WO2025249397A1 - 調光フィルム、及び透明導電フィルム - Google Patents

調光フィルム、及び透明導電フィルム

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    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes

Definitions

  • the present invention relates to a light control film and a transparent conductive film.
  • Patent Document 1 discloses that the surface tension of the transparent conductive layer of the transparent conductive film used in the light-control film is 28 dyn/cm or more and 50 dyn/cm or less. Patent Document 1 also claims that this can prevent uneven bonding between the transparent conductive film and the light-control layer, and can improve adhesion between the transparent conductive layer and the light-control layer.
  • the light-controlling layer is formed directly on the surface of the transparent conductive film, it is strongly influenced by the surface of the transparent conductive film. Depending on the strength of the surface tension, it was found that repelling defects and foreign matter defects were observed in the light-controlling layer, resulting in problems such as poor appearance and deterioration of characteristics.
  • the present invention was made in consideration of these points, and aims to provide a light control film and a transparent conductive film that suppress cissing defects and foreign matter defects and have excellent appearance quality.
  • the light control film of this embodiment has a pair of transparent conductive films and a light control layer positioned between the transparent conductive films, and is characterized in that the surface tension of the transparent conductive film surface in contact with the light control layer is 51 dyn/cm or more and 70 dyn/cm or less.
  • the transparent conductive film of this embodiment is a transparent conductive film that is used in a light-control film, and is characterized in that the surface tension of the surface that comes into contact with the light-control layer of the light-control film is 51 dyn/cm or more and 70 dyn/cm or less.
  • the present invention makes it possible to reduce the occurrence of cissing defects and foreign matter defects, and to provide a light control film with good appearance quality, as well as a transparent conductive film used therein.
  • FIG. 1 is a cross-sectional schematic diagram of a light control film according to a first embodiment.
  • FIG. FIG. 10 is an enlarged schematic view showing a state in which a cissing defect occurs in the light-control layer.
  • 1A is a photograph of a cissing defect
  • FIG. 1B is a schematic diagram thereof.
  • FIG. 10 is an enlarged schematic view showing a state in which a foreign matter defect occurs in the photochromic layer.
  • 1A is a photograph of a foreign matter defect
  • FIG. 1B is a schematic diagram thereof.
  • FIG. 10 is an explanatory diagram showing a method for measuring a defect size.
  • FIG. 10 is a cross-sectional schematic diagram of a light control film according to a second embodiment.
  • FIG. 10 is a cross-sectional schematic diagram of a light control film according to a third embodiment.
  • FIG. 10 is a cross-sectional schematic diagram of a light control film according to a fourth embodiment.
  • 1 is a graph showing the relationship between the surface tension of a transparent conductive film and the number of cissing defects and the number of foreign matter defects.
  • Fig. 1 is a cross-sectional schematic diagram of a light control film 10 according to a first embodiment.
  • the light control film 10 comprises a pair of transparent conductive films 1, 1 and a light control layer 2 located between the transparent conductive films 1, 1.
  • the light control layer 2 is in direct contact with the transparent conductive film surfaces 1a, 1a.
  • the transparent conductive film 1 is composed of a transparent substrate 3 and a transparent conductive layer 4 formed on the surface of the transparent substrate 3.
  • the term “film” refers to a planar shape whose planar width and length are much greater than its thickness, but it can also be read as “sheet.” Note that in this embodiment, the terms “film” and “sheet” are not distinguished by the thickness defined in the JIS standard.
  • the surface of the transparent conductive layer 4 facing the light-controlling layer 2 constitutes the transparent conductive film surface 1 a that is in direct contact with the light-controlling layer 2 .
  • PET Polyethylene Terephthalate
  • the transparent conductive layer 4 is a transparent layer having electrical conductivity, and although there are no restrictions on the material, examples include indium tin oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), tin oxide, zinc oxide, carbon nanotubes (CNT), polymers containing poly(3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), or multilayer films containing Ag alloy thin films. Of these, it is preferable to use ITO or Ag alloy for the transparent conductive layer 4.
  • ITO indium tin oxide
  • FTO fluorine-doped tin oxide
  • CNT carbon nanotubes
  • PEDOT polymers containing poly(3,4-ethylenedioxythiophene)
  • multilayer films containing Ag alloy thin films it is preferable to use ITO or Ag alloy for the transparent conductive layer 4.
  • the transparent substrate 3 is approximately 50 ⁇ m to 200 ⁇ m, and the transparent conductive layer 4 is approximately 10 nm to 100 nm.
  • the light-controlling layer 2 is composed of, for example, a polymer network liquid crystal (PNLC), a polymer dispersed liquid crystal (PDLC), or a nematic curvilinear aligned phase (NCAP) liquid crystal.
  • PNLC polymer network liquid crystal
  • PDLC polymer dispersed liquid crystal
  • NCAP nematic curvilinear aligned phase
  • a polymer network liquid crystal has a three-dimensional mesh-like polymer network, and liquid crystal molecules are held in the voids of the polymer network.
  • the liquid crystal molecules contained in the light-controlling layer 2 have, for example, a positive dielectric anisotropy, and the dielectric constant in the long axis direction of the liquid crystal molecules is larger than the dielectric constant in the short axis direction of the liquid crystal molecules.
  • the liquid crystal molecules are, for example, Schiff base-based, azo-based, azoxy-based, biphenyl-based, terphenyl-based, benzoate-based, tolan-based, pyrimidine-based, cyclohexanecarboxylic acid ester-based, phenylcyclohexane-based, or dioxane-based liquid crystal molecules.
  • the light-controlling layer 2 preferably contains liquid crystal molecules, a photocurable resin, and spacers.
  • FIG. 2 is an enlarged schematic diagram showing a state in which a cissing defect 13 has occurred in a conventional light-controlling layer 12. As shown in Fig. 2, a cissing defect 13 was observed near the boundary between a pair of transparent conductive films 11 and the light-controlling layer 12 located between the transparent conductive films 11, resulting in poor appearance.
  • Fig. 3(a) is a photograph of the cissing defect
  • Fig. 3(b) is a schematic diagram thereof.
  • FIG 4 is an enlarged schematic diagram showing a foreign matter defect 14 that has occurred in a conventional light-control layer 12.
  • a foreign matter 14a has entered the light-control layer 12, which is located between a pair of transparent conductive films 11, resulting in a foreign matter defect 14 that includes the foreign matter 14a and its surrounding area, resulting in a poor appearance.
  • Defects such as the formation of cavities and irregular alignment of liquid crystal molecules have occurred around the foreign matter 14a.
  • Figure 5(a) is a photograph of the foreign matter defect
  • Figure 5(b) is a schematic diagram.
  • the light-controlling layer 12 is formed in direct contact with the transparent conductive film 11. For this reason, it was found that the appearance and characteristics are affected by the transparent conductive film surface 11a, resulting in the occurrence of the above-mentioned cissing defects 13 and foreign matter defects 14.
  • the inventors have invented a light control film 10 that has good appearance quality and reduces the occurrence of cissing defects and foreign matter defects by adjusting the surface tension of the transparent conductive film surface 1a.
  • the surface tension of the transparent conductive film surface 1a in contact with the light-switching layer 2 is 51 dyn/cm or more and 70 dyn/cm or less.
  • the surface tension is evaluated in accordance with JIS K 6768.
  • the defect size of cissing defects and foreign matter defects is set to a diameter of 2.0 mm or more.
  • the diameter ⁇ can be calculated by measuring the width dimension a and length dimension b and calculating it as (width dimension a + length dimension b) / 2. Note that the width dimension a and length dimension b are orthogonal.
  • examples are given of circular, elliptical, and irregularly shaped defects, but the diameter ⁇ can be calculated in the same way for other shapes as well.
  • repelling defects 13 occur near the interface between the photochromic layer 12 and the transparent conductive film 11.
  • the surface tension of the transparent conductive film surface is set to 51 dyn/cm or more, wettability at the interface is improved, preventing repelling when the photochromic material is applied.
  • the surface tension of the transparent conductive film surface is too high, as shown in Figure 4, foreign matter 14a is more likely to become mixed into the photochromic layer 12 during the photochromic material application process. Therefore, by setting the surface tension to 70 dyn/cm or less, it is possible to prevent foreign matter 14a from becoming trapped when the photochromic layer is applied.
  • the surface tension is preferably 54 dyn/cm or more, and more preferably 56 dyn/cm or more.
  • the surface tension is preferably 66 dyn/cm or less, more preferably 64 dyn/cm or less, and even more preferably 62 dyn/cm or less.
  • the total number of cissing defects and foreign matter defects can be reduced to 0.69 defects/ m2 or less, preferably 0.5 defects/ m2 or less, and more preferably 0.45 defects/ m2 or less.
  • Surface modification treatments that adjust the surface tension to the above-mentioned level include, but are not limited to, corona treatment and atmospheric pressure plasma treatment.
  • the transparent conductive film 5 is a laminated film of a transparent substrate 3 / a transparent conductive layer 4 / a protective layer 6 , and the transparent conductive film surface 5 a in contact with the light-controlling layer 2 is the protective layer 6 .
  • the transparent conductive film 7 is a laminated film of a transparent substrate 3, a transparent conductive layer 4, and an alignment layer 8, and the transparent conductive film surface 7a in contact with the light-controlling layer 2 is the alignment layer 8.
  • the transparent conductive film 9 is a laminated film of a transparent substrate 3, a transparent conductive layer 4, a protective layer 6, and an alignment layer 8, and the transparent conductive film surface 9a in contact with the light-controlling layer 2 is the alignment layer 8.
  • the transparent conductive film surface in contact with the light-controlling layer 2 is not limited to the transparent conductive layer 4 as shown in Figure 1, but may also be a protective layer 6 as shown in Figure 7 or an alignment layer 8 as shown in Figures 8 and 9. In either case, the surface tension of the transparent conductive film surfaces 6a, 7a, and 8a is adjusted to be 51 dyn/cm or more and 70 dyn/cm or less.
  • the alignment layer 8 is a layer that controls the alignment of the liquid crystal molecules contained in the light-controlling layer 2.
  • the light-controlling film 10 of this embodiment shown in Figures 8 and 9 is a reverse-type light-controlling film, which is transparent when no driving voltage is applied, with the liquid crystal molecules oriented along the normal direction of the alignment layer 8 (vertical alignment), and becomes opaque when a driving voltage is applied.
  • the material that constitutes the alignment layer 8 is not limited, but examples include polyamide, polyimide, polycarbonate, polystyrene, polysiloxane, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, and polyacrylates such as polymethyl methacrylate. Of these, it is preferable to use polyimide-based resins.
  • the film thickness of the alignment layer 8 is approximately 50 nm to 250 nm, and preferably approximately 100 nm to 200 nm. This provides excellent alignment control for the liquid crystal molecules.
  • the appearance quality in the transparent state with the power off is important. For this reason, it is desirable to adjust the surface tension of the surface of the alignment layer 8 to minimize the occurrence of cissing defects and foreign matter defects between it and the light-control layer 2, thereby achieving excellent appearance quality.
  • the protective layer 6 shown in Figures 7 and 9 is not particularly limited and may be, for example, a primer layer.
  • the transparent conductive film may include at least one functional layer, such as a hard coat layer, an anti-blocking layer, a primer layer, or an index matching layer. If the functional layer corresponds to the transparent conductive film surface that contacts the photochromic layer 2, the surface tension of the functional layer surface is adjusted to 51 dyn/cm or more and 70 dyn/cm or less.
  • ⁇ Surface modification method> The surface of the transparent conductive layer of the transparent conductive film was subjected to a modification treatment.
  • the modification treatment method is not limited, in this experiment, atmospheric pressure plasma treatment was performed.
  • the electrode output was controlled at 0% to 90% of 30 kV.
  • ⁇ Surface tension evaluation method> The surface tension of the transparent conductive layer surface was determined in accordance with JIS K 6768 (Plastics - Films and Sheets - Wetting Tension Test Method).
  • ⁇ Defect evaluation method> The defects were evaluated using an optical inspection machine. A high-intensity LED was used for illumination, and the detection method was a scattering transmission type.
  • defects with a diameter of 2 mm or more are considered to be defects.
  • the defect size is calculated as shown in FIG.
  • the experimental results are shown in Table 1 and FIG.
  • the surface tension is set to 51 dyn/cm or more and 70 dyn/cm or less, and preferably 54 dyn/cm or more, or 56 dyn/cm or more and 66 dyn/cm or less, or 64 dyn/cm or less.

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Abstract

ハジキ欠陥や異物欠陥を抑制し、優れた外観品質を備える調光フィルム、及び透明導電フィルムを提供することを目的とする。本実施形態の調光フィルムは、一対の透明導電フィルムと、前記透明導電フィルムの間に位置する調光層と、を有し、前記調光層と接する透明導電フィルム表面の表面張力が、５１ｄｙｎ／ｃｍ以上７０ｄｙｎ／ｃｍ以下である、ことを特徴とする。本実施形態の調光フィルムは、調光フィルムに適用される透明導電フィルムであって、前記調光フィルムの調光層と接する表面の表面張力が、５１ｄｙｎ／ｃｍ以上７０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする。

Description

調光フィルム、及び透明導電フィルム
　本発明は、調光フィルム、及び透明導電フィルムに関する。
　特許文献１には、調光フィルムに用いられる透明導電フィルムの透明導電層の表面張力が２８ｄｙｎ／ｃｍ以上５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることが開示されている。特許文献１では、透明導電フィルムと調光層との貼り合せムラの発生を抑えるとともに、透明導電層と調光層との密着性を高めることができるとしている。
国際公開第２０１８／１８０１７２号
　調光層は、透明導電フィルム表面に直接形成されるため、該透明導電フィルム表面の影響を強く受けるところ、表面張力の大きさによって、調光層にハジキ欠陥や異物欠陥が見られ、外観不良や特性劣化の問題が生じることがわかった。
　本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、ハジキ欠陥や異物欠陥を抑制し、優れた外観品質を備える調光フィルム、及び透明導電フィルムを提供することを目的とする。
　本実施形態の調光フィルムは、一対の透明導電フィルムと、前記透明導電フィルムの間に位置する調光層と、を有し、前記調光層と接する透明導電フィルム表面の表面張力が、５１ｄｙｎ／ｃｍ以上７０ｄｙｎ／ｃｍ以下である、ことを特徴とする。
　本実施形態の透明導電フィルムは、調光フィルムに適用される透明導電フィルムであって、前記調光フィルムの調光層と接する表面の表面張力が、５１ｄｙｎ／ｃｍ以上７０ｄｙｎ／ｃｍ以下である、ことを特徴とする。
　本発明によれば、ハジキ欠陥や異物欠陥の発生を減らすことができ、良好な外観品質を備える調光フィルム、及びそれに用いる透明導電フィルムを提供することができる。
第１の実施の形態の調光フィルムの断面模式図である。 調光層にハジキ欠陥が生じた状態を示す拡大模式図である。 （ａ）は、ハジキ欠陥の写真であり、（ｂ）は、その模式図である。 調光層に異物欠陥が生じた状態を示す拡大模式図である。 （ａ）は、異物欠陥の写真であり、（ｂ）は、その模式図である。 欠陥サイズの測定方法を示す説明図である。 第２の実施の形態の調光フィルムの断面模式図である。 第３の実施の形態の調光フィルムの断面模式図である。 第４の実施の形態の調光フィルムの断面模式図である。 透明導電フィルムの表面張力と、ハジキ欠陥個数及び異物欠陥個数との関係を示すグラフである。
　以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下の説明は、本説明の実施の形態の一例（代表例）であり、本発明はその要旨を超えない限りこれらの内容に限定されない。
＜第１の実施の形態における調光フィルム１０の構成＞
　図１は、第１の実施の形態の調光フィルム１０の断面模式図である。図１に示すように、調光フィルム１０は、一対の透明導電フィルム１、１と、該透明導電フィルム１、１の間に位置する調光層２と、を有して構成される。調光層２は、透明導電フィルム表面１ａ、１ａに、直接接触している。
（透明導電フィルム１）
　透明導電フィルム１は、透明基材３と、透明基材３の表面に形成された透明導電層４とを有して構成される。ここで、「フィルム」は、厚みより平面の幅及び長さが極めて大きい平面形状を指すが、「シート」と読み替えることもできる。なお、本実施の形態では、ＪＩＳ規格に規定する厚みにより「フィルム」、「シート」を区別するものではない。
　透明導電層４の調光層２と対向する側の表面は、該調光層２と直接接する透明導電フィルム表面１ａを構成する。
　透明基材３の材質を限定するものではないが、例えば、ＰＥＴ（Polyethylene　Terephthalate）フィルムが好ましく使用される。
　また、透明導電層４は、導電性を有する透明な層であり、材質を限定するものではないが、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）、ポリ（３，４-エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）を含むポリマー、或いは、Ａｇ合金薄膜を含む多層膜等が挙げられる。このうち、透明導電層４には、ＩＴＯ又はＡｇ合金を用いることが好ましい。
　また、膜厚を限定するものでないが、透明基材３は、５０μｍ～２００μｍ程度であり、透明導電層４は、１０ｎｍ～１００ｎｍ程度である。
（調光層２）
　調光層２は、例えば、高分子ネットワーク型液晶（ＰＮＬＣ：Polymer　Network　Liquid　Crystal）、高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ：Polymer　Dispersed　Liquid　Crystal）、カプセル型ネマティック液晶(ＮＣＡＰ：Nematic　Curvilinear　Aligned　Phase)等から構成される。例えば、高分子ネットワーク型液晶は、３次元の網目状を有した高分子ネットワークを備え、高分子ネットワークが有する空隙に液晶分子を保持する。調光層２が含む液晶分子は、例えば、誘電率異方性が正であって、液晶分子の長軸方向の誘電率が液晶分子の短軸方向の誘電率よりも大きい。液晶分子は、例えば、シッフ塩基系、アゾ系、アゾキシ系、ビフェニル系、ターフェニル系、安息香酸エステル系、トラン系、ピリミジン系、シクロヘキサンカルボン酸エステル系、フェニルシクロヘキサン系、ジオキサン系の液晶分子である。
　本実施の形態における調光層２は、液晶分子、光硬化性樹脂、及びスペーサを含有して構成されることが好ましい。
＜本実施の形態の調光フィルム１０に至る経緯＞
　図２は、従来において、調光層１２にハジキ欠陥１３が生じた状態を示す拡大模式図である。図２に示すように、一対の透明導電フィルム１１と、該透明導電フィルム１１の間に位置する調光層１２との境界付近にハジキ欠陥１３が見られ、外観不良となった。図３（ａ）は、ハジキ欠陥の写真であり、図３（ｂ）は、その模式図である。
　図４は、従来において、調光層１２に異物欠陥１４が生じた状態を示す拡大模式図である。図４に示すように、一対の透明導電フィルム１１の間に位置する調光層１２に異物１４ａが混入し、異物１４ａと、その周辺を含めた異物欠陥１４が見られ、外観不良となった。異物１４ａの周辺では、空洞が生じたり、液晶分子の配列が不規則化するなどの欠陥が発生する。図５（ａ）は、異物欠陥の写真であり、図５（ｂ）は、その模式図である。
　このように、調光層１２は、透明導電フィルム１１に直接接して形成される。このため、外観や特性面で、透明導電フィルム表面１１ａの影響を受け、上記したハジキ欠陥１３や異物欠陥１４が発生することがわかった。
　そこで、本発明者は、鋭意研究を行った結果、透明導電フィルム表面１ａの表面張力を調整して、ハジキ欠陥及び異物欠陥の発生を減少でき、外観品質良好な調光フィルム１０を発明するに至った。
＜本実施の形態の調光フィルム１０の特徴点＞
　本実施の形態では、調光層２と接する透明導電フィルム表面１ａの表面張力が、５１ｄｙｎ／ｃｍ以上７０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする。なお、表面張力の評価方法は、ＪＩＳ　Ｋ　６７６８に準拠する。
　表面張力を上記の範囲内で調整することにより、図２で示したハジキ欠陥１３や、図４で示した異物欠陥１４の発生を抑制できる。なお、本実施の形態においては、ハジキ欠陥及び異物欠陥の欠陥サイズは直径２．０ｍｍ以上のものとした。直径φは、図６（ａ）に示す円形や楕円形の場合や、図６（ｂ）に示す異形状の場合、それぞれ幅寸法ａ及び長さ寸法ｂを測定し、（幅寸法ａ＋長さ寸法ｂ）／２にて算出することができる。なお、幅寸法ａと長さ寸法ｂは直交関係にある。ここでは、欠陥が、円形や楕円形、異形状の場合を例示したが、これ以外の形状であっても同様にして直径φを求めることができる。
　図２で示すように、ハジキ欠陥１３は、調光層１２と透明導電フィルム１１との界面付近で発生するが、透明導電フィルム表面の表面張力を５１ｄｙｎ／ｃｍ以上とすることで、該界面での濡れ性が良好となり、調光材料を塗布した際のハジキの発生を抑制できる。一方で、透明導電フィルム表面の表面張力が高くなりすぎると、図４で示すように、調光材料の塗工工程などで、異物１４ａが調光層１２の内部に混入しやすくなるため、表面張力を７０ｄｙｎ／ｃｍ以下とすることで、調光層の塗工の際に異物１４ａが噛み込むのを抑制できる。
　本実施の形態では、表面張力は、５４ｄｙｎ／ｃｍ以上であることが好ましく、５６ｄｙｎ／ｃｍ以上であることがより好ましい。表面張力は、６６ｄｙｎ／ｃｍ以下であることが好ましく、６４ｄｙｎ／ｃｍ以下であることがより好ましく、６２ｄｙｎ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
　本実施の形態では、ハジキ欠陥と異物欠陥の合計欠陥数を、０．６９個／ｍ２以下に抑えることができ、好ましくは、０．５個／ｍ２以下にでき、より好ましくは、０．４５個／ｍ２以下にできる。
　上記した表面張力に調整する表面改質処理として、コロナ処理や常圧プラズマ処理を実施できるが、これに限定されるものではない。
＜その他の実施の形態における調光フィルムの構成＞
　図７では、透明導電フィルム５が、透明基材３／透明導電層４／保護層６の積層フィルムであり、調光層２と接する透明導電フィルム表面５ａが保護層６である。
　図８では、透明導電フィルム７が、透明基材３／透明導電層４／配向層８の積層フィルムであり、調光層２と接する透明導電フィルム表面７ａが配向層８である。
　図９では、透明導電フィルム９が、透明基材３／透明導電層４／保護層６／配向層８の積層フィルムであり、調光層２と接する透明導電フィルム表面９ａが配向層８である。
　このように、調光層２と接する透明導電フィルム表面は、図１のように、透明導電層４に限定されず、図７のように、保護層６や図８、９のように配向層８等であってもよい。いずれの場合においても、透明導電フィルム表面６ａ、７ａ、８ａの表面張力は、５１ｄｙｎ／ｃｍ以上７０ｄｙｎ／ｃｍ以下に調整される。
　図８、９のように調光フィルムの層構造に配向層８を備える構成は、リバース型の調光フィルムに適用される。
（配向層８）
　配向層８は、調光層２が含む液晶分子の配向を制御する層である。図８、９に示す本実施の形態の調光フィルム１０は、リバース型調光フィルムであり、駆動電圧が印加されていないとき、液晶分子を配向層８の法線方向に沿って配向（垂直配向）させて透明とされており、駆動電圧が印加されているとき、調光フィルム１０は不透明となる。
　配向層８を構成する材料を限定するものではないが、例えば、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリシロキサン、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリレートが挙げられる。このうち、ポリイミド系樹脂を用いることが好ましい。
　配向層８の膜厚を限定するものではないが、５０ｎｍ～２５０ｎｍ程度であり、好ましくは、１００ｎｍ～２００ｎｍ程度である。これにより、液晶分子に対する優れた配向規制力を有することができる。
　リバース型において、電源をオフにした透明状態での外観品質は重要である。このため、配向層８の表面の表面張力を調整して、調光層２との間でハジキ欠陥や異物欠陥が生じることを極力抑制し、優れた外観品質を得ることが望ましい。
　また、図７や図９に示す保護層６は、特に限定するものでなく、例えば、プライマー層である。その他、機能層としての、例えば、ハードコート層、アンチブロッキング層、プライマー層、或いは、インデックマッチング層の少なくともいずれか１つを、透明導電フィルムに含めることができ、該機能層が、調光層２と接する透明導電フィルム表面に該当する場合は、機能層表面の表面張力が、５１ｄｙｎ／ｃｍ以上７０ｄｙｎ／ｃｍ以下に調整される。
　以下、本発明の効果を明確にするために実施した実施例により、本発明を詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。
＜表面改質方法＞
　透明導電フィルムの透明導電層表面に改質処理を行った。改質処理方法を限定するものではないが、本実験では、常圧プラズマ処理を実施した。実験では、電極出力３０ｋＶに対して、０％～９０％にて制御した。
＜表面張力の評価方法＞
　ＪＩＳ　Ｋ　６７６８（プラスチック－フィルム及びシート－ぬれ張力試験方法）に準拠して、透明導電層表面の表面張力を求めた。
＜調光フィルムの作製＞
　上記の表面改質処理にて、表面張力が異なる複数の透明導電フィルムを使用して、夫々、図１に示す調光フィルムを作製した。
＜欠陥評価方法＞
　欠陥は、光学系検査機にて評価した。照明には高輝度ＬＥＤを用い、検出方式は散乱透過型とした。
　図３、５に示すハジキ欠陥や異物欠陥の判定は、直径が２ｍｍ以上のものを欠陥と見做した。欠陥サイズは、図６にて求めた。
　その実験結果が表１及び図１０に示されている。
　ハジキ欠陥と異物欠陥の合計欠陥数が、０．６９個／ｍ２以上である場合は、判定を×し、０．６９個／ｍ２以下であれば、判定を○とした。
　実験によると、表面張力が５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であると、ハジキ欠陥が多数発生し、合計欠陥数が、０．６９個／ｍ２以上となり、また、表面張力が７１ｄｙｎ／ｃｍ以上であると異物欠陥が多数発生し、合計欠陥数が、０．６９個／ｍ２以上となった。
　そこで、表面張力を、５１ｄｙｎ／ｃｍ以上７０ｄｙｎ／ｃｍ以下とし、好ましくは、５４ｄｙｎ／ｃｍ以上或いは、５６ｄｙｎ／ｃｍ以上、６６ｄｙｎ／ｃｍ以下或いは、６４ｄｙｎ／ｃｍ以下とした。
　本出願は、２０２４年５月２８日出願の特願２０２４－０８６０１７に基づく。この内容は、全てここに含めておく。

Claims (5)

  1. 　一対の透明導電フィルムと、
    　前記透明導電フィルムの間に位置する調光層と、を有し、
    　前記調光層と接する透明導電フィルム表面の表面張力が、５１ｄｙｎ／ｃｍ以上７０ｄｙｎ／ｃｍ以下である、
    　ことを特徴とする調光フィルム。
  2. 　前記調光層は、液晶分子、光硬化性樹脂、及びスペーサを含有して構成される、
    　ことを特徴とする請求項１に記載の調光フィルム。
  3. 　調光フィルムに適用される透明導電フィルムであって、
    　前記調光フィルムの調光層と接する表面の表面張力が、５１ｄｙｎ／ｃｍ以上７０ｄｙｎ／ｃｍ以下である、
    　ことを特徴とする透明導電フィルム。
  4. 　前記表面張力が、５６ｄｙｎ／ｃｍ以上である、
    　ことを特徴とする請求項１又は請求項３に記載の調光フィルム、或いは、透明導電フィルム。
  5. 　前記調光層と接する最表層が、透明導電層、保護層、或いは配向層のいずれか一つである、
    　ことを特徴とする請求項１又は請求項３に記載の調光フィルム、或いは、透明導電フィルム。
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