JP2001302750A - Resin and curable resin composition - Google Patents

Resin and curable resin composition

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JP2001302750A JP2000123773A JP2000123773A JP2001302750A JP 2001302750 A JP2001302750 A JP 2001302750A JP 2000123773 A JP2000123773 A JP 2000123773A JP 2000123773 A JP2000123773 A JP 2000123773A JP 2001302750 A JP2001302750 A JP 2001302750A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cured resin article which strongly adheres to a substrate, or the like, and has low moisture absorption properties, especially a one useful for an adhesive or insulating agent used in electrical and electronic parts. SOLUTION: This resin article is obtained by synthesizing a resin represented by formula (1) [wherein each R is independently H, a 1-10C hydrocarbon group, an alkoxy or a halogen; each X is independently a single bond, O, S, sulfoxide, an alkyl or a group represented by formula (2) (wherein each R is the same as above); each Y is independently H, glycidyl or a group represented by formula (3) (wherein each R is the same as above; and G is H or glycidyl) provided at least one Y is a group represented by formula (3); (n) is a mean value, being 1-10; both (h) and each (i) are independently 1 or 2; and both (j) and each (k) are independently an integer of 0-6], preparing a curable resin composition containing the resin, and curing the composition.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は高信頼性半導体封止
用を始めとする電気・電子部品絶縁材料用、及び積層板
(プリント配線板、ビルドアップ基板)やCFRP(炭
素繊維強化プラスチック)を始めとする各種複合材料、
接着剤、塗料等に有用な樹脂、硬化性樹脂組成物及びそ
の硬化物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an insulating material for electric and electronic parts such as a high reliability semiconductor encapsulation, and a laminate (printed wiring board, build-up board) and CFRP (carbon fiber reinforced plastic). Various composite materials,
The present invention relates to a resin useful for an adhesive, a paint, and the like, a curable resin composition, and a cured product thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】フェノール樹脂やエポキシ樹脂は作業性
及びその硬化物の優れた電気特性、耐熱性、接着性、耐
湿性(耐水性)等により電気・電子部品、構造用材料、
接着剤、塗料等の分野で幅広く用いられている。
2. Description of the Related Art Phenolic resins and epoxy resins are used in electrical and electronic parts, structural materials, etc. due to their excellent workability and excellent electrical properties, heat resistance, adhesiveness and moisture resistance (water resistance) of the cured product.
Widely used in the fields of adhesives, paints, etc.

【0003】しかし、近年特に電気・電子分野において
はその発展に伴い、使用される樹脂、あるいは樹脂組成
物の高純度化をはじめ耐湿性、密着性、フィラーを高充
填させるための低粘度化、成型サイクルを短くするため
の反応性のアップ等の諸特性の一層の向上が求められて
いる。又、構造材としては航空宇宙材料、レジャー・ス
ポーツ器具用途などにおいて軽量で機械物性の優れた材
料が求められている。これらの要求に対し、フェノール
類樹脂やエポキシ樹脂及びこれを含有する硬化性樹脂組
成物について多くの提案がなされてはいるが、未だ充分
とはいえない。
However, in recent years, particularly in the electric and electronic fields, with the development of the resin or the resin composition to be used, the resin or the resin composition has been improved in moisture resistance, adhesion, and viscosity reduction for highly filling the filler. Further improvements in various properties such as increased reactivity for shortening the molding cycle are required. As structural materials, lightweight materials having excellent mechanical properties are required for aerospace materials, leisure and sports equipment applications, and the like. To meet these requirements, many proposals have been made on phenolic resins and epoxy resins and curable resin compositions containing them, but they have not been satisfactory yet.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、その硬化物
において優れた、耐湿性(耐水性)、密着性を示す電気
電子部品用絶縁材料(高信頼性半導体封止材料など)及
び積層板(プリント配線板、ビルドアップ基板など)や
CFRPを始めとする各種複合材料、接着剤、塗料等に
有用な硬化性樹脂組成物及びその硬化物の開発が求めら
れている。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to an insulating material for electric and electronic parts (such as a highly reliable semiconductor encapsulating material) and a laminate which exhibit excellent moisture resistance (water resistance) and adhesion in the cured product. (Printed wiring boards, build-up boards, etc.), CFRP and other composite materials, adhesives, paints, and other useful curable resin compositions and their cured products are required to be developed.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記のよう
な特性を硬化性樹脂組成物及びその硬化物に付与する方
法について鋭意研究の結果、本発明を完成した。即ち、
本発明は、(1)式(1)
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies on a method for imparting the above-mentioned properties to a curable resin composition and a cured product thereof, and have completed the present invention. That is,
The present invention provides the following formula (1):

【0006】[0006]

【化4】 Embedded image

【0007】(式中、複数存在するRは独立して水素原
子、炭素数1〜10の炭化水素基、アルコキシ基又はハ
ロゲン原子を示す。複数存在するXは独立して単結合、
酸素原子、硫黄原子、スルホキシド基、アルキル基又は
式(2)
(Wherein, a plurality of Rs independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group or a halogen atom. A plurality of Xs independently represent a single bond,
Oxygen atom, sulfur atom, sulfoxide group, alkyl group or formula (2)

【0008】[0008]

【化5】 Embedded image

【0009】(式中、複数存在するRは前出と同じ基を
表す。又、lは1〜2の整数を、又、mは0〜6の整数
をそれぞれ示す。)のいずれかの基を表す。複数存在す
るYは独立して水素原子、グリシジル基又は式(3)
(In the formula, a plurality of Rs represent the same groups as described above. L represents an integer of 1 to 2, and m represents an integer of 0 to 6.) Represents A plurality of Y are independently a hydrogen atom, a glycidyl group or a formula (3)

【0010】[0010]

【化6】 Embedded image

【0011】(式中、複数存在するRは前出と同じ基を
表す。Gは水素原子又はグリシジル基を表す。)のいず
れかの基を表す。nは平均値であり、1〜10の実数を
示す。h、l及び複数存在するiは独立して1〜2の整
数を示す。j、m及び複数存在するkは独立して0〜6
の整数を示す。又、少なくとも1つのYは式(3)のい
ずれかの基である。)で表される樹脂。(2)前記
(1)項の樹脂を含む硬化性樹脂組成物、(3)前記
(2)項の硬化性樹脂組成物を硬化してなる硬化物、
(4)前記(2)項の硬化性樹脂組成物の硬化物を構成
材料として有する電気・電子部品に関する。
(Wherein, a plurality of Rs represent the same group as described above; G represents a hydrogen atom or a glycidyl group). n is an average value and represents a real number of 1 to 10. h, l and a plurality of i's independently represent an integer of 1 or 2. j, m and a plurality of k are independently 0 to 6
Indicates an integer. Further, at least one Y is any group of the formula (3). ). (2) a curable resin composition containing the resin of the above item (1), (3) a cured product obtained by curing the curable resin composition of the above item (2),
(4) An electric / electronic component having a cured product of the curable resin composition of the above item (2) as a constituent material.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の樹脂のうちフェノール性
水酸基を有する樹脂は、下記式(4)
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Among the resins of the present invention, a resin having a phenolic hydroxyl group is represented by the following formula (4):

【0013】[0013]

【化7】 Embedded image

【0014】(式中、X,R,h,i,j,kは前出と
同意)で表されるフェノール樹脂の一部のフェノール性
水酸基に下記式(5)
(Where X, R, h, i, j, and k are the same as those described above), and the phenolic hydroxyl group of a part of the phenolic resin represented by the following formula (5)

【0015】[0015]

【化8】 Embedded image

【0016】(式中Rは前出と同意)で表される化合物
や、下記式(6)
Wherein R is as defined above, or a compound represented by the following formula (6):

【0017】[0017]

【化9】 Embedded image

【0018】(式中Rは前出と同意)で表される化合物
を必要により触媒の存在下において反応させることによ
り得られる(以下、本発明のフェノール樹脂)。又、樹
脂のうちグリシジル基を有する樹脂(以下、本発明のエ
ポキシ樹脂)を得る方法としては、本発明のフェノー
ル樹脂のフェノール性水酸基の全部及び必要により式
(5)のエポキシ化合物との反応の際に生成したアルコ
ール性水酸基の全部又は一部をグリシジル化する、式
(4)のフェノール樹脂の全てのフェノール性水酸基を
式(5)の化合物と反応させ、生成したアルコール性水
酸基の全部又は一部をグリシジル化する方法が挙げられ
る。
It is obtained by reacting a compound represented by the formula (where R is as defined above) in the presence of a catalyst if necessary (hereinafter referred to as a phenolic resin of the present invention). As a method for obtaining a resin having a glycidyl group among the resins (hereinafter referred to as the epoxy resin of the present invention), all of the phenolic hydroxyl groups of the phenolic resin of the present invention and, if necessary, the reaction with the epoxy compound of the formula (5) are used. The phenolic hydroxyl group of formula (4) is reacted with the compound of formula (5) to glycidylate all or a part of the alcoholic hydroxyl group generated at this time, and all or one of the alcoholic hydroxyl groups generated is reacted. And glycidylation of the part.

【0019】式(4)のフェノール樹脂と式(5)のエ
ポキシ化合物との反応は、必要により溶媒の存在下、触
媒を使用して加熱することにより行う。溶媒は特に限定
されないが、その用いうる具体例としては、トルエン、
キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、ジオキサン、メチルセロソルブ、ジメチルホルムア
ミド等が挙げられる。これら溶媒は溶質である式(4)
のフェノール樹脂と式(5)のエポキシ化合物の合計重
量100重量部に対し、通常20〜500重量部、好ま
しくは50〜300重量部である。触媒は、グリシジル
基とフェノール性水酸基との反応を触媒しうるものであ
れば良く、例えばトリフェニルホスフィン、トリオクチ
ルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフ
ェニルホスフィン・トリフェニルボラン、テトラフェニ
ルホスホニウム・テトラフェニルボレート等のリン系化
合物、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメ
チルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアン
モニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩、三フ
ッ化ホウ素、三級アミン化合物等が挙げられる。反応温
度は、通常50〜200℃、好ましくは70〜180℃
である。式(4)のフェノール樹脂と式(5)のエポキ
シ化合物の使用量は、式(4)のフェノール樹脂中のフ
ェノール性水酸基をどの程度式(5)の化合物と反応さ
せる必要があるかによって異なる。例えば前記の工程
に原料として供するためにフェノール性水酸基の一部を
式(5)の化合物と反応させる場合、式(4)のフェノ
ール樹脂1水酸基当量に対し、式(5)の化合物が通常
0.1〜0.9モル、好ましくは0.2〜0.8モルの
範囲である。反応終了後は使用した触媒や、合成した樹
脂の使用目的によって異なるが、通常水洗などによって
触媒を除去した後に溶媒を加熱減圧下において除去する
ことが好ましい。又、前記の工程に原料として供する
ためにフェノール性水酸基の全部を式(5)の化合物と
反応させる場合の式(5)のエポキシ化合物の使用量
は、式(4)のフェノール樹脂1水酸基当量に対し、式
(5)の化合物が通常1.0〜2モル、好ましくは1.
0〜1.5モルの範囲である。式(5)の化合物を等当
量以上用いた場合は、反応終了後に加熱減圧下において
過剰の式(5)の化合物を溶媒と共に除去する必要があ
る。
The reaction between the phenolic resin of the formula (4) and the epoxy compound of the formula (5) is carried out by heating using a catalyst in the presence of a solvent if necessary. Although the solvent is not particularly limited, specific examples that can be used include toluene,
Examples thereof include xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dioxane, methyl cellosolve, and dimethylformamide. These solvents are solutes of the formula (4)
Is usually 20 to 500 parts by weight, preferably 50 to 300 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total weight of the phenol resin and the epoxy compound of the formula (5). The catalyst may be any as long as it can catalyze the reaction between the glycidyl group and the phenolic hydroxyl group, such as triphenylphosphine, trioctylphosphine, tricyclohexylphosphine, triphenylphosphine / triphenylborane, and tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate. And quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide and trimethylbenzylammonium chloride, boron trifluoride, and tertiary amine compounds. The reaction temperature is usually 50 to 200 ° C, preferably 70 to 180 ° C.
It is. The amounts of the phenolic resin of the formula (4) and the epoxy compound of the formula (5) to be used depend on how much the phenolic hydroxyl group in the phenolic resin of the formula (4) needs to be reacted with the compound of the formula (5). . For example, when a part of the phenolic hydroxyl group is reacted with the compound of the formula (5) to be used as a raw material in the above-mentioned step, the compound of the formula (5) is usually added in an amount of 0 to 1 hydroxyl equivalent of the phenol resin of the formula (4). 0.1 to 0.9 mol, preferably 0.2 to 0.8 mol. After completion of the reaction, although it depends on the catalyst used and the intended use of the synthesized resin, it is usually preferable to remove the catalyst by washing with water or the like and then remove the solvent under heating and reduced pressure. When all of the phenolic hydroxyl groups are reacted with the compound of the formula (5) to be used as a raw material in the above-mentioned step, the amount of the epoxy compound of the formula (5) used is the equivalent of the phenol resin of the formula (4) The compound of the formula (5) is usually 1.0 to 2 mol, preferably 1.
The range is from 0 to 1.5 mol. When the compound of the formula (5) is used in an equivalent amount or more, it is necessary to remove excess compound of the formula (5) together with the solvent under heating and reduced pressure after completion of the reaction.

【0020】こうして得られた樹脂は、以下のタイプを
含む。 (a)式(4)のフェノール樹脂のフェノール性水酸基
が、その一部を残して式(5)の化合物と反応したも
の。従って、式(4)の化合物に由来するフェノール性
水酸基と式(5)の化合物に由来するアルコール性水酸
基を有する化合物で本発明のフェノール樹脂であり、上
記工程の原料となりうる。 (b)式(4)のフェノール樹脂のフェノール性水酸基
の全部が式(5)の化合物と反応したもの。従って、式
(5)の化合物に由来するアルコール性水酸基のみを有
し、上記工程の原料となりうる。 (c)式(4)のフェノール樹脂のフェノール性水酸基
が、その一部を残して式(6)の化合物と反応したも
の。 従って、式(4)の化合物に由来するフェノール
性水酸基のみを有する化合物で本発明のフェノール樹脂
であり、上記工程の原料となりうる。
The resins thus obtained include the following types. (A) A phenolic hydroxyl group of the phenolic resin of the formula (4) reacted with the compound of the formula (5) except for a part thereof. Therefore, a compound having a phenolic hydroxyl group derived from the compound of the formula (4) and an alcoholic hydroxyl group derived from the compound of the formula (5) is the phenolic resin of the present invention and can be a raw material in the above step. (B) All phenolic hydroxyl groups of the phenolic resin of the formula (4) reacted with the compound of the formula (5). Therefore, it has only an alcoholic hydroxyl group derived from the compound of the formula (5) and can be a raw material in the above step. (C) A compound in which the phenolic hydroxyl group of the phenol resin of the formula (4) has reacted with the compound of the formula (6) except for a part thereof. Therefore, the compound having only the phenolic hydroxyl group derived from the compound of the formula (4) is the phenolic resin of the present invention, and can be a raw material in the above step.

【0021】式(4)のフェノール樹脂と式(6)の化
合物の反応は、必要により溶媒の存在下、必要により触
媒を使用して加熱することにより行う。溶媒は特に限定
されないが、その用いうる具体例としては、トルエン、
キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、ジオキサン、メチルセロソルブ、ジメチルホルムア
ミド等が挙げられる。これら溶媒は溶質である式(4)
のフェノール樹脂と式(6)の酸塩化物の合計重量10
0重量部に対し、通常20〜500重量部、好ましくは
50〜300重量部である。触媒としては、マグネシウ
ム、ジメチルアニリン、ピリジン、トリエチルアミン、
アルカリ金属水酸化物、炭酸アルカリ金属塩等が挙げら
れる。反応温度は、通常40〜200℃、好ましくは5
0〜150℃である。この場合の式(6)の化合物の使
用量は、式(4)のフェノール樹脂中のフェノール性水
酸基を1部残す必要があることから、該フェノール性水
酸基の当量以下である必要があり、具体的には式(4)
のフェノール樹脂1水酸基当量に対し、式(6)の化合
物が通常0.1〜0.9モル、好ましくは0.2〜0.
8モルの範囲である。反応終了後は使用した触媒や、副
生した塩化水素のアミン塩や無機塩を通常水洗などによ
って触媒を除去した後に溶媒や触媒を加熱減圧下におい
て除去することが好ましい。
The reaction between the phenolic resin of the formula (4) and the compound of the formula (6) is carried out by heating in the presence of a solvent if necessary and optionally using a catalyst. Although the solvent is not particularly limited, specific examples that can be used include toluene,
Examples thereof include xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dioxane, methyl cellosolve, and dimethylformamide. These solvents are solutes of the formula (4)
Total weight of phenolic resin of formula (6) and acid chloride of formula (6) 10
It is usually 20 to 500 parts by weight, preferably 50 to 300 parts by weight, based on 0 parts by weight. As the catalyst, magnesium, dimethylaniline, pyridine, triethylamine,
Examples thereof include alkali metal hydroxides and alkali metal carbonates. The reaction temperature is usually 40 to 200 ° C, preferably 5 to 200 ° C.
0-150 ° C. In this case, the use amount of the compound of the formula (6) needs to be equal to or less than the equivalent of the phenolic hydroxyl group because it is necessary to leave one part of the phenolic hydroxyl group in the phenol resin of the formula (4). Equation (4)
The compound of the formula (6) is usually 0.1 to 0.9 mol, preferably 0.2 to 0.
It is in the range of 8 moles. After completion of the reaction, it is preferable to remove the used catalyst or the by-produced amine salt or inorganic salt of hydrogen chloride, usually by washing with water, and then remove the solvent or the catalyst under heating and reduced pressure.

【0022】本発明のエポキシ樹脂は、本発明のフェノ
ール樹脂のフェノール性水酸基及び/又はアルコール性
水酸基を従来公知の方法に準じてグリシジル化すること
により得ることができる。 グリシジル化は、本発明の
フェノール樹脂をエピハロヒドリン類と反応させればよ
い。グリシジル化反応に使用されるエピハロヒドリン類
としては、エピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン、
エピヨードヒドリン、β−メチルエピクロルヒドリン、
β−メチルエピブロムヒドリン、β−エチルエピクロル
ヒドリン等があるが、工業的に入手し易く安価なエピク
ロルヒドリンが好ましい。
The epoxy resin of the present invention can be obtained by glycidylation of the phenolic hydroxyl group and / or alcoholic hydroxyl group of the phenolic resin of the present invention according to a conventionally known method. The glycidylation may be carried out by reacting the phenolic resin of the present invention with epihalohydrins. Epihalohydrins used in the glycidylation reaction include epichlorohydrin, epibromhydrin,
Epiiodohydrin, β-methylepichlorohydrin,
There are β-methyl epibromohydrin, β-ethyl epichlorohydrin and the like, but epichlorohydrin which is easily available industrially and is inexpensive is preferable.

【0023】グリシジル化反応は例えば本発明のフェノ
ール樹脂とエピハロヒドリン類の混合物に水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の固
体を一括添加又は徐々に添加しながら20〜120℃で
1〜20時間反応させて行う。この際アルカリ金属水酸
化物は水溶液を使用してもよく、その場合は該アルカリ
金属水酸化物の水溶液を連続的に添加すると共に反応系
内から減圧下、又は常圧下、連続的に水及びエピハロヒ
ドリン類を留出せしめ更に分液し水は除去しエピハロヒ
ドリン類は反応系内に連続的に戻す方法でもよい。上記
の方法においてエピハロヒドリン類の使用量は本発明の
フェノール樹脂のフェノール性水酸基及び/又はアルコ
ール性水酸基1当量に対して通常0.5〜20モル、好
ましくは0.7〜10モルである。アルカリ金属水酸化
物の使用量は本発明のフェノール樹脂の水酸基及び/又
はアルコール性水酸基1当量に対し通常0.5〜3.0
モル、好ましくは0.7〜2.5モルである。又、上記
反応においてジメチルスルホン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イ
ミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒を添加するこ
とにより加水分解性ハロゲン濃度の低いエポキシ樹脂が
得られ、このものは電子材料封止材としての用途に適す
る。非プロトン性極性溶媒の使用量はエピハロヒドリン
類の重量に対し通常5〜200重量%、好ましくは10
〜100重量%である。又前記の溶媒以外にもメタノー
ル、エタノール等のアルコール類を添加することによっ
ても反応が進み易くなる。又トルエン、キシレン、ジオ
キサン等も使用することができる。
The glycidylation reaction is carried out, for example, at 20 to 120 ° C. while adding or gradually adding a solid of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide to a mixture of the phenolic resin of the present invention and an epihalohydrin. Perform the reaction for ~ 20 hours. At this time, the alkali metal hydroxide may be used in the form of an aqueous solution, in which case the aqueous solution of the alkali metal hydroxide is continuously added and the reaction system is reduced in pressure or under normal pressure, and water and water are continuously added. A method may be employed in which epihalohydrins are distilled off, liquids are separated, water is removed, and epihalohydrins are continuously returned to the reaction system. In the above method, the amount of the epihalohydrin used is usually 0.5 to 20 mol, preferably 0.7 to 10 mol, per equivalent of the phenolic hydroxyl group and / or alcoholic hydroxyl group of the phenolic resin of the present invention. The amount of the alkali metal hydroxide used is usually 0.5 to 3.0 with respect to 1 equivalent of the hydroxyl group and / or alcoholic hydroxyl group of the phenol resin of the present invention.
Mol, preferably 0.7 to 2.5 mol. In addition, in the above reaction, by adding an aprotic polar solvent such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, an epoxy resin having a low hydrolyzable halogen concentration can be obtained, This is suitable for use as an electronic material sealing material. The amount of the aprotic polar solvent to be used is usually 5 to 200% by weight, preferably 10 to 200% by weight based on the weight of the epihalohydrins.
100100% by weight. In addition, the reaction can easily proceed by adding an alcohol such as methanol or ethanol in addition to the above-mentioned solvents. Further, toluene, xylene, dioxane and the like can also be used.

【0024】又、本発明のフェノール樹脂と過剰のエピ
ハロヒドリン類の混合物にテトラメチルアンモニウムク
ロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリ
メチルベンジルアンモニウムクロライドなどの第四級ア
ンモニウム塩を触媒として使用し、30〜150℃で1
〜20時間反応させて得られた本発明のフェノール樹脂
のハロヒドリンエーテルに水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどのアルカリ金属水酸化物の固体又は水溶液を
加え、20〜120℃で1〜20時間反応させてハロヒ
ドリンエーテルを閉環させて本発明のエポキシ樹脂を得
ることもできる。この場合の第四級アンモニウム塩の使
用量は本発明のフェノール樹脂の水酸基及び/又はアル
コール性水酸基1当量に対して通常0.001〜0.2
モル、好ましくは0.05〜0.1モルである。
A quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide or trimethylbenzylammonium chloride is used as a catalyst in a mixture of the phenolic resin of the present invention and an excess epihalohydrin at 30 to 150 ° C. 1
A solid or aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added to the halohydrin ether of the phenolic resin of the present invention obtained by reacting for 20 to 20 hours. The epoxy resin of the present invention can also be obtained by reacting to close the ring of the halohydrin ether. The amount of the quaternary ammonium salt used in this case is usually 0.001 to 0.2 with respect to 1 equivalent of the hydroxyl group and / or alcoholic hydroxyl group of the phenolic resin of the present invention.
Mole, preferably 0.05 to 0.1 mole.

【0025】通常、これらの反応物は水洗後、又は水洗
無しに加熱減圧下過剰のエピハロヒドリン類を除去した
後、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン等の
溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
のアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて再び反応を行
う。この場合アルカリ金属水酸化物の使用量は本発明の
フェノール樹脂のフェノール性水酸基及び/又はアルコ
ール性水酸基1当量に対して通常0.01〜0.2モ
ル、好ましくは0.05〜0.1モルである。反応温度
は通常50〜120℃、反応時間は通常0.5〜2時間
である。反応終了後副生した塩をろ過、水洗などにより
除去し、さらに加熱減圧下トルエン、キシレン、メチル
イソブチルケトン等の溶媒を留去することにより加水分
解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂を得ることができ
る。尚、アルコール性水酸基は、フェノール性水酸基に
比べ反応性が小さいので、上記の工程ではグリシジル化
されない場合があるが、このような場合でも上記(b)
の樹脂を用いた場合を除き、本発明のエポキシ樹脂に含
まれる。
Usually, these reactants are washed with water, or without heating, after removing excess epihalohydrin under heating and reduced pressure, dissolved in a solvent such as toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, and the like. Then, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide is added to react again. In this case, the amount of the alkali metal hydroxide used is usually 0.01 to 0.2 mol, preferably 0.05 to 0.1 mol per equivalent of the phenolic hydroxyl group and / or alcoholic hydroxyl group of the phenolic resin of the present invention. Is a mole. The reaction temperature is usually 50 to 120 ° C, and the reaction time is usually 0.5 to 2 hours. After the completion of the reaction, salts produced as by-products are removed by filtration, washing with water, and the like, and further, by distilling off solvents such as toluene, xylene, and methyl isobutyl ketone under reduced pressure under heating, an epoxy resin having a low hydrolyzable halogen can be obtained. Since the alcoholic hydroxyl group has lower reactivity than the phenolic hydroxyl group, it may not be glycidylated in the above step, but even in such a case, the above (b)
It is included in the epoxy resin of the present invention except for the case where the resin is used.

【0026】又、フェノール性水酸基とアルコール性水
酸基との反応性の違いを利用して、先にフェノール性水
酸基だけをグリシジル化し、過剰のエピハロヒドリン等
を除去後、更にエピハロヒドリンに溶解して、アルコー
ル性水酸基をグリシジル化することもできる。この場
合、フェノール性水酸基のグリシジル化に用いるアルカ
リ金属水酸化物の使用量はフェノール性水酸基1当量に
対して0.9〜1.1モル、好ましくは0.95〜1.
05モルの範囲である。更に、アルコール性水酸基のグ
リシジル化においては、アルカリ金属水酸化物の使用量
によりグリシジル化の割合を自由に調整できる。この場
合のアルカリ金属水酸化物の使用量は、通常アルコール
性水酸基1当量に対して0.2〜3.0モル、好ましく
は0.4〜2.0モルである。
Further, by utilizing the difference in reactivity between the phenolic hydroxyl group and the alcoholic hydroxyl group, only the phenolic hydroxyl group is first glycidylated, excess epihalohydrin and the like are removed, and further dissolved in epihalohydrin to form an alcoholic alcohol. The hydroxyl group can be glycidylated. In this case, the amount of the alkali metal hydroxide used for glycidylation of the phenolic hydroxyl group is 0.9 to 1.1 mol, preferably 0.95 to 1.1 mol per equivalent of the phenolic hydroxyl group.
It is in the range of 05 mol. Further, in the glycidylation of the alcoholic hydroxyl group, the glycidylation ratio can be freely adjusted by the amount of the alkali metal hydroxide used. The amount of the alkali metal hydroxide used in this case is usually 0.2 to 3.0 mol, preferably 0.4 to 2.0 mol, per equivalent of the alcoholic hydroxyl group.

【0027】以下、本発明の硬化性樹脂組成物について
説明する。本発明の硬化性樹脂組成物が、本発明のフェ
ノール樹脂を含有する場合、他の成分としてエポキシ樹
脂及び/又はシアネートエステル樹脂及び/又はマレイ
ミド化合物を含有し、この場合本発明のフェノール樹脂
を単独で又は他の硬化剤と併用することが出来る。併用
する場合、本発明のフェノール樹脂の全硬化剤中に占め
る割合は20重量%以上が好ましく、特に30重量%以
上が好ましい。
Hereinafter, the curable resin composition of the present invention will be described. When the curable resin composition of the present invention contains the phenolic resin of the present invention, it contains an epoxy resin and / or a cyanate ester resin and / or a maleimide compound as other components. In this case, the phenolic resin of the present invention is used alone. Or with other curing agents. When used in combination, the proportion of the phenolic resin of the present invention in the total curing agent is preferably at least 20% by weight, particularly preferably at least 30% by weight.

【0028】又、本発明の硬化性樹脂組成物が本発明の
エポキシ樹脂を含有する場合、他の成分として本発明の
フェノール樹脂をはじめとする硬化剤を含有する。又、
本発明のエポキシ樹脂は単独で又は他のエポキシ樹脂と
併用して使用することが出来、この場合、本発明のエポ
キシ樹脂の全エポキシ樹脂中に占める割合は20重量%
以上が好ましく、特に30重量%以上が好ましい。
When the curable resin composition of the present invention contains the epoxy resin of the present invention, it contains a curing agent such as the phenolic resin of the present invention as another component. or,
The epoxy resin of the present invention can be used alone or in combination with another epoxy resin. In this case, the proportion of the epoxy resin of the present invention in the total epoxy resin is 20% by weight.
Or more, and particularly preferably 30% by weight or more.

【0029】本発明のフェノール樹脂と併用されうる他
の硬化剤、あるいは本発明のエポキシ樹脂の硬化剤とし
ては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミ
ド系化合物、フェノール系化合物などが挙げられる。用
いうる硬化剤の具体例としては、ジアミノジフェニルメ
タン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミ
ン、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレン
ジアミンとより合成されるポリアミド樹脂、無水フタル
酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マ
レイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒ
ドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒド
ロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ビ
スフェノール類(ビスフェノールA、ビスフェノール
F、ビスフェノールS、ビフェノール、ビスフェノール
AD等)、フェノール類(フェノール、アルキル置換フ
ェノール、芳香族置換フェノール、ナフトール、アルキ
ル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、アルキル置
換ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)
と各種アルデヒド(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、アルキルアルデヒド、ベンズアルデヒド、アルキル
置換ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、
ナフトアルデヒド、グルタルアルデヒド、フタルアルデ
ヒド、クロトンアルデヒド、シンナムアルデヒド等)と
の重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物(ジシク
ロペンタジエン、テルペン類、ビニルシクロヘキセン、
ノルボルナジエン、ビニルノルボルネン、テトラヒドロ
インデン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジ
イソプロペニルビフェニル、ブタジエン、イソプレン
等)との重合物、フェノール類とケトン類(アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセト
フェノン、ベンゾフェノン等)との重縮合物、フェノー
ル類と芳香族ジメタノール類(ベンゼンジメタノール、
α,α,α’,α’−ベンゼンジメタノール、ビフェニ
ルジメタノール、α,α,α’,α’−ビフェニルジメ
タノール等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ジク
ロロメチル類(α,α’−ジクロロキシレン、ビスクロ
ロメチルビフェニル等)との重縮合物、ビスフェノール
類と各種アルデヒドの重縮合物、及びこれらの変性物、
イミダゾ−ル、BF−アミン錯体、グアニジン誘導
体、ジシアンジアミドなどが挙げられるがこれらに限定
されることはない。硬化剤は、硬化性樹脂組成物がエポ
キシ樹脂を含有する場合、硬化剤1当量に対しエポキシ
樹脂が0.5〜1.5当量となる割合で、又シアネート
エステル樹脂を含有する場合、硬化剤:シアネートエス
テル樹脂(重量比)=20:80〜80:20となる割
合で、又マレイミド化合物を含有する場合、硬化剤:マ
レイミド化合物(重量比)=20:80〜80:20と
なる割合で使用するのが好ましい。
Examples of other curing agents that can be used in combination with the phenolic resin of the present invention or curing agents for the epoxy resin of the present invention include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, and phenol compounds. Can be Specific examples of the curing agent that can be used include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, a polyamide resin synthesized from a dimer of linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, and trianhydride. Merritic acid, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, bisphenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, biphenol, bisphenol AD, etc.), phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, aromatic-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, Mud carboxymethyl benzene, alkyl-substituted dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.)
And various aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, alkyl aldehyde, benzaldehyde, alkyl-substituted benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde,
Polycondensates with naphthaldehyde, glutaraldehyde, phthalaldehyde, crotonaldehyde, cinnamaldehyde, etc., phenols and various diene compounds (dicyclopentadiene, terpenes, vinylcyclohexene,
Polymers with norbornadiene, vinylnorbornene, tetrahydroindene, divinylbenzene, divinylbiphenyl, diisopropenylbiphenyl, butadiene, isoprene), phenols and ketones (acetone,
Polycondensates with methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetophenone, benzophenone, etc., phenols and aromatic dimethanols (benzene dimethanol,
polycondensates with α, α, α ′, α′-benzenedimethanol, biphenyldimethanol, α, α, α ′, α′-biphenyldimethanol, phenols and aromatic dichloromethyls (α, α′-dichloroxylene, bischloromethylbiphenyl, etc.), polycondensates of bisphenols and various aldehydes, and modified products thereof.
Examples include, but are not limited to, imidazole, BF 3 -amine complex, guanidine derivative, dicyandiamide, and the like. When the curable resin composition contains an epoxy resin, the curing agent is used at a ratio of 0.5 to 1.5 equivalents of the epoxy resin to 1 equivalent of the curing agent, and when the curable resin composition contains a cyanate ester resin, the curing agent is used. : Cyanate ester resin (weight ratio) = 20: 80-80: 20, and when a maleimide compound is contained, curing agent: maleimide compound (weight ratio) = 20: 80-80: 20. It is preferred to use.

【0030】本発明の硬化性樹脂組成物において使用し
うるエポキシ樹脂の具体例としてはビスフェノール類
(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノー
ルS、ビフェノール、ビスフェノールAD等)、フェノ
ール類(フェノール、アルキル置換フェノール、芳香族
置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトー
ル、ジヒドロキシベンゼン、アルキル置換ジヒドロキシ
ベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)と各種アルデヒ
ド(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アルキルア
ルデヒド、ベンズアルデヒド、アルキル置換ベンズアル
デヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、ナフトアルデヒ
ド、グルタルアルデヒド、フタルアルデヒド、クロトン
アルデヒド、シンナムアルデヒド等)との重縮合物、フ
ェノール類と各種ジエン化合物(ジシクロペンタジエ
ン、テルペン類、ビニルシクロヘキセン、ノルボルナジ
エン、ビニルノルボルネン、テトラヒドロインデン、ジ
ビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロペニ
ルビフェニル、ブタジエン、イソプレン等)との重合
物、フェノール類とケトン類(アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベ
ンゾフェノン等)との重縮合物、フェノール類と芳香族
ジメタノール類(ベンゼンジメタノール、α,α,
α’,α’−ベンゼンジメタノール、ビフェニルジメタ
ノール、α,α,α’,α’−ビフェニルジメタノール
等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ジクロロメチ
ル類(α,α’−ジクロロキシレン、ビスクロロメチル
ビフェニル等)との重縮合物、ビスフェノール類と各種
アルデヒドの重縮合物、アルコール類等をグリシジルエ
ーテル化したグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、脂環
式エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グ
リシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられるが、通
常用いられるエポキシ樹脂であればこれらに限定される
ものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上
を用いてもよい。
Specific examples of epoxy resins that can be used in the curable resin composition of the present invention include bisphenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, biphenol, bisphenol AD, etc.) and phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, Aromatic-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, alkyl-substituted dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc. and various aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, alkylaldehyde, benzaldehyde, alkyl-substituted benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, naphthaldehyde, glutaraldehyde, phthalate) Aldehydes, crotonaldehyde, cinnamaldehyde, etc.), phenols and various die Polymers with compounds (dicyclopentadiene, terpenes, vinylcyclohexene, norbornadiene, vinylnorbornene, tetrahydroindene, divinylbenzene, divinylbiphenyl, diisopropenylbiphenyl, butadiene, isoprene, etc.), phenols and ketones (acetone, methyl ethyl ketone) , Methyl isobutyl ketone, acetophenone, benzophenone, etc.), phenols and aromatic dimethanols (benzenedimethanol, α, α,
polycondensates with α ′, α′-benzenedimethanol, biphenyldimethanol, α, α, α ′, α′-biphenyldimethanol, phenols and aromatic dichloromethyls (α, α′-dichloro) Xylene, bischloromethylbiphenyl, etc.), polycondensates of bisphenols and various aldehydes, glycidyl ether epoxy resins obtained by glycidyl etherification of alcohols, etc., alicyclic epoxy resins, glycidylamine epoxy resins, Glycidyl ester-based epoxy resins and the like can be mentioned, but are not limited to these as long as they are commonly used epoxy resins. These may be used alone or in combination of two or more.

【0031】本発明の硬化性樹脂組成物がエポキシ樹脂
を含む場合、必要に応じて、エポキシ樹脂の硬化促進剤
として一般的に用いられるものを含有させても良い。硬
化促進剤としては例えば、2−メチルイミダゾール、2
−エチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、三フ
ッ化ホウ素錯体、トリフェニルホスフィン、トリオクチ
ルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフ
ェニルホスフィン・トリフェニルボラン、テトラフェニ
ルホスホニウム・テトラフェニルボレート等のリン系化
合物、三級アミン化合物などが挙げられ、その使用量は
エポキシ樹脂100重量部に対して通常0.01〜15
重量部、好ましくは0.1〜10重量部である。
When the curable resin composition of the present invention contains an epoxy resin, if necessary, a composition generally used as a curing accelerator for an epoxy resin may be contained. Examples of the curing accelerator include 2-methylimidazole, 2
-Imidazole compounds such as ethylimidazole, boron trifluoride complex, phosphorus compounds such as triphenylphosphine, trioctylphosphine, tricyclohexylphosphine, triphenylphosphine / triphenylborane, tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, tertiary Amine compounds and the like are used, and the amount thereof is usually 0.01 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.
Parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight.

【0032】本発明の硬化性樹脂組成物において使用し
うるシアネートエステル樹脂の具体例としては、ジシア
ナートベンゼン、トリシアナートベンゼン、ジシアナー
トナフタレン、ジシアンートビフェニル、2、2’ービ
ス(4ーシアナートフェニル)プロパン、ビス(4ーシ
アナートフェニル)メタン、ビス(3,5ージメチルー
4ーシアナートフェニル)メタン、2,2’ービス
(3,5−ジメチルー4ーシアナートフェニル)プロパ
ン、2,2’ービス(4ーシアナートフェニル)エタ
ン、2,2’ービス(4ーシアナートフェニル)ヘキサ
フロロプロパン、ビス(4ーシアナートフェニル)スル
ホン、ビス(4ーシアナートフェニル)チオエーテル、
フェノールノボラックシアナート、フェノール・ジシク
ロペンタジエン共縮合物の水酸基をシアネート基に変換
したもの等が挙げられるがこれらに限定されるものでは
ない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いて
もよい。
Specific examples of the cyanate ester resin that can be used in the curable resin composition of the present invention include dicyanatobenzene, tricyanatobenzene, dicyanatonaphthalene, dicyanatobiphenyl, 2,2′-bis (4 -Cyanatophenyl) propane, bis (4-cyanatophenyl) methane, bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane, 2,2′-bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) propane, 2,2′-bis (4-cyanatophenyl) ethane, 2,2′-bis (4-cyanatophenyl) hexafluoropropane, bis (4-cyanatophenyl) sulfone, bis (4-cyanatophenyl) thioether,
Phenol novolak cyanate and phenol / dicyclopentadiene cocondensate in which a hydroxyl group is converted to a cyanate group are exemplified, but not limited thereto. These may be used alone or in combination of two or more.

【0033】本発明の硬化樹脂組成物には、シアネート
エステル樹脂を含む場合、必要に応じてシアネート基を
三量化させてsym−トリアジン環を形成するために、
ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸銅、
ナフテン酸鉛、オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、鉛アセ
チルアセトナート、ジブチル錫マレエート等の触媒を含
有させることもできる。触媒は、硬化性樹脂組成物中の
樹脂分100重量部に対して0.0001〜0.10重
量部、好ましくは0.00015〜0.0015重量部
となる割合で使用する。これらは単独で用いてもよく、
2種以上を用いてもよい。
When the cured resin composition of the present invention contains a cyanate ester resin, if necessary, the cyanate group is trimerized to form a sym-triazine ring.
Zinc naphthenate, cobalt naphthenate, copper naphthenate,
A catalyst such as lead naphthenate, zinc octylate, tin octylate, lead acetylacetonate, dibutyltin maleate and the like can be contained. The catalyst is used in an amount of 0.0001 to 0.10 part by weight, preferably 0.00015 to 0.0015 part by weight, based on 100 parts by weight of the resin component in the curable resin composition. These may be used alone,
Two or more types may be used.

【0034】本発明の硬化性樹脂組成物において使用さ
れうるマレイミド化合物としては、マレイミド基を有す
るものであれば良く、2級アミンを有する化合物と無水
マレイン酸を縮合・脱水反応させることにより得られる
化合物であり、その具体例としてはフェニルマレイミ
ド、ヒドロキシフェニルマレイミド、N,N’−エチレ
ンビスマレイミド、N,N’−ヘキサメチレンビスマレ
イミド、N,N’−フェニレンビスマレイミド、4,
4’−ビスマレイミドジフェニルメタン、4,4’−ビ
スマレイミドジフェニルプロパン、4,4’−ビスマレ
イミドジフェニルスルホン、アニリン類・アルデヒド類
重縮合物のアミノ基と無水マレイン酸を縮合脱水したマ
レイミド樹脂、アニリン類・芳香族ジメタノール類重縮
合物のアミノ基と無水マレイン酸を縮合脱水したマレイ
ミド樹脂等が挙げられるがこれらに限定されるものでは
ない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いて
もよい。
The maleimide compound that can be used in the curable resin composition of the present invention may be any compound having a maleimide group, and can be obtained by subjecting a compound having a secondary amine and maleic anhydride to a condensation / dehydration reaction. And specific examples thereof include phenylmaleimide, hydroxyphenylmaleimide, N, N′-ethylenebismaleimide, N, N′-hexamethylenebismaleimide, N, N′-phenylenebismaleimide,
4'-Bismaleimidodiphenylmethane, 4,4'-Bismaleimidediphenylpropane, 4,4'-Bismaleimidediphenylsulfone, Maleimide resin obtained by condensation dehydration of maleic anhydride with amino group of aniline / aldehyde polycondensate, aniline Maleimide resin obtained by condensation dehydration of an amino group of a polycondensate of aromatics and aromatic dimethanols with maleic anhydride, and the like, but not limited thereto. These may be used alone or in combination of two or more.

【0035】本発明の硬化性樹脂組成物にマレイミド化
合物を含有させる場合、硬化促進剤としてはエポキシ樹
脂やシアネートエステル樹脂の硬化促進剤や、有機過酸
化物やアゾ化合物等のラジカル重合開始剤を使用しても
良い。硬化促進剤又は重合開始剤は硬化性樹脂組成物に
おいて樹脂分100重量部に対して通常0.01〜10
重量部となる割合で使用する。これらは単独で用いても
よく、2種以上を用いてもよい。
When a maleimide compound is contained in the curable resin composition of the present invention, a curing accelerator such as an epoxy resin or a cyanate ester resin, or a radical polymerization initiator such as an organic peroxide or an azo compound is used. May be used. The curing accelerator or the polymerization initiator is usually 0.01 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the resin component in the curable resin composition.
Use in proportions by weight. These may be used alone or in combination of two or more.

【0036】又、硬化性樹組成物に本発明のエポキシ樹
脂やマレイミド化合物を含有させる場合、光ラジカル開
始剤や光カチオン開始剤等を用いることにより、光によ
って硬化させる樹脂組成物とこともできる。
When the curable resin composition contains the epoxy resin or the maleimide compound of the present invention, the resin composition can be cured by light by using a photo-radical initiator or a photo-cationic initiator. .

【0037】更に本発明の硬化性樹脂組成物には、必要
に応じて公知の添加剤を配合することが出来る。用いう
る添加剤の具体例としては、ポリブタジエン及びこの変
性物、アクリロニトリル共重合体の変性物、インデン樹
脂、ポリフェニレンエーテル、ポリスチレン、ポリエチ
レン、ポリイミド、フッ素樹脂、シリコーンゲル、シリ
コーンオイル、並びにシリカ、アルミナ、炭酸カルシウ
ム、石英粉、アルミニウム粉末、グラファイト、タル
ク、クレー、酸化鉄、酸化チタン、窒化アルミニウム、
アスベスト、マイカ、ガラス粉末、ガラス繊維、ガラス
不織布又はカーボン繊維等の無機充填材、シランカップ
リング剤のような充填材の表面処理剤、離型剤、カーボ
ンブラック、フタロシアニンブルー、フタロシアニング
リーン等の着色剤が挙げられる。
Further, known additives can be added to the curable resin composition of the present invention, if necessary. Specific examples of additives that can be used include polybutadiene and modified products thereof, modified acrylonitrile copolymer, indene resin, polyphenylene ether, polystyrene, polyethylene, polyimide, fluororesin, silicone gel, silicone oil, silica, alumina, Calcium carbonate, quartz powder, aluminum powder, graphite, talc, clay, iron oxide, titanium oxide, aluminum nitride,
Inorganic filler such as asbestos, mica, glass powder, glass fiber, glass non-woven fabric or carbon fiber, surface treatment agent for filler such as silane coupling agent, release agent, coloring of carbon black, phthalocyanine blue, phthalocyanine green, etc. Agents.

【0038】本発明の硬化性樹脂組成物は、上記各成分
を所定の割合で均一に混合することにより得られる。混
合は必要により上記各成分の軟化点より20〜100℃
程度高い温度で加熱溶融することに依って行うことが出
来る。又、硬化性樹脂組成物の各成分を溶剤等に均一に
分散又は溶解させることにより、混合することもでき
る。この場合の溶媒は特に限定されないが、その用いう
る具体例としては、トルエン、キシレン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、ジオキサン、メチル
セロソルブ、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。こ
れら溶媒は樹脂分100重量部に対して通常5〜300
重量部、好ましくは10〜150重量部が用いられる。
The curable resin composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the above components at a predetermined ratio. 20 to 100 ° C from the softening point of each of the above components if necessary
It can be performed by heating and melting at a high temperature. Further, the components of the curable resin composition can be mixed by uniformly dispersing or dissolving the components in a solvent or the like. The solvent in this case is not particularly limited, but specific examples that can be used include toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dioxane, methyl cellosolve, and dimethylformamide. These solvents are usually used in an amount of 5 to 300 parts per 100 parts by weight of the resin component.
Parts by weight, preferably 10 to 150 parts by weight, are used.

【0039】本発明の硬化物は、上記の硬化性樹脂組成
物を、通常室温〜250℃で30秒〜50時間で処理す
ることにより得られる。又、硬化性樹脂組成物の成分を
溶剤等に均一に分散又は溶解させ、溶媒を除去した後に
前記のような条件で硬化させることもできる。又、硬化
性樹脂組成物に光ラジカル開始剤や光カチオン開始剤等
を含有する場合は主に紫外線を照射することによって硬
化することもできる。
The cured product of the present invention can be obtained by treating the above curable resin composition at room temperature to 250 ° C. for 30 seconds to 50 hours. Alternatively, the components of the curable resin composition may be uniformly dispersed or dissolved in a solvent or the like, and after the solvent is removed, the composition may be cured under the above-described conditions. When the curable resin composition contains a photoradical initiator, a photocationic initiator, or the like, the composition can be cured mainly by irradiating ultraviolet rays.

【0040】こうして得られる本発明の硬化物は、高耐
湿性、高接着性を有する。従って、本発明の硬化性樹脂
組成物は、耐湿性、接着性の要求される広範な分野で用
いることが出来る。具体的には、絶縁材料、積層板、封
止材料等あらゆる電気・電子材料の配合成分として有用
であるが、最外層にパラジウム、金、銀又はニッケルを
メッキした銅フレーム、又は前記メッキ施していない銅
フレームをリードフレームとして用いた半導体装置を封
止するために使用することが好ましい。
The cured product of the present invention thus obtained has high moisture resistance and high adhesiveness. Therefore, the curable resin composition of the present invention can be used in a wide range of fields where moisture resistance and adhesiveness are required. Specifically, it is useful as a compounding component of all electric and electronic materials such as an insulating material, a laminate, and a sealing material, but the outermost layer is a copper frame plated with palladium, gold, silver, or nickel, or the above-mentioned plating is applied. It is preferably used to seal a semiconductor device using a copper frame without a lead frame.

【0041】本発明の電気・電子品は例えば本発明の樹
脂組成物で封止されたもの等の本発明の樹脂組成物の硬
化物を有する。電気・電子部品としては半導体装置が好
ましいが、ここで半導体装置としては、例えばDIP
(デュアルインラインパッケージ)、QFP(クワッド
フラットパッケージ)、BGA(ボールグリッドアレ
イ)、CSP(チップサイズパッケージ)、SOP(ス
モールアウトラインパッケージ)、TSOP(シンスモ
ールアウトラインパッケージ)等が挙げられる。
The electric / electronic product of the present invention has a cured product of the resin composition of the present invention, for example, a product sealed with the resin composition of the present invention. A semiconductor device is preferable as the electric / electronic component. Here, as the semiconductor device, for example, DIP
(Dual inline package), QFP (quad flat package), BGA (ball grid array), CSP (chip size package), SOP (small outline package), TSOP (thin small outline package), and the like.

【0042】[0042]

【実施例】以下本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。尚、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。又参考例、実施例において、エポキシ当量、溶融粘
度、軟化点、加水分解性塩素濃度は以下の条件で測定し
た。 1)エポキシ当量 JIS K−7236に準じた方法で測定した。 2)溶融粘度 150℃におけるコーンプレート法における溶融粘度 測定機械:コーンプレート(ICI)高温粘度計(RESE
ARCH EQUIPMENT(LONDON)LTD. 製) コーンNo.:3(測定範囲0〜20ポイズ) 試料量:0.15±0.005(g) 3)軟化点 JIS K−7234に準じた方法で測定
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. Note that the present invention is not limited to these examples. In Reference Examples and Examples, epoxy equivalent, melt viscosity, softening point, and hydrolyzable chlorine concentration were measured under the following conditions. 1) Epoxy equivalent It measured by the method according to JISK-7236. 2) Melt viscosity Melt viscosity in the cone plate method at 150 ° C Measurement machine: cone plate (ICI) high temperature viscometer (RESE)
ARCH EQUIPMENT (LONDON) LTD. : 3 (measurement range: 0 to 20 poise) Sample amount: 0.15 ± 0.005 (g) 3) Softening point Measured by a method according to JIS K-7234.

【0043】参考例1 フルフリルアルコール118重量部に対してエピクロル
ヒドリン(ECH、以下同様)555重量部、塩化テト
ラメチルアンモニウム6重量部を反応容器に仕込、加
熱、撹拌し、温度を40℃に保持しながら、フレーク状
水酸化ナトリウム72重量部を1.5時間かけて連続的
に添加した。水酸化ナトリウム添加完了後、45℃で3
時間更に反応を行った。ついで水洗を繰り返し、副成塩
と塩化テトラメチルアンモニウムを除去した後、油層か
ら加熱減圧下において過剰のエピクロルヒドリンを留去
し、残留物に470重量部のトルエンを添加し溶解し
た。このトルエン溶液を70℃に加熱し30重量%水酸
化ナトリウム水溶液12重量部を添加し、1時間反応さ
せた後、反応液の水洗を洗浄液が中性となるまで繰り返
した。ついで油層から加熱減圧下においてトルエンを留
去し、更に生成物を分子蒸留することにより前記式
(5)においてRが全て水素原子で表されるエポキシ化
合物(C1)115重量部を得た。このエポキシ化合物
(C1)のエポキシ当量は157g/eqであった。
Reference Example 1 555 parts by weight of epichlorohydrin (ECH, the same applies hereinafter) and 6 parts by weight of tetramethylammonium chloride were charged into a reaction vessel with respect to 118 parts by weight of furfuryl alcohol, heated and stirred, and the temperature was maintained at 40 ° C. Meanwhile, 72 parts by weight of flaky sodium hydroxide was continuously added over 1.5 hours. After completion of the addition of sodium hydroxide,
The reaction was carried out for a further time. Subsequently, washing with water was repeated to remove by-product salts and tetramethylammonium chloride. After that, excess epichlorohydrin was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure, and 470 parts by weight of toluene was added to the residue to dissolve it. This toluene solution was heated to 70 ° C., 12 parts by weight of a 30% by weight aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was allowed to react for 1 hour. Then, the reaction solution was repeatedly washed with water until the washing solution became neutral. Then, toluene was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure, and the product was subjected to molecular distillation to obtain 115 parts by weight of an epoxy compound (C1) in which R in the above formula (5) is all hydrogen atoms. The epoxy equivalent of this epoxy compound (C1) was 157 g / eq.

【0044】参考例2 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、フ
ェノール188重量部、水50重量部、フルフラール6
7重量部、水酸化ナトリウム20重量部を仕込、撹拌、
溶解後、加熱して還流状態(約100〜110℃)で4
時間反応させ、さらに加熱して水及びフェノールを留去
しながら系内の温度を約140〜150℃に上げ、その
温度を保ちながら4時間反応させた。その後、冷却して
から濃塩酸で中和した。次いでメチルイソブチルケトン
300重量部を加え、分離した水層を除去した後、塩化
ナトリウムを除去するため水洗を数回繰り返し、油層か
ら加熱減圧下においてメチルイソブチルケトンと未反応
のフェノールを除去したところ下記式(7)
Reference Example 2 A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 188 parts by weight of phenol, 50 parts by weight of water, and 6 parts of furfural.
7 parts by weight and 20 parts by weight of sodium hydroxide are charged and stirred.
After dissolution, heat to reflux (about 100-110 ° C)
The reaction was continued for an hour, and the temperature in the system was raised to about 140 to 150 ° C. while distilling off water and phenol by heating, and the reaction was carried out for 4 hours while maintaining the temperature. Then, after cooling, it was neutralized with concentrated hydrochloric acid. Next, 300 parts by weight of methyl isobutyl ketone was added, and after removing the separated aqueous layer, washing with water was repeated several times to remove sodium chloride, and methyl isobutyl ketone and unreacted phenol were removed from the oil layer under heating and reduced pressure. Equation (7)

【0045】[0045]

【化10】 Embedded image

【0046】で表されるフェノール樹脂(C2)140
重量部が得られた。このフェノール樹脂(C2)の軟化
点は87℃、溶融粘度は3.0ポイズ、水酸基当量15
2g/eqであった。
A phenolic resin (C2) 140 represented by
Parts by weight were obtained. This phenol resin (C2) has a softening point of 87 ° C., a melt viscosity of 3.0 poise and a hydroxyl equivalent of 15
It was 2 g / eq.

【0047】実施例1 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、参
考例1で得られたエポキシ化合物(C1)47重量部、
参考例2で得られたフェノール樹脂(C2)46重量
部、トルエン100重量部、塩化テトラメチルアンモニ
ウム2重量部を仕込、撹拌、溶解後、加熱して約100
℃で50時間反応させ、メチルイソブチルケトン100
重量部を加えて、塩化テトラメチルアンモニウムを除去
するため水洗を数回繰り返し、油層から加熱減圧下にお
いてトルエン及びメチルイソブチルケトンを除去したと
ころ90重量部の樹脂を得た。この樹脂88重量部をエ
ピクロルヒドリン280重量部、塩化テトラメチルアン
モニウム1重量部と共に反応容器に仕込、加熱、撹拌、
溶解後、温度を40℃に保持しながら、フレーク状の水
酸化ナトリウム24重量部を1.5時間かけて連続的に
添加した。水酸化ナトリウム添加完了後、40℃で3時
間、70℃で1時間更に反応を行った。ついで水洗を繰
り返し、副成塩と塩化テトラメチルアンモニウムを除去
した後、油層から加熱減圧下において過剰のエピクロル
ヒドリンを留去し、残留物に150重量部のメチルイソ
ブチルケトンを添加し溶解した。このメチルイソブチル
ケトン溶液を70℃に加熱し30%水酸化ナトリウム水
溶液3重量部を添加し、1時間反応させた後、反応液の
水洗を洗浄液が中性となるまで繰り返した。ついで油層
から加熱減圧下においてメチルイソブチルケトンを留去
することにより本発明のエポキシ樹脂(E1)63重量
部を得た。エポキシ樹脂(E1)はそのエポキシ当量が
368g/eqで、高粘調な液状樹脂であった。
Example 1 In a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and a stirrer, 47 parts by weight of the epoxy compound (C1) obtained in Reference Example 1 were added.
46 parts by weight of the phenol resin (C2) obtained in Reference Example 2, 100 parts by weight of toluene, and 2 parts by weight of tetramethylammonium chloride were charged, stirred, dissolved, and heated to about 100 parts.
At 50 ° C. for 50 hours.
The washing was repeated several times to remove tetramethylammonium chloride. Toluene and methyl isobutyl ketone were removed from the oil layer under reduced pressure by heating to obtain 90 parts by weight of a resin. 88 parts by weight of this resin were charged into a reaction vessel together with 280 parts by weight of epichlorohydrin and 1 part by weight of tetramethylammonium chloride, and heated, stirred,
After dissolution, while maintaining the temperature at 40 ° C., 24 parts by weight of sodium hydroxide in the form of flakes were continuously added over 1.5 hours. After the completion of the addition of sodium hydroxide, the reaction was further performed at 40 ° C. for 3 hours and at 70 ° C. for 1 hour. Then, washing with water was repeated to remove by-product salts and tetramethylammonium chloride. After that, excess epichlorohydrin was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure, and 150 parts by weight of methyl isobutyl ketone was added to the residue and dissolved. This methyl isobutyl ketone solution was heated to 70 ° C., and 3 parts by weight of a 30% aqueous sodium hydroxide solution was added. After reacting for 1 hour, the reaction solution was repeatedly washed with water until the washing solution became neutral. Then, methyl isobutyl ketone was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure to obtain 63 parts by weight of the epoxy resin (E1) of the present invention. The epoxy resin (E1) was a highly viscous liquid resin having an epoxy equivalent of 368 g / eq.

【0048】実施例2 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、参
考例1で得られたエポキシ化合物(C1)23重量部、
参考例2で得られたフェノール樹脂(C2)46重量
部、トルエン100重量部、塩化テトラメチルアンモニ
ウム2重量部を仕込、撹拌、溶解後、加熱して約100
℃で50時間反応させ、メチルイソブチルケトン100
重量部を加えて、塩化テトラメチルアンモニウムを除去
するため水洗を数回繰り返し、油層から加熱減圧下にお
いてトルエン及びメチルイソブチルケトンを除去したと
ころ90重量部の本発明のフェノール樹脂(P1)67
重量部を得た。得られたフェノール樹脂の水酸基当量は
439g/eqであった。
Example 2 In a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and a stirrer, 23 parts by weight of the epoxy compound (C1) obtained in Reference Example 1 were added.
46 parts by weight of the phenol resin (C2) obtained in Reference Example 2, 100 parts by weight of toluene, and 2 parts by weight of tetramethylammonium chloride were charged, stirred, dissolved, and heated to about 100 parts.
At 50 ° C. for 50 hours.
The washing was repeated several times to remove tetramethylammonium chloride. Toluene and methyl isobutyl ketone were removed from the oil layer by heating under reduced pressure, and 90 parts by weight of the phenol resin (P1) 67 of the present invention were obtained.
Parts by weight were obtained. The hydroxyl equivalent of the obtained phenol resin was 439 g / eq.

【0049】実施例3 実施例2で得られたフェノール樹脂(P1)439重量
部に対してエピクロルヒドリン(ECH、以下同様)1
500重量部、ジメチルスルホキシド(DMSO、以下
同様)300重量部を反応容器に仕込、加熱、撹拌、溶
解後、温度を45℃に保持しながら、加熱、撹拌、溶解
後、40℃に保ちながらフレーク状の水酸化ナトリウム
48重量部を1.5時間かけて連続的に添加した。水酸
化ナトリウム添加完了後、40℃で3時間、70℃で1
時間更に反応を行った。ついで水洗を繰り返し、DMS
O、副生塩を除去した後、油層から加熱減圧下において
過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物に1000
重量部のメチルイソブチルケトンを添加し溶解した。こ
のメチルイソブチルケトン溶液を70℃に加熱し30%
水酸化ナトリウム水溶液20重量部を添加し、1時間反
応させた後、反応液の水洗を洗浄液が中性となるまで繰
り返した。ついで油層から加熱減圧下においてメチルイ
ソブチルケトンを留去することにより本発明のエポキシ
樹脂(E2)378重量部を得た。エポキシ樹脂(E
2)はそのエポキシ当量が544g/eqで、高粘調な
液状樹脂であった。
Example 3 Epichlorohydrin (ECH, hereinafter the same) 1 based on 439 parts by weight of the phenol resin (P1) obtained in Example 2
500 parts by weight and 300 parts by weight of dimethyl sulfoxide (DMSO, the same applies hereinafter) are charged into a reaction vessel, heated, stirred and dissolved. After maintaining the temperature at 45 ° C., the mixture is heated, stirred and dissolved, and flakes are maintained at 40 ° C. 48 parts by weight of sodium hydroxide were added continuously over 1.5 hours. After completion of sodium hydroxide addition, 3 hours at 40 ° C, 1 hour at 70 ° C
The reaction was carried out for a further time. Then, repeat washing with water, DMS
After removing O and by-product salts, excess epichlorohydrin was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure, and 1000
A part by weight of methyl isobutyl ketone was added and dissolved. This methyl isobutyl ketone solution was heated to 70 ° C.
After adding 20 parts by weight of an aqueous sodium hydroxide solution and reacting for 1 hour, washing of the reaction solution with water was repeated until the washing solution became neutral. Then, methyl isobutyl ketone was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure to obtain 378 parts by weight of the epoxy resin (E2) of the present invention. Epoxy resin (E
2) was a highly viscous liquid resin having an epoxy equivalent of 544 g / eq.

【0050】実施例4 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、実
施例3で得られたエポキシ樹脂(E2)544重量部を
エピクロルヒドリン1500重量部、塩化テトラメチル
アンモニウム20重量部と共に反応容器に仕込、加熱、
撹拌、溶解後、温度を40℃に保持しながら、フレーク
状の水酸化ナトリウム40重量部を1.5時間かけて連
続的に添加した。水酸化ナトリウム添加完了後、40℃
で3時間、70℃で1時間更に反応を行った。ついで水
洗を繰り返し、副成塩と塩化テトラメチルアンモニウム
を除去した後、油層から加熱減圧下において過剰のエピ
クロルヒドリンを留去し、残留物に1500重量部のメ
チルイソブチルケトンを添加し溶解した。 このメチル
イソブチルケトン溶液を70℃に加熱し30重量%水酸
化ナトリウム水溶液15重量部を添加し、1時間反応さ
せた後、反応液の水洗を洗浄液が中性となるまで繰り返
した。ついで油層から加熱減圧下においてメチルイソブ
チルケトンを留去することにより本発明のエポキシ樹脂
(E3)460重量部を得た。エポキシ樹脂(E3)は
そのエポキシ当量が382g/eqで、高粘調な液状樹
脂であった。
Example 4 In a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and a stirrer, 544 parts by weight of the epoxy resin (E2) obtained in Example 3 was added together with 1500 parts by weight of epichlorohydrin and 20 parts by weight of tetramethylammonium chloride. Charge the reaction vessel, heat,
After stirring and dissolving, 40 parts by weight of flaky sodium hydroxide was continuously added over 1.5 hours while maintaining the temperature at 40 ° C. After completion of sodium hydroxide addition, 40 ° C
For 3 hours and at 70 ° C. for 1 hour. Subsequently, washing with water was repeated to remove by-product salts and tetramethylammonium chloride. After that, excess epichlorohydrin was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure, and 1500 parts by weight of methyl isobutyl ketone was added to the residue and dissolved. This methyl isobutyl ketone solution was heated to 70 ° C., and 15 parts by weight of a 30% by weight aqueous sodium hydroxide solution was added. After reacting for 1 hour, washing with water of the reaction solution was repeated until the washing solution became neutral. Next, 460 parts by weight of the epoxy resin (E3) of the present invention was obtained by distilling off methyl isobutyl ketone from the oil layer under heating and reduced pressure. The epoxy resin (E3) was a highly viscous liquid resin with an epoxy equivalent of 382 g / eq.

【0051】実施例5〜8 表1に示す重量割合で配合した混合物を、2軸ロールで
混練後、粉砕、タブレット化して、トランスファー成型
により樹脂成形体を調製し、160℃で2時間、更に1
80℃で8時間硬化させた。
Examples 5 to 8 The mixture blended at the weight ratio shown in Table 1 was kneaded with a biaxial roll, pulverized and tableted, and a resin molded product was prepared by transfer molding. 1
Cured at 80 ° C. for 8 hours.

【0052】このようにして得られた硬化物の物性を測
定した結果を表1に示す。尚、物性値の測定は以下の方
法で行った。 ・吸湿率:直径5cm×厚み4mmの円盤状の試験片を
121℃/100%RHの条件下で24時間放置した後
の重量増加率(%) ・銅箔剥離強度:180°剥離試験 測定温度;30℃ 引っ張り速度;200mm/min 銅箔;日鉱グールド(株)製 JTC箔 70μm
Table 1 shows the results of measuring the physical properties of the cured product thus obtained. In addition, the measurement of the physical property value was performed by the following method. -Moisture absorption: Weight increase rate (%) after leaving a disc-shaped test piece of 5 cm in diameter x 4 mm in thickness at 121 ° C / 100% RH for 24 hours-Copper foil peel strength: 180 ° peel test Measurement temperature 30 ° C. Pulling speed; 200 mm / min Copper foil; JTC foil 70 μm manufactured by Nikko Gould Co., Ltd.

【0053】 [0053]

【0054】尚、表1における略号は下記のものを示
す。 TPM:カヤハードTPM(日本化薬(株)製 OH当
量97g/eq、軟化点110℃) EPPN-502H(日本化薬(株)製 軟化点℃ エポキシ当
量103g/eq) TPP:トリフェニルフォスフィン(純正化学(株))
The abbreviations in Table 1 indicate the following. TPM: Kayahard TPM (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., OH equivalent 97 g / eq, softening point 110 ° C.) EPPN-502H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., softening point ° C. Epoxy equivalent 103 g / eq) TPP: triphenylphosphine ( Junsei Chemical Co., Ltd.)

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明の樹脂を含有する硬化性樹脂組成
物はその硬化物において優れた耐湿性(耐水性)、接着
性を有するため、電気電子部品用絶縁材料(高信頼性半
導体封止材料など)及び積層板(プリント配線板など)
やCFRPを始めとする各種複合材料、接着剤、塗料等
に使用する場合に極めて有用である。
The curable resin composition containing the resin of the present invention has excellent moisture resistance (water resistance) and adhesiveness in the cured product. Materials, etc.) and laminated boards (printed wiring boards, etc.)
It is extremely useful when used for various composite materials including CFRP and CFRP, adhesives, paints, and the like.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 201/00 C09D 201/00 4J040 C09J 201/00 C09J 201/00 Fターム(参考) 4F071 AA41 AA42 AF53 AF58 AH12 BA01 BB03 BC03 4J032 CA16 CB01 CB04 CC01 4J033 CA04 CA05 CA07 CA11 CA12 CA24 CA26 CA33 CA34 CA36 CB18 CC04 CD02 CD03 CD04 HA28 HB02 HB03 HB06 HB08 HB09 4J036 AJ11 AJ13 AJ16 FB08 HA02 HA12 JA01 JA05 JA06 JA07 JA08 4J038 DA051 DB021 DB041 DB061 DB071 DB081 DB161 DF051 DK001 DN011 GA02 GA05 GA07 GA12 GA13 PB09 4J040 EB051 EC061 EC071 EC081 EC151 EC171 EE061 EJ011 EL011 EL031 GA03 GA05 GA11 GA24 GA25 JB02 LA06 LA07 LA08 LA09 NA19 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C09D 201/00 C09D 201/00 4J040 C09J 201/00 C09J 201/00 F term (Reference) 4F071 AA41 AA42 AF53 AF58 AH12 BA01 BB03 BC03 4J032 CA16 CB01 CB04 CC01 4J033 CA04 CA05 CA07 CA11 CA12 CA24 CA26 CA33 CA34 CA36 CB18 CC04 CD02 CD03 CD04 HA28 HB02 HB03 HB06 HB08 HB09 4J036 AJ11 AJ13 AJ16 FB08 DB2 JA01 JA08 DB161 DF051 DK001 DN011 GA02 GA05 GA07 GA12 GA13 PB09 4J040 EB051 EC061 EC071 EC081 EC151 EC171 EE061 EJ011 EL011 EL031 GA03 GA05 GA11 GA24 GA25 JB02 LA06 LA07 LA08 LA09 NA19

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】式(1) 【化1】 (式中、複数存在するRは独立して水素原子、炭素数1
〜10の炭化水素基、アルコキシ基又はハロゲン原子を
示す。複数存在するXは独立して単結合、酸素原子、硫
黄原子、スルホキシド基、炭化水素基又は式(2) 【化2】 (式中、複数存在するRは前出と同じ基を表す。又、l
は1〜2の整数を、又、mは0〜6の整数をそれぞれ示
す。)のいずれかの基を表す。複数存在するYは独立し
て水素原子、グリシジル基又は式(3) 【化3】 (式中、複数存在するRは前出と同じ基を表す。Gは水
素原子又はグリシジル基を表す。)のいずれかの基を表
す。nは平均値であり、1〜10の実数を示す。h及び
複数存在するiは独立して1〜2の整数を示す。j及び
複数存在するkは独立して0〜6の整数を示す。又、少
なくとも1つのYは式(3)のいずれかの基である。)
で表される樹脂。
(1) Formula (1) (Wherein, a plurality of Rs are independently a hydrogen atom,
And represents a hydrocarbon group, an alkoxy group or a halogen atom. A plurality of Xs are independently a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, a sulfoxide group, a hydrocarbon group or a compound of the formula (2) (In the formula, a plurality of Rs represent the same group as described above.
Represents an integer of 1 to 2, and m represents an integer of 0 to 6, respectively. ). A plurality of Ys are independently a hydrogen atom, a glycidyl group or a compound of the formula (3) (Wherein, a plurality of R represent the same groups as described above; G represents a hydrogen atom or a glycidyl group). n is an average value and represents a real number of 1 to 10. h and a plurality of i's independently represent an integer of 1 to 2. j and a plurality of k's independently represent an integer of 0 to 6. Further, at least one Y is any group of the formula (3). )
A resin represented by
【請求項2】請求項1記載の樹脂を含む硬化性樹脂組成
物。
2. A curable resin composition containing the resin according to claim 1.
【請求項3】請求項2記載の硬化性樹脂組成物を硬化し
てなる硬化物。
3. A cured product obtained by curing the curable resin composition according to claim 2.
【請求項4】請求項2記載の硬化性樹脂組成物の硬化物
を構成材料として有する電気・電子部品。
4. An electric / electronic part comprising a cured product of the curable resin composition according to claim 2 as a constituent material.
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