JP2003045334A - Manufacturing method of vacuum container and image forming device - Google Patents
Manufacturing method of vacuum container and image forming deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビある
いはコンピュータ端末などに用いられる薄型の画像形成
装置の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a thin image forming apparatus used for a color television, a computer terminal or the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】カラーテレビやコンピュータ端末に用い
られる画像形成装置として、電子放出素子から放出され
た電子を蛍光体に照射して発光させるものがある。2. Description of the Related Art As an image forming apparatus used for a color television or a computer terminal, there is an image forming apparatus which irradiates a phosphor with electrons emitted from an electron-emitting device to emit light.
【０００３】電子放出素子としては、大別すると熱電子
放出素子と冷陰極電子放出素子の２種類が知られてい
る。冷陰極電子放出素子には、電界放出型（以下、「Ｆ
Ｅ型」と称す）や、金属／絶縁層／金属型（以下、「Ｍ
ＩＭ型」と称す）、表面伝導型等がある。The electron-emitting devices are roughly classified into two types, a thermoelectron-emitting device and a cold cathode electron-emitting device. The field emission type (hereinafter, referred to as “F
"E type") or metal / insulating layer / metal type (hereinafter "M type")
"IM type"), surface conduction type and the like.
【０００４】ＦＥ型の電子放出素子の例としては、Ｗ．
Ｐ．Ｄｙｋｅ ＆ Ｗ．Ｗ．Ｄｏｌａｎ，”Ｆｉｅｌｄ
ｅｍｉｓｓｉｏｎ，Ａｄｖａｎｃｅ ｉｎ Ｅｌｅｃ
ｔｒｏｎ Ｐｈｙｓｉｃｓ，８，８９（１９５６）ある
いはＣ．Ａ．Ｓｐｉｎｄｔ，”ＰＨＹＳＩＣＡＬ Ｐｒ
ｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ ｔｈｉｎ−ｆｉｌｍ ｆｉｅ
ｌｄ ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｃａｔｈｏｄｅｓ ｗｉｔｈ
ｍｏｌｙｂｄｅｎｕｍ ｃｏｎｅｓ”，Ｊ．Ａｐｐ
ｌ．Ｐｈｙｓ．，４７，５２４８（１９７６）等に開示
されたものが知られている。ＭＩＭ型の電子放出素子の
例としては、Ｃ．Ａ．Ｍｅａｄ，”Ｏｐｅｒａｔｉｏｎ
ｏｆ Ｔｕｎｎｅｌ−ＥｍｉｓｓｉｏｎＤｅｖｉｃｅ
ｓ”，Ｊ．Ａｐｐｌｙ．Ｐｈｙｓ．，３２，６４６（１
９６１）等に開示されたものが知られている。表面伝導
型の電子放出素子の例としては、Ｍ．Ｉ．Ｅｌｉｎｓｏ
ｎ，Ｒｅｃｉｏ Ｅｎｇ．ＥｌｅｃｔｒｏｎＰｈｙ
ｓ．，１０，１２９０，（１９６５）等に開示されたも
のがある。As an example of the FE type electron-emitting device, W.
P. Dyke & W.D. W. Dolan, "Field
Emission, Advance in Elec
tron Physics, 8, 89 (1956) or C.I. A. Spindt, "PHYSICAL Pr
operations of thin-film pie
ld emission cathodes with
mollybdenum cones ”, J. App
l. Phys. , 47, 5248 (1976) and the like are known. Examples of the MIM type electron-emitting device include C.I. A. Mead, "Operation
of Tunnel-Emission Device
s ", J. Apply. Phys., 32,646 (1
961) and the like are known. As an example of the surface conduction electron-emitting device, M. I. Elinso
n, Recio Eng. ElectronPhy
s. , 10, 1290, (1965) and the like.
【０００５】表面伝導型の電子放出素子は、基板上に形
成された小面積の薄膜に、膜面に対して平行に電流を流
すことにより電子が放出される現象を利用したものであ
る。そして、これまでに表面伝導型電子放出素子とし
て、Ｍ．Ｉ．Ｅｌｉｎｓｏｎ等によるＳｎＯ２薄膜を用
いたもの、Ａｕ薄膜によるもの［Ｇ．Ｄｉｔｔｍｅ
ｒ：”Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ”，９，３１
７（１９７２］、Ｉｎ２Ｏ３／ＳｎＯ２薄膜によるもの
［Ｍ．Ｈａｒｔｗｅｌｌ ａｎｄ Ｃ．Ｇ．Ｆｏｎｓｔ
ａｄ：”ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ．ＥＤＣｏｎｆ．”５１
９（１９７５）］、カーボン薄膜によるもの［荒木久
他：真空、第２６巻、第１号、２２頁（１９８３）］等
が報告されている。The surface conduction electron-emitting device utilizes a phenomenon in which electrons are emitted from a small-area thin film formed on a substrate by passing a current in parallel with the film surface. As surface-conduction electron-emitting devices, M. I. Elinson et al. Using SnO2 thin film, Au thin film [G. Dittme
r: "Thin Solid Films", 9, 31
7 (1972), by In2O3 / SnO2 thin film [M. Hartwell and CG Fonst.
ad: "IEEE Trans. EDConf." 51
9 (1975)], carbon thin films [Hiraki Araki et al .: Vacuum, Vol. 26, No. 1, p. 22 (1983)] and the like.
【０００６】現在、これら冷陰極電子放出素子から発生
した電子ビームにより蛍光体を発光させる形態の薄型の
表示パネルを有する画像形成装置の開発が盛んに行われ
ている。At present, an image forming apparatus having a thin display panel in which a phosphor is made to emit light by an electron beam generated from these cold cathode electron-emitting devices is actively developed.
【０００７】表面伝導型電子放出素子は、一部に高抵抗
部を有する導電性薄膜に電流を流すことで電子を放出す
るものである。表面伝導型電子放出素子及びその製造方
法や、表面伝導型電子放出素子を用いた画像形成装置な
どの一例が本出願人によって出願された特開平７−２３
５２５５号公報に示されている。The surface conduction electron-emitting device emits electrons by passing a current through a conductive thin film having a high resistance portion in part. Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-23 filed by the present applicant for an example of a surface conduction electron-emitting device, a method for manufacturing the same, and an image forming apparatus using the surface conduction electron-emitting device.
No. 5255.
【０００８】電子放出素子を用いた画像形成装置は、真
空容器、電子源及びその駆動回路、画像形成部材、加速
電極及びその高圧電源等を有している。真空容器は、フ
ェースプレート、リアプレート及び外枠がシール材にて
封着されたものである。駆動回路により駆動された電子
源は電子を発生する。画像形成部材はフェースプレート
にあり、電子の衝突により発光する蛍光体等を有してい
る。加速電極は高圧電源により電圧が印加され、電子を
画像形成部材に向けて加速する。An image forming apparatus using an electron-emitting device has a vacuum container, an electron source and its driving circuit, an image forming member, an accelerating electrode and its high voltage power source. The vacuum container has a face plate, a rear plate, and an outer frame sealed with a sealing material. The electron source driven by the drive circuit generates electrons. The image forming member is located on the face plate and has a fluorescent substance or the like that emits light upon collision of electrons. A voltage is applied to the accelerating electrode by a high voltage power source to accelerate electrons toward the image forming member.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】以上に説明したような
従来の画像形成装置の表示パネルには以下に示すような
問題があった。The display panel of the conventional image forming apparatus as described above has the following problems.
【００１０】電子放出素子を用いた表示パネルを有する
画像形成装置では、電子放出素子から放出された電子を
加速するために高電圧が用いられる。そのため、電子放
出素子や行方向配線、列方向配線などを含む基板と、フ
ェースプレートとの間に真空放電が生じる恐れがある。
真空放電は画像表示中に突発的に起こり、画像を乱すだ
けでなく、放電個所近傍の電子放出素子を著しく劣化さ
せ、その後の表示を正常にできなくする。In an image forming apparatus having a display panel using electron-emitting devices, a high voltage is used to accelerate electrons emitted from the electron-emitting devices. Therefore, vacuum discharge may occur between the face plate and the substrate including the electron-emitting devices, row-direction wirings, column-direction wirings, and the like.
The vacuum discharge suddenly occurs during image display, not only disturbing the image, but also significantly deteriorating the electron-emitting device in the vicinity of the discharge location and making it impossible to display normally thereafter.
【００１１】真空放電が発生する原因としては、基板ま
たはフェースプレート上の突起、異物（ごみ）の付着、
ガスの吸着などが考えられる。特に、真空容器を構成す
る表示パネル内に混入した異物は、それらが導電性であ
るか絶縁性であるかに関わらず、放電を引き起こす場合
があることが本出願人らにより確認されている。The causes of the vacuum discharge are protrusions on the substrate or face plate, adhesion of foreign matter (dust),
Gas adsorption may be considered. In particular, the applicants have confirmed that foreign matter mixed in the display panel forming the vacuum container may cause discharge regardless of whether they are conductive or insulating.
【００１２】ブラウン管等の真空容器の異物を除去する
従来の方法としては、特開平０７−１０５８４７号公報
に記載されたブラウン管をたたくタッピングによる方法
や、特開平０５−３２５７９５号公報に記載されたブラ
ウン管自身の電子銃で異物を加熱して除去する方法、特
開平０７−１０５８５０号公報に記載されたガラス容器
内で放電を起こして異物を除去する方法、特開平０９−
２７４８７５号公報に記載されたレーザ光で異物を加熱
して除去する方法などがあった。As a conventional method for removing foreign matters in a vacuum container such as a cathode ray tube, a method by tapping the cathode ray tube described in JP-A-07-105847 and a cathode ray tube described in JP-A-05-325795. A method for removing foreign matter by heating with an electron gun of its own, a method for removing foreign matter by causing an electric discharge in a glass container described in JP-A-07-105850,
There is a method described in Japanese Patent No. 274875, in which a foreign material is heated and removed with a laser beam.
【００１３】しかし、これらの方法は、異物を加熱する
ために大きなエネルギーを要する場合が多く、そのため
異物周辺の真空容器構成部材にダメージを与えることが
あった。特に、電子放出素子を含むリアプレートに対す
るダメージが大きかった。However, these methods often require a large amount of energy to heat the foreign matter, which may damage the components of the vacuum container around the foreign matter. In particular, the rear plate including the electron-emitting device was greatly damaged.
【００１４】また、基板あるいはフェースプレート等に
付着する異物には導電性のものと絶縁性のものとがあ
る。導電性異物は、すばやく電荷を流し込めるため、比
較的容易に脱離させることができる。一方、絶縁性異物
は、電荷の移動が遅いため、一度付着すると電圧を印加
しても脱離しない場合があり、容易に除去できなかっ
た。Further, there are conductive and insulative foreign substances attached to the substrate or face plate. The conductive foreign matter can be desorbed relatively easily because the charge can be quickly poured. On the other hand, the insulating foreign matter cannot be easily removed because once it adheres, the insulating foreign matter may not be detached even if a voltage is applied once it adheres.
【００１５】これらの異物は、もともと表示パネルの各
部材に付着していたものが表示パネル内へ混入して、或
いは表示パネルの組立工程における部材のこすれ等によ
り発生するものと考えられている。そして、これらの異
物を安価で容易に除去する方法の確立が望まれていた。It is considered that these foreign substances are generated when the substances originally attached to the respective members of the display panel are mixed into the display panel, or when the members are rubbed in the display panel assembling process. Then, it has been desired to establish a method for easily removing these foreign substances at a low cost.
【００１６】本発明の目的は、製造時及び画像表示時の
放電を防止し、良好な画像を表示することのできる画像
形成装置の製造方法を提供することである。An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an image forming apparatus capable of preventing discharge during manufacturing and displaying an image and displaying a good image.
【００１７】[0017]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の真空容器の製造方法は、真空容器を構成す
る前記部材を作成する工程と、前記部材に付着した異物
を帯電させる工程と、帯電した前記異物を前記部材から
除去する工程と、前記異物を除去した前記部材により前
記真空容器を作成する工程を有している。In order to achieve the above object, a method of manufacturing a vacuum container according to the present invention comprises a step of forming the member constituting the vacuum container, and a step of charging foreign matter attached to the member. And a step of removing the charged foreign matter from the member, and a step of forming the vacuum container by the member from which the foreign matter is removed.
【００１８】したがって、部材に付着した異物を帯電さ
せて除去するので、除去が困難とされてきた絶縁性異物
を容易に除去することができる。Therefore, since the foreign matter adhering to the member is charged and removed, the insulating foreign matter, which has been difficult to remove, can be easily removed.
【００１９】本発明の一態様によれば、前記部材に電子
ビームを照射することにより前記異物を帯電させる。According to one aspect of the present invention, the foreign matter is charged by irradiating the member with an electron beam.
【００２０】本発明の他の態様によれば、気体分子に紫
外線を照射し、光電子効果により生じたイオンで前記異
物を帯電させる。According to another aspect of the present invention, the gas molecule is irradiated with ultraviolet rays to charge the foreign matter with ions generated by the photoelectron effect.
【００２１】本発明の他の態様によれば、気体分子に軟
Ｘ線を照射し、コンプトン散乱により生じたイオンで前
記異物を帯電させる。According to another aspect of the present invention, a gas molecule is irradiated with soft X-rays, and the foreign matter is charged with ions generated by Compton scattering.
【００２２】本発明の他の態様によれば、放電用電極を
前記部材に対向させ、該放電用電極と該部材との間に高
電圧を印加することで生じたコロナ放電により前記異物
を帯電させる。According to another aspect of the present invention, the foreign material is charged by corona discharge generated by applying a high voltage between the discharge electrode and the member with the discharge electrode facing the member. Let
【００２３】本発明の一態様によれば、異物除去用電極
を前記部材と対向させ、該異物除去用電極と該部材の間
に電圧を印加して電界を発生させることにより、該部材
から前記異物を除去する。According to one aspect of the present invention, the foreign matter removing electrode is opposed to the member, and a voltage is applied between the foreign matter removing electrode and the member to generate an electric field, whereby the member is removed from the member. Remove foreign matter.
【００２４】したがって、帯電した異物を電界をかけて
吸着するので、帯電した異物を部材から容易に除去する
ことができる。Therefore, since the charged foreign matter is attracted by applying the electric field, the charged foreign matter can be easily removed from the member.
【００２５】本発明の他の真空容器の製造方法は、真空
容器を構成する前記部材を作成する工程と、前記部材に
付着した異物を帯電させつつ該部材から除去する工程
と、前記部材により前記真空容器を作成する工程を有し
ている。Another method of manufacturing a vacuum container according to the present invention comprises the steps of forming the member that constitutes the vacuum container, removing foreign substances adhering to the member from the member while charging them, and It has a step of creating a vacuum container.
【００２６】したがって、部材に付着した異物を１つの
工程で帯電させ除去するので、絶縁性異物を容易に除去
することができる。Therefore, since the foreign matter attached to the member is charged and removed in one step, the insulating foreign matter can be easily removed.
【００２７】本発明の一態様によれば、異物除去用電極
を前記部材と対向させ、該異物除去用電極と該部材の間
に電圧を印加して電界を発生させることにより、前記異
物を帯電させつつ該部材から除去する。According to one aspect of the present invention, the foreign matter removing electrode is opposed to the member, and a voltage is applied between the foreign matter removing electrode and the member to generate an electric field, thereby charging the foreign matter. And removing from the member.
【００２８】したがって、１つの工程で、電界をかけて
異物を帯電させ、吸着して除去するので、絶縁性異物を
容易に除去することができる。Therefore, in a single step, the foreign matter is charged by applying an electric field, and is adsorbed and removed, so that the insulating foreign matter can be easily removed.
【００２９】本発明の一態様によれば、負及び正に帯電
した前記異物の双方を除去するために、正及び負の電界
を順次発生させる。According to one aspect of the present invention, positive and negative electric fields are sequentially generated in order to remove both the negatively and positively charged foreign matter.
【００３０】本発明の一態様によれば、負及び正に帯電
した前記異物の双方を除去するために、正及び負の電界
を順次発生させる場合、異物除去用電極を異物が吸着し
ていない電極に交換する。According to an aspect of the present invention, when positive and negative electric fields are sequentially generated to remove both the negatively and positively charged foreign matter, the foreign matter removal electrode does not adsorb the foreign matter. Replace with an electrode.
【００３１】したがって、部材に正及び負の電界を順次
かけることにより、その性質等により正または負に帯電
した様々な異物を除去することができる。Therefore, by sequentially applying the positive and negative electric fields to the member, it is possible to remove various foreign matters that are positively or negatively charged due to their properties and the like.
【００３２】本発明の一態様によれば、前記異物除去用
電極と前記部材との間に印加する前記電圧は実駆動時の
印加電圧以下である。According to one aspect of the present invention, the voltage applied between the foreign matter removing electrode and the member is less than or equal to the applied voltage during actual driving.
【００３３】したがって、実駆動時の印加電圧以下の電
圧で異物を帯電させるので、部材にダメージを与えず
に、異物を帯電させ、除去することができる。Therefore, since the foreign matter is charged with a voltage equal to or lower than the applied voltage during actual driving, the foreign matter can be charged and removed without damaging the member.
【００３４】本発明の一態様によれば、前記異物除去用
電極と前記部材との間に印加する前記電圧は５００Ｖ〜
８ｋＶである。According to one aspect of the present invention, the voltage applied between the foreign matter removing electrode and the member is 500V to
It is 8 kV.
【００３５】本発明の一態様によれば、前記異物除去用
電極は表面に高抵抗膜を備えている。According to one aspect of the present invention, the foreign matter removing electrode has a high resistance film on its surface.
【００３６】したがって、高抵抗膜を備えた異物除去用
電極で異物を吸着して除去するので、異物除去用電極に
て捕獲した導電性異物が脱離しにくく、電荷の移動の早
い導電性異物を、電荷の移動の遅い絶縁性異物と共に容
易に除去することができる。Therefore, since the foreign matter removing electrode having the high resistance film adsorbs and removes the foreign matter, the conductive foreign matter captured by the foreign matter removing electrode is hard to be detached, and the conductive foreign matter whose charge moves quickly is removed. In addition, it can be easily removed together with the insulating foreign matter in which the charges move slowly.
【００３７】本発明の一態様によれば、前記部材同士を
封着することにより前記真空容器を作成する。According to one aspect of the present invention, the vacuum container is produced by sealing the members together.
【００３８】更に、本発明の一態様によれば、前記部材
から前記異物を除去した直後に該部材同士を封着する。Further, according to one aspect of the present invention, the members are sealed together immediately after removing the foreign matter from the members.
【００３９】本発明の一態様によれば、前記部材は、素
子電極間の導電性膜を電子放出部とする複数の電子放出
素子からなる電子源を備えたリアプレートと、前記リア
プレートに対向する蛍光体を備えたフェースプレートと
を含む。According to one aspect of the present invention, the member includes a rear plate provided with an electron source including a plurality of electron-emitting devices having an electron-emitting portion formed of a conductive film between device electrodes, and the member facing the rear plate. And a face plate provided with a fluorescent substance.
【００４０】本発明の画像形成装置の製造方法は、真空
容器を含む画像形成装置の製造方法において、本発明の
いずれかの真空容器の製造方法により前記真空容器を製
造することを特徴としている。An image forming apparatus manufacturing method of the present invention is characterized in that, in the method of manufacturing an image forming apparatus including a vacuum container, the vacuum container is manufactured by any one of the vacuum container manufacturing methods of the present invention.
【００４１】[0041]
【発明の実施の形態】本発明の実施形態について図面を
参照して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す
実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的が達
成される範囲内での各要素の置換や設計変更がなされた
ものをも包含する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described below, and includes those in which the replacement of each element or the design change is made within the range in which the object of the present invention is achieved.
【００４２】（第１の実施形態）本発明の第１の実施形
態として、電子照射により異物を帯電させて除去した画
像形成装置について説明する。なお、第１の実施形態で
は、本出願人により出願された特開平７−２３５２５５
号公報に記載されたものと同様に、表面伝導型電子放出
素子を電子源とする場合を例示する。ただし、第１の実
施形態の電子源をなす電子放出素子は、それが用いられ
る画像形成装置に適した電子放出特性や素子サイズなど
の性質を有していればよく、特に、この例に限定される
ものではない。(First Embodiment) As a first embodiment of the present invention, an image forming apparatus in which a foreign substance is electrically charged and removed by electron irradiation will be described. In the first embodiment, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-235255 filed by the present applicant.
Similar to the one described in the publication, a case where a surface conduction electron-emitting device is used as an electron source will be exemplified. However, the electron-emitting device that constitutes the electron source of the first embodiment only needs to have properties such as electron-emitting characteristics and device size suitable for the image forming apparatus in which the electron-emitting device is used, and is particularly limited to this example. It is not something that will be done.
【００４３】図１は、第１の実施形態の画像形成装置の
構成を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing the structure of the image forming apparatus of the first embodiment.
【００４４】図１を参照すると、第１の実施形態の画像
形成装置は、リアプレート２３とフェースプレート２２
と支持枠１８とが封着され、真空にされた後に封止され
た真空容器を有する。Referring to FIG. 1, the image forming apparatus according to the first embodiment has a rear plate 23 and a face plate 22.
The support frame 18 and the support frame 18 are sealed, and the vacuum container is sealed after being evacuated.
【００４５】リアプレート２３上の基板１４は、マトリ
クス配置された複数の表面伝導型電子放出素子１７を有
し、そこから電子を放出する。The substrate 14 on the rear plate 23 has a plurality of surface conduction electron-emitting devices 17 arranged in a matrix, and emits electrons from there.
【００４６】フェースプレート２２は、ガラス基板１９
に蛍光膜２０、及びメタルバック２１が形成されたもの
である。蛍光膜２０は、基板１４から放出された電子ビ
ームで励起・発光する蛍光体である。メタルバック２１
は、蛍光膜２０の内側にあり、蛍光膜２０から内側への
光を鏡面反射して輝度を向上させる。The face plate 22 is the glass substrate 19
The fluorescent film 20 and the metal back 21 are formed on the substrate. The phosphor film 20 is a phosphor that is excited and emits light by the electron beam emitted from the substrate 14. Metal back 21
Is inside the fluorescent film 20, and specularly reflects the light from the fluorescent film 20 to the inside to improve the brightness.
【００４７】支持枠１８は、リアプレート２３とフェー
スプレート２２を所定の間隔に固定して支持する。The support frame 18 fixes and supports the rear plate 23 and the face plate 22 at a predetermined interval.
【００４８】本実施形態の画像形成装置の製造方法とし
ては、先ず、リアプレート２３及びフェースプレート２
２を作成する。次に、リアプレート２３、フェースプレ
ート２２及び支持部材１８を含む真空容器構成部材の異
物に電子を照射して帯電させた後に除去する。次に、真
空容器構成部材を封着し、真空にした後に封止すること
で真空容器を作製する。In the method of manufacturing the image forming apparatus of this embodiment, first, the rear plate 23 and the face plate 2
Create 2. Next, the foreign matter of the vacuum container constituent member including the rear plate 23, the face plate 22, and the support member 18 is irradiated with electrons to be charged, and then removed. Next, a vacuum container is manufactured by sealing the vacuum container constituent member, applying vacuum, and then sealing.
【００４９】リアプレート２３の構成及び製造方法につ
いて説明する。The structure and manufacturing method of the rear plate 23 will be described.
【００５０】図２は、本実施形態の基板１４の構成を示
す模式図である。図２を参照すると、本実施形態の基板
１４には、複数のＸ方向配線１５と複数のＹ方向配線１
６が形成され、マトリックス配線を構成している。Ｘ方
向配線１５とＹ方向配線１６は、それらの間に設けられ
た層間絶縁層（不図示）により電気的に分離されてい
る。FIG. 2 is a schematic view showing the structure of the substrate 14 of this embodiment. Referring to FIG. 2, a plurality of X-direction wirings 15 and a plurality of Y-direction wirings 1 are provided on the substrate 14 of this embodiment.
6 are formed to form a matrix wiring. The X-direction wiring 15 and the Y-direction wiring 16 are electrically separated by an interlayer insulating layer (not shown) provided between them.
【００５１】また、Ｘ方向配線１５及びＹ方向配線１６
には表面伝導型電子放出素子１７の素子電極が設けられ
ている。Ｘ方向配線１５の素子電極とＹ方向配線１６の
素子電極とは対向して対をなし、その対がマトリクス配
置されている。対をなす素子電極間に導電性薄膜が形成
されて表面伝導型電子放出素子１７が構成されている。
この導電性薄膜は電子放出部を含んでいる。なお、表面
伝導型電子放出素子１７は絶縁性基板上に形成されても
よく、また層間絶縁層上に形成されてもよい。Further, the X-direction wiring 15 and the Y-direction wiring 16
An element electrode of the surface conduction electron-emitting device 17 is provided in the. The device electrodes of the X-direction wiring 15 and the device electrodes of the Y-direction wiring 16 face each other to form a pair, and the pairs are arranged in a matrix. A conductive thin film is formed between a pair of device electrodes to form a surface conduction electron-emitting device 17.
This conductive thin film includes an electron emitting portion. The surface conduction electron-emitting device 17 may be formed on the insulating substrate or may be formed on the interlayer insulating layer.
【００５２】複数のＸ方向配線１５は絶縁性基板上に真
空蒸着法、印刷法、スパッタ法等で形成された後に所望
のパターンとされた導電性金属等である。複数のＹ方向
配線１６は、Ｘ方向配線１５と同様に、真空蒸着法、印
刷法、スパッタ法等で形成された後に所望のパターンと
された導電性金属等である。Ｘ方向配線１５及びＹ方向
配線１６は、それぞれ外部端子（不図示）として引き出
される。Ｘ方向配線１５及びＹ方向配線１６の材料、膜
厚、配線巾等は、複数の表面伝導型電子放出素子１７に
ほぼ均等な電圧が供給される様に定められる。The plurality of X-direction wirings 15 is a conductive metal or the like having a desired pattern after being formed on the insulating substrate by a vacuum deposition method, a printing method, a sputtering method or the like. Similar to the X-direction wiring 15, the plurality of Y-direction wirings 16 are made of a conductive metal or the like having a desired pattern after being formed by a vacuum deposition method, a printing method, a sputtering method, or the like. The X-direction wiring 15 and the Y-direction wiring 16 are drawn out as external terminals (not shown). The materials, film thickness, wiring width, etc. of the X-direction wiring 15 and the Y-direction wiring 16 are determined so that a substantially uniform voltage is supplied to the plurality of surface conduction electron-emitting devices 17.
【００５３】Ｘ方向配線１５とＹ方向配線１６の間の層
間絶縁層（不図示）は、真空蒸着法、印刷法、スパッタ
法等で形成されたＳｉＯ２等である。Ｘ方向配線１５を
形成した絶縁性基板の全面あるいは一部に所望の形状で
形成される。層間絶縁層の膜厚、材料、製法は、特に、
Ｘ方向配線１５とＹ方向配線１６の交差部分の電位差に
耐え得る様に定められる。The interlayer insulating layer (not shown) between the X-direction wiring 15 and the Y-direction wiring 16 is SiO 2 or the like formed by a vacuum evaporation method, a printing method, a sputtering method or the like. It is formed in a desired shape on the entire surface or a part of the insulating substrate on which the X-direction wiring 15 is formed. The film thickness, material, and manufacturing method of the interlayer insulating layer are
It is determined so as to withstand the potential difference at the intersection of the X-direction wiring 15 and the Y-direction wiring 16.
【００５４】導電性薄膜は真空蒸着法、印刷法、スパッ
タ法等で形成された導電性金属等である。The conductive thin film is a conductive metal or the like formed by a vacuum deposition method, a printing method, a sputtering method or the like.
【００５５】Ｘ方向配線１５、Ｙ方向配線１６及び導電
性薄膜は、それらの構成元素のうち一部あるいは全部が
互いに同一であってもよく、またそれぞれ異なっていて
もよい。構成元素としては、Ｎｉ，Ｃｒ，Ａｕ，Ｍｏ，
Ｗ，Ｐｔ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｃｕ，Ｐｄ等の金属あるいは合
金及びＰｄ，Ａｇ，Ａｕ，ＲｕＯ２，Ｐｄ−Ａｇ等の金
属あるいは金属酸化物とガラス等から構成される印刷導
体、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２等の透明導体及びポリシリコ
ンなどの半導体材料等より適宜選択される。Some or all of the constituent elements of the X-direction wiring 15, the Y-direction wiring 16 and the conductive thin film may be the same or different from each other. The constituent elements include Ni, Cr, Au, Mo,
Metals or alloys such as W, Pt, Ti, Al, Cu, Pd, etc. and printed conductors composed of metals or metal oxides such as Pd, Ag, Au, RuO2, Pd-Ag or metal oxides and glass, In2O3-SnO2 etc. It is appropriately selected from a transparent conductor and a semiconductor material such as polysilicon.
【００５６】Ｘ方向配線１５は、走査信号印加手段（不
図示）からの走査信号により、Ｘ方向に配列された表面
伝導型電子放出素子１７の行を走査する。Ｙ方向配線１
６は、変調信号発生手段（不図示）からの変調信号によ
り、Ｙ方向に配列された各列の表面伝導型電子放出素子
１７を変調する。表面伝導型電子放出素子１７の各素子
には、走査信号と変調信号との電位差が駆動電圧として
印加される。The X-direction wiring 15 scans the rows of the surface conduction electron-emitting devices 17 arranged in the X direction by a scanning signal from a scanning signal applying means (not shown). Y direction wiring 1
Reference numeral 6 modulates the surface conduction electron-emitting devices 17 in each column arranged in the Y direction by a modulation signal from a modulation signal generating means (not shown). A potential difference between the scanning signal and the modulation signal is applied as a drive voltage to each element of the surface conduction electron-emitting device 17.
【００５７】フェースプレート２２の製造方法について
説明する。A method of manufacturing the face plate 22 will be described.
【００５８】先ず、蛍光膜2０を沈殿法や印刷法により
ガラス基板１９に形成する。これらの方法は、モノクロ
ーム及びカラーの双方に用いられる。First, the fluorescent film 20 is formed on the glass substrate 19 by a precipitation method or a printing method. These methods are used for both monochrome and color.
【００５９】ガラス基板１９に蛍光膜２０を形成した後
に蛍光膜２０の内面側表面を平滑化処理する。通常、こ
の平滑化処理はフィルミングと称される。フィルミング
された蛍光膜２０の内側表面にＡ１を真空蒸着等で堆積
することによりメタルバック２１を形成する。After the fluorescent film 20 is formed on the glass substrate 19, the inner surface of the fluorescent film 20 is smoothed. Usually, this smoothing process is called filming. The metal back 21 is formed by depositing A1 on the inner surface of the filmed fluorescent film 20 by vacuum evaporation or the like.
【００６０】なお、蛍光膜２０の導伝性を高めるため
に、蛍光膜２０の外面側に透明電極（不図示）を設けて
もよい。A transparent electrode (not shown) may be provided on the outer surface of the fluorescent film 20 in order to enhance the conductivity of the fluorescent film 20.
【００６１】真空容器構成部材の異物除去方法について
説明する。A method for removing foreign matter from the vacuum container component will be described.
【００６２】前述した通り、異物には導電性異物と絶縁
性異物とがある。導電性異物は、真空容器構成部材に対
向して電極を配置し、真空容器構成部材と電極の間に電
圧を印加して電界を生じさせることにより、比較的容易
に除去することができる。一方、絶縁性異物は導電性異
物と異なり、電界をかけるだけでは除去できないものが
多い。As described above, the foreign matter includes conductive foreign matter and insulating foreign matter. The conductive foreign matter can be relatively easily removed by disposing the electrode so as to face the vacuum container constituent member and applying a voltage between the vacuum container constituent member and the electrode to generate an electric field. On the other hand, insulative foreign matter is different from conductive foreign matter, and many cannot be removed only by applying an electric field.
【００６３】第１の実施形態においては、真空容器構成
部材の表面に付着した異物に電子ビームを照射して帯電
させた後に、電界をかけて異物を除去する。In the first embodiment, the foreign matter adhered to the surface of the vacuum container constituent member is irradiated with an electron beam to be charged, and then an electric field is applied to remove the foreign matter.
【００６４】真空容器構成部材の表面に付着した異物を
帯電させる方法について説明する。A method of charging foreign matter attached to the surface of the vacuum container constituent member will be described.
【００６５】図３（ａ）は、電子ビームにより異物を帯
電させる方法について説明するための図である。図３
（ａ）を参照すると、真空装置５内に真空容器構成部材
１、フィラメント３及びグリッド４があり、真空容器構
成部材１の表面には異物２が付着している。FIG. 3A is a diagram for explaining a method of charging a foreign substance with an electron beam. Figure 3
Referring to (a), a vacuum container component 1, a filament 3 and a grid 4 are provided in a vacuum device 5, and a foreign substance 2 is attached to the surface of the vacuum container component 1.
【００６６】真空容器構成部材１は、リアプレート、フ
ェースプレート、支持枠、スペーサ等の真空容器を構成
する部材である。フィラメント３は、電源６から電圧を
印加されて電子を放出する。グリッド４は、フィラメン
ト３と真空容器構成部材１の間の空間に設置された制御
電極であり、フィラメント３から放出された電子を加速
する。The vacuum container constituent member 1 is a member constituting a vacuum container such as a rear plate, a face plate, a support frame, and a spacer. The filament 3 is applied with a voltage from the power source 6 and emits electrons. The grid 4 is a control electrode installed in the space between the filament 3 and the vacuum chamber constituent member 1, and accelerates the electrons emitted from the filament 3.
【００６７】先ず、真空装置５内を１×１０-5［Ｐａ］
以下に排気し、グリッド４を接地する。First, the inside of the vacuum device 5 is set to 1 × 10 -5 [Pa].
Evacuate below and ground the grid 4.
【００６８】次に、真空容器構成部材１に正の電圧を印
加する。フィラメント３から熱電子放出により電子を放
出すると、その電子がグリッド４及び真空容器構成部材
１により加速され、真空容器構成部材１に照射される。Next, a positive voltage is applied to the vacuum container constituent member 1. When electrons are emitted from the filament 3 by thermoelectron emission, the electrons are accelerated by the grid 4 and the vacuum container constituent member 1 and are applied to the vacuum container constituent member 1.
【００６９】なお、フィラメント電流や真空容器構成部
材１に印加する電圧を選択することにより、帯電の条件
を制御することができる。ここでは、加速電圧１．５ｋ
Ｖとし、真空容器構成部材１の全面に電子ビームを照射
した。The charging condition can be controlled by selecting the filament current and the voltage applied to the vacuum container component 1. Here, acceleration voltage 1.5k
Then, the entire surface of the vacuum container component 1 was irradiated with an electron beam.
【００７０】その結果、真空容器構成部材上に付着した
異物は負に帯電した。ただし、帯電の正負は異物材料の
２次電子放出係数特性と電子の入射エネルギーの関係に
より異なり、正に帯電する場合もある。As a result, the foreign substances attached to the vacuum container constituent members were negatively charged. However, whether the charge is positive or negative depends on the relationship between the secondary electron emission coefficient characteristics of the foreign material and the incident energy of electrons, and may be positively charged.
【００７１】帯電した異物を除去する方法について説明
する。A method for removing charged foreign matter will be described.
【００７２】図３（ｂ）は、帯電した異物を除去する方
法について説明するための図である。図３（ｂ）を参照
すると、帯電した異物２が付着した真空容器構成部材１
に対向して、異物除去用電極７が配置されている。リア
プレートやフェースプレートに付着した異物２を除去す
るために、異物除去用電極７は画像表示領域以上の大き
さであることが好ましい。FIG. 3B is a diagram for explaining a method of removing charged foreign matter. Referring to FIG. 3B, the vacuum container constituent member 1 to which the charged foreign matter 2 is attached.
A foreign matter removing electrode 7 is disposed so as to face the. In order to remove the foreign matter 2 attached to the rear plate or the face plate, the foreign matter removing electrode 7 is preferably larger than the image display area.
【００７３】そして、先ず、真空容器構成部材１と異物
除去用電極７の間に正の電圧を印加する。これにより、
負に帯電した異物２は異物除去用電極７に吸着する。次
に、異物除去用電極を７を異物が吸着していない電極
７’と交換した後、真空容器構成部材１と異物除去用電
極７’の間に負の電圧を印可する。これにより、正に帯
電した異物２が異物除去用電極７’に吸着する。Then, first, a positive voltage is applied between the vacuum container constituent member 1 and the foreign matter removing electrode 7. This allows
The negatively charged foreign matter 2 is adsorbed on the foreign matter removing electrode 7. Next, after replacing the foreign matter removing electrode 7 with the electrode 7 ′ on which the foreign matter is not adsorbed, a negative voltage is applied between the vacuum container component 1 and the foreign matter removing electrode 7 ′. As a result, the positively charged foreign matter 2 is attracted to the foreign matter removing electrode 7 '.
【００７４】ここでは、真空容器構成部材１と異物除去
用電極７との間隔を２ｍｍとし、真空容器構成部材１を
接地し、異物除去用電極７に±１．５ｋＶを順次印加し
た。これにより、真空容器構成部材１上の異物２を取り
除くことができた。ただし、本発明はこの例に限定され
るものではなく、真空容器構成部材１が放電ダメージを
受ける可能性の低い電圧５００Ｖ〜８ｋＶであればよ
く、実駆動時と同等以下の電圧とするのが好ましい。Here, the distance between the vacuum container constituent member 1 and the foreign matter removing electrode 7 was set to 2 mm, the vacuum container constituent member 1 was grounded, and ± 1.5 kV was sequentially applied to the foreign matter removing electrode 7. As a result, the foreign matter 2 on the vacuum container constituent member 1 could be removed. However, the present invention is not limited to this example, and a voltage of 500 V to 8 kV at which the vacuum container constituent member 1 is unlikely to be damaged by discharge may be used, and a voltage equal to or lower than that during actual driving may be used. preferable.
【００７５】真空容器構成部材１を封着する方法につい
て説明する。A method for sealing the vacuum container component 1 will be described.
【００７６】以上の様にして異物を除去したリアプレー
ト２３、支持枠１８及びフェースプレート２２にフリッ
トガラス等を塗布し、これらの大気中あるいは窒素中に
て、４００〜５００℃の温度で１０分以上焼成すること
により封着し、図１に示したような真空容器を製造す
る。ここでは、フェースプレート２２とリアプレート２
３の間の距離を２ｍｍとして画像形成装置を製造した。
その素子電極間に１５Ｖ程度の電圧を印加すると、この
電極間に素子電流が流れて電子が放出される。Frit glass or the like is applied to the rear plate 23, the support frame 18 and the face plate 22 from which foreign matter has been removed as described above, and these are exposed to the atmosphere or nitrogen at a temperature of 400 to 500 ° C. for 10 minutes. The firing is performed as described above to seal and manufacture the vacuum container as shown in FIG. Here, the face plate 22 and the rear plate 2
The image forming apparatus was manufactured with the distance between 3 being 2 mm.
When a voltage of about 15 V is applied between the device electrodes, a device current flows between the electrodes and electrons are emitted.
【００７７】以上説明した方法を用いて製造した第１の
実施形態の画像形成装置により画像を表示させた。ここ
では、アノード（図１ではメタルバック２１）に１０ｋ
Ｖの高電圧を印加し、基板１４のＸ方向配線１５および
Ｙ方向配線１６に接続されたドライバーユニット（不図
示）を駆動することにより、画像を表示させた。なお、
ドライバーユニットは、外部端子Ｄｏｘ１〜Ｄｏｘｍで
Ｘ方向配線１５と接続され、外部端子Ｄｏｙ１〜Ｄｏｙ
ｎでＹ方向配線１６と接続されている。An image is displayed by the image forming apparatus of the first embodiment manufactured by using the method described above. Here, the anode (the metal back 21 in FIG. 1) is 10 k
An image is displayed by applying a high voltage of V and driving a driver unit (not shown) connected to the X-direction wiring 15 and the Y-direction wiring 16 of the substrate 14. In addition,
The driver unit is connected to the X-direction wiring 15 at the external terminals Dox1 to Doxm, and is connected to the external terminals Doy1 to Doy.
It is connected to the Y-direction wiring 16 at n.
【００７８】第１の実施形態の画像形成装置の画像表示
の結果、異常放電によると思われる画素欠陥が従来に比
べて大きく減少していた。As a result of the image display of the image forming apparatus of the first embodiment, the pixel defects which are considered to be caused by the abnormal discharge were greatly reduced as compared with the conventional case.
【００７９】本実施形態によれば、電子ビームを照射す
るして異物を帯電させた後に電界をかけて吸着すること
で、これまで除去が困難であった絶縁性異物を容易に除
去することができるので、画像形成装置の製造工程およ
び画像表示中における異常放電の発生が大きく減少す
る。According to this embodiment, the insulating foreign matter, which has been difficult to remove up to now, can be easily removed by irradiating the electron beam to charge the foreign matter and then applying the electric field to adsorb the foreign matter. Therefore, the occurrence of abnormal discharge during the manufacturing process of the image forming apparatus and during image display is greatly reduced.
【００８０】（第２の実施形態）本発明の第２の実施形
態として、紫外線照射により異物を帯電させて除去した
画像形成装置について説明する。なお、第２の実施形態
では、第１の実施形態と同様に、特開平７−２３５２５
５号公報に記載されたように表面伝導型電子放出素子を
電子源とする場合を例示する。また、第２の実施形態の
画像形成装置の電子源をなす電子放出素子は、それが用
いられる画像形成装置に適した電子放出特性や素子サイ
ズなどの性質を有していればよく、特に、この例に限定
されるものではない。(Second Embodiment) As a second embodiment of the present invention, an image forming apparatus will be described in which foreign matter is charged and removed by irradiation of ultraviolet rays. In addition, in the second embodiment, as in the first embodiment, JP-A-7-23525 is used.
A case where a surface conduction electron-emitting device is used as an electron source as described in Japanese Patent No. 5 will be exemplified. Further, the electron-emitting device forming the electron source of the image forming apparatus of the second exemplary embodiment may have electron emission characteristics and element sizes suitable for the image forming apparatus in which it is used, and in particular, It is not limited to this example.
【００８１】第２の実施形態の画像形成装置の構成は、
図１に示した第１の実施形態と同じである。The configuration of the image forming apparatus of the second embodiment is as follows.
This is the same as the first embodiment shown in FIG.
【００８２】第２の実施形態の画像形成装置の製造方法
としては、先ず、リアプレート２３及びフェースプレー
ト２２を作成する。次に、リアプレート２３、フェース
プレート２２及び指示部材１８を含む真空容器構成部材
の異物に、紫外線により発生したイオンを衝突させて、
帯電させた後に除去する。次に、真空容器構成部材を封
着し、真空にした後に封止することで真空容器を作成す
る。In the method of manufacturing the image forming apparatus of the second embodiment, first, the rear plate 23 and the face plate 22 are created. Next, the ions generated by the ultraviolet rays are made to collide with the foreign matter of the vacuum container constituent member including the rear plate 23, the face plate 22, and the indicating member 18,
Remove after charging. Next, the vacuum container constituent member is sealed, and the vacuum container is created by applying vacuum and then sealing.
【００８３】第２の実施形態におけるリアプレート２３
及びフェースプレート２２の製造方法は、第１の実施形
態と同じである。The rear plate 23 in the second embodiment
The method of manufacturing the face plate 22 is the same as that of the first embodiment.
【００８４】第２の実施形態における異物除去方法につ
いて説明する。A foreign matter removing method according to the second embodiment will be described.
【００８５】第２の実施形態においては、真空容器構成
部材の表面に付着した異物を紫外線により帯電させた後
に、電界をかけて異物を除去する。In the second embodiment, the foreign matter attached to the surface of the vacuum container constituent member is charged with ultraviolet rays, and then the electric field is applied to remove the foreign matter.
【００８６】真空容器構成部材の表面に付着した異物を
帯電させる方法について説明する。A method of charging foreign matter attached to the surface of the vacuum container constituent member will be described.
【００８７】図４（ａ）は、紫外線照射により異物を帯
電させる方法について説明するための図である。図４
（ａ）を参照すると、真空装置５内に真空容器構成部材
１があり、真空容器構成部材１には異物２が付着してい
る。また、真空装置５は、紫外線ランプ８及びＮ２導入
管９を有している。FIG. 4A is a diagram for explaining a method of charging a foreign substance by irradiating ultraviolet rays. Figure 4
Referring to (a), a vacuum container component 1 is present in the vacuum device 5, and a foreign substance 2 is attached to the vacuum container component 1. Further, the vacuum device 5 has an ultraviolet lamp 8 and an N 2 introducing tube 9.
【００８８】真空容器構成部材１は、リアプレート、フ
ェースプレート、支持枠、スペーサ等の真空容器を構成
する部材である。紫外線ランプ８は、紫外線を発生させ
るランプである。Ｎ２導入管９は、真空装置５の操作者
の所望により真空装置５内にＮ２を導入する。The vacuum container constituent member 1 is a member that constitutes a vacuum container such as a rear plate, a face plate, a support frame, and a spacer. The ultraviolet lamp 8 is a lamp that emits ultraviolet rays. The N2 introducing pipe 9 introduces N2 into the vacuum device 5 as desired by the operator of the vacuum device 5.
【００８９】本実施形態のように紫外線を用いる場合、
雰囲気中に酸素が含まれると、オゾンの生成に紫外線の
エネルギーが消費されてしまい、イオンが生成されな
い。そのため、異物２を帯電させる工程は、不活性ガス
中または減圧真空中で行う必要がある。ここでは、Ｎ２
中で異物の帯電工程を行った。When ultraviolet rays are used as in this embodiment,
When oxygen is contained in the atmosphere, ultraviolet energy is consumed for ozone generation, and ions are not generated. Therefore, the step of charging the foreign matter 2 needs to be performed in an inert gas or under reduced pressure vacuum. Here, N2
The charging process for foreign matter was performed therein.
【００９０】また、紫外線としては、波長２００ｎｍ以
下の真空紫外線が有効である。ここでは、紫外線ランプ
８として、波長１５０ｎｍ〜４００ｎｍの重水素ランプ
を用いた。Further, vacuum ultraviolet rays having a wavelength of 200 nm or less are effective as the ultraviolet rays. Here, a deuterium lamp having a wavelength of 150 nm to 400 nm was used as the ultraviolet lamp 8.
【００９１】先ず、真空装置５内にＮ２を導入する。First, N2 is introduced into the vacuum device 5.
【００９２】次に、紫外線ランプ８から真空装置５内に
紫外線を照射する。紫外線が照射されると、真空装置５
内の気体分子は、紫外線を吸収し、光電子効果により電
子を放出し、正イオンとなる。Next, the vacuum lamp 5 is irradiated with ultraviolet rays from the ultraviolet lamp 8. When irradiated with ultraviolet rays, the vacuum device 5
The gas molecules inside absorb ultraviolet rays and emit electrons by the photoelectron effect to become positive ions.
【００９３】次に、電界を発生させて正イオン或いは電
子を異物２に衝突させ、異物２を帯電させる。ここで
は、真空容器構成部材１へのダメージを小さくするため
に、真空容器構成部材１に正の電圧を印加して電界を発
生させ、電子により異物２を負に帯電させたい。ただ
し、帯電の正負は異物材料の２次電子放出係数特性と電
子の入射エネルギーの関係により異なり、正に帯電する
場合もある。また、紫外線照射により異物２を帯電させ
る他の方法として、減圧真空中で異物２に紫外線を照射
すれば、異物２自身が光電子放出し、正に帯電する。Next, an electric field is generated to cause positive ions or electrons to collide with the foreign matter 2 to charge the foreign matter 2. Here, in order to reduce damage to the vacuum container constituent member 1, it is desired to apply a positive voltage to the vacuum container constituent member 1 to generate an electric field and negatively charge the foreign matter 2 with electrons. However, whether the charge is positive or negative depends on the relationship between the secondary electron emission coefficient characteristics of the foreign material and the incident energy of electrons, and may be positively charged. As another method of charging the foreign matter 2 by irradiation with ultraviolet rays, if the foreign matter 2 is irradiated with ultraviolet rays in a reduced pressure vacuum, the foreign matter 2 itself emits photoelectrons and is positively charged.
【００９４】帯電した異物を除去する方法について説明
する。A method for removing charged foreign matter will be described.
【００９５】図４（ｂ）は、帯電した異物を除去する方
法について説明するための図である。図４（ｂ）を参照
すると、帯電した異物２が付着した真空容器構成部材１
に対向して、異物除去用電極７が配置されている。図４
（ｂ）は図３（ｂ）に示した構成と同じものであり、第
２の実施形態の異物除去方法は、第１の実施形態の方法
と同じである。FIG. 4B is a diagram for explaining a method for removing charged foreign matter. Referring to FIG. 4B, the vacuum container constituent member 1 to which the charged foreign matter 2 is attached.
A foreign matter removing electrode 7 is disposed so as to face the. Figure 4
3B is the same as the configuration shown in FIG. 3B, and the foreign matter removing method of the second embodiment is the same as the method of the first embodiment.
【００９６】また、第２の実施形態における真空容器構
成部材１を封着する方法は、第１の実施形態の方法と同
じである。The method of sealing the vacuum container component 1 in the second embodiment is the same as the method of the first embodiment.
【００９７】以上説明した方法を用いて製造した第２の
実施形態の画像形成装置により、第１の実施形態と同様
に、画像を表示させた。その結果、異常放電によると思
われる画素欠陥が従来に比べて大きく減少していた。An image was displayed by the image forming apparatus of the second embodiment manufactured by using the method described above, as in the first embodiment. As a result, the pixel defects, which are considered to be caused by abnormal discharge, were greatly reduced as compared with the conventional one.
【００９８】本実施形態によれば、紫外線により異物２
を帯電させた後に電界をかけて吸着することで、これま
で除去が困難であった絶縁性異物を容易に除去すること
ができるので、画像形成装置の製造工程および画像表示
中における異常放電の発生が大きく減少する。According to this embodiment, the foreign matter 2 is exposed to ultraviolet rays.
It is possible to easily remove insulating foreign substances that have been difficult to remove by charging and applying an electric field after charging, so abnormal discharge occurs during the image forming device manufacturing process and during image display. Is greatly reduced.
【００９９】（第３の実施形態）本発明の第３の実施形
態として、軟Ｘ線照射により異物を帯電させて除去した
画像形成装置について説明する。なお、第３の実施形態
では、第１の実施形態と同様に、特開平７−２３５２５
５号公報に記載されたように表面伝導型電子放出素子を
電子源とする場合を例示する。また、第３の実施形態の
画像形成装置の電子源をなす電子放出素子は、それが用
いられる画像形成装置に適した電子放出特性や素子サイ
ズなどの性質を有していればよく、特に、この例に限定
されるものではない。(Third Embodiment) As a third embodiment of the present invention, an image forming apparatus will be described in which foreign matter is charged and removed by irradiation with soft X-rays. In addition, in the third embodiment, as in the first embodiment, Japanese Patent Laid-Open No. 7-23525.
A case where a surface conduction electron-emitting device is used as an electron source as described in Japanese Patent No. 5 will be exemplified. Further, the electron-emitting device forming the electron source of the image forming apparatus according to the third exemplary embodiment may have properties such as electron emission characteristics and element size suitable for the image forming apparatus in which the electron-emitting device is used, and in particular, It is not limited to this example.
【０１００】第３の実施形態の画像形成装置の構成は、
図１に示した第１の実施形態と同じである。The structure of the image forming apparatus of the third embodiment is as follows.
This is the same as the first embodiment shown in FIG.
【０１０１】第３の実施形態の画像形成装置の製造方法
としては、先ず、リアプレート２３及びフェースプレー
ト２２を作成する。次に、リアプレート２３、フェース
プレート２２及び指示部材１８を含む真空容器構成部材
の異物に軟Ｘ線を照射して帯電させた後に除去する。次
に、真空容器構成部材を封着し、真空にした後に封止す
ることで真空容器を作成する。In the method of manufacturing the image forming apparatus of the third embodiment, first, the rear plate 23 and the face plate 22 are created. Next, the foreign matter of the vacuum container constituent member including the rear plate 23, the face plate 22 and the indicating member 18 is irradiated with soft X-rays to be charged and then removed. Next, the vacuum container constituent member is sealed, and the vacuum container is created by applying vacuum and then sealing.
【０１０２】第３の実施形態におけるリアプレート２３
及びフェースプレート２２の製造方法は、第１の実施形
態と同じである。Rear plate 23 in the third embodiment
The method of manufacturing the face plate 22 is the same as that of the first embodiment.
【０１０３】第３の実施形態における異物除去方法につ
いて説明する。A foreign matter removing method according to the third embodiment will be described.
【０１０４】第３の実施形態においては、真空容器構成
部材の表面に付着した異物を軟Ｘ線により帯電させた後
に、電界をかけて異物を除去する。In the third embodiment, the foreign matter attached to the surface of the vacuum container constituent member is charged with soft X-rays, and then the electric field is applied to remove the foreign matter.
【０１０５】真空容器構成部材の表面に付着した異物を
帯電させる方法について説明する。A method of charging foreign matter adhering to the surface of the vacuum container constituent member will be described.
【０１０６】図５（ａ）は、軟Ｘ線照射により異物を帯
電させる方法について説明するための図である。図５
（ａ）を参照すると、真空容器構成部材１の上方に軟Ｘ
線源１０が設けられている。真空容器構成部材１には異
物２が付着している。FIG. 5A is a diagram for explaining a method of charging a foreign substance by irradiation with soft X-rays. Figure 5
Referring to (a), a soft X is formed above the vacuum container component 1.
A radiation source 10 is provided. A foreign substance 2 is attached to the vacuum container constituent member 1.
【０１０７】真空容器構成部材１は、リアプレート、フ
ェースプレート、支持枠、スペーサ等の真空容器を構成
する部材である。軟Ｘ線源１０は、軟Ｘ線を発生させ
る。The vacuum container constituent member 1 is a member constituting a vacuum container such as a rear plate, a face plate, a support frame and a spacer. The soft X-ray source 10 generates soft X-rays.
【０１０８】本実施形態のように軟Ｘ線を用いる場合、
真空中である必要が無く、大気中などの酸素を含む雰囲
気中でも可能である。ここでは、異物２を帯電させる工
程を大気中で行った。When soft X-rays are used as in this embodiment,
It is not necessary to be in vacuum, and it is possible in an atmosphere containing oxygen such as air. Here, the step of charging the foreign matter 2 was performed in the atmosphere.
【０１０９】先ず、軟Ｘ線源１０から真空容器構成部材
１に向けて軟Ｘ線を照射する。軟Ｘ線が照射されると、
軟Ｘ線の光子が気体分子に衝突してコンプトン散乱を起
こし、気体分子から電子が外に飛び出し、気体分子は正
イオンになる。First, the soft X-ray source 10 irradiates the vacuum container component 1 with soft X-rays. When irradiated with soft X-rays,
The soft X-ray photons collide with gas molecules to cause Compton scattering, electrons fly out from the gas molecules, and the gas molecules become positive ions.
【０１１０】次に、電界を発生させて正イオン或いは電
子を異物２に衝突させ、異物２を帯電させる。ここで
は、真空容器構成部材１へのダメージを小さくするため
に、真空容器構成部材１に正の電圧を印加して電界を発
生させ、電子により異物２を負に帯電させたい。ただ
し、帯電の正負は異物材料の２次電子放出係数特性と電
子の入射エネルギーの関係により異なり、正に帯電する
場合もある。Next, an electric field is generated to cause positive ions or electrons to collide with the foreign matter 2 to charge the foreign matter 2. Here, in order to reduce damage to the vacuum container constituent member 1, it is desired to apply a positive voltage to the vacuum container constituent member 1 to generate an electric field and negatively charge the foreign matter 2 with electrons. However, whether the charge is positive or negative depends on the relationship between the secondary electron emission coefficient characteristics of the foreign material and the incident energy of electrons, and may be positively charged.
【０１１１】帯電した異物を除去する方法について説明
する。A method for removing charged foreign matter will be described.
【０１１２】図５（ｂ）は、帯電した異物を除去する方
法について説明するための図である。図５（ｂ）を参照
すると、帯電した異物２が付着した真空容器構成部材１
に対向して、異物除去用電極７が配置されている。図５
（ｂ）は図３（ｂ）に示した構成と同じものであり、第
３の実施形態の異物除去方法は、第１の実施形態の方法
と同じである。FIG. 5B is a diagram for explaining a method for removing charged foreign matter. Referring to FIG. 5B, the vacuum container constituent member 1 to which the charged foreign matter 2 is attached.
A foreign matter removing electrode 7 is disposed so as to face the. Figure 5
3B is the same as the configuration shown in FIG. 3B, and the foreign matter removing method of the third embodiment is the same as the method of the first embodiment.
【０１１３】また、第３の実施形態における真空容器構
成部材１を封着する方法は、第１の実施形態の方法と同
じである。The method of sealing the vacuum container component 1 in the third embodiment is the same as the method of the first embodiment.
【０１１４】以上説明した方法を用いて製造した第３実
施形態の画像形成装置により、第１の実施形態と同様
に、画像を表示させた。その結果、異常放電によると思
われる画素欠陥が従来に比べて大きく減少していた。An image is displayed by the image forming apparatus of the third embodiment manufactured by using the method described above, as in the first embodiment. As a result, the pixel defects, which are considered to be caused by abnormal discharge, were greatly reduced as compared with the conventional one.
【０１１５】本実施形態によれば、軟Ｘ線により異物を
帯電させた後に電界をかけて吸着することで、これまで
除去が困難であった絶縁性異物を容易に除去することが
できるので、画像形成装置の製造工程および画像表示中
における異常放電の発生が大きく減少する。According to this embodiment, since the foreign matter is charged by the soft X-ray and then applied by applying the electric field, the insulating foreign matter which has been difficult to remove can be easily removed. The occurrence of abnormal discharge during the image forming apparatus manufacturing process and image display is greatly reduced.
【０１１６】（第４の実施形態）本発明の第４の実施形
態として、コロナ放電により異物を帯電させて除去した
画像形成装置について説明する。なお、第４の実施形態
では、第１の実施形態と同様に、特開平７−２３５２５
５号公報に記載されたように表面伝導型電子放出素子を
電子源とする場合を例示する。また、第４の実施形態の
画像形成装置の電子源をなす電子放出素子は、それが用
いられる画像形成装置に適した電子放出特性や素子サイ
ズなどの性質を有していればよく、特に、この例に限定
されるものではない。(Fourth Embodiment) As a fourth embodiment of the present invention, an image forming apparatus in which foreign matter is charged and removed by corona discharge will be described. In addition, in the fourth embodiment, as in the first embodiment, JP-A-7-23525 is used.
A case where a surface conduction electron-emitting device is used as an electron source as described in Japanese Patent No. 5 will be exemplified. Further, the electron-emitting device forming the electron source of the image forming apparatus of the fourth exemplary embodiment may have the properties such as electron-emitting characteristics and element size suitable for the image forming apparatus in which it is used, and in particular, It is not limited to this example.
【０１１７】第４の実施形態の画像形成装置の構成は、
図１に示した第１の実施形態と同じである。The configuration of the image forming apparatus of the fourth embodiment is as follows.
This is the same as the first embodiment shown in FIG.
【０１１８】第４の実施形態の画像形成装置の製造方法
としては、先ず、リアプレート２３及びフェースプレー
ト２２を作成する。次に、リアプレート２３、フェース
プレート２２及び指示部材１８を含む真空容器構成部材
の異物をコロナ放電により帯電させた後に除去する。次
に、真空容器構成部材を封着し、真空にした後に封止す
ることで真空容器を作成する。In the method of manufacturing the image forming apparatus of the fourth embodiment, first, the rear plate 23 and the face plate 22 are created. Next, foreign matter on the vacuum container constituent members including the rear plate 23, the face plate 22, and the indicating member 18 is charged by corona discharge and then removed. Next, the vacuum container constituent member is sealed, and the vacuum container is created by applying vacuum and then sealing.
【０１１９】第４の実施形態におけるリアプレート２３
及びフェースプレート２２の製造方法は、第１の実施形
態と同じである。The rear plate 23 in the fourth embodiment
The method of manufacturing the face plate 22 is the same as that of the first embodiment.
【０１２０】第４の実施形態における異物除去方法につ
いて説明する。A foreign matter removing method according to the fourth embodiment will be described.
【０１２１】第４の実施形態においては、真空容器構成
部材の表面に付着した異物をコロナ放電により帯電させ
た後に、電界をかけて異物を除去する。In the fourth embodiment, the foreign matter attached to the surface of the vacuum container constituent member is charged by corona discharge, and then an electric field is applied to remove the foreign matter.
【０１２２】真空容器構成部材の表面に付着した異物を
帯電させる方法について説明する。A method of charging foreign matter adhering to the surface of the vacuum container constituent member will be described.
【０１２３】図６（ａ）は、コロナ放電により異物を帯
電させる方法について説明するための図である。図６
（ａ）を参照すると、真空容器構成部材１の上方に電極
１２が設けられている。電極１２には、複数の放電針１
１が設けられている。真空容器構成部材１には異物２が
付着している。FIG. 6A is a diagram for explaining a method of charging foreign matter by corona discharge. Figure 6
Referring to (a), an electrode 12 is provided above the vacuum container constituent member 1. The electrode 12 has a plurality of discharge needles 1
1 is provided. A foreign substance 2 is attached to the vacuum container constituent member 1.
【０１２４】真空容器構成部材１は、リアプレート、フ
ェースプレート、支持枠、スペーサ等の真空容器を構成
する部材である。電極１２の放電針１１からはコロナ放
電が発生する。The vacuum container constituent member 1 is a member constituting a vacuum container such as a rear plate, a face plate, a support frame, and a spacer. Corona discharge is generated from the discharge needle 11 of the electrode 12.
【０１２５】本実施形態のようにコロナ放電を用いる場
合、真空中である必要が無く、大気圧空気中でも可能で
ある。ここでは、異物２を帯電させる工程を大気中で行
った。When the corona discharge is used as in the present embodiment, it is not necessary to be in vacuum, and it is possible to use even in atmospheric pressure air. Here, the step of charging the foreign matter 2 was performed in the atmosphere.
【０１２６】先ず、電極１２から放電針１１に高電圧を
印加すると、放電針１１の先端に電界が集中し、コロナ
放電が発生する。コロナ放電により、気体分子が電離さ
れて正イオンと電子が生成される。放電針１１に印加す
る高電圧の正負により、その後の正イオン及び電子の挙
動が異なる。ここでは、電子を真空容器構成部材１上の
異物２まで到達させるために、放電針１１には負の高電
圧を印加した。First, when a high voltage is applied from the electrode 12 to the discharge needle 11, an electric field is concentrated at the tip of the discharge needle 11 and corona discharge occurs. The corona discharge ionizes the gas molecules to generate positive ions and electrons. The behavior of positive ions and electrons thereafter varies depending on whether the high voltage applied to the discharge needle 11 is positive or negative. Here, a negative high voltage was applied to the discharge needle 11 in order to allow the electrons to reach the foreign matter 2 on the vacuum vessel constituent member 1.
【０１２７】次に、生成されたイオンにより異物２を帯
電させる。電界の印加や熱拡散により、イオンが異物２
に衝突し或いは付着し、またはイオンと異物２との間で
電荷が交換され、異物２が帯電する。ここでは、真空容
器構成部材１へのダメージを小さくするために、真空容
器構成部材１に正の電圧を印加して電界を発生させ、電
子により異物２を負に帯電させたい。ただし、帯電の正
負は異物材料の２次電子放出係数特性と電子の入射エネ
ルギーの関係により異なり、正に帯電する場合もある。Next, the foreign matter 2 is charged with the generated ions. Ions become foreign matter 2 due to the application of an electric field and thermal diffusion.
The particles 2 collide with or adhere to the particles, or the charges are exchanged between the ions and the foreign matter 2, and the foreign matter 2 is charged. Here, in order to reduce damage to the vacuum container constituent member 1, it is desired to apply a positive voltage to the vacuum container constituent member 1 to generate an electric field and negatively charge the foreign matter 2 with electrons. However, whether the charge is positive or negative depends on the relationship between the secondary electron emission coefficient characteristics of the foreign material and the incident energy of electrons, and may be positively charged.
【０１２８】帯電した異物を除去する方法について説明
する。A method for removing charged foreign matter will be described.
【０１２９】図６（ｂ）は、帯電した異物を除去する方
法について説明するための図である。図６（ｂ）を参照
すると、帯電した異物２が付着した真空容器構成部材１
に対向して、異物除去用電極７が配置されている。図６
（ｂ）は図３（ｂ）に示した構成と同じものであり、第
４の実施形態の異物除去方法は、第１の実施形態の方法
と同じである。FIG. 6B is a diagram for explaining a method for removing charged foreign matter. Referring to FIG. 6B, the vacuum container constituent member 1 to which the charged foreign matter 2 is attached.
A foreign matter removing electrode 7 is disposed so as to face the. Figure 6
3B is the same as the configuration shown in FIG. 3B, and the foreign matter removing method of the fourth embodiment is the same as the method of the first embodiment.
【０１３０】また、第４の実施形態における真空容器構
成部材１を封着する方法は、第１の実施形態の方法と同
じである。The method of sealing the vacuum container component 1 in the fourth embodiment is the same as the method of the first embodiment.
【０１３１】以上説明した方法を用いて製造した第４の
実施形態の画像形成装置により、第１の実施形態と同様
に、画像を表示させた。その結果、異常放電によると思
われる画素欠陥が従来に比べて大きく減少していた。An image was displayed by the image forming apparatus of the fourth embodiment manufactured by using the method described above, as in the first embodiment. As a result, the pixel defects, which are considered to be caused by abnormal discharge, were greatly reduced as compared with the conventional one.
【０１３２】本実施形態によれば、コロナ放電により異
物を帯電させた後に電界をかけて吸着することで、これ
まで除去が困難であった絶縁性異物を容易に除去するこ
とができるので、画像形成装置の製造工程および画像表
示中における異常放電の発生が大きく減少する。According to this embodiment, since the foreign matter is charged by the corona discharge and then the electric field is applied to attract the foreign matter, the insulating foreign matter which has been difficult to remove can be easily removed. The occurrence of abnormal discharge during the manufacturing process of the forming apparatus and during image display is greatly reduced.
【０１３３】（第５の実施形態）本発明の第５の実施形
態として、帯電した異物を除去する際に、表面に高抵抗
膜を備えた電極を用いた画像形成装置について説明す
る。なお、第５の実施形態では、第１の実施形態と同様
に、特開平７−２３５２５５号公報に記載されたように
表面伝導型電子放出素子を電子源とする場合を例示す
る。また、第５の実施形態の画像形成装置の電子源をな
す電子放出素子は、それが用いられる画像形成装置に適
した電子放出特性や素子サイズなどの性質を有していれ
ばよく、特に、この例に限定されるものではない。(Fifth Embodiment) As a fifth embodiment of the present invention, an image forming apparatus will be described in which an electrode having a high resistance film on the surface is used for removing charged foreign matter. In the fifth embodiment, as in the first embodiment, a surface conduction electron-emitting device is used as the electron source as described in JP-A-7-235255. Further, the electron-emitting device forming the electron source of the image forming apparatus of the fifth exemplary embodiment may have electron emission characteristics or element size suitable for the image forming apparatus in which the electron-emitting element is used, and in particular, It is not limited to this example.
【０１３４】第５の実施形態の画像形成装置の製造方法
としては、先ず、リアプレート２３及びフェースプレー
ト２２を作成する。次に、リアプレート２３、フェース
プレート２２及び指示部材１８を含む真空容器構成部材
の異物を帯電させた後に、表面に高抵抗膜を備えた電極
により異物を除去する。次に、真空容器構成部材を封着
し、真空にした後に封止することで真空容器を作成す
る。In the method of manufacturing the image forming apparatus of the fifth embodiment, first, the rear plate 23 and the face plate 22 are created. Next, after the foreign matter of the vacuum container constituent member including the rear plate 23, the face plate 22 and the indicating member 18 is charged, the foreign matter is removed by the electrode having the high resistance film on the surface. Next, the vacuum container constituent member is sealed, and the vacuum container is created by applying vacuum and then sealing.
【０１３５】第５の実施形態におけるリアプレート２３
及びフェースプレート２２の製造方法は、第１の実施形
態と同じである。Rear plate 23 in the fifth embodiment
The method of manufacturing the face plate 22 is the same as that of the first embodiment.
【０１３６】第５の実施形態における異物除去方法につ
いて説明する。A foreign matter removing method according to the fifth embodiment will be described.
【０１３７】第５の実施形態においては、真空容器構成
部材１の表面に付着した異物を、第１の実施形態と同様
に電子照射により帯電させた後に、表面に高抵抗膜を備
えた電極により電界をかけて異物を除去する。なお、こ
こでは、第１の実施形態と同様に、電子ビームの照射に
より異物を帯電させた場合を示すが、本発明はこれに限
定されるものではなく他の方法により帯電させてもよ
い。本発明は、例えば、第２〜４の実施形態のいずれか
に示された方法で異物を帯電させた場合にも適用可能で
ある。In the fifth embodiment, the foreign substances attached to the surface of the vacuum container component 1 are charged by electron irradiation as in the first embodiment, and then the electrodes provided with the high resistance film on the surface. An electric field is applied to remove foreign matter. Note that, here, as in the first embodiment, the case where the foreign matter is charged by irradiation of the electron beam is shown, but the present invention is not limited to this and may be charged by another method. The present invention is also applicable to the case where a foreign substance is charged by the method shown in any of the second to fourth embodiments, for example.
【０１３８】第５の実施形態の画像形成装置の構成は、
図１に示した第１の実施形態と同じである。The configuration of the image forming apparatus of the fifth embodiment is as follows.
This is the same as the first embodiment shown in FIG.
【０１３９】図７は、第５の実施形態において、帯電し
た異物を除去する方法について説明するための図であ
る。図７を参照すると、帯電した異物２が付着した真空
容器構成部材１に対向して、異物除去用電極１３が配置
されている。異物除去用電極１３は、第１の実施形態の
異物除去用電極７と異なり、表面に高抵抗膜を有してい
る。リアプレートやフェースプレートに付着した異物２
を除去するために、異物除去用電極１３は画像表示領域
以上の大きさであることが好ましい。FIG. 7 is a diagram for explaining a method for removing charged foreign matter in the fifth embodiment. Referring to FIG. 7, a foreign matter removing electrode 13 is arranged so as to face the vacuum container component 1 to which the charged foreign matter 2 is attached. Unlike the foreign matter removing electrode 7 of the first embodiment, the foreign matter removing electrode 13 has a high resistance film on its surface. Foreign matter attached to the rear plate or face plate 2
In order to remove the foreign matter, the foreign matter removing electrode 13 is preferably larger than the image display area.
【０１４０】そして、先ず、真空容器構成部材１と異物
除去用電極１３の間に正の電圧を印加する。これによ
り、負に帯電した異物２は異物除去用電極１３に吸着す
る。次に、異物除去用電極を１３を異物が吸着していな
い電極１３’と交換した後、真空容器構成部材１と異物
除去用電極１３の間に負の電圧を印加する。これによ
り、正に帯電した異物２が異物除去用電極１３に吸着す
る。Then, first, a positive voltage is applied between the vacuum container constituent member 1 and the foreign matter removing electrode 13. As a result, the negatively charged foreign matter 2 is attracted to the foreign matter removing electrode 13. Next, after replacing the foreign matter removing electrode 13 with the electrode 13 'on which the foreign matter is not adsorbed, a negative voltage is applied between the vacuum container component 1 and the foreign matter removing electrode 13. As a result, the positively charged foreign matter 2 is attracted to the foreign matter removing electrode 13.
【０１４１】ここでは、真空容器構成部材１と異物除去
用電極１３との間隔を２ｍｍとし、真空容器構成部材１
を接地し、異物除去用電極１３に±１．５ｋＶを順次印
加した。これにより、真空容器構成部材１上の異物２を
取り除くことができた。ただし、本発明はこの例に限定
されるものではなく、真空容器構成部材１が放電ダメー
ジを受ける可能性の低い電圧５００Ｖ〜８ｋＶであれば
よく、実駆動時と同等以下の電圧とするのが好ましい。
また、ここでは異物除去用電極１３に設けられた高抵抗
膜のシート抵抗は１０3Ω／□程度とした。Here, the distance between the vacuum container component 1 and the foreign matter removing electrode 13 is set to 2 mm, and the vacuum container component 1 is
Was grounded, and ± 1.5 kV was sequentially applied to the foreign matter removing electrode 13. As a result, the foreign matter 2 on the vacuum container constituent member 1 could be removed. However, the present invention is not limited to this example, and a voltage of 500 V to 8 kV at which the vacuum container constituent member 1 is unlikely to be damaged by discharge may be used, and a voltage equal to or lower than that during actual driving may be used. preferable.
Further, here, the sheet resistance of the high resistance film provided on the foreign matter removing electrode 13 is set to about 10 3 Ω / □.
【０１４２】その性質上、絶縁性異物は電荷の移動が遅
いため異物除去電極に一度付着するとすぐには脱離しな
い。導電性異物は電荷の移動が速いため容易に真空容器
構成部材１から脱離させることができるが、異物除去用
電極に一度付着してもすぐに脱離してしまうため、通常
の電極を用いた場合には除去操作のタイミングが難しか
った。By its nature, since the insulating foreign matter has a slow electric charge movement, once it is attached to the foreign matter removing electrode, it is not detached immediately. The conductive foreign matter can be easily detached from the vacuum container constituent member 1 because of the rapid movement of electric charge, but since it is easily detached once it is attached to the foreign matter removing electrode, a normal electrode is used. In some cases, the timing of the removal operation was difficult.
【０１４３】第５の実施形態によれば、高抵抗膜を備え
た異物除去用電極１３を用いるので、導電性異物が異物
除去用電極から脱離しにくく、導電性異物の捕獲から脱
離までの時間が長いため、絶縁性異物と導電性異物とを
一度に除去することが容易となった。According to the fifth embodiment, since the foreign matter removing electrode 13 provided with the high resistance film is used, it is difficult for the conductive foreign matter to be detached from the foreign matter removing electrode, and the conductive foreign matter can be captured and detached. Since the time is long, it is easy to remove the insulating foreign matter and the conductive foreign matter at once.
【０１４４】第５の実施形態における真空容器構成部材
１を封着する方法は、第１の実施形態の方法と同じであ
る。The method of sealing the vacuum container component 1 in the fifth embodiment is the same as the method of the first embodiment.
【０１４５】以上説明した方法を用いて製造した第５の
実施形態の画像形成装置により、第１の実施形態と同様
に、画像を表示させた。その結果、異常放電によると思
われる画素欠陥が従来に比べて大きく減少していた。An image was displayed by the image forming apparatus of the fifth embodiment manufactured by using the method described above, as in the first embodiment. As a result, the pixel defects, which are considered to be caused by abnormal discharge, were greatly reduced as compared with the conventional one.
【０１４６】本実施形態によれば、異物２を帯電させた
後に、高抵抗膜を有する異物除去用電極１３で電界をか
けて吸着することで、絶縁性異物と導電性異物とを一度
に容易に除去することができるので、画像形成装置の製
造工程および画像表示中における異常放電の発生が大き
く減少する。According to the present embodiment, after the foreign matter 2 is charged, the foreign matter removing electrode 13 having the high resistance film is applied with an electric field to adsorb the foreign matter 2 to easily attract the insulating foreign matter and the conductive foreign matter at once. Therefore, the occurrence of abnormal discharge during the manufacturing process of the image forming apparatus and during image display is greatly reduced.
【０１４７】（第６の実施形態）本発明の第６の実施形
態として、電圧印加により異物の帯電と除去とを１つの
工程で行った画像形成装置について説明する。なお、第
６の実施形態では、第１の実施形態と同様に、特開平７
−２３５２５５号公報に記載されたように表面伝導型電
子放出素子を電子源とする場合を例示する。また、第６
の実施形態の画像形成装置の電子源をなす電子放出素子
は、それが用いられる画像形成装置に適した電子放出特
性や素子サイズなどの性質を有していればよく、特に、
この例に限定されるものではない。(Sixth Embodiment) As a sixth embodiment of the present invention, an image forming apparatus will be described in which a foreign material is charged and removed in one step by voltage application. In addition, in the sixth embodiment, as in the first embodiment, Japanese Patent Laid-Open No.
An example is described in which a surface conduction electron-emitting device is used as an electron source as described in JP-A-235255. Also, the sixth
The electron-emitting device that forms the electron source of the image forming apparatus of the embodiment of the present invention may have properties such as electron-emitting characteristics and device size suitable for the image forming apparatus in which the electron-emitting device is used, and in particular,
It is not limited to this example.
【０１４８】第６の実施形態の画像形成装置の構成は、
図１に示した第１の実施形態と同じである。The configuration of the image forming apparatus of the sixth embodiment is as follows.
This is the same as the first embodiment shown in FIG.
【０１４９】第６の実施形態の画像形成装置の製造方法
としては、先ず、リアプレート２３及びフェースプレー
ト２２を作成する。次に、リアプレート２３、フェース
プレート２２及び指示部材１８を含む真空容器構成部材
に、電圧を印加することにより、異物を帯電させると同
時に除去する。次に、真空容器構成部材を封着し、真空
にした後に封止することで真空容器を作成する。In the method of manufacturing the image forming apparatus of the sixth embodiment, first, the rear plate 23 and the face plate 22 are created. Next, by applying a voltage to the vacuum container constituent members including the rear plate 23, the face plate 22 and the indicating member 18, the foreign matter is charged and removed at the same time. Next, the vacuum container constituent member is sealed, and the vacuum container is created by applying vacuum and then sealing.
【０１５０】第６の実施形態におけるリアプレート２３
及びフェースプレート２２の製造方法は、第１の実施形
態と同じである。Rear plate 23 in the sixth embodiment
The method of manufacturing the face plate 22 is the same as that of the first embodiment.
【０１５１】第６の実施形態における異物除去方法につ
いて説明する。A foreign matter removing method according to the sixth embodiment will be described.
【０１５２】図８は、電圧印加により異物を帯電させ、
除去する方法について説明するための図である。図８を
参照すると、真空容器構成部材１に対向して異物除去用
電極７が配置されている。FIG. 8 shows that the foreign matter is charged by applying a voltage,
It is a figure for demonstrating the method of removing. Referring to FIG. 8, a foreign matter removing electrode 7 is arranged so as to face the vacuum container constituent member 1.
【０１５３】真空容器構成部材１は、リアプレート、フ
ェースプレート、支持枠、スペーサ等の真空容器を構成
する部材である。異物除去用電極７は、真空容器構成部
材１との間に電圧を生じさせる。リアプレートやフェー
スプレートに付着した異物２を除去するために、異物除
去用電極７は画像表示領域以上の大きさであることが好
ましい。The vacuum container constituent member 1 is a member that constitutes a vacuum container such as a rear plate, a face plate, a support frame and a spacer. The foreign matter removing electrode 7 generates a voltage between itself and the vacuum container constituent member 1. In order to remove the foreign matter 2 attached to the rear plate or the face plate, the foreign matter removing electrode 7 is preferably larger than the image display area.
【０１５４】先ず、真空容器構成部材１と異物除去用電
極７の間に電圧を印加する。これにより、真空容器構成
部材１上の異物２が帯電する。帯電の条件は、真空容器
構成部材１と異物除去用電極７の間に印加する電圧によ
り制御できる。ここでは、印加電圧±１．５ｋＶとし
た。ただし、本発明はこの例に限定されるものではな
く、真空容器構成部材１が放電ダメージを受ける可能性
の低い電圧５００Ｖ〜８ｋＶであればよく、実駆動時と
同等以下の電圧とするのが好ましい。なお、第６の実施
形態においても、第１の実施形態と同様に、正負の電圧
を順次印加してもよい。First, a voltage is applied between the vacuum container component 1 and the foreign matter removing electrode 7. As a result, the foreign matter 2 on the vacuum container component 1 is charged. The charging condition can be controlled by the voltage applied between the vacuum container component 1 and the foreign matter removing electrode 7. Here, the applied voltage is ± 1.5 kV. However, the present invention is not limited to this example, and a voltage of 500 V to 8 kV at which the vacuum container constituent member 1 is unlikely to be damaged by discharge may be used, and a voltage equal to or lower than that during actual driving may be used. preferable. In the sixth embodiment, positive and negative voltages may be sequentially applied as in the first embodiment.
【０１５５】その結果、真空容器構成部材１上に付着し
た異物２は帯電し、対向する異物除去用電極７に向かっ
て移動し、これにより異物２を除去することができた。As a result, the foreign matter 2 adhering to the vacuum container constituent member 1 was charged and moved toward the opposite foreign matter removing electrode 7, whereby the foreign matter 2 could be removed.
【０１５６】第６の実施形態の異物除去方法は、第１の
実施形態の方法と同じである。The foreign matter removing method of the sixth embodiment is the same as the method of the first embodiment.
【０１５７】以上説明した方法を用いて製造した第６の
実施形態の画像形成装置により、第１の実施形態と同様
に、画像を表示させた。その結果、異常放電によると思
われる画素欠陥が従来に比べて大きく減少していた。An image was displayed by the image forming apparatus of the sixth embodiment manufactured by using the method described above, as in the first embodiment. As a result, the pixel defects, which are considered to be caused by abnormal discharge, were greatly reduced as compared with the conventional one.
【０１５８】本実施形態によれば、真空容器構成部材１
と異物除去用電極７の間に電圧を印加することにより、
真空容器構成部材１上の異物２を帯電させ、除去するこ
とで、これまで除去が困難であった絶縁性異物を容易に
除去することができるので、画像形成装置の製造工程及
びが画像表示中における異常放電の発生が大きく減少す
る。According to this embodiment, the vacuum container constituent member 1
By applying a voltage between the foreign matter removing electrode 7 and
By charging and removing the foreign matter 2 on the vacuum container component 1, it is possible to easily remove the insulating foreign matter, which has been difficult to remove up to now. The occurrence of abnormal discharge in is greatly reduced.
【０１５９】[0159]
【発明の効果】本発明によれば、部材に付着した異物を
帯電させて除去した後に、その部材で真空容器を作成す
るので、除去が困難とされてきた絶縁性異物を容易に除
去することができ、内部から異物が除去された真空容
器、及びそれを含む画像形成装置を容易に製造すること
ができる。According to the present invention, since the foreign material adhering to the member is charged and removed, and the vacuum container is made of the member, the insulating foreign material which has been difficult to remove can be easily removed. Therefore, it is possible to easily manufacture the vacuum container in which the foreign matter is removed, and the image forming apparatus including the vacuum container.
【０１６０】その結果、真空放電を抑制し、高輝度で良
好な画像の表示が可能な画像形成装置を提供することが
できる。As a result, it is possible to provide an image forming apparatus capable of suppressing vacuum discharge and displaying an excellent image with high brightness.
【図１】第１の実施形態の画像形成装置の構成を示す模
式図である。FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a configuration of an image forming apparatus according to a first embodiment.
【図２】第１の実施形態のリアプレートの構成を示す模
式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration of a rear plate of the first embodiment.
【図３】電子ビームにより異物を帯電させる方法（ａ）
及び帯電した異物を除去する方法（ｂ）について説明す
るための図である。FIG. 3 is a method (a) for charging a foreign substance with an electron beam.
It is a figure for demonstrating the method (b) which removes the charged foreign material.
【図４】紫外線照射により異物を帯電させる方法（ａ）
及び帯電した異物を除去する方法（ｂ）について説明す
るための図である。FIG. 4 is a method (a) of charging a foreign substance by irradiation of ultraviolet rays.
It is a figure for demonstrating the method (b) which removes the charged foreign material.
【図５】軟Ｘ線照射により異物を帯電させる方法（ａ）
及び帯電した異物を除去する方法（ｂ）について説明す
るための図である。FIG. 5: Method for charging foreign matter by soft X-ray irradiation (a)
It is a figure for demonstrating the method (b) which removes the charged foreign material.
【図６】図６は、コロナ放電により異物を帯電させる方
法（ａ）及び帯電した異物を除去する方法（ｂ）につい
て説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a method (a) of charging a foreign matter by corona discharge and a method (b) of removing the charged foreign matter.
【図７】第５の実施形態において、帯電した異物を除去
する方法について説明するための図である。FIG. 7 is a diagram for explaining a method for removing charged foreign matter in the fifth embodiment.
【図８】電圧印加により異物を帯電させ、除去する方法
について説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining a method of charging and removing foreign matter by applying a voltage.
１ 真空容器構成部材 ２ 異物 ３ フィラメント ４ グリッド ５ 真空装置 ６ 電源 ７，７’，１３，１３’ 異物除去用電極 ８ 紫外線ランプ ９ Ｎ２導入管 １０ 軟Ｘ線源 １１ 放電針 １２ 電極 １４ 基板 １５ Ｘ方向配線 １６ Ｙ方向配線 １７ 表面伝導型電子放出素子 １８ 支持枠 １９ ガラス基板 ２０ 蛍光膜 ２１ メタルバック ２２ フェースプレート ２３ リアプレート Ｄｏｘ１〜Ｄｏｘｍ，Ｄｏｙ１〜Ｄｏｙｎ 外部端子 Ｈ 高圧端子 1 Vacuum container components 2 foreign material 3 filaments 4 grid 5 Vacuum device 6 power supply 7,7 ', 13,13' Foreign matter removing electrode 8 UV lamp 9 N2 introduction pipe 10 Soft X-ray source 11 discharge needle 12 electrodes 14 board 15 X direction wiring 16 Y direction wiring 17 Surface conduction electron-emitting device 18 Support frame 19 glass substrate 20 Fluorescent film 21 metal back 22 Face plate 23 Rear plate Dox1 to Doxm, Doy1 to Doyn external terminals H high voltage terminal
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 廣池 太郎 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 山▲崎▼ 康二 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 Ｆターム(参考） 5C012 AA05 BC03 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Taro Hiroike 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Non non corporation (72) Inventor Yama ▲ Saki ▼ Koji 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Non non corporation F-term (reference) 5C012 AA05 BC03
Claims (17)
工程と、 前記部材に付着した異物を帯電させる工程と、 帯電した前記異物を前記部材から除去する工程と、 前記異物を除去した前記部材により前記真空容器を作成
する工程を有する真空容器の製造方法。1. A step of forming the member that constitutes a vacuum container, a step of charging a foreign substance attached to the member, a step of removing the charged foreign substance from the member, and a member obtained by removing the foreign substance. A method for manufacturing a vacuum container, the method including the step of producing the vacuum container according to claim 1.
より前記異物を帯電させる、請求項１記載の真空容器の
製造方法。2. The method of manufacturing a vacuum container according to claim 1, wherein the foreign matter is charged by irradiating the member with an electron beam.
により生じたイオンで前記異物を帯電させる、請求項１
記載の真空容器の製造方法。3. A gas molecule is irradiated with ultraviolet rays to charge the foreign matter with ions generated by a photoelectron effect.
A method for manufacturing the vacuum container described.
散乱により生じたイオンで前記異物を帯電させる、請求
項１記載の真空容器の製造方法。4. The method for manufacturing a vacuum container according to claim 1, wherein the gas molecules are irradiated with soft X-rays, and the foreign matter is charged with ions generated by Compton scattering.
電用電極と該部材との間に高電圧を印加することで生じ
たコロナ放電により前記異物を帯電させる、請求項１記
載の真空容器の製造方法。5. The vacuum according to claim 1, wherein the discharge electrode is opposed to the member, and the foreign matter is charged by corona discharge generated by applying a high voltage between the discharge electrode and the member. Container manufacturing method.
該異物除去用電極と該部材の間に電圧を印加して電界を
発生させることにより、該部材から前記異物を除去す
る、請求項１〜５のいずれか１項に記載の真空容器の製
造方法。6. The foreign matter removing electrode is opposed to the member,
The method for manufacturing a vacuum container according to claim 1, wherein the foreign matter is removed from the member by applying a voltage between the foreign matter removing electrode and the member to generate an electric field. .
工程と、 前記部材に付着した異物を帯電させつつ該部材から除去
する工程と、 前記部材により前記真空容器を作成する工程を有する真
空容器の製造方法。7. A vacuum container comprising: a step of forming the member forming the vacuum container; a step of removing foreign matter adhering to the member from the member while charging the same; and a step of forming the vacuum container by the member. Manufacturing method.
該異物除去用電極と該部材の間に電圧を印加して電界を
発生させることにより、前記異物を帯電させつつ該部材
から除去する、請求項７記載の真空容器の製造方法。8. A foreign matter removing electrode is opposed to the member,
8. The method for manufacturing a vacuum container according to claim 7, wherein the foreign matter is removed from the member while being charged by applying a voltage between the foreign matter removing electrode and the member to generate an electric field.
去するために、正及び負の電界を順次発生させる、請求
項６または８に記載の真空容器の製造方法。9. The method of manufacturing a vacuum container according to claim 6, wherein positive and negative electric fields are sequentially generated in order to remove both the negatively and positively charged foreign matter.
に印加する前記電圧は実駆動時の印加電圧以下である、
請求項６、８または９に記載の真空容器の製造方法。10. The voltage applied between the foreign matter removing electrode and the member is less than or equal to the applied voltage during actual driving,
The method for manufacturing a vacuum container according to claim 6, 8, or 9.
に印加する前記電圧は５００Ｖ〜８ｋＶである、請求項
６または８〜１０のいずれか１項に記載の真空容器の製
造方法。11. The method of manufacturing a vacuum container according to claim 6, wherein the voltage applied between the foreign matter removing electrode and the member is 500 V to 8 kV.
に、異物除去用の電極を異物の吸着していない電極に交
換する、請求項９に記載の真空容器の製造方法。12. The method of manufacturing a vacuum container according to claim 9, wherein when a positive electric field and a negative electric field are sequentially generated, the foreign matter removing electrode is replaced with an electrode on which no foreign matter is adsorbed.
を備えている、請求項６または８〜１２のいずれか１項
に記載の真空容器の製造方法。13. The method of manufacturing a vacuum container according to claim 6, wherein the foreign matter removing electrode has a high resistance film on a surface thereof.
記真空容器を作成する、請求項１〜１３のいずれか１項
に記載の真空容器の製造方法。14. The method of manufacturing a vacuum container according to claim 1, wherein the vacuum container is created by sealing the members together.
に該部材同士を封着する、請求項１４に記載の真空容器
の製造方法。15. The method for manufacturing a vacuum container according to claim 14, wherein the members are sealed together immediately after removing the foreign matter from the member.
電子放出部とする複数の電子放出素子からなる電子源を
備えたリアプレートと、前記リアプレートに対向する蛍
光体を備えたフェースプレートとを含む、請求項１〜１
５のいずれか１項に記載の真空容器の製造方法。16. The member includes a rear plate including an electron source including a plurality of electron-emitting devices having an electron-emitting portion formed of a conductive film between device electrodes, and a face including a phosphor facing the rear plate. 1 to 1 including a plate.
5. The method for manufacturing the vacuum container according to any one of 5 above.
法において、 請求項１〜１６のいずれか１項に記載された方法により
前記真空容器を製造することを特徴とする、画像形成装
置の製造方法。17. A method of manufacturing an image forming apparatus including a vacuum container, wherein the vacuum container is manufactured by the method according to any one of claims 1 to 16. Method.
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|---|---|---|---|
| JP2001229444A JP2003045334A (en) | 2001-07-30 | 2001-07-30 | Manufacturing method of vacuum container and image forming device |
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- 2001-07-30 JP JP2001229444A patent/JP2003045334A/en active Pending
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