JP2004345350A - Transfer-foil support, transfer foil and id card making method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To make the dust-adhesion prevention, transfer-foil transfer nature (foil-separation nature) and blocking resistance to be improved. <P>SOLUTION: The numerical values represented in the following formula (1) satisfy the range of 0.03-0.005, and the surface specific resistance value at 23°C/50% covers the range of 1×10<SP>5</SP>-10<SP>14</SP>Ω. Formula (1): Average roughness of the one centerline of the above transfer-foil support (Ra) (μm)/Thickness of the above transfer-foil support (μm), provided the transfer-foil thickness is 5 to 40 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

この発明は、身分証明書カード(IDカード)、偽造、変造防止等の安全性(セキュリティ)が要求される個人情報等を記憶する接触式又は非接触式の電子または磁気等のIDカード、及びその作成方法に関する。又、それに用いる転写箔支持体、転写箔に関する。   The present invention relates to an identification card (ID card), a contact-type or non-contact type electronic or magnetic ID card for storing personal information and the like for which security (security) such as forgery and alteration prevention is required, and How to make it. In addition, the present invention relates to a transfer foil support and a transfer foil used therefor.

近年、官公庁、銀行、会社、医療機関及び学校などのサービス産業分野では、身分証明書、パスポート、外国人登録証、図書館利用カード、キャッシュカード、クレジットカード、自動車免許証等の免許証類、従業者証、社員証、会員証、医療カード及び学生証などのIDカードが普及されている。この種のIDカードには、本人確認用の顔画像、及び所有者に関する文字や記号などの文字情報画像が記録されている。このため、IDカードの偽変造防止を目的とする印刷等が施される場合が多い。近年では、個人情報等を記憶する接触式又は非接触式の電子カードまたは磁気等のカードが多く普及している。   In recent years, in the service industries such as government offices, banks, companies, medical institutions and schools, licenses such as identification cards, passports, alien registration cards, library use cards, cash cards, credit cards, automobile licenses, ID cards such as personal identification cards, employee identification cards, membership cards, medical cards, and student identification cards have been widely used. In this type of ID card, a face image for identification and a character information image such as characters and symbols related to the owner are recorded. Therefore, printing or the like for the purpose of preventing forgery or falsification of the ID card is often performed. In recent years, many contact-type or non-contact-type electronic cards or magnetic cards for storing personal information and the like have been widely used.

この顔画像は通常の場合、多階調を有するフルカラー画像によって、例えば、昇華型感熱転写記録方式、ハロゲン化銀カラー写真方式等により形成される。また、文字情報画像は二値画像より成り、例えば、溶融型感熱転写記録方式、昇華型感熱転写記録方式、ハロゲン化銀カラー写真方式、電子写真方式、インクジェット方式等により形成されている。更に、偽変造防止の目的ではホログラム、細紋等が採用されている。その他にIDカードには予め定型フォーマット印刷が必要に応じて施される。   This face image is usually formed by a full-color image having multiple gradations, for example, by a sublimation type thermal transfer recording system, a silver halide color photographic system, or the like. The character information image is composed of a binary image and is formed by, for example, a fusion type thermal transfer recording system, a sublimation type thermal transfer recording system, a silver halide color photographic system, an electrophotographic system, an ink jet system, or the like. Further, holograms, fine prints, and the like are employed for the purpose of preventing forgery and falsification. In addition, fixed format printing is performed on the ID card in advance as needed.

しかしIDカードは従来から画像強度を向上させるために表面保護層として転写箔を用いる技術が知られている。この技術は迅速に生産可能であり、且つ画像の定着性と耐久性とを改良したものが近年報告されている。(例えば、下記特許文献1、特許文献2、特許文献3を参照)
特開2002−326323号公報(第1〜第6頁、図1) 特開平5−69690号公報(第1〜第12頁、図1〜12) 特開2001−96956号公報(第1〜第37頁、図1〜21)
However, in the case of ID cards, a technique using a transfer foil as a surface protective layer in order to improve image strength has been known. This technology can be produced quickly and has recently been reported with improved image fixability and durability. (See, for example, Patent Document 1, Patent Document 2, and Patent Document 3 below)
JP-A-2002-326323 (pages 1 to 6, FIG. 1) JP-A-5-69690 (pages 1 to 12, FIGS. 1 to 12) JP 2001-96956 A (pages 1 to 37, FIGS. 1 to 21)

ところで、特許文献1では、転写箔用支持体は帯電防止により転写時のゴミ巻き込み性は向上するものの、表面保護機能がなく耐久性が悪く、且つ転写箔が経時により接着層と基材のブロッキングが発生し問題であった。   By the way, in Patent Literature 1, although the transfer foil support improves the dust entrapment property during transfer due to antistatic, the support has no surface protection function, has poor durability, and the transfer foil blocks the adhesive layer and the base material over time. Occurred and was a problem.

また、特許文献2では、中間層保護層を有する基材の画像形成面に紫外線硬化性塗工液が塗布され、この塗布された紫外線硬化性塗工液は紫外線の照射により硬化し、基材の画像形成面が中間層保護層を介して紫外線硬化樹脂層で保護されたカード記録体が大量且つ迅速に得られ、画像の定着及び耐久性を向上させているが、紫外線硬化性塗工液の基材への均一塗布性が悪く且つメンテナンス性も劣化していた。   Further, in Patent Document 2, an ultraviolet-curable coating liquid is applied to an image forming surface of a substrate having an intermediate protective layer, and the applied ultraviolet-curable coating liquid is cured by irradiation of ultraviolet light, A large amount of card recording media whose image forming surface is protected by an ultraviolet-curable resin layer via an intermediate protective layer can be obtained in large quantities and quickly, and the image fixing and durability are improved. Was poor in uniformity of application to the base material, and the maintainability was also deteriorated.

特許文献3では、支持体、情報担持体層上に、少なくとも、破断伸度5〜90%からなる活性光線硬化樹脂層設けてなる転写箔をヒートロールで転写後、転写箔支持体を剥離してUV硬化層からなる保護層を形成したが、仕上がりカード経時後の曲げ性及びカード作成後のゴミ付着性、転写箔密着性に問題があった。また、破断伸度5〜90%の硬化層を破断するための工夫がなく転写時の箔切れ故障を発生していた。   In Patent Document 3, a transfer foil having at least an actinic ray-curable resin layer having a breaking elongation of 5 to 90% provided on a support and an information carrier layer is transferred by a heat roll, and then the transfer foil support is peeled off. To form a protective layer composed of a UV cured layer, there were problems in the bendability of the finished card over time, the adhesion of dust after the card was made, and the adhesion of the transfer foil. In addition, there was no contrivance for breaking the hardened layer having a breaking elongation of 5 to 90%, and a foil breakage failure during transfer occurred.

この発明は、かかる実情に鑑みてなされたもので、この発明の転写箔支持体を用いることにより、ゴミ付着防止、転写箔転写性(箔切れ性)、ブロッキング性を向上させることができる。   The present invention has been made in view of such circumstances, and by using the transfer foil support of the present invention, prevention of dust adhesion, transfer foil transferability (cutting property of foil), and blocking property can be improved.

また、この発明の転写箔を用いることにより、曲げ性、保存後曲げ性、箔へのゴミ付着防止、転写箔転写性(箔切れ性)、ブロッキング性を向上させることができる。   In addition, by using the transfer foil of the present invention, it is possible to improve the bendability, the bendability after storage, the prevention of dust adhesion to the foil, the transfer foil transfer property (foil cut property), and the blocking property.

また、この発明の転写箔用支持体及び転写箔を用い特定の画像記録体へ転写することにより、ゴミ故障もなく、転写時の箔切れ、転写後カード表面外観性、転写後の画像記録体との密着性、曲げ性、保存後曲げ性が改善できることを見いだした。   In addition, by transferring to a specific image recording medium using the transfer foil support and the transfer foil of the present invention, there is no dust failure, foil breakage at the time of transfer, card surface appearance after transfer, image record after transfer. It has been found that the adhesiveness, bendability, and bendability after storage can be improved.

前記課題を解決し、かつ目的を達成するために、この発明は、以下のように構成した。   In order to solve the above problems and achieve the object, the present invention is configured as follows.

(1)上記課題を解決するため、この発明の一実施例は、下記一般式1で表される数値が0.03〜0.005を満たし、かつ23℃/50%における表面固有抵抗値が1×105〜1014Ωの範囲であることを特徴とする転写箔支持体である。 (1) In order to solve the above-mentioned problems, in one embodiment of the present invention, the numerical value represented by the following general formula 1 satisfies 0.03 to 0.005, and the surface resistivity at 23 ° C./50% is: A transfer foil support having a range of 1 × 10 5 to 10 14 Ω.

〔一般式1〕
前記転写箔支持体の一方の中心線平均粗さ(Ra)「μm」/前記転写箔支持体厚さ「μm」
但し、転写箔支持体厚さは、5〜40μm
(2)この発明においては、前記支持体に隣接する帯電防止層が具備されていることを特徴とする前記(1)に記載の転写箔支持体である。
[General formula 1]
One center line average roughness (Ra) of the transfer foil support “μm” / thickness of the transfer foil support “μm”
However, the thickness of the transfer foil support is 5 to 40 μm.
(2) In the present invention, the transfer foil support according to the above (1), further comprising an antistatic layer adjacent to the support.

(3)この発明においては、前記転写箔支持体の少なくとも一方の面が、サンドブラスト加工、ヘアライン加工、マットコーティング、もしくはケミカルエッチングのいずれかの方法により粗面化されていることを特徴とする前記(1)に記載の転写箔支持体である。   (3) In the present invention, at least one surface of the transfer foil support is roughened by any one of sandblasting, hairline processing, mat coating, and chemical etching. The transfer foil support according to (1).

(4)この発明の一実施例は、前記(1)に記載の転写箔支持体上に、少なくとも光硬化層および接着層を含む転写層を積層した転写箔であり、前記光硬化層の23℃における初期破断伸度が10〜90%及び50℃3日保管後における破断伸度が10〜90%であることを特徴とする転写箔である。   (4) One embodiment of the present invention is a transfer foil in which a transfer layer including at least a photocurable layer and an adhesive layer is laminated on the transfer foil support according to the above (1). A transfer foil characterized in that the initial elongation at break at 10C is 10 to 90% and the elongation at break after storage at 50C for 3 days is 10 to 90%.

(5)この発明においては、前記転写箔支持体と前記転写層の30℃における平均剥離力が、90゜剥離角度で3.5〜25g/cmであることを特徴とする前記(4)に記載の転写箔である。   (5) In the present invention, the average peel force at 30 ° C. of the transfer foil support and the transfer layer is 3.5 to 25 g / cm at a 90 ° peel angle. It is a transfer foil of description.

(6)この発明においては、前記転写箔支持体と前記転写層の30℃における初期破断剥離力が、90゜剥離角度で15〜150g/cmであることを特徴とする前記(4)記載の転写箔である。   (6) In the present invention, the initial breaking peel force at 30 ° C. of the transfer foil support and the transfer layer is 15 to 150 g / cm at a 90 ° peel angle. It is a transfer foil.

(7)この発明の一実施例は、転写箔支持体上に転写層を有する転写箔の前記転写層を、カード型画像記録体上に転写することにより、IDカードを作成するIDカード作成方法において、
前記転写箔支持体は、下記一般式1で表される数値が0.03〜0.005を満たし、かつ23℃/50%における表面固有抵抗値が1×105〜1014Ωの範囲であることを特徴とするIDカード作成方法である。
(7) An embodiment of the present invention is an ID card producing method for producing an ID card by transferring the transfer layer of a transfer foil having a transfer layer on a transfer foil support onto a card-type image recording medium. At
The transfer foil support has a numerical value represented by the following general formula 1 satisfying 0.03 to 0.005 and a surface specific resistance at 23 ° C./50% of 1 × 10 5 to 10 14 Ω. This is a method for creating an ID card.

一般式1:
前記転写箔支持体の一方の中心線平均粗さ(Ra)「μm」/前記転写箔支持体厚さ「μm」
但し、転写箔支持体厚さは、5〜40μm
(8)この発明においては、前記カード型画像記録体の前記転写層が転写される側の面における中心線平均粗さ(Ra)が0.00〜0.6μmの範囲からなることを特徴とする前記(7)に記載のIDカード作成方法である。
General formula 1:
One center line average roughness (Ra) of the transfer foil support “μm” / thickness of the transfer foil support “μm”
However, the thickness of the transfer foil support is 5 to 40 μm.
(8) In the present invention, a center line average roughness (Ra) on a surface of the card type image recording body on which the transfer layer is transferred is in a range of 0.00 to 0.6 μm. The ID card creation method according to (7) above.

(9)この発明においては、前記カード型画像記録体の前記転写層が転写される側の面において、
凹部又は凸部の最大部から前記カード型画像記録媒体の短辺方向に並行に上下それぞれ10mmの距離の2点を結ぶ線を基準線とし、
前記凹部又は凸部の最大部と前記基準線との距離が20μm以下であることを特徴とする前記(7)に記載のIDカード作成方法である。
(9) In the present invention, on the surface of the card-type image recording body on which the transfer layer is transferred,
A reference line is a line connecting two points at a distance of 10 mm each in the upper and lower directions in parallel with the short side direction of the card type image recording medium from the maximum portion of the concave portion or the convex portion,
The method according to (7), wherein a distance between a maximum portion of the concave portion or the convex portion and the reference line is 20 μm or less.

(10)この発明においては、前記カード型画像記録体の前記転写層が転写される側の面において、
凹部又は凸部の最大部から前記カード型画像記録媒体の短辺方向に並行に上下それぞれ10mmの距離の2点を結ぶ線を基準線とし、
前記基準線に対する凹部又は凸部の側からみた傾斜の最大値が80°以下であることを特徴とする前記(7)に記載のIDカード作成方法である。
(10) In the present invention, on the surface of the card type image recording body on which the transfer layer is transferred,
A reference line is a line connecting two points at a distance of 10 mm each in the upper and lower directions in parallel with the short side direction of the card type image recording medium from the maximum portion of the concave portion or the convex portion,
The ID card creation method according to (7), wherein the maximum value of the inclination of the concave portion or the convex portion with respect to the reference line is 80 ° or less.

(11)この発明においては、前記カード型前記画像記録体は、第1シート部材、第2シート部材、および前記第1シート部材と前記第2シート部材との間に設けられる電子部品とを備える電子部品搭載型であることを特徴とする前記(7)に記載のIDカード作成方法である。   (11) In the present invention, the card-type image recording body includes a first sheet member, a second sheet member, and an electronic component provided between the first sheet member and the second sheet member. The ID card creation method according to the above (7), wherein the ID card creation type is an electronic component mounting type.

(12)この発明においては、前記第1シート部材に、少なくとも昇華熱転写、溶融熱転写、インクジェットおよび再転写により、少なくとも識別情報、書誌情報、認証識別画像、および属性情報画像を担持する層が設けられていることを特徴とする前記(11)に記載のIDカード作成方法である。   (12) In the present invention, the first sheet member is provided with a layer that carries at least identification information, bibliographic information, an authentication identification image, and an attribute information image by at least sublimation thermal transfer, melt thermal transfer, inkjet, and retransfer. The ID card creation method according to the above (11), wherein

(13)この発明においては、前記第2シート部材に、筆記可能な筆記可能層が設けられていることを特徴とする前記(11)に記載のIDカード作成方法である。   (13) The ID card producing method according to (11), wherein a writable layer is provided on the second sheet member.

(14)この発明においては、前記電子部品は、少なくとも顔画像、住所、名前および生年月日を含む 個人情報を記憶していることを特徴とする前記(11)に記載のIDカード作成方法である。   (14) In the ID card creation method according to (11), the electronic component stores personal information including at least a face image, an address, a name, and a date of birth. is there.

(15)この発明においては、前記カード型画像記録体の前記転写層が転写される側の面において、
凹部又は凸部の最大部から前記カード型画像記録媒体の短辺方向に並行に上下それぞれ10mmの距離の2点を結ぶ線を基準線とし、
前記基準線に対する凹部又は凸部の側からみた傾斜の最大値が80°以下であることを特徴とする前記(11)に記載のIDカード作成方法である。
(15) In the present invention, on the surface of the card-type image recording body on which the transfer layer is transferred,
A reference line is a line connecting two points at a distance of 10 mm each in the upper and lower directions in parallel with the short side direction of the card type image recording medium from the maximum portion of the concave portion or the convex portion,
The ID card creation method according to (11), wherein the maximum value of the inclination of the concave portion or the convex portion with respect to the reference line is 80 ° or less.

前記構成により、この発明は、以下のような効果を有する。   With the above configuration, the present invention has the following effects.

この発明の転写箔支持体は、下記一般式1で表される数値が0.03〜0.005を満たし、かつ23℃/50%における表面固有抵抗値が1×105〜1014Ωの範囲であることで、
一般式1:
前記転写箔支持体の一方の中心線平均粗さ(Ra)「μm」/前記転写箔支持体厚さ「μm」
但し、転写箔支持体厚さは、5〜40μm
ゴミ付着防止、転写箔転写性(箔切れ性)、ブロッキング性、転写表面外観性を向上させたIDカードおよびICカードを提供することができる。
The transfer foil support of the present invention has a numerical value represented by the following general formula 1 satisfying 0.03 to 0.005, and having a surface specific resistance of 1 × 10 5 to 10 14 Ω at 23 ° C./50%. By being a range,
General formula 1:
One center line average roughness (Ra) of the transfer foil support “μm” / thickness of the transfer foil support “μm”
However, the thickness of the transfer foil support is 5 to 40 μm.
It is possible to provide an ID card and an IC card having improved prevention of dust adhesion, transfer foil transferability (foil breakability), blocking property, and transfer surface appearance.

また、この発明の転写箔は、光硬化層の23℃における初期破断伸度が10〜90%及び50℃3日保管後における破断伸度が10〜90%であることで、曲げ性、保存後曲げ性、ゴミ付着防止、転写箔転写性(箔切れ性)、ブロッキング性、転写表面外観性を向上させたIDカードおよびICカードを提供することができる。   In addition, the transfer foil of the present invention has a bending property and a storage property by having an initial breaking elongation at 23 ° C. of the photocured layer of 10 to 90% and a breaking elongation after storage at 50 ° C. for 3 days of 10 to 90%. An ID card and an IC card having improved post-bending property, prevention of dust adhesion, transfer foil transfer property (foil cut property), blocking property, and transfer surface appearance can be provided.

さらに、この発明の転写箔は、30℃における支持体と転写層の剥離力を規定することで、曲げ性、保存後の曲げ性、ブロッキング性、転写箔転写性(箔切れ性)、ゴミ付着防止、転写表面外観性を向上させたIDカードおよびICカードを提供することができる。   Further, the transfer foil of the present invention regulates the peeling force between the support and the transfer layer at 30 ° C., so that the bendability, the bendability after storage, the blocking property, the transfer foil transfer property (foil cut property), and the dust adhesion An ID card and an IC card having improved prevention and transfer surface appearance can be provided.

この発明の転写箔支持体及び転写箔を用いて、特定の画像記録体へ転写することにより、カード曲げ性、カード保存後の曲げ性、転写箔転写性(箔切れ性)、カードゴミ付着防止、転写箔と画像記録体の密着性、転写表面外観性を向上させたIDカードおよびICカードを提供することができる。   By transferring the image to a specific image recording medium using the transfer foil support and the transfer foil of the present invention, the card bendability, the bendability after storage of the card, the transfer foil transfer property (foil cut property), and the prevention of card dust adhesion. In addition, it is possible to provide an ID card and an IC card in which the adhesion between the transfer foil and the image recording medium and the transfer surface appearance are improved.

以下、この発明の転写箔支持体、転写箔、およびIDカード作成方法を図面に基づいて詳細に説明するが、この発明は、この実施の形態に限定されない。また、この発明の実施の形態は、発明の最も好まし形態を示すものであり、この発明の用語の意義は、これに限定されない。   Hereinafter, a transfer foil support, a transfer foil, and a method for preparing an ID card of the present invention will be described in detail with reference to the drawings, but the present invention is not limited to this embodiment. Further, the embodiments of the present invention show the most preferred embodiments of the present invention, and the meaning of the terms of the present invention is not limited thereto.

図1は転写箔支持体の層構成図を示す。図1(a)で支持体1は、一方の面側に粗面化面2を有し、他方の面側に帯電防止層3を有する。図1(b)で支持体1は、一方の面側に帯電防止層具備粗面化面4を有し、他方の面側に帯電防止層3を有する。図1(c)で支持体1は、一方の面側に帯電防止層具備粗面化面4を有する。   FIG. 1 shows a layer configuration diagram of the transfer foil support. In FIG. 1A, the support 1 has a roughened surface 2 on one side and an antistatic layer 3 on the other side. In FIG. 1B, the support 1 has an antistatic layer provided with a roughened surface 4 on one side and an antistatic layer 3 on the other side. In FIG. 1C, the support 1 has a roughened surface 4 provided with an antistatic layer on one surface side.

この転写箔支持体を用いた転写箔層の構成例を、図2に示す。図2(a)〜図2(d)は、図1(a)図の転写箔支持体を用いた転写箔層の構成例である。図2(e)〜図2(h)は、図1(b)の転写箔支持体を用いた転写箔層の構成例である。図2(i)〜図2(l)は、図1(c)の転写箔支持体を用いた転写箔層の構成例である。   FIG. 2 shows a configuration example of a transfer foil layer using the transfer foil support. FIGS. 2A to 2D are configuration examples of a transfer foil layer using the transfer foil support of FIG. 1A. 2 (e) to 2 (h) show examples of the configuration of a transfer foil layer using the transfer foil support of FIG. 1 (b). 2 (i) to 2 (l) are examples of the configuration of a transfer foil layer using the transfer foil support of FIG. 1 (c).

この発明の転写箔支持体において、支持体としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート/イソフタレート共重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ化エチレン、エチレン−4フッ化エチレン共重合体等のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン6.6等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビニロン等のビニル重合体、三酢酸セルロース、セロファン等のセルロース系樹脂、生分解性セルロースアセテート、生分解性ポリカプロラクトン等の生分解性樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら2層以上の積層体が挙げられる。   In the transfer foil support of the present invention, examples of the support include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene terephthalate / isophthalate copolymer; polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polymethylpentene; Polyethylene resins such as vinyl, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer, polyamides such as nylon 6, nylon 6.6, polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer Polymers, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / vinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol, vinyl polymer such as vinylon, cellulose triacetate, cellulosic resin such as cellophane, biodegradable cellulose acetate, Synthesis of biodegradable resin such as degradable polycaprolactone, acrylic resin such as polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, polyethyl acrylate, polybutyl acrylate, polystyrene, polycarbonate, polyarylate, polyimide, etc. Examples of the sheet include a resin sheet, a paper such as a high-quality paper, a thin paper, a glassine paper, a parchment paper, a single layer body such as a metal foil, and a laminate of two or more layers.

この発明の支持体の厚みは5〜40μm、望ましくは8〜38μmである。5μm以下であると支持体が転写時に破壊若しくは転写ムラが発生してしまい表面保護性、表面外観性が劣化してしまい問題である。40μ以上であると支持体が厚くなるために転写時接着層への熱伝達力低下により転写性が劣化してしまう。 この発明の転写箔支持体は、前記樹脂の中でも耐熱性があり、且つ安価なポリエチレンテレフタレートが好ましい。   The thickness of the support of the present invention is 5 to 40 μm, preferably 8 to 38 μm. If the thickness is 5 μm or less, the support may be broken at the time of transfer or transfer unevenness may occur, resulting in a problem that surface protection and surface appearance deteriorate. If it is more than 40 μm, the thickness of the support becomes too thick, so that the transferability deteriorates due to a decrease in the heat transfer force to the adhesive layer during transfer. The transfer foil support of the present invention is preferably heat-resistant and inexpensive polyethylene terephthalate among the above resins.

この発明において5〜40μmの厚さからなる支持体において、少なくとも一方の中心線平均粗さ(Ra)が一般式1よりなることを特徴とする転写箔支持体であることが好ましい。   In the present invention, the support having a thickness of 5 to 40 μm is preferably a transfer foil support characterized in that at least one center line average roughness (Ra) is represented by the general formula 1.

一般式1:
支持体の一方の中心線平均粗さ(Ra)「μm」/支持体厚さ「μm」=0.03〜0.005
この発明では、一般式1が成り立つためには支持体の片側または両面を粗面化することが好ましい。
General formula 1:
One center line average roughness (Ra) of the support “μm” / support thickness “μm” = 0.03 to 0.005
In the present invention, in order to satisfy the general formula 1, it is preferable to roughen one or both sides of the support.

一般式1の値が0.005以下であると支持体の粗面化度が低く、転写箔を巻き取った際に転写箔中の最外層に位置する接着層とブロッキングしてしまい問題となる。また、0.03以上になってしまうと一方の面を粗面化する際に支持体に穴あきなどが発生してしまう問題と更に積層し転写箔を形成した場合、穴あきの部分で剥離不良が発生しまい問題となる。   When the value of the general formula 1 is 0.005 or less, the degree of surface roughening of the support is low, and when the transfer foil is wound up, the support is blocked with the adhesive layer located at the outermost layer in the transfer foil, which causes a problem. . In addition, if the thickness is 0.03 or more, a hole is formed in the support when one of the surfaces is roughened. Is a problem.

この発明の粗面化面があることにより、転写、剥離時に粗面化面がきっかけとなってミシン目効果として働き箔切れを良化することがこの研究で発見された。また、この発明で用いられている転写箔中の光硬化層の破断伸度が低いと箔切れ部分以外のカード転写面表面に過剰に力が加わりひび割れなどが発生しカード外観不良が発生していた。   It has been discovered in this study that the presence of the roughened surface of the present invention serves as a trigger during transfer and peeling to act as a perforation effect to improve foil breakage. Further, when the elongation at break of the photocurable layer in the transfer foil used in the present invention is low, excessive force is applied to the surface of the card transfer surface other than the cut portion of the foil, and cracks and the like are generated, resulting in poor card appearance. Was.

この発明では、特定の支持体を用い、破断伸度が高い光硬化層を有する転写箔を用いることにより、箔切れも良く、外観不良の無いカードを得ることができた。   In the present invention, by using a specific support and a transfer foil having a photocurable layer having a high elongation at break, it was possible to obtain a card with good foil breakage and no appearance defect.

粗面化方法は、サンドブラスト加工、ヘアライン加工、マットコーティング、もしくはケミカルエッチング等が挙げられる。この発明では、前記一般式1を成立させるため、または帯電防止層機能を損なわない方法且つ、表面の粗さを、この発明記載内容にするために、サンドブラスト加工、ヘアライン加工が好ましい。粗面化処理は処理面に対して全面に施すことが好ましい。   Examples of the surface roughening method include sandblasting, hairline processing, mat coating, and chemical etching. In the present invention, sandblasting and hairline processing are preferable in order to satisfy the above-mentioned general formula 1 or to make the method not impairing the function of the antistatic layer and to make the surface roughness the content described in the present invention. The surface roughening treatment is preferably performed on the entire surface to be treated.

サンドブラスト加工技術は、特開平7−49615号公報、特開平10−48863号、特開2000−155436号、特開2000−105481号公報等にて公開されている技術である。   The sandblasting technology is a technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-49615, 10-48863, 2000-155436, and 2000-105481.

具体的には、サンド粒子を支持体の表面に衝突させるための噴射装置により粗面化する。サンド粒子とは、けい砂、アルミナ、カーボランダム、ガラス、合成樹脂等の粉体である。尚、研磨材の粒径が大きすぎると、ブラスト加工処理された表面における凹凸が大きく成りすぎるという傾向の他に、粗い研磨材が支持体面につき刺さり、凸状の製膜欠陥のもとに成ったりするため粒子の平均粒径として0.1〜5.0μmの範囲の粒子で行うことが好ましい。噴射は支持体表面に対し、0゜〜90゜噴射角度、吹き付け圧は0.5〜10kg/cm2で成形することができる。尚サンド処理後、支持体にサンドが残存するため水、酸性水、アルカリ水等で洗浄することが好ましい。事前に帯電防止層が具備されている場合、前記水、酸性水、アルカリ水等で洗浄剤に対して、溶解しない帯電防止層の選択及び洗浄方法を選択することが好ましい。この発明では、支持体表面固有抵抗値が1×105〜1014Ωの範囲であれば特に制限はない。 Specifically, the surface is roughened by an injection device for causing the sand particles to collide with the surface of the support. Sand particles are powders such as silica sand, alumina, carborundum, glass, and synthetic resin. If the particle size of the abrasive is too large, unevenness on the blasted surface tends to be too large. Therefore, it is preferable to use particles having an average particle diameter in the range of 0.1 to 5.0 μm. Injection can be performed at a spray angle of 0 ° to 90 ° with respect to the surface of the support, and a spray pressure of 0.5 to 10 kg / cm 2 . After the sand treatment, since the sand remains on the support, it is preferable to wash with water, acidic water, alkaline water or the like. When an antistatic layer is provided in advance, it is preferable to select an antistatic layer that does not dissolve in a detergent with water, acidic water, alkaline water, or the like, and to select a washing method. In the present invention, there is no particular limitation as long as the surface resistivity of the support is in the range of 1 × 10 5 to 10 14 Ω.

ヘアライン加工技術は、ブラッシングロール又はサンドロール等を直線的に移動させ条痕をつけて、凹凸模様とする方法が知られている。ヘアラインのそれぞれのピッチは0.00〜2.0μmピッチであることが好ましく深さ方向では、支持体に穴あきが出来ない程度であれば特に制限はない。   As a hairline processing technique, a method is known in which a brushing roll or a sand roll is linearly moved to form a streak to form an uneven pattern. The pitch of each hairline is preferably 0.00 to 2.0 μm, and there is no particular limitation in the depth direction as long as the support cannot be perforated.

尚、この発明により作成された粗面化処理面の中心線平均粗さ(Ra)は、小板製作所製表面粗さ測定機SE−30Hにて測定することにより測定された。   The center line average roughness (Ra) of the roughened surface prepared according to the present invention was measured by measuring with a surface roughness measuring instrument SE-30H manufactured by Koita Seisakusho.

支持体厚さ測定は、ソニー製ミューメイトM30測定した。   The measurement of the thickness of the support was performed by using a Sony MMUmate M30.

この発明において、転写箔用支持体は23℃/50%における表面固有抵抗値が、1×105〜1×1014Ωの範囲であることが好ましく、より好ましくは、1×105〜1×1012Ωの範囲である。表面固有抵抗値を、この発明にするためには、前記粗面化前後のいずれかに帯電防止層を支持体に設けることが好ましく、更には粗面化していない側に帯電防止層を設けることが好ましい。粗面化後に粗面化部分に帯電防止層を設けると生産性及び粗面化率が低下し問題となり、更に帯電防止層を支持体上に設けて、更に帯電防止層側を粗面化すると帯電防止層が粗面化時に剥ぎ取られて帯電防止機能が皆無となる。製造コストなどの点から粗面化前に帯電防止処理層を支持体に設けることが好ましい。 In the present invention, the transfer foil support preferably has a surface specific resistance at 23 ° C./50% in the range of 1 × 10 5 to 1 × 10 14 Ω, more preferably 1 × 10 5 to 1 × 10 5 Ω. × 10 12 Ω. In order to make the surface specific resistance value of the present invention, it is preferable to provide an antistatic layer on the support before or after the surface roughening, and further to provide an antistatic layer on the non-roughened side. Is preferred. When the antistatic layer is provided on the roughened portion after the surface is roughened, the productivity and the surface roughening rate decrease, which causes a problem.If the antistatic layer is further provided on the support, and the antistatic layer side is further roughened, The antistatic layer is peeled off at the time of roughening, and the antistatic function is completely eliminated. It is preferable to provide an antistatic treatment layer on the support before the surface is roughened from the viewpoint of production cost and the like.

また、剥離帯電によるゴミ付着性の効果も低減する。この発明の場合、23℃/50%における表面固有抵抗値が、1×105〜1×1014Ωの範囲になれば特に制限はない。 Also, the effect of dust adhesion due to peeling charging is reduced. In the case of the present invention, there is no particular limitation as long as the surface specific resistance at 23 ° C./50% falls within the range of 1 × 10 5 to 1 × 10 14 Ω.

帯電防止層は、一般に表面固有抵抗値が低いほど帯電量は減少しゴミ付着などを防止できるが、この発明では1×105Ω未満では好ましくない。一般に1×105Ω未満を達成するためには、帯電防止層に金属粒子等の粒子を多く入れたり、電気伝導度の高い樹脂を入れることが必要であった。そのため、支持体自身の透過濃度が低下したり、支持体と帯電防止層の密着性が劣化し製造工程で帯電防止層と支持体間で剥がれが発生し帯電防止効果が低減した。また、1×105Ω未満からなる転写箔上に後加工として更にもう一枚転写箔を設けたり、UV硬化層液を塗工したりした場合、帯電防止層に金属粒子等の粒子を多く入れたり、電気伝導度の高い樹脂を入れたため、箔と密着性が低下し問題であった。 Antistatic layer is generally higher charge amount is low surface resistivity in the can prevent a decrease dust adhesion, undesirable less than 1 × 10 5 Ω in the present invention. Generally, in order to achieve a resistance of less than 1 × 10 5 Ω, it is necessary to add a large amount of particles such as metal particles to the antistatic layer or to add a resin having high electric conductivity. As a result, the transmission density of the support itself was reduced, the adhesion between the support and the antistatic layer was deteriorated, and peeling occurred between the antistatic layer and the support in the manufacturing process, thereby reducing the antistatic effect. Further, when another transfer foil is provided as a post-processing on a transfer foil of less than 1 × 10 5 Ω, or when a UV curing layer liquid is applied, the antistatic layer contains many particles such as metal particles. In addition, a resin having high electric conductivity was inserted, and the adhesion to the foil was reduced, which was a problem.

1×1014Ω以上であると熱圧着時あるいは転写する前に装置内のゴミ異物を箔自身がゴミを吸着しIDカード上に異物が巻き込まれ不良カードとなって問題となる。 If the resistance is 1 × 10 14 Ω or more, the foil itself adsorbs the foreign substance in the apparatus during thermocompression bonding or before transfer, and the foreign substance gets caught on the ID card, resulting in a problem as a defective card.

この発明の帯電防止層として、1×105〜1×1012Ωの範囲の帯電防止層を達成するために金属酸化物微粒子、導電性粉末又は導電性樹脂の何れか1つ以上を含んでいることが好ましい。 The antistatic layer of the present invention contains at least one of metal oxide fine particles, conductive powder or conductive resin in order to achieve an antistatic layer in the range of 1 × 10 5 to 1 × 10 12 Ω. Is preferred.

<金属酸化物微粒子>
金属酸化物微粒子としては、例えば酸素不足酸化物、金属過剰酸化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸化物等の不定比化合物を形成し易い金属酸化物微粒子等が挙げられる。この中で、この発明に最も好ましい化合物は製造方法などが多様な方式をとることが可能な金属酸化物微粒子である。
<Metal oxide fine particles>
Examples of the metal oxide fine particles include metal oxide fine particles that easily form nonstoichiometric compounds such as an oxygen-deficient oxide, a metal-excess oxide, a metal-deficient oxide, and an oxygen-excess oxide. Among them, the most preferred compounds for the present invention are metal oxide fine particles which can be produced in various ways by various methods.

例えば、酸化第二錫、酸化亜鉛、酸化チタン等の微粒子が挙げられる。好ましくは、導電性が105Ω・cm未満であり、非結晶質の酸化第二錫微粒子を用いるのがよい。さらに好ましくは、前記導電性に加えて、一般的な熱質量分析などによる加熱処理による200℃〜500℃の範囲での質量減少が0.1重量%以上30重量%未満である非結晶質の酸化第二錫微粒子を用いるのがよい。特に好ましくは、上記特性に加えて、イオン、特に少なくとも0.001重量%以上の陰イオンを、微粒子の内部及び/または表面等の外部に含む非結晶質の酸化第二錫微粒子を用いるのがよい。 For example, fine particles such as stannic oxide, zinc oxide, and titanium oxide can be used. Preferably, amorphous stannic oxide fine particles having conductivity of less than 10 5 Ω · cm are used. More preferably, in addition to the above-mentioned conductivity, a non-crystalline material whose mass loss in the range of 200 ° C. to 500 ° C. due to heat treatment such as general thermal mass spectrometry is 0.1% by weight or more and less than 30% by weight. It is preferable to use stannic oxide fine particles. It is particularly preferable to use amorphous stannic oxide fine particles containing, in addition to the above-mentioned properties, ions, particularly an anion of at least 0.001% by weight or more inside and / or outside the fine particles. Good.

前記イオンとしては、例えばアンモニウムイオン、水素イオン等の陽イオンや、カルボン酸基、スルホン酸基、アミノ基、水酸基を含むイオン、炭酸イオン、ハロゲンイオン等の陰イオンが挙げられる。この様な微粒子の製造についての詳細は例えば特開昭56−143430号に記載されている。特開昭56−143431号、特開平7−77761号、特開2001−160326号、特開平10−142803号に開示されているような結晶性金属酸化物粒子又は特公昭35−6616号に開示されているような、無定形の酸化第二錫ゾル、特開昭55−5982号に記載された無定形の五酸化バナジウム、特公昭57−12979号に開示されているような電解質を有するアルミナゾル等を使用することも可能である。   Examples of the ion include a cation such as an ammonium ion and a hydrogen ion, an ion including a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, an amino group and a hydroxyl group, and an anion such as a carbonate ion and a halogen ion. Details of the production of such fine particles are described in, for example, JP-A-56-143430. JP-A-56-143431, JP-A-7-77761, JP-A-2001-160326, and JP-A-10-142803 disclose crystalline metal oxide particles or JP-B-35-6616. Amorphous stannic oxide sol, amorphous vanadium pentoxide described in JP-A-55-5982, and alumina sol having an electrolyte disclosed in JP-B-57-1279. Etc. can also be used.

なお、この発明に使用する金属酸化物微粒子の粒子径としては1〜20nm程度であるのが好ましい。   The metal oxide fine particles used in the present invention preferably have a particle diameter of about 1 to 20 nm.

この金属酸化物微粒子を、親水性溶媒、好ましくは水、アルコールに分散させてゾルとすることが好ましい。溶媒として親水性溶媒、特に水を使用することにより、環境適合性が向上する。分散方法は特に限定されないが、分散時にゾルを補助するための他の成分や安定剤等の添加剤を含有させても良い。   The metal oxide fine particles are preferably dispersed in a hydrophilic solvent, preferably water or alcohol, to form a sol. Use of a hydrophilic solvent, particularly water, as the solvent improves environmental compatibility. The dispersion method is not particularly limited, but other components for assisting the sol at the time of dispersion and additives such as a stabilizer may be contained.

この発明に使用する導電性ゾルの製造方法としては、例えば、金属酸化物微粒子が酸化第二錫の場合、加水分解性の錫化合物、あるいは加水分解性錫化合物とフッ素を含有する化合物とを、加水分解処理し、洗浄してハロゲン濃度が0.001%以上3%以下としたものをアンモニア水に溶解し加熱処理を行う方法が挙げられる。なお、熱処理を行う場合には、好ましくは450℃以下、さらに好ましくは300℃以下、ことさらに好ましくは200℃以下、特に好ましくは150℃以下とするのがよい。より好適には25〜150℃の範囲で行うのがよい。前記加水分解性錫化合物としては、K2SnO3・3H2Oのようなオキソ陰イオンを含む化合物、SnCl4、SnCl4・5H2Oのような水溶性ハロゲン化物、R’2SnR2、R3SnX、R2SnX2[R’、Rはそれぞれ脂肪族もしくは芳香族有機化合物、Xはハロゲン示す。]の構造を示す化合物、例えば(CH3)3SnCl・(ピリジン)、(C49)2Sn(O2CC25)2等の有機金属化合物、Sn(SO42・2H2O等のオキソ塩を挙げることができる。また、前記のような上加水分解性化合物より導電性ゾルを製造する場合、親水性溶媒に可溶な他の元素を含む化合物、例えばフッ素化合物や炭酸塩などを添加してもよい。 As a method for producing the conductive sol used in the present invention, for example, when the metal oxide fine particles are stannic oxide, a hydrolyzable tin compound, or a hydrolyzable tin compound and a compound containing fluorine, There is a method in which a substance subjected to a hydrolysis treatment and washed to have a halogen concentration of 0.001% or more and 3% or less is dissolved in aqueous ammonia and subjected to a heat treatment. When heat treatment is performed, the temperature is preferably 450 ° C. or lower, more preferably 300 ° C. or lower, further preferably 200 ° C. or lower, and particularly preferably 150 ° C. or lower. More preferably, it is performed in the range of 25 to 150 ° C. Examples of the hydrolyzable tin compound include a compound containing an oxo anion such as K 2 SnO 3 .3H 2 O, a water-soluble halide such as SnCl 4 , SnCl 4 .5H 2 O, R′2SnR2, R3SnX, R2SnX2 [R 'and R each represent an aliphatic or aromatic organic compound, and X represents a halogen. Compounds of the structure of, for example, (CH 3) 3SnCl · (pyridine), (C 4 H 9) 2Sn (O 2 CC 2 H 5) organometallic compounds such as 2, Sn (SO 4) 2 · 2H 2 O And the like. When producing a conductive sol from the above-mentioned hydrolyzable compound, a compound containing another element soluble in a hydrophilic solvent, such as a fluorine compound or a carbonate, may be added.

前記導電性ゾルとしては、水を溶媒とした、水系非結晶性酸化第二錫ゾル、水系アンチモン酸酸化亜鉛ゾル、水系フッ素ドープ非結晶性酸化第二錫ゾル、水系アンチモン酸酸化チタンゾル、水系アンチモン酸酸化第二錫ゾルから選ばれる1種または2種以上の導電性ゾルであるのが好ましい。特に好ましくは、水系非結晶性酸化第二錫ゾルを用いるのがよい。特に、アンチモンを含まない水系非結晶性酸化第二錫ゾルは、アンチモンの気散が防止されて好ましい。   As the conductive sol, an aqueous amorphous stannic oxide sol, an aqueous zinc antimonate zinc oxide sol, an aqueous fluorine-doped amorphous stannic oxide sol, an aqueous titanium antimonate oxide sol, an aqueous antimony using water as a solvent. It is preferably one or more conductive sols selected from stannic oxide sols. Particularly preferably, an aqueous amorphous stannic oxide sol is used. In particular, a water-based amorphous stannic oxide sol containing no antimony is preferred because the diffusion of antimony is prevented.

前記導電性ゾルと混合するバインダー樹脂は特に限定されず、塗布対象の基材との接着性や、所望の導電層の物性等に応じて選択することができ、例えばゼラチン、ポリビニルアルコールなどの親水性バインダーでもよいし、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、ポリウレタン、アクリル樹脂、エポキシ基含有アクリル酸樹脂、ウレタンアクリレート樹脂などの熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマーなどを有機溶媒で使ってもよいし、更にこれらを水分散体の形体で用いてもよい。さらにまた、これらのバインダーと共に硬化剤も利用できる。   The binder resin to be mixed with the conductive sol is not particularly limited, and can be selected according to the adhesiveness to a substrate to be coated and the physical properties of a desired conductive layer. May be used, or a thermoplastic resin such as polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, nitrocellulose, polyurethane, acrylic resin, epoxy group-containing acrylic resin, urethane acrylate resin, thermoplastic elastomer, or the like may be used as an organic solvent. These may be used in the form of an aqueous dispersion. Furthermore, a curing agent can be used together with these binders.

この発明のように、帯電防止層付与済の支持体を後加工によりサンブラフト加工、ヘアライン加工製造をした場合、支持体の表面加工から発生したゴミを取り除くために工程洗浄剤を用いるため、水、酸性水、アルカリ水等の洗浄剤に対して溶解しない材料であることが好ましい。   As in the present invention, when the antistatic layer-provided support is subjected to post-processing, sunbuffing, and hairline processing, when a process cleaning agent is used to remove dust generated from surface processing of the support, water, It is preferable that the material does not dissolve in cleaning agents such as acidic water and alkaline water.

金属酸化物微粒子を親水性溶媒に分散した導電性ゾルとバインダー樹脂とを混合した樹脂組成物を塗布して形成した層は、金属酸化物微粒子を親水性溶媒に分散した導電性ゾルと、バインダー樹脂とを混合した樹脂組成物を上記基材上に塗布後、溶媒を乾燥除去して形成される。金属酸化物微粒子を導電性ゾルとしたのち、バインダー樹脂と混合することにより、粒径の小さい微粒子を導電層に分散させることが可能になり、導電性及び透明性、さらには導電層の基板との密着性や均一性、表面平滑性、膜厚制御性が向上する。   A layer formed by applying a resin composition obtained by mixing a conductive sol in which a metal oxide fine particle is dispersed in a hydrophilic solvent and a binder resin is formed, a conductive sol in which the metal oxide fine particle is dispersed in a hydrophilic solvent, and a binder. After the resin composition mixed with the resin is applied on the base material, the solvent is dried and removed to form the resin composition. After the metal oxide fine particles are formed into a conductive sol, by mixing with a binder resin, it is possible to disperse the fine particles having a small particle size in the conductive layer, and the conductivity and transparency, and furthermore, with the conductive layer substrate. Adhesion, uniformity, surface smoothness, and film thickness controllability are improved.

用いられる無機金属酸化物の粒子サイズは特に制限はなく、好ましくは1μ以下が良い。   The particle size of the inorganic metal oxide used is not particularly limited, and is preferably 1 μm or less.

前記導電性ゾルとバインダー樹脂との混合方法及び配合割合は本発明の作用を阻害しない範囲で特に限定されない。また、導電性ゾルとバインダー樹脂との混合時に、アミン化合物、アンモニア、カセイソーダなどの中和剤やpH調製剤、界面活性剤等の添加剤を配合しても良い。導電性ゾルとバインダー樹脂とを混合した樹脂組成物を基板上に塗布する方法も特に限定されず、通常一般に使用されるロールコーティング、エアナイフコーティング、ブレードコーティング、ロッドコーティング、バーコーティング等の方法を使用できる。樹脂組成物の基板上への塗布後、オーブン、ドライヤー等を用いて溶媒を乾燥除去することにより導電層が形成される。   The mixing method and the mixing ratio of the conductive sol and the binder resin are not particularly limited as long as the action of the present invention is not impaired. When the conductive sol and the binder resin are mixed, additives such as a neutralizing agent such as an amine compound, ammonia, and caustic soda, a pH adjusting agent, and a surfactant may be added. The method of applying the resin composition obtained by mixing the conductive sol and the binder resin on the substrate is not particularly limited, and a generally used method such as roll coating, air knife coating, blade coating, rod coating, and bar coating is used. it can. After application of the resin composition onto the substrate, the solvent is dried and removed using an oven, a drier, or the like, to form a conductive layer.

金属酸化物含有離型層の膜厚は特に限定されないが、好ましくは0.000g/m2〜3.00g/m2であり、より好ましくは0.000005g/m2〜2.00g/m2であり、さらに好ましくは0.00001g/m2〜2.00g/m2である。 The thickness of the metal oxide-containing release layer is not particularly limited, preferably 0.000g / m 2 ~3.00g / m 2 , more preferably 0.000005g / m 2 ~2.00g / m 2 And more preferably 0.00001 g / m 2 to 2.00 g / m 2 .

<導電性粉末又は導電性樹脂>
<導電性粉末>
導電性粉末としては、酸化錫を主成分とし、アンチモン、アルミニウム、ほう素等の原子価数の異なる金属をドープした粉末、また、この組成物を核物質、例えばマイカ粉、チタン酸カリウム、シリカ粉等に被覆した粉末、アンチモン酸亜鉛、酸化インジウム錫、金、銀、銅、カーボンブラック、アセチレンブラック、有機電解質系界面活性剤等がある。
<Conductive powder or conductive resin>
<Conductive powder>
As the conductive powder, tin oxide as a main component, a powder doped with a metal having a different valence such as antimony, aluminum, and boron, or a core material such as mica powder, potassium titanate, silica Powders coated with powders, zinc antimonate, indium tin oxide, gold, silver, copper, carbon black, acetylene black, organic electrolyte surfactants, and the like.

<導電性樹脂>
導電性樹脂は、特に限定されず、アニオン性、カチオン性、両性及びノニオン性のいずれでも良いが、その中でも好ましいのは、アニオン性、カチオン性である。より好ましいのは、アニオン性では、スルホン酸系、カルボン酸系、カチオン性では、3級アミン系、4級アンモニウム系のポリマー又はラテックスである。
<Conductive resin>
The conductive resin is not particularly limited, and may be any of anionic, cationic, amphoteric and nonionic. Among them, preferred are anionic and cationic. More preferred are sulfonic acid-based and carboxylic acid-based polymers for anionic and tertiary amine-based and quaternary ammonium-based polymers or latex for cationic.

これらの導電性樹脂は、例えば特公昭52−25251号、特開昭51−29923号、特公昭60−48024号記載のアニオン性ポリマー又はラテックス、特公昭57−18176号、同57−56059号、同58−56856号、米国特許第4,118,231号などに記載のカチオン性ポリマー又はラテックスを挙げることができ、特開2000−191971記載のポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアニリン、ポリフェニレンビニレン、ポリパラフェニレン、ポリメタフェニレン等を挙げることができる。   These conductive resins include, for example, an anionic polymer or latex described in JP-B-52-25251, JP-A-51-29923, JP-B-60-48024, JP-B-57-18176, JP-B-57-56059, Nos. 58-56856, U.S. Pat. No. 4,118,231, and the like, and cationic polymers or latexes described in JP-A-2000-191971, such as polypyrroles, polythiophenes, polyaniline, polyphenylenevinylene, and polyparaphenylene. Examples include phenylene and polymetaphenylene.

これら導電性粉末、導電性樹脂は、それらを単独でも使用することができるが、他のバインダーを併用し塗布することができる。バインダーとは、アクリル系熱可塑性樹脂、光硬化型硬化樹脂、熱硬化型樹脂、ポリウレタン、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリプロピレン等を用いることができる。さらにまた、これらのバインダーと共に硬化剤も利用できる。この発明の様に、帯電防止層付与済の支持体を後加工によりサンドット加工、ヘアライン加工製造をした場合、支持体の表面加工から発生したゴミを取り除くために工程洗浄剤を用いるため、水、酸性水、アルカリ水等の洗浄剤に対して溶解しない材料であることが好ましい。   These conductive powders and conductive resins can be used alone or in combination with other binders. As the binder, an acrylic thermoplastic resin, a photo-curable resin, a thermo-curable resin, polyurethane, polyester, polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, polycarbonate, polystyrene, polypropylene, or the like can be used. Furthermore, a curing agent can be used together with these binders. As in the present invention, when the support provided with the antistatic layer is subjected to sun-dot processing and hairline processing by post-processing, a process cleaning agent is used to remove dust generated from surface processing of the support. It is preferable that the material does not dissolve in a cleaning agent such as acidic water and alkaline water.

導電性粉末、導電性樹脂からなる離型層の膜厚は特に限定されないが、好ましくは0.000g/m2〜3.00g/m2であり、より好ましくは0.000005g/m2〜2.00g/m2であり、さらに好ましくは0.00001g/m2〜2.00g/m2である。 Conductive powder, the thickness of the made of a conductive resin release layer is not particularly limited, preferably 0.000g / m 2 ~3.00g / m 2 , more preferably 0.000005g / m 2 ~2 0.000 g / m 2 , and more preferably 0.00001 g / m 2 to 2.00 g / m 2 .

バインダーを併用する場合、導電性粉末又は導電性樹脂とバインダーの比は、重量比で99:1から1:99が好ましく、80:20から5:95がさらに好ましく、70:30から5:95が特に好ましい。   When a binder is used in combination, the ratio of the conductive powder or conductive resin to the binder is preferably 99: 1 to 1:99, more preferably 80:20 to 5:95, and more preferably 70:30 to 5:95 by weight. Is particularly preferred.

帯電防止層も受ける方法としては、一般的な有機溶剤または水を用い通常一般に使用されるロールコーティング、エアナイフコーティング、ブレードコーティング、ロッドコーティング、バーコーティング等の方法を使用できる。樹脂組成物の基板上への塗布後、オーブン、ドライヤー等を用いて溶媒を乾燥除去することにより導電層が形成される。   As a method for receiving an antistatic layer, a method such as roll coating, air knife coating, blade coating, rod coating, bar coating and the like generally used with a general organic solvent or water can be used. After application of the resin composition onto the substrate, the solvent is dried and removed using an oven, a drier, or the like, to form a conductive layer.

また、これらを用い印刷インキを作成する場合、具体的にはクラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法が可能で、フィルムの厚さと、フィルム上に形成する必要な印刷膜厚に応じて印刷法を選択する。例えば、厚い膜厚を必要とする場合には、スクリーン印刷、薄く印刷したい場合には、グラビア印刷かオフセット印刷法が適している。印刷インキを用いる場合、公知の導電性インキを使用することも可能で、例えば特開平9−59553、特開平7−57545、特開2000−191971に記載されているような導電性インキとして用いることができる。   In addition, when making printing inks using these, concretely, the gravure printing method, the screen printing method, and the offset printing method are possible, and the printing is performed according to the film thickness and the required printing film thickness to be formed on the film. Choose a law. For example, screen printing is suitable when a thick film thickness is required, and gravure printing or offset printing is suitable for thin printing. When a printing ink is used, a known conductive ink can be used. For example, the conductive ink may be used as described in JP-A-9-59553, JP-A-7-57545, and JP-A-2000-191971. Can be.

この発明においては、金属酸化物微粒子、導電性粉末又は導電性樹脂の何れか1つを用いることによって23℃/50%における表面固有抵抗値が、1013Ω以下の転写箔用支持体を形成することができる。 In the present invention, a transfer foil support having a surface specific resistance of 10 13 Ω or less at 23 ° C./50% is formed by using any one of metal oxide fine particles, conductive powder and conductive resin. can do.

[表面固有抵抗値測定方法]
表面固有抵抗値測定方法は、JISK6911に準拠し、23℃/50%で電極50mmφ/70mmφ、印加電圧10V、電圧印加時間10secで高抵抗計を用いて測定した。
[Surface resistivity measurement method]
The surface specific resistance was measured according to JIS K6911 using a high resistance meter at 23 ° C./50% at an electrode of 50 mmφ / 70 mmφ, an applied voltage of 10 V, and a voltage application time of 10 sec.

この発明における転写箔は、前記記載の特定転写箔支持体又は下記支持体を用い作成することができる。この発明においては基材上に光硬化層、接着層を少なくとも積層する転写箔であることが好ましく、より好ましくはゴミ付着防止、転写箔転写性(箔切れ性)、転写表面外観性の観点から、前記記載の特定転写箔用支持体上に設けることが好ましい。   The transfer foil in the present invention can be prepared using the specific transfer foil support described above or the following support. In the present invention, it is preferable to use a transfer foil in which at least a photocurable layer and an adhesive layer are laminated on a substrate, and more preferably, from the viewpoint of preventing dust adhesion, transfer foil transferability (foil cut property), and transfer surface appearance. It is preferable to provide it on the support for a specific transfer foil described above.

この発明の転写箔において、光硬化層、接着層の他に下記離型層を設けても良い。離型層を設けることにより支持体からの剥離性が容易になり、30℃における支持体と転写層の平均剥離力、初期剥離力の調整が可能となる。   In the transfer foil of the present invention, the following release layer may be provided in addition to the photocurable layer and the adhesive layer. By providing the release layer, the releasability from the support becomes easy, and the average peeling force and the initial peeling force between the support and the transfer layer at 30 ° C. can be adjusted.

[転写箔離型層]
剥離層としては、高ガラス転移温度を有するアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ボリビニルブチラール樹脂などの樹脂、ワックス類、シリコンオイル類、フッ素化合物、水溶性を有するポリビニルピロリドン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、Si変性ポリビニルアルコール、メチルセルロース樹脂、ヒドロキシセルロース樹脂、シリコン樹脂、パラフィンワックス、アクリル変性シリコーン、ポリエチレンワックス、エチレン酢酸ビニルなどの樹脂が挙げられ、他にポリジメチルシロキサンやその変性物、例えばポリエステル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、ウレタン変性シリコーン、アルキッド変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等のオイルや樹脂、またはこの硬化物、等が挙げられる。他のフッ素系化合物としては、フッ素化オレフィン、パーフルオロ燐酸エステル系化合物が挙げられる。好ましいオレフィン系化合物としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等の分散物、ポリエチレンイミンオクタデシル等の長鎖アルキル系化合物等が挙げられる。これらの離型剤で溶解性の乏しいものは分散するなどして用いることができる。この離型層は、0.000005〜2.0g/m2であることが好ましい。特に好ましくは、0.00001〜2.0g/m2、より好ましくは0.00005〜2.0g/m2である。
[Transfer foil release layer]
As the release layer, acrylic resins having a high glass transition temperature, resins such as polyvinyl acetal resins, polyvinyl butyral resins, waxes, silicone oils, fluorine compounds, water-soluble polyvinyl pyrrolidone resins, polyvinyl alcohol resins, and Si-modified Polyvinyl alcohol, methylcellulose resin, hydroxycellulose resin, silicone resin, paraffin wax, acryl-modified silicone, polyethylene wax, ethylene vinyl acetate, and other resins.In addition, polydimethylsiloxane and its modified products, for example, polyester-modified silicone, acrylic-modified Oils and resins such as silicone, urethane-modified silicone, alkyd-modified silicone, amino-modified silicone, epoxy-modified silicone, polyether-modified silicone, The cured product, and the like. Other fluorinated compounds include fluorinated olefins and perfluorophosphate compounds. Preferred olefin compounds include dispersions of polyethylene and polypropylene, and long-chain alkyl compounds such as polyethyleneimine octadecyl. These release agents having poor solubility can be used after being dispersed. The release layer preferably has a weight of 0.000005 to 2.0 g / m 2 . Especially preferably, it is 0.00001-2.0 g / m < 2 >, More preferably, it is 0.00005-2.0 g / m < 2 >.

転写箔を2枚転写する場合は熱可塑性エラストマーを添加してもよい。熱可塑性エラストマーは具体的にスチレン系(スチレン・ブロック・コポリマー(SBC))、オレフィン系(TP)、ウレタン系(TPU)、ポリエステル系(TPEE)、ポリアミド系(TPAE)、1,2−ポリブタジエン系、塩ビ系(TPVC)、フッ素系、アイオノマー樹脂、塩素化ポリエチレン、シリコーン系等が上げられ具体的には1996年度版「12996の化学商品」(化学工業日報社)等に記載されている。   When transferring two transfer foils, a thermoplastic elastomer may be added. Specific examples of the thermoplastic elastomer include styrene (styrene block copolymer (SBC)), olefin (TP), urethane (TPU), polyester (TPEE), polyamide (TPAE), and 1,2-polybutadiene. , PVC (TPVC), fluorine, ionomer resin, chlorinated polyethylene, silicone, and the like, and are specifically described in the 1996 edition "12996 Chemical Products" (Chemical Industry Daily).

この発明で好適に用いられる、ポリスチレンとポリオレフィンのブロックポリマーからなる熱可塑性エラストマーとは、スチレンおよび炭素数10以下の直鎖または分岐の飽和アルキルのブロックからなる熱可塑性樹脂(以下熱可塑性樹脂S1ともいう)を言う。特に、ポリスチレン相とポリオレフィンを水素添加した相をもつブロックポリマーであるスチレン−ブタジエン−スチレン(SBS)、スチレン−イソプレン−スチレン(SIS)、スチレン−エチレン/ブチレン−スチレン(SEBS)、スチレン−エチレン/プロピレン−スチレン(SEPS)、スチレン−エチレン/プロピレン(SEP)のブロックポリマー等があげられる。   The thermoplastic elastomer preferably comprising a block polymer of polystyrene and polyolefin, preferably used in the present invention, is a thermoplastic resin comprising a block of styrene and a linear or branched saturated alkyl having 10 or less carbon atoms (hereinafter also referred to as thermoplastic resin S1). Say). In particular, styrene-butadiene-styrene (SBS), styrene-isoprene-styrene (SIS), styrene-ethylene / butylene-styrene (SEBS), and styrene-ethylene / block polymers having a polystyrene phase and a polyolefin-hydrogenated phase. Examples include propylene-styrene (SEPS) and styrene-ethylene / propylene (SEP) block polymers.

また、必要に応じて、この発明の離型層と樹脂層或いは活性光線硬化層との間に熱硬化型樹脂層を用いてもよい。具体的には、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、グアナミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリアミド樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。   If necessary, a thermosetting resin layer may be used between the release layer of the present invention and the resin layer or the actinic ray-curable layer. Specific examples include polyester resin, acrylic resin, epoxy resin, xylene resin, guanamine resin, diallyl phthalate resin, phenol resin, polyimide resin, maleic acid resin, melamine resin, urea resin, polyamide resin, urethane resin, and the like.

次いで離型層に隣接し光硬化層を設けることが好ましい。   Next, it is preferable to provide a photocurable layer adjacent to the release layer.

[光硬化層]
この発明の活性光線硬化型樹脂層は、付加重合性又は開環重合性を有する素材からなるものであり、付加重合成化合物とは、ラジカル重合性化合物、例えば特開平7−159983号、特公平7−31399号、特開平10−97067、特開2000−258903、特開2001−138674号等の明細書に記載されている光重合成(熱重合性も含む)組成物を用いた光硬化型材料であってもよい。付加重合成化合物とは、カチオン重合系の光硬化型材料が知られており、光カチオン重合系の光硬化材料も例えば、特開平6−43633号公報等に公開されている。ハイブリッド型重合系の光硬化材料としては特開平4−181944号等で組成物が開示されている。
[Light cured layer]
The actinic ray-curable resin layer of the present invention is composed of a material having addition polymerizability or ring-opening polymerizability. No. 7-31399, JP-A-10-97067, JP-A-2000-258903, JP-A-2001-138677, etc., using a photocurable (including thermopolymerizable) composition described in the specification. It may be a material. As the addition polysynthetic compound, a cationically curable photocurable material is known, and a cationically photocurable photocurable material is also disclosed, for example, in JP-A-6-43633. As a photocurable material of the hybrid polymerization type, a composition is disclosed in JP-A-4-181944 and the like.

具体的には、ラジカル系開始剤、ラジカル重合性化合物、カチオン系開始剤、カチオン重合性化合物、のいずれかを含む光硬化層であり、この発明の目的においてはいずれの光硬化層を用いても構わない。表1に光硬化層組成の実施例を示す。
表1

Figure 2004345350
Specifically, it is a photocurable layer containing any of a radical initiator, a radical polymerizable compound, a cationic initiator, and a cationic polymerizable compound. For the purpose of the present invention, any photocurable layer is used. No problem. Table 1 shows examples of the composition of the photocurable layer.
Table 1
Figure 2004345350

[ラジカル重合開始剤]
ラジカル重合開始剤としては、特公昭59−1281号、特公昭61−9621号、及び特開昭60−60104号等の各公報記載のトリアジン誘導体、特開昭59−1504号及び特開昭61−243807号等の各公報に記載の有機過酸化物、特公昭43−23684号、特公昭44−6413号、特公昭44−6413号及び特公昭47−1604号等の各公報並びに米国特許第3,567,453号明細書に記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,848,328号、同第2,852,379号及び同2,940,853号各明細書に記載の有機アジド化合物、特公昭36−22062号、特公昭37−13109号、特公昭45−9610号等の各公報に記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭55−39162号、特開昭59−14023号等の各公報及び「マクロモレキュルス(Macromolecules)、第10巻、第1307頁(1977年)に記載の各種オニウム化合物、特開昭59−142205号公報に記載のアゾ化合物、特開平1−54440号公報、ヨーロッパ特許第109,851号、ヨーロッパ特許第126,712号等の各明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス」(J.Imag.Sci.)」、第30巻、第174頁(1986年)に記載の金属アレン錯体、特願平4−56831号明細書及び特願平4−89535号明細書に記載の(オキソ)スルホニウム有機ホウ素錯体、特開昭61−151197号公報に記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー(Coordinantion Chemistry Review)」、第84巻、第85〜第277頁)(1988年)及び特開平2−182701号公報に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平3−209477号公報に記載の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭59−107344号公報記載の有機ハロゲン化合物等が挙げられる。これらの重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン不飽和結合を有する化合物100重量部に対して0.01から10重量部の範囲で含有されるのが好ましい。
[Radical polymerization initiator]
Examples of the radical polymerization initiator include triazine derivatives described in JP-B-59-1281, JP-B-61-9621, and JP-A-60-60104, JP-A-59-1504 and JP-A-61-60104. Organic peroxides described in JP-A-243807, JP-B-43-23684, JP-B-44-6413, JP-B-44-6413 and JP-B-47-1604, and U.S. Pat. 3,567,453, diazonium compounds described in U.S. Pat. Nos. 2,848,328, 2,852,379 and 2,940,853, and organic azide compounds described in each of U.S. Pat. Ortho-quinonediazides described in JP-B-36-22062, JP-B-37-13109, JP-B-45-9610, etc .; JP-B-55-39162; Nos. 9-14023 and various onium compounds described in Macromolecules, vol. 10, p. 1307 (1977); azo compounds described in JP-A-59-142205; JP-A-1-54440, European Patent No. 109,851, European Patent No. 126,712, etc., "Journal of Imaging Science" (J. Imag. Sci.), No. 30, Vol., P. 174 (1986), an (oxo) sulfonium organoboron complex described in Japanese Patent Application Nos. 4-56831 and 4-89535, Patent No. 151197, titanocenes, “Coordination Chemistry Review (Coordinant) on Chemistry Review), Vol. 84, pp. 85-277) (1988) and a transition metal complex containing a transition metal such as ruthenium described in JP-A-2-182701, JP-A-3-209777. Examples thereof include 2,4,5-triarylimidazole dimer, carbon tetrabromide, and organic halogen compounds described in JP-A-59-107344 described in the publication. These polymerization initiators are preferably contained in a range of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond.

ラジカル重合性化合物を含有する感光性組成物には、ラジカル重合性モノマーの熱重合開始剤として、一般にラジカル重合による高分子合成反応に用いられる公知のラジカル重合開始剤を特に制限なく含有させることができる。ここで、熱重合開始剤とは、熱エネルギーを与えることにより重合性のラジカルを発生することが可能な化合物である。   The photosensitive composition containing a radical polymerizable compound may contain, as a thermal polymerization initiator for a radical polymerizable monomer, a known radical polymerization initiator generally used for a polymer synthesis reaction by radical polymerization without any particular limitation. it can. Here, the thermal polymerization initiator is a compound capable of generating a polymerizable radical by applying thermal energy.

この様な化合物としては、例えば、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビスプロピオニトリル等のアゾビスニトリル系化合物、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過安息香酸t−ブチル、α−クミルヒドロパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、過酸類、アルキルパーオキシカルバメート類、ニトロソアリールアシルアミン類等の有機過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過塩素酸カリウム等の無機過酸化物、ジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム、アゾビス置換アルカン類、ジアゾチオエーテル類、アリールアゾスルフォン類等のアゾ又はジアゾ系化合物、ニトロソフェニル尿素、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジアリールジスルフィド類、ジベンゾイルジスルフィド、テトラアルキルチウラムジスルフィド類、ジアルキルキサントゲン酸ジスルフィド類、アリールスルフィン酸類、アリールアルキルスルフォン類、1−アルカンスルフィン酸類等を挙げることができる。   Examples of such compounds include azobisnitrile compounds such as 2,2'-azobisisobutyronitrile and 2,2'-azobispropionitrile, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, and acetyl peroxide. T-butyl perbenzoate, α-cumyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, t-butyl peroxyisopropyl carbonate, peracids, alkyl peroxycarbamates, nitrosoaryl acyl Organic peroxides such as amines, inorganic peroxides such as potassium persulfate, ammonium persulfate, potassium perchlorate, diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium, azobis-substituted alkanes, diazothioethers, arylazosulfones, etc. Azo or diazo compounds Nitroso phenylurea, tetramethylthiuram disulfide, diaryl disulfides, dibenzoyl disulfide, tetraalkyl thiuram disulfides, dialkyl xanthate disulfides, aryl sulfinic acids, arylalkyl sulfonic acids, may be mentioned 1-alkanoic sulfinic acids and the like.

これらの中で特に好ましいものは、常温での安定性に優れ、加熱時の分解速度が速く、かつ分解時に無色となる化合物であり、開始剤は、全重合性の組成物中通常0.1〜30重量%が好ましく、0.5〜20重量%の範囲がより好ましい。   Particularly preferred among these are compounds which are excellent in stability at normal temperature, have a high decomposition rate upon heating, and become colorless upon decomposition, and the initiator is usually 0.1% in the total polymerizable composition. -30% by weight is preferable, and the range of 0.5-20% by weight is more preferable.

[ラジカル重合系光硬化層組成物]
ラジカル重合性組成物 ラジカル重合性組成物に含有されるラジカル重合性化合物には、通常の光重合性化合物及び熱重合性化合物が包含される。ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればどの様なものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態をもつものが含まれる。ラジカル重合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用してもよい。
[Radical polymerization type photocurable layer composition]
Radical polymerizable composition The radical polymerizable compound contained in the radical polymerizable composition includes ordinary photopolymerizable compounds and thermopolymerizable compounds. The radically polymerizable compound is a compound having a radically polymerizable ethylenically unsaturated bond, and may be any compound as long as it has at least one radically polymerizable ethylenically unsaturated bond in the molecule. , Oligomers, polymers and the like having a chemical form. Only one radical polymerizable compound may be used, or two or more radical polymerizable compounds may be used in an optional ratio in order to improve desired properties.

ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。具体的には、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス(4−アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン等のメタクリル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、さらに具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、シーエムシー);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)等に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。   Examples of the compound having a radically polymerizable ethylenically unsaturated bond include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid and maleic acid, and salts, esters, urethanes and amides thereof. And anhydrides, acrylonitrile, styrene, and various other radically polymerizable compounds such as unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides, and unsaturated urethanes. Specifically, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, carbitol acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) propane, neopentyl glycol Diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaery Litol tetraacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, oligoester acrylate, N-methylol acrylamide, diacetone acrylamide, acrylic acid derivatives such as epoxy acrylate, methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate , Lauryl methacrylate, allyl methacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, trimethylol Methacryl derivatives such as tantrimethacrylate, trimethylolpropanetrimethacrylate, 2,2-bis (4-methacryloxypolyethoxyphenyl) propane, and derivatives of allyl compounds such as allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, and triallyl trimellitate More specifically, Shinzo Yamashita eds., "Crosslinking Agent Handbook", (1981 Taisei Corporation); Kato Kiyomi, eds., "UV / EB Curing Handbook (Raw Materials)" (1985, Polymer Publishing) Association); Radtec Research Association, "Applications and Markets of UV / EB Curing Technology", 79 pages, (1989, CMC); Eiichiro Takiyama, "Polyester Resin Handbook", (1988, Nikkan Kogyo Shimbun) Etc. or commercially available radical polymerizable or crosslinkable monomers described in the industry , Oligomers and polymers can be used.

この発明の破断伸度が10〜90%の物性を達成するためにウレタンオリゴマー系、カプロラクトン変成アクリル酸エステル類、イソシアヌル酸変性(メタ)アクリレート類、エポキシアクリレート類、グリコール系(メタ)アクリレート類などを採用することが好ましい。上記ラジカル重合性化合物のラジカル重合性組成物中の添加量は好ましくは1〜97重量%であり、より好ましくは30〜95重量%である。   Urethane oligomers, caprolactone-modified acrylates, isocyanuric acid-modified (meth) acrylates, epoxy acrylates, glycol-based (meth) acrylates, etc. in order to achieve the physical properties of the present invention having a breaking elongation of 10 to 90%. It is preferable to employ The amount of the radical polymerizable compound to be added in the radical polymerizable composition is preferably 1 to 97% by weight, more preferably 30 to 95% by weight.

[カチオン系重合開始剤]
カチオン重合開始剤としては、具体的には芳香族オニウム塩を挙げることができる。この芳香族オニウム塩として、周期表第Va族元素の塩たとえばホスホニウム塩(たとえばヘキサフルオロリン酸トリフェニルフェナシルホスホニウムなど)、第VIa族元素の塩たとえばスルホニウム塩(たとえばテトラフルオロホウ酸トリフェニルスルホニウム、ヘキサフルオロリン酸トリフェニルスルホニウム、ヘキサフルオロリン酸トリス(4−チオメトキシフェニル)、スルホニウムおよびヘキシサフルオロアンチモン酸トリフェニルスルホニウムなど)、および第VIIa族元素の塩たとえばヨードニウム塩(たとえば塩化ジフェニルヨードニウムなど)を挙げることができる。
[Cationic polymerization initiator]
Specific examples of the cationic polymerization initiator include an aromatic onium salt. Examples of the aromatic onium salt include salts of elements of Group Va in the periodic table such as phosphonium salts (eg, triphenylphenacylphosphonium hexafluorophosphate) and salts of elements of Group VIa such as sulfonium salts (eg, triphenylsulfonium tetrafluoroborate). , Triphenylsulfonium hexafluorophosphate, tris (4-thiomethoxyphenyl) hexafluorophosphate, triphenylsulfonium sulphonium and hexisafluoroantimonate, and salts of Group VIIa elements such as iodonium salts (eg, diphenyliodonium chloride) Etc.).

このような芳香族オニウム塩をエポキシ化合物の重合におけるカチオン重合開始剤として使用することは、米国特許第4,058,401号、同第4,069,055号、同第4,101,513号および同第4,161,478号公報に詳述されている。   The use of such an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator in the polymerization of epoxy compounds is disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,058,401, 4,069,055 and 4,101,513. And No. 4,161,478.

好ましいカチオン重合開始剤としては、第VIa族元素のスルホニウム塩が挙げられる。その中でも、紫外線硬化性と紫外線硬化性の組成物の貯蔵安定性の観点からすると、ヘキサフルオロアンチモン酸トリアリールスホニウムが好ましい。またフォトポリマーハンドブック(フォトポリマー懇話会編 工業調査会発行 1989年)の39〜56頁に記載の公知の光重合開始剤、特開昭64−13142号、特開平2−4804号に記載されている化合物を任意に用いることが可能である。   Preferred cationic polymerization initiators include sulfonium salts of Group VIa elements. Among them, triarylsulfonium hexafluoroantimonate is preferable from the viewpoint of ultraviolet curability and storage stability of the ultraviolet curable composition. Also, known photopolymerization initiators described in Photopolymer Handbook (published by the Industrial Research Committee of the Photopolymer Society, 1989), pages 39 to 56, described in JP-A-64-13142 and JP-A-2-4804. Can be used arbitrarily.

[カチオン重合系光硬化樹脂]
カチオン重合性化合物 カチオン重合により高分子化の起こるタイプ(主にエポキシタイプ)のエポキシタイプの紫外線硬化性プレポリマー、モノマーは、1分子内にエポキシ基を2個以上含有するプレポリマーを挙げることができる。このようなプレポリマーとしては、例えば、脂環式ポリエポキシド類、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物類およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらのプレポリマーは、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。
[Cation polymerization photocurable resin]
Cationic polymerizable compound Epoxy type ultraviolet curable prepolymer of the type (mainly epoxy type) that polymerizes due to cationic polymerization. Monomers include prepolymers containing two or more epoxy groups in one molecule. it can. Examples of such prepolymers include alicyclic polyepoxides, polyglycidyl esters of polybasic acids, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl ethers of polyoxyalkylene glycol, and polyglycidyl of aromatic polyol. Examples include ethers, hydrogenated compounds of polyglycidyl ethers of aromatic polyols, urethane polyepoxy compounds, epoxidized polybutadienes, and the like. One of these prepolymers can be used alone, or two or more of them can be used as a mixture.

エポキシ基を1分子内に2個以上有するプレポリマーの含有量は70重量%以上であるのが好ましい。カチオン重合性組成物中に含有されるカチオン重合性化合物としては、他に例えば下記の(1)スチレン誘導体、(2)ビニルナフタレン誘導体、(3)ビニルエーテル類及び(4)N−ビニル化合物類を挙げることができる。
(1)スチレン誘導体
例えば、スチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、β−メチルスチレン、p−メチル−β−メチルスチレン、α−メチルスチレン、p−メトキシ−β−メチルスチレン等
(2)ビニルナフタレン誘導体
例えば、1−ビニルナフタレン、α−メチル−1−ビニルナフタレン、β−メチル−1−ビニルナフタレン、4−メチル−1−ビニルナフタレン、4−メトキシ−1−ビニルナフタレン等
(3)ビニルエーテル類
例えば、イソブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、p−メチルフェニルビニルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエーテル、α−メチルフェニルビニルエーテル、β−メチルイソブチルビニルエーテル、β−クロロイソブチルビニルエーテル等
(4)N−ビニル化合物類
例えばN−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン、N−ビニルインドール、N−ビニルピロール、N−ビニルフェノチアジン、N−ビニルアセトアニリド、N−ビニルエチルアセトアミド、N−ビニルスクシンイミド、N−ビニルフタルイミド、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルイミダゾール等。 上記カチオン重合性化合物のカチオン重合性組成物中の含有量は1〜97重量%が好ましくは、より好ましくは30〜95重量%である。
The content of the prepolymer having two or more epoxy groups in one molecule is preferably 70% by weight or more. Other cationic polymerizable compounds contained in the cationic polymerizable composition include, for example, the following (1) styrene derivatives, (2) vinylnaphthalene derivatives, (3) vinyl ethers, and (4) N-vinyl compounds. Can be mentioned.
(1) Styrene derivatives For example, styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, β-methylstyrene, p-methyl-β-methylstyrene, α-methylstyrene, p-methoxy-β-methylstyrene and the like (2) Vinyl naphthalene derivatives, for example, 1-vinyl naphthalene, α-methyl-1-vinyl naphthalene, β-methyl-1-vinyl naphthalene, 4-methyl-1-vinyl naphthalene, 4-methoxy-1-vinyl naphthalene, etc. (3) vinyl ether And the like, for example, isobutyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, p-methylphenyl vinyl ether, p-methoxyphenyl vinyl ether, α-methylphenyl vinyl ether, β-methyl isobutyl vinyl ether, β-chloroisobutyl vinyl ether and the like. Nyl compounds such as N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrolidone, N-vinylindole, N-vinylpyrrole, N-vinylphenothiazine, N-vinylacetanilide, N-vinylethylacetamide, N-vinylsuccinimide, N-vinylphthalimide, N-vinylcaprolactam, N-vinylimidazole and the like. The content of the cationically polymerizable compound in the cationically polymerizable composition is preferably from 1 to 97% by weight, more preferably from 30 to 95% by weight.

[ハイブリット系光硬化型樹脂層]
ハイブリットタイプ(ラジカル重合性タイプとカチオン重合タイプの併用)が用いられる場合は、特開平4−181944号等で組成物が開示されている。具体的には、上記カチオン系開始剤、カチオン重合性化合物、ラジカル系開始剤、ラジカル重合性化合物のいずれかを含めばよく、特に本発明の場合は、カチオン系重合性化合物がビニルエーテル系化合物を用いることが好ましい。
[Hybrid photocurable resin layer]
When a hybrid type (a combination of a radical polymerizable type and a cationic polymerization type) is used, a composition is disclosed in JP-A-4-181944 and the like. Specifically, any of the above-mentioned cationic initiator, cationic polymerizable compound, radical initiator, and radical polymerizable compound may be included, and particularly in the case of the present invention, the cationic polymerizable compound is a vinyl ether compound Preferably, it is used.

[光硬化型樹脂層へのその他添加剤]
増感剤
この発明の感光性組成物は、種々の増感剤と組み合わせた組成物とすることによって、紫外から近赤外領域にかけての光に対する活性を高め、極めて高感度な重合性組成物とすることが可能である。この発明でいう増感剤の具体例としては、カルコン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される1,2−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、スチリル誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノール誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体等が挙げられ、その他さらに具体的には大河原信ら編、「色素ハンドブック」(1986年、講談社)、大河原信ら編、「機能性色素の化学」(1981年、シーエムシー)、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」(1986年、シーエムシー)、特願平7−108045号明細書等に記載の色素および増感剤が挙げられるがこれらに限定されるものではなく、その他、紫外が近赤外域にかけての光に対して吸収を示す色素や増感剤が挙げられ、これらは必要に応じて任意の比率で二種以上用いてもかまわない。
[Other additives to the photocurable resin layer]
Sensitizer The photosensitive composition of the present invention, by forming a composition in combination with various sensitizers, enhances the activity against light in the ultraviolet to near-infrared region, and a highly sensitive polymerizable composition. It is possible to Specific examples of the sensitizer in the present invention include unsaturated ketones such as chalcone derivatives and dibenzalacetone, 1,2-diketone derivatives such as benzyl and camphorquinone, benzoin derivatives, and fluorene. Derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, xanthene derivatives, thioxanthene derivatives, xanthone derivatives, thioxanthone derivatives, coumarin derivatives, ketocoumarin derivatives, cyanine derivatives, styryl derivatives, merocyanine derivatives, polymethine dyes such as oxonol derivatives, acridine derivatives, azine derivatives, thiazines Derivatives, oxazine derivatives, indoline derivatives, azulene derivatives, azurenium derivatives, squarylium derivatives, porphyrin derivatives, tetraphenylporphyrin derivatives, triarylmethane derivatives Body, tetrabenzoporphyrin derivative, tetrapyrazinoporphyrazine derivative, phthalocyanine derivative, tetraazaporphyrazine derivative, tetraquinoxalyloporphyrazine derivative, naphthalocyanine derivative, subphthalocyanine derivative, pyrylium derivative, thiopyrylium derivative, tetrafilin derivative, annulene Derivatives, spiropyran derivatives, spirooxazine derivatives, thiospiropyran derivatives, metal arene complexes, organic ruthenium complexes, and the like. More specifically, edited by Nobuo Okawara et al., “Dye Handbook” (1986, Kodansha), Nobuo Okawara et al. Ed., "Chemistry of Functional Dyes" (CMC, 1981), edited by Chusaburo Ikemori et al., "Special Functional Materials" (CMC, 1986), and the dyes described in Japanese Patent Application No. 7-108045. You And sensitizers include, but are not limited to, dyes and sensitizers that absorb ultraviolet light in the near infrared region, and any of these may be used as necessary. Two or more kinds may be used in a ratio.

重合促進剤、連鎖移動剤等
この発明の感光性組成物には重合促進剤や連鎖移動触媒を添加できる。その具体例としては、例えば、N−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、N,N−ジエチルアニリン等のアミン類、米国特許第4,414,312号や特開昭64−13144号記載のチオール類、特開平2−291561号記載のジスルフィド類、米国特許第3,558,322号や特開昭64−17048号記載のチオン類、特開平2−291560号記載のo−アシルチオヒドロキサメートやN−アルコキシピリジンチオン類が挙げられる。
Polymerization accelerator, chain transfer agent, etc. A polymerization accelerator or a chain transfer catalyst can be added to the photosensitive composition of the present invention. Specific examples thereof include amines such as N-phenylglycine, triethanolamine and N, N-diethylaniline; thiols described in U.S. Pat. No. 4,414,312 and JP-A-64-13144; Disulfides described in JP-A-2-291561, thiones described in U.S. Pat. No. 3,558,322 and JP-A-64-17048, o-acylthiohydroxamates and N -Alkoxypyridinethiones.

重合禁止剤
ラジカル重合性化合物を含有するラジカル重合性組成物中には光硬化性樹脂層中に液保存時の重合を防止する目的で重合禁止剤を含有させることができる。ラジカル重合性組成物に添加可能な熱重合禁止剤の具体例としては、p−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジン等を挙げることができ、これらの熱重合禁止剤は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物100重量部に対して0.001から5重量部の範囲で添加されるのが好ましい。この発明においては光硬化層が経時により徐々に破断伸度が高くなるため、経時によるラジカル発生を抑制するために前記重合禁止剤を用いることは有効な手段である。
Polymerization Inhibitor In the radically polymerizable composition containing the radically polymerizable compound, a polymerization inhibitor can be contained in the photocurable resin layer for the purpose of preventing polymerization during storage of the liquid. Specific examples of the thermal polymerization inhibitor that can be added to the radical polymerizable composition include p-methoxyphenol, hydroquinone, alkyl-substituted hydroquinone, catechol, tert-butylcatechol, phenothiazine, and the like. The agent is preferably added in the range of 0.001 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the radical polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond. In the present invention, since the elongation at break of the photocurable layer gradually increases with time, the use of the polymerization inhibitor is an effective means to suppress the generation of radicals with time.

界面活性剤
また、この発明の画像形成材料の画像形成層中には、特開昭62−251740号、特開平3−208514号等の各号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、或いは特開昭59−121044号、特開平4−13149号等の各号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。
Surfactant In the image forming layer of the image forming material of the present invention, a nonionic surfactant such as those described in JP-A Nos. 62-251740 and 3-208514 is disclosed. Alternatively, an amphoteric surfactant as described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149 and the like can be added.

また、シリコーン油、シリコーン−アルキレンオキシド共重合体(たとえばユニオンカーバイド社から市販されているL−5410)のような界面活性剤、日本ユニカー製のようなシリコーン系活性剤、シリコーン油含有脂肪族エポキシド類、ケイ素含有モノエポキシド等を挙げることができる。東芝シリコーン株式会社1994年発行の「新シリコーンとその応用」、アズマックス株式会社1996年発行の「特殊シリコーン試薬カタログ」等記載されているSi系添加剤を使用することもできる。添加量は0.001〜1重量%が好ましい。   A surfactant such as silicone oil, a silicone-alkylene oxide copolymer (for example, L-5410 commercially available from Union Carbide), a silicone-based activator such as manufactured by Nippon Unicar, and a silicone oil-containing aliphatic epoxide. And silicon-containing monoepoxides. Si-based additives described in Toshiba Silicone Co., Ltd., "New Silicone and Its Application" published in 1994, Asmax Co., Ltd., "Special Silicone Reagent Catalog" published in 1996, etc. can also be used. The addition amount is preferably 0.001 to 1% by weight.

樹脂
他にポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、スチレン、パラメチルスチレン、メタクリル酸エステル、アクリル酸エステル等のビニル単量体やセルロース系、熱可塑性ポリエステル、天然樹脂等、他の任意の高分子重合体を併用してもよい。また、その他、赤松清監修、「新・感光性樹脂の実際技術」、(シーエムシー、1987年)や「10188の化学商品」657〜767頁(化学工業日報社、1988年)記載の業界公知の有機高分子重合体を併用してもよい。 この発明では、隣接する層との密着性を良好にするため不飽和基含有樹脂が好ましく、ラジカルまたは酸により重合可能な基を含むことを特徴としており、不飽和基とはここでは、グリシジル基、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等を表す。具体的には特開2000−258903、特開2001−138674号等の明細書に記載されている樹脂を使用することができる。不飽和基単位を有するモノマーユニットは全バインダー100重量%に対し、0.001〜10重量%、より好ましくは0.001〜5重量%含有する。前記一般式(1)で示される単位の含有量が0.001重量%より低い場合には、不飽和基量低下による硬化層の架橋密度の低下のため耐薬品性劣化、スクラッチ強度の劣化が起きる。10重量%より大きい場合は、バインダー単独での製品安定性が悪く問題である。
Resins Other than polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, novolak resin, vinyl monomer such as styrene, p-methylstyrene, methacrylate, acrylate, cellulose-based, thermoplastic polyester, natural Any other high-molecular polymer such as a resin may be used in combination. In addition, other publicly known in the industry described by Kiyoshi Akamatsu, “Actual Technology of New Photosensitive Resins”, (CMC, 1987) and “Chemical Products of 10188”, pages 657 to 767 (Chemical Industry Daily, 1988). May be used in combination. In the present invention, an unsaturated group-containing resin is preferable in order to improve the adhesion to an adjacent layer, and is characterized by containing a group polymerizable by a radical or an acid. The unsaturated group is a glycidyl group here. , (Meth) acryloyl group, vinyl group and the like. Specifically, resins described in specifications such as JP-A-2000-258903 and JP-A-2001-138677 can be used. The monomer unit having an unsaturated group unit is contained in an amount of 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.001 to 5% by weight, based on 100% by weight of the total binder. When the content of the unit represented by the general formula (1) is lower than 0.001% by weight, the crosslink density of the cured layer decreases due to the decrease in the amount of unsaturated groups, so that the chemical resistance deteriorates and the scratch strength deteriorates. Get up. If it is more than 10% by weight, the product stability of the binder alone is poor, which is a problem.

具体的には構造式1に示すような構造を持つ樹脂を挙げることができる。
構造式1

Figure 2004345350
Specifically, a resin having a structure represented by Structural Formula 1 can be given.
Structural formula 1
Figure 2004345350

感光性組成物中におけるこれら高分子重合体の含有量は、1〜70重量%の範囲が好ましく、5〜50重量%の範囲が更に好ましい。   The content of these high-molecular polymers in the photosensitive composition is preferably in the range of 1 to 70% by weight, and more preferably in the range of 5 to 50% by weight.

塗布溶剤
この発明では、塗布溶剤に制限はなく、塗布溶剤を使用する場合は講談社発行「溶剤ハンドブック」に詳述されている。なお、これらの有機溶剤の使用にあたっては、特に制限はない。
Coating Solvent In the present invention, the coating solvent is not limited, and the case of using the coating solvent is described in detail in "Solvent Handbook" issued by Kodansha. There is no particular limitation on the use of these organic solvents.

この発明の感光性組成物はさらに目的に応じて、染料、有機および無機顔料、ホスフィン、ホスホネート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ防止剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白剤、着色剤、増量剤、可塑剤、難燃剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発砲剤、防カビ剤、磁性体やその他種々の特性を付与する添加剤、希釈溶剤等と混合して使用しても良い。   The photosensitive composition of the present invention may further comprise, depending on the purpose, dyes, organic and inorganic pigments, oxygen removing agents such as phosphine, phosphonate, and phosphite, reducing agents, antifoggants, anti-fading agents, antihalation agents, and fluorescent enhancers. Whitening agents, coloring agents, extenders, plasticizers, flame retardants, antioxidants, ultraviolet absorbers, foaming agents, antifungal agents, magnetic substances and other additives that impart various properties, mixed with diluting solvents, etc. May be used.

この光硬化済硬化層は、3.0〜15g/m2であることが好ましい。特に好ましくは、3.0〜12g/m2、より好ましくは5.0〜12g/m2である。3.0g/m2以下であると転写箔として作成しIDカード上に設けた場合、スクラッチ強度が低下し問題となる。光硬化済層の膜厚15g/m2以上であるとスクラッチ強度は良好であるものの光硬化層樹脂の破断伸度が高いために、箔切れが悪く転写不良を発生してしまう。 This photocured cured layer preferably has a weight of 3.0 to 15 g / m 2 . Particularly preferably, it is 3.0 to 12 g / m 2 , more preferably 5.0 to 12 g / m 2 . If it is less than 3.0 g / m 2, if it is prepared as a transfer foil and provided on an ID card, the scratch strength is reduced, which is problematic. If the thickness of the photo-cured layer is 15 g / m 2 or more, the scratch strength is good, but the resin of the photo-cured layer has a high elongation at break, so that the foil is poorly cut and transfer failure occurs.

前記光硬化層を硬化させる方法としては、転写箔製造時に硬化させる方法、転写箔をカード上に転写した後に露光する方法など様々な方法があるが、いずれの方式を採用してもよい。この発明においては、生産安定性、カード発行装置のメンテナンス性から転写箔製造時に硬化させる方法が好ましい。   As a method for curing the photocurable layer, there are various methods such as a method of curing at the time of production of the transfer foil and a method of exposing the transfer foil after transferring it onto a card, and any method may be adopted. In the present invention, a method of curing during the production of the transfer foil is preferable from the viewpoint of production stability and maintainability of the card issuing device.

活性光線としては、例えば、レーザー、発光ダイオード、キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、水銀灯、高圧水銀灯、無電極光源等をあげることができる。好ましくは、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、水銀灯等の光源が挙げられ、この際加えられるエネルギーは、重合開始剤の種類により、露光距離、時間、強度を調整することにより適時選択して用いることができる。また活性光線は、場合により、窒素置換、減圧下等による方法で空気を遮断し重合速度を向上させてもよい。レーザーを光源として用いる場合には、露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形成が可能となる。レーザー光源としてはアルゴンレーザー、He−Neガスレーザー、YAGレーザー、半導体レーザー等を何れも好適に用いることが可能である。この発明においては、メタルハライドランプ、タングステンランプ、水銀灯、高圧水銀灯が安価であるために好ましい。   Examples of the actinic ray include a laser, a light emitting diode, a xenon flash lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp, a mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, and an electrodeless light source. Preferably, a light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp, and a mercury lamp is used.The energy applied at this time adjusts the exposure distance, time, and intensity according to the type of the polymerization initiator. Thus, it can be selected and used as appropriate. The actinic ray may be optionally blocked with air by nitrogen replacement, under reduced pressure or the like to increase the polymerization rate. When a laser is used as a light source, the exposure area can be easily reduced to a very small size, and a high-resolution image can be formed. As a laser light source, any of an argon laser, a He—Ne gas laser, a YAG laser, a semiconductor laser and the like can be suitably used. In the present invention, a metal halide lamp, a tungsten lamp, a mercury lamp, and a high-pressure mercury lamp are preferable because they are inexpensive.

この発明の光硬化層は、光硬化層単独被膜の破断伸度が、作成後初期破断伸度が10%〜90%及び50℃3日湿度成り行き条件下で保管後における破断伸度が10%〜90%であることが好ましい。従来、特開2000−258903、特開2001−138674号等の明細書には光硬化層単独被膜が破断伸度が、10%〜90%からなる硬化層が開示しているが、転写箔製造後または転写箔形成後のカード経時により曲げ性が悪いことが本研究により判明した。本研究で原因を解明したところ、残存している光重合開始剤等の影響により経時で徐々に破断伸度が低下していくことが主要因であった。そこで、この発明者により、破断伸度向上可能なラジカル重合性化合物を選択すること等により保存後の曲げ性を改善することができることが明らかになった。この発明における保存後曲げとは、転写箔製造後経時、転写箔形成後のカード経時 数年後を想定しているが、この発明では、加速試験検討の結果50℃3日湿度成り行き条件で破断伸度については変動がなくなるためにこれを保存条件として定義した。   The photocurable layer according to the present invention has an initial elongation at break of 10% to 90% after preparation and an elongation at break of 10% after storage at 50 ° C. for 3 days under humidity. It is preferably 90%. Conventionally, JP-A-2000-258903, JP-A-2001-138677, and the like disclose a cured layer in which a single layer of a photocured layer has a breaking elongation of 10% to 90%. This study revealed that the bendability was poor over time after the card was formed after the transfer foil was formed. As a result of elucidating the cause in this study, the main factor was that the elongation at break gradually decreased over time due to the influence of the remaining photopolymerization initiator and the like. Thus, the present inventors have clarified that the bendability after storage can be improved by selecting a radical polymerizable compound capable of improving the elongation at break. The term “bending after storage” in the present invention is based on the assumption that after transfer foil production and after the transfer foil has been formed, the card has passed several years. The elongation was defined as a storage condition because there was no fluctuation.

破断伸度は、保存前後含め10%以下であるとカード曲げ性が劣化してしまうために問題である。また、90%以上であると光硬化層が高破断伸度であるため転写時に光硬化層が切れなくなり、転写に不要な部分が箔から脱箔し、転写不良形態となる。   If the elongation at break is 10% or less including before and after storage, there is a problem because the card bendability deteriorates. On the other hand, when it is 90% or more, the photocurable layer has a high elongation at break, so that the photocurable layer cannot be cut during transfer, and unnecessary portions of the transfer are removed from the foil, resulting in poor transfer.

[破断伸度測定]
樹脂破断伸度(%)は、23℃55%RHの条件下で光硬化後樹脂層を24時間以上放置した後、株式会社オリエンテックテンシロン万能試験機RTA−100を用いデーター処理は、テンシロン多機能型データー処理TYPE MP−100/200S Ver.44を用い測定を行なった。樹脂の固定手段はエアーチャック方式で固定した。引っ張り速度は、5〜100mm/min、RANGEは5〜100%、荷重は0.1〜500kgを選択することができるが、この発明の評価では、試料幅10mm、チャック間距離50mm、引っ張り速度は、10mm/min、RANGEは20%、荷重は100kgの条件で評価を行った。
[Measurement of elongation at break]
Resin elongation at break (%) was measured at 23 ° C. and 55% RH. After photo-curing, the resin layer was allowed to stand for 24 hours or more. Then, using Orientec Tensilon Universal Tester RTA-100, the data processing was performed using Tensilon Multiplicity. Functional type data processing TYPE MP-100 / 200S Ver. 44 was used for the measurement. The resin fixing means was fixed by an air chuck method. The pulling speed can be selected from 5 to 100 mm / min, the RANGE can be selected from 5 to 100%, and the load can be selected from 0.1 to 500 kg. In the evaluation of the present invention, the sample width is 10 mm, the distance between the chucks is 50 mm, and the pulling speed is: The evaluation was performed under the conditions of 10 mm / min, RANGE of 20%, and load of 100 kg.

破断伸度を測定するに当たり、特に単独膜を作成するのは難しいため、帝人社製25μmPETに10μmの光硬化層を形成し、メタルハライドランプにて積算露光量250mjで露光し、所望のサンプルを作成した。破断伸度は、引っ張り時の活性光線硬化樹脂の破断または亀裂が入ったときの破断点伸びから破断伸度を算出した。   In measuring the elongation at break, since it is particularly difficult to prepare a single film, a 10 μm photo-cured layer is formed on 25 μm PET manufactured by Teijin Limited and exposed with a metal halide lamp at an integrated exposure dose of 250 mj to produce a desired sample. did. The elongation at break was calculated from the elongation at break when the actinic radiation-curable resin was broken or cracked during stretching.

この発明ではIDカード基材との接着力の向上をするために接着層を設けているが、光硬化層との密着性、層間密着性及び塗布性から、前記記載の光硬化層、離型層以外にプライマー層、バリヤー層、中間層、紫外線吸収層、光学変化素子層等を付与してもよく、前記光硬化層、離型層の他に転写箔の最外層に接着層が設けていれば特に制限はない。   In the present invention, the adhesive layer is provided to improve the adhesive force with the ID card base material. However, from the viewpoint of the adhesiveness with the photocurable layer, the interlayer adhesiveness, and the applicability, the photocurable layer described above, In addition to the layer, a primer layer, a barrier layer, an intermediate layer, an ultraviolet absorbing layer, an optical change element layer, and the like may be provided.In addition to the photocurable layer and the release layer, an adhesive layer is provided on the outermost layer of the transfer foil. There is no particular limitation if it is.

この発明では、カードの転写性の観点からプライマー層、バリヤー層、中間層のいずれか一つ以上があることが好ましい。プライマー層とは層間密着力、IDカードとの密着性を上げるために用いる層のことを表す。バリヤー層とは各層を積層する際に、積層するときに塗布性などを良化させる層のことを表す。中間層とは各層を積層する際に、積層するときに塗布性などを良化させる層であると共に層間密着を向上させるのことを表す。ホログラム層、光学変化素子層とは偽変造防止を必要とする場合設けることが可能な層であり、必要な場合設けることができる。   In the present invention, it is preferable that at least one of a primer layer, a barrier layer, and an intermediate layer is provided from the viewpoint of transferability of the card. The primer layer refers to a layer used for improving interlayer adhesion and adhesion to an ID card. The barrier layer refers to a layer that improves applicability and the like when laminating each layer. The intermediate layer is a layer that improves the applicability and the like when the respective layers are laminated, and also indicates that the interlayer adhesion is improved. The hologram layer and the optical change element layer are layers that can be provided when it is necessary to prevent forgery and falsification, and can be provided when necessary.

プライマー層、バリヤー層、中間層に用いられる材料としては、例えば塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、セルロース系樹脂、スチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、尿素系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、SEBS樹脂、SEPS樹脂等の熱可塑性エラストマーおよびそれらの変性物などを用いることができる。   Materials used for the primer layer, the barrier layer, and the intermediate layer include, for example, a vinyl chloride resin, a polyester resin, an acrylic resin, a polyvinyl acetal resin, a polyvinyl butyral resin, a polyvinyl alcohol, a polycarbonate, a cellulose resin, and a styrene resin. Thermoplastic elastomers such as resin, urethane-based resin, amide-based resin, urea-based resin, epoxy resin, phenoxy resin, polycaprolactone resin, polyacrylonitrile resin, SEBS resin, and SEPS resin, and modified products thereof can be used.

上述した樹脂の中でも、この発明の目的に好ましいのは、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、SEBS樹脂、SEPS樹脂である。これらの樹脂は一種を単独に用いることもできるし、二種以上を組み合わせて用いることもできる。   Among the above-mentioned resins, preferred for the purpose of the present invention are vinyl chloride resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl butyral resin, styrene resin, epoxy resin, urethane resin, urethane acrylate resin, SEBS resin. , SEPS resin. These resins can be used alone or in a combination of two or more.

具体的な化合物としては、ポリスチレンとポリオレフィンのブロックポリマーからなる熱可塑性樹脂、ポリビニルブチラール等が好ましい。この発明の中間層において、重合度が1000以上のポリビニルブチラール樹脂としては積水化学工業(株)製のエスレックBL−S、BH−3、BX−1、BX−2、BX−5、BX−55、BH−S、電気化学工業(株)製のデンカブチラール#4000−2、#5000−A、#6000−EP等が市販されている。中間層のポリブチラールの熱硬化樹脂としては熱硬化前の重合度に限定はなく低重合度の樹脂でもよく、熱硬化にはイソシアネート硬化剤やエポキシ硬化剤等を用いることができ、熱硬化条件は50〜90℃で1〜48時間が好ましい。プライマー層、バリヤー層、中間層の厚みは0.1〜3.0μmが好ましい。より好ましくは0.1〜2.5μmである。また、後述記載の紫外線吸収剤又は酸化防止剤、光安定化剤等の添加剤を含有してもよい。紫外線吸収剤又は酸化防止剤、光安定化剤等のを添加する場合は、添加層のバインダー樹脂に対して0.05〜20重量%でることが好ましく、更に好ましくは0.05〜10%であることが好ましい。添加量を20%以上にしてしまうとバインダーの効果が著しく低下し各層の機能が劣化してしまう。0.05%以下であると上記添加剤が機能しなくなる。   As a specific compound, a thermoplastic resin composed of a block polymer of polystyrene and polyolefin, polyvinyl butyral, and the like are preferable. In the intermediate layer of the present invention, as a polyvinyl butyral resin having a degree of polymerization of 1000 or more, S-Lek BL-S, BH-3, BX-1, BX-2, BX-5, and BX-55 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. , BH-S, Denka Butyral # 4000-2, # 5000-A, # 6000-EP and the like manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK are commercially available. The thermosetting resin of the polybutyral in the intermediate layer is not limited to the degree of polymerization before the thermosetting, and may be a resin having a low degree of polymerization.The thermosetting can be performed using an isocyanate curing agent or an epoxy curing agent. Is preferably at 50 to 90 ° C. for 1 to 48 hours. The thickness of the primer layer, the barrier layer, and the intermediate layer is preferably from 0.1 to 3.0 μm. More preferably, it is 0.1 to 2.5 μm. Further, additives such as an ultraviolet absorber, an antioxidant, and a light stabilizer described below may be contained. When an ultraviolet absorber, an antioxidant, a light stabilizer or the like is added, the content is preferably 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight, based on the binder resin of the added layer. Preferably, there is. If the addition amount is 20% or more, the effect of the binder is significantly reduced, and the function of each layer is deteriorated. When the content is less than 0.05%, the above additive does not function.

紫外線吸収剤としては、色素画像の紫外線吸収用として機能し、かつ熱転写が可能であればよく、例えば特開昭59−158287号、同63−74686号、同63−145089号、同59−196292号、同63−122596号、同61−283595号、特開平1−204788号等の各公報に記載の化合物、及び写真その他の画像記録材料における画像耐久性を改善するものとして公知の化合物を使用することができる。   The ultraviolet absorber may be any as long as it functions as an ultraviolet absorber for dye images and is capable of thermal transfer. For example, JP-A-59-158287, JP-A-63-74686, JP-A-63-145089, and JP-A-59-196292. Nos. 63-122596, 61-283595, and JP-A-1-204788, and compounds known to improve image durability in photographs and other image recording materials. can do.

具体的にはサリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系のものが挙げられ、例えばTinuvin P、Tinuvin123、234、320、326、327、328、312、315、384、400(チバガイギー社製)、Sumisorb−110、130、140、200、250、300、320、340、350、400(住友化学工業(株)製)、MarkLa−32、36、1413(アデカア−ガス化学(株)製)等の商品名のものが使用できる。   Specific examples thereof include those based on salicylic acid, benzophenone, benzotriazole, and cyanoacrylate. For example, Tinuvin P, Tinuvin 123, 234, 320, 326, 327, 328, 312, 315, 384, 400 (manufactured by Ciba Geigy) ), Sumisorb-110, 130, 140, 200, 250, 300, 320, 340, 350, 400 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), MarkLa-32, 36, 1413 (manufactured by Adeka Gas Chemical Co., Ltd.) Etc. can be used.

また、ベンゾフェノン誘導体等を側鎖に持つペンダントポリマーも好ましく用いられる。また、紫外線領域に吸収を持つ無機微粒子、超微粒子金属酸化物粉末分散剤等も使用することができる。無機微粒子としては酸化チタン、酸化亜鉛、ケイ素化合物等が挙げられる。超微粒子金属酸化物粉末分散剤としては、超微粒子酸化亜鉛粉末、超微粒子酸化チタン粉末、等を水またはアルコール混合液または各種油性分散媒体と、界面活性剤や水溶性高分子や溶剤可溶性高分子等の分散剤を用いて作られたものが挙げられる。   Pendant polymers having a benzophenone derivative or the like in the side chain are also preferably used. In addition, inorganic fine particles having absorption in the ultraviolet region, ultrafine metal oxide powder dispersants, and the like can also be used. Examples of the inorganic fine particles include titanium oxide, zinc oxide, and a silicon compound. As ultrafine metal oxide powder dispersants, ultrafine zinc oxide powder, ultrafine titanium oxide powder, etc. are mixed with water or an alcohol mixture or various oily dispersion media, and a surfactant, a water-soluble polymer or a solvent-soluble polymer. And the like using a dispersant such as

酸化防止剤としては、特開昭59−182785号、同60−130735号、特開平1−127387号等の各公報に記載の酸化防止剤、及び写真その他の画像記録材料における画像耐久性を改善するものとして公知の化合物を挙げることができる。具体的にはフェノール系、モノフェノール系、ビスフェノール系、アミン系等の一次酸化防止剤、或いは硫黄系、リン系等の二次酸化防止剤が挙げられ、例えばSumilizerBBM−S、BHT、BP−76、MDP−S、GM、WX−R、BP−179、GA、TPM、TP−D、TNP(住友化学工業(株)製)、Irganox−245、259、565、1010、1035、1076、1081、1098、3114(チバガイギー社製)、MarkAQ−20、AO−30、AO−40(アデカアーガス化学(株)製)等の商品名のものが使用できる。   Examples of the antioxidant include antioxidants described in JP-A-59-182785, JP-A-60-130735, JP-A-1-127287, and the like, and improve image durability in photographs and other image recording materials. Known compounds can be mentioned as examples. Specific examples include phenol-based, monophenol-based, bisphenol-based and amine-based primary antioxidants, and sulfur-based and phosphorus-based secondary antioxidants. Examples thereof include Sumilizer BBM-S, BHT, and BP-76. , MDP-S, GM, WX-R, BP-179, GA, TPM, TP-D, TNP (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Irganox-245, 259, 565, 1010, 1035, 1076, 1081, Products having trade names such as 1098, 3114 (manufactured by Ciba Geigy), MarkAQ-20, AO-30, and AO-40 (manufactured by Adeka Argus Chemical Co., Ltd.) can be used.

光安定化剤としては、特開昭59−158287号、同63−74686号、同63−145089号、同59−196292号、同63−122596号、同61−283595号、特開平1−204788号等の各公報に記載の化合物、及び写真その他の画像記録材料における画像耐久性を改善するものとして公知の化合物を挙げることができる。具体的にはヒンダードアミン系等が挙げられ、例えばTinuvin622LD、144、Chimassob 944 LD(チバガイギー社製)、サノール LS−770、LS−765、LS−292、LS−2626、LS−114、LS−774(三共(株)製)、Mark LA−62、LA−67、LA−63、LA−68、LA−82、LA−87(アデカアーガス化学(株)製)等の商品名のものが使用できる。   Examples of the light stabilizer include JP-A-59-158287, JP-A-63-74686, JP-A-63-145089, JP-A-59-196292, JP-A-63-122596, JP-A-61-283595, and JP-A-1-204788. And compounds known to improve the image durability of photographs and other image recording materials. Specific examples include hindered amines and the like. For example, Tinuvin 622LD, 144, Chimassob 944 LD (manufactured by Ciba Geigy), Sanol LS-770, LS-765, LS-292, LS-2626, LS-114, LS-774 ( Products having trade names such as Sankyo Co., Ltd. and Mark LA-62, LA-67, LA-63, LA-68, LA-82, LA-87 (manufactured by Adeka Argas Chemical Co., Ltd.) can be used.

転写箔の接着層としては、熱貼着性樹脂としてエチレン酢酸ビニル樹脂、エチンエチルアクリレート樹脂、エチレンアクリル酸樹脂、アイオノマー樹脂、ポリブタジエン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂、ウレタン樹脂、粘着付与剤(例えばフェノール樹脂、ロジン樹脂、テルペン樹脂、石油樹脂など)などが挙げられそれらの共重合体や混合物でもよい。   As the adhesive layer of the transfer foil, ethylene vinyl acetate resin, ethyne ethyl acrylate resin, ethylene acrylic acid resin, ionomer resin, polybutadiene resin, acrylic resin, polystyrene resin, polyester resin, olefin resin, urethane resin as a heat-adhesive resin, Tackifiers (for example, phenolic resin, rosin resin, terpene resin, petroleum resin, etc.) and the like, and copolymers or mixtures thereof may be used.

具体的には、ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体としては東邦化学工業(株)製のハイテックS−6254、S−6254B、S−3129等が市販され、ポリアクリル酸エステル共重合体としては日本純薬(株)製のジュリマーAT−210、AT−510、AT−613、互応化学工業(株)製のプラスサイズL−201、SR−102、SR−103、J−4等が市販されている。ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体とポリアクリル酸エステル共重合体の重量比は9:1から2:8が好ましく、接着層の厚みは0.1〜1.0μmが好ましい。   Specifically, as a urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer, Hitec S-6254, S-6254B, S-3129 and the like manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd. are commercially available, and as a polyacrylate copolymer, Japan is used. Julimer AT-210, AT-510, AT-613 manufactured by Junyaku Co., Ltd., plus size L-201, SR-102, SR-103, J-4 manufactured by Kyogo Chemical Co., Ltd. are commercially available. I have. The weight ratio of the urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer to the polyacrylate copolymer is preferably from 9: 1 to 2: 8, and the thickness of the adhesive layer is preferably from 0.1 to 1.0 μm.

偽変造防止の目的で光学変化素子層設けることが可能である。光学変化素子(Optical Variable Device:OVD)とは、1)キネグラムのような回析格子の2次元のCG画像であり、線画像構成の画像が移動、回転、膨張、縮小等自由に動き変化する点に特徴があるもの、2)Pixelgramのような画像がポジとネガに変化する特徴があるようなもの、3)OSD(Optical Security Device)のような色が金色から緑色に変化するもの、4)LEAD(Long Lasting Economical Anticopy Device)のような像画が変化して見えるもの、5)ストライブ型OVD、6)金属箔等を表し、日本印刷学会誌(1998年)第35巻第6号P482〜P496記載に有るような用紙の素材、特殊な印刷技法、特殊インキ等でセキュリティを維持してもよい。この発明においては、ホログラムがとくに好ましい。   An optical change element layer can be provided for the purpose of preventing forgery and falsification. An optical variable device (OVD) is 1) a two-dimensional CG image of a diffraction grating such as a kinegram, in which an image having a line image structure moves freely, such as moving, rotating, expanding, and reducing. 2) Pixels such as Pixelgram that change positively and negatively 3) Colors such as OSD (Optical Security Device) change from gold to green 4 ) An image such as LEAD (Long Lasting Economical Antibody Device) that looks and changes, 5) a stripe type OVD, 6) a metal foil, etc., which is the 35th issue of the Printing Society of Japan (1998) Vol. Paper materials, special printing techniques, and special printing techniques as described on pages 482 to 496 Security may be maintained with a key or the like. In the present invention, a hologram is particularly preferred.

ホログラムを用いる場合例えば、レリーフホログラム、フレネルホログラム、フラウンホーファーホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザー再生ホログラム、リップマンホログラム、レインボーホログラム等の白色再生ホログラム、カラーホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチフレックスホログラム、ホログラムフレックステレオグラム、ホログラフィック回折格子等任意に採用できる。   When a hologram is used, for example, a relief hologram, a Fresnel hologram, a Fraunhofer hologram, a lensless Fourier transform hologram, a laser reproduction hologram such as an image hologram, a Lipogram hologram, a white reproduction hologram such as a rainbow hologram, a color hologram, a computer hologram, a hologram display, Multiflex holograms, hologram flex stereograms, holographic diffraction gratings, etc. can be arbitrarily adopted.

この発明においては、光硬化層の23℃における破断伸度が10〜90%及び50℃3日保管後における破断伸度が10〜90%である特定光硬化層を有する転写箔において、転写媒体(IDカード)と加熱圧着で転写し、剥離する際支持体と転写層の剥離力が重要であることを研究の結果明らかになった。   In the present invention, in a transfer foil having a specific light-cured layer in which the photocurable layer has a breaking elongation at 23 ° C. of 10 to 90% and a breaking elongation after storage at 50 ° C. for 3 days of 10 to 90%, the transfer medium The research has revealed that the peeling force between the support and the transfer layer is important when transferring and peeling off (ID card) and heat and pressure.

この発明では、平均剥離力と初期破断剥離力と称す。初期破断剥離力とは箔から転写層が破断しながら剥離する力を表す。平均剥離力とは、初期破断後の支持体から転写層が剥離する平均値を表す。   In the present invention, these are referred to as an average peel force and an initial break peel force. The initial rupture force refers to a force at which the transfer layer peels from the foil while breaking. The average peeling force represents an average value at which the transfer layer peels from the support after the initial breakage.

図3に示すように、加熱圧着により画像記録体15に転写箔16を転写し、剥離ロール17によって剥離する際は温度が上昇するため、図4(a)の転写不要部、図4(b)の転写箔未転写部のように、箔切れが悪くなり、且つ剥離力が上昇するため調整が必要である。   As shown in FIG. 3, when the transfer foil 16 is transferred to the image recording body 15 by heating and pressing, and the temperature is increased when the transfer foil 16 is peeled off by the peeling roll 17, the transfer unnecessary portion shown in FIG. As in the non-transferred portion of the transfer foil of (1), the cutting of the foil becomes worse and the peeling force increases, so that adjustment is necessary.

破断伸度が10〜90%の光硬化層樹脂の切れを良くするためには、転写箔の30℃における支持体と転写層の平均剥離力が、90゜剥離角度で3.5〜25g/cmであることを特徴とする転写箔であることが好ましい。また、転写箔の30℃における支持体と転写層の初期破断剥離力が、90゜剥離角度で15〜150g/cmであることが好ましい。   In order to improve the breakage of the photocurable layer resin having a breaking elongation of 10 to 90%, the average peeling force between the support and the transfer layer at 30 ° C. of the transfer foil is 3.5 to 25 g / 90 ° at a peeling angle. cm is preferable. Further, it is preferable that the initial breaking peel force of the transfer layer at 30 ° C. of the transfer foil be 15 to 150 g / cm at a peel angle of 90 °.

好ましくは、前記平均剥離力と初期破断剥離力のいずれかを満たしていれば良く、好ましくは上記平均剥離力と初期破断剥離力とを満たしていることが好ましい。平均剥離力が3.5g/cm以下であると光硬化層の伸度が高いため箔切れが悪く転写不良となった。また25g/cm以上であると、転写時に剥離をせずに未転写のIDカードが作製されてしまった。平均剥離力は好ましくは3.5g/cm〜20g/cmが好ましい。初期剥離力は20g/cm〜150g/cmが好ましい。初期剥離力が15g/cm以下であると光硬化層の切れが悪く転写不良となった。また、150g/cm以上であると初期剥離力の重さからカードに未転写部分が発生し問題となった。   Preferably, any one of the average peeling force and the initial breaking peeling force may be satisfied, and it is preferable that the average peeling force and the initial breaking peeling force are satisfied. When the average peeling force is 3.5 g / cm or less, the elongation of the photocurable layer is high, so that the foil breakage is poor and transfer failure occurs. If it is 25 g / cm or more, an untransferred ID card is produced without peeling during transfer. The average peel force is preferably from 3.5 g / cm to 20 g / cm. The initial peeling force is preferably from 20 g / cm to 150 g / cm. When the initial peeling force was 15 g / cm or less, the photocurable layer was poorly cut, resulting in poor transfer. On the other hand, if it is 150 g / cm or more, an untransferred portion is generated on the card due to the weight of the initial peeling force, causing a problem.

[剥離力測定方法]
図5に示すように、23℃における破断伸度が10〜90%及び50℃3日保管後における破断伸度が10〜90%である特定光硬化層を有する転写箔11を63.5mm幅に成形し、30℃に温調されるホットステージ12に転写層表面13をホットステージ側に向け両面テープダブルフェイスDF−8320(東洋インキ(株)製)を用いホットステージ12と63.5mm幅の転写箔転写面とを貼り合わせ、円柱型剥離部材14を用いて90゜の剥離角度θで、剥離スピード30mm/sec条件下で、RHEO METER(不動工業製)MODE ASSIIを用いて測定した。
[Peeling force measurement method]
As shown in FIG. 5, the transfer foil 11 having the specific light-cured layer having a breaking elongation at 23 ° C. of 10 to 90% and a breaking elongation after storage at 50 ° C. for 3 days of 10 to 90% has a width of 63.5 mm. The transfer layer surface 13 is directed to the hot stage 12 at a temperature of 30 ° C., and the hot stage 12 is 63.5 mm wide using a double-faced tape double face DF-8320 (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.). Was measured using a RHEO METER (manufactured by Fudo Kogyo) MODE ASSII at a peeling angle θ of 90 ° using a cylindrical peeling member 14 at a peeling speed of 30 mm / sec.

剥離力は、図6に示すような挙動を示すが、平均剥離力は、初期に箔と支持体間を剥離しその後の90゜で剥離し平均値を求めた。   The peeling force shows the behavior as shown in FIG. 6. The average peeling force was determined by peeling the foil and the support at an initial stage and then peeling at 90 ° thereafter.

初期に箔と支持体間を剥離する力、初期剥離力は初期破断に必要な力であり、上記測定法により算出した。   The initial peeling force between the foil and the support and the initial peeling force are the forces required for the initial rupture, and were calculated by the above measurement method.

<IDカードまたはICカード転写方法>
転写箔の被転写材への転写は通常サーマルヘッド、ヒートローラー、ホットスタンプマシンなどの加熱しながら加圧を行える手段を用い転写を行うことができる。具体的にはホットスタンプマシーンを使用する場合、表面温度150〜300℃に加熱し、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用いて圧力50〜500kg/cm2で0.5〜10秒間熱をかけて転写を行なうことができる。
<Transfer method of ID card or IC card>
The transfer of the transfer foil to the material to be transferred can be usually performed by means such as a thermal head, a heat roller, a hot stamping machine or the like which can apply pressure while heating. Specifically, when using a hot stamping machine, heat to a surface temperature of 150 to 300 ° C. and apply heat at a pressure of 50 to 500 kg / cm 2 for 0.5 to 10 seconds using a heat roller having a diameter of 5 cm and a rubber hardness of 85. Transfer can be performed.

この発明の具体的な使用例として転写用カートリッジを図7に示し、ホットスタンプ装置を図8に示す。   FIG. 7 shows a transfer cartridge as a specific example of use of the present invention, and FIG. 8 shows a hot stamping device.

『熱転写シート用のカートリッジ400』
図7は転写用カートリッジ400の構成例を示す斜視図である。この例では、転写用カートリッジ400の所定位置に剥離用の棒状体201を取り付け、転写箔コア202から繰り出された熱転写シート200からカード基板203の外形状を成す大きさの硬化型保護部材を剥離するようにして、この転写時に、カード基板203の外形状の大きさに見合う分の硬化型保護部材のみを熱転写シート200から剥離できるようにすると共に、硬化型保護層の外周端部でのバリの発生を低減できるようにしたものである。
"Cartridge 400 for thermal transfer sheet"
FIG. 7 is a perspective view illustrating a configuration example of the transfer cartridge 400. In this example, a peeling rod 201 is attached to a predetermined position of the transfer cartridge 400, and a hardening type protection member having the outer shape of the card substrate 203 is peeled from the thermal transfer sheet 200 fed from the transfer foil core 202. In this way, at the time of this transfer, only the curable protective member corresponding to the size of the outer shape of the card substrate 203 can be peeled off from the thermal transfer sheet 200, and the burr at the outer peripheral end of the curable protective layer can be removed. Is to be reduced.

『ホットスタンプ装置500』
図8はホットスタンプ装置500の構成例を示す概念図である。この例ではホットスタンプ装置500に対して転写用カートリッジ400が脱着自在に取り付けられる。ホットスタンプ装置500に転写用カートリッジ400を装填した状態を示し、熱ローラ装置204で転写箔コア202から繰り出された熱転写シート200からカード基板203へ転写する。
"Hot stamping device 500"
FIG. 8 is a conceptual diagram illustrating a configuration example of the hot stamping device 500. In this example, the transfer cartridge 400 is detachably attached to the hot stamping device 500. This shows a state in which the transfer cartridge 400 is loaded in the hot stamping device 500, and the thermal roller device 204 transfers the thermal transfer sheet 200 fed from the transfer foil core 202 to the card substrate 203.

この例では硬化型保護部材が当接されたカード基板203が剥離用の棒状体201によって剥離終了直前にホームポジション状態にあるステージ上にそのカード基板203の終端部が到達されることを前提とする。   In this example, it is assumed that the end portion of the card substrate 203 to which the curable protective member has come in contact with the stage in the home position just before the end of the peeling is reached by the bar 201 for peeling. I do.

この発明においては、カードへの転写方法、カードからの転写箔剥離方法は特に制限がなく、特開2001−063294、特開2001−1672、特開2001−1674等の装置を使用することができる。   In the present invention, the method of transferring to a card and the method of peeling a transfer foil from a card are not particularly limited, and apparatuses such as JP-A-2001-063294, JP-A-2001-1672, and JP-A-2001-1674 can be used. .

この発明では、転写箔の転写は少なくとも1回以上転写することが好ましく、スクラッチ強度を向上させるためには複数使用することが好ましい。   In the present invention, it is preferable to transfer the transfer foil at least once or more, and it is preferable to use a plurality of transfer foils in order to improve the scratch strength.

[画像記録体]
<画像記録体の定義>
この発明のIDカードとは、IDカード基材を用い画像要素が設けられ、顔画像等の認証識別画像、属性情報画像、フォーマット印刷から選ばれる少なくとも一つが設けられたIDカードのことを表す。
[Image recording medium]
<Definition of image recording medium>
The ID card according to the present invention represents an ID card provided with an image element using an ID card base material and at least one selected from an authentication identification image such as a face image, an attribute information image, and format printing.

このようなIDカードとして、例えば第1のシート材と第2のシート材が接着剤を介して貼り合わされ、その接着剤層中にICチップおよびアンテナを有するICモジュール(電子部品)を封入するもの(いわゆるICカード)も含まれ、この発明では特に限定はない。   As such an ID card, for example, a first sheet material and a second sheet material are bonded via an adhesive, and an IC module (electronic component) having an IC chip and an antenna is sealed in the adhesive layer. (A so-called IC card) is also included, and is not particularly limited in the present invention.

以下に、この発明の詳細な内容について説明する。   Hereinafter, the details of the present invention will be described.

<支持体>
支持体としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート/イソフタレート共重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ化エチレン、エチレン−4フッ化エチレン共重合体、等のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン6.6等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビニロン等のビニル重合体、生分解性脂肪族ポリエステル、生分解性ポリカーボネート、生分解性ポリ乳酸、生分解性ポリビニルアルコール、生分解性セルロースアセテート、生分解性ポリカプロラクトン等の生分解性樹脂、三酢酸セルロース、セロファン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら2層以上の積層体が挙げられる。
<Support>
As the support, for example, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate / isophthalate copolymer, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polymethylpentene, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, and poly4-fluoroethylene Polyethylene resins such as ethylene fluoride, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer, etc., polyamides such as nylon 6, nylon 6.6, polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer Polymer, ethylene / vinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol, vinyl polymer such as vinylon, biodegradable aliphatic polyester, biodegradable polycarbonate, biodegradable polylactic acid, biodegradable polyvinyl alcohol, biodegradable Biodegradable resins such as cellulose acetate, biodegradable polycaprolactone, cellulose resins such as cellulose triacetate, cellophane, polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, polyethyl acrylate, polybutyl acrylate, etc. Synthetic resin sheet such as acrylic resin, polystyrene, polycarbonate, polyarylate, polyimide, etc., or paper such as high-quality paper, thin paper, glassine paper, parchment paper, etc., a single layer such as metal foil, or a laminate of two or more of these Can be

この発明の支持体の厚みは、50〜800μm望ましくは75〜800μmである。この発明では、支持体中に蛍光物質を含有させることができる。また、支持体中には後の工程で形成される画像の鮮明性を高めるために、予め白色顔料たとえばチタンホワイト、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレー、炭酸カルシウム等が添加されているのが好ましい。   The thickness of the support of the present invention is 50 to 800 μm, preferably 75 to 800 μm. In the present invention, the support can contain a fluorescent substance. In addition, a white pigment such as titanium white, magnesium carbonate, zinc oxide, barium sulfate, silica, talc, clay, calcium carbonate, or the like is added in advance to the support in order to enhance the sharpness of an image formed in a later step. It is preferred that

IDカード基材または電子部品搭載IDカード基材は、第1シート部材または第2シート部材は同一または配向角を合わしても良く、場合によっては異なる基材または厚さの異なる支持体を複数積層し、貼り合わせ等により構成されたカードを作成しても良い。複数の支持体を貼り合わせる場合配向角で揃え、カール性、そり性を低減させる工夫もできる。   In the ID card substrate or the electronic component-mounted ID card substrate, the first sheet member or the second sheet member may have the same or the same orientation angle, and in some cases, a plurality of different substrates or a plurality of supports having different thicknesses are laminated. Alternatively, a card constituted by bonding or the like may be created. In the case where a plurality of supports are bonded together, it is possible to align them at an orientation angle to reduce curl and warpage.

また、支持体上に、易接化処理を施してもよく、カップリング剤、ラテックス、親水性樹脂、帯電防止樹脂などの樹脂層より形成される。場合により支持体をコロナ処理、プラズマ処理等の易接処理を施しても良い。   The support may be subjected to a treatment for facilitating contact, and is formed of a resin layer such as a coupling agent, a latex, a hydrophilic resin, or an antistatic resin. In some cases, the support may be subjected to easy contacting treatment such as corona treatment or plasma treatment.

この発明の場合、好ましくはカード基材上に帯電防止処理がされていることが好ましい。カード基材に帯電防止剤が積層されることによって、カード上にゴミ付着が低減する。又、2枚以上の転写箔を転写する場合、2枚目の転写箔を転写する場合にカードの帯電防止機能は、カード上にゴミ付着が低減することができる。   In the case of the present invention, it is preferable that an antistatic treatment is preferably performed on the card base material. By laminating the antistatic agent on the card base material, dust adhesion on the card is reduced. In addition, when transferring two or more transfer foils, the antistatic function of the card when transferring the second transfer foil can reduce dust adhesion on the card.

前記支持体には必要に応じてエンボス、サイン、ICメモリ、光メモリ、磁気記録層、偽変造防止層、ICチップ、赤外吸収層等の層及び部品を介在することができる。本発明におけるIDカードの下位概念であるICカードを作成する場合上記記載の支持体を公知技術によってICカード基材を作成することができる。支持体は単層構造を有していてもよいし、多層構造を有していてもよい。多層構造にした場合、特開平5−116242記載のような支持体の配向性を合わすことが好ましい。   If necessary, layers and components such as an emboss, a sign, an IC memory, an optical memory, a magnetic recording layer, a forgery / alteration prevention layer, an IC chip, and an infrared absorption layer can be interposed on the support. When producing an IC card, which is a subordinate concept of the ID card in the present invention, an IC card substrate can be produced from the above-described support by a known technique. The support may have a single-layer structure or a multilayer structure. In the case of a multi-layer structure, it is preferable to match the orientation of the support as described in JP-A-5-116242.

当該カード利用者の顔画像を形成するため受像層、クッション層を設けてもよい。また、裏面に筆記性を持たせるため筆記層を設けてもよい。   An image receiving layer and a cushion layer may be provided to form a face image of the card user. In addition, a writing layer may be provided on the back surface in order to provide writing properties.

<受像層>
前記支持体の表面に形成する受像層は、バインダーと各種の添加剤で形成することができる。
<Image receiving layer>
The image receiving layer formed on the surface of the support can be formed with a binder and various additives.

この発明における受像層は、昇華型熱転写方式により階調情報含有画像を形成すると共に、昇華型熱転写方式または溶融型熱転写方式により文字情報含有画像を形成するので、昇華性色素の染着性、または昇華性色素の染着性とともに熱溶融性インクの接着性も良好でなければならない。かかる特別な性質を受像層に付与するには、後述するように、バインダー、および各種の添加剤の種類およびそれらの配合量を適宜に調整することが必要である。   The image receiving layer in the present invention forms a gradation information-containing image by a sublimation-type thermal transfer system, and forms a character information-containing image by a sublimation-type thermal transfer system or a fusion-type thermal transfer system. The adhesiveness of the hot-melt ink as well as the dyeability of the sublimable dye must be good. In order to impart such special properties to the image receiving layer, it is necessary to appropriately adjust the types of the binder and the various additives and the amounts thereof as described below.

以下、受像層を形成する成分について詳述する。   Hereinafter, the components forming the image receiving layer will be described in detail.

この発明における受像層用のバインダーは、通常に知られている昇華型感熱転写記録受像層用のバインダーを適宜に用いることができる。主なバインダーとしては、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、スチレンアクリル樹脂などさまざまのバインダーを使用することができる。   As the binder for the image receiving layer in the present invention, a commonly known binder for a sublimation type thermal transfer recording image receiving layer can be appropriately used. As the main binder, various binders such as a vinyl chloride resin, a polyester resin, a polycarbonate resin, an acrylic resin, a polystyrene resin, a polyvinyl acetal resin, a polyvinyl butyral resin, and a styrene acrylic resin can be used. .

ただし、この発明によって形成される画像につき、実際的要求(たとえば発行されるIDカードに所定の耐熱性が要求されるなど)が存在するのであれば、そのような要求項目を満たすようにバインダーの種類あるいは組み合わせを考慮することが必要になる。画像の耐熱性を例にすると、60℃以上の耐熱性が要求されるのであれば、昇華性色素のにじみを考慮して、Tgが60℃以上であるバインダーを使用するのが好ましい。   However, if there is a practical requirement for the image formed by the present invention (for example, the ID card to be issued is required to have a predetermined heat resistance), the binder is required to satisfy such requirement. It is necessary to consider the type or combination. Taking the heat resistance of an image as an example, if heat resistance of 60 ° C. or higher is required, it is preferable to use a binder having a Tg of 60 ° C. or higher in consideration of the bleeding of the sublimable dye.

また、受像層を形成するに際して、必要に応じて、例えば金属イオン含有化合物を含有させるのが好ましい場合がある。特に熱移行性化合物がこの金属イオン含有化合物と反応してキレートを形成する場合である。   When forming the image receiving layer, it may be preferable to include, for example, a metal ion-containing compound as necessary. Particularly when the heat transferable compound reacts with the metal ion-containing compound to form a chelate.

前記金属イオン含有化合物を構成する金属イオンとしては、例えば周期律表の第I〜第VIII族に属する2価および多価の金属が挙げられるが、中でもAl、Co、Cr、Cu、Fe、Mg、Mn、Mo、Ni、Sn、Ti、Zn等が好ましく、特にNi、Cu、Co、Cr、Zn等が好ましい。これらの金属イオンを含有する化合物としては、該金属の無機または有機の塩および該金属の錯体が好ましい。具体例を挙げると、Ni2+、Cu2+、Co2+、Cr2+およびZn2+を含有した下記一般式で表される錯体が好ましく用いられる。 Examples of the metal ion constituting the metal ion-containing compound include divalent and polyvalent metals belonging to Groups I to VIII of the periodic table. Among them, Al, Co, Cr, Cu, Fe, Mg , Mn, Mo, Ni, Sn, Ti, Zn and the like are preferable, and Ni, Cu, Co, Cr and Zn are particularly preferable. As the compound containing these metal ions, an inorganic or organic salt of the metal and a complex of the metal are preferable. As a specific example, a complex represented by the following general formula containing Ni 2+ , Cu 2+ , Co 2+ , Cr 2+ and Zn 2+ is preferably used.

[M(Q1)k(Q2)m(Q3)n]p+p(L-
ただし、式中Mは金属イオンを表し、Q1、Q2、Q3は各々Mで表される金属イオンと配位結合可能な配位化合物を表し、これらの配位化合物としては例えば「キレート化学(5)(南江堂)」に記載されている配位化合物から選択することができる。特に好ましくは、金属と配位結合する少なくとも一個のアミノ基を有する配位化合物を挙げることができ、更に具体的には、エチレンジアミンおよびその誘導体、グリシンアミドおよびその誘導体、ピコリンアミドおよびその誘導体が挙げられる。
[M (Q1) k (Q2) m (Q3) n] p + p ( L- )
In the formula, M represents a metal ion, and Q1, Q2, and Q3 each represent a coordination compound capable of coordinating with the metal ion represented by M. Examples of these coordination compounds include "chelate chemistry (5 ) (Nankodo) "can be selected from the coordination compounds. Particularly preferably, a coordination compound having at least one amino group coordinated with a metal can be mentioned, and more specifically, ethylenediamine and its derivatives, glycinamide and its derivatives, picolinamide and its derivatives can be mentioned. Can be

Lは錯体を形成しうる対アニオンであり、Cr、SO4、ClO4等の無機化合物アニオンやベンゼンスルホン酸誘導体、アルキルスルホン酸誘導体等の有機化合物アニオンが挙げられるが、特に好ましくはテトラフェニルホウ素アニオンおよびその誘導体、ならびにアルキルベンゼンスルホン酸アニオンおよびその誘導体である。kは1、2または3の整数を表し、mは1、2または0を表し、nは1または0を表すが、これらは前記一般式で表される錯体が4座配位か、6座配位かによって決定されるか、あるいはQ1、Q2、Q3の配位子の数によって決定される。pは1、2または3を表す。 L is a counter anion capable of forming a complex, and examples thereof include an anion of an inorganic compound such as Cr, SO 4 and ClO 4 and an anion of an organic compound such as a benzenesulfonic acid derivative and an alkylsulfonic acid derivative, and particularly preferred is tetraphenylboron. Anions and their derivatives, and alkylbenzenesulfonic acid anions and their derivatives. k represents an integer of 1, 2 or 3, m represents 1, 2 or 0, and n represents 1 or 0, and the complex represented by the above general formula is tetradentate or hexadentate. It is determined by coordination or by the number of ligands Q1, Q2, Q3. p represents 1, 2 or 3.

この種の金属イオン含有化合物としては、米国特許第4,987,049号明細書に例示されたものを挙げることができる。前記金属イオン含有化合物を添加する場合、その添加量は受像層に対して、0.5〜20g/m2が好ましく、1〜15g/m2がより好ましい。 As such a metal ion-containing compound, those exemplified in US Pat. No. 4,987,049 can be exemplified. When adding the metal ion-containing compound, the added amount with respect to the image-receiving layer is preferably 0.5 to 20 g / m @ 2, more preferably 1 to 15 g / m 2.

また、受像層には、離型剤を添加することが好ましい。有効な離型剤としては、用いるバインダーと相溶性のあるものが好ましく、具体的には変性シリコーンオイル、変性シリコーンポリマーが代表的であり、例えばアミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、ポリエステル変性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーン樹脂、ウレタン変性シリコーン樹脂などが挙げられる。このなかでもポリエステル変性シリコーンオイルはインクシートとの融着を防止するが、受像層の2次加工性を妨げないという点で特に優れている。受像層の2次加工性とは、マジックインキでの筆記性、できた画像を保護する際に問題となるラミネート性などを指す。この他離型剤としてはシリカ等の微粒子も有効である。2次加工性を問題としない場合は融着防止策として硬化型シリコーン化合物の使用も有効である。紫外線硬化型シリコーン、反応硬化型シリコーンなどが入手可能であり、大きな離型効果が期待できる。   It is preferable to add a release agent to the image receiving layer. As the effective release agent, those which are compatible with the binder to be used are preferable, and specific examples thereof include modified silicone oils and modified silicone polymers, such as amino-modified silicone oil, epoxy-modified silicone oil, and polyester-modified silicone. Examples include oil, acrylic-modified silicone resin, and urethane-modified silicone resin. Among them, the polyester-modified silicone oil prevents fusion with the ink sheet, but is particularly excellent in that it does not hinder the secondary workability of the image receiving layer. The secondary processability of the image receiving layer refers to writability with magic ink, laminating property which is a problem when protecting a formed image, and the like. In addition, fine particles such as silica are effective as a release agent. When the secondary workability is not a problem, the use of a curable silicone compound is also effective as a measure for preventing fusion. Ultraviolet-curable silicone, reaction-curable silicone, and the like are available, and a large releasing effect can be expected.

この発明における受像層は、その形成成分を溶媒に分散あるいは溶解してなる受像層用塗工液を調製し、その受像層用塗工液を前記支持体の表面に塗布し、乾燥する塗工法によって製造することができる。この発明の画像記録体上の表面すなわち受像層の表面粗さは、中心線平均粗さ(Ra)が0.00〜0.6μmであることが好ましい。そのためには乾燥塗工時に塗布ムラ、塗布筋、塗布異物巻き込みなどを起さないために塗布液粘度、塗布方式、塗布環境を最適化し、この発明の中心線平均粗さ(Ra)が0.00〜0.6μmを達成することが好ましい。この発明においては、受像層表面にフォーマット印刷などを施すために、さらにフォーマット印刷で中心線平均粗さ(Ra)が0.00〜0.6μmにするために工夫をしなければならない。   The image receiving layer in the present invention is a coating method in which a coating liquid for an image receiving layer is prepared by dispersing or dissolving the forming components in a solvent, the coating liquid for the image receiving layer is applied to the surface of the support, and dried. Can be manufactured by As for the surface roughness of the image recording medium of the present invention, that is, the surface roughness of the image receiving layer, the center line average roughness (Ra) is preferably 0.00 to 0.6 μm. For this purpose, the viscosity of the coating solution, the coating method, and the coating environment are optimized in order to prevent coating unevenness, coating streaks, and coating foreign matter from being involved during the dry coating, and the center line average roughness (Ra) of the present invention is set to 0.1. It is preferred to achieve a thickness of from 00 to 0.6 μm. In the present invention, in order to perform format printing or the like on the surface of the image receiving layer, it is necessary to devise to make the center line average roughness (Ra) in the format printing to be 0.00 to 0.6 μm.

支持体の表面に形成される受像層の厚みは、一般に1〜50μm、好ましくは2〜10μm程度である。この発明においては、支持体と受像層との間にクッション層あるいはバリヤー層を設けることもできる。クッション層を設けると、ノイズが少なくて、画像情報に対応した画像を再現性良く転写記録することができる。クッション層を構成する材質としては、例えばウレタン樹脂、アクリル樹脂、エチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ブタジエンラバー、エポキシ樹脂等が挙げられる。クッション層の厚さは通常、1〜50μm、好ましくは3〜30μmである。   The thickness of the image receiving layer formed on the surface of the support is generally 1 to 50 μm, preferably about 2 to 10 μm. In the present invention, a cushion layer or a barrier layer may be provided between the support and the image receiving layer. By providing a cushion layer, an image corresponding to image information can be transferred and recorded with good reproducibility with little noise. Examples of the material forming the cushion layer include urethane resin, acrylic resin, ethylene-based resin, polypropylene-based resin, butadiene rubber, and epoxy resin. The thickness of the cushion layer is usually 1 to 50 μm, preferably 3 to 30 μm.

<クッション層>
この発明のクッション層を形成する材料としては、ポリオレフィンが好ましい。例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−水素添加イソプレン−スチレンブロック共重合体、ポリブタジエン、光硬化型樹脂層の様な柔軟性を有し、熱伝導性の低いものが適する。具体的には、特開2002−222403等のクッション層を使用することができる。
<Cushion layer>
As the material for forming the cushion layer of the present invention, polyolefin is preferable. For example, polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, styrene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, styrene-ethylene-butadiene-styrene block A material having flexibility and low heat conductivity, such as a copolymer, a styrene-hydrogenated isoprene-styrene block copolymer, polybutadiene, and a photocurable resin layer, is suitable. Specifically, a cushion layer as disclosed in JP-A-2002-222403 can be used.

<筆記層>
この発明の第2シート部材には、識別情報や書誌事項などからなる情報担持体を形成する上で筆記層を設けることができ、筆記層は、バインダーと各種の添加剤で形成することができる。
<Writing layer>
In the second sheet member of the present invention, a writing layer can be provided for forming an information carrier including identification information and bibliographic items, and the writing layer can be formed with a binder and various additives. .

筆記層は、バインダーと各種の添加剤で形成することができる。   The writing layer can be formed with a binder and various additives.

筆記層は、IDカードの裏面に筆記をすることができるようにした層である。この層が筆記性を有するため少なくとも1層以上からなることが好ましく、好ましくは1〜5層より形成されていることが好ましい。このような筆記層としては、例えば無機微細粉末、多孔質物質等を用いることができる。多孔質物質としては、例えば、シリカ(沈降性、またはゲルタイプ)、タルク、カオリン、クレー、アルミナホワイト、ケイソウ土、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等を使用することができる。なお、上記多孔質物質としては、上記化合物等の中から1種、または2種以上を混合して使用されるようにしてもよい。多孔質物質を含むことができ特に限定はない。   The writing layer is a layer that allows writing on the back surface of the ID card. This layer is preferably composed of at least one layer, and more preferably formed of 1 to 5 layers, since it has writability. As such a writing layer, for example, an inorganic fine powder, a porous substance, or the like can be used. As the porous substance, for example, silica (precipitable or gel type), talc, kaolin, clay, alumina white, diatomaceous earth, titanium oxide, calcium carbonate, barium sulfate and the like can be used. In addition, as the porous substance, one kind or a mixture of two or more kinds among the above compounds may be used. There is no particular limitation as it can include a porous material.

また、他にバインダーを用いることができ、例えばセラミック、ロジンおよびその誘導体、硝化綿および繊維素誘導体、ポリアミド樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、石油樹脂、環化ゴム、塩化ゴム、塩素化ポリプロピレン、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹脂、塩化ビニリデン樹脂、水溶性樹脂等を用いることができる。また、紫外線により共重合し硬化するプレポリマーを含有するUV硬化型樹脂を用いてもよい。それに用いる共重合性化合物としてはポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアックリレート、ウレタンアクリレート、アルキドアクリレートがあげられる。中でも、ポリエステル樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、が好ましく用いられる。なお、上記樹脂としては、上記化合物等の中から1種、または2種以上を混合して使用されるようにしてもよい。多孔質物質の粒径としては、1〜10μmのものを用いることができ、好ましくは平均粒径が1〜8μmであることが好ましい。樹脂に対する多孔質物質の重量比は、固形分比で樹脂100重量部に対し、20重量部〜100重量部であることが好ましい。その他の添加剤としてワックス、界面活性剤、溶剤、水を含んでいてもよく特にに制限はない。   Further, other binders can be used, for example, ceramics, rosin and derivatives thereof, nitrified cotton and cellulose derivatives, polyamide resins, polyacrylate resins, polyvinyl chloride resins, polyvinyl acetate resins, polystyrene resins, petroleum resins, rings Rubber, chlorinated rubber, chlorinated polypropylene, urethane resin, epoxy resin, polyester resin, acrylic resin, vinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, butyral resin, vinylidene chloride resin, water-soluble resin, etc. can be used. . Alternatively, a UV-curable resin containing a prepolymer that is copolymerized and cured by ultraviolet rays may be used. Examples of the copolymerizable compound used therein include polyol acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, and alkyd acrylate. Among them, polyester resin, polyacrylate resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyamide resin, and polystyrene resin are preferably used. The resin may be used alone or as a mixture of two or more of the above compounds. The particle size of the porous material may be 1 to 10 μm, preferably the average particle size is 1 to 8 μm. The weight ratio of the porous substance to the resin is preferably 20 parts by weight to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin in terms of solid content. Other additives may include wax, surfactant, solvent, and water, and are not particularly limited.

この筆記層の厚さは、好ましくは、5〜40μm、更に好ましくは5〜30μmである。前記筆記層を形成する場合、場合により支持体との密着性を良好にするために接着層、または筆記性を良好にするためクッション層などを設けてもよい。   The thickness of the writing layer is preferably 5 to 40 μm, and more preferably 5 to 30 μm. When the writing layer is formed, an adhesive layer may be provided for improving the adhesion to the support, or a cushion layer may be provided for improving the writing property.

<フォーマット印刷層からなる情報坦持体>
前記受像層上若しくは筆記層または基材上にフォーマット印刷からなる情報担持体であることが好ましい。フォーマット印刷からなる情報坦持体とは、識別情報及び書籍情報を記録した複数の選ばれる少なくとも一つが設けられた情報坦持体を表し、具体的には、罫線、社名、カード名称、注意事項、発行元電話番号等を表す。
<Information carrier consisting of format print layer>
It is preferable that the information carrier is formed by format printing on the image receiving layer, the writing layer, or the substrate. The information carrier composed of format printing refers to an information carrier provided with at least one of a plurality of information recording identification information and book information. Specifically, ruled lines, company names, card names, notes , Issuer's telephone number, etc.

フォーマット印刷は受像層または筆記層上、基材上に樹脂凸版印刷、平版印刷、シルク印刷、フレキソ印刷等の印刷方法により施す。   The format printing is performed on the image receiving layer or the writing layer and on the base material by a printing method such as resin letterpress printing, planographic printing, silk printing, flexographic printing or the like.

この発明のフォーマット印刷層は目視による偽造防止の為に透かし印刷、細紋等が採用されてもよく、偽造変造防止層としては 電子透かし、バーコード、マット調柄、細紋、地紋、凹凸パターン、ステルス等などで適時選択され、可視光吸収色材、紫外線吸収材、赤外線吸収材、蛍光増白材、ガラス蒸着層、ビーズ層、光学変化素子層、パールインキ層、燐片顔料層、IC隠蔽層、フォーマット印刷からなる情報坦持体の形成には、日本印刷技術協会出版の「平版印刷技術」、「新・印刷技術概論」、「オフセット印刷技術」、「製版・印刷はやわかり図鑑」等に記載されている一般的なインキを用いて形成することができ、光硬化型インキ、油溶性インキ、溶剤型インキなどにカーボンなどのインキにより形成される。   The format printing layer of the present invention may employ watermark printing, fine print, etc. to prevent visual forgery. Digital watermark, barcode, matte pattern, fine print, ground pattern, uneven pattern , Stealth, etc. as appropriate, visible light absorbing color material, ultraviolet light absorbing material, infrared light absorbing material, fluorescent whitening material, glass evaporation layer, bead layer, optical change element layer, pearl ink layer, scaly pigment layer, IC For the formation of the information carrier consisting of the concealing layer and the format printing, the lithographic printing technology, “new printing technology overview”, “offset printing technology”, and “plate making and printing And the like, and it is formed of a photocurable ink, an oil-soluble ink, a solvent-based ink, and the like with an ink such as carbon.

この発明の画像記録体上の表面すなわちフォーマット印刷層表面粗さは、中心線平均粗さ(Ra)が0.00〜0.6μmであることが好ましい。そのためには印刷時に印刷濃度ムラ、筋、異物巻き込みなどを起さないために印刷インキ粘度、印刷方式、印刷環境、印刷時の印圧を最適化し、この発明の中心線平均粗さ(Ra)が0.00〜0.6μmを達成することが好ましい。また、印刷インキの粒度の粒度の大きい顔料を用いたインキを用いると中心線平均粗さ(Ra)が0.6μmを超えることがしばしばあるために注意が必要である。   The surface roughness of the surface of the image recording medium of the present invention, that is, the surface roughness of the format printing layer, preferably has a center line average roughness (Ra) of 0.00 to 0.6 μm. For this purpose, the printing ink viscosity, printing method, printing environment and printing pressure during printing are optimized in order to avoid uneven printing density, streaks, and foreign matter entrapment during printing, and the center line average roughness (Ra) of the present invention is optimized. Preferably achieves 0.00 to 0.6 μm. In addition, when using an ink using a pigment having a large particle size of the printing ink, the center line average roughness (Ra) often exceeds 0.6 μm.

この発明においては、フォーマット印刷層に使用することができる印刷層は、バインダー樹脂の代表例としては、例えば活性光線硬化性樹脂、ポリメタクリル酸メチル系のアクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル等の塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン等の塩化ビニリデン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、酢酸セルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、アルキッド系樹脂、フェノール系樹脂、弗素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、カゼイン、ゼラチン等を挙げることができる。この発明においては光硬化型樹脂層であることが好ましく、更に好ましくは(a)一個以上の不飽和結合を有するモノマーもしくはオリゴマーの一種類以上からなるバインダー成分25〜95重量部、(b)開始剤1〜20重量部とを含む組成物からなる光硬化型樹脂組成物からなる印刷インキ層を用いることがカード表面強度の点から特に好ましいものである。   In the present invention, a print layer that can be used for the format print layer is a typical example of a binder resin, for example, an actinic ray-curable resin, a polymethyl methacrylate-based acrylic resin, a styrene-based resin such as polystyrene, Vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride, vinylidene chloride resins such as polyvinylidene chloride, polyester resins such as polyethylene terephthalate, cellulose resins such as cellulose acetate, polyvinyl acetal resins such as polyvinyl butyral, epoxy resins, amides Resin, urethane resin, melamine resin, alkyd resin, phenol resin, fluorine resin, silicone resin, polycarbonate, polyvinyl alcohol, casein, gelatin and the like. In the present invention, it is preferably a photocurable resin layer, and more preferably (a) 25 to 95 parts by weight of a binder component comprising at least one kind of a monomer or oligomer having one or more unsaturated bonds, and (b) starting. It is particularly preferable to use a printing ink layer composed of a photocurable resin composition composed of a composition containing 1 to 20 parts by weight of an agent from the viewpoint of card surface strength.

活性光線硬化樹脂を用いる場合、水銀灯、UVランプ、キセノン等の光源により、100mj〜500mjの露光で硬化し用いることができる。   When an actinic ray curable resin is used, it can be cured by exposure to light of 100 mj to 500 mj using a light source such as a mercury lamp, UV lamp, or xenon.

[ICカード用電子部品材料]
[電子部品]
電子部品とは、情報記録部材のことを示し、具体的には、電子カードの利用者の情報を電気的に記憶するICチップ及びICチップに接続されたコイル状のアンテナ体であるICチップはメモリのみやそれに加えてマイクロコンピューターなどである。場合により電子部品にコンデンサーを含んでもよい。この発明はこれに限定はされず情報記録部材に必要な電子部品であれば特に限定はない。
[Electronic component materials for IC cards]
[Electronic components]
The electronic component refers to an information recording member. Specifically, an IC chip that electrically stores information of a user of an electronic card and an IC chip that is a coil-shaped antenna connected to the IC chip include: It is a memory only or a microcomputer in addition to it. In some cases, the electronic component may include a capacitor. The present invention is not limited to this, and is not particularly limited as long as it is an electronic component necessary for the information recording member.

電子部品のICモジュールは、アンテナコイルを有するものであるが、アンテナパターンを有する場合、銅の巻き線によるコイルや、銀ペースト等の導体ペーストを絶縁性の基盤上に渦巻き状に印刷したものや、銅箔等の金属箔をエッチングしたコイル等が用いられている。この発明では、通信性から銅の巻き線によるコイルを使用することが好ましい。場合により樹脂、絶縁層などで被覆していても良い。   An IC module of an electronic component has an antenna coil. When the antenna has an antenna pattern, a coil formed by winding copper or a conductor paste such as silver paste printed in a spiral shape on an insulating base may be used. A coil or the like obtained by etching a metal foil such as a copper foil is used. In the present invention, it is preferable to use a coil made of copper winding from the viewpoint of communication. In some cases, it may be covered with a resin, an insulating layer, or the like.

アンテナコイルを含む回路パターンは巻き線タイプであることが好ましく、場合により途中のコイルパターンと短絡することのないよう別工程で電気的に接続することも可能である。アンテナコイルのターン回数は2〜10ターンであることが好ましいが、この発明では特に制限はない。プリント基板としては、ポリエステル等の熱可塑性のフィルムが用いられ、更に耐熱性が要求される場合はポリイミドが有利である。ICチップとアンテナパターンとの接合は銀ペースト、銅ペースト、カーボンペースト等の導電性接着剤(日立化成工業のEN−4000シリーズ、東芝ケミカルのXAPシリーズ等)や、異方性導電フィルム(日立化成工業製アニソルム等)を用いる方法、或いは半田接合、ACF接合を行う方が知られているがいずれの方法を用いてもよい。   The circuit pattern including the antenna coil is preferably of a winding type. In some cases, the circuit pattern may be electrically connected in another step so as not to be short-circuited with the coil pattern in the middle. The number of turns of the antenna coil is preferably 2 to 10, but is not particularly limited in the present invention. As the printed circuit board, a thermoplastic film such as polyester is used, and when heat resistance is required, polyimide is advantageous. The bonding between the IC chip and the antenna pattern is performed by using a conductive adhesive such as a silver paste, a copper paste, or a carbon paste (EN-4000 series of Hitachi Chemical Co., Ltd., XAP series of Toshiba Chemical Co., Ltd.), or an anisotropic conductive film (Hitachi Chemical). It is known that a method using an industrial anisolum or the like, or a method of performing solder bonding or ACF bonding, but any method may be used.

予めICチップを含む部品を所定の位置に載置してから樹脂を充填するために、樹脂の流動による剪断力で接合部が外れたり、樹脂の流動や冷却に起因して表面の平滑性を損なったりと安定性に欠けることを解消するため、予め基板シートに樹脂層を形成しておいて該樹脂層内に部品を封入するために該電子部品を多孔質の樹脂フィルム、多孔質の発泡性樹脂フィルム、可撓性の樹脂シート、多孔性の樹脂シートまたは不織布シート状にし使用されることが好ましい。例えば特願平11−105476号等の記載されている方法等を用いることができる。   In order to fill the resin after placing the parts including the IC chip in a predetermined position in advance, the joint may come off due to the shearing force due to the flow of the resin, or the smoothness of the surface may be reduced due to the flow or cooling of the resin. In order to eliminate damage or lack of stability, a resin layer is formed on a substrate sheet in advance, and the electronic component is sealed with a porous resin film or a porous foam in order to enclose the component in the resin layer. It is preferably used in the form of a porous resin film, a flexible resin sheet, a porous resin sheet or a nonwoven fabric sheet. For example, a method described in Japanese Patent Application No. 11-105476 or the like can be used.

例えば、不織布シート部材として、不織布などのメッシュ状織物や、平織、綾織、繻子織の織物などがある。また、モケット、プラッシュベロア、シール、ベルベット、スウェードと呼ばれるパイルを有する織物などを用いることができる。材質としては、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン8等のポリアミド系、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系、ポリエチレン等のポリオレフィン系、ポリビニルアルコール系、ポリ塩化ビニリデン系、ポリ塩化ビニル系、ポリアクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド等のアクリル系、ポリシアン化ビニリデン系、ポリフルオロエチレン系、ポリウレタン系等の合成樹脂、絹、綿、羊毛、セルロース系、セルロースエステル系等の天然繊維、再生繊維(レーヨン、アセテート)、アラミド繊維の中から選ばれる1種又は2種以上を組み合わせた繊維が上げられる。これらの繊維材料において好ましくは、ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアイド等のアクリル系、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系、再生繊維としてのセルロース系、セルロースエステル系であるレーヨン及びアセテート、アラミド繊維があげられる。   For example, as the nonwoven fabric sheet member, there are a mesh fabric such as a nonwoven fabric, a plain weave, a twill weave and a satin weave. Further, a woven fabric having a pile called moquette, plush velor, seal, velvet, or suede can be used. Materials include polyamides such as nylon 6, nylon 66, and nylon 8, polyesters such as polyethylene terephthalate, polyolefins such as polyethylene, polyvinyl alcohol, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, acrylamide, and methacryl. Acrylic resin such as amide, synthetic resin such as polyvinylidene cyanide, polyfluoroethylene, polyurethane, etc., natural fiber such as silk, cotton, wool, cellulose, cellulose ester, regenerated fiber (rayon, acetate), aramid fiber And fibers obtained by combining one or two or more selected from the group consisting of: Of these fiber materials, rayon is preferably polyamide-based such as nylon 6, nylon 66, etc., acrylic-based such as polyacrylonitrile, acrylamide, methacrylide, polyester-based such as polyethylene terephthalate, cellulose-based as regenerated fiber, or cellulose ester-based. And acetate and aramid fibers.

また、ICチップは点圧強度が弱いためにICチップ近傍に補強板を有することも好ましい。   Further, since the IC chip has a low point pressure strength, it is preferable to have a reinforcing plate near the IC chip.

電子部品の全厚さは10〜500μmが好ましく、より好ましくは10〜450μm、更に好ましくは10〜350μmが好ましい。   The total thickness of the electronic component is preferably from 10 to 500 μm, more preferably from 10 to 450 μm, and still more preferably from 10 to 350 μm.

[第1シート部材と、第2シート部材とを備える方法及び電子部品搭載方法][ICカード用電子部品搭載方法]
この発明の画像記録体用支持体を用い受像層を有する第1シート部材(以下:第1シート部材と称す)と、筆記層を有する第2シート部材(以下:第2シート部材と称す)との間に所定の電子部品とを備えるために、製造方式としては、熱貼合法、接着剤貼合法及び射出成形法が知られているが、いずれの方法で貼り合わしてもよい。また、第1シート部材と第2シート部材は、貼り合わせる前後いずれかに前記記載フォーマット印刷からなる情報担持体層を設けても良い。
[Method of Providing First Sheet Member and Second Sheet Member and Method of Mounting Electronic Component] [Method of Mounting Electronic Component for IC Card]
A first sheet member (hereinafter, referred to as a first sheet member) having an image receiving layer using the image recording medium support of the present invention, and a second sheet member (hereinafter, referred to as a second sheet member) having a writing layer. As a manufacturing method, a heat bonding method, an adhesive bonding method, and an injection molding method are known in order to provide a predetermined electronic component between them, but they may be bonded by any method. Further, the first sheet member and the second sheet member may be provided with an information carrier layer made of the above-described format printing either before or after lamination.

この発明のIC搭載カード基材の製造方法は、特開2000−036026、特開2000−219855、特開2000−211278、特開平10−316959、特開平11−5964等のように貼り合わせ、塗設方法をが開示されている。いずれの貼り合わし方式、塗設方式方法等を用いることができ、この発明には特に制限ない。   The method for manufacturing an IC-mounted card base material of the present invention includes the steps of laminating and coating as described in JP-A-2000-036026, JP-A-2000-219855, JP-A-2000-212278, JP-A-10-316959, JP-A-11-5596, and the like. A setting method is disclosed. Any bonding method, coating method, or the like can be used, and the present invention is not particularly limited.

この発明の電子カードの製造方法は、少なくとも、常温状態では固形物または粘調体であり、加熱状態では軟化する接着部材をカード用の電子部品に施して電子部品保持体を形成する工程と、この電子部品保持体を基板用の部材上に配置する工程と、この基板用の部材上の電子部品保持体を覆うように表面用の部材を配置する工程と、所定の加圧加温条件の下で基板用の部材、電子部品保持体及び表面用の部材とを貼り合わせる工程とを有し貼り合わせることを特徴とするものである。   The method for manufacturing an electronic card of the present invention includes, at least, a step of forming an electronic component holder by applying an adhesive member which is a solid or a viscous body in a normal temperature state and softens in a heated state to an electronic component for a card, A step of disposing the electronic component holder on a substrate member; a step of disposing a surface member so as to cover the electronic component holder on the substrate member; Laminating the member for the substrate, the electronic component holder and the member for the surface underneath.

固形物または粘調体の加熱状態で軟化する接着部材とは、接着剤自身をシート状に形成し具備する方法と接着剤自身を加熱または常温で溶融し射出成型によって貼り合わせることが好ましい。この発明の場合支持体の熱変形などを低減するために低温接着剤が好ましく、より好ましくは反応型接着剤、ホットメルト接着剤、更に好ましくは反応型ホットメル接着剤を用いることが好ましい。   It is preferable that the adhesive member which is softened in a heated state of the solid or the viscous body is bonded to the adhesive member by forming the adhesive itself into a sheet shape and bonding the adhesive itself by heating or melting at room temperature and then by injection molding. In the present invention, a low-temperature adhesive is preferable in order to reduce thermal deformation of the support, and more preferably a reactive adhesive, a hot melt adhesive, and more preferably a reactive hot melt adhesive is used.

反応型ホットメルト接着剤とは、光硬化型接着剤若しくは湿気硬化型接着剤、弾性エポキシ接着剤等を表し、例えば反応型ホットメルト接着剤として湿気硬化型の材料で特開2000−036026、特開2000−219855、特開2000−211278、特願2000−369855で開示されている。光硬化型接着剤として特開平10−316959、特開平11−5964等が開示されている。   The reactive hot-melt adhesive refers to a light-curable adhesive, a moisture-curable adhesive, an elastic epoxy adhesive, and the like. For example, a moisture-curable material as a reactive hot-melt adhesive is disclosed in JP-A-2000-036026. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-219855, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-212278, and Japanese Patent Application No. 2000-369855. JP-A-10-316959, JP-A-11-5964 and the like are disclosed as photocurable adhesives.

反応型湿気硬化接着剤の1例として、分子末端にイソシアネート基含有ウレタンポリマーを主成分とし、このイソシアネート基が水分と反応して架橋構造を形成するものがある。この発明に使用できる反応型接着剤としては住友スリーエム社製TE030、TE100、日立化成ポリマー社製ハイボン4820、カネボウエヌエスシー社製ボンドマスター170シリーズ、Henkel社製Macroplast QR 3460、積水化学社製エスダイン9631等が挙げられる。この発明では弾性率の異なる樹脂を用いることが好ましい。弾性率の異なる樹脂を用いることで弾性率の高い樹脂が骨格の機能を示し、弾性率の低い樹脂が支持体を貼り合わせるときに穴埋め的に流動し平滑性を得ることができ好ましい。   As an example of a reactive moisture-curing adhesive, there is an adhesive whose main component is a urethane polymer containing an isocyanate group at a molecular terminal, and the isocyanate group reacts with moisture to form a crosslinked structure. Examples of reactive adhesives usable in the present invention include TE030 and TE100 manufactured by Sumitomo 3M, Hibon 4820 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., Bondmaster 170 series manufactured by Kanebo Wenus Sci. And the like. In the present invention, it is preferable to use resins having different elastic moduli. By using resins having different elastic moduli, a resin having a high elastic modulus exhibits a skeletal function, and a resin having a low elastic modulus can flow to fill in a gap when a support is bonded, thereby obtaining smoothness.

これら接着剤のいずれも使用してもよく、この発明には制限はない材料を用いることが好ましい。   Any of these adhesives may be used, and it is preferable to use a material which is not limited in the present invention.

接着剤の膜厚は、電子部品と含めた厚さで10〜600μmが好ましく、より好ましくは10〜500μm、更に好ましくは10μ〜450μmである。   The thickness of the adhesive is preferably from 10 to 600 μm, more preferably from 10 to 500 μm, and still more preferably from 10 to 450 μm, including the thickness of the electronic component.

貼り合わせ時には、基材の表面平滑性、第1シート部材と第2シート部材との間に所定の電子部品の密着性をあげるために加熱及び加圧を行うことが好ましく、上下プレス方式、ラミネート方式、キャタピラ方式等で製造することが好ましい、更にはIC部品の割れを考慮して、線接触に近く、僅かなズレでも無理な曲げ力が加わるローラを避けて平面プレス型とするのが好ましい。加熱は、10〜120℃が好ましく、より好ましくは30〜100である。加圧は、0.01〜300kgf/cm2が好ましく、より好ましくは0.05〜100kgf/cm2である。これより圧が高いとICチップが破損する。加熱及び加圧時間は好ましくは、0.1〜180secより好ましくは0.1〜120secである。これより時間が長いと製造効率が低下する。 At the time of bonding, it is preferable to perform heating and pressing in order to improve the surface smoothness of the base material and the adhesion of a predetermined electronic component between the first sheet member and the second sheet member. It is preferable to manufacture by a method, a caterpillar method, etc. In addition, in consideration of cracking of IC parts, it is preferable to use a flat press type, avoiding rollers that are close to line contact and apply excessive bending force even with slight displacement . The heating is preferably performed at 10 to 120 ° C, more preferably 30 to 100 ° C. Pressure is preferably 0.01~300kgf / cm 2, more preferably 0.05~100kgf / cm 2. If the pressure is higher than this, the IC chip will be damaged. The heating and pressurizing time is preferably 0.1 to 180 sec, more preferably 0.1 to 120 sec. If the time is longer than this, the manufacturing efficiency decreases.

この発明のICカードの製造方法によれば、上述した電子部品保持体が適用され、その貼合工程において、所定の加圧加温条件の下で基板用の部材、電子部品保持体及び表面用の部材とが貼り合わされるので、電子部品保持体自身を接着剤にして基板用の部材と、その電子部品保持体と、表面用の基板とを再現性良く貼り合わせることができる。上記方法で作成しないと製造されたICカード表面凹凸性が劣化し転写箔の転写性が劣化する。   According to the method of manufacturing an IC card of the present invention, the above-described electronic component holder is applied, and in the bonding step, a member for a substrate, an electronic component holder, and a surface Since the electronic component holder itself is used as an adhesive, the substrate member, the electronic component holder, and the surface substrate can be bonded with good reproducibility. If it is not prepared by the above method, the surface irregularities of the manufactured IC card deteriorate, and the transferability of the transfer foil deteriorates.

前記接着剤貼合法や樹脂射出法で連続シートとして形成された貼り合わせた枚葉シートまたは連続塗工ラミロールは、接着剤の所定硬化時間に合わした時間内放置後、認証識別画像や書誌事項を記録をしても良く、その後所定のカードサイズに成形しても良い。所定のカードサイズに形成する方法としては打ち抜く方法、断裁する方法等が主に選択され電子部品搭載ICカード基材を作成することができる。また、上記同様な方法を用い、電子部品を搭載しないIDカードも作成することができる。   The laminated single sheet or continuous coated lami roll formed as a continuous sheet by the adhesive laminating method or the resin injection method, after being left for a predetermined time corresponding to a predetermined curing time of the adhesive, records the authentication identification image and bibliographic information. May be performed, and then molded into a predetermined card size. As a method of forming a predetermined card size, a punching method, a cutting method, and the like are mainly selected, and an electronic component mounted IC card base material can be prepared. Also, by using the same method as described above, an ID card on which no electronic component is mounted can be created.

<ICカード基材作成方法>
ここでホットメルト接着剤を使用した電子部品搭載ICカードの作製方法の一例を挙げる。ICカードの作製に当たっては、先ず表裏のシートにアプリケーターでホットメルト接着剤を所定の厚さに塗工する。塗工方法としてはローラー方式、Tダイ方式、ダイス方式などの通常の方法が使用される。この発明でストライプ状に塗工する場合、Tダイスリットを間欠に開口部を持たせる等の方法があるが、これに限られるものではない。また、この発明の接着剤表面を凹凸形状にする方法としては、上記方法により塗工した接着剤表面をエンボシングロールで加圧処理する方法がある。接着剤を塗工した上下のシートの間にIC部材を装着する。装着する前に塗工した接着剤をあらかじめヒーター等で加熱させておいてもよい。その後上下シート間にIC部材を装着したものを接着剤の貼り合わせ温度に加熱したプレスで所定時間プレスするか、またはプレスでの圧延の替わりに所定温度の恒温層中でシートを搬送しながらロールで圧延してもよい。また、貼り合わせ時に気泡が入るのを防止するために真空プレスしてもよい。プレス等で貼り合わせた後は所定形状に打ち抜くなり、カード状に断裁するなりしてカード化する。接着剤に反応型接着剤を用いた場合は所定時間硬化反応させた後にカード状に断裁する。硬化促進のために貼り合わせたシートのカードサイズの周囲に反応に必要な水分供給のための穴を開ける方法が有効である。
<How to make IC card substrate>
Here, an example of a method for manufacturing an electronic component mounted IC card using a hot melt adhesive will be described. When manufacturing an IC card, first, a hot melt adhesive is applied to the front and back sheets with an applicator to a predetermined thickness. As a coating method, an ordinary method such as a roller method, a T-die method, a dice method or the like is used. In the case of coating in the form of stripes according to the present invention, there is a method of intermittently providing an opening in a T-die slit, but the present invention is not limited to this. Further, as a method for forming the adhesive surface of the present invention into an uneven shape, there is a method in which the adhesive surface coated by the above method is subjected to pressure treatment with an embossing roll. The IC member is mounted between the upper and lower sheets coated with the adhesive. Before mounting, the applied adhesive may be heated in advance by a heater or the like. After that, the IC member is mounted between the upper and lower sheets and pressed for a predetermined time with a press heated to the bonding temperature of the adhesive, or rolls are transported in a constant temperature layer at a predetermined temperature instead of rolling by pressing. May be rolled. Further, vacuum pressing may be performed to prevent air bubbles from entering during bonding. After bonding with a press or the like, the sheet is punched into a predetermined shape and cut into a card shape to form a card. When a reactive adhesive is used as the adhesive, the adhesive is cured for a predetermined time and then cut into a card. It is effective to form a hole for supplying water necessary for the reaction around the card size of the bonded sheets to promote curing.

[IDカード又はICカード表面中心線表面粗さ(Ra)]
この発明においては、上記より作成されたIDカード基材、または電子部品搭載型ICカード基材の表面粗さは、中心線平均粗さ(Ra)が0.00〜0.6μmであることが好ましい。中心線平均粗さ(Ra)が0.6μmを超えると、この発明の転写箔を用い転写した場合、表面が粗いために粗面化支持体を用いたミシン目効果が劣化することが確認された。また、同時に転写箔の密着性が劣化し問題となった。
[ID card or IC card surface center line surface roughness (Ra)]
In the present invention, the surface roughness of the ID card base material or the electronic component-mounted IC card base material prepared as described above may have a center line average roughness (Ra) of 0.00 to 0.6 μm. preferable. When the center line average roughness (Ra) exceeds 0.6 μm, it is confirmed that when the transfer is performed using the transfer foil of the present invention, the perforation effect using the roughened support is deteriorated due to the rough surface. Was. At the same time, the adhesion of the transfer foil deteriorates, which is problematic.

中心線表面粗さ(Ra)測定方法 IDカードである場合、図9に示すように、転写箔を転写する表面層のフォーマット印刷からなる情報担持体層上を小板製作所製 表面粗さ測定機SE−30Hにて中心線表面粗さ(Ra)測定方法を測定した。   Center Line Surface Roughness (Ra) Measuring Method In the case of an ID card, as shown in FIG. 9, a surface roughness measuring device manufactured by Kodama Seisakusho on an information carrier layer formed by format printing of a surface layer for transferring a transfer foil. The center line surface roughness (Ra) measuring method was measured by SE-30H.

ICカードである場合、図10に示すように、電子部品の配置されていない転写箔を転写する表面層のフォーマット印刷からなる情報担持体層上を上記同様測定した。   In the case of an IC card, as shown in FIG. 10, the measurement was carried out on the information carrier layer formed by format printing of the surface layer on which the transfer foil on which the electronic components were not arranged was transferred, in the same manner as described above.

[ICカード表面に凹部または凸部規定1]
また、この発明においては、電子部品を内蔵したICカード表面に凹部または凸部を有する場合、特定の凹部または凸部に基準線を設定したとき、特定の凹部または凸部の基準線からの垂直方向への距離が20μm以下である。これが20μmを超えたICカードに、この発明の転写箔を用い転写した場合、表面に凹凸があるため粗面化支持体を用いたミシン目効果が劣化することが確認された。特に表面凹凸性が大きいチップ部では、ミシン目効果が劣化し、箔切れ不良が発生していた。また、箔とICカードの密着性も劣化していた。
[Define concave or convex part 1 on IC card surface]
Further, according to the present invention, when a concave or convex portion is provided on the surface of an IC card in which an electronic component is built, when a reference line is set in the specific concave or convex portion, the specific concave or convex portion is perpendicular to the reference line. The distance to the direction is 20 μm or less. When the transfer foil of the present invention was transferred to an IC card having a thickness exceeding 20 μm using the transfer foil of the present invention, it was confirmed that the perforation effect using the roughened support was deteriorated due to the unevenness of the surface. In particular, in a chip portion having a large surface unevenness, the perforation effect was deteriorated, and defective foil was generated. Further, the adhesion between the foil and the IC card was also deteriorated.

ここで、基準線の設定について説明する。この発明では、ICカード表面の局所的な凹部または凸部の最大部からカード短辺方向に並行に上下それぞれ10mmの距離の2点を結ぶカード平面を基準線とする。この場合の最大部とは凸部はその最も高い点を、凹部は最も低い点を意味する。   Here, the setting of the reference line will be described. In the present invention, a card plane connecting two points at a distance of 10 mm each in the upper and lower directions in parallel with the short side of the card from the local maximum of the concave or convex portion on the surface of the IC card is used as the reference line. In this case, the maximum part means the highest point at the convex part and the lowest point at the concave part.

図11はICカード表面の凹凸に対する基準線定義のカード表面模式図であるが、図11のように凸部がカード表面にある場合は、凸部の最高点Aからカード短辺方向に上下10mm離れた点B、Cを結んだ直線L1を基準線とする。また、図12はそのカード側断面模式図である。   FIG. 11 is a schematic diagram of a card surface defining a reference line with respect to the irregularities on the surface of the IC card. When the convex portion is on the card surface as shown in FIG. A straight line L1 connecting the distant points B and C is set as a reference line. FIG. 12 is a schematic sectional view on the card side.

[ICカード表面に凹部又は凸部規定2]
また、この発明においては、電子部品を内蔵したICカード表面に凹部又は凸部を有する場合、上記と同じ定義の基準線に対する着目する凹部又は凸部の断面からからみた傾斜の最大値が80°以下である。この発明において、断面からみたとは、特定の凹部又は凸部の側面、即ち横断面から測定した場合を意味する。 図13はICカード表面の凹凸に対する基準線及び傾斜の定義のカード側断面模式図であり、この場合では傾斜と考えるのはaより傾斜の大きいeである。基準線に対する傾斜の最大値が80°以下の場合も上記同様にこれが80°を超えたICカードにこの発明の転写箔を用い転写した場合、表面に凹凸があるため粗面化支持体を用いたミシン目効果が劣化することが確認された。特に表面凹凸性が大きいチップ部ではミシン目効果が劣化し、箔切れ不良が発生していた。また、箔とICカードの密着性も劣化していた。
[Define concave or convex part 2 on IC card surface]
Further, in the present invention, when a concave or convex portion is provided on the surface of an IC card having a built-in electronic component, the maximum value of the inclination from the cross section of the concave or convex portion of interest with respect to the reference line having the same definition as above is 80 °. It is as follows. In the present invention, a view from a cross section means a case where measurement is performed from a side surface of a specific concave or convex portion, that is, a cross section. FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of the card side of the definition of the reference line and the slope with respect to the irregularities on the surface of the IC card. In this case, the slope is considered to be e larger than a. Similarly, when the maximum value of the inclination with respect to the reference line is 80 ° or less, when the transfer foil of the present invention is transferred to an IC card in which the inclination exceeds 80 ° using the transfer foil of the present invention, the surface has irregularities. It was confirmed that the perforated effect deteriorated. Particularly, in a chip portion having a large surface unevenness, the perforation effect was deteriorated, and a defective foil was generated. Further, the adhesion between the foil and the IC card was also deteriorated.

[ICカード表面部の凹又は凸測定]
カード表面を測定面に向け非接触3次元測定装置NH−3(三鷹光器株式会社)を用いて、測定を実施し、前記ICカード表面に凹部又は凸部規定1、ICカード表面に凹部または凸部規定2を算出した。
[Concave or convex measurement of IC card surface]
The measurement is performed by using a non-contact three-dimensional measuring device NH-3 (Mitaka Optical Co., Ltd.) with the card surface facing the measurement surface, and the concave or convex portion definition 1 on the IC card surface, the concave or convex portion on the IC card surface. Protrusion rule 2 was calculated.

<画像記録体上への画像形成方法の一般記載>
上記作成されたIDカード基材上またはICカード基材上に識別情報及び書籍情報を記録した複数の情報坦持体、フォーマット印刷から形成された画像記録体上印刷面側に別方法により識別情報及び書籍情報を記録した複数の情報坦持体等の画像要素が設けられ、IDカードまたはICカードを作成することができる。 顔画像は通常の場合、階調を有するフルカラー画像で、例えば昇華型感熱転写記録方式、ハロゲン化銀カラー写真方式等により作製される。また、文字情報画像は二値画像よりなり、例えば溶融型感熱転写記録方式、昇華型感熱転写記録方式、ハロゲン化銀カラー写真方式、電子写真方式、インクジェット方式、再転写方式等により作製されている。この発明においては、昇華型感熱転写記録方式、溶融型感熱転写記録方式、により顔画像等の認証識別画像、属性情報画像を記録することが好ましい。
<General description of image forming method on image recording medium>
A plurality of information carriers on which the identification information and the book information are recorded on the ID card base material or the IC card base material prepared above, and the identification information by a different method on the printing surface side of the image recording material formed by format printing. Further, image elements such as a plurality of information carriers recording book information are provided, and an ID card or an IC card can be created. The face image is usually a full-color image having a gradation, and is produced by, for example, a sublimation-type thermal transfer recording method, a silver halide color photographic method, or the like. The character information image is composed of a binary image, and is produced by, for example, a fusion type thermal transfer recording system, a sublimation type thermal transfer recording system, a silver halide color photographic system, an electrophotographic system, an ink jet system, a retransfer system, or the like. . In the present invention, it is preferable to record an authentication identification image such as a face image and an attribute information image by a sublimation type thermal transfer recording method and a fusion type thermal transfer recording method.

属性情報は氏名、住所、生年月日、資格等であり、属性情報は通常文字情報として記録され溶融型感熱転写記録方法が一般的である。フォーマット印刷または、情報記録を行ってもよく、オフセット印刷、グラビア印刷、シルク印刷、スクリーン印刷、凹版印刷、凸版印刷、インクジェット方式、昇華転写方式、電子写真方式、熱溶融方式等のいずれの方式によって形成することができるが、この発明の場合、昇華転写方式、インクジェット方式、熱溶融方式、インクジェット方式のいずれかの方式が好ましい。   The attribute information is a name, an address, a date of birth, a qualification, and the like. The attribute information is usually recorded as character information, and a fusion-type thermal transfer recording method is generally used. Format printing or information recording may be performed, by any method such as offset printing, gravure printing, silk printing, screen printing, intaglio printing, letterpress printing, inkjet method, sublimation transfer method, electrophotographic method, heat melting method, etc. Although it can be formed, in the case of the present invention, any one of a sublimation transfer method, an ink jet method, a heat melting method, and an ink jet method is preferable.

<昇華画像形成方法>
昇華型感熱転写記録用インクシートは、支持体とその上に形成された昇華性色素含有インク層とで構成することができる。
<Sublimation image forming method>
The sublimation-type thermal transfer recording ink sheet can be composed of a support and a sublimable dye-containing ink layer formed thereon.

<支持体>
支持体としては、寸法安定性がよく、感熱ヘッドでの記録の際の熱に耐える限り特に制限がなく、従来から公知のものを使用することができる。
<Support>
The support is not particularly limited as long as it has good dimensional stability and can withstand heat at the time of recording with a thermal head, and a conventionally known support can be used.

<昇華性色素含有インク層>
上記昇華性色素含有インク層は、基本的に昇華性色素とバインダーとを含有する。
<Sublimable dye-containing ink layer>
The sublimable dye-containing ink layer basically contains a sublimable dye and a binder.

前記昇華性色素としてはシアン色素、マゼンタ色素およびイエロー色素を挙げることができる。   Examples of the sublimable dye include a cyan dye, a magenta dye and a yellow dye.

前記シアン色素としては、特開昭59−78896号公報、同59−227948号公報、同60−24966号公報、同60−53563号公報、同60−130735号公報、同60−131292号公報、同60−239289号公報、同61−19396号公報、同61−22993号公報、同61−31292号公報、同61−31467号公報、同61−35994号公報、同61−49893号公報、同61−148269号公報、同62−191191号公報、同63−91288号公報、同63−91287号公報、同63−290793号公報などに記載されているナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、アゾメチン系色素等が挙げられる。   As the cyan dye, JP-A-59-78896, JP-A-59-227948, JP-A-60-24966, JP-A-60-53563, JP-A-60-130735, JP-A-60-131292, JP-A-60-239289, JP-A-61-19396, JP-A-61-22993, JP-A-61-31292, JP-A-61-31467, JP-A-61-35994, JP-A-61-49893, and JP-A-61-49893. Nos. 61-148269, 62-191191, 63-91288, 63-91287, 63-290793, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, and azomethine dyes And the like.

前記マゼンタ色素としては、特開昭59−78896号公報、同60−30392号公報、同60−30394号公報、同60−253595号公報、同61−262190号公報、同63−5992号公報、同63−205288号公報、同64−159号、同64−63194号公報等の各公報に記載されているアントラキノン系色素、アゾ色素、アゾメチン系色素等が挙げられる。   As the magenta dye, JP-A-59-78896, JP-A-60-30392, JP-A-60-30394, JP-A-60-253595, JP-A-61-262190, JP-A-63-5992, Examples thereof include anthraquinone dyes, azo dyes, and azomethine dyes described in JP-A-63-205288, JP-A-64-159, and JP-A-64-63194.

イエロー色素としては、特開昭59−78896号公報、同60−27594号公報、同60−31560号公報、同60−53565号公報、同61−12394号公報、同63−122594号公報等の各公報に記載されているメチン系色素、アゾ系色素、キノフタロン系色素およびアントライソチアゾール系色素が挙げられる。   Examples of yellow dyes include JP-A-59-78896, JP-A-60-27594, JP-A-60-31560, JP-A-60-53565, JP-A-61-12394, and JP-A-63-122594. Examples thereof include methine dyes, azo dyes, quinophthalone dyes and anthrisothiazole dyes described in each publication.

また、昇華性色素として特に好ましいのは、開鎖型または閉鎖型の活性メチレン基を有する化合物をp−フェニレンジアミン誘導体の酸化体またはp−アミノフェノール誘導体の酸化体とのカップリング反応により得られるアゾメチン色素およびフェノールまたはナフトール誘導体またはp−フェニレンジアミン誘導体の酸化体またはp−アミノフェノール誘導体の酸化体のとのカップリング反応により得られるインドアニリン色素である。   A particularly preferred sublimable dye is azomethine obtained by coupling a compound having an open-chain or closed-type active methylene group with an oxidized form of a p-phenylenediamine derivative or an oxidized form of a p-aminophenol derivative. An indoaniline dye obtained by a coupling reaction with a dye and an oxidized form of a phenol or naphthol derivative or a p-phenylenediamine derivative or an oxidized form of a p-aminophenol derivative.

また、受像層中に金属イオン含有化合物が配合されているときには、この金属イオン含有化合物と反応してキレートを形成する昇華性色素を、昇華性色素含有インク層中に含めておくのが良い。このようなキレート形成可能な昇華性色素としては、例えば特開昭59−78893号、同59−109349号、特開平4−094974号、同4−097894号、同4−089292号に記載されている、少なくとも2座のキレートを形成することができるシアン色素、マゼンタ色素およびイエロー色素を挙げることができる。キレートの形成可能な好ましい昇華性色素は、下記一般式で表わすことができる。   When a metal ion-containing compound is compounded in the image receiving layer, a sublimable dye that reacts with the metal ion-containing compound to form a chelate is preferably included in the sublimable dye-containing ink layer. Such chelate-forming sublimable dyes are described, for example, in JP-A-59-78893, JP-A-59-109349, JP-A-4-09974, JP-A-4-097894, and JP-A-4-089292. And cyan dyes, magenta dyes and yellow dyes capable of forming at least bidentate chelates. A preferred sublimable dye capable of forming a chelate can be represented by the following general formula.

X1−N=N−X2−G
ただし、式中X1は、少なくとも一つの環が5〜7個の原子から構成される芳香族の炭素環、または複素環を完成するのに必要な原子の集まりを表わし、アゾ結合に結合する炭素原子の隣接位の少なくとも一つが、窒素原子またはキレート化基で置換された炭素原子である。X2は、少なくとも一つの環が5〜7個の原子から構成される芳香族複素環または、芳香族炭素環を表わす。Gはキレート化基を表わす。
X1-N = N-X2-G
In the formula, X1 represents an aromatic carbon ring in which at least one ring is composed of 5 to 7 atoms, or a group of atoms necessary to complete a heterocyclic ring, and represents a carbon atom bonded to an azo bond. At least one of the adjacent atoms is a nitrogen atom or a carbon atom substituted with a chelating group. X2 represents an aromatic heterocyclic ring or an aromatic carbocyclic ring in which at least one ring is composed of 5 to 7 atoms. G represents a chelating group.

いずれの昇華性色素に関しても前記昇華性色素含有インク層に含有される昇華性色素は、形成しようとする画像が単色であるならば、イエロー色素、マゼンタ色素、およびシアン色素の何れであっても良く、形成しようとする画像の色調によっては、前記三種の色素のいずれか二種以上もしくは他の昇華性色素を含んでいても良い。前記昇華性色素の使用量は、通常、支持体1m2当たり0.1〜20g、好ましくは0.2〜5gである。 For any sublimable dye, the sublimable dye contained in the sublimable dye-containing ink layer may be any of a yellow dye, a magenta dye, and a cyan dye as long as the image to be formed is a single color. Depending on the color tone of the image to be formed, two or more of the three dyes or other sublimable dyes may be contained. The amount of the sublimable dye to be used is generally 0.1 to 20 g, preferably 0.2 to 5 g, per m 2 of the support.

インク層のバインダーとしては特に制限がなく従来から公知のものを使用することができる。さらに前記インク層には、従来から公知の各種添加剤を適宜に添加することができる。   The binder for the ink layer is not particularly limited, and a conventionally known binder can be used. Further, conventionally known various additives can be appropriately added to the ink layer.

昇華型感熱転写記録用インクシートは、インク層を形成する前記各種の成分を溶媒に分散ないし溶解してなるインク層形成用塗工液を調製し、これを支持体の表面に塗工し、乾燥することにより製造することができる。かくして形成されたインク層の膜厚は、通常、0.2〜10μmであり、好ましくは、0.3〜3μmである。   Sublimation type thermal transfer recording ink sheet is prepared by dispersing or dissolving the various components forming the ink layer in a solvent to prepare an ink layer forming coating liquid, coating this on the surface of the support, It can be manufactured by drying. The thickness of the ink layer thus formed is usually from 0.2 to 10 μm, preferably from 0.3 to 3 μm.

<インクジェット>
インクジェット方式を採用する場合、例えば、バブルジェット(登録商標)方式で400dpi程度の解像度で足りるし、顔画像については剪断モード方式で多階調とすることができる。特開平9−71743のように、アルキル基の炭素数18〜36の脂肪酸エステルと、ダイマー酸ベースのポリアミドを併用する方法や、特開2000−44857のように、光硬化性組成物中にバインダーを分散させるインク又は、特開平9−71743、特開2000−297237、特開2000−85236、特開平5−1254等に記載されているインキを用い製造することが出来る。又後加工としてインクジェットで文字情報、顔画像等を書き込んだ後に後加熱、後露光等などを行っても良く、特にインキ種類、画像形成方法に制限はない。
<Inkjet>
In the case of adopting the ink jet system, for example, a resolution of about 400 dpi is sufficient in a bubble jet (registered trademark) system, and a face image can be a multi-gradation in a shear mode system. As disclosed in JP-A-9-71743, a method in which a fatty acid ester having 18 to 36 carbon atoms of an alkyl group is used in combination with a dimer acid-based polyamide, or as disclosed in JP-A-2000-44857, Or an ink described in JP-A-9-71743, JP-A-2000-297237, JP-A-2000-85236, JP-A-5-1254 and the like. As post-processing, post-heating, post-exposure, etc. may be performed after writing character information, a face image, and the like with an inkjet, and there is no particular limitation on the type of ink and the image forming method.

[画像記録体上への帯電防止層付き保護層転写箔付与方法]
<転写方法>
転写箔の被転写材への転写は通常サーマルヘッド、ヒートローラー、ホットスタンプマシンなどの加熱しながら加圧を行える手段を用い転写を行うことができる。具体的にはホットスタンプマシーンを使用する場合、表面温度150−300℃に加熱し、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用いて圧力50−500kg/cm2で0.5〜10秒間熱をかけて転写をおこなうことができる。この発明の具体的な使用例として、図7に示す転写用カートリッジ400、図8に示すホットスタンプ装置500を用いる。
[Method of Applying Protective Layer Transfer Foil with Antistatic Layer on Image Recording Material]
<Transfer method>
The transfer of the transfer foil to the material to be transferred can be usually performed by means such as a thermal head, a heat roller, a hot stamping machine or the like which can apply pressure while heating. Specifically, when using a hot stamping machine, heat to a surface temperature of 150 to 300 ° C. and apply heat for 0.5 to 10 seconds at a pressure of 50 to 500 kg / cm 2 using a heat roller having a diameter of 5 cm and a rubber hardness of 85. Transfer can be performed. As a specific use example of the present invention, a transfer cartridge 400 shown in FIG. 7 and a hot stamping device 500 shown in FIG. 8 are used.

[IDカード又はICカード作成装置]
以下、IDまたはICカード作成装置の実施の形態を図面に基づいて説明するが、この発明はこの実施の形態の説明及び図面に限定されるものではない。IDまたはICカード作成装置の実施の形態を、図14及び図15に示す。
[ID card or IC card making device]
Hereinafter, an embodiment of an ID or IC card creation device will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the description of the embodiments and the drawings. An embodiment of an ID or IC card creation device is shown in FIGS.

図14には、上方位置にカード基材供給部10及び情報記録部20が配置され、下方位置に、この発明の転写箔付与部60が配置され、画像記録体としてカードを作成するが、シートも作成することもできる。   In FIG. 14, a card base supply unit 10 and an information recording unit 20 are arranged at an upper position, and a transfer foil applying unit 60 of the present invention is arranged at a lower position, and a card is created as an image recording body. Can also be created.

カード基材供給部10には、カード使用者の個人情報を書き込むために予めカード状にカットされた複数枚のカード基材50が、顔写真を記録する面を上に向けてストックされている。この例では、IDカード基材またはICカード基材50が支持体と受像層からなり、このカード基材50は1枚ずつカード基材供給部10から所定のタイミングで自動供給される。   In the card base material supply unit 10, a plurality of card base materials 50 which have been cut into a card shape in advance for writing personal information of a card user are stocked with the face for recording a face photograph facing upward. . In this example, an ID card substrate or IC card substrate 50 is composed of a support and an image receiving layer, and the card substrates 50 are automatically supplied one by one from the card substrate supply unit 10 at a predetermined timing.

情報記録部20には、イエローリボンカセット21、マゼンタリボンカセット22、シアンリボンカセット23、ブラックリボンカセット24が配置され、それぞれに対応して記録ヘッド25〜28が配置されている。イエローリボン、マゼンタリボン、シアンリボン等の熱転写シートによる熱転写で、カード基材50が移動されている間に、その受像層の所定領域にカード使用者の顔写真等の諧調を有する画像領域が記録される。また、文字リボンカセット31及び記録ヘッド32が配置され、文字リボン等の熱転写シートによる熱転写で、その氏名やカード発行日等の認証識別情報が記録され、画像記録層が形成される。   In the information recording unit 20, a yellow ribbon cassette 21, a magenta ribbon cassette 22, a cyan ribbon cassette 23, and a black ribbon cassette 24 are arranged, and recording heads 25 to 28 are arranged corresponding to each of them. By thermal transfer using a thermal transfer sheet such as a yellow ribbon, a magenta ribbon, and a cyan ribbon, an image area having a gradation such as a photograph of the face of a card user is recorded in a predetermined area of the image receiving layer while the card base material 50 is being moved. Is done. Further, a character ribbon cassette 31 and a recording head 32 are arranged, and authentication identification information such as a name and a card issuance date is recorded by thermal transfer using a thermal transfer sheet such as a character ribbon to form an image recording layer.

転写箔付与部60では、転写箔カセット61が配置され、この転写箔カセット61に対応して熱転写ヘッド62が配置されている。この転写箔付与部60で光硬化層含有転写箔64を熱転写して、透明表面保護転写層が設けられる。   In the transfer foil applying section 60, a transfer foil cassette 61 is arranged, and a thermal transfer head 62 is arranged corresponding to the transfer foil cassette 61. The transfer foil applying section 60 thermally transfers the photo-curable layer-containing transfer foil 64 to provide a transparent surface protection transfer layer.

図15には、カード基材供給部10及び情報記録部20は同様に構成されるが、情報記録部20の次に転写箔付与部70が2機配置されている。   In FIG. 15, the card base material supply unit 10 and the information recording unit 20 have the same configuration, but two transfer foil applying units 70 are arranged next to the information recording unit 20.

転写箔付与部70には、転写箔カセット71が配置され、この転写箔カセット71に対応して熱転写ヘッド72が配置位置されている。転写箔カセット71に光硬化層含有転写箔74がセットされ熱転写して、透明表面保護転写層が設けられる。さらに次の工程で同様に転写箔付与部70には、転写箔カセット71が配置され、この転写箔カセット71に対応して熱転写ヘッド72が配置位置されている。転写箔カセット71に光硬化層含有転写箔74がセットされ熱転写して、透明表面保護転写層が設けられる。   A transfer foil cassette 71 is disposed in the transfer foil applying section 70, and a thermal transfer head 72 is disposed corresponding to the transfer foil cassette 71. A transfer foil 74 containing a photocurable layer is set on the transfer foil cassette 71 and thermally transferred to provide a transparent surface protection transfer layer. Further, in the next step, a transfer foil cassette 71 is similarly disposed in the transfer foil applying section 70, and a thermal transfer head 72 is disposed corresponding to the transfer foil cassette 71. A transfer foil 74 containing a photocurable layer is set on the transfer foil cassette 71 and thermally transferred to provide a transparent surface protection transfer layer.

[実施例]
<転写箔用基材の作製>
転写箔用支持体1
帝人デュポン株式会社製テトロンG2P8−25μPETを用い、帯電防止層とは逆側の片面にケイ砂を用い、中心線平均粗さ(Ra)が0.4μmとなるようにサンドマット加工処理を行った。その後、ケイ砂及び研磨カス等の残渣を取り除く為に水で処理面を洗浄し、乾燥し作製した。仕上がった支持体の一般式(1)は0.016、表面固有抵抗値は1.1×1013Ωとなった。
[Example]
<Preparation of transfer foil substrate>
Transfer foil support 1
Using Tetron G2P8-25μPET manufactured by Teijin Dupont Co., Ltd., using sand sand on one side opposite to the antistatic layer, a sand mat processing was performed so that the center line average roughness (Ra) became 0.4 μm. . Thereafter, the treated surface was washed with water in order to remove residues such as silica sand and polishing residue, and then dried to produce. The general formula (1) of the finished support was 0.016, and the surface resistivity was 1.1 × 10 13 Ω.

転写箔用支持体2
東レ株式会社製ルミラー#25 QT30 PETを用い、帯電防止層とは逆側の片面にヘアライン研磨用治具を用い、中心線平均粗さ(Ra)が0.2μmとなるようにヘアライン加工処理を行った。その後、研磨カス等の取り除く為に水で処理面を洗浄し、乾燥し作製した。仕上がった支持体の一般式(1)は0.008、表面固有抵抗値は4.2×1012Ωとなった。
Transfer foil support 2
Using Toray Co., Ltd. Lumirror # 25 QT30 PET, and using a hairline polishing jig on one side opposite to the antistatic layer, hairline processing is performed so that the center line average roughness (Ra) is 0.2 μm. went. Thereafter, the treated surface was washed with water to remove polishing residues and the like, and dried to produce the same. The general formula (1) of the finished support was 0.008, and the surface specific resistance was 4.2 × 10 12 Ω.

転写箔用支持体3
ユニチカ株式会社製エンブレット PTH 25μmPETを用い、片面にケイ砂を用い、中心線平均粗さ(Ra)が0.4μmとなるようにサンドマット加工処理を行った。その後、ケイ砂及び研磨カス等の残渣を取り除く為に水で処理面を洗浄し、乾燥し作製した。その後、下記の帯電防止層塗布液を、ワイヤーバー塗工し、120℃で2分間乾燥し、0.5μmの帯電防止層を具備した転写箔用支持体3を作製した。仕上がった支持体の一般式(1)は0.016、表面固有抵抗値は3.0×1010Ωとなった。ただしこの方法であると転写箔1、2と比較するとコストが高くなった。
Transfer foil support 3
A sand matting process was performed using Unitletka's emblem PTH 25 µm PET, using silica sand on one side, and having a center line average roughness (Ra) of 0.4 µm. Thereafter, the treated surface was washed with water in order to remove residues such as silica sand and polishing residue, and then dried to produce. Thereafter, the following antistatic layer coating solution was coated with a wire bar and dried at 120 ° C. for 2 minutes to prepare a transfer foil support 3 having a 0.5 μm antistatic layer. The general formula (1) of the finished support was 0.016, and the surface specific resistance was 3.0 × 10 10 Ω. However, in this method, the cost was higher than that of the transfer foils 1 and 2.

(帯電防止層の作成)
(導電性金属酸化物微粒子分散液−1の調製)
塩化第二錫水和物65gを水/エタノール混合溶液2000mlに溶解し、均一溶液を得た後、これを沸騰させて共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションにより取り出し、蒸留水にて沈殿を充分水洗した。沈殿を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩化物イオンの反応がないことを確認後、蒸留水を添加して固型分を8wt%に調製した。さらに30%アンモニア水を40ml加え、水浴中で加温し、導電性金属酸化物微粒子分散液−1を得た。
(帯電防止層塗布液組成物)
前記導電性金属酸化物微粒子分散液−1 300重量部
ブチルアクリレート/スチレン/グリシジルアクリレートの
重量比40/20/40の共重合体ラテックス液(固型分30重量%) 70重量部
ブチルアクリレート/t−ブチルアクリレート/スチレン/
2−ヒドロキシアクリレートの重量比10/45/30/15の
共重合体ラテックス液(固型分30重量%) 10重量部
純水 620重量部
転写箔用支持体4
東レ株式会社製ルミラー#50 QT30 PETを用い、帯電防止層とは逆側の片面にヘアライン研磨用治具を用い、中心線平均粗さ(Ra)が0.2μmとなるようにヘアライン加工処理を行った。その後、研磨カス等を取り除く為に水で処理面を洗浄し、乾燥し作製した。仕上がった支持体の一般式(1)は0.004、表面固有抵抗値は4.0×1012Ωとなった。
(Preparation of antistatic layer)
(Preparation of conductive metal oxide fine particle dispersion liquid-1)
65 g of stannic chloride hydrate was dissolved in 2000 ml of a water / ethanol mixed solution to obtain a homogeneous solution, which was then boiled to obtain a coprecipitate. The generated precipitate was taken out by decantation, and the precipitate was sufficiently washed with distilled water. Silver nitrate was dropped into distilled water from which the precipitate was washed, and after confirming that there was no reaction of chloride ions, distilled water was added to adjust the solid content to 8% by weight. Further, 40 ml of 30% aqueous ammonia was added, and the mixture was heated in a water bath to obtain a conductive metal oxide fine particle dispersion liquid-1.
(Antistatic layer coating solution composition)
Conductive metal oxide fine particle dispersion liquid-1 300 parts by weight Copolymer latex liquid having a weight ratio of butyl acrylate / styrene / glycidyl acrylate of 40/20/40 (solid content: 30% by weight) 70 parts by weight Butyl acrylate / t -Butyl acrylate / styrene /
Copolymer latex liquid having a weight ratio of 2-hydroxyacrylate of 10/45/30/15 (solid content: 30% by weight) 10 parts by weight Pure water 620 parts by weight Transfer foil support 4
Using Toray Co., Ltd. Lumirror # 50 QT30 PET, using a hairline polishing jig on one side opposite to the antistatic layer, and subjecting the hairline processing to a center line average roughness (Ra) of 0.2 μm. went. Thereafter, the treated surface was washed with water in order to remove polishing debris and the like, and dried to produce. The general formula (1) of the finished support was 0.004, and the surface resistivity was 4.0 × 10 12 Ω.

転写箔用支持体5
ユニチカ株式会社製エンブレット PTME 12μmPETを用い、片面にケイ砂を用い、中心線平均粗さ(Ra)が0.5μmとなるようにサンドマット加工処理を行った。その後、ケイ砂及び研磨カス等の残渣を取り除く為に水で処理面を洗浄し、乾燥し作製した。仕上がった支持体の一般式(1)は0.041、表面固有抵抗値は1.6×1013Ωとなった。支持体は穴あきの個所が数ヶ所あった。
Transfer foil support 5
A sand mat processing was performed using an emblem PTME 12 μm PET manufactured by Unitika Co., Ltd., using silica sand on one side, and a center line average roughness (Ra) of 0.5 μm. Thereafter, the treated surface was washed with water in order to remove residues such as silica sand and polishing residue, and then dried to produce. The general formula (1) of the finished support was 0.041, and the surface specific resistance was 1.6 × 10 13 Ω. The support had several perforated locations.

転写箔用支持体6
ユニチカ株式会社製エンブレット PTH 25μmPETを用い、片面にケイ砂を用い、中心線平均粗さ(Ra)が0.5μmとなるようにサンドマット加工処理を行った。その後、ケイ砂及び研磨カス等の残渣を取り除く為に水で処理面を洗浄し、乾燥し作製した。仕上がった支持体の一般式(1)は0.0020、表面固有抵抗値は>1016Ωとなった。
Transfer foil support 6
A sand mat processing was performed by using Unitletka's emblem PTH 25 μm PET, using silica sand on one side, and adjusting the center line average roughness (Ra) to 0.5 μm. Thereafter, the treated surface was washed with water in order to remove residues such as silica sand and polishing residue, and then dried to produce. The general formula (1) of the finished support was 0.0020, and the surface resistivity was> 10 16 Ω.

転写箔用支持体7
ユニチカ株式会社製エンブレット PTH 25μmPETを用い、祖面化をせずに使用した。粗面化していない為、一般式(1)は0.005以下となった。表面固有抵抗値は>1016Ωであった。
Transfer foil support 7
The unit was used without embedding by using Enbret PTH 25 μm PET manufactured by Unitika Ltd. Since the surface was not roughened, the value of the general formula (1) was 0.005 or less. The surface resistivity was> 10 16 Ω.

<転写箔用光硬化層評価結果>
ユニチカ株式会社エンブレットPTH 25μmに表1記載の光硬化層をトルエン/メチルエチルケトンの80/20の比率の塗布溶剤組成で固形分40%でワイヤーバーで塗工し、乾燥皮膜10μmにした。
<Evaluation result of photo-cured layer for transfer foil>
The photo-cured layer shown in Table 1 was coated on a 25 μm emullet PTH (Unitika Co., Ltd.) with a coating solvent composition of toluene / methyl ethyl ketone at a ratio of 80/20 at a solid content of 40% using a wire bar to give a dry film of 10 μm.

その後、メタルハライドランプにて積算露光量250mjで露光し、所望のサンプルを作成し、初期破断伸度、50°3日経時後破断伸度を測定した。この発明で作成した光硬化層組成及び結果を表1に表す。   Thereafter, exposure was performed using a metal halide lamp at an integrated exposure amount of 250 mj to prepare a desired sample, and the initial elongation at break and elongation at break after 50 ° C. for 3 days were measured. Table 1 shows the composition and results of the photocurable layer prepared according to the present invention.

<転写箔の作製>
下記記載の転写箔用支持体、離型層、光硬化層、中間層、プライマー層、接着層を順次形成し転写箔を作製した。この発明で作製した転写箔は表2に示す。
表2

Figure 2004345350
<Preparation of transfer foil>
A transfer foil was prepared by sequentially forming a transfer foil support, a release layer, a photocurable layer, an intermediate layer, a primer layer, and an adhesive layer described below. Table 2 shows the transfer foil produced according to the present invention.
Table 2
Figure 2004345350

[転写箔用樹脂1の合成]
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタアクリル酸エチル73部、ベンジルメメタアクリレート15部、メタアクリル酸12部とエタノール500部、α、α′−アゾビスイソブチロニトリル3部を入れ、窒素気流中80℃のオイルバスで6時間反応させた。その後、トリエチルアンモニウムクロライド3部、グリシジルメタクリレート1.0部を加え、3時間反応させ目的のアクリル系共重合体の合成バインダー1を得た。Mw.17000、酸価32
[転写箔用支持体]
前記記載の転写箔用支持体1〜7を使用した。
[Synthesis of Transfer Foil Resin 1]
In a three-necked flask under a nitrogen stream, put 73 parts of ethyl methacrylate, 15 parts of benzyl methacrylate, 12 parts of methacrylic acid and 500 parts of ethanol, and 3 parts of α, α'-azobisisobutyronitrile, and place in a nitrogen stream. The reaction was performed in an oil bath at 80 ° C. for 6 hours. Thereafter, 3 parts of triethylammonium chloride and 1.0 part of glycidyl methacrylate were added and reacted for 3 hours to obtain a desired synthetic binder 1 of an acrylic copolymer. Mw. 17000, acid value 32
[Support for transfer foil]
The transfer foil supports 1 to 7 described above were used.

[転写箔用離型層の調整]
剥離力に起因する離型層は、表3に記載の離型層材料を使用した。ワイヤーバーコーティングにて塗工し100℃30sec乾燥して、表記載付量にし形成した。
表3

Figure 2004345350
[Adjustment of release layer for transfer foil]
The release layer material shown in Table 3 was used for the release layer caused by the peeling force. It was applied by wire bar coating, dried at 100 ° C. for 30 seconds, and formed to the amount described in the table.
Table 3
Figure 2004345350

[光硬化層]
前記表1で記載した光硬化層を用いトルエン/メチルエチルケトンの80/20の比率の塗布溶剤組成で固形分40%でワイヤーバーで塗工し、乾燥皮膜10μmにした。100℃20sec乾燥後、メタルハライドランプにて積算露光量250mjで露光し、光硬化層を形成した。
[Light cured layer]
Using the photocurable layer described in Table 1 above, a coating solvent composition of toluene / methyl ethyl ketone at a ratio of 80/20 was applied using a wire bar at a solid content of 40% to form a dry film of 10 μm. After drying at 100 ° C. for 20 seconds, exposure was performed using a metal halide lamp at an integrated exposure amount of 250 mj to form a photocured layer.

[中間層]
下記中間層液を用い、ワイヤーバーで塗工し、100℃30secで乾燥し乾燥皮膜0.5μmを形成した。塗布後硬化剤の硬化は、50℃、24時間で行った。
中間層1塗布液の作製
ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕 5部
熱可塑性エラストマー(ダイセル化学工業(株)製:エポフレンドCT310) 3部
硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 2部
メチルエチルケトン 30部
トルエン 70部
中間層2塗布液の作製
ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕 5部
熱可塑性エラストマー(ダイセル化学工業(株)製:エポフレンドCT310) 2.5部
紫外線吸収剤(チバガイギー(株)製TINUVIN−400) 0.5部
硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 2部
メチルエチルケトン 30部
トルエン 70部
[プライマー層]
下記プライマー層液を用い、ワイヤーバーで塗工し、100℃30secで乾燥し、1.0μmにした。
プライマー層1塗布液の作製
ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕 4部
熱可塑性エラストマー(ダイセル化学工業(株)製:エポフレンドCT310) 4部
硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 2部
メチルエチルケトン 30部
トルエン 70部
プライマー層2塗布液の作製
ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕2.3部
熱可塑性エラストマー(ダイセル化学工業(株)製:エポフレンドCT310) 7部
紫外線吸収剤(チバガイギー(株)製TINUVIN−400) 0.5部
光安定化剤(チバガイギー(株)製TINUVIN−123) 0.2部
硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 2部
メチルエチルケトン 30部
トルエン 70部
[接着層]
下記接着層液を用い、ワイヤーバーで塗工し、70℃30secで乾燥し、0.5μmにした。
[Intermediate layer]
The following intermediate layer solution was applied using a wire bar, and dried at 100 ° C. for 30 seconds to form a dry film of 0.5 μm. After application, the curing agent was cured at 50 ° C. for 24 hours.
Preparation of coating solution for middle layer 1 Polyvinyl butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd .: Esrec BX-1) 5 parts thermoplastic elastomer (Daicel Chemical Industries, Ltd .: Epofriend CT310) 3 parts Curing agent Polyisocyanate [Coronate HX] Nippon Polyurethane] 2 parts Methyl ethyl ketone 30 parts Toluene 70 parts Preparation of coating solution for intermediate layer 2 Polyvinyl butyral resin [manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd .: SREC BX-1] 5 parts thermoplastic elastomer (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd .: Epo 2.5 parts UV absorber (TINUVIN-400 manufactured by Ciba Geigy) 0.5 part Curing agent Polyisocyanate [Coronate HX Nippon Polyurethane] 2 parts Methyl ethyl ketone 30 parts Toluene 70 parts [Primer layer]
Using the following primer layer solution, coating was performed with a wire bar, and the coating was dried at 100 ° C. for 30 seconds to 1.0 μm.
Preparation of Primer Layer 1 Coating Solution Polyvinyl butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd .: Esrec BX-1) 4 parts thermoplastic elastomer (Daicel Chemical Industries, Ltd .: Epofriend CT310) 4 parts Curing agent Polyisocyanate [Coronate HX] Nippon Polyurethane] 2 parts Methyl ethyl ketone 30 parts Toluene 70 parts Preparation of coating solution for primer layer 2 Polyvinyl butyral resin [manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd .: Esrec BX-1] 2.3 parts Thermoplastic elastomer (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) : Epofriend CT310) 7 parts UV absorber (TINUVIN-400, Ciba-Geigy) 0.5 part Light stabilizer (TINUVIN-123, Ciba-Geigy) 0.2 part Curing agent Polyisocyanate [Coronate HX Japan Polyurethane] 2 parts methyl ethyl ketone 30 parts Toluene 70 parts [Adhesive layer]
Using the following adhesive layer liquid, it was applied with a wire bar and dried at 70 ° C. for 30 seconds to 0.5 μm.

接着層1塗布液の作製
ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部
ポリアクリル酸エステル共重合体〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部
水 45部
エタノール 45部
接着層2塗布液の作製
ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 9部
ポリアクリル酸エステル共重合体〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT210〕 1部
水 45部
エタノール 45部
<転写箔転写方法>
下記記載の顔画像、文字情報を記載した後、転写箔を用いて表面温度200℃に加熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用いて圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をかけて転写を行なった。上記転写箔は、下記記載の画像記録体上に画像形成後転写した。
<IDカード基材1の作成>
厚さ350μmのポリエチレンテレフタレート〔帝人(株)製:テトロンHS350〕の両面に白色ポリプロピレン樹脂〔三菱油化(株)製:ノーブレンFL25HA〕をエクストルージョンラミネート法で厚み50μmになるように設けた。得られた複合樹脂シートの一方の面に25W/m2・分でコロナ放電処理を施し、このシートを支持体とした。
Preparation of Adhesive Layer 1 Coating Solution Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254B] 8 parts Polyacrylate ester copolymer [Nippon Pure Chemical Co., Ltd .: Julimer AT510] 2 parts Water 45 parts Ethanol 45 parts Preparation of coating solution for adhesive layer 2 Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254B] 9 parts Polyacrylate ester copolymer [manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.] : Julimer AT210] 1 part Water 45 parts Ethanol 45 parts <Transfer foil transfer method>
After describing the face image and the character information described below, heat was applied at a pressure of 150 kg / cm 2 for 1.2 seconds using a heat roller having a diameter of 5 cm and a rubber hardness of 85, which was heated to a surface temperature of 200 ° C. using a transfer foil. Transfer was performed. The transfer foil was transferred after image formation on the image recording medium described below.
<Preparation of ID card substrate 1>
A white polypropylene resin (Noblen FL25HA, manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd.) was provided on both sides of a 350 μm-thick polyethylene terephthalate (Tetron HS350, manufactured by Teijin Limited) by extrusion lamination to a thickness of 50 μm. One surface of the obtained composite resin sheet was subjected to a corona discharge treatment at 25 W / m 2 · min, and this sheet was used as a support.

(受像層形成)
前記支持体のコロナ放電処理した面に下記組成の第1受像層形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液及び第3受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが0.2μm、2.5μm、0.5μmになるように積層することにより受像層を形成した。
〈第1受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 9部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBL−1〕
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 6部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕
金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第3受像層形成用塗工液〉
ポリエチレンワックス 2部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕
メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部
水 90部
(フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)
その上に、定型フォーマットをUV印刷インキ(FD−O墨、成東インキ製)を用いて、凸版印刷により設けた。さらに、その上の昇華熱転写画像記録領域を除いた領域に、透明なUV硬化型OPニス(FD−Oドライコートニス、成東インキ製)を凸版印刷により印刷濃度及び印圧等を調整しながら中心線平均粗さ(Ra)が0.4μmになるようにし、この発明のIDカード用基材を得た。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Image receiving layer formation)
A coating liquid for forming a first image-receiving layer, a coating liquid for forming a second image-receiving layer, and a coating liquid for forming a third image-receiving layer having the following compositions are coated and dried in this order on the corona discharge-treated surface of the support, The image receiving layers were formed by laminating the respective layers so that the thicknesses became 0.2 μm, 2.5 μm, and 0.5 μm.
<Coating liquid for forming first image receiving layer>
9 parts of polyvinyl butyral resin [Sekisui Chemical Co., Ltd .: Eslec BL-1]
1 part of isocyanate [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX]
80 parts of methyl ethyl ketone 10 parts of butyl acetate <Coating solution for forming second image receiving layer>
6 parts of polyvinyl butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-LEC BX-1)
Metal ion-containing compound (Compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming third image receiving layer>
2 parts of polyethylene wax [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000]
8 parts of urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254]
Methylcellulose (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15) 0.1 part Water 90 parts
A fixed format was provided thereon by letterpress printing using UV printing ink (FD-O black, manufactured by Naruto Ink). Further, a transparent UV-curable OP varnish (FD-O dry coat varnish, manufactured by Naruto Ink) is applied to the area excluding the sublimation thermal transfer image recording area by letterpress printing while adjusting the printing density and printing pressure. The linear average roughness (Ra) was adjusted to 0.4 μm to obtain an ID card base material of the present invention. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

(筆記層形成)
支持体上の受像層とは反対面に王子油化(株)製:ユポDFG−65シートを貼合し下記組成の第1筆記層形成用塗工液、第2筆記層形成用塗工液及び第3筆記層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが5μm、15μm、0.2μmになる様に積層することにより受像層を形成した。
〈第1筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
カーボンブラック 微量
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂 4部
〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕
シリカ 5部
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
水 90部
〈第3筆記層形成用塗工液〉
ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部
メタノール 95部
(フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)
その上に、定型フォーマットをUV印刷インキ(FD−O墨、成東インキ製)を用いて、凸版印刷により設けた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Writing layer formation)
On the opposite side of the support from the image receiving layer, Opo Yuka Co., Ltd .: Yupo DFG-65 sheet is laminated, and a first writing layer forming coating liquid and a second writing layer forming coating liquid having the following composition are applied. And a coating liquid for forming a third writing layer were applied and dried in this order, and laminated so that their thicknesses were 5 μm, 15 μm, and 0.2 μm, thereby forming an image receiving layer.
<Coating liquid for forming first writing layer>
Polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Byron 200] 8 parts Isocyanate 1 part [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX]
Carbon black trace amount of titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second writing layer>
4 parts of polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Vironal MD1200]
Silica 5 parts Titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Water 90 parts <Coating liquid for forming the third writing layer>
Polyamide resin [manufactured by Sanwa Chemical Industry Co., Ltd .: Sunmide 55] 5 parts Methanol 95 parts (formation of information carrier composed of format print layer)
A fixed format was provided thereon by letterpress printing using UV printing ink (FD-O black, manufactured by Naruto Ink). UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

上記より作成された、受像層、筆記層を有するシートをロールカッターで化粧断裁をし55mm×85mmサイズのIDカード基材1を作成した。カード厚は、490μmであった。   The sheet having the image receiving layer and the writing layer formed as described above was cut and trimmed with a roll cutter to prepare an ID card substrate 1 having a size of 55 mm × 85 mm. The card thickness was 490 μm.

<IDカード基材2の作成>
厚さ350μmのポリエチレンテレフタレート〔帝人(株)製:テトロンHS350〕の両面に白色ポリプロピレン樹脂〔三菱油化(株)製:ノーブレンFL25HA〕をエクストルージョンラミネート法で厚み50μmになるように設けた。得られた複合樹脂シートの一方の面に25W/m2・分でコロナ放電処理を施し、このシートを支持体とした。
<Preparation of ID card base material 2>
A white polypropylene resin (Noblen FL25HA, manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd.) was provided on both sides of a 350 μm-thick polyethylene terephthalate (Tetron HS350, manufactured by Teijin Limited) by extrusion lamination to a thickness of 50 μm. One surface of the obtained composite resin sheet was subjected to a corona discharge treatment at 25 W / m 2 · min, and this sheet was used as a support.

(受像層形成)
前記支持体のコロナ放電処理した面に下記組成の第1受像層形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液及び第3受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが0.2μm、2.5μm、0.5μmになるように積層することにより受像層を形成した。
〈第1受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 9部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBL−1〕
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 6部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕
金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第3受像層形成用塗工液〉
ポリエチレンワックス 2部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕
メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部
水 90部
(フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)
その上に、定型フォーマットをUV印刷インキ(FD−O墨、成東インキ製)を用いて、凸版印刷により設けた。さらに、その上の昇華熱転写画像記録領域を除いた領域に、表面加飾用UVクリアー(FUN−COAT DPL−K、十条ケミカル株式会社)をスクリーン印刷により200メッシュで印刷した。中心線平均粗さ(Ra)が0.8μmになるこの発明のIDカード用基材を得た。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Image receiving layer formation)
A coating liquid for forming a first image-receiving layer, a coating liquid for forming a second image-receiving layer, and a coating liquid for forming a third image-receiving layer having the following compositions are coated and dried in this order on the corona discharge-treated surface of the support, The image receiving layers were formed by laminating the respective layers so that the thicknesses became 0.2 μm, 2.5 μm, and 0.5 μm.
<Coating liquid for forming first image receiving layer>
9 parts of polyvinyl butyral resin [Sekisui Chemical Co., Ltd .: Eslec BL-1]
1 part of isocyanate [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX]
80 parts of methyl ethyl ketone 10 parts of butyl acetate <Coating solution for forming second image receiving layer>
6 parts of polyvinyl butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-LEC BX-1)
Metal ion-containing compound (Compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming third image receiving layer>
2 parts of polyethylene wax [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000]
8 parts of urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254]
Methylcellulose (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15) 0.1 part Water 90 parts
A fixed format was provided thereon by letterpress printing using UV printing ink (FD-O black, manufactured by Naruto Ink). Further, in an area other than the sublimation thermal transfer image recording area, UV clear for surface decoration (FUN-COAT DPL-K, Jujo Chemical Co., Ltd.) was printed at 200 mesh by screen printing. The base material for an ID card of the present invention having a center line average roughness (Ra) of 0.8 μm was obtained. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

(筆記層形成)
支持体上の受像層とは反対面に王子油化(株)製:ユポDFG−65シートを貼合し下記組成の第1筆記層形成用塗工液、第2筆記層形成用塗工液及び第3筆記層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが5μm、15μm、0.2μmになる様に積層することにより受像層を形成した。
〈第1筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
カーボンブラック 微量
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂 4部
〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕
シリカ 5部
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
水 90部
〈第3筆記層形成用塗工液〉
ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部
メタノール 95部 (フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)
その上に、定型フォーマットをUV印刷インキ(FD−O墨、成東インキ製)を用いて、凸版印刷により設けた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Writing layer formation)
On the opposite side of the support from the image receiving layer, Opo Yuka Co., Ltd .: Yupo DFG-65 sheet is laminated, and a first writing layer forming coating liquid and a second writing layer forming coating liquid having the following composition are applied. And a coating liquid for forming a third writing layer were applied and dried in this order, and laminated so that their thicknesses were 5 μm, 15 μm, and 0.2 μm, thereby forming an image receiving layer.
<Coating liquid for forming first writing layer>
Polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Byron 200] 8 parts Isocyanate 1 part [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX]
Carbon black trace amount of titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second writing layer>
4 parts of polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Vironal MD1200]
Silica 5 parts Titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Water 90 parts <Coating liquid for forming the third writing layer>
Polyamide resin [manufactured by Sanwa Chemical Industry Co., Ltd .: Sunmide 55] 5 parts Methanol 95 parts (formation of information carrier composed of format print layer)
A fixed format was provided thereon by letterpress printing using UV printing ink (FD-O black, manufactured by Naruto Ink). UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

上記より作成された、受像層、筆記層を有するシートをロールカッターで化粧断裁をし55mm×85mmサイズのIDカード基材2を作成した。カード厚は、490μmであった。   The sheet having the image receiving layer and the writing layer prepared as described above was cut and trimmed with a roll cutter to prepare an ID card substrate 2 having a size of 55 mm × 85 mm. The card thickness was 490 μm.

<IDカード基材3の作成>
(第1シート部材(受像シート)の作成)
表面シートおよび裏面シートとして帝人デュポンフィルム株式会社製のU2L98W(帯電防止層付き)の厚さ188μm白色支持体を使用した。下記組成物からなるクッション層、受像層、情報坦持体層を順次塗工乾燥してなる第1シート部材を形成した。
(光硬化型クッション層) 膜厚10μm
ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA512) 55部
ポリエステルアクリレート(東亞合成社製:アロニックスM6200) 15部
ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA4000) 25部
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ:イルガキュア184) 5部
メチルエチルケトン 100部
塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30secで乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で光硬化を行った。
<Preparation of ID card base material 3>
(Preparation of the first sheet member (image receiving sheet))
A 188 μm-thick U2L98W (with an antistatic layer) white support manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd. was used as a top sheet and a back sheet. A first sheet member was formed by sequentially applying and drying a cushion layer, an image receiving layer, and an information carrier layer comprising the following composition.
(Light-curing cushion layer) 10 μm thick
Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA512) 55 parts Polyester acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd .: Aronix M6200) 15 parts Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA4000) 25 parts Hydroxycyclohexyl phenyl ketone ( Ciba Specialty Chemicals: Irgacure 184) 5 parts Methyl ethyl ketone 100 parts After application, the actinic ray-curable compound was dried at 90 ° C./30 sec, and then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ).

(受像層)
上記クッション層上に下記組成の第1受像層形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが2.5μm、0.5μmになる様に積層することにより受像層を形成した。
〈第1受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 6部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕
金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2受像層形成用塗工液〉
ポリエチレンワックス 2部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕
メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部
水 90部
(フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)
その上に、定型フォーマットをUV印刷インキ(FD−O墨、成東インキ製)を用いて、凸版印刷により設けた。さらに、その上の昇華熱転写画像記録領域を除いた領域に、透明なUV硬化型OPニス(FD−Oドライコートニス、成東インキ製)を凸版印刷により印刷濃度及び印圧等を調整しながら中心線平均粗さ(Ra)が0.4μmになるようにし、この発明のIDカード用基材を得た。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Image receiving layer)
A coating solution for forming a first image receiving layer and a coating solution for forming a second image receiving layer having the following composition are applied and dried in this order on the cushion layer so that the thicknesses thereof become 2.5 μm and 0.5 μm, respectively. The image receiving layer was formed by laminating.
<Coating liquid for forming first image receiving layer>
6 parts of polyvinyl butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-LEC BX-1)
Metal ion-containing compound (Compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating solution for forming second image receiving layer>
2 parts of polyethylene wax [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000]
8 parts of urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254]
Methylcellulose [Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15] 0.1 parts Water 90 parts (formation of information carrier composed of format print layer)
A fixed format was provided thereon by letterpress printing using UV printing ink (FD-O black, manufactured by Naruto Ink). Further, a transparent UV-curable OP varnish (FD-O dry coat varnish, manufactured by Naruto Ink) is applied to the area excluding the sublimation thermal transfer image recording area by letterpress printing while adjusting the printing density and printing pressure. The linear average roughness (Ra) was adjusted to 0.4 μm to obtain an ID card base material of the present invention. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

(第2シート部材(筆記シート)の作成)
第1シート部材の表面シートおよび第2シート部材の裏面シートとして帝人デュポンフィルム株式会社製のU2L98W(帯電防止層付き)の厚さ188μm白色支持体を使用した。下記組成物からなる筆記層をそれぞれの厚みが5μm、15μm、0.2μmになる様に順次塗工乾燥してなる第2シート部材を形成した。
〈第1筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
カーボンブラック 微量
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂 4部
〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕
シリカ 5部
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
水 90部
〈第3筆記層形成用塗工液〉
ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部
メタノール 95部
(筆記層への情報担持体層の形成)
オフセット印刷法により、フォーマット印刷(罫線、発行者名、発行者電話番号)を行った。印刷インキはUV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Preparation of the second sheet member (writing sheet))
As a top sheet of the first sheet member and a back sheet of the second sheet member, a U2L98W (with an antistatic layer) 188 μm thick white support manufactured by Teijin Dupont Films Co., Ltd. was used. A second sheet member was formed by sequentially applying and drying writing layers made of the following compositions so that the thicknesses became 5 μm, 15 μm, and 0.2 μm, respectively.
<Coating liquid for forming first writing layer>
Polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Byron 200] 8 parts Isocyanate 1 part [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX]
Carbon black trace amount of titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second writing layer>
4 parts of polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Vironal MD1200]
Silica 5 parts Titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Water 90 parts <Coating liquid for forming the third writing layer>
Polyamide resin (manufactured by Sanwa Chemical Industry Co., Ltd .: Sunmide 55) 5 parts Methanol 95 parts (formation of information carrier layer on writing layer)
Format printing (ruled lines, issuer name, issuer telephone number) was performed by the offset printing method. The printing ink used was UV black ink. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

上記作成された、第1シート部材の支持体側に130℃にホットメルトしたHenkel社製Macroplast QR3460を塗工し、更に第2シート部材の支持体側に130℃にホットメルトしたHenkel社製Macroplast QR3460を塗工し、加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.2kg/cm2、加熱温度は60℃で貼り合わせを行い、更に23℃/55%で7日保存後、ロールカッターで化粧断裁をし55mm×85mmサイズのIDカード基材3を得た。カード厚は、740μmであった。 On the support side of the first sheet member prepared above, Macroplast QR3460 manufactured by Henkel Co., Ltd. hot-melted at 130 ° C. was applied, and on the support side of the second sheet member, Macroplast QR3460 manufactured by Henkel Co., Ltd. hot-melted at 130 ° C. coated, pressure, heat roll condition, the pressure is 0.2 kg / cm 2, the heating temperature is performed bonding at 60 ° C., further after storage 7 days at 23 ° C. / 55%, cosmetics cutting a roll cutter Then, an ID card base material 3 having a size of 55 mm × 85 mm was obtained. The card thickness was 740 μm.

[ICカード基材作成方法]
図16のICカード基材作成装置でICカード基材を作成した。以下、ICカード基材作成装置について説明する。
[IC card base material making method]
An IC card base material was prepared using the IC card base material forming apparatus shown in FIG. Hereinafter, the IC card base material producing apparatus will be described.

図17は代表的な第1シート部材を示し、図18は第2シート部材を示す。   FIG. 17 shows a typical first sheet member, and FIG. 18 shows a second sheet member.

<電子部品実施例>
[発明の実施の形態]
以下、図面を参照しながら、この発明の実施形態としての画像記録体、その製造装置及びその製造方法について説明をする。
<Example of electronic components>
[Embodiment of the invention]
Hereinafter, an image recording body, an apparatus for manufacturing the same, and a method for manufacturing the same will be described with reference to the drawings.

<IC搭載カード基材及び受像層付きIC搭載カード基材の作成方法>
図19はIC搭載カード基材及び受像層付きIC搭載カード基材の積層構造例を示す図である。
<Method of making IC-mounted card substrate and IC-mounted card substrate with image receiving layer>
FIG. 19 is a diagram showing an example of a laminated structure of an IC mounting card base and an IC mounting card base with an image receiving layer.

図20乃至図22は、図19に記載してある電子部品固定層の詳細な図面である。図20はICモジュールの模式図であり、銅線を4回巻いたアンテナコイル101にICチップ100が接合されている。この発明の固定層として図20の形態を用いることは可能であるが、好ましくはICチップ100の位置精度から図21及び図22のタイプを使用することが好ましい。   20 to 22 are detailed drawings of the electronic component fixing layer shown in FIG. FIG. 20 is a schematic diagram of an IC module in which an IC chip 100 is joined to an antenna coil 101 in which a copper wire is wound four times. Although it is possible to use the form shown in FIG. 20 as the fixed layer of the present invention, it is preferable to use the types shown in FIGS.

図21及び図22はこの発明に用いた電子部品固定層の模式図である。図21は不織布タイプであり、プリントパターンが形成された不織布103とICチップ100がボンディング等で接合されている模式図である。日立マクセル株式会社製ICカードシート「FTシリーズ」も使用することも可能である。   FIG. 21 and FIG. 22 are schematic views of the electronic component fixing layer used in the present invention. FIG. 21 is a schematic diagram of a nonwoven fabric type, in which a nonwoven fabric 103 on which a print pattern is formed and an IC chip 100 are joined by bonding or the like. It is also possible to use an IC card sheet "FT series" manufactured by Hitachi Maxell, Ltd.

図22はプリント基板タイプであり、プリントパターンが形成されたプリント基板104とICチップ100がボンディング等で接合されている模式図である。図21のような不織布シート、即ち多孔質状の樹脂シートを使用すると、加熱貼合時の接着剤の含浸性が良くなって部材間の接着性が優位になる。また、ICチップ100は、補強板102によって曲げや押圧等に対して補強する。 この発明では、図21、または図22の何れかを用い、図19に示すICカードを作成した。ICカードは、第1シート部材110と、第2シート部材111との間に、接着層112,113によって図21または図22の所定の厚みの電子部品固定層114を介在させて作成した。   FIG. 22 is a schematic diagram of a printed circuit board type, in which a printed circuit board 104 on which a printed pattern is formed and an IC chip 100 are joined by bonding or the like. When a nonwoven fabric sheet as shown in FIG. 21, that is, a porous resin sheet, is used, the impregnating property of the adhesive at the time of heat bonding is improved, and the adhesiveness between members becomes superior. The IC chip 100 is reinforced by a reinforcing plate 102 against bending and pressing. In the present invention, the IC card shown in FIG. 19 was created using either FIG. 21 or FIG. The IC card was prepared by interposing an electronic component fixing layer 114 having a predetermined thickness shown in FIG. 21 or FIG. 22 between the first sheet member 110 and the second sheet member 111 with adhesive layers 112 and 113.

[ICカード基材作成装置]
次に、実施の形態としてのICカード基材作成装置について説明をする。図16はICカード基材作成装置を示す斜視図である。この発明のICカード基材作成装置は、長尺シート状で厚さ188μmの第1シート部材(裏面シート)と、枚葉シート状で厚さ188μmの第2シート部材(表面シート)とが配備される。第1シート部材(受像シート)搬送工程と第2シート部材(筆記シート)搬送工程を配備し、第1シート部材(受像シート)供給部600から第1シート部材を供給し、第2シート部材(筆記シート)供給部601から第2シート部材を供給する。
[IC card base making device]
Next, an IC card base material producing apparatus as an embodiment will be described. FIG. 16 is a perspective view showing an IC card base material producing apparatus. The IC card base material producing apparatus of the present invention includes a first sheet member (back sheet) having a long sheet shape and a thickness of 188 μm and a second sheet member (top sheet) having a single sheet shape and a thickness of 188 μm. Is done. A first sheet member (image receiving sheet) conveying step and a second sheet member (writing sheet) conveying step are provided, the first sheet member is supplied from the first sheet member (image receiving sheet) supply section 600, and the second sheet member ( A second sheet member is supplied from a writing sheet (supply unit) 601.

第1シート部材に低温接着剤供給部610からICカード用接着剤、具体的にはヘンケルジャパン株式会社製、湿気硬化型ホットメルト接着剤マクロプラストQR3460接着剤を130℃で窒素下で溶融し、低温接着剤供給部610からTダイ塗布方式により接着剤供給し、その塗布部上に厚さ約300μmの図21または図22から構成される電子部品をIC/固定部材供給部612から配置される。   An IC card adhesive, specifically, a moisture-curable hot melt adhesive Macroplast QR3460 adhesive manufactured by Henkel Japan Co., Ltd. is melted at 130 ° C. under nitrogen from the low-temperature adhesive supply unit 610 to the first sheet member, An adhesive is supplied from the low-temperature adhesive supply unit 610 by a T-die coating method, and an electronic component having a thickness of about 300 μm and including FIG. 21 or FIG. .

長尺シート状で厚さ188μmの第2シート部材に低温接着剤供給部611からICカード用接着剤、具体的にはヘンケルジャパン株式会社製、湿気硬化型ホットメルト接着剤マクロプラストQR3460接着剤を130℃で窒素下で溶融し、低温接着剤供給部611からTダイ塗布方式により接着剤供給した。   An IC card adhesive, specifically, a moisture-curable hot melt adhesive Macroplast QR3460 adhesive manufactured by Henkel Japan Co., Ltd. is applied to the second sheet member having a long sheet shape and a thickness of 188 μm from the low-temperature adhesive supply unit 611. The mixture was melted at 130 ° C. under nitrogen, and the adhesive was supplied from a low-temperature adhesive supply unit 611 by a T-die coating method.

低温接着剤塗工された第1シート部材を第1シート搬送部材620で搬送し、この第1シート部材と第2シート部材を加熱/加圧ロール621(圧力3kg/cm2、ロール表面温度70℃)により貼合され、膜厚制御ロール622により740μmに制御されたICカード基材原版が作成され、IC搭載カード基材搬送部材623で取り出される。 The first sheet member coated with the low-temperature adhesive is conveyed by a first sheet conveying member 620, and the first sheet member and the second sheet member are heated / pressed by a roll 621 (pressure 3 kg / cm 2 , roll surface temperature 70). C), and the IC card base material is controlled to 740 μm by the film thickness control roll 622, and is taken out by the IC mounted card base material transport member 623.

このICカード基材原版は、接着剤の硬化、支持体との密着性が十分に行われてから化粧断裁することが好ましく、この発明では、23℃/55%環境下で10日硬化促進させた後、ICカード基材原版をロータリーカッターにより55mm×85mmサイズのICカード基材を得ることができた。仕上がったカード基材表裏面にフォーマット印刷部がない場合は、カード印刷機により凸版印刷法で、ロゴとOPニスを順次印刷した。   It is preferable that the IC card base material is cut after the curing of the adhesive and the adhesion to the support are sufficiently performed. In the present invention, the curing is accelerated for 10 days at 23 ° C./55%. After that, an IC card substrate having a size of 55 mm × 85 mm was obtained from the original IC card substrate with a rotary cutter. When there was no format printing part on the front and back surfaces of the finished card base material, a logo and an OP varnish were sequentially printed by a letterpress printing method using a card printer.

図23はICカードまたはIDカード基材表面図であり、図24はICカードまたはIDカード基材裏面図である。図25はICカードまたはIDカード表面図であり、図26はICカードまたはIDカード裏面図である。   FIG. 23 is a front view of the IC card or ID card base material, and FIG. 24 is a rear view of the IC card or ID card base material. FIG. 25 is a front view of the IC card or the ID card, and FIG. 26 is a rear view of the IC card or the ID card.

<ICカード基材1の作成>
(第1シート部材(受像シート)の作成)
表面シートおよび裏面シートとして帝人デュポンフィルム株式会社製のU2L98W(帯電防止層付き)の厚さ188μm白色支持体を使用した。下記組成物からなるクッション層、受像層、情報坦持体層を順次塗工乾燥してなる第1シート部材を形成した。
(光硬化型クッション層) 膜厚10μm
ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA512) 55部
ポリエステルアクリレート(東亞合成社製:アロニックスM6200) 15部
ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA4000) 25部
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ:イルガキュア184) 5部
メチルエチルケトン 100部
塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30secで乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で光硬化を行った。
<Preparation of IC card substrate 1>
(Preparation of the first sheet member (image receiving sheet))
A 188 μm-thick U2L98W (with an antistatic layer) white support manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd. was used as a top sheet and a back sheet. A first sheet member was formed by sequentially applying and drying a cushion layer, an image receiving layer, and an information carrier layer comprising the following composition.
(Light-curing cushion layer) 10 μm thick
Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA512) 55 parts Polyester acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd .: Aronix M6200) 15 parts Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA4000) 25 parts Hydroxycyclohexyl phenyl ketone ( Ciba Specialty Chemicals: Irgacure 184) 5 parts Methyl ethyl ketone 100 parts After application, the actinic ray-curable compound was dried at 90 ° C./30 sec, and then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ).

(受像層)
上記クッション層上に下記組成の第1受像層形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが2.5μm、0.5μmになるように積層することにより受像層を形成した。
〈第1受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 6部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕
金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2受像層形成用塗工液〉
ポリエチレンワックス 2部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕
メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部
水 90部
(フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)
その上に、定型フォーマットをUV印刷インキ(FD−O墨、成東インキ製)を用いて、凸版印刷により設けた。さらに、その上の昇華熱転写画像記録領域を除いた領域に、透明なUV硬化型OPニス(FD−Oドライコートニス、成東インキ製)を凸版印刷により印刷濃度及び印圧等を調整しながら中心線平均粗さ(Ra)が0.4μmになるようにし、本発明のIDカード用基材を得た。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Image receiving layer)
A coating solution for forming a first image receiving layer and a coating solution for forming a second image receiving layer having the following composition are applied and dried in this order on the cushion layer so that the thicknesses thereof become 2.5 μm and 0.5 μm, respectively. The image receiving layer was formed by laminating.
<Coating liquid for forming first image receiving layer>
6 parts of polyvinyl butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-LEC BX-1)
Metal ion-containing compound (Compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating solution for forming second image receiving layer>
2 parts of polyethylene wax [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000]
8 parts of urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254]
Methylcellulose (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15) 0.1 part Water 90 parts
A fixed format was provided thereon by letterpress printing using UV printing ink (FD-O black, manufactured by Naruto Ink). Further, a transparent UV-curable OP varnish (FD-O dry coat varnish, manufactured by Naruto Ink) is applied to the area excluding the sublimation thermal transfer image recording area by letterpress printing while adjusting the printing density and printing pressure. The linear average roughness (Ra) was adjusted to 0.4 μm to obtain an ID card base material of the present invention. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

(第2シート部材(筆記シート)の作成)
表面シートおよび裏面シートとして帝人デュポンフィルム株式会社製のU2L98W(帯電防止層付き)の厚さ188μm白色支持体を使用した。下記組成物からなる筆記層をそれぞれの厚みが5μm、15μm、0.2μmになる様に順次塗工乾燥してなる第2シート部材を形成した。
〈第1筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
カーボンブラック 微量
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂 4部
〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕
シリカ 5部
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
水 90部
〈第3筆記層形成用塗工液〉
ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部
メタノール 95部
(筆記層への情報担持体層の形成)
オフセット印刷法により、フォーマット印刷(罫線、発行者名、発行者電話番号)を行った。印刷インキはUV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Preparation of the second sheet member (writing sheet))
A 188 μm-thick U2L98W (with an antistatic layer) white support manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd. was used as a top sheet and a back sheet. A second sheet member was formed by sequentially applying and drying writing layers made of the following compositions so that the thicknesses became 5 μm, 15 μm, and 0.2 μm, respectively.
<Coating liquid for forming first writing layer>
Polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Byron 200] 8 parts Isocyanate 1 part [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX]
Carbon black trace amount of titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second writing layer>
4 parts of polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Vironal MD1200]
Silica 5 parts Titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Water 90 parts <Coating liquid for forming the third writing layer>
Polyamide resin (manufactured by Sanwa Chemical Industry Co., Ltd .: Sunmide 55) 5 parts Methanol 95 parts (formation of information carrier layer on writing layer)
Format printing (ruled lines, issuer name, issuer telephone number) was performed by the offset printing method. The printing ink used was UV black ink. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

前記作成された、第1シート部材の支持体側に130℃にホットメルトしたHenkel社製Macroplast QR3460を塗工し、その上に日立マクセル株式会社製ICカードシート「FTシリーズ」を積層し、更に第2シート部材の支持体側に130℃にホットメルトしたHenkel社製Macroplast QR3460を塗工し、加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.2kg/cm2、加熱温度は60℃で貼り合わせを行い、更に23℃/55%で10日保存後、ロールカッターで化粧断裁をし55mm×85mmサイズのICカード基材1を得た。カード厚は、740μmであった。 On the support side of the first sheet member prepared above, Macroplast QR3460 manufactured by Henkel Co., Ltd., which was hot melted at 130 ° C., was applied, and an IC card sheet “FT series” manufactured by Hitachi Maxell, Ltd. was laminated thereon. Two sides of the support member were coated with Macroplast QR3460 manufactured by Henkel, which was hot melted at 130 ° C., and the pressure and the heating roll were bonded at a pressure of 0.2 kg / cm 2 and a heating temperature of 60 ° C. Then, after storing at 23 ° C./55% for 10 days, makeup cutting was performed with a roll cutter to obtain an IC card substrate 1 having a size of 55 mm × 85 mm. The card thickness was 740 μm.

カード表面の局所的な凹部又は凸部の最大部と前記基準線との距離は、10μmであり、基準線に対する凹部又は凸部の側からみた傾斜の最大値は、40°であった。   The distance between the local maximum portion of the concave portion or the convex portion on the card surface and the reference line was 10 μm, and the maximum value of the inclination from the side of the concave portion or the convex portion with respect to the reference line was 40 °.

<ICカード基材2の作成>
(第1シート部材(受像シート)の作成)
表面シートおよび裏面シートとして帝人デュポンフィルム株式会社製のU2L98W(帯電防止層付き)の厚さ188μm白色支持体を使用した。下記組成物からなるクッション層、受像層、情報坦持体層を順次塗工乾燥してなる第1シート部材を形成した。
(光硬化型クッション層) 膜厚10μm
ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA512) 55部
ポリエステルアクリレート(東亞合成社製:アロニックスM6200) 15部
ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA4000) 25部
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ:イルガキュア184) 5部
メチルエチルケトン 100部
塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30secで乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で光硬化を行った。
<Preparation of IC card base 2>
(Preparation of the first sheet member (image receiving sheet))
A 188 μm-thick U2L98W (with an antistatic layer) white support manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd. was used as a top sheet and a back sheet. A first sheet member was formed by sequentially applying and drying a cushion layer, an image receiving layer, and an information carrier layer comprising the following composition.
(Light-curing cushion layer) 10 μm thick
Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA512) 55 parts Polyester acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd .: Aronix M6200) 15 parts Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA4000) 25 parts Hydroxycyclohexyl phenyl ketone ( Ciba Specialty Chemicals: Irgacure 184) 5 parts Methyl ethyl ketone 100 parts After application, the actinic ray-curable compound was dried at 90 ° C./30 sec, and then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ).

(受像層)
上記クッション層上に下記組成の第1受像層形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが2.5μm、0.5μmになる様に積層することにより受像層を形成した。
〈第1受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 6部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕
金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2受像層形成用塗工液〉
ポリエチレンワックス 2部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕
メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部
水 90部
(フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)
その上に、定型フォーマットをUV印刷インキ(FD−O墨、成東インキ製)を用いて、凸版印刷により設けた。さらに、その上の昇華熱転写画像記録領域を除いた領域に、透明なUV硬化型OPニス(FD−Oドライコートニス、成東インキ製)を凸版印刷により印刷濃度及び印圧等を調整しながら中心線平均粗さ(Ra)が0.4μmになるようにし、この発明のIDカード用基材を得た。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Image receiving layer)
A coating solution for forming a first image receiving layer and a coating solution for forming a second image receiving layer having the following composition are applied and dried in this order on the cushion layer so that the thicknesses thereof become 2.5 μm and 0.5 μm, respectively. The image receiving layer was formed by laminating.
<Coating liquid for forming first image receiving layer>
6 parts of polyvinyl butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-LEC BX-1)
Metal ion-containing compound (Compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating solution for forming second image receiving layer>
2 parts of polyethylene wax [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000]
8 parts of urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254]
Methylcellulose (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15) 0.1 part Water 90 parts
A fixed format was provided thereon by letterpress printing using UV printing ink (FD-O black, manufactured by Naruto Ink). Further, a transparent UV-curable OP varnish (FD-O dry coat varnish, manufactured by Naruto Ink) is applied to the area excluding the sublimation thermal transfer image recording area by letterpress printing while adjusting the printing density and printing pressure. The linear average roughness (Ra) was adjusted to 0.4 μm to obtain an ID card base material of the present invention. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

(第2シート部材(筆記シート)の作成)
表面シートおよび裏面シートとして帝人デュポンフィルム株式会社製のU2L98W(帯電防止層付き)の厚さ188μm白色支持体を使用した。下記組成物からなる筆記層をそれぞれの厚みが5μm、15μm、0.2μmになる様に順次塗工乾燥してなる第2シート部材を形成した。
〈第1筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
カーボンブラック 微量
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂 4部
〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕
シリカ 5部
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
水 90部
〈第3筆記層形成用塗工液〉
ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部
メタノール 95部
(筆記層への情報担持体層の形成)
オフセット印刷法により、フォーマット印刷(罫線、発行者名、発行者電話番号)を行った。印刷インキはUV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Preparation of the second sheet member (writing sheet))
A 188 μm-thick U2L98W (with an antistatic layer) white support manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd. was used as a top sheet and a back sheet. A second sheet member was formed by sequentially applying and drying writing layers made of the following compositions so that the thicknesses became 5 μm, 15 μm, and 0.2 μm, respectively.
<Coating liquid for forming first writing layer>
Polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Byron 200] 8 parts Isocyanate 1 part [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX]
Carbon black trace amount of titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second writing layer>
4 parts of polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Vironal MD1200]
Silica 5 parts Titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Water 90 parts <Coating liquid for forming the third writing layer>
Polyamide resin (manufactured by Sanwa Chemical Industry Co., Ltd .: Sunmide 55) 5 parts Methanol 95 parts (formation of information carrier layer on writing layer)
Format printing (ruled lines, issuer name, issuer telephone number) was performed by the offset printing method. The printing ink used was UV black ink. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

上記作成された、第1シート部材の支持体側に130℃にホットメルトしたHenkel社製Macroplast QR3460を塗工し、その上に日立マクセル株式会社製ICカードシート「FTシリーズ」を積層し、更に第2シート部材の支持体側に130℃にホットメルトしたHenkel社製Macroplast QR3460を塗工し、加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.005kg/cm2、加熱温度は60℃で貼り合わせを行い、更に23℃/55%で10日保存後、ロールカッターで化粧断裁をし55mm×85mmサイズのICカード基材2を得た。カード厚は、740μmであった。 On the support side of the first sheet member prepared above, Macroplast QR3460 manufactured by Henkel, which was hot melted at 130 ° C., was applied, and an IC card sheet “FT series” manufactured by Hitachi Maxell, Ltd. was laminated thereon. Two sides of the support of the sheet member were coated with Macroplast QR3460 manufactured by Henkel, which was hot melted at 130 ° C., and the pressure and the heating roll were applied under the conditions of a pressure of 0.005 kg / cm 2 and a heating temperature of 60 ° C. Then, after storing at 23 ° C./55% for 10 days, makeup cutting was performed with a roll cutter to obtain an IC card substrate 2 having a size of 55 mm × 85 mm. The card thickness was 740 μm.

カード表面の局所的な凹部又は凸部の最大部と前記基準線との距離は、25μmであり、基準線に対する凹部又は凸部の側からみた傾斜の最大値は、40°であった。   The distance between the local maximum portion of the concave portion or convex portion on the card surface and the reference line was 25 μm, and the maximum value of the inclination of the concave portion or convex portion with respect to the reference line from the side of the concave portion was 40 °.

<ICカード基材3の作成>
(第1シート部材(受像シート)の作成)
表面シートおよび裏面シートとして帝人デュポンフィルム株式会社製のU2L98W(帯電防止層付き)の厚さ188μm白色支持体を使用した。下記組成物からなるクッション層、受像層、情報坦持体層を順次塗工乾燥してなる第1シート部材を形成した。
(光硬化型クッション層) 膜厚10μm
ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA512) 55部
ポリエステルアクリレート(東亞合成社製:アロニックスM6200) 15部
ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA4000) 25部
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ:イルガキュア184) 5部
メチルエチルケトン 100部
塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30secで乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で光硬化を行った。
<Preparation of IC card base material 3>
(Preparation of the first sheet member (image receiving sheet))
A 188 μm-thick U2L98W (with an antistatic layer) white support manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd. was used as a top sheet and a back sheet. A first sheet member was formed by sequentially applying and drying a cushion layer, an image receiving layer, and an information carrier layer comprising the following composition.
(Light-curing cushion layer) 10 μm thick
Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA512) 55 parts Polyester acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd .: Aronix M6200) 15 parts Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA4000) 25 parts Hydroxycyclohexyl phenyl ketone ( Ciba Specialty Chemicals: Irgacure 184) 5 parts Methyl ethyl ketone 100 parts After application, the actinic ray-curable compound was dried at 90 ° C./30 sec, and then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ).

(受像層)
上記クッション層上に下記組成の第1受像層形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが2.5μm、0.5μmになる様に積層することにより受像層を形成した。
〈第1受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 6部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕
金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2受像層形成用塗工液〉
ポリエチレンワックス 2部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕
メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部
水 90部
(フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)
その上に、定型フォーマットをUV印刷インキ(FD−O墨、成東インキ製)を用いて、凸版印刷により設けた。さらに、その上の昇華熱転写画像記録領域を除いた領域に、透明なUV硬化型OPニス(FD−Oドライコートニス、成東インキ製)を凸版印刷により印刷濃度及び印圧等を調整しながら中心線平均粗さ(Ra)が0.4μmになるようにし、この発明のIDカード用基材を得た。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Image receiving layer)
A coating solution for forming a first image receiving layer and a coating solution for forming a second image receiving layer having the following composition are applied and dried in this order on the cushion layer so that the thicknesses thereof become 2.5 μm and 0.5 μm, respectively. The image receiving layer was formed by laminating.
<Coating liquid for forming first image receiving layer>
6 parts of polyvinyl butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-LEC BX-1)
Metal ion-containing compound (Compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating solution for forming second image receiving layer>
2 parts of polyethylene wax [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000]
8 parts of urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254]
Methylcellulose (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15) 0.1 part Water 90 parts
A fixed format was provided thereon by letterpress printing using UV printing ink (FD-O black, manufactured by Naruto Ink). Further, a transparent UV-curable OP varnish (FD-O dry coat varnish, manufactured by Naruto Ink) is applied to the area excluding the sublimation thermal transfer image recording area by letterpress printing while adjusting the printing density and printing pressure. The linear average roughness (Ra) was adjusted to 0.4 μm to obtain an ID card base material of the present invention. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

(第2シート部材(筆記シート)の作成)
表面シートおよび裏面シートとして帝人デュポンフィルム株式会社製のU2L98W(帯電防止層付き)の厚さ188μm白色支持体を使用した。下記組成物からなる筆記層をそれぞれの厚みが5μm、15μm、0.2μmになる様に順次塗工乾燥してなる第2シート部材を形成した。
〈第1筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
カーボンブラック 微量
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂 4部
〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕
シリカ 5部
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
水 90部
〈第3筆記層形成用塗工液〉
ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部
メタノール 95部
(筆記層への情報担持体層の形成)
オフセット印刷法により、フォーマット印刷(罫線、発行者名、発行者電話番号)を行った。印刷インキはUV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Preparation of the second sheet member (writing sheet))
A 188 μm-thick U2L98W (with an antistatic layer) white support manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd. was used as a top sheet and a back sheet. A second sheet member was formed by sequentially applying and drying writing layers made of the following compositions so that the thicknesses became 5 μm, 15 μm, and 0.2 μm, respectively.
<Coating liquid for forming first writing layer>
Polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Byron 200] 8 parts Isocyanate 1 part [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX]
Carbon black trace amount of titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second writing layer>
4 parts of polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Vironal MD1200]
Silica 5 parts Titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Water 90 parts <Coating liquid for forming the third writing layer>
Polyamide resin (manufactured by Sanwa Chemical Industry Co., Ltd .: Sunmide 55) 5 parts Methanol 95 parts (formation of information carrier layer on writing layer)
Format printing (ruled lines, issuer name, issuer telephone number) was performed by the offset printing method. The printing ink used was UV black ink. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

上記作成された、第1シート部材の支持体側に130℃にホットメルトしたHenkel社製Macroplast QR3460を塗工し、その上に日立マクセル株式会社製ICカードシート「FTシリーズ」を積層しさらに補強板として50μmのSUSを用い2液硬化型エポキシ樹脂とチップを固定し補強した。更に第2シート部材の支持体側に130℃にホットメルトしたHenkel社製Macroplast QR3460を塗工し、加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.01kg/cm2、加熱温度は60℃で貼り合わせを行い、更に23℃/55%で10日保存後、ロールカッターで化粧断裁をし55mm×85mmサイズのICカード基材3を得た。カード厚は、740μmであった。 On the support side of the first sheet member prepared above, Macroplast QR3460 manufactured by Henkel Co., Ltd., which was hot melted at 130 ° C., was applied, and an IC card sheet “FT series” manufactured by Hitachi Maxell, Ltd. was laminated thereon, and further a reinforcing plate A two-part curable epoxy resin and a chip were fixed and reinforced by using 50 μm SUS. Further, Macroplast QR3460 manufactured by Henkel Co., which was hot-melted to 130 ° C., was applied to the support side of the second sheet member, and applied under pressure and heating roll conditions of 0.01 kg / cm 2 at a pressure of 60 ° C. and a heating temperature of 60 ° C. After performing alignment and further storing at 23 ° C./55% for 10 days, makeup cutting was performed with a roll cutter to obtain an IC card substrate 3 having a size of 55 mm × 85 mm. The card thickness was 740 μm.

カード表面の局所的な凹部または凸部の最大部と前記基準線との距離は、18μmであり、基準線に対する凹部または凸部の側からみた傾斜の最大値は、90°であった。   The distance between the local maximum portion of the concave portion or convex portion on the card surface and the reference line was 18 μm, and the maximum value of the inclination of the concave portion or convex portion with respect to the reference line from the side of the concave portion was 90 °.

<ICカード基材4の作成>
(第1シート部材(受像シート)の作成)
表面シートおよび裏面シートとして帝人デュポンフィルム株式会社製のU2L98W(帯電防止層付き)の厚さ188μm白色支持体を使用した。下記組成物からなるクッション層、受像層、情報坦持体層を順次塗工乾燥してなる第1シート部材を形成した。
(光硬化型クッション層) 膜厚10μm
ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA512) 55部
ポリエステルアクリレート(東亞合成社製:アロニックスM6200) 15部
ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA4000) 25部
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ:イルガキュア184) 5部
メチルエチルケトン 100部
塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30secで乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で光硬化を行った。
<Preparation of IC card base 4>
(Preparation of the first sheet member (image receiving sheet))
A 188 μm-thick U2L98W (with an antistatic layer) white support manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd. was used as a top sheet and a back sheet. A first sheet member was formed by sequentially applying and drying a cushion layer, an image receiving layer, and an information carrier layer comprising the following composition.
(Light-curing cushion layer) 10 μm thick
Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA512) 55 parts Polyester acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd .: Aronix M6200) 15 parts Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA4000) 25 parts Hydroxycyclohexyl phenyl ketone ( Ciba Specialty Chemicals: Irgacure 184) 5 parts Methyl ethyl ketone 100 parts After application, the actinic ray-curable compound was dried at 90 ° C./30 sec, and then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ).

(受像層)
上記クッション層上に下記組成の第1受像層形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが2.5μm、0.5μmになるように積層することにより受像層を形成した。
〈第1受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 6部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕
金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2受像層形成用塗工液〉
ポリエチレンワックス 2部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕
メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部
水 90部
(フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)
その上に、定型フォーマットをUV印刷インキ(FD−O墨、成東インキ製)を用いて、凸版印刷により設けた。さらに、その上の昇華熱転写画像記録領域を除いた領域に、表面加飾用UVクリアー(FUN−COAT DPL−K、十条ケミカル株式会社)をスクリーン印刷により200メッシュで印刷した。中心線平均粗さ(Ra)が0.8μmになるこの発明のIDカード用基材を得た。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Image receiving layer)
A coating solution for forming a first image receiving layer and a coating solution for forming a second image receiving layer having the following composition are applied and dried in this order on the cushion layer so that the thicknesses thereof become 2.5 μm and 0.5 μm, respectively. The image receiving layer was formed by laminating.
<Coating liquid for forming first image receiving layer>
6 parts of polyvinyl butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-LEC BX-1)
Metal ion-containing compound (Compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating solution for forming second image receiving layer>
2 parts of polyethylene wax [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000]
8 parts of urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254]
Methylcellulose (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15) 0.1 part Water 90 parts
A fixed format was provided thereon by letterpress printing using UV printing ink (FD-O black, manufactured by Naruto Ink). Further, in an area other than the sublimation thermal transfer image recording area, UV clear for surface decoration (FUN-COAT DPL-K, Jujo Chemical Co., Ltd.) was printed at 200 mesh by screen printing. The base material for an ID card of the present invention having a center line average roughness (Ra) of 0.8 μm was obtained. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

(第2シート部材(筆記シート)の作成)
表面シートおよび裏面シートとして帝人デュポンフィルム株式会社製のU2L98W(帯電防止層付き)の厚さ188μm白色支持体を使用した。下記組成物からなる筆記層をそれぞれの厚みが5μm、15μm、0.2μmになる様に順次塗工乾燥してなる第2シート部材を形成した。
〈第1筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
カーボンブラック 微量
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂 4部
〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕
シリカ 5部
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
水 90部
〈第3筆記層形成用塗工液〉
ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部
メタノール 95部
(筆記層への情報担持体層の形成)
オフセット印刷法により、フォーマット印刷(罫線、発行者名、発行者電話番号)を行った。印刷インキはUV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Preparation of the second sheet member (writing sheet))
A 188 μm-thick U2L98W (with an antistatic layer) white support manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd. was used as a top sheet and a back sheet. A second sheet member was formed by sequentially applying and drying writing layers made of the following compositions so that the thicknesses became 5 μm, 15 μm, and 0.2 μm, respectively.
<Coating liquid for forming first writing layer>
Polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Byron 200] 8 parts Isocyanate 1 part [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX]
Carbon black trace amount of titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second writing layer>
4 parts of polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Vironal MD1200]
Silica 5 parts Titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Water 90 parts <Coating liquid for forming the third writing layer>
Polyamide resin (manufactured by Sanwa Chemical Industry Co., Ltd .: Sunmide 55) 5 parts Methanol 95 parts (formation of information carrier layer on writing layer)
Format printing (ruled lines, issuer name, issuer telephone number) was performed by the offset printing method. The printing ink used was UV black ink. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

上記作成された、第1シート部材の支持体側に130℃にホットメルトしたHenkel社製Macroplast QR3460を塗工し、その上に日立マクセル株式会社製ICカードシート「FTシリーズ」を積層しさらに補強板として50μmのSUSを用い2液硬化型エポキシ樹脂とチップを固定し補強した。更に第2シート部材の支持体側に130℃にホットメルトしたHenkel社製Macroplast QR3460を塗工し、加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.01kg/cm2、加熱温度は60℃で貼り合わせを行い、更に23℃/55%で10日保存後、ロールカッターで化粧断裁をし55mm×85mmサイズのICカード基材4を得た。カード厚は、740μmであった。 On the support side of the first sheet member prepared above, Macroplast QR3460 manufactured by Henkel Co., Ltd., which was hot melted at 130 ° C., was applied, and an IC card sheet “FT series” manufactured by Hitachi Maxell, Ltd. was laminated thereon, and further a reinforcing plate A two-part curable epoxy resin and a chip were fixed and reinforced by using 50 μm SUS. Further, Macroplast QR3460 manufactured by Henkel Co., which was hot-melted to 130 ° C., was applied to the support side of the second sheet member, and applied under pressure and heating roll conditions of 0.01 kg / cm 2 for pressure and 60 ° C. for heating. After performing alignment and further storing at 23 ° C./55% for 10 days, makeup cutting was performed with a roll cutter to obtain an IC card substrate 4 having a size of 55 mm × 85 mm. The card thickness was 740 μm.

カード表面の局所的な凹部又は凸部の最大部と前記基準線との距離は、18μmであり、基準線に対する凹部又は凸部の側からみた傾斜の最大値は、90°であった。   The distance between the local maximum portion of the concave portion or convex portion on the card surface and the reference line was 18 μm, and the maximum value of the inclination from the concave portion or convex portion side to the reference line was 90 °.

<ICカード基材5の作成>
(第1シート部材(受像シート)の作成)
表面シートおよび裏面シートとして帝人デュポンフィルム株式会社製のU2L98W(帯電防止層付き)の厚さ188μm白色支持体を使用した。下記組成物からなるクッション層、受像層、情報坦持体層を順次塗工乾燥してなる第1シート部材を形成した。
(光硬化型クッション層) 膜厚10μm
ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA512) 55部
ポリエステルアクリレート(東亞合成社製:アロニックスM6200) 15部
ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学社製:NKオリゴUA4000) 25部
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ:イルガキュア184) 5部
メチルエチルケトン 100部
塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30secで乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で光硬化を行なった。
<Preparation of IC card base material 5>
(Preparation of the first sheet member (image receiving sheet))
A 188 μm-thick U2L98W (with an antistatic layer) white support manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd. was used as a top sheet and a back sheet. A first sheet member was formed by sequentially applying and drying a cushion layer, an image receiving layer, and an information carrier layer comprising the following composition.
(Light-curing cushion layer) 10 μm thick
Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA512) 55 parts Polyester acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd .: Aronix M6200) 15 parts Urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo UA4000) 25 parts Hydroxycyclohexyl phenyl ketone ( Ciba Specialty Chemicals: Irgacure 184) 5 parts Methyl ethyl ketone 100 parts After application, the actinic ray-curable compound was dried at 90 ° C./30 sec, and then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ).

(受像層)
上記クッション層上に下記組成の第1受像層形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが2.5μm、0.5μmになる様に積層することにより受像層を形成した。
〈第1受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 6部
〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕
金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2受像層形成用塗工液〉
ポリエチレンワックス 2部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕
メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部
水 90部
(フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)
その上に、定型フォーマットをUV印刷インキ(FD−O墨、成東インキ製)を用いて、凸版印刷により設けた。さらに、その上の昇華熱転写画像記録領域を除いた領域に、表面加飾用UVクリアー(FUN−COAT DPL−K、十条ケミカル株式会社)をスクリーン印刷により200メッシュで印刷した。中心線平均粗さ(Ra)が0.8μmになるこの発明のIDカード用基材を得た。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Image receiving layer)
A coating solution for forming a first image receiving layer and a coating solution for forming a second image receiving layer having the following composition are applied and dried in this order on the cushion layer so that the thicknesses thereof become 2.5 μm and 0.5 μm, respectively. The image receiving layer was formed by laminating.
<Coating liquid for forming first image receiving layer>
6 parts of polyvinyl butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-LEC BX-1)
Metal ion-containing compound (Compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating solution for forming second image receiving layer>
2 parts of polyethylene wax [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000]
8 parts of urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254]
Methylcellulose (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15) 0.1 part Water 90 parts
A fixed format was provided thereon by letterpress printing using UV printing ink (FD-O black, manufactured by Naruto Ink). Further, in an area other than the sublimation thermal transfer image recording area, UV clear for surface decoration (FUN-COAT DPL-K, Jujo Chemical Co., Ltd.) was printed at 200 mesh by screen printing. The base material for an ID card of the present invention having a center line average roughness (Ra) of 0.8 μm was obtained. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

(第2シート部材(筆記シート)の作成)
表面シートおよび裏面シートとして帝人デュポンフィルム株式会社製のU2L98W(帯電防止層付き)の厚さ188μm白色支持体を使用した。下記組成物からなる筆記層をそれぞれの厚みが5μm、15μm、0.2μmになる様に順次塗工乾燥してなる第2シート部材を形成した。
〈第1筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部
イソシアネート 1部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
カーボンブラック 微量
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
メチルエチルケトン 80部
酢酸ブチル 10部
〈第2筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂 4部
〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕
シリカ 5部
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部
水 90部
〈第3筆記層形成用塗工液〉
ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部
メタノール 95部
(筆記層への情報担持体層の形成)
オフセット印刷法により、フォーマット印刷(罫線、発行者名、発行者電話番号)を行った。印刷インキはUV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
(Preparation of the second sheet member (writing sheet))
A 188 μm-thick U2L98W (with an antistatic layer) white support manufactured by Teijin Dupont Film Co., Ltd. was used as a top sheet and a back sheet. A second sheet member was formed by sequentially applying and drying writing layers made of the following compositions so that the thicknesses became 5 μm, 15 μm, and 0.2 μm, respectively.
<Coating liquid for forming first writing layer>
Polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Byron 200] 8 parts Isocyanate 1 part [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX]
Carbon black trace amount of titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second writing layer>
4 parts of polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Vironal MD1200]
Silica 5 parts Titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Water 90 parts <Coating liquid for forming the third writing layer>
Polyamide resin (manufactured by Sanwa Chemical Industry Co., Ltd .: Sunmide 55) 5 parts Methanol 95 parts (formation of information carrier layer on writing layer)
Format printing (ruled lines, issuer name, issuer telephone number) was performed by the offset printing method. The printing ink used was UV black ink. UV irradiation conditions at the time of printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

上記作成された、第1シート部材の支持体側に130℃にホットメルトしたHenkel社製Macroplast QR3460を塗工し、その上に日立マクセル株式会社製ICカードシート「FTシリーズ」を積層しさらに補強板として50μmのSUSを用い2液硬化型エポキシ樹脂とチップを固定し補強した。更に第2シート部材の支持体側に130℃にホットメルトしたHenkel社製Macroplast QR3460を塗工し、加圧、加熱ロール条件は、加圧は0.005kg/cm2、加熱温度は60℃で貼り合わせを行い、更に23℃/55%で10日保存後、ロールカッターで化粧断裁をし55mm×85mmサイズのICカード基材5を得た。カード厚は、740μmであった。 On the support side of the first sheet member prepared above, Macroplast QR3460 manufactured by Henkel Co., Ltd., which was hot melted at 130 ° C., was applied, and an IC card sheet “FT series” manufactured by Hitachi Maxell, Ltd. was laminated thereon, and further a reinforcing plate A two-part curable epoxy resin and a chip were fixed and reinforced by using 50 μm SUS. Further, Macroplast QR3460 manufactured by Henkel Co., which was hot-melted to 130 ° C., was applied to the support side of the second sheet member, and applied under pressure and heating roll conditions of 0.005 kg / cm 2 under pressure and 60 ° C. under heating. After performing alignment and further storing at 23 ° C./55% for 10 days, makeup cutting was performed with a roll cutter to obtain an IC card substrate 5 having a size of 55 mm × 85 mm. The card thickness was 740 μm.

カード表面の局所的な凹部または凸部の最大部と前記基準線との距離は、25μmであり、基準線に対する凹部または凸部の側からみた傾斜の最大値は、90°であった。   The distance between the local maximum part of the concave part or convex part on the card surface and the reference line was 25 μm, and the maximum value of the inclination from the concave part or convex part side with respect to the reference line was 90 °.

<IDカードへ認証識別画像、属性情報画像の記載方法>
上記作成された画像記録体すなわちIDカード基材1〜3、ICカード基材1〜5上に下記の情報記録部材を用い情報を記録した。
<How to write the authentication identification image and attribute information image on the ID card>
Information was recorded on the prepared image recording material, that is, the ID card substrates 1 to 3 and the IC card substrates 1 to 5 using the following information recording members.

(昇華型感熱転写記録用のインクシートの作成)
裏面に融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレートシートに下記組成のイエローインク層形成用塗工液、マゼンタインク層形成用塗工液、シアンインク層形成用塗工液を各々の厚みが1μmになるように設け、イエロー、マゼンタ、シアンの3色のインクシートを得た。
〈イエローインク層形成用塗工液〉
イエロー染料
(三井東圧染料(株)製MSYellow) 3部
ポリビニルアセタール 5.5部
〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 1部
〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕
ウレタン変性シリコンオイル 0.5部
〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕
メチルエチルケトン 70部
トルエン 20部
〈マゼンタインク層形成用塗工液〉
マゼンタ染料
(三井東圧染料(株)製 MS Magenta) 2部
ポリビニルアセタール 5.5部
〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 2部
〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕
ウレタン変性シリコンオイル 0.5部
〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕
メチルエチルケトン 70部
トルエン 20部
〈シアンインク層形成用塗工液〉
シアン染料
(日本化薬(株)製 カヤセットブルー136) 3部
ポリビニルアセタール 5.6部
〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 1部
〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕
ウレタン変性シリコンオイル 0.5部
〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕
メチルエチルケトン 70部
トルエン 20部
(溶融型感熱転写記録用のインクシートの作成)
裏面に融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレートシートに下記組成のインク層形成用塗工液を厚みが2μmになる様に塗布乾燥してインクシートを得た。
〈インク層形成用塗工液〉
カルナバワックス 1部
エチレン酢酸ビニル共重合体 1部
〔三井デュポンケミカル社製:EV40Y〕
カーボンブラック 3部
フェノール樹脂〔荒川化学工業(株)製:タマノル521〕 5部
メチルエチルケトン 90部
(顔画像の形成)
昇華型感熱転写記録用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用いて出力0.23W/ドット、パルス幅0.3〜4.5m秒、ドット密度16ドット/mmの条件で加熱することにより画像に階調性のある人物画像を受像層に形成した。この画像においては上記色素と受像層のニッケルが錯体を形成している。
(Preparation of ink sheet for sublimation type thermal transfer recording)
A coating liquid for forming a yellow ink layer, a coating liquid for forming a magenta ink layer, and a coating liquid for forming a cyan ink layer each having the following composition is applied to a 6 μm-thick polyethylene terephthalate sheet that has been subjected to an anti-fusing process on the back surface. To obtain ink sheets of three colors of yellow, magenta and cyan.
<Coating liquid for forming yellow ink layer>
3 parts of yellow dye (MSYellow manufactured by Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd.) 5.5 parts of polyvinyl acetal [Denka Butyral KY-24 manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.]
1 part of polymethyl methacrylate-modified polystyrene [Toda Gosei Chemical Industry Co., Ltd .: Rededa GP-200]
0.5 parts of urethane modified silicone oil [DaiNichisei Chemical Co., Ltd .: Dialomer SP-2105]
Methyl ethyl ketone 70 parts Toluene 20 parts <Magenta ink layer forming coating liquid>
Magenta dye (MS Magenta manufactured by Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd.) 2 parts Polyvinyl acetal 5.5 parts [Denka Butyral KY-24 manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.]
2 parts of polymethyl methacrylate-modified polystyrene [Toda Gosei Chemical Industry Co., Ltd .: Rededa GP-200]
0.5 parts of urethane modified silicone oil [DaiNichisei Chemical Co., Ltd .: Dialomer SP-2105]
Methyl ethyl ketone 70 parts Toluene 20 parts <Cyan ink layer forming coating liquid>
3 parts of cyan dye (Kayaset Blue 136 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 5.6 parts of polyvinyl acetal [Denka Butyral KY-24 manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.]
1 part of polymethyl methacrylate-modified polystyrene [Toda Gosei Chemical Industry Co., Ltd .: Rededa GP-200]
0.5 parts of urethane modified silicone oil [DaiNichisei Chemical Co., Ltd .: Dialomer SP-2105]
Methyl ethyl ketone 70 parts Toluene 20 parts (Preparation of ink sheet for melt-type thermal transfer recording)
An ink layer-forming coating liquid having the following composition was applied to a 6 μm-thick polyethylene terephthalate sheet, which had been subjected to a fusion preventing treatment on the back surface, and dried so as to have a thickness of 2 μm to obtain an ink sheet.
<Coating liquid for forming ink layer>
Carnauba wax 1 part Ethylene vinyl acetate copolymer 1 part [manufactured by DuPont Mitsui Chemicals: EV40Y]
Carbon black 3 parts Phenol resin [Arakawa Chemical Industry Co., Ltd .: Tamanol 521] 5 parts Methyl ethyl ketone 90 parts (Formation of face image)
The ink side of the sublimation type thermal transfer recording ink sheet is superposed on the ink sheet side, and the thermal head is used to output 0.23 W / dot, pulse width 0.3 to 4.5 msec, and dot density 16 dot / mm. To form a human image with gradation on the image receiving layer. In this image, the dye and nickel in the image receiving layer form a complex.

(文字情報の形成)
受像層以外の印刷部(OPニス部等)と溶融型感熱転写記録用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシートの裏面からサーマルヘッドを用いて0.5W/ドット、パルス幅1.0m秒、ドット密度16ドット/mmの条件で加熱することにより文字情報を受像層以外の印刷部(OPニス部等)に形成した。
(Formation of character information)
A printing portion other than the image receiving layer (such as an OP varnish portion) and an ink side of an ink sheet for fusion-type thermal transfer recording are overlapped with each other, and a 0.5 W / dot, pulse width of 1.0 msec. By heating under the condition of a dot density of 16 dots / mm, character information was formed on a printing portion (eg, an OP varnish portion) other than the image receiving layer.

(文字情報の形成)
溶融型感熱転写記録用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用いて出力0.5W/ドット、パルス幅1.0m秒、ドット密度16ドット/mmの条件で加熱することにより文字情報をICカード用画像記録体上に形成した。
(Formation of character information)
The ink side of the melt-type thermal transfer recording ink sheet is overlapped and heated from the ink sheet side using a thermal head under the conditions of an output of 0.5 W / dot, a pulse width of 1.0 ms, and a dot density of 16 dots / mm. Thus, character information was formed on the image recording medium for an IC card.

カード作成装置により顔画像と属性情報を設け、次いで転写箔で保護層を設けた。   A face image and attribute information were provided by a card making device, and then a protective layer was provided with a transfer foil.

次に、IDカードのカード基材1〜3と、ICカードのカード基材1〜5を用いて、図14のカード作成装置1及び図15のカード作成装置2によりIDカード及びICカードを作成し、スクラッチ強度、カードゴミ付着性、転写箔転写性評価、転写箔切れ評価、テープ剥離(カード/転写箔密着性)の評価、カード曲げ性評価、カード外観性等を評価し、この結果を表4に示す。   Next, using the card bases 1 to 3 of the ID card and the card bases 1 to 5 of the IC card, an ID card and an IC card are created by the card creating apparatus 1 of FIG. 14 and the card creating apparatus 2 of FIG. Then, the scratch strength, card dust adhesion, transfer foil transfer evaluation, transfer foil break evaluation, tape peeling (card / transfer foil adhesion) evaluation, card bending evaluation, card appearance, etc. were evaluated. It is shown in Table 4.

表4

Figure 2004345350
Table 4
Figure 2004345350

Figure 2004345350
Figure 2004345350

Figure 2004345350
Figure 2004345350

※試料7は、上記評価の他、特に仕上がりカード転写面にシワや、支持体穴あきによるムラが見られた。 * In addition to the above evaluation, Sample 7 showed wrinkles on the finished card transfer surface and unevenness due to holes in the support.

{評価方法}
<スクラッチ強度(耐摩耗性)測定方法>
耐摩耗性試験機(HEIDON−18)を用い、0.1mmφのサファイア針で0〜300gで荷重を変化させて、作成されたカードの表面を摺動させ、カード筆記層面に傷が付き始める時の荷重の測定を行なった。荷重が大きいほど良好であることを表す。
{Evaluation method}
<Scratch strength (wear resistance) measurement method>
When the load is changed with a 0.1 mmφ sapphire needle at 0 to 300 g using a wear resistance tester (HEIDON-18), the surface of the created card is slid, and the card writing layer surface begins to be scratched. Was measured. The higher the load, the better.

<カードゴミ付着性>
カード作成を100枚し、作成されたカード中にゴミ付着物がいくつあるか発生枚数率を算出した。2枚転写した場合は仕上がりカード100枚のゴミ付着性を評価した。
<Card dust adhesion>
After 100 cards were prepared, the number of generated sheets was calculated based on the number of dust deposits in the prepared cards. When two sheets were transferred, the adhesion of dust to 100 finished cards was evaluated.

<転写箔転写性評価>
カード作成を100枚行い、仕上がった100枚のカードを金尺を用い測定し、平均未転写面積及び最大未転写面積(mm2)を算出した。2枚転写した場合、1枚目の転写箔転写性と2枚目転写箔転写性を評価し、全体の平均未転写面積及び全体の最大未転写面積(mm2)を算出した。
<Evaluation of transfer foil transferability>
100 cards were prepared, and the finished 100 cards were measured using a gold scale to calculate an average untransferred area and a maximum untransferred area (mm 2 ). When two sheets were transferred, the transfer property of the first transfer foil and the transfer property of the second transfer foil were evaluated, and the entire average untransferred area and the entire maximum untransferred area (mm 2 ) were calculated.

未転写面積がゼロに近いほど良好、数字が大きいほど転写性が劣化するということを意味する。   The closer the untransferred area is to zero, the better, and the larger the number, the worse the transferability.

<転写箔切れ評価>
カード作成を100枚行い、仕上がった100枚のカードのなかでカード以外の部分に発生している箔切れ残りの量を金尺で計り、平均箔切れ残り面積及び最大箔切れ残り面積(mm2)を算出した。1枚目の箔切れ性と2枚目箔切れ性を評価し、全体の平均箔切れ残り面積及び最大箔切れ残り面積(mm2)を算出した。
<Evaluation of transfer foil break>
100 cards were prepared, and the remaining amount of the remaining foil in the portion of the finished 100 cards other than the card was measured with a gold scale, and the average remaining area of the foil and the maximum remaining area of the foil (mm 2 ) Was calculated. The first and second foil stripping properties were evaluated, and the overall average foil remaining area and the maximum foil remaining area (mm 2 ) were calculated.

残りが多いほど箔切れが悪いことを意味する。数字が低いほど箔切れが良好であることを意味する。   The more the residue, the worse the foil breakage. The lower the number, the better the foil breakage.

<テープ剥離(カード/転写箔密着性)の評価>
硬化した保護層の表面にセロハン粘着テープ(ニチバン製)を強く貼り付け、急速に表面からセロハン粘着テープを剥離した後、剥離状態をJIS K−5400碁盤目テープ法規定の方法で、評価した。ICカードにおいてはチップ部があるカード表面にテープ貼り付けをし上記評価を実施した。
<Evaluation of tape peeling (card / transfer foil adhesion)>
A cellophane adhesive tape (manufactured by Nichiban) was strongly adhered to the surface of the cured protective layer, and the cellophane adhesive tape was rapidly peeled from the surface, and the peeled state was evaluated by a method specified in JIS K-5400 Crosscut Tape Method. In the case of an IC card, a tape was attached to the surface of a card having a chip portion, and the above evaluation was performed.

保護層の表面にナイフ等の鋭利な刃物で30°の角度で切り込み、素地に達する1mmまたは1.5mmの碁盤目100個(10×10)を作り、この時はがれないで残った塗膜の碁盤目数を測定した。全体的に接着性が良好な塗膜である場合には、碁盤目を作った後、その表面にセロテープを貼り、テープをはがして碁盤目のはがれた厚み方向の部位とはがれた数を測定して評価した。   The surface of the protective layer is cut at an angle of 30 ° with a sharp knife such as a knife to make 100 1 × 10 mm grids (10 × 10) reaching the substrate. The number of grids was measured. If the coating film has good overall adhesiveness, after making a grid, attach cellophane tape to the surface, peel off the tape and measure the number of strips in the thickness direction where the grid is peeled off. Was evaluated.

評価は下記の評価点数法で行った。
碁盤目試験の評価点数
評価点数 傷の状態
10 切り傷1本ごとが、細くて両側が滑らかで、切り傷の交点の正 方形の一目一目にはがれない。
The evaluation was performed by the following evaluation score method.
Evaluation score of cross-cut test Evaluation score Scratch condition 10 Each cut is thin and smooth on both sides, and does not come off at a glance at the square of the intersection of the cuts.

8 切り傷の交点にわずかなはがれがあって、正方形の一目一目に はがれがなく、欠損部の面積は全正方形面積の5%以内。   8 There is a slight peeling at the intersection of the cuts, and there is no peeling at a glance, and the area of the defect is within 5% of the total square area.

6 切り傷の両側と交点とにはがれがあって、欠損部の面積は全正 方形面積の5〜15%。   6 Both sides of the cut and the intersection were peeled off, and the area of the defect was 5 to 15% of the total square area.

4 切り傷によるはがれの幅が広く、欠損部の面積は全正方形面積 の15〜35%。   4 The width of peeling due to cuts is wide, and the area of the defect is 15 to 35% of the total square area.

2 切り傷によるはがれの幅は4点よりも広く、欠損部の面積は全 正方形面積の35〜65%。   2 The width of the peeling due to the cut is wider than 4 points, and the area of the defect is 35 to 65% of the total square area.

0 はがれの面積は、全正方形面積の65%以上。
<仕上がりカード曲げ性評価>
カードの端部から30mm部を(顔部以外の個所)を4mmφの円柱棒を支点にし180°曲げカードと転写箔間を目視評価をした。尚カードは画像記録部を内側にして曲げ評価を実施した。
A:外観上全く問題なし
B:箔に僅かにヒビが入っているが、箔カード間で浮きは発生していない
C:箔にヒビが入っているが、箔カード間で浮きは発生していない
D:箔にヒビが入っていて、箔カード間で僅かに浮きが発生している
E:箔にヒビが入り、カードから浮いている
<仕上がりカード保存後曲げ性評価>
50℃/3日経時し、室温に戻した後カードの端部から30mm部を(顔部以外の個所)を4mmφの円柱棒を支点にし180°曲げカードと転写箔間を目視評価をした。尚カードは画像記録部を内側にして曲げ評価を実施した。
A:外観上全く問題なし
B:箔に僅かにヒビが入っているが、箔カード間で浮きは発生していない
C:箔にヒビが入っているが、箔カード間で浮きは発生していない
D:箔にヒビが入っていて、箔カード間で僅かに浮きが発生している
E:箔にヒビが入り、カードから浮いている
<カード外観性>
カード作成を100枚行い、作成されたカードをルーペで観察し表面にひび割れ、転写ムラ、転写筋の外観不良率の発生頻度(%)を算出した。
0 The area of peeling is 65% or more of the total square area.
<Evaluation of finished card bending property>
A 30 mm portion from the end of the card (a part other than the face) was bent 180 ° using a 4 mmφ cylindrical bar as a fulcrum, and the space between the card and the transfer foil was visually evaluated. The card was subjected to bending evaluation with the image recording portion inside.
A: No problem at all in appearance B: Slight cracks in foil, but no floating between foil cards C: Cracks in foil, but floating between foil cards No D: Cracks in the foil and slight lifting between the foil cards E: Cracks in the foil and floating from the card <Evaluation of bendability after storage of finished card>
After aging at 50 ° C. for 3 days and returning to room temperature, a 30 mm portion (a portion other than the face portion) from the end of the card was bent 180 ° using a 4 mmφ cylindrical bar as a fulcrum, and the space between the card and the transfer foil was visually evaluated. The card was subjected to bending evaluation with the image recording portion inside.
A: No problem at all in appearance B: Slight cracks in foil, but no floating between foil cards C: Cracks in foil, but floating between foil cards No D: Cracks in the foil and slight lifting between the foil cards E: Cracks in the foil and floating from the card <Card appearance>
100 cards were prepared, and the prepared cards were observed with a loupe, and the occurrence frequency (%) of cracks on the surface, transfer unevenness, and appearance defect rate of transfer streaks was calculated.

この発明の転写箔支持体は、ゴミ付着防止、転写箔転写性(箔切れ性)、ブロッキング性、転写表面外観性を向上させたIDカードおよびICカードを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION The transfer foil support of this invention can provide ID card and IC card which improved prevention of dust adhesion, transfer foil transfer property (foil cut property), blocking property, and transfer surface appearance.

また、この発明の転写箔は、光硬化層の23℃における初期破断伸度が10〜90%及び50℃3日保管後における破断伸度が10〜90%であることで、曲げ性、保存後曲げ性、ゴミ付着防止、転写箔転写性(箔切れ性)、ブロッキング性、転写表面外観性を向上させたIDカードおよびICカードを提供することができる。   In addition, the transfer foil of the present invention has a bending property and a storage property by having an initial breaking elongation at 23 ° C. of the photocured layer of 10 to 90% and a breaking elongation after storage at 50 ° C. for 3 days of 10 to 90%. An ID card and an IC card having improved post-bending property, prevention of dust adhesion, transfer foil transfer property (foil cut property), blocking property, and transfer surface appearance can be provided.

さらに、この発明の転写箔は、30℃における支持体と転写層の剥離力を規定することで、曲げ性、保存後の曲げ性、ブロッキング性、転写箔転写性(箔切れ性)、ゴミ付着防止、転写表面外観性を向上させたIDカードおよびICカードを提供することができる。   Further, the transfer foil of the present invention regulates the peeling force between the support and the transfer layer at 30 ° C., so that the bendability, the bendability after storage, the blocking property, the transfer foil transfer property (foil cut property), and the dust adhesion An ID card and an IC card having improved prevention and transfer surface appearance can be provided.

この発明の転写箔支持体及び転写箔を用いて、特定の画像記録体へ転写することにより、カード曲げ性、カード保存後の曲げ性、転写箔転写性(箔切れ性)、カードゴミ付着防止、転写箔と画像記録体の密着性、転写表面外観性を向上させたIDカードおよびICカードを提供することができる。   By transferring the image to a specific image recording medium using the transfer foil support and the transfer foil of the present invention, the card bendability, the bendability after storage of the card, the transfer foil transfer property (foil cut property), and the prevention of card dust adhesion. In addition, it is possible to provide an ID card and an IC card in which the adhesion between the transfer foil and the image recording medium and the transfer surface appearance are improved.

転写箔支持体の層構成図である。FIG. 2 is a layer configuration diagram of a transfer foil support. 転写箔層(転写層)の構成図である。It is a block diagram of a transfer foil layer (transfer layer). 加熱圧着によりカード型画像記録体に転写箔を接触させ、剥離ロールによって剥離する概念図である。FIG. 3 is a conceptual diagram in which a transfer foil is brought into contact with a card-type image recording medium by heat compression and peeled off by a peeling roll. 転写不良を示す図である。It is a figure which shows a transfer failure. 剥離力測定方法を示す図である。It is a figure which shows the peeling force measuring method. 平均剥離力と初期剥離力を説明する図である。It is a figure explaining an average peeling force and an initial peeling force. 転写用カートリッジの斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a transfer cartridge. ホットスタンプ装置の構成図である。It is a block diagram of a hot stamping device. 画像記録体の中心線表面粗さ(Ra)の測定模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating measurement of a center line surface roughness (Ra) of an image recording medium. 画像記録体の中心線表面粗さ(Ra)の測定模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating measurement of a center line surface roughness (Ra) of an image recording medium. 画像記録体表面の凹凸に対する基準線定義のカード表面模式図である。It is a card surface schematic diagram of the reference line definition with respect to the unevenness | corrugation of the image recording body surface. 画像記録体表面の凹凸に対する基準線定義のカード断面模式図である。It is a card cross section schematic diagram of a reference line definition to the unevenness of the surface of the image recording medium. 画像記録体表面の凹凸に対する基準線及び傾斜定義のカード断面模式図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a card having a reference line and an inclined definition with respect to irregularities on the surface of an image recording medium. カード発行装置1の構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of the card issuing device 1. カード発行装置2の構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of the card issuing device 2. ICカード基材作成装置の構成図である。It is a block diagram of an IC card base material preparation apparatus. 第1シート部材を示す図である。It is a figure showing a 1st sheet member. 第2シート部材を示す図である。It is a figure showing a 2nd sheet member. ICカードの断面図である。It is sectional drawing of an IC card. ICモジュールの模式図である。It is a schematic diagram of an IC module. IC固定層の模式図である。It is a schematic diagram of an IC fixing layer. IC固定層の模式図である。It is a schematic diagram of an IC fixing layer. カード基材の表面図である。It is a front view of a card base material. カード基材の裏面図である。It is a back view of a card base material. カードの表面図である。It is a front view of a card. カードの裏面図である。It is a back view of a card.

符号の説明Explanation of reference numerals

1 支持体
2 粗面化面
3 帯電防止層
4 帯電防止層具備粗面化面
REFERENCE SIGNS LIST 1 support 2 roughened surface 3 antistatic layer 4 roughened surface with antistatic layer

Claims (15)

下記一般式1で表される数値が0.03〜0.005を満たし、かつ23℃/50%における表面固有抵抗値が1×105〜1014Ωの範囲であることを特徴とする転写箔支持体。
一般式1:
前記転写箔支持体の一方の中心線平均粗さ(Ra)「μm」/前記転写箔支持体厚さ「μm」
但し、転写箔支持体厚さは、5〜40μm
The transfer characterized in that the numerical value represented by the following general formula 1 satisfies 0.03 to 0.005, and the surface specific resistance at 23 ° C./50% is in the range of 1 × 10 5 to 10 14 Ω. Foil support.
General formula 1:
One center line average roughness (Ra) of the transfer foil support “μm” / thickness of the transfer foil support “μm”
However, the thickness of the transfer foil support is 5 to 40 μm.
前記支持体に隣接する帯電防止層が具備されていることを特徴とする請求項1に記載の転写箔支持体。 The transfer foil support according to claim 1, further comprising an antistatic layer adjacent to the support. 前記転写箔支持体の少なくとも一方の面が、サンドブラスト加工、ヘアライン加工、マットコーティング、もしくはケミカルエッチングのいずれかの方法により粗面化されていることを特徴とする請求項1に記載の転写箔支持体。 The transfer foil support according to claim 1, wherein at least one surface of the transfer foil support is roughened by any one of sandblasting, hairline processing, mat coating, or chemical etching. body. 前記請求項1に記載の転写箔支持体上に、少なくとも光硬化層および接着層を含む転写層を積層した転写箔であり、
前記光硬化層の23℃における初期破断伸度が10〜90%及び50℃3日保管後における破断伸度が10〜90%であることを特徴とする転写箔。
A transfer foil having a transfer layer including at least a photocurable layer and an adhesive layer laminated on the transfer foil support according to claim 1,
A transfer foil, wherein the photocurable layer has an initial elongation at break at 23 ° C of 10 to 90% and an elongation at break after storage at 50 ° C for 3 days of 10 to 90%.
前記転写箔支持体と前記転写層の30℃における平均剥離力が、90゜剥離角度で3.5〜25g/cmであることを特徴とする請求項4に記載の転写箔。 The transfer foil according to claim 4, wherein an average peel force of the transfer foil support and the transfer layer at 30C is 3.5 to 25 g / cm at a peel angle of 90 °. 前記転写箔支持体と前記転写層の30℃における初期破断剥離力が、90゜剥離角度で15〜150g/cmであることを特徴とする請求項4に記載の転写箔。 5. The transfer foil according to claim 4, wherein the initial peel strength at 30 ° C. of the transfer foil support and the transfer layer is 15 to 150 g / cm at a peel angle of 90 °. 転写箔支持体上に転写層を有する転写箔の前記転写層を、カード型画像記録体上に転写することにより、IDカードを作成するIDカード作成方法において、
前記転写箔支持体は、下記一般式1で表される数値が0.03〜0.005を満たし、かつ23℃/50%における表面固有抵抗値が1×105〜1014Ωの範囲であることを特徴とするIDカード作成方法。
一般式1:
前記転写箔支持体の一方の中心線平均粗さ(Ra)「μm」/前記転写箔支持体厚さ「μm」
但し、転写箔支持体厚さは、5〜40μm
By transferring the transfer layer of a transfer foil having a transfer layer on a transfer foil support onto a card-type image recording medium, an ID card creating method for creating an ID card,
The transfer foil support has a numerical value represented by the following general formula 1 satisfying 0.03 to 0.005 and a surface specific resistance at 23 ° C./50% of 1 × 10 5 to 10 14 Ω. An ID card creation method characterized by the following.
General formula 1:
One center line average roughness (Ra) of the transfer foil support “μm” / thickness of the transfer foil support “μm”
However, the thickness of the transfer foil support is 5 to 40 μm.
前記カード型画像記録体の前記転写層が転写される側の面における中心線平均粗さ(Ra)が0.00〜0.6μmの範囲からなることを特徴とする請求項7に記載のIDカード作成方法。 8. The ID according to claim 7, wherein a center line average roughness (Ra) on a surface of the card type image recording body on which the transfer layer is transferred is in a range of 0.00 to 0.6 [mu] m. Card making method. 前記カード型画像記録体の前記転写層が転写される側の面において、
凹部又は凸部の最大部から前記カード型画像記録媒体の短辺方向に並行に上下それぞれ10mmの距離の2点を結ぶ線を基準線とし、
前記凹部又は凸部の最大部と前記基準線との距離が20μm以下であることを特徴とする請求項7に記載のIDカード作成方法。
On the surface of the card-type image recording body on which the transfer layer is transferred,
A reference line is a line connecting two points at a distance of 10 mm each in the upper and lower directions in parallel with the short side direction of the card type image recording medium from the maximum portion of the concave portion or the convex portion,
The method according to claim 7, wherein a distance between a maximum portion of the concave portion or the convex portion and the reference line is 20 µm or less.
前記カード型画像記録体の前記転写層が転写される側の面において、
凹部又は凸部の最大部から前記カード型画像記録媒体の短辺方向に並行に上下それぞれ10mmの距離の2点を結ぶ線を基準線とし、
前記基準線に対する凹部又は凸部の側からみた傾斜の最大値が80°以下であることを特徴とする請求項7に記載のIDカード作成方法。
On the surface of the card-type image recording body on which the transfer layer is transferred,
A reference line is a line connecting two points at a distance of 10 mm each in the upper and lower directions in parallel with the short side direction of the card type image recording medium from the maximum portion of the concave portion or the convex portion,
8. The method according to claim 7, wherein the maximum value of the inclination of the concave or convex portion with respect to the reference line is 80 ° or less.
前記カード型前記画像記録体は、
第1シート部材、
第2シート部材、および
前記第1シート部材と前記第2シート部材との間に設けられる電子部品とを備える電子部品搭載型であることを特徴とする請求項7に記載のIDカード作成方法。
The card type image recording body,
A first sheet member,
The ID card creation method according to claim 7, wherein the ID card creation method is an electronic component mounting type including a second sheet member, and an electronic component provided between the first sheet member and the second sheet member.
前記第1シート部材に、少なくとも昇華熱転写、溶融熱転写、インクジェットおよび再転写により、少なくとも識別情報、書誌情報、認証識別画像、および属性情報画像を担持する層が設けられていることを特徴とする請求項11に記載のIDカード作成方法。 The said 1st sheet member is provided with the layer which carries at least identification information, bibliographic information, an authentication identification image, and an attribute information image by sublimation heat transfer, fusion heat transfer, inkjet, and retransfer. Item 14. The ID card creation method according to Item 11. 前記第2シート部材に、筆記可能な筆記可能層が設けられていることを特徴とする請求項11に記載のIDカード作成方法。 The ID card producing method according to claim 11, wherein a writable layer is provided on the second sheet member. 前記電子部品は、少なくとも顔画像、住所、名前および生年月日を含む個人情報を記憶していることを特徴とする請求項11に記載のIDカード作成方法。 The method according to claim 11, wherein the electronic component stores personal information including at least a face image, an address, a name, and a date of birth. 前記カード型画像記録体の前記転写層が転写される側の面において、
凹部又は凸部の最大部から前記カード型画像記録媒体の短辺方向に並行に上下それぞれ10mmの距離の2点を結ぶ線を基準線とし、
前記基準線に対する凹部又は凸部の側からみた傾斜の最大値が80°以下であることを特徴とする請求項11に記載のIDカード作成方法。
On the surface of the card-type image recording body on which the transfer layer is transferred,
A reference line is a line connecting two points at a distance of 10 mm each in the upper and lower directions in parallel with the short side direction of the card type image recording medium from the maximum portion of the concave portion or the convex portion,
The method according to claim 11, wherein the maximum value of the inclination from the side of the concave portion or the convex portion with respect to the reference line is 80 ° or less.
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