JP2003157419A - Transfer foil for ic card, base sheet for ic card, method of manufacturing ic card and ic card - Google Patents

Transfer foil for ic card, base sheet for ic card, method of manufacturing ic card and ic card

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JP2003157419A
JP2003157419A JP2001356106A JP2001356106A JP2003157419A JP 2003157419 A JP2003157419 A JP 2003157419A JP 2001356106 A JP2001356106 A JP 2001356106A JP 2001356106 A JP2001356106 A JP 2001356106A JP 2003157419 A JP2003157419 A JP 2003157419A
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JP
Japan
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card
layer
resin
sheet
base material
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Nobuyuki Ishii
信行 石井
Hideki Takahashi
秀樹 高橋
Ryoji Hattori
良司 服部
Shigehiro Kitamura
繁寛 北村
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve problems such as print failure, etc., by recording an authentication identification image such as a face image or the like and an attribute information image on a sheet base material in advance, and then interposing an IC chip and an antenna to manufacture an IC card. SOLUTION: The transfer foil 1 for an IC card has a separation type layer 3, a resin layer 4 and an adhesive layer 5 on a supporter 2, and has an IC chip 6 and an antenna 7 in the resin layer 4. The base sheet 11 for the IC card has a resin layer 13 and an adhesive layer 14 on the sheet base 12, and has an IC chip 15 and an antenna 16 in the resin layer 13.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、ICチップ及び
アンテナを内蔵するICカードに用いるICカード用の
転写箔、ICカード用の基材シート、ICカードの製造
方法及びICカードに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer foil for an IC card used in an IC card having an IC chip and an antenna, a base sheet for the IC card, a method for manufacturing the IC card, and the IC card.

【0002】[0002]

【従来の技術】ICチップ及びアンテナを内蔵するIC
カードは、従来の磁気カードに比べて記録容量の大きい
ことや磁気カードには無い演算・論理処理機能を有する
ことから、クレジットカード、バンキングカード、高額
プリペイドカード、電子マネーカード、その他各種の情
報記録媒体等々利便性の高いカードとしてその使用が拡
大しつつある。
2. Description of the Related Art IC having an IC chip and an antenna
Since the card has a larger recording capacity than conventional magnetic cards and has arithmetic and logical processing functions not found in magnetic cards, credit cards, banking cards, high-value prepaid cards, electronic money cards, and various other information recording Its use is expanding as a medium and highly convenient card.

【0003】このICカードは、表面に設けられた電気
接点やカード内部のアンテナを介して外部の機器とデー
タの読み書きをする。ICカードは磁気カードに比べて
記憶容量が大きく、セキュリティ性も大きく向上してい
る。特に、カード内部にICチップと外部との情報のや
りとりをするためのアンテナを内蔵し、カード外部に電
気接点を持たない非接触式ICカードは、電気接点をカ
ード表面にもつ接触式ICカードに比べてセキュリティ
性が優れ、IDカードのようにデータの機密性と偽変造
防止性を高く要求する用途に使用されつつある。
This IC card reads / writes data from / to an external device via an electric contact provided on the surface or an antenna inside the card. The IC card has a larger storage capacity than the magnetic card, and the security is greatly improved. In particular, a non-contact type IC card that has an IC chip inside the card and an antenna for exchanging information with the outside and does not have an electrical contact outside the card is a contact type IC card having an electrical contact on the card surface. Compared to this, it is excellent in security and is being used for applications such as ID cards that require high data confidentiality and forgery / alteration protection.

【0004】このようなICカードとして、例えば第1
のシート材と第2のシート材が接着剤を介して貼り合わ
され、その接着剤層中にICチップ及びアンテナを有す
るICモジュールを封入するものがある。
As such an IC card, for example, the first
There is one in which the sheet material and the second sheet material are bonded together via an adhesive, and the IC module having the IC chip and the antenna is enclosed in the adhesive layer.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ここで、熱転写方式な
どにより顔画像等の認証識別画像、属性情報画像などが
設けられた個人認証カードの場合には、ICチップの凹
凸部が、これらの情報記録を阻害して印字不良が発生す
る問題があり、ICチップの部分とICチップが無い部
分の平面性(平滑性)が重要な課題になっている。
In the case of a personal identification card provided with an authentication identification image such as a face image and an attribute information image by a thermal transfer method or the like, the uneven portion of the IC chip has these information. There is a problem that printing is impeded by obstructing recording, and the planarity (smoothness) of the IC chip portion and the portion without the IC chip is an important issue.

【0006】この問題を解決するべく種種の提案がされ
ているが未だ十分ではない。
Various proposals have been made to solve this problem, but they are still insufficient.

【0007】この発明は、かかる実情に鑑みてなされた
もので、予めシート基材に、顔画像等の認証識別画像、
属性情報画像を記録した後に、ICチップ及びアンテナ
を介在させてICカードを製造することによって印字不
良などの問題点を解決することが可能なICカード用の
転写箔、ICカード用の基材シート、ICカードの製造
方法及びICカードを提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an authentication identification image such as a face image is previously formed on a sheet base material.
A transfer foil for an IC card and a base sheet for an IC card capable of solving problems such as defective printing by manufacturing an IC card with an IC chip and an antenna interposed after recording an attribute information image , An IC card manufacturing method and an IC card are provided.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決し、かつ
目的を達成するために、この発明は、以下のように構成
した。
In order to solve the above-mentioned problems and to achieve the object, the present invention has the following constitution.

【0009】請求項1に記載の発明は、『支持体上に、
離型層、樹脂層、接着層を有し、前記樹脂層中に、IC
チップ及びアンテナを有することを特徴とするICカー
ド用の転写箔。』であり、予めシート基材に、顔画像等
の認証識別画像、属性情報画像を記録した後に、ICカ
ード用の転写箔を用いてICチップ及びアンテナを搭載
するICカードを製造することによって印字性を向上す
ることができる。
According to the invention described in claim 1, "on the support,
A release layer, a resin layer, and an adhesive layer are provided, and an IC is provided in the resin layer.
A transfer foil for an IC card, which has a chip and an antenna. Printing is performed by recording an authentication identification image such as a face image and an attribute information image on a sheet base material in advance, and then manufacturing an IC card equipped with an IC chip and an antenna using a transfer foil for the IC card. It is possible to improve the property.

【0010】請求項2に記載の発明は、『前記樹脂層と
前記接着層との間に、紋様パターンを有することを特徴
とする請求項1に記載のICカード用の転写箔。』であ
り、ICカード化後に、例えばICカードの背面から光
を当てれば、紋様パターンが透かし像と認識することが
できるため、真偽判別性としてのセキュリティ性にも優
れている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a transfer foil for an IC card according to the first aspect, which has a pattern pattern between the resin layer and the adhesive layer. Since the pattern pattern can be recognized as a watermark image by applying light from the back surface of the IC card after the IC card is formed, the security as the authenticity discrimination is also excellent.

【0011】請求項3に記載の発明は、『シート基材上
に、樹脂層、接着層を有し、前記樹脂層中に、ICチッ
プ及びアンテナを有することを特徴とするICカード用
の基材シート。』であり、予めシート基材に、顔画像等
の認証識別画像、属性情報画像を記録した後に、ICカ
ード用の基材シートを用いてICチップ及びアンテナを
搭載するICカードを製造することによって印字性を向
上することができる。
According to a third aspect of the invention, there is provided a "base for an IC card, comprising a resin layer and an adhesive layer on a sheet base material, and an IC chip and an antenna in the resin layer. Material sheet. By recording the authentication identification image such as a face image and the attribute information image on the sheet base material in advance, and then manufacturing the IC card on which the IC chip and the antenna are mounted using the base material sheet for the IC card. The printability can be improved.

【0012】請求項4に記載の発明は、『前記樹脂層と
前記接着層との間に、紋様パターンを有することを特徴
とする請求項3に記載のICカード用の基材シート。』
であり、ICカード化後に、例えばICカードの背面か
ら光を当てれば、紋様パターンが透かし像と認識するこ
とができるため、真偽判別性としてのセキュリティ性に
も優れている。
The invention according to claim 4 is a base sheet for an IC card according to claim 3, wherein a pattern pattern is provided between the resin layer and the adhesive layer. ]
Since the pattern pattern can be recognized as a watermark image by applying light from the back surface of the IC card after the IC card is formed, the security as the authenticity determination property is excellent.

【0013】請求項5に記載の発明は、『第1のシート
基材と第2のシート基材との間に、ICチップ及びアン
テナを有するICカードの製造方法において、第1のシ
ート基材と第2のシート基材のいずれか一方のシート基
材に、請求項1又は請求項2に記載のICカード用の転
写箔を加熱加圧転写し、他方のシート基材には、接着層
を設置し、前記ICチップ及びアンテナが転写されたシ
ート基材を接着層を介して加熱加圧し貼り合わせること
を特徴とするICカードの製造方法。』であり、ICチ
ップ及びアンテナを搭載せしめる方法として、ICカー
ド用の転写箔によって熱転写することでICチップ及び
アンテナを搭載することができ、大がかりな接着剤塗工
機やラミネート機が必要でないため、低コストで製造で
き、また印字不良によって発生していたロスを低減する
ことによって生産性が向上し、低コストでICカードが
作成できる。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an IC card having an IC chip and an antenna between a first sheet base material and a second sheet base material. The transfer foil for the IC card according to claim 1 or 2 is transferred onto one of the sheet base material and the second sheet base material under heat and pressure, and the other sheet base material has an adhesive layer. And a sheet base material to which the IC chip and the antenna are transferred is heated and pressed through an adhesive layer to be bonded together. As a method of mounting the IC chip and the antenna, the IC chip and the antenna can be mounted by thermal transfer using a transfer foil for an IC card, and a large-scale adhesive coating machine or laminating machine is not required. In addition, it can be manufactured at low cost, and productivity can be improved by reducing loss caused by defective printing, and an IC card can be manufactured at low cost.

【0014】請求項6に記載の発明は、『第1のシート
基材と第2のシート基材との間に、ICチップ及びアン
テナを有するICカードの製造方法において、第1のシ
ート基材と第2のシート基材のいずれか一方のシート基
材に、請求項3又は請求項4に記載のICカード用の基
材シートを用い、他方のシート基材と、接着層を介して
加熱加圧し貼り合わせることを特徴とするICカードの
製造方法。』であり、ICチップ及びアンテナを搭載せ
しめる方法として、ICカード用の基材シートを用いて
貼り合わせることでICチップ及びアンテナを搭載する
ことができ、大がかりな接着剤塗工機やラミネート機が
必要でないため、低コストで製造でき、また印字不良に
よって発生していたロスを低減することによって生産性
が向上し、低コストでICカードが作成できる。
According to a sixth aspect of the invention, in the method of manufacturing an IC card having an IC chip and an antenna between the first sheet base material and the second sheet base material, the first sheet base material is provided. The base sheet for an IC card according to claim 3 or 4 is used as either one of the sheet base material and the second sheet base material, and the other sheet base material is heated via an adhesive layer. A method for manufacturing an IC card, which comprises applying pressure and bonding. As a method of mounting the IC chip and the antenna, it is possible to mount the IC chip and the antenna by sticking them together using a base sheet for an IC card, and a large-scale adhesive coating machine or laminating machine can be used. Since it is not necessary, it can be manufactured at low cost, and productivity can be improved by reducing loss generated by defective printing, and an IC card can be manufactured at low cost.

【0015】請求項7に記載の発明は、『請求項5又は
請求項6に記載されるICカードの製造方法で製造され
たICカードであり、ICカード化後に、紋様パターン
部分と紋様パターンのない部分との透過濃度の差が0.
03〜0.50の範囲であることを特徴とするICカー
ド。』であり、ICカード化後に、例えばICカードの
背面から光を当てれば、紋様パターンが透かし像と認識
することができるため、真偽判別性としてのセキュリテ
ィ性にも優れている。
The invention according to claim 7 is an IC card manufactured by the method for manufacturing an IC card according to claim 5 or 6, wherein after the IC card is formed, the pattern pattern portion and the pattern pattern are formed. The difference in transmission density from the non-existing part is 0.
An IC card having a range of 03 to 0.50. Since the pattern pattern can be recognized as a watermark image by applying light from the back surface of the IC card after the IC card is formed, the security as the authenticity discrimination is also excellent.

【0016】請求項8に記載の発明は、『請求項5又は
請求項6に記載されるICカードの製造方法で製造され
たICカードであり、シート基材の少なくとも1方の外
表面には、熱転写受像層を有することを特徴とするIC
カード。』であり、熱転写受像層により顔画像等の認証
識別画像、属性情報画像を記録することができる。
The invention according to claim 8 is an IC card manufactured by the method for manufacturing an IC card according to claim 5 or 6, wherein at least one outer surface of the sheet base material has an outer surface. And an IC having a thermal transfer image-receiving layer
card. ], The authentication transfer image such as a face image and the attribute information image can be recorded by the thermal transfer image receiving layer.

【0017】請求項9に記載の発明は、『請求項5又は
請求項6に記載されるICカードの製造方法で製造され
たICカードであり、シート基材の少なくとも1方の外
表面には、筆記層を有することを特徴とするICカー
ド。』であり、筆記層には使用時に種々の情報を記載す
ることができる。
The invention described in claim 9 is an IC card manufactured by the method for manufacturing an IC card according to claim 5 or 6, wherein the outer surface of at least one of the sheet base materials is An IC card having a writing layer. ], Various information can be written in the writing layer at the time of use.

【0018】請求項10に記載の発明は、『請求項5又
は請求項6に記載されるICカードの製造方法で製造さ
れたICカードであり、ICカードに、氏名、顔画像を
含む個人識別情報を設け、上面に透明保護層が設けら
れ、前記透明保護層が活性光線硬化樹脂からなることを
特徴とするICカード。』であり、透明保護層によりI
Cカードの耐久性が向上する。
The invention described in claim 10 is an "IC card manufactured by the method for manufacturing an IC card according to claim 5 or 6, wherein the IC card includes a personal identification including a name and a face image. An IC card comprising information, a transparent protective layer provided on the upper surface, and the transparent protective layer made of an actinic ray curable resin. ] And the transparent protective layer allows
The durability of the C card is improved.

【0019】請求項11に記載の発明は、『請求項5又
は請求項6に記載されるICカードの製造方法で製造さ
れたICカードであり、予め氏名、顔画像を含む個人識
別情報を設けたシート基材を使用して作成されるICカ
ード。』であり、印字不良を防止することができる。
The invention according to claim 11 is an "IC card manufactured by the method for manufacturing an IC card according to claim 5 or 6, wherein personal identification information including a name and a face image is provided in advance. Card created using a sheet base material. It is possible to prevent defective printing.

【0020】請求項12に記載の発明は、『ICカード
化後に、紋様パターン部分と紋様パターンのない部分と
の透過濃度の差が0.03〜0.50の範囲であること
を特徴とする請求項8乃至請求項11のいずれか1項に
記載のICカード。』であり、ICカード化後に、例え
ばICカードの背面から光を当てれば、紋様パターンが
透かし像と認識することができるため、真偽判別性とし
てのセキュリティ性にも優れている。
According to a twelfth aspect of the present invention, "The difference in transmission density between the pattern pattern portion and the portion without the pattern pattern after the IC card is in the range of 0.03 to 0.50. The IC card according to any one of claims 8 to 11. Since the pattern pattern can be recognized as a watermark image by applying light from the back surface of the IC card after the IC card is formed, the security as the authenticity discrimination is also excellent.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、この発明のICカード用の
転写箔、ICカード用の基材シート、ICカードの製造
方法及びICカードを、図面に基づいて詳細に説明する
が、この発明は、この実施の形態に限定されない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a transfer foil for an IC card, a base sheet for an IC card, a method for manufacturing an IC card, and an IC card according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to this embodiment.

【0022】まず、この発明のICカード用の転写箔に
ついて説明する。図1及び図2はICカード用の転写箔
を示し、図1はICカード用の転写箔の断面図、図2は
ICカード用の転写箔の平面図である。この実施の形態
のICカード用の転写箔1は、支持体2上に、離型層
3、樹脂層4、接着層5を有し、樹脂層4中に、ICチ
ップ6及びアンテナ7のICモジュールを有する。
First, the transfer foil for an IC card of the present invention will be described. 1 and 2 show a transfer foil for an IC card, FIG. 1 is a sectional view of the transfer foil for an IC card, and FIG. 2 is a plan view of the transfer foil for an IC card. The transfer foil 1 for an IC card according to this embodiment has a release layer 3, a resin layer 4, and an adhesive layer 5 on a support 2, and the IC chip 6 and the antenna 7 are integrated in the resin layer 4. Has a module.

【0023】図3及び図4は他の実施の形態のICカー
ド用の転写箔を示し、図3はICカード用の転写箔の断
面図、図4はICカード用の転写箔の平面図である。こ
の実施の形態のICカード用の転写箔1は、図1及び図
2の実施の形態と同様に構成されるが、樹脂層4と接着
層5との間に、紋様パターン8を有する。
3 and 4 show a transfer foil for an IC card according to another embodiment, FIG. 3 is a sectional view of the transfer foil for an IC card, and FIG. 4 is a plan view of the transfer foil for an IC card. is there. The transfer foil 1 for an IC card of this embodiment has the same structure as that of the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, but has a pattern 8 between the resin layer 4 and the adhesive layer 5.

【0024】次に、この発明のICカード用の基材シー
トについて説明する。図5及び図6はICカード用の基
材シートを示し、図5はICカード用の基材シートの断
面図、図6はICカード用の基材シートの平面図であ
る。この実施の形態のICカード用の基材シート11
は、シート基材12上に、樹脂層13、接着層14を有
し、樹脂層13中に、ICチップ15及びアンテナ16
のICモジュールを有する。
Next, the base sheet for an IC card of the present invention will be described. 5 and 6 show a base sheet for an IC card, FIG. 5 is a cross-sectional view of the base sheet for an IC card, and FIG. 6 is a plan view of the base sheet for an IC card. Base sheet 11 for IC card of this embodiment
Has a resin layer 13 and an adhesive layer 14 on the sheet base material 12, and the IC chip 15 and the antenna 16 are provided in the resin layer 13.
It has an IC module.

【0025】図7及び図8は他の実施の形態のICカー
ド用の基材シートを示し、図7はICカード用の基材シ
ートの断面図、図8はICカード用の基材シートの平面
図である。この実施の形態のICカード用の基材シート
11は、図5及び図6の実施の形態と同様に構成される
が、樹脂層13と接着層14との間に、紋様パターン1
8を有する。
7 and 8 show a base sheet for an IC card of another embodiment, FIG. 7 is a sectional view of the base sheet for an IC card, and FIG. 8 is a base sheet for an IC card. It is a top view. The base sheet 11 for an IC card of this embodiment has the same structure as that of the embodiment shown in FIGS. 5 and 6, except that the pattern pattern 1 is provided between the resin layer 13 and the adhesive layer 14.
Have eight.

【0026】次に、この発明のICカードの製造方法及
びICカードについて説明する。図9はICカード用の
転写箔を用いたICカードの製造方法を示す概略図であ
る。この実施の形態では、第1のシート基材20に、図
1及び図2の実施の形態のICカード用の転写箔1を、
接着層5を第1のシート基材20に加熱加圧転写し、離
型層3により支持体2を剥離する。そして、接着層31
を設置した第2のシート基材30が、接着層31をIC
カード用の転写箔1の樹脂層4に加熱加圧して接着され
る。このように、第2のシート基材30が、ICチップ
6及びアンテナ7が転写された第1のシート基材20と
を接着層31を介して加熱加圧し貼り合わせ、第1のシ
ート基材20と第2のシート基材30との間に、ICチ
ップ6及びアンテナ7のICモジュールを有するICカ
ード40を製造する。
Next, an IC card manufacturing method and an IC card according to the present invention will be described. FIG. 9 is a schematic diagram showing a method for manufacturing an IC card using a transfer foil for an IC card. In this embodiment, the transfer foil 1 for the IC card of the embodiment of FIGS. 1 and 2 is attached to the first sheet base material 20.
The adhesive layer 5 is transferred under heat and pressure onto the first sheet base material 20, and the support 2 is peeled off by the release layer 3. And the adhesive layer 31
The second sheet base material 30 on which the
The resin foil 4 of the transfer foil 1 for a card is heated and pressed to adhere. In this way, the second sheet base material 30 is bonded to the first sheet base material 20 to which the IC chip 6 and the antenna 7 are transferred by heating and pressurizing it through the adhesive layer 31. The IC card 40 having the IC module of the IC chip 6 and the antenna 7 is manufactured between the sheet 20 and the second sheet base material 30.

【0027】このように、ICチップ6及びアンテナ7
を搭載せしめる方法として、ICカード用の転写箔1に
よって熱転写することでICチップ6及びアンテナ7を
搭載することができ、大がかりな接着剤塗工機やラミネ
ート機が必要でないため、低コストで製造でき、また印
字不良によって発生していたロスを低減することによっ
て生産性が向上し、低コストでICカード40が作成で
きる。
In this way, the IC chip 6 and the antenna 7
As a method of mounting the IC card, the IC chip 6 and the antenna 7 can be mounted by thermal transfer using the transfer foil 1 for the IC card, and a large-scale adhesive coating machine or laminating machine is not required, so that the manufacturing cost is low. In addition, productivity can be improved by reducing loss caused by defective printing, and the IC card 40 can be produced at low cost.

【0028】また、この実施の形態では、図1及び図2
の実施の形態のICカード用の転写箔1を用いている
が、図3及び図4の実施の形態のICカード用の転写箔
1を用いてもよく、ICカード化後に、例えばICカー
ド40の背面から光を当てれば、紋様パターンが透かし
像と認識することができるため、真偽判別性としてのセ
キュリティ性にも優れている。
Further, in this embodiment, FIG. 1 and FIG.
Although the transfer foil 1 for the IC card of the embodiment is used, the transfer foil 1 for the IC card of the embodiment of FIGS. 3 and 4 may be used. Since the pattern pattern can be recognized as a watermark image by shining light from the back side of the, the security as the authenticity discrimination is also excellent.

【0029】図10はICカード用の基材シートを用い
たICカードの製造方法を示す概略図である。この実施
の形態では、ICカード用の基材シート11の接着層1
4に、第2のシート基材30を加熱加圧して接着し、第
1のシート基材20と第2のシート基材30との間に、
ICチップ15及びアンテナ16のICモジュールを有
するICカード50を製造する。
FIG. 10 is a schematic view showing a method for manufacturing an IC card using a base sheet for an IC card. In this embodiment, the adhesive layer 1 of the base sheet 11 for IC card is used.
4, the second sheet base material 30 is heat-pressed and adhered, and between the first sheet base material 20 and the second sheet base material 30,
The IC card 50 having the IC module of the IC chip 15 and the antenna 16 is manufactured.

【0030】このように、第1のシート基材20に、I
Cカード用の基材シート11を用い、他方の第2のシー
ト基材30と、接着層14を介して加熱加圧し貼り合わ
せることで、ICチップ及びアンテナを搭載せしめる方
法として、ICカード用の基材シート11によって貼り
合わせて、ICチップ15及びアンテナ16を搭載する
ことができ、大がかりな接着剤塗工機やラミネート機が
必要でないため、低コストで製造でき、また印字不良に
よって発生していたロスを低減することによって生産性
が向上し、低コストでICカード50が作成できる。
As described above, the first sheet base material 20 has the I
As a method for mounting an IC chip and an antenna by using the base sheet 11 for a C card and heating and pressurizing the second sheet base material 30 on the other side through the adhesive layer 14, It is possible to mount the IC chip 15 and the antenna 16 by bonding with the base material sheet 11, and since a large-scale adhesive coating machine or laminating machine is not required, it is possible to manufacture at low cost, and it is caused by defective printing. The productivity is improved by reducing the loss, and the IC card 50 can be produced at low cost.

【0031】また、この実施の形態では、図5及び図6
の実施の形態のICカード用の基材シート11を用いて
いるが、図7及び図8の実施の形態のICカード用の基
材シート11を用いてもよく、ICカード化後に、例え
ばICカード50の背面から光を当てれば、紋様パター
ンが透かし像と認識することができるため、真偽判別性
としてのセキュリティ性にも優れている。
Further, in this embodiment, FIG. 5 and FIG.
Although the base sheet 11 for an IC card of the embodiment is used, the base sheet 11 for an IC card of the embodiment of FIGS. 7 and 8 may be used. Since the pattern pattern can be recognized as a watermark image by shining light from the back surface of the card 50, the security as the authenticity discrimination is also excellent.

【0032】また、この発明のICカード40,50
は、ICカード化後に、紋様パターン部分と紋様パター
ンのない部分との透過濃度の差が0.03〜0.50の
範囲であることが好ましく、紋様パターンが透かし像と
認識することができるため、真偽判別性としてのセキュ
リティ性にも優れている。
Further, the IC cards 40, 50 of the present invention
It is preferable that the difference in transmission density between the pattern pattern portion and the portion without the pattern pattern is in the range of 0.03 to 0.50 after the IC card is formed, and the pattern pattern can be recognized as a watermark image. Also, it has excellent security as authenticity discrimination.

【0033】また、図9及び図10の実施の形態で製造
されたICカード40,50は、図11に示すように、
第1のシート基材20または第2のシート基材30のシ
ート基材の少なくとも一方の外表面には、熱転写受像層
60を有してもよく、熱転写受像層60により顔画像等
の認証識別画像、属性情報画像を記録することができ
る。
Further, the IC cards 40 and 50 manufactured in the embodiments of FIGS. 9 and 10 are as shown in FIG.
A thermal transfer image-receiving layer 60 may be provided on the outer surface of at least one of the sheet base materials of the first sheet base material 20 and the second sheet base material 30, and the thermal transfer image-receiving layer 60 allows authentication and identification of facial images and the like. Images and attribute information images can be recorded.

【0034】また、図9及び図10の実施の形態で製造
されたICカード40,50は、図12に示すように、
第1のシート基材20または第2のシート基材30のシ
ート基材の少なくとも1方の外表面には、筆記層61を
有してもよく、筆記層61には使用時に種々の情報を記
載することができる。
Further, the IC cards 40 and 50 manufactured in the embodiments of FIGS. 9 and 10 are as shown in FIG.
A writing layer 61 may be provided on at least one outer surface of the sheet base material of the first sheet base material 20 or the second sheet base material 30, and the writing layer 61 may be provided with various information at the time of use. Can be listed.

【0035】また、図9及び図10の実施の形態で製造
されたICカード40,50は、図13に示すように、
熱転写受像層60に、氏名、顔画像を含む個人識別情報
62を設け、上面に透明保護層63が設けられる。この
透明保護層63が活性光線硬化樹脂からなり、透明保護
層63によりICカード40,50の耐久性が向上す
る。
Further, the IC cards 40 and 50 manufactured in the embodiments of FIGS. 9 and 10 are as shown in FIG.
The thermal transfer image receiving layer 60 is provided with personal identification information 62 including a name and a face image, and a transparent protective layer 63 is provided on the upper surface. The transparent protective layer 63 is made of an actinic ray curable resin, and the transparent protective layer 63 improves the durability of the IC cards 40 and 50.

【0036】また、ICカード40,50は、熱転写受
像層60に予め氏名、顔画像を含む個人識別情報を設け
たシート基材を使用して作成することもできる。また、
このICカード40,50も紋様パターンを有すること
が好ましい。
The IC cards 40 and 50 can also be made by using a sheet base material in which the personal identification information including the name and face image is previously provided on the thermal transfer image receiving layer 60. Also,
It is preferable that the IC cards 40 and 50 also have a pattern pattern.

【0037】次に、この発明のICカード用の転写箔、
ICカード用の基材シート、ICカードの製造方法及び
ICカードの構成を、さらに詳細に説明する。 [ICチップ、アンテナ搭載の転写箔]この発明のIC
チップ及びアンテナコイルを有するICカード用の転写
箔は、支持体に、離型層、樹脂層、接着層を有すること
が好ましい。また、樹脂層と接着層との間に、中間層、
バリヤー層、プライマー層、の少なくとも1つからなる
層で構成されていることが好ましい。 (転写箔の支持体)支持体としては、例えば、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポ
リエチレンテレフタレート/イソフタレート共重合体等
のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ
化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ化エチレ
ン、エチレン−4フッ化エチレン共重合体、等のポリフ
ッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン6.6等の
ポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル
共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/
ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビ
ニロン等のビニル重合体、三酢酸セルロース、セロファ
ン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、
ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポ
リアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹脂、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等
の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシン紙、
硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら2層以上
の積層体が挙げられる。
Next, a transfer foil for the IC card of the present invention,
The base sheet for an IC card, the method for manufacturing the IC card, and the configuration of the IC card will be described in more detail. [Transfer Foil with IC Chip and Antenna] IC of the Present Invention
The transfer foil for an IC card having a chip and an antenna coil preferably has a release layer, a resin layer, and an adhesive layer on the support. In addition, an intermediate layer between the resin layer and the adhesive layer,
It is preferably composed of at least one of a barrier layer and a primer layer. (Support for transfer foil) Examples of the support include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene terephthalate / isophthalate copolymers, polyethylene, polypropylene,
Polyolefin resins such as polymethylpentene, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, ethylene-4 fluoroethylene copolymer, and other polyfluorinated ethylene resins, polyamides such as nylon 6 and nylon 6.6 , Polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene /
Vinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol, vinyl polymer such as vinylon, cellulose triacetate, cellulosic resin such as cellophane, methyl polymethacrylate,
Acrylic resins such as ethyl polymethacrylate, ethyl polyacrylate, butyl polyacrylate, etc., polystyrene, polycarbonate, polyarylate, synthetic resin sheets such as polyimide, or fine paper, thin paper, glassine paper,
Examples include paper such as sulfuric acid paper and the like, single-layered bodies such as metal foils, and laminated bodies of two or more layers thereof.

【0038】この発明の支持体の厚みは、10〜200
μm、望ましくは15〜80μmである。10μm以下
であると支持体が転写時に破壊してしまい問題である。
この発明の特定離型層においては、ポリエチレンテレフ
タレートが好ましい。 (転写箔の離型層)剥離層としては、高ガラス転移温度
を有するアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ボ
リビニルブチラール樹脂などの樹脂、ワックス類、シリ
コンオイル類、フッ素化合物、水溶性を有するポリビニ
ルピロリドン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、Si変
性ポリビニルアルコール、メチルセルロース樹脂、ヒド
ロキシセルロース樹脂、シリコン樹脂、パラフィンワッ
クス、アクリル変性シリコーン、ポリエチレンワック
ス、エチレン酢酸ビニルなどの樹脂が挙げられ、他にポ
リジメチルシロキサンやその変性物、例えばポリエステ
ル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、ウレタン
変性シリコーン、アルキッド変性シリコーン、アミノ変
性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、ポリエーテル
変性シリコーン等のオイルや樹脂、またはこの硬化物、
等が挙げられる。他のフッ素系化合物としては、フッ素
化オレフィン、パーフルオロ燐酸エステル系化合物が挙
げられる。好ましいオレフィン系化合物としては、ポリ
エチレン、ポリプロピレン等の分散物、ポリエチレンイ
ミンオクタデシル等の長鎖アルキル系化合物等が挙げら
れる。これらの離型剤で溶解性の乏しいものは分散する
などして用いることができる。
The thickness of the support of the present invention is 10 to 200.
μm, preferably 15 to 80 μm. If it is 10 μm or less, the support is broken during transfer, which is a problem.
Polyethylene terephthalate is preferred in the specific release layer of the present invention. (Release layer of transfer foil) As the release layer, a resin having a high glass transition temperature such as acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, waxes, silicone oils, fluorine compounds, polyvinylpyrrolidone having water solubility Resin, polyvinyl alcohol resin, Si-modified polyvinyl alcohol, methyl cellulose resin, hydroxy cellulose resin, silicone resin, paraffin wax, acrylic modified silicone, polyethylene wax, ethylene vinyl acetate, and other resins can be mentioned. In addition, polydimethylsiloxane and its modified products , Polyester modified silicone, acrylic modified silicone, urethane modified silicone, alkyd modified silicone, amino modified silicone, epoxy modified silicone, polyether modified silicone, etc. Yl or resin, or a cured product,
Etc. Examples of other fluorine-based compounds include fluorinated olefins and perfluorophosphate ester-based compounds. Preferred olefin compounds include dispersions of polyethylene, polypropylene, etc., long-chain alkyl compounds such as polyethyleneimine octadecyl, etc. Of these release agents, those having poor solubility can be used by dispersing them.

【0039】転写箔を2枚転写する場合は<熱可塑性エ
ラストマーを添加してもよい。熱可塑性エラストマーは
具体的にスチレン系(スチレン・ブロック・コポリマー
(SBC))、オレフィン系(TP)、ウレタン系(T
PU)、ポリエステル系(TPEE)、ポリアミド系
(TPAE)、1,2−ポリブタジエン系、塩ビ系(T
PVC)、フッ素系、アイオノマー樹脂、塩素化ポリエ
チレン、シリコーン系等が挙げられ具体的には1996
年度版「12996の化学商品」(化学工業日報社)等
に記載されている。
When two transfer foils are transferred, <a thermoplastic elastomer may be added. Specific examples of thermoplastic elastomers include styrene type (styrene block copolymer (SBC)), olefin type (TP), urethane type (T
PU), polyester type (TPEE), polyamide type (TPAE), 1,2-polybutadiene type, vinyl chloride type (T
PVC), fluorine-based, ionomer resin, chlorinated polyethylene, silicone-based, and the like. Specifically, 1996
It is described in "12996 Chemical Products" (Chemical Industry Daily), etc., for the fiscal year.

【0040】この発明で好適に用いられる、ポリスチレ
ンとポリオレフィンのブロックポリマーからなる引っ張
り伸びが100%以上熱可塑性エラストマーとは、スチ
レン及び炭素数10以下の直鎖または分岐の飽和アルキ
ルのブロックからなる熱可塑性樹脂(以下熱可塑性樹脂
S1ともいう)を言う。特に、ポリスチレン相とポリオ
レフィンを水素添加した相をもつブロックポリマーであ
るスチレン−ブタジエン−スチレン(SBS)、スチレ
ン−イソプレン−スチレン(SIS)、スチレン−エチ
レン/ブチレン−スチレン(SEBS)、スチレン−エ
チレン/プロピレン−スチレン(SEPS)、スチレン
−エチレン/プロピレン(SEP)のブロックポリマー
等があげられる。
A thermoplastic elastomer having a tensile elongation of 100% or more, which is preferably used in the present invention and comprises a block polymer of polystyrene and a polyolefin, is a thermoplastic elastomer composed of a block of styrene and a linear or branched saturated alkyl group having 10 or less carbon atoms. It refers to a plastic resin (hereinafter also referred to as a thermoplastic resin S1). In particular, styrene-butadiene-styrene (SBS), styrene-isoprene-styrene (SIS), styrene-ethylene / butylene-styrene (SEBS), styrene-ethylene / which are block polymers having a polystyrene phase and a hydrogenated phase of polyolefin. Examples thereof include propylene-styrene (SEPS) and styrene-ethylene / propylene (SEP) block polymers.

【0041】又必要に応じて、この発明の離型層と樹脂
層或いは活性光線硬化層との間に熱硬化型樹脂層を用い
てもよい。具体的には、ポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、グアナミン樹脂、ジ
アリルフタレート樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹
脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリア
ミド樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。 (転写箔の樹脂層)樹脂層としては、ポリビニルブチラ
ール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、スチレ
ン、パラメチルスチレン、メタクリル酸エステル、アク
リル酸エステル等のビニル単量体やセルロース系、熱可
塑性ポリエステル、天然樹脂等、他の任意の高分子重合
体を併用してもよい。また、その他、赤松清監修、「新
・感光性樹脂の実際技術」、(シーエムシー、1987
年)や「10188の化学商品」657〜767頁(化
学工業日報社、1988年)記載の業界公知の有機高分
子重合体を併用してもよい。
If desired, a thermosetting resin layer may be used between the release layer of the present invention and the resin layer or the actinic ray curable layer. Specific examples thereof include polyester resin, acrylic resin, epoxy resin, xylene resin, guanamine resin, diallyl phthalate resin, phenol resin, polyimide resin, maleic acid resin, melamine resin, urea resin, polyamide resin, urethane resin and the like. (Resin foil resin layer) As the resin layer, polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, novolac resin, styrene, paramethylstyrene, vinyl monomer such as methacrylic acid ester, acrylic acid ester, etc. Alternatively, any other high-molecular polymer such as cellulose-based, thermoplastic polyester, natural resin, etc. may be used in combination. Also, in addition, Kiyoshi Akamatsu supervised, "Practical technology of new photosensitive resin", (CMC, 1987)
Year) or “10188 chemical products” pp. 657-767 (Kagaku Kogyo Nippo Co., Ltd., 1988).

【0042】本発明においては、ICチップおよびアン
テナを封入する目的で光又は/熱硬化性層を設けること
が好ましい。光又は/熱硬化性層とは前記記載の組成物
からなる材料であれば特に制限はない。透明樹脂層の厚
みは、ICチップとアンテナの厚みと同一かそれ以上で
あることが好ましい。またICチップに補強版を設置す
る場合には、この補強版とICチップおよびアンテナと
の接合点に必要な厚み、またはそれ以上であることが好
ましい。
In the present invention, it is preferable to provide a light or thermosetting layer for the purpose of encapsulating the IC chip and the antenna. The light or / thermosetting layer is not particularly limited as long as it is a material composed of the composition described above. The thickness of the transparent resin layer is preferably equal to or greater than the thickness of the IC chip and the antenna. When the reinforcing plate is installed on the IC chip, it is preferable that the reinforcing plate has a thickness necessary for the joining point between the reinforcing plate and the IC chip or the antenna, or more.

【0043】また、樹脂層は、複数の層を積層すること
で構成されていても良い。 (ICチップとアンテナ)この発明におけるICチップ
は、メモリのみやそれに加えてマイクロコンピューター
などである。場合により電子部品にコンデンサーを含ん
でもよい。この発明はこれに限定はされず情報記録部材
に必要な電子部品であれば特に限定はない。アンテナと
しては、銅の巻き線によるコイルや、銀ペースト等の導
体ペーストを絶縁性の基盤上に渦巻き状に印刷したもの
や、銅箔等の金属箔をエッチングしたコイル等が用いら
れている。
The resin layer may be formed by laminating a plurality of layers. (IC Chip and Antenna) The IC chip in the present invention is a memory only or a microcomputer in addition to it. In some cases, the electronic component may include a capacitor. The present invention is not limited to this and is not particularly limited as long as it is an electronic component necessary for the information recording member. As the antenna, a coil formed by winding a copper wire, a conductor paste such as a silver paste printed on an insulating substrate in a spiral shape, a coil formed by etching a metal foil such as a copper foil, and the like are used.

【0044】ICチップとアンテナとの接合は、銀ペー
スト、銅ペースト、カーボンペースト等の導電性接着剤
(日立化成工業のEN−4000シリーズ、東芝ケミカ
ルのXAPシリーズ等)や、異方性導電フィルム(日立
化成工業製アニソルム等)を用いる方法、或いは半田接
合、ACF接合を行う方法が知られているがいずれの方
法を用いてもよい。 (転写箔の接着層)接着層としては、熱貼着性樹脂とし
てエチレン酢酸ビニル樹脂、エチンエチルアクリレート
樹脂、エチレンアクリル酸樹脂、アイオノマー樹脂、ポ
リブタジエン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、
ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂、ウレタン樹脂、粘
着付与剤(例えばフェノール樹脂、ロジン樹脂、テルペ
ン樹脂、石油樹脂など)などが挙げられ、それらの共重
合体や混合物でもよく、厚みは0.1〜10μmが好ま
しい。具体例的には、ウレタン変性エチレンエチルアク
リレート共重合体としては東邦化学工業(株)製のハイ
テックS−6254、S−6254B、S−3129等
が市販され、ポリアクリル酸エステル共重合体としては
日本純薬(株)製のジュリマーAT−210、AT−5
10、AT−613、互応化学工業(株)製のプラスサ
イズL−201、SR−102、SR−103、J−4
等が市販されている。
The IC chip and the antenna are joined by a conductive adhesive such as silver paste, copper paste, carbon paste (EN-4000 series of Hitachi Chemical Co., Ltd., XAP series of Toshiba Chemical Co., etc.) or anisotropic conductive film. A method of using (Anisolum manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), or a method of performing solder bonding or ACF bonding is known, but any method may be used. (Adhesive layer of transfer foil) As the adhesive layer, as a heat-adhesive resin, ethylene vinyl acetate resin, ethyneethyl acrylate resin, ethylene acrylic acid resin, ionomer resin, polybutadiene resin, acrylic resin, polystyrene resin,
Examples thereof include polyester resins, olefin resins, urethane resins, tackifiers (for example, phenol resins, rosin resins, terpene resins, petroleum resins, etc.), and copolymers or mixtures thereof may be used, with a thickness of 0.1 to 10 μm. preferable. Specifically, as the urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer, Hitech S-6254, S-6254B, S-3129 and the like manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd. are commercially available, and as the polyacrylic acid ester copolymer, JULIMAR AT-210 and AT-5 manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.
10, AT-613, plus size L-201, SR-102, SR-103, J-4 manufactured by Kyogo Chemical Industry Co., Ltd.
Etc. are commercially available.

【0045】ウレタン変性エチレンエチルアクリレート
共重合体とポリアクリル酸エステル共重合体の重量比は
9:1から5:5が好ましく、接着層の厚みは0.1〜
1.0μmが好ましい。 [ICカード用の基材シート]ICカード用の基材シー
トに用いられる第1のシート基材または第2のシート基
材としては、転写箔の支持体と同様なものが使用でき
る。
The weight ratio of the urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer to the polyacrylic acid ester copolymer is preferably 9: 1 to 5: 5, and the thickness of the adhesive layer is 0.1 to 5.
1.0 μm is preferable. [Base Material Sheet for IC Card] As the first sheet base material or the second sheet base material used for the base material sheet for IC card, the same material as the support for the transfer foil can be used.

【0046】また、この発明においては、支持体の熱に
よる収縮、反りなどによるカード基材搬送性の観点から
低温接着剤の他にシート部材として150℃/30mi
nにおける熱収縮率が縦(MD)で1.2%以下、横
(TD)で0.5%以下が好ましい。また、支持体上に
後加工上密着性向上のため易接処理を行っていても良
く、チップ保護のために帯電防止処理を行っていても良
い。
In addition, in the present invention, from the viewpoint of card substrate transportability due to shrinkage and warpage of the support due to heat, 150 ° C./30 mi as a sheet member in addition to the low temperature adhesive.
The heat shrinkage in n is preferably 1.2% or less in the longitudinal direction (MD) and 0.5% or less in the transverse direction (TD). In addition, an easy contact treatment may be performed on the support to improve adhesion in post-processing, and an antistatic treatment may be performed to protect the chip.

【0047】具体的には、帝人デュポンフィルム株式会
社製のU2シリーズ、U3シリーズ、U4シリーズ、U
Lシリーズ、東洋紡績株式会社製クリスパーGシリー
ズ、東レ株式会社製のE00シリーズ、E20シリー
ズ、E22シリーズ、X20シリーズ、E40シリー
ズ、E60シリーズQEシリーズを好適に用いることが
できる。
Specifically, U2 series, U3 series, U4 series, U manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.
L series, CRYSPER G series manufactured by Toyobo Co., Ltd., E00 series, E20 series, E22 series, X20 series, E40 series, and E60 series QE series manufactured by Toray Industries, Inc. can be preferably used.

【0048】この発明のICカード用の基材シートは、
当該カード利用者の顔画像を形成するため受像層のほか
にクッション層を設けてもよい。個人認証カード基体表
面には画像要素が設けられ、顔画像等の認証識別画像、
属性情報画像、フォーマット印刷から選ばれる少なくと
も一つが設けられたものであってもよく、また全く印刷
部分のないホワイトカードであってもよい。 (ICカード用の基材シートの樹脂層と接着層)前記
[ICチップ、アンテナ搭載の転写箔]と同様の樹脂層
と接着層を使用できる。 [転写方法]ICチップ、アンテナ搭載の転写箔につい
てのシート基材への転写は、通常サーマルヘッド、ヒー
トローラー、ホットスタンプマシンなどの加熱しながら
加圧を行える手段を用い転写を行う。 [貼り合わせる方法]サーマルヘッド、ヒートローラ
ー、ホットスタンプマシンなどの加熱しながら加圧を行
える手段を用い貼り合わせを行う。 [紋様パターン]この発明の紋様パターンは、樹脂層と
接着層との間に設けることが好ましい。紋様パターン
は、印刷、もしくは転写することによって付与すること
ができる。例えば、オフセット印刷、グラビア印刷、フ
レキソ印刷、凸版印刷、転写箔転写等によって付与する
ことができる。
The base sheet for an IC card of the present invention is
A cushion layer may be provided in addition to the image receiving layer for forming the face image of the card user. An image element is provided on the surface of the personal authentication card base, and an authentication identification image such as a face image,
It may be provided with at least one selected from the attribute information image and format printing, or may be a white card having no printed portion at all. (Resin Layer and Adhesive Layer of Base Sheet for IC Card) The same resin layer and adhesive layer as those of the above [IC chip, transfer foil with antenna mounted] can be used. [Transfer Method] Transfer of the IC chip and the transfer foil having the antenna mounted thereon to the sheet base material is usually performed by a means such as a thermal head, a heat roller, a hot stamping machine or the like that can apply pressure while heating. [Method of bonding] Bonding is performed by using a means such as a thermal head, a heat roller, a hot stamping machine or the like that can apply pressure while heating. [Pattern pattern] The pattern pattern of the present invention is preferably provided between the resin layer and the adhesive layer. The pattern pattern can be added by printing or transferring. For example, it can be applied by offset printing, gravure printing, flexographic printing, letterpress printing, transfer foil transfer and the like.

【0049】このように印刷された紋様パターンは、カ
ード化後に透かし像として観察することができ真偽判別
性として有用である。
The pattern pattern thus printed can be observed as a watermark image after being formed into a card, and is useful as a true / false determination property.

【0050】紋様パターンは、その付与方法により異な
るが、通常は、たとえば、チタンホワイト、炭酸マグネ
シウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タルク、ク
レー、炭酸カルシウム、カーボンブラックなどの顔料
を、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、石油系樹
脂、ウレタン系樹脂などのバインダー中に分散されたも
のを用いることができる。
The pattern pattern varies depending on the method of application, but usually, for example, pigments such as titanium white, magnesium carbonate, zinc oxide, barium sulfate, silica, talc, clay, calcium carbonate, carbon black and the like are used as the acrylic resin. Those dispersed in a binder such as polyester resin, petroleum resin and urethane resin can be used.

【0051】なお、紋様パターンの反射濃度と不透明度
は、表シート、裏シートの特性と関連して、特定の範囲
に設定することでより効果的である。また、ICカード
化後に、前記紋様パターン部と紋様パターンのない部分
との透過濃度の差が0.03〜0.50の範囲である事
が透かし像としては好ましく、より好ましくは、0.0
5〜0.35である。
It is more effective to set the reflection density and opacity of the pattern pattern in a specific range in relation to the characteristics of the front and back sheets. Further, it is preferable for the watermark image that the difference in transmission density between the pattern pattern portion and the portion without the pattern pattern is within a range of 0.03 to 0.50 after forming the IC card, and more preferably 0.0.
It is 5 to 0.35.

【0052】透過濃度の差が0.50よりも高い場合に
は、透かしとしては濃度が高く過ぎて、外表面の氏名や
顔画像などの個人識別情報が認識しづらいなどの弊害が
生じる。また0.03よりも低い場合には、透かしが見
えづらいため、真偽判別性として効果がなくなる。 [熱転写受像層]熱転写受像層としては、バインダーと
各種の添加剤で形成することができる。この発明におけ
る受像層は、昇華型熱転写方式により階調情報含有画像
を形成すると共に、昇華型熱転写方式または溶融型熱転
写方式により文字情報含有画像を形成するので、昇華性
色素の染着性、または昇華性色素の染着性とともに熱溶
融性インクの接着性も良好でなければならない。かかる
特別な性質を受像層に付与するには、後述するように、
バインダー、および各種の添加剤の種類およびそれらの
配合量を適宜に調整することが必要である。
If the difference between the transmission densities is higher than 0.50, the densities are too high for the watermark, and the personal identification information such as the name or face image on the outer surface is difficult to recognize. On the other hand, when the value is lower than 0.03, the watermark is hard to see, and the effect as the authenticity discrimination is lost. [Thermal Transfer Image Receiving Layer] The thermal transfer image receiving layer can be formed of a binder and various additives. The image-receiving layer in the present invention forms a gradation information-containing image by a sublimation type thermal transfer system and forms a character information-containing image by a sublimation type thermal transfer system or a fusion type thermal transfer system. The dyeability of the sublimable dye and the adhesion of the hot-melt ink should be good. To impart such special properties to the image receiving layer, as described below,
It is necessary to appropriately adjust the types of binders and various additives and their blending amounts.

【0053】以下、受像層を形成する成分について詳述
する。
The components forming the image receiving layer will be described in detail below.

【0054】この発明における受像層用のバインダー
は、通常に知られている昇華型感熱転写記録受像層用の
バインダーを適宜に用いることができる。主なバインダ
ーとしては、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブ
チラール系樹脂などさまざまのバインダーを使用するこ
とができる。
As the binder for the image-receiving layer in the present invention, a generally known binder for sublimation type thermal transfer recording image-receiving layer can be appropriately used. Main binders are vinyl chloride resins, polyester resins,
Various binders such as polycarbonate resin, acrylic resin, polystyrene resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin can be used.

【0055】ただし、この発明によって形成される画像
につき、実際的要求(たとえば発行されるIDカードに
所定の耐熱性が要求されるなど)が存在するのであれ
ば、そのような要求項目を満たすようにバインダーの種
類あるいは組み合わせを考慮することが必要になる。画
像の耐熱性を例にすると、60℃以上の耐熱性が要求さ
れるのであれば、昇華性色素のにじみを考慮して、Tg
が60℃以上であるバインダーを使用するのが好まし
い。
However, if there is a practical requirement for the image formed by the present invention (for example, the issued ID card is required to have a predetermined heat resistance), the requirement should be met. It is necessary to consider the type or combination of binders. Taking heat resistance of an image as an example, if heat resistance of 60 ° C. or higher is required, Tg should be taken into consideration in consideration of bleeding of a sublimable dye.
It is preferable to use a binder having a temperature of 60 ° C. or higher.

【0056】また、受像層を形成するのに際して、必要
に応じて、例えば金属イオン含有化合物を含有させるの
が好ましい場合がある。特に熱移行性化合物がこの金属
イオン含有化合物と反応してキレートを形成する場合で
ある。
When forming the image receiving layer, it may be preferable to contain, for example, a compound containing a metal ion, if necessary. Especially when the heat transfer compound reacts with the metal ion-containing compound to form a chelate.

【0057】前記金属イオン含有化合物を構成する金属
イオンとしては、例えば周期律表の第I、第VIII族
に属する2価および多価の金属が挙げられるが、中でも
Al、Co、Cr、Cu、Fe、Mg、Mn、Mo、N
i、Sn、Ti、Zn等が好ましく、特にNi、Cu、
Co、Cr、Zn等が好ましい。これらの金属イオンを
含有する化合物としては、該金属の無機または有機の塩
および該金属の錯体が好ましい。具体例を挙げると、N
i2+,Cu2+,Co2+,Cr2+およびZn2+を含
有した下記一般式で表される錯体が好ましく用いられ
る。
Examples of the metal ions constituting the metal ion-containing compound include divalent and polyvalent metals belonging to Groups I and VIII of the Periodic Table, among which Al, Co, Cr, Cu, Fe, Mg, Mn, Mo, N
i, Sn, Ti, Zn, etc. are preferable, and particularly Ni, Cu,
Co, Cr, Zn and the like are preferable. The compound containing these metal ions is preferably an inorganic or organic salt of the metal and a complex of the metal. To give a specific example, N
A complex represented by the following general formula and containing i2 + , Cu2 + , Co2 + , Cr2 + and Zn2 + is preferably used.

【0058】[M(Q1 )k (Q2 )m (Q3
)n ]p+p(L− ) ただし、式中Mは金属イオンを表し、Q1 、Q2 、
Q3 は各々Mで表される金属イオンと配位結合可能な
配位化合物を表し、これらの配位化合物としては例えば
「キレート化学(5)(南江堂)」に記載されている配
位化合物から選択することができる。特に好ましくは、
金属と配位結合する少なくとも一個のアミノ基を有する
配位化合物を挙げることができ、更に具体的には、エチ
レンジアミンおよびその誘導体、グリシンアミドおよび
その誘導体、ピコリンアミドおよびその誘導体が挙げら
れる。
[M (Q1) k (Q2) m (Q3
) N] p + p (L-) However, in formula, M represents a metal ion, Q1, Q2,
Q3 represents a coordination compound capable of coordinatively bonding with a metal ion represented by M, and these coordination compounds are selected from coordination compounds described in, for example, “Chelate Chemistry (5) (Nankodo)”. can do. Particularly preferably,
Coordination compounds having at least one amino group that forms a coordinate bond with a metal can be mentioned, and more specifically, ethylenediamine and its derivatives, glycinamide and its derivatives, picolinamide and its derivatives can be mentioned.

【0059】Lは錯体を形成しうる対アニオンであり、
Cr、SO4、ClO4等の無機化合物アニオンやベン
ゼンスルホン酸誘導体、アルキルスルホン酸誘導体等の
有機化合物アニオンが挙げられるが、特に好ましくはテ
トラフェニルホウ素アニオンおよびその誘導体、ならび
にアルキルベンゼンスルホン酸アニオンおよびその誘導
体である。kは1、2または3の整数を表し、mは1、
2または0を表し、nは1または0を表すが、これらは
前記一般式で表される錯体が4座配位か、6座配位かに
よって決定されるか、あるいはQ1、Q2、Q3の配位
子の数によって決定される。pは1、2または3を表
す。
L is a counter anion capable of forming a complex,
Examples thereof include inorganic compound anions such as Cr, SO4, and ClO4, and organic compound anions such as benzenesulfonic acid derivatives and alkylsulfonic acid derivatives. Particularly preferred are tetraphenylboron anion and its derivatives, and alkylbenzenesulfonic acid anion and its derivatives. is there. k represents an integer of 1, 2 or 3, m is 1,
2 or 0, and n represents 1 or 0, which are determined depending on whether the complex represented by the above general formula is tetradentate or hexadentate, or whether the complex of Q1, Q2 and Q3 Determined by the number of ligands. p represents 1, 2 or 3.

【0060】この種の金属イオン含有化合物としては、
米国特許第4,987,049号明細書に例示されたも
のを挙げることができる。前記金属イオン含有化合物を
添加する場合、その添加量は受像層に対して、0.5〜
20g/m2が好ましく、1〜15g/m2がより好まし
い。
Examples of this type of metal ion-containing compound include
Mention may be made of those exemplified in US Pat. No. 4,987,049. When the above-mentioned metal ion-containing compound is added, the addition amount is 0.5 to
Preferably 20g / m 2, 1~15g / m 2 is more preferable.

【0061】また、受像層には、離型剤を添加すること
が好ましい。有効な離型剤としては、用いるバインダー
と相溶性のあるものが好ましく、具体的には変性シリコ
ーンオイル、変性シリコーンポリマーが代表的であり、
例えばアミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリ
コーンオイル、ポリエステル変性シリコーンオイル、ア
クリル変性シリコーン樹脂、ウレタン変性シリコーン樹
脂などが挙げられる。このなかでもポリエステル変性シ
リコーンオイルはインクシートとの融着を防止するが、
受像層の2次加工性を妨げないという点で特に優れてい
る。受像層の2次加工性とは、マジックインキでの筆記
性、できた画像を保護する際に問題となるラミネート性
などを指す。この他離型剤としてはシリカ等の微粒子も
有効である。2次加工性を問題としない場合は融着防止
策として硬化型シリコーン化合物の使用も有効である。
紫外線硬化型シリコーン、反応硬化型シリコーンなどが
入手可能であり、大きな離型効果が期待できる。 [筆記層]筆記層としては、IDカードの裏面に筆記を
することができるようにした層である。このような筆記
層としては、例えば炭酸カルシウム、タルク、ケイソウ
土、酸化チタン、硫酸バリウム等の無機微細粉末を熱可
塑性樹脂(ポリエチレン等のポリオレフィン類や、各種
共重合体等)のフィルムに含有せしめて形成することが
できる。特開平1−205155号公報に記載の「書き
込み層」をもって形成することができる。 [透明樹脂層]この発明の透明樹脂層としては、熱硬化
型樹脂が用いられ、ICカードの画像記録体保護として
の熱硬化性樹脂組成物は、例えばエポキシ系、ポリエス
テル系、アクリル系等の樹脂に硬化剤や硬化触媒、流展
剤、その他添加剤等を配合からなるものを用いることが
できる。
A releasing agent is preferably added to the image receiving layer. As the effective release agent, those which are compatible with the binder used are preferable, and specifically, modified silicone oil and modified silicone polymer are typical,
Examples thereof include amino-modified silicone oil, epoxy-modified silicone oil, polyester-modified silicone oil, acrylic-modified silicone resin, urethane-modified silicone resin and the like. Among them, polyester-modified silicone oil prevents fusion with the ink sheet,
It is particularly excellent in that it does not hinder the secondary workability of the image receiving layer. The secondary processability of the image receiving layer refers to the writing property with a magic ink, the laminating property which becomes a problem when protecting the formed image, and the like. In addition, fine particles such as silica are also effective as the release agent. When the secondary workability is not a problem, it is effective to use a curable silicone compound as a measure for preventing fusion.
Ultraviolet ray curable silicone, reaction curable silicone and the like are available, and a great releasing effect can be expected. [Writing Layer] The writing layer is a layer that allows writing on the back surface of the ID card. As such a writing layer, for example, an inorganic fine powder such as calcium carbonate, talc, diatomaceous earth, titanium oxide or barium sulfate may be contained in a film of a thermoplastic resin (polyolefin such as polyethylene or various copolymers). Can be formed. It can be formed by the "writing layer" described in JP-A-1-205155. [Transparent Resin Layer] As the transparent resin layer of the present invention, a thermosetting resin is used, and the thermosetting resin composition for protecting the image recording body of the IC card is, for example, an epoxy type, polyester type, acrylic type or the like. It is possible to use a mixture of a resin with a curing agent, a curing catalyst, a leveling agent, and other additives.

【0062】ポリエステル樹脂の組成としては、ジカル
ボン酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸等の芳香
族ジカルボン酸を主体とし、ジオール成分としてエチレ
ングリコール、ネオペンチルグリコール等の脂肪族ジオ
ールを主体とするものがよく、これらにアジピン酸やア
ゼライン酸等の脂肪族ジカルボン酸、トリメリット酸や
ピロメリット酸等の三価以上のカルボン酸、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
ト−ル等の三価以上のアルコール等を少量含んでいるも
のは溶融流動性、架橋反応性が向上するのでより好まし
い。
The composition of the polyester resin is preferably a composition mainly containing an aromatic dicarboxylic acid such as terephthalic acid or isophthalic acid as a dicarboxylic acid component and an aliphatic diol such as ethylene glycol or neopentyl glycol as a diol component. , These include aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid and azelaic acid, trivalent or higher carboxylic acids such as trimellitic acid and pyromellitic acid, and trivalent or higher valency such as trimethylolethane, trimethylolpropane and pentaerythritol. Those containing a small amount of alcohol and the like are more preferable because the melt fluidity and the crosslinking reactivity are improved.

【0063】また、ポリエステル樹脂の平均重合度は5
〜50の範囲のものが好ましい。これより低いものはフ
ィルムにしたとき十分な強度が得られず、これより高い
ものは粉砕が困難になる。次に硬化剤としては、ポリエ
ステルの末端基が−OH型のものはイソシアナート化合
物やメラミン樹脂、例えばε−カプロラクタムブロック
イソシアナートやメチル化メラミン等がある。末端基が
−COOH型のものはエポキシ樹脂やトリグリシジルイ
ソシアヌレート等がある。
The average degree of polymerization of the polyester resin is 5
Those in the range of -50 are preferred. If it is lower than this, sufficient strength cannot be obtained when it is made into a film, and if it is higher than this, crushing becomes difficult. Next, as the curing agent, when the terminal group of polyester is -OH type, there are an isocyanate compound and a melamine resin, for example, ε-caprolactam block isocyanate and methylated melamine. Examples of the -COOH type terminal group include epoxy resin and triglycidyl isocyanurate.

【0064】具体的には、画像記録体保護層としての光
硬化型樹脂層は、付加重合性又は開環重合性を有する素
材からなるものであり、付加重合成化合物とは、ラジカ
ル重合性化合物、例えば特開平7−159983号、特
公平7−31399号、特願平7−231444号等の
各号公報及び特願平7−231444号明細書に記載さ
れている光重合成(熱重合性も含む)組成物を用いた光
硬化型材料であってもよい。付加重合成化合物とは、カ
チオン重合系の光硬化型材料が知られており、最近では
可視光以上の長波長域に増感された光カチオン重合系の
光硬化材料も例えば、特開平6−43633号公報等に
公開されている。ハイブリッド型重合系の光硬化材料と
しては特開平4−181944号等で組成物が開示され
ている。具体的には、上記カチオン系開始剤、カチオン
重合性化合物、ラジカル系開始剤、ラジカル重合性化合
物のいずれかを含む光硬化層であり、この発明の目的に
おいてはいずれの光硬化層を用いても構わない。 [ラジカル重合開始剤]ラジカル重合開始剤としては、
特公昭59−1281号、特公昭61−9621号、及
び特開昭60−60104号等の各公報記載のトリアジ
ン誘導体、特開昭59−1504号及び特開昭61−2
43807号等の各公報に記載の有機過酸化物、特公昭
43−23684号、特公昭44−6413号、特公昭
44−6413号及び特公昭47−1604号等の各公
報並びに米国特許第3,567,453号明細書に記載
のジアゾニウム化合物、米国特許第2,848,328
号、同第2,852,379号及び同2,940,85
3号各明細書に記載の有機アジド化合物、特公昭36−
22062号、特公昭37−13109号、特公昭38
−18015号、特公昭45−9610号等の各公報に
記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭55−391
62号、特開昭59−14023号等の各公報及び「マ
クロモレキュルス(Macromolecules)、
第10巻、第1307頁(1977年)に記載の各種オ
ニウム化合物、特開昭59−142205号公報に記載
のアゾ化合物、特開平1−54440号公報、ヨーロッ
パ特許第109,851号、ヨーロッパ特許第126,
712号等の各明細書、「ジャーナル・オブ・イメージ
ング・サイエンス」(J.Imag.Sci.)」、第
30巻、第174頁(1986年)に記載の金属アレン
錯体、特願平4−56831号明細書及び特願平4−8
9535号明細書に記載の(オキソ)スルホニウム有機
ホウ素錯体、特開昭61−151197号公報に記載の
チタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・
レビュー(CoordinantionChemist
ry Review)」、第84巻、第85〜第277
頁)(1988年)及び特開平2−182701号公報
に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯
体、特開平3−209477号公報に記載の2,4,5
−トリアリールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開
昭59−107344号公報記載の有機ハロゲン化合物
等が挙げられる。これらの重合開始剤はラジカル重合可
能なエチレン不飽和結合を有する化合物100重量部に
対して0.01から10重量部の範囲で含有されるのが
好ましい。
Specifically, the photocurable resin layer as the protective layer for the image recording material is made of a material having an addition polymerization property or a ring-opening polymerization property, and the addition polymerization compound is a radical polymerization compound. For example, the photopolymerization (thermopolymerization) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-159998, Japanese Patent Publication No. 7-31399, Japanese Patent Application No. 7-231444, and Japanese Patent Application No. 7-231444. (Including also)) A photocurable material using a composition may be used. As the addition polysynthetic compound, a cationic polymerization type photocurable material is known, and recently, a cationic photopolymerization type photocurable material sensitized to a long wavelength region longer than visible light is also disclosed in, for example, JP-A-6- It is disclosed in Japanese Patent Publication No. 43633. A composition is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-181944 as a photopolymerization material of hybrid type. Specifically, it is a photocurable layer containing any of the above-mentioned cationic initiator, cationically polymerizable compound, radical initiator, and radically polymerizable compound, and any photocurable layer is used for the purpose of the present invention. I don't mind. [Radical Polymerization Initiator] As the radical polymerization initiator,
Triazine derivatives described in JP-B-59-1281, JP-B-61-9621 and JP-A-60-60104, JP-A-59-1504 and JP-A-61-2.
Organic peroxides described in various publications such as 43807, JP-B-43-23684, JP-B-44-6413, JP-B-44-6413 and JP-B-47-1604, and U.S. Pat. Diazonium compounds described in US Pat. No. 2,848,328.
No. 2,852,379 and 2,940,85
No. 3, organic azide compounds described in each specification, JP-B-36-
22062, JP37-13109, JP38
-18015, Japanese Patent Publication No. 45-9610 and the like, ortho-quinone diazides described in Japanese Patent Publication No. 55-391.
62, JP-A-59-14023 and the like, and "Macromolecules,"
Various onium compounds described in Volume 10, page 1307 (1977), azo compounds described in JP-A-59-142205, JP-A-1-54440, European Patent 109,851, European Patents. 126th,
No. 712, etc., “Journal of Imaging Science” (J.Imag.Sci.) ”, Volume 30, p. 174 (1986), Japanese Patent Application No. 4- 56831 Specification and Japanese Patent Application No. 4-8
(Oxo) sulfonium organoboron complex described in Japanese Patent No. 9535, titanocene described in JP-A-61-151197, and "coordination chemistry.
Review (Coordination Chemist
ry Review) ", Vol. 84, Nos. 85-277
Page) (1988) and transition metal complexes containing a transition metal such as ruthenium described in JP-A-2-182701, 2,4,5 in JP-A-3-209477.
-Triarylimidazole dimer, carbon tetrabromide, organic halogen compounds described in JP-A-59-107344, and the like. These polymerization initiators are preferably contained in the range of 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound having a radically polymerizable ethylenic unsaturated bond.

【0065】ラジカル重合性化合物を含有する感光性組
成物には、ラジカル重合性モノマーの熱重合開始剤とし
て、一般にラジカル重合による高分子合成反応に用いら
れる公知のラジカル重合開始剤を特に制限なく含有させ
ることができる。ここで、熱重合開始剤とは、熱エネル
ギーを与えることにより重合性のラジカルを発生するこ
とが可能な化合物である。
The photosensitive composition containing a radical-polymerizable compound contains, as a thermal polymerization initiator of a radical-polymerizable monomer, a known radical-polymerization initiator generally used for polymer synthesis reaction by radical polymerization without particular limitation. Can be made. Here, the thermal polymerization initiator is a compound capable of generating a polymerizable radical by applying heat energy.

【0066】このような化合物としては、例えば、2,
2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビ
スプロピオニトリル等のアゾビスニトリル系化合物、過
酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、
過安息香酸t−ブチル、α−クミルヒドロパーオキサイ
ド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルパ
ーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシイソプ
ロピルカーボネート、過酸類、アルキルパーオキシカル
バメート類、ニトロソアリールアシルアミン類等の有機
過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過塩
素酸カリウム等の無機過酸化物、ジアゾアミノベンゼ
ン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム、アゾビス置換ア
ルカン類、ジアゾチオエーテル類、アリールアゾスルフ
ォン類等のアゾ又はジアゾ系化合物、ニトロソフェニル
尿素、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジアリール
ジスルフィド類、ジベンゾイルジスルフィド、テトラア
ルキルチウラムジスルフィド類、ジアルキルキサントゲ
ン酸ジスルフィド類、アリールスルフィン酸類、アリー
ルアルキルスルフォン類、1−アルカンスルフィン酸類
等を挙げることができる。
Examples of such compounds include 2,
2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobispropionitrile and other azobisnitrile compounds, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide,
T-Butyl perbenzoate, α-cumyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, t-butyl peroxyisopropyl carbonate, peracids, alkyl peroxycarbamates, nitrosoaryl acylamine Such as organic peroxides such as potassium persulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate, potassium perchlorate and the like, diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium, azobis-substituted alkanes, diazothioethers, arylazosulfones, etc. Azo or diazo compounds, nitrosophenyl urea, tetramethyl thiuram disulfide, diaryl disulfides, dibenzoyl disulfide, tetraalkyl thiuram disulfides, dialkyl xanthate disulfides Aryl sulfinic acids, arylalkyl sulfonic acids, it may be mentioned 1-alkanoic sulfinic acids and the like.

【0067】これらの中で特に好ましいものは、常温で
の安定性に優れ、加熱時の分解速度が速く、かつ分解時
に無色となる化合物であり、開始剤は、全重合性の組成
物中通常0.1〜30重量%が好ましく、0.5〜20
重量%の範囲がより好ましい。 [ラジカル重合系光硬化樹脂]ラジカル重合性組成物に
含有されるラジカル重合性化合物には、通常の光重合性
化合物及び熱重合性化合物が包含される。ラジカル重合
性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合
を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエ
チレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であ
ればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー、
ポリマー等の化学形態をもつものが含まれる。ラジカル
重合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする
特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用して
もよい。
Particularly preferred among these are compounds which are excellent in stability at room temperature, have a high decomposition rate upon heating, and become colorless upon decomposition, and the initiator is usually used in all polymerizable compositions. 0.1 to 30% by weight is preferable, 0.5 to 20
A range of weight% is more preferable. [Radical Polymerization Photocurable Resin] The radical polymerizable compound contained in the radical polymerizable composition includes ordinary photopolymerizable compounds and thermopolymerizable compounds. The radical-polymerizable compound is a compound having a radical-polymerizable ethylenically unsaturated bond, and may be any compound as long as it has at least one radical-polymerizable ethylenically unsaturated bond in the molecule. , Oligomers,
Those having a chemical form such as a polymer are included. The radical-polymerizable compound may be used alone, or two or more kinds thereof may be used in combination at an arbitrary ratio in order to improve target properties.

【0068】ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合
を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイ
ン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、
ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレ
ン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエー
テル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル
重合性化合物が挙げられる。
Examples of the radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid and maleic acid, and salts and esters thereof.
Radical polymerizable compounds such as urethane, amide and anhydride, acrylonitrile, styrene, and various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides and unsaturated urethanes can be mentioned.

【0069】具体的には、2−エチルヘキシルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエ
チルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロ
ヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、ベンジルアクリレート、ビス(4−アクリロキ
シポリエトキシフェニル)プロパン、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジア
クリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポ
リプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テ
トラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエス
テルアクリレート、N−メチロールアクリルアミド、ジ
アセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のア
クリル酸誘導体、メチルメタクリレート、n−ブチルメ
タクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラ
ウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチ
ルアミノメチルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポ
リエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタン
トリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエ
トキシフェニル)プロパン等のメタクリル誘導体、その
他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、
トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が
挙げられ、さらに具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハ
ンドブック」、(1981年大成社);加藤清視編、
「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985
年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・E
B硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、シ
ーエムシー);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハン
ドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)等に記載
の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架
橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いること
ができる。上記ラジカル重合性化合物のラジカル重合性
組成物中の添加量は好ましくは1〜97重量%であり、
より好ましくは30〜95重量%である。 [酸架橋系光硬化樹脂]この発明の酸架橋性組成物にお
いて用いられる架橋剤は、活性光または放射線の照射に
より前記この発明の特定化合物から発生する酸により架
橋反応を起こす化合物である。この発明において好適に
用いられる架橋剤は、分子内に2個以上のヒドロキシメ
チル基、アルコキシメチル基、エポキシ基またはビニル
エーテル基を有する化合物である。好ましくはこれらの
架橋性官能基が芳香環に直接結合した化合物である。具
体的には、メチロールメラミン、レゾール樹脂、エポキ
シ化されたノボラック樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。
さらに、「架橋剤ハンドブック」(山下晋三、金子東助
著、大成社(株))に記載されている化合物も好まし
い。特に、分子内に2個以上のヒドロキシメチル基また
はアルコキシメチル基を有するフェノール誘導体は画像
形成した際の画像部の強度が良好であり好ましい。この
ようなフェノール誘導体として、具体的には、レゾール
樹脂を挙げることができる。
Specifically, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, carbitol acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) propane, Neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate. , Pentaerythritol tetraacrylate, Acrylic acid derivatives such as pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, oligoester acrylate, N-methylol acrylamide, diacetone acrylamide, epoxy acrylate, methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate. , Lauryl methacrylate, allyl methacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, Trimethylol ethane trimethacrylate, trimethylol propane trimethacrylate, 2,2-bis (4-methacryloxy polyethoxy phenyl) methacrylamide derivatives such as propane, other, allyl glycidyl ether, diallyl phthalate,
Examples thereof include derivatives of allyl compounds such as triallyl trimellitate, and more specifically, Shinzo Yamashita, "Handbook of Crosslinking Agents", (1981, Taiseisha); Kiyomi Kato,
"UV / EB Curing Handbook (Raw Materials)" (1985)
Year, Polymer Society); Edited by Radtech, “UV / E”
Application and Market of B Curing Technology ", p. 79, (1989, CMC); Eiichiro Takiyama," Polyester Resin Handbook ", (1988, Nikkan Kogyo Shimbun), etc., or known in the industry. Radical polymerizable or crosslinkable monomers, oligomers and polymers can be used. The amount of the radically polymerizable compound added to the radically polymerizable composition is preferably 1 to 97% by weight,
More preferably, it is 30 to 95% by weight. [Acid-Crosslinking Photocurable Resin] The crosslinking agent used in the acid-crosslinking composition of the present invention is a compound that causes a crosslinking reaction by the acid generated from the specific compound of the present invention upon irradiation with actinic light or radiation. The cross-linking agent preferably used in this invention is a compound having two or more hydroxymethyl groups, alkoxymethyl groups, epoxy groups or vinyl ether groups in the molecule. Preferred are compounds in which these crosslinkable functional groups are directly bonded to the aromatic ring. Specific examples thereof include methylol melamine, resole resin, epoxidized novolac resin, and urea resin.
Further, compounds described in "Crosslinking Agent Handbook" (written by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, Taiseisha Co., Ltd.) are also preferable. In particular, a phenol derivative having two or more hydroxymethyl groups or alkoxymethyl groups in the molecule is preferable because the strength of the image area when an image is formed is good. Specific examples of such a phenol derivative include a resol resin.

【0070】しかしながら、これらの架橋剤は熱に対し
て不安定であり、画像記録材料を作製したあとの保存時
の安定性があまりよくない。これに対し、分子内にベン
ゼン環に結合する2個以上のヒドロキシメチル基または
アルコキシメチル基を有し、さらに分子量が1,200
以下であるフェノール誘導体は、保存時の安定性も良好
であり、この発明において最も好適に用いられる。アル
コキシメチル基としては、炭素数6以下のものが好まし
い。具体的にはメトキシメチル基、エトキシメチル基、
n−プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、n
−ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、sec−
ブトキシメチル基、t−ブトキシメチル基が好ましい。
さらに、2−メトキシエトキシメチル基および2−メト
キシ−1−プロポキシメチル基のように、アルコキシ置
換されたアルコキシメチル基も好ましい。具体的には、
特開平6−282067号公報、特開平7−64285
号公報、EP632,003A1号明細書等に記載され
ている化合物を挙げることができる。
However, these cross-linking agents are unstable to heat, and their storage stability after producing the image recording material is not so good. On the other hand, it has two or more hydroxymethyl groups or alkoxymethyl groups bonded to the benzene ring in the molecule and has a molecular weight of 1,200.
The following phenol derivatives have good stability during storage and are most preferably used in the present invention. The alkoxymethyl group preferably has 6 or less carbon atoms. Specifically, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group,
n-propoxymethyl group, isopropoxymethyl group, n
-Butoxymethyl group, isobutoxymethyl group, sec-
A butoxymethyl group and a t-butoxymethyl group are preferable.
Furthermore, an alkoxy-substituted alkoxymethyl group such as a 2-methoxyethoxymethyl group and a 2-methoxy-1-propoxymethyl group is also preferable. In particular,
JP-A-6-282067 and JP-A-7-64285
Examples thereof include compounds described in Japanese Patent Publication No. 632,003A1 and the like.

【0071】この発明において好適に用いられる他の架
橋剤としては、アルデヒドやケトン化合物を挙げること
ができる。好ましくは、分子内に2個以上のアルデヒド
またはケトンを有する化合物である。
Other cross-linking agents preferably used in the present invention include aldehyde and ketone compounds. Preferred is a compound having two or more aldehydes or ketones in the molecule.

【0072】この発明において、架橋剤は全画像記録材
料固形分中、5〜70重量%、好ましくは10〜65重
量%の添加量で用いられる。架橋剤の添加量が5重量%
未満であると画像記録した際の画像部の膜強度が悪化
し、また、70重量%を越えると保存時の安定性の点で
好ましくない。これらの架橋剤は単独で使用してもよ
く、また2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 [カチオン系重合開始剤]開始剤としては、カチオン重
合開始剤が好ましく、具体的には芳香族オニウム塩を挙
げることができる。この芳香族オニウム塩として、周期
表第Va族元素の塩たとえばホスホニウム塩(たとえば
ヘキサフルオロリン酸トリフェニルフェナシルホスホニ
ウムなど)、第VIa族元素の塩たとえばスルホニウム
塩(たとえばテトラフルオロホウ酸トリフェニルスルホ
ニウム、ヘキサフルオロリン酸トリフェニルスルホニウ
ム、ヘキサフルオロリン酸トリス(4−チオメトキシフ
ェニル)、スルホニウムおよびヘキシサフルオロアンチ
モン酸トリフェニルスルホニウムなど)、及び第VII
a族元素の塩たとえばヨードニウム塩(たとえば塩化ジ
フェニルヨードニウムなど)を挙げることができる。
In the present invention, the crosslinking agent is used in an amount of 5 to 70% by weight, preferably 10 to 65% by weight, based on the total solid content of the image recording material. 5% by weight of crosslinking agent
If it is less than 70% by weight, the film strength of the image portion when an image is recorded is deteriorated, and if it exceeds 70% by weight, the stability during storage is not preferable. These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more kinds. [Cationic Polymerization Initiator] The initiator is preferably a cationic polymerization initiator, and specific examples thereof include aromatic onium salts. As the aromatic onium salt, a salt of a Group Va element of the periodic table, for example, a phosphonium salt (for example, triphenylphenacylphosphonium hexafluorophosphate), a salt of a Group VIa element, for example, a sulfonium salt (for example, triphenylsulfonium tetrafluoroborate). , Triphenylsulfonium hexafluorophosphate, tris (4-thiomethoxyphenyl) hexafluorophosphate, sulfonium and triphenylsulfonium hexisafluoroantimonate), and No. VII
A salt of a group a element such as an iodonium salt (eg, diphenyliodonium chloride) can be used.

【0073】このような芳香族オニウム塩をエポキシ化
合物の重合におけるカチオン重合開始剤として使用する
ことは、米国特許第4,058,401号、同第4,0
69,055号、同第4,101,513号および同第
4,161,478号公報に詳述されている。
The use of such an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator in the polymerization of epoxy compounds is disclosed in US Pat. Nos. 4,058,401 and 4,058.
69,055, 4,101,513 and 4,161,478.

【0074】好ましいカチオン重合開始剤としては、第
VIa族元素のスルホニウム塩が挙げられる。その中で
も、紫外線硬化性と紫外線硬化性の組成物の貯蔵安定性
の観点からすると、ヘキサフルオロアンチモン酸トリア
リールスホニウムが好ましい。またフォトポリマーハン
ドブック(フォトポリマー懇話会編 工業調査会発行1
989年)の39〜56頁に記載の公知の光重合開始
剤、特開昭64−13142号、特開平2−4804号
に記載されている化合物を任意に用いることが可能であ
る。 [カチオン重合系光硬化樹脂]カチオン重合により高分
子化の起こるタイプ(主にエポキシタイプ)のエポキシ
タイプの紫外線硬化性プレポリマー、モノマーは、1分
子内にエポキシ基を2個以上含有するプレポリマーを挙
げることができる。このようなプレポリマーとしては、
例えば、脂環式ポリエポキシド類、多塩基酸のポリグリ
シジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエ
ーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリ
シジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジル
エーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテ
ル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物
類およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることが
できる。これらのプレポリマーは、その一種を単独で使
用することもできるし、また、その二種以上を混合して
使用することもできる。
Preferred cationic polymerization initiators include sulfonium salts of Group VIa elements. Among them, from the viewpoint of ultraviolet curability and storage stability of the ultraviolet curable composition, triarylsulfonium hexafluoroantimonate is preferable. Also, Photo Polymer Handbook (Photo Polymer Conversation Edition, Industrial Research Committee issue 1
989), pages 39 to 56, known photopolymerization initiators, and compounds described in JP-A-64-13142 and JP-A-2-4804 can be optionally used. [Cationic polymerization type photocurable resin] An epoxy type UV-curable prepolymer of a type (mainly epoxy type) in which polymerization is caused by cationic polymerization, and a monomer is a prepolymer containing two or more epoxy groups in one molecule. Can be mentioned. As such a prepolymer,
For example, alicyclic polyepoxides, polyglycidyl esters of polybasic acids, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl ethers of polyoxyalkylene glycols, polyglycidyl ethers of aromatic polyols, polyglycols of aromatic polyols. Examples thereof include hydrogenated compounds of glycidyl ethers, urethane polyepoxy compounds and epoxidized polybutadienes. These prepolymers may be used alone or in a mixture of two or more.

【0075】エポキシ基を1分子内に2個以上有するプ
レポリマーの含有量は70重量%以上であるのが好まし
い。カチオン重合性組成物中に含有されるカチオン重合
性化合物としては、他に例えば下記の(1)スチレン誘
導体、(2)ビニルナフタレン誘導体、(3)ビニルエ
ーテル類及び(4)N−ビニル化合物類を挙げることが
できる。 (1)スチレン誘導体 例えば、スチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシ
スチレン、β−メチルスチレン、p−メチル−β−メチ
ルスチレン、α−メチルスチレン、p−メトキシ−β−
メチルスチレン等 (2)ビニルナフタレン誘導体 例えば、1−ビニルナフタレン、α−メチル−1−ビニ
ルナフタレン、β−メチル−1−ビニルナフタレン、4
−メチル−1−ビニルナフタレン、4−メトキシ−1−
ビニルナフタレン等 (3)ビニルエーテル類 例えば、イソブチルビニルエーテル、エチルビニルエー
テル、フェニルビニルエーテル、p−メチルフェニルビ
ニルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエーテル、
α−メチルフェニルビニルエーテル、β−メチルイソブ
チルビニルエーテル、β−クロロイソブチルビニルエー
テル等 (4)N−ビニル化合物類 例えばN−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルインドール、N−ビニルピロール、N−
ビニルフェノチアジン、N−ビニルアセトアニリド、N
−ビニルエチルアセトアミド、N−ビニルスクシンイミ
ド、N−ビニルフタルイミド、N−ビニルカプロラクタ
ム、N−ビニルイミダゾール等。
The content of the prepolymer having two or more epoxy groups in one molecule is preferably 70% by weight or more. As the cationically polymerizable compound contained in the cationically polymerizable composition, for example, the following (1) styrene derivative, (2) vinylnaphthalene derivative, (3) vinyl ethers, and (4) N-vinyl compounds may be used. Can be mentioned. (1) Styrene derivative For example, styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, β-methylstyrene, p-methyl-β-methylstyrene, α-methylstyrene, p-methoxy-β-
Methylstyrene etc. (2) Vinylnaphthalene derivative, for example, 1-vinylnaphthalene, α-methyl-1-vinylnaphthalene, β-methyl-1-vinylnaphthalene, 4
-Methyl-1-vinylnaphthalene, 4-methoxy-1-
(3) Vinyl ethers such as vinyl naphthalene, for example, isobutyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, p-methylphenyl vinyl ether, p-methoxyphenyl vinyl ether,
α-Methylphenyl vinyl ether, β-methyl isobutyl vinyl ether, β-chloroisobutyl vinyl ether, etc. (4) N-vinyl compounds such as N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrolidone, N-vinylindole, N-vinylpyrrole, N-
Vinylphenothiazine, N-vinylacetanilide, N
-Vinylethylacetamide, N-vinylsuccinimide, N-vinylphthalimide, N-vinylcaprolactam, N-vinylimidazole and the like.

【0076】上記カチオン重合性化合物のカチオン重合
性組成物中の含有量は1〜97重量%が好ましく、より
好ましくは30〜95重量%である。 [ハイブリット系光硬化型樹脂層]ハイブリットタイプ
(ラジカル重合性タイプとカチオン重合タイプの併用)
が用いられる場合は、特開平4−181944号等で組
成物が開示されている。具体的には、上記カチオン系開
始剤、カチオン重合性化合物、ラジカル系開始剤、ラジ
カル重合性化合物のいずれかを含めばよく、特にこの発
明の場合は、カチオン系重合性化合物がビニルエーテル
系化合物を用いることが好ましい。 [光硬化型樹脂層へのその他添加剤] <増感剤>この発明の感光性組成物は、種々の増感剤と
組み合わせた組成物とすることによって、紫外から近赤
外領域にかけての光に対する活性を高め、極めて高感度
な重合性組成物とすることが可能である。この発明でい
う増感剤の具体例としては、カルコン誘導体やジベンザ
ルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルや
カンファーキノン等に代表される1,2−ジケトン誘導
体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノ
ン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、
チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサン
トン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シ
アニン誘導体、スチリル誘導体、メロシアニン誘導体、
オキソノール誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘
導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導
体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム
誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、
テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタ
ン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピ
ラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、
テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロ
ポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブ
フタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリ
ウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、
スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオス
ピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム
錯体等が挙げられ、その他さらに具体的には大河原信ら
編、「色素ハンドブック」(1986年、講談社)、大
河原信ら編、「機能性色素の化学」(1981年、シー
エムシー)、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」(19
86年、シーエムシー)、特願平7−108045号明
細書等に記載の色素および増感剤が挙げられるがこれら
に限定されるものではなく、その他、紫外が近赤外域に
かけての光に対して吸収を示す色素や増感剤が挙げら
れ、これらは必要に応じて任意の比率で二種以上用いて
もかまわない。 <重合促進剤、連鎖移動剤等>この発明の感光性組成物
には重合促進剤や連鎖移動触媒を添加できる。その具体
例としては、例えば、N−フェニルグリシン、トリエタ
ノールアミン、N,N−ジエチルアニリン等のアミン
類、米国特許第4,414,312号や特開昭64−1
3144号記載のチオール類、特開平2−291561
号記載のジスルフィド類、米国特許第3,558,32
2号や特開昭64−17048号記載のチオン類、特開
平2−291560号記載のo−アシルチオヒドロキサ
メートやN−アルコキシピリジンチオン類が挙げられ
る。 <重合禁止剤>ラジカル重合性化合物を含有するラジカ
ル重合性組成物中には光硬化性樹脂層中に液保存時の重
合を防止する目的で重合禁止剤を含有させることができ
る。ラジカル重合性組成物に添加可能な熱重合禁止剤の
具体例としては、p−メトキシフェノール、ハイドロキ
ノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコール、te
rt−ブチルカテコール、フェノチアジン等を挙げるこ
とができ、これらの熱重合禁止剤は、ラジカル重合可能
なエチレン性不飽和結合を有する化合物100重量部に
対して0.001から5重量部の範囲で添加されるのが
好ましい。 <帯電防止剤>帯電防止剤としては、カチオン系界面活
性剤、アニオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤、
高分子帯電防止剤、導電性微粒子などのほか「1129
0の化学商品」化学工業日報社、p875〜876など
に記載の化合物などが挙げられる。 <界面活性剤>また、この発明の画像形成材料の画像形
成層中には、特開昭62−251740号、特開平3−
208514号等の各号公報に記載されているような非
イオン界面活性剤、或いは特開昭59−121044
号、特開平4−13149号等の各号公報に記載されて
いるような両性界面活性剤を添加することができる。
The content of the above cationically polymerizable compound in the cationically polymerizable composition is preferably 1 to 97% by weight, more preferably 30 to 95% by weight. [Hybrid photo-curable resin layer] Hybrid type (combination of radical polymerizable type and cationic polymerization type)
When is used, the composition is disclosed in JP-A-4-181944. Specifically, any one of the above-mentioned cationic initiator, cationically polymerizable compound, radical-based initiator, and radically polymerizable compound may be included. It is preferable to use. [Other Additives to Photocurable Resin Layer] <Sensitizer> The photosensitive composition of the present invention is a composition in which various sensitizers are combined to obtain light from the ultraviolet to near infrared region. It is possible to obtain a polymerizable composition having an extremely high sensitivity to the above and having an extremely high sensitivity. Specific examples of the sensitizer in the present invention include unsaturated ketones represented by chalcone derivatives and dibenzalacetone, 1,2-diketone derivatives represented by benzyl and camphorquinone, benzoin derivatives, and fluorene. Derivative, naphthoquinone derivative, anthraquinone derivative, xanthene derivative,
Thioxanthene derivative, xanthone derivative, thioxanthone derivative, coumarin derivative, ketocoumarin derivative, cyanine derivative, styryl derivative, merocyanine derivative,
Polymethine dyes such as oxonol derivatives, acridine derivatives, azine derivatives, thiazine derivatives, oxazine derivatives, indoline derivatives, azulene derivatives, azurenium derivatives, squarylium derivatives, porphyrin derivatives,
Tetraphenylporphyrin derivative, triarylmethane derivative, tetrabenzoporphyrin derivative, tetrapyrazinoporphyrazine derivative, phthalocyanine derivative,
Tetraazaporphyrazine derivative, tetraquinoxalyloporphyrazine derivative, naphthalocyanine derivative, subphthalocyanine derivative, pyrylium derivative, thiopyrylium derivative, tetraphyllin derivative, annulene derivative,
Examples include spiropyran derivatives, spirooxazine derivatives, thiospiropyran derivatives, metal arene complexes, organic ruthenium complexes, and more specifically, Nobu Okawara et al., "Dye Handbook" (1986, Kodansha), Nobu Okawara et al. "The Chemistry of Functional Dyes" (1981, CMC), edited by Chuzaburo Ikemori, "Special Functional Materials" (19
1986, CMC), and the dyes and sensitizers described in Japanese Patent Application No. 7-108045 and the like, but are not limited to these, in addition, to the light in the ultraviolet to the near infrared region Examples thereof include dyes and sensitizers that exhibit absorption, and two or more kinds of these may be used in an arbitrary ratio as needed. <Polymerization accelerator, chain transfer agent, etc.> A polymerization accelerator and a chain transfer catalyst can be added to the photosensitive composition of the present invention. Specific examples thereof include amines such as N-phenylglycine, triethanolamine, N, N-diethylaniline, U.S. Pat. No. 4,414,312 and JP-A-64-1.
Thiols described in 3144, JP-A-2-291561
Disulfides described in U.S. Pat. No. 3,558,32
2, thiones described in JP-A No. 64-17048, o-acylthiohydroxamates and N-alkoxypyridine thiones described in JP-A-2-291560. <Polymerization Inhibitor> In the radical-polymerizable composition containing the radical-polymerizable compound, a photo-curable resin layer may contain a polymerization inhibitor for the purpose of preventing polymerization during storage of the liquid. Specific examples of the thermal polymerization inhibitor that can be added to the radically polymerizable composition include p-methoxyphenol, hydroquinone, alkyl-substituted hydroquinone, catechol and te.
Examples thereof include rt-butylcatechol and phenothiazine. These thermal polymerization inhibitors are added in the range of 0.001 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound having a radically polymerizable ethylenically unsaturated bond. Preferably. <Antistatic Agent> As the antistatic agent, a cationic surfactant, an anionic surfactant, a nonionic surfactant,
In addition to polymeric antistatic agents, conductive fine particles, etc.
Chemical products of No. 0 ”, Kagaku Kogyo Nippo Co., Ltd., compounds described in p875-876 and the like. <Surfactant> Further, in the image forming layer of the image forming material of the present invention, JP-A No. 62-251740 and JP-A No. 3-251740.
Nonionic surfactants as described in JP-A-208514 and the like, or JP-A-59-121044.
And amphoteric surfactants such as those described in JP-A-4-13149 and the like can be added.

【0077】また、シリコーン油、シリコーン−アルキ
レンオキシド共重合体(たとえばユニオンカーバイド社
から市販されているL−5410)のような界面活性
剤、日本ユニカー製のようなシリコーン系活性剤、シリ
コーン油含有脂肪族エポキシド類、ケイ素含有モノエポ
キシド等を挙げることができる。東芝シリコーン株式会
社1994年発行の「新シリコーンとその応用」、アズ
マックス株式会社1996年発行の「特殊シリコーン試
薬カタログ」等記載されているSi系添加剤を使用する
こともできる。添加量は0.001〜1重量%が好まし
い。 <樹脂>粘着剤ポリマーの他にポリビニルブチラール樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル
樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、スチレン、パラ
メチルスチレン、メタクリル酸エステル、アクリル酸エ
ステル等のビニル単量体やセルロース系、熱可塑性ポリ
エステル、天然樹脂等、他の任意の高分子重合体を併用
してもよい。また、その他、赤松清監修、「新・感光性
樹脂の実際技術」、(シーエムシー、1987年)や
「10188の化学商品」657〜767頁(化学工業
日報社、1988年)記載の業界公知の有機高分子重合
体を併用してもよい。
Further, a surfactant such as silicone oil or a silicone-alkylene oxide copolymer (for example, L-5410 commercially available from Union Carbide Co.), a silicone-based activator such as those manufactured by Nippon Unicar, a silicone oil-containing agent. Examples thereof include aliphatic epoxides and silicon-containing monoepoxides. It is also possible to use Si-based additives described in "New Silicone and Its Applications" issued by Toshiba Silicone Co., Ltd. in 1994, "Special Silicone Reagent Catalog" issued by Asmax Co., Ltd. in 1996, etc. The addition amount is preferably 0.001 to 1% by weight. <Resin> In addition to the adhesive polymer, polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, novolac resin, vinyl monomer such as styrene, paramethylstyrene, methacrylic acid ester, acrylic acid ester and cellulose type , Any other high-molecular polymer such as thermoplastic polyester and natural resin may be used in combination. In addition, in addition, Kiyoshi Akamatsu's supervision, "Practical Technology of New Photosensitive Resin," (CMC, 1987) and "10188 Chemical Products" pp. 657-767 (Kagaku Kogyo Nippo, 1988) You may use together the organic high molecular polymer of.

【0078】この発明で特に好ましくは不飽和基含有樹
脂が好ましく、ラジカルまたは酸により重合可能な基を
含むことを特徴としており、不飽和基とはここでは、グ
リシジル基、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等を表
す。感光性組成物中におけるこれら高分子重合体の含有
量は、1〜70重量%の範囲が好ましく、5〜50重量
%の範囲が更に好ましい。 <塗布溶剤>この発明では、塗布溶剤に制限はなく、塗
布溶剤を使用する場合は講談社発行「溶剤ハンドブッ
ク」に詳述されている。なお、これらの有機溶剤の使用
にあたっては、特に制限はない。
In the present invention, an unsaturated group-containing resin is particularly preferable, and is characterized in that it contains a radical or acid-polymerizable group, and the unsaturated group here means a glycidyl group, a (meth) acryloyl group, Represents a vinyl group and the like. The content of these high molecular weight polymers in the photosensitive composition is preferably in the range of 1 to 70% by weight, more preferably 5 to 50% by weight. <Coating Solvent> In the present invention, the coating solvent is not limited, and when a coating solvent is used, it is described in detail in “Solvent Handbook” published by Kodansha. There are no particular restrictions on the use of these organic solvents.

【0079】この発明の感光性組成物はさらに目的に応
じて、染料、有機および無機顔料、ホスフィン、ホスホ
ネート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ
防止剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白
剤、着色剤、増量剤、可塑剤、難燃剤、酸化防止剤、紫
外線吸収剤、発砲剤、防カビ剤、磁性体やその他種々の
特性を付与する添加剤、希釈溶剤等と混合して使用して
も良い。 [熱または光硬化型樹脂層形成方法]熱または光硬化型
樹脂層を画像記録体上に作成する場合、塗布方式で作成
するか若しくは転写箔で形成することが好ましい。
The photosensitive composition of the present invention further comprises an oxygen scavenger and a reducing agent such as dyes, organic and inorganic pigments, phosphines, phosphonates and phosphites, an antifoggant, an antifading agent and an antihalation agent according to the purpose. , Fluorescent whitening agents, colorants, bulking agents, plasticizers, flame retardants, antioxidants, UV absorbers, foaming agents, antifungal agents, additives that impart various properties such as magnetic substances, diluent solvents, etc. You may mix and use it. [Method of Forming Heat or Photocurable Resin Layer] When the heat or photocurable resin layer is formed on the image recording body, it is preferable to form it by a coating method or transfer foil.

【0080】画像記録体上に保護する方法として塗布を
選択する場合、従来公知の方法、例えば回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、ディップ塗布、フェルト塗布、エアーナ
イフ塗布、スプレイ塗布、エアースプレイ塗布、静電エ
アースプレイ塗布、ロール塗布ブレード塗布及びカーテ
ン塗布等の方法が用いられる。この際塗布量は用途によ
り異なるが、例えば固形分として0.05〜50.0g
/m2の塗布量が好ましい。なお、塗布量が少なくなる
につれて見掛けの感度が大になるが画像形成層の皮膜特
性、耐薬品性が低下する。
When coating is selected as a method for protecting the image recording medium, conventionally known methods such as spin coating, wire bar coating, dip coating, felt coating, air knife coating, spray coating, air spray coating, electrostatic coating are used. Methods such as air spray coating, roll coating blade coating and curtain coating are used. At this time, the coating amount varies depending on the application, but is, for example, 0.05 to 50.0 g as solid content.
A coating amount of / m2 is preferable. Although the apparent sensitivity increases as the coating amount decreases, the film characteristics and chemical resistance of the image forming layer decrease.

【0081】塗布後硬化させる方法として活性な電磁波
を発生させるものは全て用いることができる。例えば、
レーザー、発光ダイオード、キセノンフラッシュラン
プ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライ
ドランプ、タングステンランプ、水銀灯、無電極光源等
を挙げることができる。好ましくは、キセノンランプ、
ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドラ
ンプ、タングステンランプ、水銀灯等の光源が挙げら
れ、この際加えられるエネルギーは、重合開始剤の種類
のより、露光距離、時間、強度を調整することにより適
時選択して用いることができる。 [活性硬化線]レーザーを光源として用いる場合には、
露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像
度の画像形成が可能となる。レーザー光源としてはアル
ゴンレーザー、He−Neガスレーザー、YAGレーザ
ー、半導体レーザー等を何れも好適に用いることが可能
である。
As a method for curing after coating, any method for generating active electromagnetic waves can be used. For example,
Examples thereof include lasers, light emitting diodes, xenon flash lamps, halogen lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, tungsten lamps, mercury lamps and electrodeless light sources. Preferably a xenon lamp,
Examples of the light source include halogen lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, tungsten lamps, and mercury lamps. Can be used. [Active curing line] When a laser is used as a light source,
It is easy to reduce the exposure area to a very small size, and high-resolution image formation is possible. As a laser light source, any of an argon laser, a He-Ne gas laser, a YAG laser, a semiconductor laser and the like can be preferably used.

【0082】また、活性光線を用い光硬化を行う場合、
減圧下、窒素気流中で光硬化を安定化する手段等を用い
てもかまわない。 [熱処理]熱エネルギーを加えることもでき、手段とし
ては、オーブン、ヒ−トロ−ル、ホットスタンプ、サー
マルヘッド、レーザー光、赤外線フラッシュ、熱ペンな
どを適時選択して用いることができる。
When photocuring is performed using actinic rays,
A means for stabilizing photocuring in a nitrogen stream under reduced pressure may be used. [Heat Treatment] Heat energy can be applied, and as a means, an oven, a heat roller, a hot stamp, a thermal head, a laser beam, an infrared flash, a hot pen or the like can be appropriately selected and used.

【0083】この発明の熱または光硬化型樹脂層からな
る保護は、耐熱性の支持体、例えばポリエチレンテレフ
タレート樹脂フィルム上に塗工によって形成された透明
保護層リボンもしくは透明保護箔をあらかじめ用意して
おき、これを、例えば、サーマルヘッドや熱転写ロール
を用いて、熱転写することによって形成することができ
る。 [実施例]以下、実施例を挙げてこの発明を詳細に説明
するが、この発明の態様はこれに限定されない。尚、以
下において「部」は「重量部」を示す。 (ICチップ搭載の転写箔1の作成)図14に示すよう
なICチップ搭載の転写箔1を作成した。 [離型層の形成]支持体として、ダイアホイルヘキスト
(株)製ポリエチレンテレフタレート(S−25)の片
面に下記処方をワイヤーバーコーティングにて、90℃
/30secの乾燥条件により塗工を行った。膜厚は、
0.2μmであった。
For protection of the heat- or photo-curable resin layer of the present invention, a transparent protective layer ribbon or transparent protective foil formed by coating on a heat resistant support such as a polyethylene terephthalate resin film is prepared in advance. Alternatively, it can be formed by thermal transfer using, for example, a thermal head or a thermal transfer roll. [Examples] Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto. In the following, "part" means "part by weight". (Preparation of Transfer Foil 1 with IC Chip) A transfer foil 1 with IC chip as shown in FIG. 14 was prepared. [Formation of release layer] As a support, the following formulation was applied on one side of polyethylene terephthalate (S-25) manufactured by DIAFOIL Hoechst Co., Ltd. by wire bar coating at 90 ° C.
The coating was performed under a drying condition of / 30 sec. The film thickness is
It was 0.2 μm.

【0084】 ポリビニルアルコール(GL−05)(日本合成化学(株)製) 10部 水 90部 [ICモジュールの配置]次いで、前記離型層を塗工し
た、支持体上に、以下のICモジュールを配置した。
Polyvinyl alcohol (GL-05) (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 10 parts Water 90 parts [Arrangement of IC module] Next, the following IC module was coated on the support coated with the release layer. Was placed.

【0085】巻き線タイプのアンテナを形成し、厚み7
0μm、4×4mm角のICチップを接合し、補強版と
して、厚み120μm、6×6mm角のステンレス板を
回路面と反対がわに接着しICモジュールを得た。IC
チップ部の総厚は、210μmであった。 [樹脂層の形成]次いで、ICモジュールを配置した支
持体上へ、カーテン塗工により、以下の樹脂層組成物を
塗工した。
A winding type antenna is formed and has a thickness of 7
IC chips of 0 μm and 4 × 4 mm square were joined, and a stainless plate having a thickness of 120 μm and 6 × 6 mm square was bonded as a reinforcing plate to the backside of the circuit surface to obtain an IC module. IC
The total thickness of the chip portion was 210 μm. [Formation of Resin Layer] Next, the following resin layer composition was applied by curtain coating onto the support on which the IC module was placed.

【0086】 新中村化学社製 A−9300/新中村化学社製 EA−1020=35/11.75部 反応開始剤 イルガキュア184日本チバガイギー社製 5部 活性光線硬化層使用樹脂1 48部 大日本インキ界面活性剤F−179 0.25部 トルエン 500部 塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30sec
で乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で
光硬化を行った。膜厚は、240μmであった。
Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. A-9300 / Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. EA-1020 = 35 / 11.75 parts Reaction Initiator Irgacure 184 Nippon Ciba Geigy Co., Ltd. 5 parts Actinic ray curable layer resin 1 48 parts Dainippon Ink Ink Surfactant F-179 0.25 part Toluene 500 parts Actinic ray curable compound after coating is 90 ° C./30 sec.
And then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ). The film thickness was 240 μm.

【0087】次いで、以下の中間層と接着層をワイヤー
バーで塗工して、ICチップ搭載の転写箔1を作成し
た。 [中間層の形成] ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕 3.5部 タフテックスM−1913(旭化成) 5部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 1.5部 メチルエチルケトン 90部 塗布後硬化剤の硬化は、50℃、24時間で行った。膜
厚は、1.0μmであった。 [接着層の形成] ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部 ポリアクリル酸エステル共重合体 〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部 水 45部 エタノール 45部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。膜厚は、
0.5μmであった。 (ICチップ搭載の転写箔2の作成)ICモジュールの
配置を以下に従い、ICチップ搭載の転写箔1と同様に
して、ICチップ搭載の転写箔2を作成した。 [ICモジュールの配置]離型層を塗工した支持体上
に、スクリーン印刷法により、導電性のインキを使用し
て、のアンテナを形成し、厚み70μm、4×4mm角
のICチップを接合し、補強版として、厚み120μ
m、6×6mm角のステンレス板を回路面と反対がわに
接着しICモジュール配置した。得られたICチップ部
の総厚は、210μmであった。 (ICチップ搭載の転写箔3〜4の作成)中間層と接着
層との間にスクリーン印刷法にて、紋様パターン層を形
成した以外は、ICチップ搭載の転写箔1と同様にし
て、ICチップ搭載の転写箔3を作成した。
Next, the following intermediate layer and adhesive layer were coated with a wire bar to prepare a transfer foil 1 having an IC chip mounted thereon. [Formation of intermediate layer] Polyvinyl butyral resin [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1] 3.5 parts Tuftex M-1913 (Asahi Kasei) 5 parts Curing agent Polyisocyanate [Coronate HX Nippon Polyurethane] 1.5 After the application of 90 parts of methyl ethyl ketone, the curing agent was cured at 50 ° C. for 24 hours. The film thickness was 1.0 μm. [Formation of adhesive layer] Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254B] 8 parts Polyacrylic acid ester copolymer [Nippon Pure Chemical Co., Ltd .: Julimer AT510] 2 parts Water 45 parts Ethanol 45 parts was applied and then dried at 70 ° C./30 sec. The film thickness is
It was 0.5 μm. (Preparation of Transfer Foil 2 with IC Chip) The transfer foil 2 with an IC chip was prepared in the same manner as the transfer foil 1 with an IC chip according to the following arrangement of the IC module. [Arrangement of IC module] An antenna of is formed by using a conductive ink by a screen printing method on a support coated with a release layer, and an IC chip having a thickness of 70 μm and 4 × 4 mm square is bonded. The thickness of the reinforcing plate is 120μ.
A 6 mm × 6 mm square stainless plate was adhered to the side of the circuit opposite to the circuit surface to arrange the IC module. The total thickness of the obtained IC chip portion was 210 μm. (Preparation of Transfer Foil 3 to 4 with IC Chip) IC is the same as the transfer foil 1 with IC chip except that a pattern pattern layer is formed between the intermediate layer and the adhesive layer by a screen printing method. A transfer foil 3 with a chip was prepared.

【0088】中間層と接着層との間にスクリーン印刷法
にて、紋様パターン層を形成した以外は、ICチップ搭
載の転写箔2と同様にして、ICチップ搭載の転写箔4
を作成した。 (ICチップ搭載したICカード用の基材シート1の作
成) (筆記層の作成)支持体として、東レ株式会社製の12
5E28Gの厚さ125μm白色PETを使用した。
The transfer foil 4 having the IC chip mounted thereon is the same as the transfer foil 2 having the IC chip mounted thereon, except that the pattern pattern layer is formed between the intermediate layer and the adhesive layer by the screen printing method.
It was created. (Creation of base sheet 1 for IC card with IC chip) (Creation of writing layer) As a support, 12 manufactured by Toray Industries, Inc.
5E28G 125 μm thick white PET was used.

【0089】下記組成の第1筆記層形成用塗工液、第2
筆記層形成用塗工液及び第3筆記層形成用塗工液をこの
順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが5μm、15μ
m、0.2μmになる様に積層することにより筆記層を
形成した。 〈第1筆記層形成用塗工液〉 ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8部 イソシアネート〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕 1部 カーボンブラック 微量 二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部 メチルエチルケトン 80部 酢酸ブチル 10部 〈第2筆記層形成用塗工液〉 ポリエステル樹脂 4部 〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕 シリカ 5部 二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1部 水 90部 〈第3筆記層形成用塗工液〉 ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5部 メタノール 95部 得られた筆記層の中心線平均粗さは1.34μmであっ
た。 (筆記層へのフォーマット印刷層の形成)オフセット印
刷法により、図15に示すようにして、フォーマット印
刷(罫線、発行者名、発行者電話番号)を行った。印刷
インキはUV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件
は、高圧水銀灯で200mj相当であった。 [ICモジュールの配置]次いで、フォーマット印刷と
は(裏)反対側に、以下のICモジュールを配置した。
A first writing layer forming coating liquid having the following composition, a second
The writing layer forming coating liquid and the third writing layer forming coating liquid were applied and dried in this order to give respective thicknesses of 5 μm and 15 μm.
A writing layer was formed by laminating so as to have a thickness of 0.2 μm. <Coating liquid for forming the first writing layer> Polyester resin [TOYOBO Co., Ltd .: Byron 200] 8 parts Isocyanate [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX] 1 part Carbon black Trace amount of titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo] Co., Ltd .: CR80] 1 part Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming the second writing layer> Polyester resin 4 parts [Toyobo Co., Ltd .: Vylonal MD1200] Silica 5 parts Titanium dioxide particles [Ishihara] Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part Water 90 parts <Third writing layer forming coating liquid> Polyamide resin [Sanwa Chemical Co., Ltd .: Sunmide 55] 5 parts Methanol 95 parts Obtained writing layer The center line average roughness was 1.34 μm. (Formation of Format Printing Layer on Writing Layer) Format printing (ruled lines, issuer name, issuer telephone number) was performed by the offset printing method as shown in FIG. UV ink was used as the printing ink. The UV irradiation condition during printing was equivalent to 200 mj with a high pressure mercury lamp. [Arrangement of IC Modules] Next, the following IC modules were arranged on the opposite side (back side) from the format printing.

【0090】巻き線タイプのアンテナを形成し、厚み7
0μm、4×4mm角のICチップを接合し、補強版と
して、厚み120μm、6×6mm角のステンレス板を
回路面と反対がわに接着しICモジュールを得た。IC
チップ部の総厚は、210μmであった。 [樹脂層の形成]次いで、ICモジュールを配置した支
持体上へ、カーテン塗工により、以下の樹脂層組成物を
塗工した。
A winding type antenna is formed and has a thickness of 7
IC chips of 0 μm and 4 × 4 mm square were joined, and a stainless plate having a thickness of 120 μm and 6 × 6 mm square was bonded as a reinforcing plate to the backside of the circuit surface to obtain an IC module. IC
The total thickness of the chip portion was 210 μm. [Formation of Resin Layer] Next, the following resin layer composition was applied by curtain coating onto the support on which the IC module was placed.

【0091】 新中村化学社製 A−9300/新中村化学社製 EA−1020= 35/11.75部 反応開始剤 イルガキュア184日本チバガイギー社製 5部 活性光線硬化層使用樹脂1 48部 大日本インキ界面活性剤F−179 0.25部 トルエン 500部 塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30sec
で乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で
光硬化を行った。膜厚は、240μmであった。
Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. A-9300 / Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. EA-1020 = 35 / 11.75 parts Reaction initiator Irgacure 184 Nippon Ciba-Geigy Co., Ltd. 5 parts Actinic ray curable layer resin 1 48 parts Dainippon Ink Ink Surfactant F-179 0.25 part Toluene 500 parts Actinic ray curable compound after coating is 90 ° C./30 sec.
And then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ). The film thickness was 240 μm.

【0092】次いで、以下の中間層と接着層をワイヤー
バーで塗工して、ICチップ搭載のICカード用の基材
シート1を作成した。 [中間層の形成] ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕 3.5部 タフテックスM−1913(旭化成) 5部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 1.5部 メチルエチルケトン 90部 塗布後硬化剤の硬化は、50℃、24時間で行った。膜
厚は、1.0μmであった。 [接着層の形成] ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部 ポリアクリル酸エステル共重合体 〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部 水 45部 エタノール 45部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。 (ICチップ搭載したICカード用の基材シート2の作
成) [ICモジュールの配置]筆記層の形成を行う前に、東
レ株式会社製の125E28Gの厚さ125μm白色P
ETを使用して、銅箔エッチング加工法によりアンテナ
を形成し、厚み70μm、4×4mm角のICチップを
接合し、補強版として、厚み120μm、6×6mm角
のステンレス板を回路面と反対がわに接着しICモジュ
ールを搭載のPETシートを作成した。ICチップ部の
総厚は、210μmであった。
Then, the following intermediate layer and adhesive layer were coated with a wire bar to prepare a base sheet 1 for an IC card equipped with an IC chip. [Formation of intermediate layer] Polyvinyl butyral resin [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1] 3.5 parts Tuftex M-1913 (Asahi Kasei) 5 parts Curing agent Polyisocyanate [Coronate HX Nippon Polyurethane] 1.5 After the application of 90 parts of methyl ethyl ketone, the curing agent was cured at 50 ° C. for 24 hours. The film thickness was 1.0 μm. [Formation of adhesive layer] Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254B] 8 parts Polyacrylic acid ester copolymer [Nippon Pure Chemical Co., Ltd .: Julimer AT510] 2 parts Water 45 parts Ethanol 45 parts was applied and then dried at 70 ° C./30 sec. (Preparation of Base Material Sheet 2 for IC Card Mounted with IC Chip) [Arrangement of IC Module] Before forming the writing layer, 125E28G having a thickness of 125 μm white P manufactured by Toray Industries, Inc.
An antenna is formed by a copper foil etching method using ET, an IC chip with a thickness of 70 μm and a size of 4 × 4 mm is joined, and a stainless plate with a thickness of 120 μm and a size of 6 × 6 mm is opposite to the circuit surface as a reinforcing plate. A PET sheet having an IC module mounted on a crocodile was prepared. The total thickness of the IC chip portion was 210 μm.

【0093】このようにして得られたシート上に、IC
チップ搭載のICカード用の基材シート1と同様に樹脂
層、中間層、接着層を設け、さらに、反対側に筆記層を
設け、ICカード用の基材シート2を作成した。
On the sheet thus obtained, IC
A resin layer, an intermediate layer, and an adhesive layer were provided in the same manner as the base sheet 1 for an IC card on which chips were mounted, and a writing layer was further provided on the opposite side to prepare a base sheet 2 for an IC card.

【0094】さらに画像、文字が記録された前記受像層
又は透明樹脂層、鱗片顔料含有層上に前記構成からなる
活性光線硬化型転写箔1を用いて表面温度200℃に加
熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用
いて圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をかけて転
写を行なった。 (ICチップ搭載したICカード用の基材シート3〜4
の作成)中間層と接着層との間にスクリーン印刷法に
て、紋様パターン層を形成した以外はICチップ搭載し
たICカード用の基材シート1と同様にしてICチップ
搭載したICカード用の基材シート3を作成した。
Further, a rubber having a diameter of 5 cm and heated to a surface temperature of 200 ° C. by using the actinic ray-curable transfer foil 1 having the above-mentioned structure on the image-receiving layer or the transparent resin layer on which images and characters are recorded and the scale-pigment-containing layer. Transfer was performed by applying heat for 1.2 seconds at a pressure of 150 kg / cm 2 using a heat roller having a hardness of 85. (Substrate sheets 3-4 for IC cards equipped with IC chips
Preparation of IC card with IC chip mounted in the same manner as the base sheet 1 for IC card mounted IC chip except that a pattern pattern layer was formed between the intermediate layer and the adhesive layer by a screen printing method. The base material sheet 3 was created.

【0095】中間層と接着層との間にスクリーン印刷法
にて、紋様パターン層を形成した以外はICチップ搭載
したICカード用の基材シート2と同様にしてICチッ
プ搭載したICカード用の基材シート4を作成した。 (筆記層付きのICカード用の基材シート作成)(IC
チップ搭載したICカード用の基材シート1)と同様
に、東レ株式会社製の125E28Gの厚さ125μm
白色PETに筆記層を形成、筆記層へのフォーマット印
刷層の形成を行った。次いで、フォーマット印刷とは
(裏)反対側に、以下接着層をワイヤーバーを使用して
設けた。 [接着層の形成] ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部 ポリアクリル酸エステル共重合体 〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部 水 45部 エタノール 45部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った (受像層付きのICカード用の基材シート作成)東レ株
式会社製の125E28Gの厚さ125μm白色PET
に下記組成物からなるクッション層、受像層、情報坦持
体層、透明樹脂層、燐片顔料層を形成し、受像層付きの
ICカード用の基材シートを作成した。 [クッション層の形成]ポリプロピレン(PP)を20
0℃で熱溶融し、前記白色PET上に20μmになるよ
うにクッション層を設けた。 [受像層]上記クッション層上に下記組成の第1受像層
形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液及び第3受像層
形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚み
が0.2μm、2.5μm、0.5μmになるように積
層することにより受像層を形成した。 〈第1受像層形成用塗工液〉 ポリビニルブチラール樹脂 〔積水化学工業(株)製:エスレックBL−1〕 9部 イソシアネート〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕 1部 メチルエチルケトン 80部 酢酸ブチル 10部 〈第2受像層形成用塗工液〉 ポリビニルブチラール樹脂 〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕 6部 金属イオン含有化合物(化合物MS) 4部 メチルエチルケトン 80部 酢酸ブチル 10部 〈第3受像層形成用塗工液〉 ポリエチレンワックス 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕 2部 ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕 8部 メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1部 水 90部 (フォーマット印刷層からなる情報坦持体形成)受像層
上にオフセット印刷法により、フォーマット印刷(従業
員証、氏名)を行った。印刷インキはUV墨インキを用
いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200m
j相当であった。 (透明樹脂層形成)下記組成物からなる印刷インキを用
いロールミルにより混合し、印刷インキを作成した。オ
フセット印刷法により受像層上に印刷を行った。印刷時
のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であっ
た。 (透明樹脂層組成物1) ウレタンアクリレートオリゴマー 50部 脂肪族ポリエステルアクリレートオリゴマー 35部 ダイロキュア1173(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製) 5部 トリメチロールプロパンアクリレート 10部 (鱗片顔料層の形成層形成)下記組成物からなる印刷イ
ンキを表記載の方法により混合し、印刷インキを作成し
た。オフセット印刷法により受像層上に印刷を行った。
以下に、断面及び表面のイメージを図16に示す。
For an IC card equipped with an IC chip, in the same manner as the base sheet 2 for an IC card equipped with an IC chip, except that a pattern pattern layer was formed between the intermediate layer and the adhesive layer by a screen printing method. The base material sheet 4 was created. (Creating a base sheet for an IC card with a writing layer) (IC
Similar to the base sheet 1) for IC cards with chips, the thickness of 125E28G manufactured by Toray Industries, Inc. 125 μm
A writing layer was formed on white PET, and a format printing layer was formed on the writing layer. Then, an adhesive layer was provided on the opposite side (back side) from the format printing using a wire bar. [Formation of adhesive layer] Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254B] 8 parts Polyacrylic ester copolymer [manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd .: Julimer AT510] 2 parts Water 45 parts Ethanol 45 parts was applied and then dried at 70 ° C./30 sec (preparation of base material sheet for IC card with image receiving layer) 125E28G 125 μm white PET manufactured by Toray Industries, Inc.
Then, a cushion layer, an image receiving layer, an information carrier layer, a transparent resin layer, and a scaly pigment layer made of the following composition were formed to prepare a base sheet for an IC card having an image receiving layer. [Cushion layer formation] Polypropylene (PP) 20
A cushion layer was provided on the white PET so as to have a thickness of 20 μm by heat melting at 0 ° C. [Image Receiving Layer] A first image receiving layer forming coating liquid, a second image receiving layer forming coating liquid and a third image receiving layer forming coating liquid having the following compositions are applied and dried in this order on the cushion layer, respectively. An image receiving layer was formed by laminating the layers to have a thickness of 0.2 μm, 2.5 μm, and 0.5 μm. <Coating liquid for forming first image-receiving layer> Polyvinyl butyral resin [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BL-1] 9 parts Isocyanate [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX] 1 part Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts <Coating liquid for forming second image receiving layer> Polyvinyl butyral resin [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1] 6 parts Metal ion-containing compound (compound MS) 4 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Butyl acetate 10 parts < Third Image Receiving Layer Forming Coating Liquid> Polyethylene wax [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec E1000] 2 parts Urethane modified ethylene acrylic acid copolymer [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254] 8 parts Methylcellulose [ Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15] 0.1 part water 90 parts (format printing (Formation of information carrier consisting of layers) Format printing (employee ID, name) was performed on the image receiving layer by the offset printing method. UV ink was used as the printing ink. The UV irradiation condition during printing is 200 m with a high pressure mercury lamp.
It was equivalent to j. (Formation of transparent resin layer) A printing ink composed of the following composition was mixed by a roll mill to prepare a printing ink. Printing was performed on the image receiving layer by the offset printing method. The UV irradiation condition during printing was equivalent to 200 mj with a high pressure mercury lamp. (Transparent resin layer composition 1) Urethane acrylate oligomer 50 parts Aliphatic polyester acrylate oligomer 35 parts Dirocur 1173 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 5 parts Trimethylol propane acrylate 10 parts (formation layer formation of scale pigment layer) Printing inks composed of the composition were mixed by the method shown in the table to prepare printing inks. Printing was performed on the image receiving layer by the offset printing method.
The images of the cross section and the surface are shown below in FIG.

【0096】印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で2
00mj相当であった。 (鱗片顔料層組成物1) Iriodin211(Merk社製) 45部 ウレタンアクリレートオリゴマー 40部 ダイロキュア1173(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製) 5部 トリメチロールプロパンアクリレート 10部 このように作成された受像層付きのICカード用の基材
シートに、以下の方法で、氏名、住所、顔画像などの個
人識別情報を設けた。 (昇華型感熱転写記録用のインクシートの作成)裏面に
融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレ
ートシートに下記組成のイエローインク層形成用塗工
液、マゼンタインク層形成用塗工液、シアンインク層形
成用塗工液を各々の厚みが1μmになるように設け、イ
エロー、マゼンタ、シアンの3色のインクシートを得
た。 〈イエローインク層形成用塗工液〉 イエロー染料〔三井東圧染料(株)製MSYellow〕 3部 ポリビニルアセタール 〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕 5.5部 ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕 1部 ウレタン変性シリコンオイル 〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕 0.5部 メチルエチルケトン 70部 トルエン 20部 〈マゼンタインク層形成用塗工液〉 マゼンタ染料〔三井東圧染料(株)製 MS Magenta〕 2部 ポリビニルアセタール 〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕 5.5部 ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕 2部 ウレタン変性シリコンオイル 〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕 0.5部 メチルエチルケトン 70部 トルエン 20部 〈シアンインク層形成用塗工液〉 シアン染料〔日本化薬(株)製 カヤセットブルー136〕 3部 ポリビニルアセタール 〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕 5.6部 ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕 1部 ウレタン変性シリコンオイル 〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕 0.5部 メチルエチルケトン 70部 トルエン 20部 (溶融型感熱転写記録用のインクシートの作成)裏面に
融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレ
ートシートに下記組成のインク層形成用塗工液を厚みが
2μmになるように塗布乾燥してインクシートを得た。 〈インク層形成用塗工液〉 カルナバワックス 1部 エチレン酢酸ビニル共重合体 〔三井デュポンケミカル社製:EV40Y〕 1部 カーボンブラック 3部 フェノール樹脂〔荒川化学工業(株)製:タマノル521〕 5部 メチルエチルケトン 90部 [顔画像の形成]受像層付きのICカード用の基材シー
ト表面に昇華型感熱転写記録用のインクシートのインク
側を重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用
いて出力0.23W/ドット、パルス幅0.3〜4.5
m秒、ドット密度16ドット/mmの条件で加熱するこ
とにより画像に階調性のある人物画像を受像層に形成し
た。この画像においては上記色素と受像層のニッケルが
錯体を形成している。 [文字情報の形成]表シート表面に溶融型感熱転写記録
用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート
側からサーマルヘッドを用いて出力0.5W/ドット、
パルス幅1.0m秒、ドット密度16ドット/mmの条
件で加熱することにより文字情報をOPニス上に形成し
た。
The UV irradiation condition during printing is 2 with a high pressure mercury lamp.
It was equivalent to 00 mj. (Scale pigment layer composition 1) Iriodin 211 (manufactured by Merk) 45 parts Urethane acrylate oligomer 40 parts Dirocure 1173 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 5 parts Trimethylol propane acrylate 10 parts With an image-receiving layer thus prepared The personal identification information such as name, address, face image, etc. was provided on the base sheet for the IC card by the following method. (Preparation of sublimation-type thermal transfer recording ink sheet) A 6 μm-thick polyethylene terephthalate sheet having a back surface processed to prevent fusion is coated with a yellow ink layer-forming coating solution, a magenta ink layer-forming coating solution, and cyan. The ink layer forming coating liquid was provided so that each thickness was 1 μm, and three color ink sheets of yellow, magenta and cyan were obtained. <Yellow Ink Layer Forming Coating Liquid> Yellow Dye [MS Yellow manufactured by Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd.] 3 parts Polyvinyl acetal [Denka Butyral KY-24] 5.5 parts Polymethylmethacrylate Modified polystyrene [Toagosei Chemical Industry Co., Ltd .: Rededa GP-200] 1 part Urethane modified silicone oil [Dainichi Seika Chemicals Co., Ltd .: Dialomer SP-2105] 0.5 part Methyl ethyl ketone 70 parts Toluene 20 parts <Magenta Coating liquid for ink layer formation> Magenta dye [MS Magenta manufactured by Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd.] 2 parts Polyvinyl acetal [Denka Butyral KY-24 manufactured by Denki Kagaku KK] 5.5 parts Polymethylmethacrylate modified Polystyrene [Toagosei Chemical Industry Co., Ltd .: Rededa GP-200] 2 parts Urethane-modified silicone oil [Dainichi Seika Kogyo KK: Dialomer SP-2105] 0.5 part Methyl ethyl ketone 70 parts Toluene 20 parts <Cyan ink layer forming coating solution> Cyan dye [Kaya manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.] Set blue 136] 3 parts Polyvinyl acetal [Denka Butyral KY-24] manufactured by Denki Kagaku Kogyo 5.6 parts Polymethylmethacrylate modified polystyrene [Toagosei Kagaku Kogyo: Rededa GP-200] 1 part Urethane-modified silicone oil [Dainichi Seika Kogyo KK: Dialomer SP-2105] 0.5 part Methyl ethyl ketone 70 parts Toluene 20 parts (preparation of ink sheet for melt-type thermal transfer recording) Thickness to prevent fusion on the back surface A 6 μm thick polyethylene terephthalate sheet is coated with an ink layer-forming coating solution having the following composition. An ink sheet was obtained by coating and drying so that the thickness was 2 μm. <Ink layer forming coating liquid> Carnauba wax 1 part Ethylene vinyl acetate copolymer [Mitsui DuPont Chemical Co., Ltd .: EV40Y] 1 part Carbon black 3 parts Phenolic resin [Arakawa Chemical Industries Co., Ltd .: Tamanor 521] 5 parts Methyl ethyl ketone 90 parts [Facial image formation] The ink side of a sublimation-type thermal transfer recording ink sheet is superposed on the surface of a base sheet for an IC card having an image receiving layer, and output from the ink sheet side using a thermal head is 0.23 W / Dot, pulse width 0.3 to 4.5
A human image having gradation in the image was formed on the image receiving layer by heating under the condition of m second for a dot density of 16 dots / mm. In this image, the dye and nickel in the image receiving layer form a complex. [Formation of Character Information] The ink side of the ink sheet for fusion type thermal transfer recording is superposed on the surface of the front sheet, and the output is 0.5 W / dot from the side of the ink sheet using a thermal head.
Character information was formed on the OP varnish by heating under the conditions of a pulse width of 1.0 msec and a dot density of 16 dots / mm.

【0097】上記により、図17に示すように、顔画像
と属性情報(コニカ太郎、ID:1223344など)
を設けた。 (ICカードの作成) [ICカード1の作成]氏名、住所、顔画像などの個人
識別情報を設けた受像層付きのICカード用の基材シー
ト[該個人識別情報がない側]、ICチップ搭載の転写
箔1を表面温度200℃に加熱した、直径5cmゴム硬
度85のヒートローラーを用いて圧力150kg/cm
2で1.2秒間熱をかけて転写をおこなった。
As described above, as shown in FIG. 17, the face image and the attribute information (Taro Konica, ID: 1223344, etc.)
Was set up. (Creation of IC card) [Creation of IC card 1] Base sheet for IC card with image receiving layer provided with personal identification information such as name, address, face image [side without the personal identification information], IC chip Using a heat roller having a surface temperature of 200 ° C. and having a rubber hardness of 5 cm and a pressure of 150 kg / cm.
Transfer was performed by applying heat at 2 for 1.2 seconds.

【0098】次いで前記「筆記層付きのICカード用の
基材シート」を表面温度200℃に加熱した、直径5c
mゴム硬度85のヒートローラーを用いて圧力150k
g/cm2で1.2秒間熱をかけて貼り合わせを行いI
Cカードを作成した。
Then, the above "base sheet for IC card with writing layer" was heated to a surface temperature of 200 ° C., diameter 5c
m rubber hardness 85 using heat roller pressure 150k
Heat was applied at g / cm 2 for 1.2 seconds to perform bonding I
I made a C card.

【0099】このように作成されたICカードは表1に
記載の透明保護層1または2を以下の方法で形成した。 [ICカード2〜4の作成]ICカード1と同様にIC
カード3〜4を作成した。得られたカードの条件を表1
に記載した。 [ICカード5〜8の作成]氏名、住所、顔画像などの
個人識別情報を設けた受像層付きのICカード用の基材
シート[該個人識別情報がない側]に、ICチップ搭載
したICカード用の基材シート1〜4を表面温度200
℃に加熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラ
ーを用いて圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をか
けて貼り合わせを行いICカード5〜8を作成した。
In the IC card thus produced, the transparent protective layer 1 or 2 shown in Table 1 was formed by the following method. [Creation of IC cards 2 to 4] IC as in IC card 1
Cards 3-4 were created. Table 1 shows the conditions of the obtained cards.
Described in. [Creation of IC cards 5 to 8] An IC with an IC chip mounted on a base sheet for an IC card with an image receiving layer provided with personal identification information such as name, address and face image [on the side without the personal identification information] The surface temperature of the base sheets 1 to 4 for the card is 200
IC cards 5 to 8 were prepared by applying heat at a pressure of 150 kg / cm 2 for 1.2 seconds using a heat roller heated to 50 ° C. and having a rubber hardness of 5 cm and a temperature of 150 kg / cm 2 .

【0100】このように作成されたICカードは表1に
記載の透明保護層1または2を以下の方法で形成した。 [比較用のICカード9の作成]氏名、住所、顔画像な
どの個人識別情報を設けた受像層付きのICカード用の
基材シート[該個人識別情報がない側]と「筆記層付き
のICカード用の基材シート」との間に以下のICモジ
ュールを配置し、ホットメルト接着剤エスダイン963
2(積水化学工業株式会社製 反応性ホットメルト接着
剤)を使用して貼り合わせてICカードを作成した。
In the IC card thus prepared, the transparent protective layer 1 or 2 shown in Table 1 was formed by the following method. [Creation of IC card 9 for comparison] Base sheet for IC card with image receiving layer provided with personal identification information such as name, address, face image [side without the personal identification information] and "with writing layer The following IC module is arranged between the base sheet for IC card "and the hot-melt adhesive Esdyne 963.
2 (Reactive Hot Melt Adhesive manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) was used to bond them to prepare an IC card.

【0101】貼り合わせには、平板ホットプレス装置を
使用し、上下板の温度を80℃、プレス圧5.0kg/
cm2、プレス時間60秒の条件にて、厚み760μm
のステンレススペーサーを間に挟む事によって作成し
た。 (ICモジュール)巻き線タイプのアンテナを形成し、
厚み70μm、4×4mm角のICチップを接合し、補
強版として、厚み120μm、6×6mm角のステンレ
ス板を回路面と反対側に接着しICモジュールを得た。
ICチップ部の総厚は、210μmであった。
A flat plate hot press machine was used for the bonding, and the temperature of the upper and lower plates was 80 ° C. and the press pressure was 5.0 kg /
cm 2 and pressing time 60 seconds, thickness 760 μm
It was created by sandwiching the stainless steel spacer of. (IC module) Form a winding type antenna,
IC chips having a thickness of 70 μm and 4 × 4 mm square were joined, and a stainless plate having a thickness of 120 μm and 6 × 6 mm square was bonded as a reinforcing plate on the side opposite to the circuit surface to obtain an IC module.
The total thickness of the IC chip portion was 210 μm.

【0102】このように作成されたICカードは表1に
記載の透明保護層1または2を以下の方法で形成した。
In the IC card thus produced, the transparent protective layer 1 or 2 shown in Table 1 was formed by the following method.

【0103】次に、ICカード基材への保護層形成方法
について説明する。
Next, a method of forming a protective layer on the IC card substrate will be described.

【0104】このように作成されたカード表面に以下の
保護層を設けた。 (透明保護層1の形成) [透明樹脂転写箔の作成]ダイアホイルヘキスト(株)
製ポリエチレンテレフタレート(S−25)の片面に下
記処方をワイヤーバーコーティングにて塗工乾燥して、
保護層を形成した。 (離型層) 膜厚 0.5μm アクリル系樹脂(三菱レイヨン(株)製、ダイアナールBR−87) 5部 ポリビニルアセトアセタール(SP値:9.4) (積水化学(株)、KS−1) 5部 メチルエチルケトン 40部 トルエン 50部 塗布後、90℃/30secで乾燥を行った。 〈中間層形成塗工液〉 膜厚0.3μm ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1 5部 タフテックスM−1913(旭化成) 3.5部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 1.5部 メチルエチルケトン 20部 トルエン 70部 塗布後、90℃/30secで乾燥を行い、硬化剤の硬
化は、50℃、24時間で行った。 〈バリヤー層形成塗工液〉 膜厚0.5μm BX−1(ポリビニルブチラール樹脂) 〔積水化学(株)製:エスレックBシリーズ〕 4部 タフテックスM−1913(旭化成) 4部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 2部 トルエン 50部 メチルエチルケトン 40部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。 〈接着層形成塗工液〉 膜厚0.3μm ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部 ポリアクリル酸エステル共重合体 〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部 水 45部 エタノール 45部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。
The following protective layer was provided on the surface of the card thus prepared. (Formation of transparent protective layer 1) [Preparation of transparent resin transfer foil] Diafoil Hoechst Co., Ltd.
Polyethylene terephthalate (S-25) manufactured by wire bar coating with the following formulation on one side and dried,
A protective layer was formed. (Release layer) Film thickness 0.5 μm Acrylic resin (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Dyanal BR-87) 5 parts Polyvinyl acetoacetal (SP value: 9.4) (Sekisui Chemical Co., Ltd., KS-1) 5 parts Methyl ethyl ketone 40 parts Toluene 50 parts After coating, it was dried at 90 ° C./30 sec. <Intermediate layer forming coating solution> Film thickness 0.3 μm Polyvinyl butyral resin [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1 5 parts Tuftex M-1913 (Asahi Kasei) 3.5 parts Curing agent Polyisocyanate [Coronate HX Japan Polyurethane] 1.5 parts Methyl ethyl ketone 20 parts Toluene 70 parts After application, drying was carried out at 90 ° C./30 sec, and the curing agent was cured at 50 ° C. for 24 hours. <Barrier layer forming coating liquid> Film thickness 0.5 μm BX-1 (polyvinyl butyral resin) [Sekisui Chemical Co., Ltd .: Eslec B series] 4 parts Tuftex M-1913 (Asahi Kasei) 4 parts Curing agent Polyisocyanate [ Coronate HX made by Nippon Polyurethane] 2 parts Toluene 50 parts Methyl ethyl ketone 40 parts After coating, drying was performed at 70 ° C./30 sec. <Adhesive layer forming coating liquid> Film thickness 0.3 μm Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitech S6254B] 8 parts Polyacrylic ester copolymer [Nippon Pure Chemical Co., Ltd.] : Julimer AT510] 2 parts Water 45 parts Ethanol 45 parts After application, drying was performed at 70 ° C./30 sec.

【0105】上記の組成の剥離層、中間層、接着層で構
成される透明樹脂転写箔を作成した。
A transparent resin transfer foil composed of a release layer, an intermediate layer and an adhesive layer having the above composition was prepared.

【0106】次いで、ICカードの表面に該転写箔を用
いて表面温度200℃に加熱した、直径5cmゴム硬度
85のヒートローラーを用いて圧力150kg/cm2
で1.2秒間熱をかけて転写をおこなった。
Then, the transfer foil was used on the surface of the IC card to heat the surface temperature to 200 ° C., and a pressure of 150 kg / cm 2 was applied using a heat roller having a rubber hardness of 85 and a diameter of 5 cm.
Transfer was performed by applying heat for 1.2 seconds.

【0107】前記転写箔が転写されたICカード上に前
記紫外線硬化樹脂含有塗布液を20g/m2の塗布量に
なるように特定の地模様を持つグラビアロールコーター
により塗布し、下記の硬化条件にて紫外線硬化樹脂含有
塗布液1を硬化させて紫外線硬化保護層を形成した。
The UV-curable resin-containing coating solution was applied onto the IC card having the transfer foil transferred thereon by a gravure roll coater having a specific background pattern so that the coating amount was 20 g / m 2 , and the following curing conditions were applied. The ultraviolet-curable resin-containing coating liquid 1 was cured to form an ultraviolet-curable protective layer.

【0108】 硬化条件 光照射源 60w/cm2の高圧水銀ランプ 照射距離 10cm 照射モード 3cm/秒で光走査 (透明保護層2の形成) [紫外線硬化樹脂含有塗布液] ビス(3,4−エポキシー6−メチルシクロヘキシルメチル)アジパート 70部 ビスフェノールAグリシジルエーテル 10部 1,4−ブタンジオールグリシジルエーテル 13部 トリアリールスルホニウムフルオロアンチモン 7部 (活性光線硬化型転写箔の作成) (離型層形成塗工液) 膜厚0.2μm ポリビニルアルコール(GL−05)(日本合成化学(株)製) 10部 水 90部 離型層は、90℃/30secの乾燥条件により塗工を
行った。 (活性光線硬化性化合物) 膜厚7.0μm 新中村化学社製 A−9300/新中村化学社製 EA−1020=35/11.75部 反応開始剤 イルガキュア184日本チバガイギー社製 5部 活性光線硬化層使用樹脂1 48部 大日本インキ界面活性剤F−179 0.25部 トルエン 500部 塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30sec
で乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm2)で
光硬化を行った。 〈中間層形成塗工液〉 膜厚1.0μm ポリビニルブチラール樹脂 〔積水化学(株)製:エスレックBX−1 3.5部 タフテックスM−1913(旭化成) 5部 硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 1.5部 メチルエチルケトン 90部 塗布後硬化剤の硬化は、50℃、24時間で行った。 〈接着層形成塗工液〉 膜厚0.5μm ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体 〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8部 ポリアクリル酸エステル共重合体 〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕 2部 水 45部 エタノール 45部 塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。
Curing Conditions Light Irradiation Source 60 w / cm 2 High Pressure Mercury Lamp Irradiation Distance 10 cm Irradiation Mode Optical Scanning at 3 cm / sec (Formation of Transparent Protective Layer 2) [UV-Curing Resin-Containing Coating Liquid] Bis (3,4-epoxy) 6-Methylcyclohexylmethyl) adipate 70 parts Bisphenol A glycidyl ether 10 parts 1,4-butanediol glycidyl ether 13 parts Triarylsulfonium fluoroantimony 7 parts (preparation of actinic radiation curable transfer foil) (release layer forming coating liquid) ) Film thickness 0.2 μm Polyvinyl alcohol (GL-05) (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 10 parts Water 90 parts The release layer was applied under the drying conditions of 90 ° C./30 sec. (Actinic ray curable compound) Film thickness 7.0 μm Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. A-9300 / Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. EA-1020 = 35 / 11.75 parts Reaction initiator Irgacure 184 Nippon Ciba Geigy Co., Ltd. 5 parts Actinic ray curable compound Layer Resin 1 48 parts Dainippon Ink Surfactant F-179 0.25 parts Toluene 500 parts Actinic ray curable compound after coating is 90 ° C / 30 sec.
And then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2). <Intermediate layer forming coating solution> Film thickness 1.0 μm Polyvinyl butyral resin [Sekisui Chemical Co., Ltd .: S-REC BX-1 3.5 parts Tuftex M-1913 (Asahi Kasei) 5 parts Curing agent Polyisocyanate [Coronate HX Japan Polyurethane] 1.5 parts Methyl ethyl ketone 90 parts After application, the curing agent was cured at 50 ° C. for 24 hours. <Adhesive layer forming coating liquid> Film thickness 0.5 μm Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer [Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitech S6254B] 8 parts Polyacrylic ester copolymer [Nippon Pure Chemical Co., Ltd.] : Julimer AT510] 2 parts Water 45 parts Ethanol 45 parts After application, drying was performed at 70 ° C./30 sec.

【0109】さらに画像、文字が記録された前記受像体
又は透明樹脂層、鱗片顔料含有層上に前記構成からなる
活性光線硬化型転写箔1を用いて表面温度200℃に加
熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用
いて圧力150kg/cm2で1.2秒間熱をかけて転
写を行なった。
Further, a rubber having a diameter of 5 cm and heated to a surface temperature of 200 ° C. using the actinic ray-curable transfer foil 1 having the above-mentioned structure on the image receptor or transparent resin layer on which images and characters are recorded, and the scale pigment-containing layer. Transfer was performed by applying heat for 1.2 seconds at a pressure of 150 kg / cm 2 using a heat roller having a hardness of 85.

【0110】前記ICカード1〜9を各100枚づつ作
成し、印字性、印画性の不良の発生枚数を表1に示し
た。
100 of each of the IC cards 1 to 9 were prepared, and Table 1 shows the number of printable and printable defects.

【0111】[0111]

【表1】 この発明のICカード1〜8は、比較例のICカード9
と比較して、印字不良によって発生していたロスを低減
することができ、生産性が向上し、低コストでICカー
ドが作成できる。紋様パターンを有するカードにおいて
は、例えばカードの背面から光を当てれば、紋様パター
ンが透かし像と認識することができるため、真偽判別性
としてのセキュリティ性にも優れる。
[Table 1] The IC cards 1 to 8 of the present invention are the IC card 9 of the comparative example.
As compared with the above, it is possible to reduce the loss that has occurred due to defective printing, improve productivity, and create an IC card at low cost. In the case of a card having a pattern pattern, the pattern pattern can be recognized as a watermark image by shining light from the back surface of the card, so that the authenticity / counterfeit security is also excellent.

【0112】[0112]

【発明の効果】前記したように、請求項1に記載の発明
では、予めシート基材に、顔画像等の認証識別画像、属
性情報画像を記録した後に、ICカード用の転写箔を用
いてICチップ及びアンテナを搭載するICカードを製
造することによって印字性を向上することができる。
As described above, according to the invention of claim 1, after the authentication identification image such as the face image and the attribute information image are recorded on the sheet base material in advance, the transfer foil for the IC card is used. The printability can be improved by manufacturing an IC card equipped with an IC chip and an antenna.

【0113】請求項2に記載の発明では、ICカード化
後に、例えばICカードの背面から光を当てれば、紋様
パターンが透かし像と認識することができるため、真偽
判別性としてのセキュリティ性にも優れている。
According to the second aspect of the present invention, since the pattern pattern can be recognized as a watermark image by applying light from the back surface of the IC card after it has been made into an IC card, the security as authenticity discrimination can be improved. Is also excellent.

【0114】請求項3に記載の発明では、予めシート基
材に、顔画像等の認証識別画像、属性情報画像を記録し
た後に、ICカード用の基材シートを用いてICチップ
及びアンテナを搭載するICカードを製造することによ
って印字性を向上することができる。
According to the third aspect of the invention, after the authentication identification image such as a face image and the attribute information image are recorded on the sheet base material in advance, the IC chip and the antenna are mounted using the base sheet for the IC card. The printability can be improved by manufacturing an IC card that performs

【0115】請求項4に記載の発明では、ICカード化
後に、例えばICカードの背面から光を当てれば、紋様
パターンが透かし像と認識することができるため、真偽
判別性としてのセキュリティ性にも優れている。
According to the fourth aspect of the invention, since the pattern pattern can be recognized as a watermark image by shining light from the back of the IC card after it has been made into an IC card, the security as authenticity discrimination is improved. Is also excellent.

【0116】請求項5に記載の発明では、ICチップ及
びアンテナを搭載せしめる方法として、ICカード用の
転写箔によって熱転写することでICチップ及びアンテ
ナを搭載することができ、大がかりな接着剤塗工機やラ
ミネート機が必要でないため、低コストで製造でき、ま
た印字不良によって発生していたロスを低減することに
よって生産性が向上し、低コストでICカードが作成で
きる。
According to the invention of claim 5, as a method of mounting the IC chip and the antenna, the IC chip and the antenna can be mounted by thermal transfer using a transfer foil for an IC card, and a large-scale adhesive coating is performed. Since a machine and a laminating machine are not required, manufacturing can be performed at low cost, and productivity can be improved by reducing loss generated by defective printing, and an IC card can be manufactured at low cost.

【0117】請求項6に記載の発明では、ICチップ及
びアンテナを搭載せしめる方法として、ICカード用の
基材シートを用いて貼り合わせることでICチップ及び
アンテナを搭載することができ、大がかりな接着剤塗工
機やラミネート機が必要でないため、低コストで製造で
き、また印字不良によって発生していたロスを低減する
ことによって生産性が向上し、低コストでICカードが
作成できる。
According to the sixth aspect of the invention, as a method of mounting the IC chip and the antenna, the IC chip and the antenna can be mounted by sticking them together by using the base sheet for the IC card, and a large-scale adhesion is possible. Since an agent coating machine and a laminating machine are not required, it can be manufactured at low cost, and productivity can be improved by reducing loss generated due to defective printing, and an IC card can be manufactured at low cost.

【0118】請求項7に記載の発明では、ICカード化
後に、紋様パターン部分と紋様パターンのない部分との
透過濃度の差が0.03〜0.50の範囲であり、IC
カード化後に、例えばICカードの背面から光を当てれ
ば、紋様パターンが透かし像と認識することができるた
め、真偽判別性としてのセキュリティ性にも優れてい
る。
According to the seventh aspect of the invention, after the IC card is formed, the difference in the transmission density between the pattern pattern portion and the portion without the pattern pattern is in the range of 0.03 to 0.50.
After the card is formed, the pattern pattern can be recognized as a watermark image by shining light from the back surface of the IC card, for example, and thus the security as the authenticity discrimination is excellent.

【0119】請求項8に記載の発明では、ICカードが
シート基材の少なくとも1方の外表面には、熱転写受像
層を有し、熱転写受像層により顔画像等の認証識別画
像、属性情報画像を記録することができる。
In the invention according to claim 8, the IC card has a thermal transfer image-receiving layer on at least one outer surface of the sheet base material, and the thermal transfer image-receiving layer allows an authentication identification image such as a face image and an attribute information image. Can be recorded.

【0120】請求項9に記載の発明では、ICカードが
シート基材の少なくとも1方の外表面には、筆記層を有
し、筆記層には使用時に種々の情報を記載することがで
きる。
According to the invention of claim 9, the IC card has a writing layer on at least one outer surface of the sheet base material, and various information can be written on the writing layer at the time of use.

【0121】請求項10に記載の発明では、ICカード
が透明保護層によりICカードの耐久性が向上する。
According to the tenth aspect of the invention, the durability of the IC card is improved by the transparent protective layer of the IC card.

【0122】請求項11に記載の発明では、ICカード
が予め氏名、顔画像を含む個人識別情報を設けたシート
基材を使用することで、印字不良を防止することができ
る。
According to the eleventh aspect of the present invention, the IC card uses the sheet base material on which personal identification information including the name and face image is provided in advance, whereby defective printing can be prevented.

【0123】請求項12に記載の発明では、ICカード
化後に、紋様パターン部分と紋様パターンのない部分と
の透過濃度の差が0.03〜0.50の範囲であり、I
Cカード化後に、例えばICカードの背面から光を当て
れば、紋様パターンが透かし像と認識することができる
ため、真偽判別性としてのセキュリティ性にも優れてい
る。
According to the twelfth aspect of the invention, after the IC card is formed, the difference in transmission density between the pattern pattern portion and the portion without the pattern pattern is in the range of 0.03 to 0.50.
After the C card is formed, the pattern pattern can be recognized as a watermark image by shining light from the back surface of the IC card, for example, and therefore the security as the authenticity discrimination is excellent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ICカード用の転写箔の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a transfer foil for an IC card.

【図2】ICカード用の転写箔の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a transfer foil for an IC card.

【図3】他の実施の形態のICカード用の転写箔の断面
図である。
FIG. 3 is a sectional view of a transfer foil for an IC card according to another embodiment.

【図4】他の実施の形態のICカード用の転写箔の平面
図である。
FIG. 4 is a plan view of a transfer foil for an IC card according to another embodiment.

【図5】ICカード用の基材シートの断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of a base sheet for an IC card.

【図6】ICカード用の基材シートの平面図である。FIG. 6 is a plan view of a base sheet for an IC card.

【図7】他の実施の形態のICカード用の基材シートの
断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view of a base sheet for an IC card according to another embodiment.

【図8】他の実施の形態のICカード用の基材シートの
平面図である。
FIG. 8 is a plan view of a base sheet for an IC card according to another embodiment.

【図9】ICカード用の転写箔を用いたICカードの製
造方法を示す概略図である。
FIG. 9 is a schematic view showing a method for manufacturing an IC card using a transfer foil for an IC card.

【図10】ICカード用の基材シートを用いたICカー
ドの製造方法を示す概略図である。
FIG. 10 is a schematic view showing a method for manufacturing an IC card using a base sheet for an IC card.

【図11】第1のシート基材または第2のシート基材の
シート基材の少なくとも1方の外表面に熱転写受像層を
有する実施の形態を示す図である。
FIG. 11 is a view showing an embodiment in which a thermal transfer image receiving layer is provided on the outer surface of at least one of the sheet base materials of the first sheet base material and the second sheet base material.

【図12】第1のシート基材または第2のシート基材の
シート基材の少なくとも1方の外表面に筆記層を有する
実施の形態を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing an embodiment in which a writing layer is provided on the outer surface of at least one of the sheet base materials of the first sheet base material or the second sheet base material.

【図13】ICカードに氏名、顔画像を含む個人識別情
報を設ける実施の形態を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing an embodiment in which an IC card is provided with personal identification information including a name and a face image.

【図14】ICカード用の転写箔の実施例を示す図であ
る。
FIG. 14 is a diagram showing an example of a transfer foil for an IC card.

【図15】筆記層へフォーマット印刷層を形成する実施
例を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing an example of forming a format printing layer on a writing layer.

【図16】鱗片顔料層の形成層を形成する実施例を示す
図である。
FIG. 16 is a diagram showing an example of forming a scale pigment layer forming layer.

【図17】顔画像と属性情報を設ける実施例を示す図で
ある。
FIG. 17 is a diagram showing an embodiment in which a face image and attribute information are provided.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ICカード用の転写箔 2 支持体 3 離型層 4 樹脂層 5 接着層 6 ICチップ 7 アンテナ 8 紋様パターン 11 ICカード用の基材シート 12 シート基材 13 樹脂層 14 接着層 15 ICチップ 16 アンテナ 20 第1のシート基材 30 第2のシート基材 1 Transfer foil for IC cards 2 support 3 Release layer 4 resin layers 5 Adhesive layer 6 IC chip 7 antenna 8 pattern patterns 11 Base sheet for IC cards 12 Sheet base material 13 Resin layer 14 Adhesive layer 15 IC chip 16 antenna 20 First sheet base material 30 Second sheet base material

フロントページの続き (72)発明者 服部 良司 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 北村 繁寛 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 Fターム(参考) 2C005 MA03 MA13 MA18 MA19 NA09 PA04 PA14 PA18 PA22 PA23 PA29 RA04 5B035 BA03 BA05 BB09 CA01 CA23Continued front page    (72) Inventor Ryoji Hattori             Konica Stock, 1 Sakura-cho, Hino City, Tokyo             In the company (72) Inventor Shigehiro Kitamura             Konica Stock, 1 Sakura-cho, Hino City, Tokyo             In the company F-term (reference) 2C005 MA03 MA13 MA18 MA19 NA09                       PA04 PA14 PA18 PA22 PA23                       PA29 RA04                 5B035 BA03 BA05 BB09 CA01 CA23

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】支持体上に、離型層、樹脂層、接着層を有
し、 前記樹脂層中に、ICチップ及びアンテナを有すること
を特徴とするICカード用の転写箔。
1. A transfer foil for an IC card, comprising a release layer, a resin layer and an adhesive layer on a support, and an IC chip and an antenna in the resin layer.
【請求項2】前記樹脂層と前記接着層との間に、紋様パ
ターンを有することを特徴とする請求項1に記載のIC
カード用の転写箔。
2. The IC according to claim 1, wherein a pattern pattern is provided between the resin layer and the adhesive layer.
Transfer foil for cards.
【請求項3】シート基材上に、樹脂層、接着層を有し、 前記樹脂層中に、ICチップ及びアンテナを有すること
を特徴とするICカード用の基材シート。
3. A base sheet for an IC card, comprising a resin layer and an adhesive layer on a sheet base material, and an IC chip and an antenna in the resin layer.
【請求項4】前記樹脂層と前記接着層との間に、紋様パ
ターンを有することを特徴とする請求項3に記載のIC
カード用の基材シート。
4. The IC according to claim 3, wherein a pattern pattern is provided between the resin layer and the adhesive layer.
Base sheet for cards.
【請求項5】第1のシート基材と第2のシート基材との
間に、ICチップ及びアンテナを有するICカードの製
造方法において、 第1のシート基材と第2のシート基材のいずれか一方の
シート基材に、請求項1又は請求項2に記載のICカー
ド用の転写箔を加熱加圧転写し、他方のシート基材に
は、接着層を設置し、前記ICチップ及びアンテナが転
写されたシート基材を接着層を介して加熱加圧し貼り合
わせることを特徴とするICカードの製造方法。
5. A method of manufacturing an IC card having an IC chip and an antenna between a first sheet base material and a second sheet base material, comprising: The transfer foil for an IC card according to claim 1 or 2 is transferred onto one of the sheet base materials under heat and pressure, and an adhesive layer is provided on the other sheet base material to form the IC chip and the IC chip. A method for manufacturing an IC card, which comprises heating and pressing a sheet base material having an antenna transferred thereto through an adhesive layer to bond the sheet base material.
【請求項6】第1のシート基材と第2のシート基材との
間に、ICチップ及びアンテナを有するICカードの製
造方法において、 第1のシート基材と第2のシート基材のいずれか一方の
シート基材に、請求項3又は請求項4に記載のICカー
ド用の基材シートを用い、他方のシート基材と、接着層
を介して加熱加圧し貼り合わせることを特徴とするIC
カードの製造方法。
6. A method of manufacturing an IC card having an IC chip and an antenna between a first sheet base material and a second sheet base material, comprising: The base sheet for an IC card according to claim 3 or 4 is used as one of the sheet base materials, and the other sheet base material is bonded by heating and pressing through an adhesive layer. IC
Card manufacturing method.
【請求項7】請求項5又は請求項6に記載されるICカ
ードの製造方法で製造されたICカードであり、 ICカード化後に、紋様パターン部分と紋様パターンの
ない部分との透過濃度の差が0.03〜0.50の範囲
であることを特徴とするICカード。
7. An IC card manufactured by the method for manufacturing an IC card according to claim 5 or 6, wherein a difference in transmission density between a pattern pattern portion and a portion without the pattern pattern after the IC card is formed. Is in the range of 0.03 to 0.50.
【請求項8】請求項5又は請求項6に記載されるICカ
ードの製造方法で製造されたICカードであり、 シート基材の少なくとも1方の外表面には、熱転写受像
層を有することを特徴とするICカード。
8. An IC card manufactured by the method for manufacturing an IC card according to claim 5 or 6, wherein at least one outer surface of the sheet substrate has a thermal transfer image-receiving layer. The characteristic IC card.
【請求項9】請求項5又は請求項6に記載されるICカ
ードの製造方法で製造されたICカードであり、 シート基材の少なくとも1方の外表面には、筆記層を有
することを特徴とするICカード。
9. An IC card manufactured by the method for manufacturing an IC card according to claim 5 or 6, wherein at least one outer surface of the sheet base material has a writing layer. IC card.
【請求項10】請求項5又は請求項6に記載されるIC
カードの製造方法で製造されたICカードであり、 ICカードに、氏名、顔画像を含む個人識別情報を設
け、上面に透明保護層が設けられ、前記透明保護層が活
性光線硬化樹脂からなることを特徴とするICカード。
10. The IC according to claim 5 or 6.
An IC card manufactured by the card manufacturing method, wherein personal identification information including name and face image is provided on the IC card, a transparent protective layer is provided on the upper surface, and the transparent protective layer is made of an actinic ray curable resin. IC card characterized by.
【請求項11】請求項5又は請求項6に記載されるIC
カードの製造方法で製造されたICカードであり、 予め氏名、顔画像を含む個人識別情報を設けたシート基
材を使用して作成されるICカード。
11. The IC according to claim 5 or 6.
An IC card manufactured by the card manufacturing method, which is created using a sheet base material in which personal identification information including a name and a face image is provided in advance.
【請求項12】ICカード化後に、紋様パターン部分と
紋様パターンのない部分との透過濃度の差が0.03〜
0.50の範囲であることを特徴とする請求項8乃至請
求項11のいずれか1項に記載のICカード。
12. A difference in transmission density between a pattern pattern portion and a portion without a pattern pattern is 0.03 to after an IC card is formed.
The IC card according to any one of claims 8 to 11, wherein the range is 0.50.
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