be used.

<工程F−5;異物除去(2)>
蛍光体膜を作製した基板に付着した異物粒子を除去するために、異物除去を行った。ここでは、工程R−5と同様に異物除去(2)(ドライエアクリーニング)を行った。ドライエアクリーニングを行ったのは、フェイスプレート1002への影響を小さくするためである。以上のようにして作製したフェイスプレート1002を、後述する封着工程で、リアプレートと一体化を行う。
<Step F-5; Foreign matter removal (2)>
In order to remove foreign particles adhering to the substrate on which the phosphor film was produced, foreign matters were removed. Here, foreign matter removal (2) (dry air cleaning) was performed in the same manner as in Step R-5. The reason why dry air cleaning is performed is to reduce the influence on the face plate 1002. The face plate 1002 manufactured as described above is integrated with the rear plate in a sealing step described later.

(一体化(封着)工程)
<封着工程>
気密容器を組み立てるにあたっては、各部材の接合部に十分な強度と気密性を保持させるため封着する必要があるが、たとえばフリットガラスを接合部に塗布し、大気中あるいは窒素雰囲気中で、摂氏400〜500度で10分以上焼成することにより封着を達成した。気密容器内部を真空に排気する方法については後述する。
(Integration (sealing) process)
<Sealing process>
When assembling an airtight container, it is necessary to seal the joints of each member in order to maintain sufficient strength and airtightness. For example, frit glass is applied to the joints, and in the air or in a nitrogen atmosphere, Celsius. Sealing was achieved by baking at 400 to 500 degrees for 10 minutes or more. A method for evacuating the inside of the hermetic container will be described later.

また、気密容器内部を真空に排気するには、気密容器を組み立てた後、不図示の排気管と真空ポンプとを接続し、気密容器内を10のマイナス5乗[Pa]程度の真空度まで排気する。その後、排気管を封止するが、気密容器内の真空度を維持するために、封止の直前あるいは封止後に気密容器内の所定の位置にゲッター膜(不図示)を形成する。ゲッター膜とは、たとえばBaを主成分とするゲッター材料をヒーターもしくは高周波加熱により加熱し蒸着して形成した膜であり、該ゲッター膜の吸着作用により気密容器内は1×10マイナス3乗ないしは1×10マイナス5乗[Pa]の真空度に維持される。   Further, in order to evacuate the inside of the hermetic container to a vacuum, after assembling the hermetic container, an exhaust pipe (not shown) and a vacuum pump are connected, and the inside of the hermetic container is reduced to a degree of vacuum of about 10 to the fifth power [Pa]. Exhaust. Thereafter, the exhaust pipe is sealed. In order to maintain the degree of vacuum in the hermetic container, a getter film (not shown) is formed at a predetermined position in the hermetic container immediately before or after sealing. The getter film is, for example, a film formed by heating and vapor-depositing a getter material mainly composed of Ba by a heater or high-frequency heating, and the inside of the hermetic container is 1 × 10 minus 3 to 1 or 1 by the adsorption action of the getter film. The degree of vacuum is maintained at x10 minus 5 [Pa].

次に画像表示装置中に存在する異物粒子の観察方法について述べる。   Next, a method for observing foreign particles present in the image display apparatus will be described.

<異物粒子の観察方法1;光学顕微鏡観察>
画像表示パネル中の異物粒子を観察するもっとも確実な方法は、パネル部材表面を光学顕微鏡で観察することである。観察を行ったのは以下の3種である。
(1)一体化工程直前の各部材を観察
(2)一体化工程後の画像表示パネルを分解し各部材を観察
(3)一体化工程を部材の無いダミーパネルを作成し、その内面を分解せずに観察。
<Observation Method 1 of Foreign Particles; Observation by Optical Microscope>
The most reliable method for observing the foreign particles in the image display panel is to observe the surface of the panel member with an optical microscope. The following three types were observed.
(1) Observe each member immediately before the integration step (2) Disassemble the image display panel after the integration step and observe each member (3) Create a dummy panel without the member for the integration step, and disassemble the inner surface Observe without.

いずれの観察方法も、光学顕微鏡観察時に異物粒子が混入しないように、十分クリーン度の高いクリーンルームで、十分注意を払い観察しなければならない。また、(2)の方法では、画像表示パネル分解時に異物粒子を混入する可能性があるため、分解時に異物を混入しないように十分留意しなければならない。しかしながら、画像表示パネルの構成上、どうしても分解時に混入・発生する異物粒子が存在する場合は、(1)の観察と(3)の観察を併用し、一体化工程直前に異物粒子がないことを確認することと、一体化工程で異物粒子が混入・発生していないことを確認し、画像表示パネル内に異物粒子が存在しないことを明らかにした。(3)の観察の際には、部材の無いダミーパネルも十分に洗浄し、異物粒子が存在しないことを確認することと、パネル外側(大気側)の粒子と間違わないことが肝要である。   All observation methods must be observed with great care in a clean room having a sufficiently high degree of cleanliness so that foreign particles are not mixed during observation with an optical microscope. In the method (2), foreign particles may be mixed when the image display panel is disassembled. Therefore, care must be taken not to mix foreign matters when disassembling. However, due to the structure of the image display panel, if there are any foreign particles that are mixed and generated during decomposition, the observation in (1) and the observation in (3) should be used together, and there should be no foreign particles immediately before the integration process. It was confirmed that foreign particles were not mixed or generated in the integration process, and it was clarified that there were no foreign particles in the image display panel. When observing (3), it is important to thoroughly clean the dummy panel without any members to confirm that there are no foreign particles and not to mistake the particles on the outside (atmosphere side) of the panel.

<異物粒子の観察方法2;液体洗浄による異物粒子回収>
画像表示パネル内の、異物粒子を観察する簡便な方法として、画像表示パネル内を液体で洗浄し、その洗浄液をパーティクルカウンタにより粒子個数をカウントすることができる。観察を行ったのは以下の2種である。
(1)一体化工程直前の各部材を観察
(2)一体化工程後の画像表示パネルを分解し各部材を観察。
<Observation method 2 of foreign particles: Recovery of foreign particles by liquid cleaning>
As a simple method for observing foreign particles in the image display panel, the inside of the image display panel can be washed with a liquid, and the number of particles can be counted with a particle counter. The following two types were observed.
(1) Observe each member immediately before the integration step (2) Disassemble the image display panel after the integration step and observe each member.

ただし、異物粒子を液体洗浄で観察する際には、パネル内の異物粒子以外のものが混入されることと、液体洗浄で構成部材が脱離してしまうことを注意しなければならない。特に方法(2)では、パネル分解により発生した異物を含まないように注意する必要がある。また、部材の脱落については、フェイスプレートは蛍光体やメタルバックなど、基板に対する密着性が悪いものが含まれるため特に注意が必要で、場合によっては観察方法1の光学顕微鏡の観察のみを行う必要がある。   However, when observing the foreign particles by liquid cleaning, care must be taken that something other than the foreign particles in the panel is mixed and that the constituent members are detached by the liquid cleaning. In particular, in the method (2), it is necessary to take care not to include foreign matters generated by panel disassembly. In addition, regarding the removal of the members, special attention is required because the face plate includes those having poor adhesion to the substrate, such as phosphors and metal backs. In some cases, it is necessary to perform only observation with an optical microscope of observation method 1 There is.

以下に図4および図5参照し、本発明第2の実施例について説明する。ただし第2の実施例以下では画像表示装置全般については実施例1と同様なものを使用したため、以下では本実施例において特徴的な部分のみの説明をおこなう。   The second embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. However, in the second and subsequent examples, since the same image display apparatus as that in the first example is used, only the characteristic parts in the present example will be described below.

図4は、実施例に用いた表示パネルの斜視図であり、内部構造を示すためにパネルの一部を切り欠いて示している。   FIG. 4 is a perspective view of the display panel used in the example, and a part of the panel is cut away to show the internal structure.

図中、1001は外容器底(なおリアプレートと表記する場合もある)、1003は側壁、1002はフェイスプレートであり、1001〜1003により表示パネルの内部を真空に維持するための気密容器を形成している。ここでリアプレート1001とフェイスプレート1002の間の間隔(ギャップ)は2mとした。   In the figure, reference numeral 1001 denotes an outer container bottom (sometimes referred to as a rear plate), 1003 denotes a side wall, and 1002 denotes a face plate, and 1001 to 1003 form an airtight container for maintaining the inside of the display panel in a vacuum. doing. Here, the distance (gap) between the rear plate 1001 and the face plate 1002 was set to 2 m.

ここで、リアプレート1001には表面伝導型放出素子1101がN×M個形成されている(N,Mは2以上の正の整数であり、目的とする表示画素数に応じて適宜設定される。本実施例においては、N=2400,M=800とした)。   Here, N × M surface conduction electron-emitting devices 1101 are formed on the rear plate 1001 (N and M are positive integers of 2 or more, and are appropriately set according to the target number of display pixels. In this example, N = 2400 and M = 800).

本実施例のフェイスプレート1002は、アノード電極として蛍光体膜1201を内包するメタルバック1203を、蛍光体膜1201のリアプレート1001側表面に有する。上記のようにメタルバック1203を有することにより、蛍光体膜1201のリアプレート1001方向への発光成分を反射し、フェイスプレート1002側から取り出すことができるため、輝度の向上を行うことができる。   The face plate 1002 of this embodiment has a metal back 1203 containing the phosphor film 1201 as an anode electrode on the rear plate 1001 side surface of the phosphor film 1201. By having the metal back 1203 as described above, the light emission component of the phosphor film 1201 toward the rear plate 1001 can be reflected and extracted from the face plate 1002 side, so that the luminance can be improved.

また、本実施例の画像表示装置は、そのサイズが大きいため、耐大気圧支持構造(スペーサと表記することもある)1004が必要となる。スペーサ1004は行方向配線1003上に設置され、リアプレート1001とフェイスプレート1002の間隔を規定する。本実施例ではスペーサ1004の高さを2mmとした。   Further, since the image display apparatus of this embodiment is large in size, an atmospheric pressure resistant structure (sometimes referred to as a spacer) 1004 is required. The spacer 1004 is installed on the row direction wiring 1003 and defines the distance between the rear plate 1001 and the face plate 1002. In this embodiment, the height of the spacer 1004 is 2 mm.

このような画像表示装置を、後述する製造工程により作製し、工程中に随時異物粒子の除去工程を行うことで、10μm以上の異物粒子が混入していない画像表示装置を得た。ここで、表示パネル中の異物粒子の観察法は実施例1と同様な手法をもちいた。   Such an image display device was manufactured by a manufacturing process described later, and a foreign particle removal process was performed as needed during the process, thereby obtaining an image display device in which foreign particles of 10 μm or more were not mixed. Here, the method for observing foreign particles in the display panel was the same as in Example 1.

このようにして得た画像表示装置に、アノード電圧7kVを印加したところ、長期間に渡り放電が起こらず、安定した画像を表示できた。   When an anode voltage of 7 kV was applied to the image display device thus obtained, no discharge occurred over a long period of time, and a stable image could be displayed.

次に、図3をもちいて本発明を適用した画像表示装置の表示パネルの製造法について、具体的な例を示して説明する。   Next, a method for manufacturing a display panel of an image display device to which the present invention is applied will be described with reference to FIG.

(リアプレート工程)
<工程R−1;異物除去(1)>
<工程R−2;配線、電極の形成>
<工程R−3;異物除去(1)>
<工程R−4;電子ビーム源作製>
<工程R−5;異物除去(2)>
以上の工程を実施例1と同様に行い、電子ビーム源1101を有するリアプレート1001を得た。
(Rear plate process)
<Step R-1; foreign matter removal (1)>
<Step R-2: Formation of wiring and electrodes>
<Step R-3; Foreign matter removal (1)>
<Step R-4; Production of electron beam source>
<Step R-5; Foreign matter removal (2)>
The above steps were performed in the same manner as in Example 1 to obtain a rear plate 1001 having an electron beam source 1101.

<工程R−6;スペーサ固定>
後述する作製方法により得たスペーサ1004をリアプレート1001に固定した。固定の方法はスペーサ1004の長手方向両端部のリアプレート1001側に、無機接着剤(本実施例では東亞合成社製アロンセラミック)を使用しスペーサ1004をリアプレート1001に固定した。本実施例ではリアプレート1001側にスペーサ1004を固定したが、もちろんこれに限定されるわけではなく、たとえばフェイスプレート1002側に固定したり、固定せずとも自立するようなスペーサを用いてもよい。
<Process R-6; spacer fixing>
A spacer 1004 obtained by a manufacturing method described later was fixed to the rear plate 1001. The fixing method was to fix the spacer 1004 to the rear plate 1001 using an inorganic adhesive (Aron ceramic manufactured by Toagosei Co., Ltd. in this embodiment) on the rear plate 1001 side at both ends in the longitudinal direction of the spacer 1004. In the present embodiment, the spacer 1004 is fixed to the rear plate 1001 side, but of course, the present invention is not limited to this. For example, a spacer that is fixed to the face plate 1002 side or can stand independently without being fixed may be used. .

<工程R−7;異物除去(2)>
スペーサ1004を固定したリアプレート1001に付着した異物粒子を除去するために、異物除去を行った。ここでは、工程R−5と同様に異物除去(2)(ドライエアクリーニング)を行った。ドライエアクリーニングを行ったのは、リアプレート1001およびスペーサ1004への影響を小さくするためである。以上のようにして作製したリアプレート1001およびスペーサ1004を、封着工程でフェイスプレート1002と一体化を行う。
<Process R-7; Foreign matter removal (2)>
In order to remove foreign particles adhering to the rear plate 1001 to which the spacer 1004 is fixed, foreign matters were removed. Here, foreign matter removal (2) (dry air cleaning) was performed in the same manner as in Step R-5. The reason why dry air cleaning is performed is to reduce the influence on the rear plate 1001 and the spacer 1004. The rear plate 1001 and the spacer 1004 manufactured as described above are integrated with the face plate 1002 in the sealing step.

(フェイスプレート工程)
<工程F−1;異物除去(1)>
<工程F−4;蛍光体膜作製>
<工程F−5;異物除去(2)>
以上の工程を実施例1と同様に行った。なお、アノード電極は以下に示すメタルバック1203とするため、作製していない。
(Face plate process)
<Step F-1; Foreign matter removal (1)>
<Step F-4; Preparation of phosphor film>
<Step F-5; Foreign matter removal (2)>
The above steps were performed in the same manner as in Example 1. Since the anode electrode is a metal back 1203 shown below, it is not manufactured.

<工程F−6;メタルバック作製>
次に、ブラウン管の分野では公知であるフィルミング工程により、樹脂中間膜を作製し、その後に金属蒸着膜(本実施例ではAl)を作製し、最後に樹脂中間層を熱分解除去させる事により厚さ100nmのメタルバックを作製した。
<Step F-6; metal back production>
Next, a resin intermediate film is produced by a filming process known in the field of cathode ray tubes, a metal vapor deposition film (Al in this embodiment) is produced, and finally the resin intermediate layer is thermally decomposed and removed. A metal back having a thickness of 100 nm was produced.

<工程F−7;異物除去(2)>
蛍光体膜1201を作製した基板に付着した異物粒子を除去するために、異物除去を行った。ここでは、工程R−5と同様に異物除去(2)(ドライエアクリーニング)を行った。ドライエアクリーニングを行ったのは、フェイスプレート1002への影響を小さくするためである。以上のようにして作製したフェイスプレート1002を、後述する封着工程で、リアプレート1001と一体化を行う。
<Step F-7; Foreign matter removal (2)>
In order to remove foreign particles adhering to the substrate on which the phosphor film 1201 was produced, foreign matters were removed. Here, foreign matter removal (2) (dry air cleaning) was performed in the same manner as in Step R-5. The reason why dry air cleaning is performed is to reduce the influence on the face plate 1002. The face plate 1002 manufactured as described above is integrated with the rear plate 1001 in a sealing step described later.

(スペーサ工程)
<工程S−1;異物除去(1)>
あらかじめパネルに使用するスペーサ1004のサイズに研磨したガラス基板にリアプレート工程R−1と同様に異物除去(1)(ウェット洗浄)を行った。
(Spacer process)
<Step S-1; foreign matter removal (1)>
Foreign matter removal (1) (wet cleaning) was performed on the glass substrate previously polished to the size of the spacer 1004 used for the panel in the same manner as in the rear plate step R-1.

<工程S−2;高抵抗膜作製>
スペーサ1004は、リアプレート1001とフェイスプレート1002の間に印加される高電圧に耐えるだけの絶縁性を有し、かつ電子ビーム源1101から放出された電子ビームによる帯電を防止する程度の導電性が必要となるため、ガラス基板表面に不図示の高抵抗膜を作製する。
<Step S-2; high resistance film production>
The spacer 1004 has insulation sufficient to withstand a high voltage applied between the rear plate 1001 and the face plate 1002, and has conductivity sufficient to prevent charging by the electron beam emitted from the electron beam source 1101. Since this is necessary, a high resistance film (not shown) is formed on the surface of the glass substrate.

本実施例では、高抵抗膜としてスパッタ法により作製したゲルマニウムとタングステンの合金窒化物を用いたが、もちろんこれに限定されるわけではなく、所望の帯電防止機能および絶縁性が確保できればよい。   In this embodiment, germanium and tungsten alloy nitride produced by sputtering is used as the high-resistance film. However, the present invention is not limited to this, and it is only necessary to ensure a desired antistatic function and insulation.

<工程S−3;異物除去(3)>
高抵抗膜を成膜したスペーサ1004に付着した異物粒子を除去するために、下記に説明する異物除去(3)を行った。
<Step S-3; Foreign matter removal (3)>
In order to remove foreign particles adhering to the spacer 1004 on which the high resistance film was formed, foreign matter removal (3) described below was performed.

異物除去(3);スペーサ1004に使用するガラス基板は、その構成上板厚が薄い。そのため、異物除去(2)のように高圧ドライエアーの吹き付けなどではスペーサ1004が破壊される可能性がある。そこで、スペーサ1004を固定しつつ異物粒子除去を行うため、図7に示すように、スペーサ1004の側面をスペーサ異物除去手段1404で異物除去を行う。スペーサ異物除去手段1404はスペーサ1004の異物を除去できればどのような手段でもかまわないが、ここでは吸引式の掃除機を使用し、掃除機の先端でスペーサ1004を固定しながら異物除去を行った。ただし、これに限られるわけではなく、たとえば粘着剤のついたローラーで異物を除去するような手段でも所望の効果を発揮する。   Foreign matter removal (3): The glass substrate used for the spacer 1004 has a thin plate thickness due to its structure. Therefore, there is a possibility that the spacer 1004 is destroyed when high pressure dry air is blown as in the foreign matter removal (2). Therefore, in order to remove the foreign particles while fixing the spacer 1004, the side of the spacer 1004 is removed by the spacer foreign matter removing means 1404 as shown in FIG. The spacer foreign matter removing means 1404 may be any means as long as it can remove the foreign matter from the spacer 1004. Here, a suction type vacuum cleaner was used, and the foreign matter was removed while fixing the spacer 1004 at the tip of the cleaner. However, the present invention is not limited to this, and a desired effect can be achieved even by a means for removing foreign matter with a roller with an adhesive, for example.

このようにして異物除去を行ったスペーサ1004を、上述したリアプレート1001に固定した(工程R−6;スペーサ固定)。   The spacer 1004 from which foreign matter was removed in this way was fixed to the rear plate 1001 described above (step R-6; spacer fixing).

(一体化(封着)工程)
<封着工程>
実施例1と同様な方法で、スペーサ1004が固定されたリアプレート1001とフェイスプレート1002を封着し、画像表示パネル内を真空に排気した。
(Integration (sealing) process)
<Sealing process>
In the same manner as in Example 1, the rear plate 1001 and the face plate 1002 to which the spacers 1004 were fixed were sealed, and the inside of the image display panel was evacuated to a vacuum.

以下に図4および図5参照し、本発明第3の実施例について説明する。   The third embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

画像表示パネルの構成としては、実施例2と同様であるが、更なる輝度向上の為に、アノード電圧を10kVとした。そのため、後述する製造工程において、実施例2よりも更に異物除去工程を加えて行い(工程R−8、工程F−8;異物除去(4))、3μm以上の異物粒子が混入していない画像表示装置を得た。   The configuration of the image display panel is the same as that of Example 2, but the anode voltage was set to 10 kV for further improvement in luminance. Therefore, in the manufacturing process to be described later, a foreign matter removing step is further added as compared to Example 2 (Step R-8, Step F-8; foreign matter removing (4)), and an image in which foreign particles of 3 μm or more are not mixed. A display device was obtained.

このようにして得た画像表示装置に、アノード電圧10kVを印加したところ、長期間に渡り放電が起こらず、安定した画像を表示できた。   When an anode voltage of 10 kV was applied to the image display device thus obtained, no discharge occurred over a long period of time, and a stable image could be displayed.

(追加で行った工程)
<工程R−8;異物除去(4)>
工程R−1からR−7まで行ったスペーサ1004が固定されたリアプレート1001に、後述する異物除去(4)を追加で実施した。
(Additional process)
<Step R-8; Foreign matter removal (4)>
Foreign matter removal (4) described later was additionally performed on the rear plate 1001 to which the spacers 1004 performed in steps R-1 to R-7 were fixed.

異物除去(4);異物粒子が画像表示パネル内で放電する原因として、異物粒子が帯電し電界よりクーロン力をうけて運動することが推定されている。したがって、クーロン力をうけて運動する異物粒子を除去することが肝要である。とくに、単なる混入異物だけではなく、部材からの脱落物も電界により運動をはじめる(脱離する)と放電にいたる恐れがある。   Foreign matter removal (4): As a cause of discharge of foreign particles in the image display panel, it is presumed that foreign particles are charged and moved by receiving Coulomb force from an electric field. Therefore, it is important to remove foreign particles that move by receiving Coulomb force. In particular, not only the alien substance but also the fallen material from the member may start to move (desorb) by an electric field, leading to a discharge.

そこで、画像表示装置の一体化(封着)の前に、あらかじめ電界を印加し、異物粒子(部材構成物の脱落も含む)を除去する。図8(a)にスペーサ1004を固定したリアプレート1001に電界を印加して異物粒子を除去する際の構成の断面を簡略化し示す。リアプレート1001の対向にスペーサ1004部にあたる部分を凹形状にした電界印加用基板1401を一定の間隔gを空けて固定した。電界印加用基板1401にはリアプレート1001と反対の面に電圧印加電極1402が設けられており、高圧電源から電圧印加電極1402に高電圧Vが印加されている。   Therefore, before integration (sealing) of the image display device, an electric field is applied in advance to remove foreign particles (including dropping of member components). FIG. 8A shows a simplified cross section of a configuration when an electric field is applied to the rear plate 1001 to which the spacer 1004 is fixed to remove foreign particles. An electric field applying substrate 1401 having a concave portion corresponding to the spacer 1004 facing the rear plate 1001 was fixed with a constant gap g. The electric field applying substrate 1401 is provided with a voltage applying electrode 1402 on the surface opposite to the rear plate 1001, and a high voltage V is applied to the voltage applying electrode 1402 from a high voltage power source.

電界印加用基板1401は高抵抗な材料で作製されており、一定時間後には電界印加用基板1401のリアプレート1001側表面はほぼ電位Vに等しくなる。そのため、リアプレート1001と電界印加用基板1401の間には電界V/g[V/m]が印加され、リアプレート1001に付着している異物粒子や電界で脱離してしまうような構成部材を、電界印加用基板1401側に飛行させることができる。電界印加用基板1401側に飛行した異物粒子は、電界印加用基板1401に付着した際に新たに電荷を受け取ることがほとんどできないため(理由;電界印加用基板1401が高抵抗だから)、異物粒子は電界印加用基板1401に付着したままとなる。   The electric field application substrate 1401 is made of a high-resistance material, and the surface of the electric field application substrate 1401 on the rear plate 1001 side becomes substantially equal to the potential V after a certain time. For this reason, an electric field V / g [V / m] is applied between the rear plate 1001 and the electric field applying substrate 1401, and a constituent member that is detached due to foreign particles adhering to the rear plate 1001 or an electric field is formed. Then, it can be made to fly to the electric field applying substrate 1401 side. The foreign particles flying to the electric field application substrate 1401 side can hardly receive a new charge when adhering to the electric field application substrate 1401 (reason; because the electric field application substrate 1401 has a high resistance). It remains attached to the electric field application substrate 1401.

また、電界印加用基板1401は高抵抗な材料で構成されているため、電流がほとんど流れず放電にいたることは無い。   In addition, since the electric field applying substrate 1401 is made of a high-resistance material, almost no current flows and no electric discharge occurs.

以上のようにして異物粒子を除去したリアプレート1001およびスペーサ1004を、封着工程でフェイスプレート1002と一体化を行う。   The rear plate 1001 and the spacer 1004 from which foreign particles have been removed as described above are integrated with the face plate 1002 in the sealing step.

<工程F−8;異物除去(4)>
工程F−1からF−7まで行ったフェイスプレート1002に、工程R−8;異物除去(4)と同様な方法で異物除去(4)を追加で実施した。ただし、図8(b)に示すとおり、フェイスプレート1002にはスペーサが存在しないため、電界印加用基板1403には凹部は必要ない。以上のようにして異物粒子を除去したリアプレート1001およびスペーサ1004を、封着工程でフェイスプレート1002と一体化を行う。
<Step F-8; foreign matter removal (4)>
Foreign matter removal (4) was additionally performed on the face plate 1002 that was performed from Step F-1 to Step F-7 in the same manner as in Step R-8; Foreign matter removal (4). However, as shown in FIG. 8B, since there is no spacer in the face plate 1002, the electric field applying substrate 1403 does not need a recess. The rear plate 1001 and the spacer 1004 from which foreign particles have been removed as described above are integrated with the face plate 1002 in the sealing step.

(一体化(封着)工程)
<封着工程>
実施例1と同様な方法で、スペーサ1004が固定されたリアプレート1001とフェイスプレート1002を封着し、画像表示パネル内を真空に排気した。
(Integration (sealing) process)
<Sealing process>
In the same manner as in Example 1, the rear plate 1001 and the face plate 1002 to which the spacers 1004 were fixed were sealed, and the inside of the image display panel was evacuated to a vacuum.

〔比較例1〕
実施例1と同様の構成の画像表示パネルにおいて、工程中の異物除去を実施せずに作製し、表示パネルの内部に存在する異物を観察した結果、10μm以上の異物粒子が、15個存在した。
[Comparative Example 1]
In the image display panel having the same configuration as that of Example 1, it was produced without removing foreign matter during the process, and as a result of observing the foreign matter existing inside the display panel, there were 15 foreign particles having a size of 10 μm or more. .

このような画像表示装置に、アノード電圧5kVを印加して画像を表示したところ放電が発生し、表示画像の一部分に欠陥が発生してしまった。   When an image was displayed by applying an anode voltage of 5 kV to such an image display device, a discharge occurred and a defect occurred in a part of the display image.

〔比較例2〕
実施例3と同様の構成の画像表示パネルにおいて、工程中の各種異物除去を実施せずに作製し、表示パネルの内部に存在する異物を観察した結果、3μm以上の異物粒子が、7個存在した。
[Comparative Example 2]
In the image display panel having the same configuration as that of Example 3, it was produced without removing various foreign substances in the process, and as a result of observing the foreign substances existing inside the display panel, there were 7 foreign particles of 3 μm or more. did.

このような画像表示装置に、アノード電圧10kVを印加して画像を表示したところ放電が発生し、表示画像の一部分に欠陥が発生してしまった。   When an image was displayed by applying an anode voltage of 10 kV to such an image display device, a discharge occurred and a defect occurred in a part of the display image.

異物粒子による放電電圧の異物粒子粒径依存性を表す図Diagram showing the particle size dependence of the discharge voltage due to foreign particles 本発明第1の実施例の画像表示装置を、一部分切り欠いて示す模式的斜視図1 is a schematic perspective view showing an image display device according to a first embodiment of the present invention with a part cut away. 本発明第1の実施例の画像表示装置製造方法を示す工程フローを示す図The figure which shows the process flow which shows the image display apparatus manufacturing method of 1st Example of this invention. 本発明第2の実施例の画像表示装置を、一部分切り欠いて示す模式的斜視図FIG. 6 is a schematic perspective view showing the image display device according to the second embodiment of the present invention, with a part cut away. 本発明第2の実施例の画像表示装置製造方法を示す工程フローを示す図The figure which shows the process flow which shows the image display apparatus manufacturing method of 2nd Example of this invention. 本発明第1の実施例の電子ビーム源を示す模式的平面図1 is a schematic plan view showing an electron beam source according to a first embodiment of the present invention. 本発明第2の実施例の異物除去(3)を示す模式的断面図Schematic sectional view showing foreign matter removal (3) of the second embodiment of the present invention 本発明第3の実施例の異物除去(4)を示す模式的断面図Schematic sectional view showing foreign matter removal (4) of the third embodiment of the present invention 表示パネルのフェイスプレートの蛍光体配列を示す模式的平面図Schematic plan view showing the phosphor arrangement of the faceplate of the display panel 従来の画像表示装置の表示パネルの一部を切り欠いて示す斜視図The perspective view which notches and shows a part of display panel of the conventional image display apparatus 画像表示パネルの模式的断面図Schematic cross section of image display panel

符号の説明Explanation of symbols

1001 リアプレート(外容器底)
1002 フェイスプレート
1003 側壁
1004 耐大気圧支持構造(スペーサ)
1005 高圧導入部
1006 高圧電源
1101 電子ビーム源(表面伝導型放出素子)
1102 列方向配線
1103 行方向配線
1104 導電性膜((表面伝導型電子放出)素子膜)
1105 素子電極
1106 絶縁層
1201 蛍光体膜
1202 ブラックマトリクス
1203 メタルバック
1204 アノード電極
1401 電界印加用基板
1402 電圧印加電極
1403 電界印加用基板
1404 スペーサ異物除去手段
1001 Rear plate (outer container bottom)
1002 Face plate 1003 Side wall 1004 Atmospheric pressure support structure (spacer)
1005 High-voltage introduction unit 1006 High-voltage power supply 1101 Electron beam source (surface conduction electron-emitting device)
1102 Column-direction wiring 1103 Row-direction wiring 1104 Conductive film ((surface conduction electron emission) element film)
1105 Element electrode 1106 Insulating layer 1201 Phosphor film 1202 Black matrix 1203 Metal back 1204 Anode electrode 1401 Electric field application substrate 1402 Voltage application electrode 1403 Electric field application substrate 1404 Spacer foreign matter removing means

Claims (7)

少なくとも電子ビーム源を有するリアプレートと、
電子ビーム照射により発光する蛍光体および電子加速電圧を印加するためのアノード電極を有するフェイスプレートと、
該リアプレートと該フェイスプレートを真空気密するための外囲器を備え、
内部が真空に保たれている画像表示装置において、
該画像表示装置の真空気密領域には、10μm以上の異物粒子が存在しないことを特徴とする画像表示装置。
A rear plate having at least an electron beam source;
A face plate having a phosphor that emits light by electron beam irradiation and an anode electrode for applying an electron acceleration voltage;
An envelope for vacuum-tightening the rear plate and the face plate;
In the image display device in which the inside is kept in vacuum,
An image display device characterized in that no foreign particles of 10 μm or more are present in a vacuum-tight region of the image display device.
アノード電極に印加されるアノード電圧が7kV以上であることを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein an anode voltage applied to the anode electrode is 7 kV or more. 前記リアプレートと前記フェイスプレートの平均間隔が2mm以下であることを特徴とする請求項1から2に記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein an average interval between the rear plate and the face plate is 2 mm or less. 少なくとも電子ビーム源を有するリアプレートと、
電子ビーム照射により発光する蛍光体および電子加速電圧を印加するためのアノード電極を有するフェイスプレートと、
該リアプレートと該フェイスプレートを真空気密するための外囲器を備え、
内部が真空に保たれている画像表示装置において、
該画像表示装置の真空気密領域には、3μm以上の異物粒子が存在しないことを特徴とする画像表示装置。
A rear plate having at least an electron beam source;
A face plate having a phosphor that emits light by electron beam irradiation and an anode electrode for applying an electron acceleration voltage;
An envelope for vacuum-tightening the rear plate and the face plate;
In the image display device in which the inside is kept in vacuum,
An image display device characterized in that no foreign particles of 3 μm or more are present in the vacuum-tight region of the image display device.
前記画像表示装置は耐大気圧支持構造(スペーサ)を備えたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の画像表示装置。   The image display apparatus according to claim 1, wherein the image display apparatus includes an atmospheric pressure resistant support structure (spacer). 前記画像表示装置の前記フェイスプレートは、メタルバックを備えたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein the face plate of the image display device includes a metal back. 前記画像表示装置において、前記電子ビーム源は表面伝導型電子放出素子である事を特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の画像表示装置。   7. The image display device according to claim 1, wherein the electron beam source is a surface conduction electron-emitting device.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7843119B2 (en) 2006-02-27 2010-11-30 Canon Kabushiki Kaisha Image display apparatus and image receiving and displaying apparatus

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