WO2025205263A1 - 離型フィルム - Google Patents
離型フィルムInfo
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- WO2025205263A1 WO2025205263A1 PCT/JP2025/010532 JP2025010532W WO2025205263A1 WO 2025205263 A1 WO2025205263 A1 WO 2025205263A1 JP 2025010532 W JP2025010532 W JP 2025010532W WO 2025205263 A1 WO2025205263 A1 WO 2025205263A1
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- release
- film
- resin
- release layer
- melamine
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/42—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising condensation resins of aldehydes, e.g. with phenols, ureas or melamines
Definitions
- the present invention relates to a release film for use in molding resin sheets.
- it relates to a release film for use in molding resin sheets used in electronic components.
- release films based on polyester film have high heat resistance and mechanical properties and have been used as process films during solution casting of resin sheets such as adhesive sheets, cover films, polymer electrolyte membranes, and dielectric resin sheets.
- resin sheets such as adhesive sheets, cover films, polymer electrolyte membranes, and dielectric resin sheets.
- electronic components have become increasingly miniaturized, which has led to a demand for thinner resin sheets used in electronic components.
- resin sheets become thinner, even a small amount of force can tear them when peeling them from the process film.
- release films used as process films have been required to have a small peel force so that they can be peeled off without damaging the resin sheet.
- technology such as that described in Patent Document 1 has been disclosed, proposing a release sheet with a release layer whose peel force changes little even long periods of time have passed since the release sheet was manufactured.
- release film is wound into a film roll after coating
- pressure is applied in the direction of the core, and some of the release components on the surface of the release layer are transferred to the side opposite the release layer, making it impossible to maintain a constant release force.
- a release film with the desired release force is designed, it may not be able to achieve its intended purpose in actual use.
- thinner release films are also being sought.
- the release film is thin, when heat and pressure are applied, the release film can deform or wrinkle due to the heat, making it impossible to maintain a constant peel force when the resin sheet is peeled from the release film, resulting in the resin sheet deforming or tearing.
- the present invention solves the above problems by providing a release film that prevents the resin sheet from peeling off the release film during pre-drying, and allows the resin sheet to be peeled off the release film without deformation or tearing after main drying. Even if the release film is thin, it does not deform during the heating process, and the resin sheet does not deform or tear. Furthermore, the present invention provides a release film that exhibits excellent stability of peel strength over time.
- the substrate film is a film obtained by curing a composition containing a polyester resin,
- the present invention provides a release film having a base film and a release layer
- the release layer contains a melamine-based resin
- the melamine-based resin includes at least one selected from an imino-type methylated melamine resin, a methylol-type methylated melamine resin, a full-ether-type methylated melamine resin, and an imino-methylol-type methylated melamine resin
- the release layer contains a release component different from the melamine-based resin in an amount of 0 to 1.5 wt % relative to the melamine-based resin
- the release layer is substantially free of silicone components
- the glass transition point of the resin constituting the substrate film is 100°C or higher.
- a release film is provided.
- the release film of the present invention can maintain a constant peel force when the resin sheet, which is the object to be released, is peeled from the release film, and deformation and tearing of the resin sheet can be suppressed. Furthermore, by laminating the base film of the present invention and the release layer in this order, it is possible to maintain a good balance between the dimensional stability and surface smoothness of the base film when heated and the thermal shrinkage and expansion that the release layer may have when heated.
- the resin sheet does not peel off from the release film during pre-drying, and after main drying, the resin sheet can be peeled off from the release film without deformation or tearing. Furthermore, even if the release film is thin, the release film does not deform during the heat treatment process, and a release film can be obtained that does not cause deformation or tearing in the resin sheet.
- the substrate film a known substrate can be used.
- a resin film formed from polyester such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, polyolefin such as polypropylene, polyimide, or the like can be used as the substrate.
- a polyester film is preferable, and a polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate film is more preferable.
- the substrate film is a film cured from a composition containing a polyester resin, and the polyester resin contains naphthalenedicarboxylic acid as a dicarboxylic acid component.
- the substrate film contains naphthalenedicarboxylic acid as a dicarboxylic acid component, and therefore exhibits excellent dimensional stability, particularly high surface smoothness, even after heating at 180°C for 1 hour, and the release layer according to the present invention can also maintain surface smoothness.
- the release layer has high surface smoothness after heating, for example, when peeling a resin sheet or the like from the release layer after heating at 180°C for 1 hour, the resin sheet can be peeled off with a constant peel force. Since the substrate film can maintain high surface smoothness after heating, the heat treatment temperature can be appropriately selected depending on the resin sheet to be manufactured.
- the polyester resin contains naphthalenedicarboxylic acid as a dicarboxylic acid component as a main component.
- the thickness of the base film is preferably 10 ⁇ m or more and 188 ⁇ m or less, more preferably 16 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less.
- the thickness of the base film is 10 ⁇ m or more, deformation due to heat during production, processing, and molding of the base film can be suppressed.
- the thickness of the base film is 188 ⁇ m or less, the amount of base film to be discarded after use can be reduced while satisfying the physical properties required of the base film, and the burden on the environment can be reduced.
- the thickness of the base film is 100 ⁇ m or less, a longer roll of product can be produced in one production run, which is preferable because it improves productivity in terms of reducing base film loss and transportability.
- An easy-adhesion coating may be placed between the base film and the release layer to improve adhesion. Furthermore, a coating may be placed on the side of the base film opposite the side on which the release layer is placed to impart lubricity, heat resistance, antistatic properties, etc.
- the average surface roughness (Sa) of the region of the base film used in the present invention opposite the surface on which the release layer is laminated is preferably in the range of 3 to 100 nm, and more preferably 5 to 30 nm.
- the maximum protrusion height (P) of the region of the base film used in the present invention opposite the surface on which the release layer is laminated is preferably 2 ⁇ m or less, and more preferably 1.5 ⁇ m or less. If Sa is 3 nm or more, the slipperiness between the release surface and the non-release surface is improved, resulting in excellent winding properties. Furthermore, if P is 2 ⁇ m or less, the surface of the release layer is not damaged during winding, and the possibility of partial peeling of the release layer is reduced. Furthermore, the possibility of tearing originating from the peeled portion of the release layer can be suppressed when the release object is peeled from the release film.
- the haze of the substrate film used in the present invention is preferably 0.1% or more and 20% or less, for example, 3% or more and 17% or less, and may be 6% or more and 15% or less.
- the mechanism has not yet been analyzed, it is presumed that the haze value described above allows the substrate film to maintain a suitable surface roughness when the release film is dried at a high temperature, which contributes to the cooling properties of the release film, and the release film tends to exhibit desirable heat resistance. Also, the release film tends to exhibit a stronger interaction with the release layer of the present invention.
- the base film of the present invention can be made from recycled raw materials such as polyester film scraps and PET bottles. Since the present invention can use recycled raw materials such as film scraps and PET bottles, the environmental impact can be significantly reduced. Furthermore, even in embodiments that include recycled raw materials such as film scraps and PET bottles, the film's slipperiness and ease of air escape can be maintained.
- the release layer of the present invention can be made by appropriately collecting, processing, and reusing polyester films used in various applications.
- the surface of the base film may contain fine particles of a size such that the average surface roughness (Sa) of the area on which the release layer is laminated is in the range of 1 to 50 nm, and the surface of the base film on which the release layer is laminated may contain fine particles of a size such that the maximum protrusion height (P) is 2 ⁇ m or less.
- the glass transition point of the resin constituting the substrate film used in the present invention is 100°C or higher, more preferably 110°C or higher, and most preferably 115°C or higher.
- the glass transition point is 100°C or higher, even when heat or pressure is applied when molding a resin sheet on the release film, the release film itself does not deform and the flatness is maintained, so a resin sheet of uniform thickness can be formed, which is preferable.
- the glass transition point is 115°C or higher, it is particularly preferable because a resin sheet of even uniform thickness can be formed without impairing the flatness of the film.
- the glass transition point is, for example, 150°C or lower, or may be 140°C or lower, or may be 130°C or lower.
- the glass transition point of the resin constituting the substrate film is 110°C or higher and 150°C or lower, for example, 115°C or higher and 140°C or lower, or 115°C or higher and 135°C or lower.
- the present invention allows the resin sheet or the like to be peeled off from the release layer with a constant peeling force even when subjected to heat treatment at 180° C. for 1 hour.
- the surface smoothness of the substrate film tends to be impaired after heat treatment at 180° C. for 1 hour.
- Another specific market demand is the reduction in the cost of release film processing.
- One way to reduce the cost of release layer processing is, for example, to increase the film conveying speed to process it at high speed.
- increasing the conveying speed can lead to deterioration in the winding shape, such as winding slippage, so the tension during conveying must also be increased, which can make the film more susceptible to wrinkling during conveying.
- the film's residence time in the furnace is shortened, the amount of heat applied to the film decreases, resulting in issues such as insufficient curing of the release layer due to insufficient drying and blocking of the film roll due to insufficient curing.
- the glass transition point of the resin constituting the base film is 100°C or higher, it is possible to increase the temperature of the drying oven.
- the present invention can avoid the problem that can arise with conventional combinations of base film and release layer, in which the amount of drying heat increases and the film becomes more likely to wrinkle during transportation.
- the glass transition point of the resin constituting the base film is 100°C or higher, the base film is less likely to wrinkle even when the coating tension or drying temperature is increased, so the release film can be processed at high speed, which can contribute to cost reduction.
- the water vapor permeability of the substrate film used in the present invention is preferably 1.0 g/m 2 ⁇ d or more and 25.0 g/m 2 ⁇ d or less, more preferably 3.0 g/m 2 ⁇ d or more and 15.0 g/m 2 ⁇ d or more, and most preferably 5.0 g/m 2 ⁇ d or more and 10.0 g/m 2 ⁇ d or less.
- a water vapor transmission rate of 1.0 g/m 2 ⁇ d or more is preferable because, as will be described later, when a coating liquid containing a solvent is applied to form a release layer on a substrate film, the solvent dries efficiently, preventing unevenness and stickiness on the release film surface due to insufficient drying.
- a water vapor transmission rate of 25.0 g/m 2 ⁇ d or less is thought to prevent the solvent from volatilizing suddenly during drying, but rather over a certain period of time, allowing the release components in the coating liquid to be efficiently oriented on the surface of the release layer, thereby enabling the formation of a release film with the desired release force.
- the water vapor permeability in the present invention can be evaluated, for example, based on the water vapor permeability measured when the substrate film has a thickness of 25 ⁇ m.
- the Martens hardness (HMT115) of the base film is 150 N/ mm2 or more, the elastic modulus of the release film is large, and when the object to be released is peeled from the release film, the release film does not deform to follow the object to be released, so that excessive stress is not applied to a part of the object to be released, and the object can be peeled off with a uniform force, preventing deformation of the object to be released.
- the Martens hardness (HMT115) of the base film is 400 N/ mm2 or less, the handleability is good and handling is easy, which is preferable.
- the release layer of the present invention contains a melamine-based resin as described below. Furthermore, the release layer of the present invention contains a release component different from the melamine-based resin in a ratio of 0 to 1.5 wt % relative to the melamine-based resin. That is, the release layer of the present invention does not contain a release component different from the melamine-based resin, or contains a release component different from the melamine-based resin in a ratio of 1.5 wt % or less relative to the melamine-based resin. Furthermore, the release layer does not substantially contain a silicone component.
- the release component used to form the release layer of the present invention includes, for example, an acrylic resin.
- the acrylic resin contained in the release layer of the present invention preferably has a long-chain alkyl group.
- the release properties can be controlled by orienting the long-chain alkyl group contained in the acrylic resin on the surface of the release layer.
- the acrylic resin of the present invention can exhibit good wettability with, for example, a resin composition that forms a resin sheet.
- the acrylic resin of the present invention can provide a release film that does not peel off from a release target, such as a resin sheet, formed on the release layer during the pre-drying process, but has light releasability after the main drying process.
- the molecular weight of the acrylic resin is preferably greater than 500.
- the release component of the release layer By adjusting the release component of the release layer to 0 to 1.5 wt%, the water contact angle of the surface of the release film is reduced and wettability is improved, which is preferable as it makes coating easier even for resins that tend to cause cissing during coating. Also, by adjusting the release component to 0 to 1.5 wt%, the release force of the release film is appropriately increased, and it is possible to provide a release film that does not peel off from a release target such as a resin sheet formed on the release layer in the pre-drying step but has light releasability after the main drying step.
- the above-mentioned effect can be achieved even in an embodiment in which the release layer contains a release component different from the melamine-based resin in a ratio of 0.05 wt % to 1.5 wt % relative to the melamine-based resin.
- the pre-drying process refers to the state after heating at a temperature of 100°C for 2 minutes
- the main drying process refers to the state after heating at a temperature of 180°C for 15 minutes.
- "after heating” does not only refer to immediately after heating, but also to a state after cooling to ambient temperature or below (for example, 40°C or below).
- the main drying may be carried out in multiple stages.
- the release layer according to the present invention is substantially free of silicone components, which prevents the silicone components from being transferred to the object to be released, thereby preventing the object from being contaminated by silicone and preventing malfunction of electronic devices caused by the object to be released.
- silicone components prevents the silicone components from being transferred to the object to be released, thereby preventing the object from being contaminated by silicone and preventing malfunction of electronic devices caused by the object to be released.
- substantially free of silicone components means that silicone components are not intentionally added to the components forming the release layer. For example, there is a possibility that a very small amount of silicone components may be unexpectedly present in the manufacturing process of the release layer.
- substantially free of silicone compounds is defined as a content of 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, and most preferably below the detection limit, when the Si element is quantified by fluorescent X-ray analysis. This is because even if a silicone component is not actively added to the release layer, contaminants derived from foreign matter or dirt adhering to the raw material resin or the line or equipment in the film manufacturing process may peel off and become mixed into the release layer.
- the detection limit varies depending on the measuring equipment, but when the Si element is quantified by fluorescent X-ray analysis, the Si element may be 0.01 ppm or more. For example, it may be 0.01 ppm or more and 50 ppm or less.
- the resin component A used to form the release layer of the present invention contains a melamine-based resin, and may contain other resin components in addition to the melamine-based resin component as long as the properties of the present invention are not impaired.
- resin components other than the melamine-based resin component include polyisocyanate resin, epoxy resin, aluminum chelate, titanium chelate, and ultraviolet-curable resin. At least 50% by mass of the melamine-based resin may be contained, and other resins may be appropriately blended.
- the release layer preferably contains a melamine resin, because the cured film is rigid and has excellent chemical resistance, weather resistance, and heat resistance. In the case of crosslinking with aluminum chelate or titanium chelate, the inclusion of metal components may be undesirable depending on the application. Furthermore, in the present invention, by using a melamine-based resin as the resin for the release layer, the resin sheet can be held without peeling from the release film during pre-drying, and after drying, the resin sheet can be peeled from the release film without deformation or breakage. Although the detailed mechanism has not been analyzed, it is believed that the melamine-based resin undergoes a certain degree of self-reaction due to the drying heat during coating.
- the self-reaction is further accelerated, causing the release layer to cure and shrink, changing the surface morphology and increasing the water contact angle.
- the resin sheet can be held without peeling from the release film during pre-drying, and after drying, the resin sheet can be peeled from the release film without deformation or breakage.
- methylol melamine derivatives include monomethylol melamine, dimethylol melamine, trimethylol melamine, tetramethylol melamine, pentamethylol melamine, and hexamethylol melamine.
- One or more types may be used.
- hexamethylol melamine is a compound represented by the following formula (a), in which X is a methylol group (-CH 2 -OH).
- each X may be the same or different.
- each R may be the same or different.
- X may be (-H).
- a full ether type or a methylol type more preferably a full ether type, and among the full ether types, it is most preferable to use hexamethoxymethylmelamine (CAS No. 3089-11-0) in which R is a methyl group.
- R is a methyl group.
- the present invention can provide a release film that has excellent stability of peeling force over time.
- the release film of the present invention contains the release component in a ratio of 0 to 1.5 wt % relative to the melamine-based resin, thereby minimizing the amount of the release component transferred to the object to be released, such as a resin sheet, or to manufacturing equipment.
- the Tg of the base film is higher than that of a PET film, and therefore the flatness of the film is not impaired even when the film is processed at high temperatures, and when the film is made into a film roll, stress concentration in the winding direction due to the impairment of the film's flatness can be avoided, and the transfer of peeling components to the resin sheet can be suppressed even when the film is stored for a long period of time.
- the weight average degree of polymerization may be 1.1 or more, and may even exceed 1.5.
- the melamine used in the present invention can also be commercially available.
- the release layer of the present invention it is preferable to add an acid catalyst to promote the crosslinking reaction of the melamine-based compound, and it is preferable to add the acid catalyst to the composition for forming the release layer, apply it, and then cure it.
- an acid catalyst to promote the crosslinking reaction of the melamine-based compound
- the acid catalyst to the composition for forming the release layer, apply it, and then cure it.
- a sulfonic acid catalyst there are no particular restrictions on the acid catalyst used, and existing acid catalysts can be used, but it is preferable to use a sulfonic acid catalyst.
- Sulfonic acid catalysts that can be used preferably include, for example, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, cumenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid, but from the perspective of reactivity, p-toluenesulfonic acid is particularly preferred.
- Sulfonic acid catalysts have higher acidity and superior reactivity than other acid catalysts such as carboxylic acid catalysts, making it possible to process the release layer at lower temperatures. This makes them preferable because they can prevent the film from losing flatness and the winding appearance from being affected by heat during processing.
- the mass of the acid catalyst contained in the release layer is 0.1 to 20.0 wt % relative to the melamine resin.
- the mass of the acid catalyst is 0.1 wt % or more and 20.0 wt % or less, for example, 0.5 wt % or more and 10.0 wt % or less, or may be 1.0 wt % or more and 5.0 wt % or less, relative to the melamine-based resin.
- the mass of the acid catalyst is 0.1 wt% or more relative to the melamine-based resin, the self-reaction of the melamine-based compound is promoted, the hardening of the release film progresses, and stickiness and blocking of the film roll are suppressed, which is preferable.
- the mass of the acid catalyst is 20.0 wt% or less relative to the melamine-based resin, the hardened release film has appropriate adhesion, and when a resin sheet is provided on the release film, peeling off of the resin sheet at unintended times such as during pre-drying or a conveying process is prevented, which is preferable.
- the catalyst may volatilize and contaminate the drying equipment when the resin solution for forming the release layer is applied to the substrate film and then placed in the drying equipment for drying, which is not preferred. It is more preferred that the mass of the acid catalyst is 10.0 wt% or less, even more preferably 7.0 wt%, and most preferably 3.3 wt% or less.
- the sulfonic acid catalyst used in the present invention can also be commercially available.
- commercially available products include Dryer (registered trademark) 900 (p-toluenesulfonic acid, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), NACURE (registered trademark) DNNDSA series (dinonylnaphthalene disulfonic acid, manufactured by Kusumoto Chemicals Co., Ltd.), NACURE DNNDSA series (dinonylnaphthalene (mono)sulfonic acid, manufactured by Kusumoto Chemicals Co., Ltd.), NACURE DDBSA series (dodecylbenzenesulfonic acid, manufactured by Kusumoto Chemicals Co., Ltd.), and NACURE p-TSA series (p-toluenesulfonic acid, manufactured by Kusumoto Chemicals Co., Ltd.).
- Additives such as adhesion improvers and antistatic agents may be added to the release layer of the present invention, provided that the effects of the present invention are not impaired. Furthermore, in order to improve adhesion to the substrate film, it is also preferable to subject the polyester film surface to pretreatment such as anchor coating, corona treatment, plasma treatment, or atmospheric pressure plasma treatment before providing the release layer.
- the thickness of the release layer is preferably 0.01 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less, and more preferably 0.05 ⁇ m or more and 1 ⁇ m or less. If the thickness of the release layer is less than 0.01 ⁇ m, it is difficult to form the release layer uniformly, and the peeling force may become unstable. On the other hand, if the thickness of the release layer exceeds 10 ⁇ m, the proportion of recycled raw materials used decreases, which is uneconomical and therefore undesirable.
- the average surface roughness (Sa) of the region of the release layer is preferably in the range of 1 to 50 nm, more preferably 2 to 30 nm.
- the maximum protrusion height (P) of the surface of the base film used in the present invention on which the release layer is laminated is preferably 2 ⁇ m or less, more preferably 1.5 ⁇ m or less.
- the rate of change in the average surface roughness (Sa) of this region and the maximum protrusion height (P) before and after heating is preferably within 20%, more preferably within 10%, and even more preferably within 5%. If the rate of change in the average surface roughness (Sa) of this region and the maximum protrusion height (P) before and after heating is within 20%, the adhesion area between the release layer and the object to be released increases after heating, and the anchor effect reduces the possibility of heavy peeling when the object to be released is peeled from the release layer, which is preferable.
- the release film obtained in the present invention may have a tape peel strength of 5,000 mN/50 mm or more and 15,000 mN/50 mm or less at a peel speed of 300 mm/min, for example, 7,500 mN/50 mm or more and 14,000 mN/50 mm or less, or 10,000 mN/50 mm or more and 13,000 mN/50 mm or less.
- a tape peel strength in the above range can be achieved by setting the mass of the acid catalyst contained in the release layer within the range of 0.1 to 20.0 wt % relative to the melamine-based resin.
- a tape peeling strength within the above range is preferable, for example, because the resin sheet can be peeled off without deformation or tearing when formed.
- a tape peeling strength of 5000 mN/50 mm or more is preferable, because the possibility of peeling off at an unintended timing, such as during a pre-drying process of the resin sheet, is low.
- a tape peeling strength of 15000 mN/50 mm or less is preferable, because the possibility of the release object being deformed when peeled off is low.
- the tape peeling force means the tape peeling force at a peeling speed of 300 mm/min., and can be used to evaluate the peeling force when peeling off an object to be released, such as a pressure-sensitive adhesive (e.g., acrylic pressure-sensitive adhesive tape (No. 31B, manufactured by Nitto Denko Corporation)) placed on the release layer according to the present invention.
- a pressure-sensitive adhesive e.g., acrylic pressure-sensitive adhesive tape (No. 31B, manufactured by Nitto Denko Corporation) placed on the release layer according to the present invention.
- the tape peeling force can be measured at room temperature (25°C).
- the release film obtained by the present invention preferably has a water contact angle within the range shown below.
- the release film obtained in the present invention preferably has a water contact angle of 65° or less on the surface of the release layer, for example, from 40° to 70°, or from 50° to 65°.
- a water contact angle within the above range is preferable because, for example, when a resin sheet is formed, it can be peeled off without deformation or tearing.
- a water contact angle of 65° or less is preferable because there is little possibility of peeling off at an unintended timing, for example, during a pre-drying process of the resin sheet.
- a water contact angle of 40° or more is preferable because there is little possibility of the release object being deformed when it is peeled off.
- the water contact angle is a numerical range measured at room temperature, and corresponds to the water contact angle ( ⁇ ) of the release layer surface before heating, which will be described later.
- the water contact angle ( ⁇ ) of the release layer surface after heating at 180°C for 1 hour and the water contact angle ( ⁇ ) of the release layer surface before heating satisfy the following formula (1). ⁇ > ⁇ Equation (1)
- the water contact angle ( ⁇ ) of the surface of the release layer after heating means the water contact angle measured after heating the release film at 180° C. for 1 hour.
- the drying temperature when forming a release layer on a substrate film under the conditions described in this specification it is possible to satisfy the formula (1) regarding the water contact angle.
- the release layer of the present invention can be used as a release film in a state where the release layer is formed on a substrate film, but the present inventors have found that, as a feature of the present invention, for example, when the release film of the present invention is used as process paper, in the process of performing heat treatment when forming a resin sheet, the hardening of the release film can be promoted and the surface morphology of the release layer can be controlled.
- the present inventors have found that the releasability of the release layer can be changed after production of the release film and during the resin sheet formation process, and have found the relationship of formula (1) relating to the water contact angle as an index for this.
- the surface morphology does not change significantly on a nanoscale.
- the effects of the present invention can be more effectively exhibited in release films for manufacturing electronic components such as ceramic capacitors, release films for molding resin sheets containing epoxy resins, release films for forming all-solid-state batteries, and release films for molding resin sheets having a urethane structure.
- the object to be released can be released without being damaged.
- the resin sheet does not peel off from the release film during pre-drying, and after main drying, the resin sheet can be peeled off from the release film without deformation or tearing. Furthermore, because of this relationship, even if the release film is thin, it does not deform during the heat treatment process, and a release film can be obtained in which the resin sheet does not deform or tear.
- the release film obtained by the present invention does not peel off from the release film when the resin sheet peel force is measured under pre-drying process conditions. If the resin sheet does not peel off from the release film, this is preferable, for example, because when the resin sheet is formed, there is little chance that it will peel off at an unintended time, such as during the pre-drying process.
- the pre-drying step refers to the state after heating for 2 minutes at a temperature of 100° C.
- the post-drying step refers to the state after heating for 15 minutes at a temperature of 180° C.
- "after heating” does not only refer to immediately after heating, but also to a state after cooling to an ambient temperature or lower (for example, 40° C. or lower).
- the resin sheet peeling force means the resin sheet peeling force at a peeling speed of 300 mm/min., and can be used to evaluate the peeling force when peeling off a release target object placed on the release layer according to the present invention, such as a resin sheet (e.g., a resin sheet formed by curing an epoxy resin, etc.).
- the tape peeling force can be measured under room temperature (25°C) conditions.
- the present invention can also be applied to other applications, such as battery components, adhesive layer protection (protection for OCA (Optical Clear Adhesive), protection for adhesive tape, separators for transdermal drug patches in the medical field, casting paper used in the manufacturing process for semiconductor-related parts such as circuit boards, casting paper used in the manufacturing process for electronic parts such as ceramic capacitors, and protection of image display components. Similar effects are expected.
- the release film of the present invention due to the properties of the components contained in the release layer, can better demonstrate the effects of the present invention in release films for manufacturing electronic components such as ceramic capacitors, release films for molding resin sheets containing epoxy resins, release films for forming all-solid-state batteries, and release films for molding resin sheets having a urethane structure.
- Tape peeling force An adhesive tape ("31B” manufactured by Nitto Denko Corporation) was attached to the surface of the release film, and after pressing with a pressure roller at a linear pressure of 5 kgf/mm, the tape was left for 20 hours under conditions of a temperature of 22°C and a humidity of 60%.
- the release film with the adhesive tape attached was cut into strips of 25 mm width and 150 mm length.
- One end of the adhesive tape was fixed, one end of the release film was supported, and the release film side was pulled at a speed of 300 mm/min.
- the T-peel strength was measured.
- a tensile tester (“AUTOGRAPHAG-A-1" manufactured by Shimadzu Corporation) was used for the measurement.
- HMT115 F/(26.43 ⁇ h 2 )(N/mm 2 ) (F: load (N), h: pressing depth (mm)) (Measurement conditions)
- the resin and crosslinker mixture composition to be used as a sample was prepared using a mixed solvent (25°C) of 50% by mass of toluene and 50% by mass of MEK so that the solid content concentration was 20% by mass.
- the coating liquid was applied to the surface of a glass slide using a wire bar to prepare a glass slide sample with a coating layer thickness of 3.0 ⁇ m.
- the glass slide sample was left to stand in a hot air circulating oven set to a temperature of 130°C for 5 minutes, and then removed for heat treatment.
- the surfaces of the obtained samples were subjected to a load-unload test using a dynamic ultra-microhardness tester (DUH-211S, manufactured by Shimadzu Corporation).
- the glass transition temperature (extrapolated onset temperature) of the polymer was measured using a DSC (EXSTAR6000 manufactured by Seiko Instruments Inc.) with a sample weight of 10 mg at a temperature rise rate of 20° C./min.
- paratoluenesulfonic acid Hitachi Chemical Polymer Co., Ltd., Dryer #900
- the obtained release layer coating liquid was applied to a substrate film using a gravure coater, and then dried at 130°C for 30 seconds to form a release layer with a thickness of 0.3 ⁇ m.
- the obtained release film was subjected to the above-mentioned evaluations.
- Various compositions and evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
- the weight-average molecular weight was calculated in polystyrene equivalent terms, and the weight-average degree of polymerization was calculated based on this value.
- PStQuick C from the PStQuick series was used as the polystyrene.
- polystyrenes with Mw of 2,110,000, 427,000, and 37,900 that significantly exceed the column's exclusion limit molecular weight were excluded from creating the calibration curve.
- Example 5 A release layer was formed in the same manner as in Example 3, except that the resin component (A) was changed to a melamine resin (Nikalac MS-11, methylol-type methylated melamine resin, manufactured by Nippon Carbide Corporation). The obtained release film was subjected to the above-mentioned evaluations.
- a melamine resin Naikalac MS-11, methylol-type methylated melamine resin, manufactured by Nippon Carbide Corporation.
- Example 8 A release layer was formed in the same manner as in Example 7, except that the resin component (A) was changed to a melamine resin (Nippon Carbide Corporation, imino-methylol type methylated melamine resin, Nikalac MX-750). The obtained release film was subjected to the above-mentioned evaluations.
- a melamine resin Nippon Carbide Corporation, imino-methylol type methylated melamine resin, Nikalac MX-750.
- a release layer was formed in the same manner as in Example 1, except that the release layer coating liquid was changed as described above, and the above-described evaluations were carried out on the resulting release film.
- the substrate film used was a polyethylene naphthalate film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., Q5100, thickness: 25 ⁇ m, surface roughness (Sa): 0.006 ⁇ m, haze: 12.6%).
- the obtained release layer coating liquid was applied to a substrate film using a gravure coater, and then dried at 150° C. for 30 seconds to form a release layer having a thickness of 0.3 ⁇ m.
- the obtained release film was subjected to the above-mentioned evaluations.
- a polyethylene terephthalate film manufactured by Toyobo Co., Ltd., E5100, thickness: 38 ⁇ m, surface roughness (Sa): 0.0365 ⁇ m (corona-treated surface), maximum surface cross-sectional height (St): 3.72, haze: 3.7%) was used as the base film, and a release layer was formed in the same manner as in Example 3, except that the release layer coating liquid was applied to the corona-treated surface. The obtained release film was subjected to the above-mentioned evaluations.
- a release film in which a resin sheet does not peel off from the release film during pre-drying, and after drying, the resin sheet can be peeled off from the release film without deformation or breakage. Furthermore, when heat and pressure are applied to the release film, the release film of the present invention can suppress deformation and wrinkles even if the release film is thin.
- the content of the release component other than the melamine-based resin is outside the range of the present invention, The tape peeling strength was significantly reduced, and the resin sheet peeled off under pre-drying conditions.
- release film in which a resin sheet does not peel off from the release film during pre-drying, and the resin sheet can be peeled off from the release film after drying without deformation or breakage, and even if the release film is thin, the release film does not deform in a heat step, and the resin sheet does not deform or break.
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
基材フィルムと離型層とを有する離型フィルムであって、離型層はメラミン系樹脂を含み、メラミン系樹脂は、イミノ型メチル化メラミン樹脂、メチロール型メチル化メラミン樹脂、フルエーテル型メチル化メラミン樹脂、またはイミノ・メチロール型メチル化メラミン樹脂から選択される少なくとも1つを含み、離型層は、メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して0~1.5wt%の割合で含み、離型層は実質的にシリコーン成分を含まず、基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移点が100℃以上である、離型フィルム。
Description
本発明は、樹脂シート成型用の離型フィルムに関する。特に電子部品に用いられる樹脂シート成型用の離型フィルムに関する。
従来、ポリエステルフィルムを基材とした離型フィルムは、耐熱性や機械特性が高く、粘着シートやカバーフィルム、高分子電解質膜、誘電体樹脂シートなどの樹脂シートの溶液製膜時に使用する工程フィルムとして使用されてきた。近年、電子部品はますます小型化が進められており、そのため電子部品に用いられる樹脂シートにも薄膜化が求められている。樹脂シートが薄膜化されると、工程フィルムから樹脂シートを剥がす際に、小さい力でも樹脂シートが破れてしまう可能性がある。そのため、工程フィルムとして使用する離型フィルムには、樹脂シートを破損することなく剥がせるよう小さい剥離力が求められてきた。そのため、特許文献1に記載されるような技術が開示されており、離型層表面の剥離シートの製造時から長期間経過した場合でも剥離力の変化が小さい剥離シートが提案されている。
しかし、特許文献1の技術では、例えば電子部品用途では樹脂シートなどを破損させることなく剥がせるよう小さい剥離力が求められる一方で、剥離力が小さすぎると、例えば樹脂の前乾燥時等の意図せぬタイミングで樹脂が剥がれてしまい、歩留まりが低下する恐れがあった。
これらを改善するために、剥離力が大きい離型フィルムが提案されているが、前乾燥工程において、離型フィルムから樹脂シートは剥がれないものの、本乾燥工程後にも樹脂シートが離型フィルムから剥がせず、本来の目的を達成できないという問題がある。
これらを改善するために、剥離力が大きい離型フィルムが提案されているが、前乾燥工程において、離型フィルムから樹脂シートは剥がれないものの、本乾燥工程後にも樹脂シートが離型フィルムから剥がせず、本来の目的を達成できないという問題がある。
また、剥離力の経時安定性も求められている。離型フィルムは、塗工後に巻き取りフィルムロールとした際に、巻芯方向へ圧力が加わり、離型層表面の剥離成分が一部離型層側と反対面側へ転写し、剥離力を一定に保つことができなくなる。そのため、狙いの剥離力を有する離型フィルムを設計しても、実使用の際には本来の目的を達成できないという問題がある。
さらに、生産性向上の観点から樹脂シートの薄膜化に加え、離型フィルムの薄膜化も求められている。しかし、離型フィルムが薄い場合、熱、圧力が加わった際に離型フィルムが熱によって変形や、シワ等が入り、樹脂シートを離型フィルムから剥離した際の剥離力を一定に保つことができず、樹脂シートに変形や破れが生じてしまうという問題がある。
このように、既存の離型フィルムでは、性能を十分に発揮できないという問題があり、その改善が要求されている。
本発明は、上記課題を解決するものであり、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれず、本乾燥後に樹脂シートが変形、破断することなく離型フィルムから剥がすことができ、かつ、離型フィルムが薄い場合でも熱工程において離型フィルムが変形せず、樹脂シートにも変形や破れが発生せず、さらには、剥離力の経時安定性にも優れた離型フィルムを提供する。
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した結果、下記構成を有する離型フィルムにより前記目的を達成できることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は以下の構成よりなる。
[1]基材フィルムと離型層とを有する離型フィルムであって、
前記離型層はメラミン系樹脂を含み、
前記メラミン系樹脂は、イミノ型メチル化メラミン樹脂、メチロール型メチル化メラミン樹脂、フルエーテル型メチル化メラミン樹脂、またはイミノ・メチロール型メチル化メラミン樹脂から選択される少なくとも1つを含み、
前記離型層は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して0~1.5wt%の割合で含み、
前記離型層は実質的にシリコーン成分を含まず、
前記基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移点が100℃以上である、
離型フィルム。
[2]メラミン系樹脂の重量平均重合度が8.0以下である[1]に記載の離型フィルム。
[3]離型フィルムの水接触角が65°以下である、[1]または[2]に記載の離型フィルム。
[4]剥離速度300mm/min.におけるテープ剥離力が5000mN/50mm以上15000mN/50mm以下である、[1]から[3]のいずれかに記載の離型フィルム。
[5]離型フィルムに用いる基材フィルムのマルテンス硬さが150N/mm2以上である、上記[1]から[4]のいずれかに記載の離型フィルム。
[6]180℃、1時間加熱後の離型層表面の水接触角(α)と加熱前の離型層表面の水接触角(β)が以下の式(1)を満たす[1]から[5]のいずれかに記載の離型フィルム:
α>β 式(1)。
[7]基材フィルムが、ポリエステル樹脂を含有する組成物から硬化されてなるフィルムであり、
ポリエステル樹脂が、ジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸を含む、[1]から[6]のいずれかに記載の離型フィルム。
[1]基材フィルムと離型層とを有する離型フィルムであって、
前記離型層はメラミン系樹脂を含み、
前記メラミン系樹脂は、イミノ型メチル化メラミン樹脂、メチロール型メチル化メラミン樹脂、フルエーテル型メチル化メラミン樹脂、またはイミノ・メチロール型メチル化メラミン樹脂から選択される少なくとも1つを含み、
前記離型層は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して0~1.5wt%の割合で含み、
前記離型層は実質的にシリコーン成分を含まず、
前記基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移点が100℃以上である、
離型フィルム。
[2]メラミン系樹脂の重量平均重合度が8.0以下である[1]に記載の離型フィルム。
[3]離型フィルムの水接触角が65°以下である、[1]または[2]に記載の離型フィルム。
[4]剥離速度300mm/min.におけるテープ剥離力が5000mN/50mm以上15000mN/50mm以下である、[1]から[3]のいずれかに記載の離型フィルム。
[5]離型フィルムに用いる基材フィルムのマルテンス硬さが150N/mm2以上である、上記[1]から[4]のいずれかに記載の離型フィルム。
[6]180℃、1時間加熱後の離型層表面の水接触角(α)と加熱前の離型層表面の水接触角(β)が以下の式(1)を満たす[1]から[5]のいずれかに記載の離型フィルム:
α>β 式(1)。
[7]基材フィルムが、ポリエステル樹脂を含有する組成物から硬化されてなるフィルムであり、
ポリエステル樹脂が、ジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸を含む、[1]から[6]のいずれかに記載の離型フィルム。
本発明によれば、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれず、本乾燥後に樹脂シートが変形、破断することなく離型フィルムから剥がすことができる、かつ、剥離力の経時安定性に優れた離型フィルムを提供する。
更に、離型フィルムに熱、圧力が加わる場合、本発明の離型フィルムであれば、離型フィルムが薄い場合でも変形すること、シワ等が入ることを抑制できる。その上、例えば、樹脂シートを離型フィルムから剥離した際の剥離力を一定に保つことができ、樹脂シートの変形、破れを防ぐことができるので、本発明の離型フィルムにより製造される樹脂シートは、電子部品等にも適用できる。
更に、本発明の離型フィルムは、後工程において離型フィルム上に、樹脂シートを形成する樹脂組成物を塗工して巻き取り、樹脂シート付フィルムロールとした場合において、離型層の反対面側(例えば、基材フィルムにおける離型層とは反対側の面)に転写した剥離成分が、さらに樹脂表面へと転写することを抑制できる。このため、樹脂シートの表面物性が満たされなくなる問題についても大きく抑制又は回避できる。
更に、離型フィルムに熱、圧力が加わる場合、本発明の離型フィルムであれば、離型フィルムが薄い場合でも変形すること、シワ等が入ることを抑制できる。その上、例えば、樹脂シートを離型フィルムから剥離した際の剥離力を一定に保つことができ、樹脂シートの変形、破れを防ぐことができるので、本発明の離型フィルムにより製造される樹脂シートは、電子部品等にも適用できる。
更に、本発明の離型フィルムは、後工程において離型フィルム上に、樹脂シートを形成する樹脂組成物を塗工して巻き取り、樹脂シート付フィルムロールとした場合において、離型層の反対面側(例えば、基材フィルムにおける離型層とは反対側の面)に転写した剥離成分が、さらに樹脂表面へと転写することを抑制できる。このため、樹脂シートの表面物性が満たされなくなる問題についても大きく抑制又は回避できる。
発明者らは鋭意検討した結果、本発明は、基材フィルムと離型層とを有する離型フィルムであって、
離型層はメラミン系樹脂を含み、
メラミン系樹脂は、イミノ型メチル化メラミン樹脂、メチロール型メチル化メラミン樹脂、フルエーテル型メチル化メラミン樹脂、またはイミノ・メチロール型メチル化メラミン樹脂から選択される少なくとも1つを含み、
前記離型層は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して0~1.5wt%の割合で含み、
離型層は実質的にシリコーン成分を含まず、
基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移点が100℃以上である、
離型フィルムを提供する。
離型層はメラミン系樹脂を含み、
メラミン系樹脂は、イミノ型メチル化メラミン樹脂、メチロール型メチル化メラミン樹脂、フルエーテル型メチル化メラミン樹脂、またはイミノ・メチロール型メチル化メラミン樹脂から選択される少なくとも1つを含み、
前記離型層は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して0~1.5wt%の割合で含み、
離型層は実質的にシリコーン成分を含まず、
基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移点が100℃以上である、
離型フィルムを提供する。
(基材フィルム)
本発明における離型フィルムは、基材フィルムと、前記基材フィルムの表面に配置された離型層とを備える。前記離型フィルムの離型層上に被離型体を配置すると、被離型体を基材フィルムと同様の形状に成形できる。また、離型層と被離型体とは容易に剥離するため、被離型体の形状を所望の形状に変形、維持することもできる。離型層は、基材フィルムの表面の一面に配置されていてもよいし、両面に配置されていてもよい。
本発明における離型フィルムは、基材フィルムと、前記基材フィルムの表面に配置された離型層とを備える。前記離型フィルムの離型層上に被離型体を配置すると、被離型体を基材フィルムと同様の形状に成形できる。また、離型層と被離型体とは容易に剥離するため、被離型体の形状を所望の形状に変形、維持することもできる。離型層は、基材フィルムの表面の一面に配置されていてもよいし、両面に配置されていてもよい。
特に、本発明においては、離型フィルムに熱、圧力が加わる際に生じ得る、変形を抑制でき、また、シワが入ることを抑制できる。更に、本発明の離型フィルムは、このような効果を奏することで、被離型物である樹脂シートを離型フィルムから剥離した際の剥離力を一定に保つことができ、樹脂シートに変形や破れが生じることを抑制できる。
更に、本発明の基材フィルムと、離型層とをこの順で積層することで、基材フィルムが有する加熱時の寸法安定性および表面平滑性と、離型層が有し得る加熱時の熱収縮・膨張性とをバランスよく保持できる。
特定の理論に限定して解釈すべきではないが、離型層と基材フィルムの熱収縮・膨張性の差が大きければ、離型フィルムの加熱時に変形、シワなどが生じる傾向がある。これに対し、本発明の基材フィルムと離型層の組合せであれば、例えば、180℃,1h加熱後においても、基材フィルムと離型層との熱収縮・膨張性をバランスよく保持できる。
その結果、複数の乾燥工程を経て被離型物が形成される場合や、更に、例えば、乾燥工程の1つが100℃を超える高温条件下に長時間保管する工程を含む場合においても、本発明を好適に使用できる。
また、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれず、本乾燥後に樹脂シートが変形、破断することなく離型フィルムから剥がすことができ、かつ、離型フィルムが薄い場合でも熱処理工程において離型フィルムが変形せず、樹脂シートにも変形や破れが発生しない離型フィルムを得ることができる。
更に、本発明の基材フィルムと、離型層とをこの順で積層することで、基材フィルムが有する加熱時の寸法安定性および表面平滑性と、離型層が有し得る加熱時の熱収縮・膨張性とをバランスよく保持できる。
特定の理論に限定して解釈すべきではないが、離型層と基材フィルムの熱収縮・膨張性の差が大きければ、離型フィルムの加熱時に変形、シワなどが生じる傾向がある。これに対し、本発明の基材フィルムと離型層の組合せであれば、例えば、180℃,1h加熱後においても、基材フィルムと離型層との熱収縮・膨張性をバランスよく保持できる。
その結果、複数の乾燥工程を経て被離型物が形成される場合や、更に、例えば、乾燥工程の1つが100℃を超える高温条件下に長時間保管する工程を含む場合においても、本発明を好適に使用できる。
また、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれず、本乾燥後に樹脂シートが変形、破断することなく離型フィルムから剥がすことができ、かつ、離型フィルムが薄い場合でも熱処理工程において離型フィルムが変形せず、樹脂シートにも変形や破れが発生しない離型フィルムを得ることができる。
基材フィルムとしては、公知の基材を用いることができる。たとえば、基材として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリイミドなどによって形成された樹脂フィルムを用いることができる。特にコストや生産性の観点からポリエステルフィルムが好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートフィルムがさらに好ましい。
一態様において、基材フィルムは、ポリエステル樹脂を含有する組成物から硬化されてなるフィルムであり、ポリエステル樹脂が、ジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸を含む。特定の理論に限定して解釈すべきではないが、基材フィルムがジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸を含むフィルムであることにより、例えば、180℃,1h加熱後においても、優れた寸法安定性、特に、高い表面平滑性を示すことができ、本発明に係る離型層についても表面平滑性を保持できる。加熱後に高い表面平滑性を有する離型層であることにより、例えば、180℃,1h加熱後の離型層から樹脂シート等を剥離する際に一定の剥離力で樹脂シートを剥離できる。このように、加熱後の基材フィルムが高い表面平滑性を保持できるので、製造する樹脂シートに応じて、熱処理温度を適切に選択することができる。
一態様において、ポリエステル樹脂を含有する組成物において、ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸を主成分として含む。
一態様において、基材フィルムは、ポリエステル樹脂を含有する組成物から硬化されてなるフィルムであり、ポリエステル樹脂が、ジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸を含む。特定の理論に限定して解釈すべきではないが、基材フィルムがジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸を含むフィルムであることにより、例えば、180℃,1h加熱後においても、優れた寸法安定性、特に、高い表面平滑性を示すことができ、本発明に係る離型層についても表面平滑性を保持できる。加熱後に高い表面平滑性を有する離型層であることにより、例えば、180℃,1h加熱後の離型層から樹脂シート等を剥離する際に一定の剥離力で樹脂シートを剥離できる。このように、加熱後の基材フィルムが高い表面平滑性を保持できるので、製造する樹脂シートに応じて、熱処理温度を適切に選択することができる。
一態様において、ポリエステル樹脂を含有する組成物において、ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸を主成分として含む。
基材フィルムの厚みは、10μm以上188μm以下が好ましく、16μm以上100μm以下がさらに好ましい。基材フィルムの厚みが10μm以上であることにより、基材フィルム生産時、加工工程、成型の時に、熱により変形を抑制できる。一方、基材フィルムの厚みが188μm以下であると、基材フィルムに要求される物性を満たしながらも、使用後に廃棄する基材フィルムの量を抑制でき、環境負荷への負担を小さくできる。
また、基材フィルムの厚みが100μm以下であれば、一回の生産において、より長い巻長の製品を生産することができ、基材フィルムのロスや運搬性の観点から生産性が向上するため好ましい。
また、基材フィルムの厚みが100μm以下であれば、一回の生産において、より長い巻長の製品を生産することができ、基材フィルムのロスや運搬性の観点から生産性が向上するため好ましい。
基材フィルムと離型層の間には、接着性を向上させるための易接着コートが配置されていてもよい。また、基材フィルムの離型層を配置する面と反対の面には、易滑性や耐熱性、帯電防止性などを付与するためのコートが配置されていてもよい。
本発明に用いる基材フィルムの離型層を積層する面の領域表面平均粗さ(Sa)は、1~50nmの範囲にあることが好ましく、より好ましくは2~30nmである。本発明に用いる基材フィルムの離型層を積層する面の最大突起高さ(P)は、2μm以下であることが好ましく、より好ましくは1.5μm以下である。Saが50nm以下であり、Pが2μm以下であれば、離型層の厚みムラの抑制及び離型層表面の平滑性を一定に保つことができ、更には、被離型体の厚みムラを低減でき、被離型体を離型フィルムから剥離した際に厚みが薄い部分を起点に破ける可能性を抑制できる。
本発明に用いる基材フィルムの離型層を積層する面とは反対の領域表面平均粗さ(Sa)は、3~100nmの範囲にあることが好ましく、より好ましくは5~30nmである。本発明に用いる基材フィルムの離型層を積層する面とは反対の最大突起高さ(P)は、2μm以下であることが好ましく、より好ましくは1.5μm以下である。Saが3nm以上であれば、離型面と反離型面のすべり性が向上し、巻取性に優れる。また、Pが2μm以下であれば巻き取った際に、離型層表面へダメージを与えることがなく、離型層が一部剥がれる可能性が低減される。さらに、被離型体を離型フィルムから剥離した際に離型層が剥がれた部分を起点に破ける可能性を抑制できる。
本発明に用いる基材フィルムのヘイズは、0.1%以上20%以下が好ましく、例えば、3%以上17%以下であり、6%以上15%以下であってもよい。
現時点ではメカニズムを解析でいていないが、上記ヘイズ値を有することで、離型フィルムを高温で乾燥させる場合、基材フィルムが適度な表面凹凸を保持でき、離型フィルムの冷却性にも寄与すると推測され、離型フィルムにおいて望ましい耐熱性を示す傾向がある。また、本発明の離型層との相互作用をより発揮できる傾向が有る。
現時点ではメカニズムを解析でいていないが、上記ヘイズ値を有することで、離型フィルムを高温で乾燥させる場合、基材フィルムが適度な表面凹凸を保持でき、離型フィルムの冷却性にも寄与すると推測され、離型フィルムにおいて望ましい耐熱性を示す傾向がある。また、本発明の離型層との相互作用をより発揮できる傾向が有る。
本発明における基材フィルムは、ポリエステルフィルム屑、ペットボトルの再生原料を使用することができる。本発明においては、このようなフィルム屑、ペットボトルの再生原料を使用することができるため、環境負荷を大きく低減できる。その上、フィルム屑、ペットボトルの再生原料を含む態様においても、フィルムの滑り性の向上、空気の抜けやすさを保つことができる。本発明の離型層は、様々な用途において使用されたポリエステルフィルムを、適切に回収、処理し、再利用することができる。
このような再生原料(材料)を含む場合、基材フィルムの離型層を積層する面の領域表面平均粗さ(Sa)が1~50nmの範囲内となるサイズの微粒子を含んでいてもよく、また、基材フィルムの離型層を積層する面の最大突起高さ(P)が2μm以下となるサイズの微粒子を含んでもよい。
このような再生原料(材料)を含む場合、基材フィルムの離型層を積層する面の領域表面平均粗さ(Sa)が1~50nmの範囲内となるサイズの微粒子を含んでいてもよく、また、基材フィルムの離型層を積層する面の最大突起高さ(P)が2μm以下となるサイズの微粒子を含んでもよい。
例えば、本発明の基材フィルムは、上記微粒子のサイズは(0.001μm以上10μm)の範囲であってもよい。このような範囲の大きさを有する微粒子であれば、叙述した、基材フィルムの離型層を積層する面の領域表面平均粗さ(Sa)、最大突起高さ(P)を満たすことができる。
一態様において、基材フィルムは、実質的に無機粒子を含まない表面層を有し、この表面層の上に離型層が積層されてもよい。
一態様において、基材フィルムは、実質的に無機粒子を含まない表面層を有し、この表面層の上に離型層が積層されてもよい。
本発明に用いる、基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移点は、100℃以上であり、110℃以上であることがより好ましく、115℃以上であることが最も好ましい。100℃以上の場合、離型フィルム上に樹脂シートを成形する際に、熱や圧力が加わる場合でも、離型フィルム自体が変形せず、平面性が保たれるため、均一な厚みの樹脂シートを形成することができるため好ましい。115℃以上の場合、フィルムの平面性を損なうことなく、さらに均一な厚みの樹脂シートを形成できるため特に好ましい。ガラス転移点は、たとえば、150℃以下であり、140℃以下であってもよく、130℃以下でもよい。一態様において、基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移点は、110℃以上150℃以下であり、例えば、115℃以上140℃以下であってもよく、115℃以上135℃以下であってもよい。
このような特性を有することにより、本発明は、180℃,1h加熱処理に施される場合であっても、離型層から樹脂シート等を剥離する際に一定の剥離力で樹脂シートを剥離できる。
なお、ガラス転移点が100℃未満のフィルム、例えば、ガラス転移点が100℃未満のPETフィルムでは、180℃,1h加熱処理後に基材フィルムの表面平滑性が損なわれる傾向がある。また、、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれるおそれがあり、本乾燥後では、基材フィルムの変形により、樹脂シートが変形、破断するおそれがある。
このような特性を有することにより、本発明は、180℃,1h加熱処理に施される場合であっても、離型層から樹脂シート等を剥離する際に一定の剥離力で樹脂シートを剥離できる。
なお、ガラス転移点が100℃未満のフィルム、例えば、ガラス転移点が100℃未満のPETフィルムでは、180℃,1h加熱処理後に基材フィルムの表面平滑性が損なわれる傾向がある。また、、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれるおそれがあり、本乾燥後では、基材フィルムの変形により、樹脂シートが変形、破断するおそれがある。
また具体的な市場要求として、離型フィルム加工の低コスト化が挙げられる。離型層加工のコストを抑える手段として、例えばフィルムの搬送速度を上げて高速で加工する方法が挙げられる。しかし、本発明においては、搬送速度が大きくなると巻ズレ等の巻姿の悪化が考えられるため、搬送時の張力も合わせて大きくする必要があり、搬送中にフィルムにシワが入りやすくなるおそれがある。また、フィルムの炉内滞在時間が短くなるため、フィルムにかかる熱量が低下し、乾燥不足による離型層の硬化不足や硬化不足によるフィルムロールのブロッキングが課題として挙げられる。
本発明においては、基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移点が100℃以上であるため、乾燥炉の温度を上げることが可能となる。例えば、従来の基材フィルムと離型層の組合せでは生じ得た、乾燥熱量が大きくなることにより搬送中にフィルムにシワが入りやすくなるという課題に対し、本発明は回避できる。また、基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移点が100℃以上であるため、塗工張力や乾燥温度を上げても基材フィルムにシワが入りにくいため、離型フィルムを高速で加工することができ、コストカットに寄与することができる。
本発明においては、基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移点が100℃以上であるため、乾燥炉の温度を上げることが可能となる。例えば、従来の基材フィルムと離型層の組合せでは生じ得た、乾燥熱量が大きくなることにより搬送中にフィルムにシワが入りやすくなるという課題に対し、本発明は回避できる。また、基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移点が100℃以上であるため、塗工張力や乾燥温度を上げても基材フィルムにシワが入りにくいため、離型フィルムを高速で加工することができ、コストカットに寄与することができる。
本発明に用いる、基材フィルムの水蒸気透過度は1.0g/m2・d以上25.0g/m2・dであることが好ましく、3.0g/m2・d以上15.0g/m2・dであることがさらに好ましく、5.0g/m2・d以上10.0g/m2・d以下であることが最も好ましい。
水蒸気透過率を上記範囲内とすることで、基材フィルム上に離型層を形成した場合、ムラやべたつきがなく、狙いの剥離力を有する離型フィルムを形成することができる。
水蒸気透過率が1.0g/m2・d以上であることで、後述するように、基材フィルム上に離型層を形成するために、溶剤を含むと塗工液を塗布した際に、溶剤の乾燥が効率的に進み、乾燥不足による離型フィルム表面のムラやべたつきを抑制するため好ましい。一方で、詳細なメカニズムは定かではないが、水蒸気透過率が25.0g/m2・d以下であることで、乾燥中に溶剤が急激に揮発せず、一定の時間をかけて揮発することで、塗工液中の剥離成分を効率的に離型層表層に配向させることができ、狙いの剥離力を有する離型フィルムを形成できると考えている。
本発明における水蒸気透過度とは、例えば、基材フィルム厚み25μmにおいて測定した水蒸気透過率について評価できる。
水蒸気透過率を上記範囲内とすることで、基材フィルム上に離型層を形成した場合、ムラやべたつきがなく、狙いの剥離力を有する離型フィルムを形成することができる。
水蒸気透過率が1.0g/m2・d以上であることで、後述するように、基材フィルム上に離型層を形成するために、溶剤を含むと塗工液を塗布した際に、溶剤の乾燥が効率的に進み、乾燥不足による離型フィルム表面のムラやべたつきを抑制するため好ましい。一方で、詳細なメカニズムは定かではないが、水蒸気透過率が25.0g/m2・d以下であることで、乾燥中に溶剤が急激に揮発せず、一定の時間をかけて揮発することで、塗工液中の剥離成分を効率的に離型層表層に配向させることができ、狙いの剥離力を有する離型フィルムを形成できると考えている。
本発明における水蒸気透過度とは、例えば、基材フィルム厚み25μmにおいて測定した水蒸気透過率について評価できる。
本発明に用いる、基材フィルムのマルテンス硬さ(HMT115)は、150N/mm2以上400N/mm2以下であることが好ましく、170N/mm2以上370N/mm2以下であることがさらに好ましく、200N/mm2以上350N/mm2以下であることが最も好ましい。基材フィルムのマルテンス硬さを上記の範囲とすることで、基材フィルム上に離型層を設けて離型フィルムを作製し、樹脂シート等の工程紙として利用した場合、被離型体を剥離した際の被離型体の変形を防ぐことが可能な離型フィルムを提供できる。
基材フィルムのマルテンス硬さ(HMT115)が150N/mm2以上であることで、離型フィルムとしての弾性率が大きくなり、離型フィルムから被離型体を剥離した際に、離型フィルムが被離型体に追随して変形しないため、被離型体の一部に過度な応力がかからず、均一な力で剥離することができ、被離型体の変形を防ぐことができる。一方で、基材フィルムのマルテンス硬さ(HMT115)が400N/mm2以下であることで、ハンドリング性が良く、取り扱いが容易になるため好ましい。
基材フィルムのマルテンス硬さ(HMT115)が150N/mm2以上であることで、離型フィルムとしての弾性率が大きくなり、離型フィルムから被離型体を剥離した際に、離型フィルムが被離型体に追随して変形しないため、被離型体の一部に過度な応力がかからず、均一な力で剥離することができ、被離型体の変形を防ぐことができる。一方で、基材フィルムのマルテンス硬さ(HMT115)が400N/mm2以下であることで、ハンドリング性が良く、取り扱いが容易になるため好ましい。
(離型層)
本発明の離型層は、後述するメラミン系樹脂を含む。更に、本発明の離型層は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して0~1.5wt%の割合で含む。すなわち、本発明の離型層は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分を含まない、又は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して1.5wt%以下の割合で含む。更に、離型層は実質的にシリコーン成分を含まない。
一態様において、離型層は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して0.05wt%~1.5wt%の割合で含む。例えば、剥離成分を0.1wt%~ 1.5wt%の割合で含む。このような条件を有することで、例えば、セラミックコンデンサー等の電子部品の製造用離型フィルム、エポキシ系樹脂を含む樹脂シート成型用の離型フィルム、全固体電池形成用の離型フィルム、ウレタン構造を有する樹脂シート成型用離型フィルムにおいて、被剥離物に対する剥離力と、被剥離物に対する密着性(保持力)とをバランスよく備えることができる。
本発明の離型層は、後述するメラミン系樹脂を含む。更に、本発明の離型層は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して0~1.5wt%の割合で含む。すなわち、本発明の離型層は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分を含まない、又は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して1.5wt%以下の割合で含む。更に、離型層は実質的にシリコーン成分を含まない。
一態様において、離型層は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して0.05wt%~1.5wt%の割合で含む。例えば、剥離成分を0.1wt%~ 1.5wt%の割合で含む。このような条件を有することで、例えば、セラミックコンデンサー等の電子部品の製造用離型フィルム、エポキシ系樹脂を含む樹脂シート成型用の離型フィルム、全固体電池形成用の離型フィルム、ウレタン構造を有する樹脂シート成型用離型フィルムにおいて、被剥離物に対する剥離力と、被剥離物に対する密着性(保持力)とをバランスよく備えることができる。
(離型層の剥離成分)
本発明の離型層の形成に用いる剥離成分は、例えば、アクリル樹脂が含まれる。また、本発明の離型層に含まれるアクリル樹脂は、長鎖アルキル基を有していることが好ましい。アクリル樹脂が含有する長鎖アルキル基を離型層表面に配向させることによって離型性を制御することができる。特に、本発明に係るアクリル樹脂は、例えば、樹脂シートを形成する樹脂組成物に対し、良好な濡れ性を示すことができる。更に、本発明に係るアクリル樹脂は、離型層の上に形成された樹脂シート等の被離型体に対して、前乾燥工程では剥がれず、本乾燥工程後では軽い剥離性を有する離型フィルムを提供できる。
本発明のアクリル樹脂は、更に、メタクリル樹脂、例えば、メタクリル酸メチル(メチルメタクリレート=MMA)のポリマー、またはアクリル酸エステル(アクリレート)とのコポリマーを含んでもよい。また、例えば、アクリル樹脂の分子量は、500を超えることが好ましい。
本発明の離型層の形成に用いる剥離成分は、例えば、アクリル樹脂が含まれる。また、本発明の離型層に含まれるアクリル樹脂は、長鎖アルキル基を有していることが好ましい。アクリル樹脂が含有する長鎖アルキル基を離型層表面に配向させることによって離型性を制御することができる。特に、本発明に係るアクリル樹脂は、例えば、樹脂シートを形成する樹脂組成物に対し、良好な濡れ性を示すことができる。更に、本発明に係るアクリル樹脂は、離型層の上に形成された樹脂シート等の被離型体に対して、前乾燥工程では剥がれず、本乾燥工程後では軽い剥離性を有する離型フィルムを提供できる。
本発明のアクリル樹脂は、更に、メタクリル樹脂、例えば、メタクリル酸メチル(メチルメタクリレート=MMA)のポリマー、またはアクリル酸エステル(アクリレート)とのコポリマーを含んでもよい。また、例えば、アクリル樹脂の分子量は、500を超えることが好ましい。
離型層の剥離成分を0~1.5wt%とすることで、離型フィルム表面の水接触角が小さくなり、濡れ性が向上するため、塗工時にハジキの発生しやすい樹脂でも塗工が容易となり好ましい。また、剥離成分を0~1.5wt%とすることで、離型フィルムの剥離力が適度に大きくなり、離型層の上に形成された樹脂シート等の被離型体に対して、前乾燥工程では剥がれず、本乾燥工程後では軽い剥離性を有する離型フィルムを提供することができる。
例えば、離型層は、メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して、0.05wt%~1.5wt%の割合で含む態様においても、上記効果を奏することができる。
例えば、離型層は、メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して、0.05wt%~1.5wt%の割合で含む態様においても、上記効果を奏することができる。
なお、本発明において、前乾燥工程とは、温度100℃の条件で2分間加熱した後の状態を意味し、本乾燥後工程とは、温度180℃の条件で15分間加熱した後の状態を意味する。また、本発明において、加熱後とは、加熱直後だけでなく、周辺温度以下(例えば、40℃以下)に冷却した状態であってもよい。さらに、本乾燥は、複数段階に分けて行ってもよい。
また、本発明に係る離型層は、実質的にシリコーン成分を含まない。このため、シリコーン成分が被離型体へ転写することを抑制できるので、例えば、被離型体がシリコーンにより汚染されることを防止でき、例えば、被離型体に起因する電子機器の誤作動を回避できる。
例えば、実質的にシリコーン化合物を含まないことにより、本発明の離型フィルムをロール状に巻取った際に、製品へのシリコーンの移行を回避することができ、最終製品への悪影響を減らすことができる。
本明細書において「実質的にシリコーン成分を含まない」とは、離型層を形成する成分中に、意図的にシリコーン成分を添加しないこと意味する。例えば、離型層の製造工程等において、予期せずに存在し得るシリコーン組成等が極僅かに含まれる可能性はある。
例えば、本発明において「シリコーン化合物を実質的に含有しない」とは、ケイ光X線分析でSi元素を定量した場合に50ppm以下であることにより定義され、好ましくは10ppm以下、最も好ましくは検出限界以下となる含有量である。「これは積極的に離型層中にシリコーン成分を添加させなくても、外来異物由来のコンタミ成分や、原料樹脂あるいはフィルムの製造工程におけるラインや装置に付着した汚れが剥離して、離型層中に混入する場合があるためである。検出限界は、測定する装置などによって変動するが、ケイ光X線分析でSi元素を定量した場合、Si元素は0.01ppm以上であってもよい。例えば、0.01ppm以上50ppm以下であってもよい。
また、離型層中に極僅かにシリコーンが含まれる場合は、フィルムの表面と裏面を擦り合わせた際の摩擦係数が小さくなることで、フィルムロールを巻き取った際のエア向け性が向上し、フィルムロールの巻姿が良好となり、フィルムロールの品位外観が損なわれることを防止できる。
例えば、実質的にシリコーン化合物を含まないことにより、本発明の離型フィルムをロール状に巻取った際に、製品へのシリコーンの移行を回避することができ、最終製品への悪影響を減らすことができる。
本明細書において「実質的にシリコーン成分を含まない」とは、離型層を形成する成分中に、意図的にシリコーン成分を添加しないこと意味する。例えば、離型層の製造工程等において、予期せずに存在し得るシリコーン組成等が極僅かに含まれる可能性はある。
例えば、本発明において「シリコーン化合物を実質的に含有しない」とは、ケイ光X線分析でSi元素を定量した場合に50ppm以下であることにより定義され、好ましくは10ppm以下、最も好ましくは検出限界以下となる含有量である。「これは積極的に離型層中にシリコーン成分を添加させなくても、外来異物由来のコンタミ成分や、原料樹脂あるいはフィルムの製造工程におけるラインや装置に付着した汚れが剥離して、離型層中に混入する場合があるためである。検出限界は、測定する装置などによって変動するが、ケイ光X線分析でSi元素を定量した場合、Si元素は0.01ppm以上であってもよい。例えば、0.01ppm以上50ppm以下であってもよい。
また、離型層中に極僅かにシリコーンが含まれる場合は、フィルムの表面と裏面を擦り合わせた際の摩擦係数が小さくなることで、フィルムロールを巻き取った際のエア向け性が向上し、フィルムロールの巻姿が良好となり、フィルムロールの品位外観が損なわれることを防止できる。
(離型層の樹脂成分)
本発明の離型層の形成に用いる樹脂成分Aは、メラミン系樹脂を含む。また、本発明の特性を損なわない範囲で、メラミン系樹脂成分以外の樹脂成分を含むことができる。
メラミン系樹脂成分以外の樹脂成分とは、例えば、ポリイソシアネート樹脂、エポキシ樹脂、アルミニウムキレート、チタンキレート、紫外線硬化型樹脂が挙げられる。少なくともメラミン系樹脂を50質量%以上含み他の樹脂を適宜配合できる。
本発明の離型層の形成に用いる樹脂成分Aは、メラミン系樹脂を含む。また、本発明の特性を損なわない範囲で、メラミン系樹脂成分以外の樹脂成分を含むことができる。
メラミン系樹脂成分以外の樹脂成分とは、例えば、ポリイソシアネート樹脂、エポキシ樹脂、アルミニウムキレート、チタンキレート、紫外線硬化型樹脂が挙げられる。少なくともメラミン系樹脂を50質量%以上含み他の樹脂を適宜配合できる。
離型層がメラミン系樹脂を含むことで硬化膜が剛直で、耐薬品性、耐候性、耐熱性に優れるため好ましい。アルミニウムキレート、チタンキレートでの架橋は、用途によっては金属成分の含有を嫌う場合がある。
また、本発明においては、離型層の樹脂としてメラミン系樹脂を用いることにより、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれることなく保持でき、乾燥後には樹脂シートが変形、破断することなく離型フィルムから剥がすことができる。詳細なメカニズムは解析できていないが、メラミン系樹脂は塗工時の乾燥熱である程度自己反応が進んでいると考えられる。その後、例えば180℃で1時間の加熱条件下において、さらに自己反応が促進し、離型層の硬化収縮が発生し、表面形態が変化することにより水接触角が上昇すると推測される。その結果、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれることなく保持でき、乾燥後には樹脂シートが変形、破断することなく離型フィルムから剥がすことができると推測される。
また、本発明においては、離型層の樹脂としてメラミン系樹脂を用いることにより、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれることなく保持でき、乾燥後には樹脂シートが変形、破断することなく離型フィルムから剥がすことができる。詳細なメカニズムは解析できていないが、メラミン系樹脂は塗工時の乾燥熱である程度自己反応が進んでいると考えられる。その後、例えば180℃で1時間の加熱条件下において、さらに自己反応が促進し、離型層の硬化収縮が発生し、表面形態が変化することにより水接触角が上昇すると推測される。その結果、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれることなく保持でき、乾燥後には樹脂シートが変形、破断することなく離型フィルムから剥がすことができると推測される。
本発明における離型層に用いるメラミン系樹脂としては、一般的なものを使用でき、特に限定されないが、メラミンとホルムアルデヒドを縮合して得られ、1分子中にトリアジン環、及びメチロール基及び/又はアルコキシメチル基をそれぞれ1つ以上有していることが好ましい。具体的には、メラミンとホルムアルデヒドを縮合して得られるメチロールメラミン誘導体に、低級アルコールとしてメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等を脱水縮合反応させてエーテル化した化合物などが好ましい。メチロール化メラミン誘導体としては、例えばモノメチロールメラミン、ジメチロールメラミン、トリメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン、ペンタメチロールメラミン、ヘキサメチロールメラミンを挙げることができる。1種類を用いても2種類以上も用いても構わない。
メラミン樹脂の反応性を高め、より剛直な硬化膜を得るためには、1分子中により多くの反応点をもつメチロール型メチル化メラミンやヘキサアルコキシメチルメラミンを用いることが好ましいが、反応性により優れるヘキサアルコキシメチルメラミンがより好ましく、特にヘキサメトキシメチルメラミンを用いることが好ましい。この時、ヘキサメチロールメラミンとは、下記式(a)中、Xがメチロール基(-CH2-OH)であるものである。ヘキサアルコキシメチルメラミンとは、メチロールメラミン誘導体にアルコールを用いて脱水縮合反応させたものであり、Xが(-CH2-OR、Rは炭素数1~4のアルキル基)であるものである。ヘキサメトキシメチルメラミンとは、Xが(-CH2-OMe)であるものである。
上記(a)中のXはそれぞれ同じであってもよいし、異なっていても良い。また上記Rは、それぞれ同じであっても良く、異なっていても良い。また、Xは(-H)でも良い。
本発明で用いるメラミン樹脂は、単一の化合物ではなく、複数の化合物の混合体であることが好ましい。メラミン系化合物中の主成分となる化合物の構造から、イミノ型(X=-H)、メチロール型(X=-CH2-OH)、フルエーテル型(X=-CH2-OR、Rは炭素数1~4のアルキル基)、イミノ・メチロール型に大別することができる。
メラミン系樹脂は、イミノ型メチル化メラミン樹脂、メチロール型メチル化メラミン樹脂、フルエーテル型メチル化メラミン樹脂、またはイミノ・メチロール型メチル化メラミン樹脂から選択される少なくとも1つを含む。
一態様において、反応性の観点から、フルエーテル型、メチロール型を用いることが好ましく、フルエーテル型がより好ましく、フルエーテル型の中でもRがメチル基であるヘキサメトキシメチルメラミン(CAS番号3089-11-0)を用いることが最も好ましい。このヘキサメトキシメチルメラミンの含有率が高いメラミン系化合物を用いるほど反応性が高く、架橋密度の高い、より剛直な硬化膜を得ることができる。
メラミン系樹脂は、イミノ型メチル化メラミン樹脂、メチロール型メチル化メラミン樹脂、フルエーテル型メチル化メラミン樹脂、またはイミノ・メチロール型メチル化メラミン樹脂から選択される少なくとも1つを含む。
一態様において、反応性の観点から、フルエーテル型、メチロール型を用いることが好ましく、フルエーテル型がより好ましく、フルエーテル型の中でもRがメチル基であるヘキサメトキシメチルメラミン(CAS番号3089-11-0)を用いることが最も好ましい。このヘキサメトキシメチルメラミンの含有率が高いメラミン系化合物を用いるほど反応性が高く、架橋密度の高い、より剛直な硬化膜を得ることができる。
更に、本発明は、剥離力の経時安定性に優れた離型フィルムを提供できる。
本発明の離型フィルムは、剥離成分をメラミン系樹脂に対して0~1.5wt%の割合で含むことで、樹脂シート等の被離型物や、製造装置などに転写する剥離成分を最小限に抑えることができる。
このため、後工程などのように、離型フィルム上に、樹脂シートを形成する樹脂組成物を塗工して巻き取り、樹脂シート付フィルムロールとした場合において、離型層の反対面側(例えば、基材フィルムにおける離型層とは反対側の面)に転写した剥離成分が、さらに樹脂シート表面へと転写することを抑制できる。このため、樹脂シートの表面物性が満たされなくなる問題についても大きく抑制又は回避できる。
例えば、このような効果は、特定の理論に限定して解釈すべきではないが、基材フィルムに含まれるジカルボン酸成分の寄与により、基材フィルムのTgがPETフィルムと比較して高いため、フィルムを高温で加工した場合でもフィルムの平面性が損なわれず、フィルムロールにした際に、フィルムの平面性が損なわれたことによる巻取方向への応力集中を避けることができ、長時間保管した際にも剥離成分の樹脂シートへの転写を抑制できるものと推測される。
また、離型層にメラミン系樹脂を用いることで、架橋密度の高く、剛直な硬化膜を形成できるため、長時間保管した際にも離型層中の未反応の剥離成分が表面へブリードアウトすることを防止できるため、剥離成分の樹脂シートへの転写を抑制できる。
また、離型層に含まれるメラミン系樹脂と基材フィルムとの相互作用も、上記効果の発揮に寄与しているものと推測される。
本発明の離型フィルムは、剥離成分をメラミン系樹脂に対して0~1.5wt%の割合で含むことで、樹脂シート等の被離型物や、製造装置などに転写する剥離成分を最小限に抑えることができる。
このため、後工程などのように、離型フィルム上に、樹脂シートを形成する樹脂組成物を塗工して巻き取り、樹脂シート付フィルムロールとした場合において、離型層の反対面側(例えば、基材フィルムにおける離型層とは反対側の面)に転写した剥離成分が、さらに樹脂シート表面へと転写することを抑制できる。このため、樹脂シートの表面物性が満たされなくなる問題についても大きく抑制又は回避できる。
例えば、このような効果は、特定の理論に限定して解釈すべきではないが、基材フィルムに含まれるジカルボン酸成分の寄与により、基材フィルムのTgがPETフィルムと比較して高いため、フィルムを高温で加工した場合でもフィルムの平面性が損なわれず、フィルムロールにした際に、フィルムの平面性が損なわれたことによる巻取方向への応力集中を避けることができ、長時間保管した際にも剥離成分の樹脂シートへの転写を抑制できるものと推測される。
また、離型層にメラミン系樹脂を用いることで、架橋密度の高く、剛直な硬化膜を形成できるため、長時間保管した際にも離型層中の未反応の剥離成分が表面へブリードアウトすることを防止できるため、剥離成分の樹脂シートへの転写を抑制できる。
また、離型層に含まれるメラミン系樹脂と基材フィルムとの相互作用も、上記効果の発揮に寄与しているものと推測される。
本発明で用いるメラミン樹脂において、重量平均重合度が8.0以下であることが好ましく、6.0以下であることがより好ましく、3.0以下であることが更に好ましく、2.0であることが最も好ましい。詳細なメカニズムは解析できていないが、重量平均重合度が8.0以下であると、メラミン樹脂の自己反応が十分に進み、剛直な硬化膜が得られるため好ましい。更に、本発明においては、重量平均重合度が2.0以下であると、更に剛直な硬化膜が得られるため好ましい。
重量平均重合度が8.0以上である場合は、十分な強度の硬化膜を得ることができず、本メラミン樹脂を用いて離型層を形成し、離型フィルムとした場合、離型フィルム上に樹脂シートを形成する、溶剤を含んだ樹脂組成物を塗工した際に、離型層の一部が樹脂組成物の溶剤へ溶け出し、離型フィルムが本来の性能を発揮できない可能性がある。
例えば、重量平均重合度は1.1以上であってもよく、1.5を超えてもよい。
重量平均重合度が8.0以上である場合は、十分な強度の硬化膜を得ることができず、本メラミン樹脂を用いて離型層を形成し、離型フィルムとした場合、離型フィルム上に樹脂シートを形成する、溶剤を含んだ樹脂組成物を塗工した際に、離型層の一部が樹脂組成物の溶剤へ溶け出し、離型フィルムが本来の性能を発揮できない可能性がある。
例えば、重量平均重合度は1.1以上であってもよく、1.5を超えてもよい。
メラミン系樹脂はその合成過程において、イミノ基(-NH2-)を含有するものや、多核体が混入することがある。これらメラミン誘導体が混合していても、メラミン系樹脂の重量平均重合度が上記範囲内であれば反応性に優れ、それぞれ好適に用いることができる。
本発明において使用するメラミンは市販されているものを用いることもできる。例えば、サイメル300、サイメル301、サイメル303LF、サイメル350、サイメル370N、サイメル771、サイメル325、サイメル327、サイメル703、サイメル712、サイメル701、サイメル266、サイメル267、サイメル285、サイメル232、サイメル235、サイメル236、サイメル238、サイメル272、サイメル212、サイメル253、サイメル254、サイメル202、サイメル207(オルネクスジャパン(株)製)、ニカラックMW-30M、ニカラックMW-30、ニカラックMW-30HM、ニカラックMW-390、ニカラックMW-100LM、ニカラックMA-1-750LM、ニカラックMW-22、ニカラックMS-21、ニカラックMS-11、ニカラックMW-24A-1、ニカラックMS-001、ニカラックMA-1-002、ニカラックMA-1-730,ニカラックMA-1-750、ニカラックMA-1-708、ニカラックMA-1-706、ニカラックMA-1-042、ニカラックMA-1-035、ニカラック、MA-1-45、ニカラックMA-1-43、ニカラックMA-1-417、ニカラックMA-1-410(日本カーバイド(株)製)等が挙げられる。これらの中では、フルエーテル型のメチル化メラミン樹脂が低温・短時間での硬化性、及びポリエステルフィルムへの密着性の点で好ましい。市販品としてはサイメル303LF、ニカラックMW-30等が挙げられる。
本発明における離型層には、メラミン系化合物の架橋反応を促進するために酸触媒を添加することが好ましく、離型層形成用組成物に酸触媒を添加して塗布し、硬化させることが好ましい。用いる酸触媒としては、特に限定されず既存の酸触媒を使用することができるが、スルホン酸系触媒を用いることが好ましい。
スルホン酸系触媒としては、例えば、p-トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、クメンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などを好適に使用することができるが、反応性の観点からp-トルエンスルホン酸が特に好適に使用することができる。
スルホン酸系触媒は、カルボン酸系などの他の酸触媒と比較し酸性度が高く反応性に優れるため、より低温で離型層を加工することができる。そのため、加工時の熱によるフィルムの平面性の低下、巻き外観の悪化を抑制することができるため好ましい。
本発明において、離型層に含まれる酸触媒の質量はメラミン系樹脂に対して0.1~20.0wt%の割合で含む。
一態様において、酸触媒の質量はメラミン系樹脂に対して、0.1wt%以上20.0wt%以下であり、例えば、0.5wt%以上10.0wt%以下であり、1.0wt%以上5.0wt%以下であってもよい。酸触媒の質量を上記範囲内とすることで、離型フィルムの剥離力を目的の範囲内に制御することができる。
酸触媒の質量がメラミン系樹脂に対して0.1wt%以上であると、メラミン系化合物の自己反応が促進され、離型フィルムの硬化が進み、べたつきやフィルムロールのブロッキングを抑制するため好ましい。また、酸触媒の質量がメラミン系樹脂に対して20.0wt%以下であると、硬化後の離型フィルムが適度な密着性を持ち、離型フィルム上に樹脂シートを設けた場合、前乾燥時や搬送工程等の意図せぬタイミングで樹脂シートが剥がれることを防止できるため好ましい。
酸触媒の質量がメラミン系樹脂に対して20.0wt%以上である場合、離型層を形成する樹脂溶液を基材フィルム上へ塗工し、乾燥設備へ入れて乾燥させる際に、触媒が揮発し乾燥設備を汚染する可能性があるため好ましくない。10.0wt%以下であることがより好ましく、さらに好ましくは7.0wt%であり、最も好ましくは3.3wt%以下である。
一態様において、酸触媒の質量はメラミン系樹脂に対して、0.1wt%以上20.0wt%以下であり、例えば、0.5wt%以上10.0wt%以下であり、1.0wt%以上5.0wt%以下であってもよい。酸触媒の質量を上記範囲内とすることで、離型フィルムの剥離力を目的の範囲内に制御することができる。
酸触媒の質量がメラミン系樹脂に対して0.1wt%以上であると、メラミン系化合物の自己反応が促進され、離型フィルムの硬化が進み、べたつきやフィルムロールのブロッキングを抑制するため好ましい。また、酸触媒の質量がメラミン系樹脂に対して20.0wt%以下であると、硬化後の離型フィルムが適度な密着性を持ち、離型フィルム上に樹脂シートを設けた場合、前乾燥時や搬送工程等の意図せぬタイミングで樹脂シートが剥がれることを防止できるため好ましい。
酸触媒の質量がメラミン系樹脂に対して20.0wt%以上である場合、離型層を形成する樹脂溶液を基材フィルム上へ塗工し、乾燥設備へ入れて乾燥させる際に、触媒が揮発し乾燥設備を汚染する可能性があるため好ましくない。10.0wt%以下であることがより好ましく、さらに好ましくは7.0wt%であり、最も好ましくは3.3wt%以下である。
本発明において使用するスルホン酸系触媒は市販されているものを用いることもできる。市販品の例としては、ドライヤー(登録商標)900(p-トルエンスルホン酸、日立化成社製)、NACURE(登録商標) DNNDSAシリーズ(ジノニルナフタレンジスルホン酸、楠本化成社製)、同DNNSAシリーズ(ジノニルナフタレン(モノ)スルホン酸、楠本化成社製)、同DDBSAシリーズ(ドデシルベンゼンスルホン酸、楠本化成(株)製)、同p-TSAシリーズ(p-トルエンスルホン酸、楠本化成(株)製)などが挙げられる。
本発明の離型層には、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、密着向上剤や、帯電防止剤などの添加剤などを添加してもよい。また、基材フィルムとの密着性を向上させるために、離型層を設ける前にポリエステルフィルム表面に、アンカーコート、コロナ処理、プラズマ処理、大気圧プラズマ処理等の前処理をすることも好ましい。
離型層の厚みは、0.01μm以上10μm以下が好ましく、0.05μm以上1μm以下がさらに好ましい。離型層の厚みが0.01μm未満の場合、離型層を均一に成形することが困難であり、剥離力が不安定となるおそれがある。一方、離型層の厚みが10μmを超えると、再生原料の使用比率が低くなり、経済的でないため好ましくない。
離型層の領域表面平均粗さ(Sa)は、1~50nmの範囲にあることが好ましく、より好ましくは2~30nmである。本発明に用いる基材フィルムの離型層を積層する面の最大突起高さ(P)は、2μm以下であることが好ましく、より好ましくは1.5μm以下である。Saが50nm以下であり、Pが2μm以下であれば、被離型層の厚みムラの抑制及び被離型層表面の平滑性を一定に保つことができ、被離型体を離型フィルムから剥離した際に厚みが薄い部分を起点に破ける可能性を抑制できる。
また、本領域表面平均粗さ(Sa)や最大突起高さ(P)は、加熱前後での変化率が20%以内であることが好ましく、より好ましくは10%以内、さらに好ましくは5%以内である。領域表面平均粗さ(Sa)や最大突起高さ(P)の加熱前後での変化率が20%以内であれば、加熱後に離型層と被離型体の接着面積が増大し、アンカー効果により離型層から被離型体を剥離する際に重剥離となる可能性が低く好ましい。
また、本領域表面平均粗さ(Sa)や最大突起高さ(P)は、加熱前後での変化率が20%以内であることが好ましく、より好ましくは10%以内、さらに好ましくは5%以内である。領域表面平均粗さ(Sa)や最大突起高さ(P)の加熱前後での変化率が20%以内であれば、加熱後に離型層と被離型体の接着面積が増大し、アンカー効果により離型層から被離型体を剥離する際に重剥離となる可能性が低く好ましい。
本発明において、離型層の形成方法は、特に限定されず、離型性の樹脂を溶解もしくは分散させた塗液を、基材フィルムのポリエステルフィルムの一方の面に塗布等により展開し、溶媒等を乾燥により除去後、加熱乾燥、熱硬化または紫外線硬化させる方法が用いられる。このとき、溶媒乾燥、熱硬化時の乾燥温度は、180℃以下であることが好ましく、160℃以下であることがより好ましく、140℃以下であることがもっとも好ましい。その加熱時間は、30秒以下が好ましく、20秒以下がより好ましく、10秒以下がさらに好ましい。180℃以下の場合、フィルムの平面性が保たれ、離型層の厚みムラを引き起こすおそれが小さく好ましい。140℃以下であるとフィルムの平面性を損なうことなく加工することができ、離型層の厚みムラを引き起こすおそれが更に低下するので特に好ましい。
本発明において、離型層を形成するための塗液には、特に限定されないが、沸点が70℃以上の溶剤を添加することが好ましい。沸点が70℃以上の溶剤を添加することで、乾燥時の突沸を防ぎ、塗膜をレベリングさせることができ、乾燥後の塗膜表面の平面性を向上させることができる。その添加量としては、塗液全体に対し、50~99質量%程度添加することが好ましい。
上記塗液の塗布法としては、公知の任意の塗布法が適用出来、例えばグラビアコート法やリバースコート法などのロールコート法、ワイヤーバーなどのバーコート法、ダイコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、等の従来から知られている方法が利用できる。
本発明で得られた離型フィルムは、テープ剥離力について以下に示す範囲になることが好ましい。
本発明で得られた離型フィルムは、剥離速度300mm/min.におけるテープ剥離力が5000mN/50mm以上15000mN/50mm以下であってもよく、例えば、7500mN/50mm以上14000mN/50mm以下であってもよく、10000mN/50mm以上13000mN/50mm以下であってもよい。特定の理論に限定して解釈すべきではないが、本発明においては、離型層に含まれる酸触媒の質量をメラミン系樹脂に対して0.1~20.0wt%の範囲内とすることで、上記範囲のテープ剥離力を導くことができる。
上記範囲内であると、例えば、樹脂シートを形成した際に、変形や破れがなく剥離できるため好ましい。テープ剥離力が5000mN/50mm以上であると、例えば樹脂シートの前乾燥工程等の意図せぬタイミングにおいて剥がれる可能性が低く好ましい。また、テープ剥離力が15000mN/50mm以下であると、被離型体を剥離した際に、被離型体が変形する可能性が低く好ましい。
テープ剥離力は、剥離速度300mm/min.におけるテープ剥離力を意味し、本発明に係る離型層上に配置した被離型体、例えば、粘着剤(一例として、アクリル系粘着テープ(日東電工社製、No.31B)等)を剥離する際の剥離力について評価できる。また、テープ剥離力の測定は、常温(25℃)の条件下で行える。
上記範囲内であると、例えば、樹脂シートを形成した際に、変形や破れがなく剥離できるため好ましい。テープ剥離力が5000mN/50mm以上であると、例えば樹脂シートの前乾燥工程等の意図せぬタイミングにおいて剥がれる可能性が低く好ましい。また、テープ剥離力が15000mN/50mm以下であると、被離型体を剥離した際に、被離型体が変形する可能性が低く好ましい。
テープ剥離力は、剥離速度300mm/min.におけるテープ剥離力を意味し、本発明に係る離型層上に配置した被離型体、例えば、粘着剤(一例として、アクリル系粘着テープ(日東電工社製、No.31B)等)を剥離する際の剥離力について評価できる。また、テープ剥離力の測定は、常温(25℃)の条件下で行える。
本発明で得られた離型フィルムは、水接触角について以下に示す範囲になることが好ましい。
本発明で得られた離型フィルムは、離型層表面の水接触角が65°以下が好ましく、例えば、40°以上70°以下であり、50°以上65°以下である。
上記範囲内であると、例えば、樹脂シートを形成した際に、変形や破れがなく剥離できるため好ましい。水接触角が65°以下であると、例えば樹脂シートの前乾燥工程等の意図せぬタイミングにおいて剥がれる可能性が低く好ましい。また、水接触角が40°以上であると、被離型体を剥離した際に、被離型体が変形する可能性が低く好ましい。
なお、上記水接触角は、常温で測定した場合の数値範囲であり、後述の加熱前の離型層表面の水接触角(β)に該当する。
上記範囲内であると、例えば、樹脂シートを形成した際に、変形や破れがなく剥離できるため好ましい。水接触角が65°以下であると、例えば樹脂シートの前乾燥工程等の意図せぬタイミングにおいて剥がれる可能性が低く好ましい。また、水接触角が40°以上であると、被離型体を剥離した際に、被離型体が変形する可能性が低く好ましい。
なお、上記水接触角は、常温で測定した場合の数値範囲であり、後述の加熱前の離型層表面の水接触角(β)に該当する。
本発明で得られた離型フィルムは、180℃、1時間加熱後の離型層表面の水接触角(α)と加熱前の離型層表面の水接触角(β)が以下の式(1)を満たすことが好ましい。
α>β 式(1)
α>β 式(1)
本発明において、加熱後の離型層表面の水接触角(α)は、離型フィルムを180℃で1時間加熱後に測定した水接触角を意味する。
本発明においては、基材フィルム上に離型層を形成する際の乾燥温度を本明細書に記載の条件で行うことで、水接触角に関する式(1)を満たすことができる。また、本発明の離型層は、基材フィルムの上に離型層を形成した状態で離型フィルムとして使用できるが、本発明の特徴として、例えば、本発明における離型フィルムを工程紙として用いて、樹脂シートを形成する際に熱処理を施す過程において、離型フィルムの硬化を促進し、離型層の表面形態などを制御できることを本願発明者らは見出した。
本発明者らは、離型フィルムの製造後と、樹脂シートの形成工程において離型層の剥離性を変化させることができ、その指標として水接触角に関する式(1)の関係を見出した。
また、上記式(1)の関係を有することにより、常温では、離型フィルム上に樹脂シート形成組成物や、フィルム状の樹脂シート前駆体を離型層に密着でき、加熱と共に製造途中の樹脂シートの密着性を保持し、最終的に被離型体が変形することを抑制しながら、良好に被離型体を剥離できる。
このように、熱処理中に離型フィルム中の硬化がさらに進行し、離型層の硬化収縮が発生し、表面形態が変化することにより水接触角が上昇する。結果、離型フィルムと樹脂シートの間にわずかな空隙ができ、被離型体を剥離した際に、被離型体が変形する可能性が低くなる。
また、加熱により単に水接触角が上昇するのではなく、水接触角に関する式(1)を満たす必要があり、本発明は、このような関係を有することができる。
樹脂シートの熱処理温度とは、例えば、180℃で1時間であってもよい。
本発明においては、基材フィルム上に離型層を形成する際の乾燥温度を本明細書に記載の条件で行うことで、水接触角に関する式(1)を満たすことができる。また、本発明の離型層は、基材フィルムの上に離型層を形成した状態で離型フィルムとして使用できるが、本発明の特徴として、例えば、本発明における離型フィルムを工程紙として用いて、樹脂シートを形成する際に熱処理を施す過程において、離型フィルムの硬化を促進し、離型層の表面形態などを制御できることを本願発明者らは見出した。
本発明者らは、離型フィルムの製造後と、樹脂シートの形成工程において離型層の剥離性を変化させることができ、その指標として水接触角に関する式(1)の関係を見出した。
また、上記式(1)の関係を有することにより、常温では、離型フィルム上に樹脂シート形成組成物や、フィルム状の樹脂シート前駆体を離型層に密着でき、加熱と共に製造途中の樹脂シートの密着性を保持し、最終的に被離型体が変形することを抑制しながら、良好に被離型体を剥離できる。
このように、熱処理中に離型フィルム中の硬化がさらに進行し、離型層の硬化収縮が発生し、表面形態が変化することにより水接触角が上昇する。結果、離型フィルムと樹脂シートの間にわずかな空隙ができ、被離型体を剥離した際に、被離型体が変形する可能性が低くなる。
また、加熱により単に水接触角が上昇するのではなく、水接触角に関する式(1)を満たす必要があり、本発明は、このような関係を有することができる。
樹脂シートの熱処理温度とは、例えば、180℃で1時間であってもよい。
一態様において、180℃、1時間加熱後の離型層表面の水接触角(α)と、加熱前の離型フィルムの水接触角(β)との差|(α)-(β)|は、1.1以上であり、例えば1.7以上である。
上限は、例えば、7.0以下であってもよく、4.0以下であってもよい。
詳細なメカニズムは探求できていないが、このような条件を有することで、熱処理中に離型フィルム中の硬化がさらに進行し、離型層の硬化収縮が発生し、表面形態が変化することにより水接触角が上昇する。結果、離型フィルムと樹脂シートの間にわずかな空隙ができ、被離型体を剥離した際に、被離型体が変形する可能性が低くなる。また、ナノスケールでの表面形態が大きく変化することもないと推測され、特に、セラミックコンデンサー等の電子部品の製造用離型フィルム、エポキシ系樹脂を含む樹脂シート成型用の離型フィルム、全固体電池形成用の離型フィルム、ウレタン構造を有する樹脂シート成型用離型フィルムにおいて、本発明が有する効果をより発揮できる。
更に、被離型体を破損することなく剥離が可能となる。
上限は、例えば、7.0以下であってもよく、4.0以下であってもよい。
詳細なメカニズムは探求できていないが、このような条件を有することで、熱処理中に離型フィルム中の硬化がさらに進行し、離型層の硬化収縮が発生し、表面形態が変化することにより水接触角が上昇する。結果、離型フィルムと樹脂シートの間にわずかな空隙ができ、被離型体を剥離した際に、被離型体が変形する可能性が低くなる。また、ナノスケールでの表面形態が大きく変化することもないと推測され、特に、セラミックコンデンサー等の電子部品の製造用離型フィルム、エポキシ系樹脂を含む樹脂シート成型用の離型フィルム、全固体電池形成用の離型フィルム、ウレタン構造を有する樹脂シート成型用離型フィルムにおいて、本発明が有する効果をより発揮できる。
更に、被離型体を破損することなく剥離が可能となる。
本発明で得られた離型フィルムは、離型層のマルテンス硬さ(HMT115)が200N/mm2以上1500N/mm2以下であることが好ましく、300N/mm2以上1250N/mm2以下であることがさらに好ましく、350N/mm2以上1000N/mm2以下であることが最も好ましい。
離型層のマルテンス硬さ(HMT115)を上記の範囲とすることで、離型フィルムを樹脂シート等の工程紙として利用した場合、被離型体を剥離した際の被離型体の変形を防ぐことが可能な離型フィルムを提供できる。
離型層のマルテンス硬さ(HMT115)が200N/mm2以上であることで、離型フィルムから被離型体を剥離した際に、離型層が被離型体に追随して変形しないため、被離型体の一部に過度な応力がかからず、均一な力で剥離することができ、被離型体の変形を防ぐことができる。
離型層のマルテンス硬さ(HMT115)を上記の範囲とすることで、離型フィルムを樹脂シート等の工程紙として利用した場合、被離型体を剥離した際の被離型体の変形を防ぐことが可能な離型フィルムを提供できる。
離型層のマルテンス硬さ(HMT115)が200N/mm2以上であることで、離型フィルムから被離型体を剥離した際に、離型層が被離型体に追随して変形しないため、被離型体の一部に過度な応力がかからず、均一な力で剥離することができ、被離型体の変形を防ぐことができる。
本発明で得られた離型フィルムは、基材フィルムと離型層のそれぞれのマルテンス硬さを前述の範囲とし、組合せることによって、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれず、本乾燥後に樹脂シートが変形、破断することなく離型フィルムから剥がすことができる。更に、このような関係を有するため、離型フィルムが薄い場合でも熱処理工程において離型フィルムが変形せず、樹脂シートにも変形や破れが発生しない離型フィルムを得ることができる。
本発明で得られた離型フィルムは、前乾燥工程条件での樹脂シート剥離力測定を行った際に、樹脂シートが離型フィルムから剥がれないことが好ましい。樹脂シートが離型フィルムから剥がれない場合、例えば、樹脂シートを形成した際に、前乾燥工程等の意図せぬタイミングにおいて剥がれる可能性が低く好ましい。
本発明で得られた離型フィルムは、本乾燥後工程条件での樹脂シート剥離力測定を行った際に、剥離力が1000mN/50mm以下であることが好ましく、500mN/50mm以下であることがさらに好ましく、300mN/50mm以下であることが最も好ましい。また、5mN/50mm以上、10mN/50mm以上であってもよい。
上記範囲内であると、本乾燥後工程等の加熱後において、被離型体を剥離した際に、被離型体が変形する可能性が低く好ましい。
上記範囲内であると、本乾燥後工程等の加熱後において、被離型体を剥離した際に、被離型体が変形する可能性が低く好ましい。
なお、本発明において、前乾燥工程とは、温度100℃の条件で2分間加熱した後の状態を意味し、本乾燥後工程とは、温度180℃の条件で15分間加熱した後の状態を意味する。また、本発明において、加熱後とは、加熱直後だけでなく、周辺温度以下(例えば、40℃以下)に冷却した状態であってもよい。
樹脂シート剥離力は、剥離速度300mm/min.における樹脂シート剥離力を意味し、本発明に係る離型層上に配置した被離型体、例えば、樹脂シート(一例として、エポキシ樹脂等を硬化させて形成した樹脂シート)を剥離する際の剥離力について評価できる。また、テープ剥離力の測定は、常温(25℃)の条件下で行える。
樹脂シート剥離力は、剥離速度300mm/min.における樹脂シート剥離力を意味し、本発明に係る離型層上に配置した被離型体、例えば、樹脂シート(一例として、エポキシ樹脂等を硬化させて形成した樹脂シート)を剥離する際の剥離力について評価できる。また、テープ剥離力の測定は、常温(25℃)の条件下で行える。
本発明においては、離型フィルムの少なくとも片面に、樹脂シートを設けることにより、積層フィルム(樹脂シート付き離型フィルム)を得ることができる。積層フィルムは、例えば、本発明の離型フィルムの少なくとも片面側の表面に樹脂成物塗布し、必要に応じて、乾燥させ、基材フィルムの少なくとも片面側に樹脂シートを形成することにより得られる。例えば、離型層における基材フィルムとは反対側の面に、樹脂シートを有することもできる。
本発明は、電池用構成部材、粘着剤層保護(OCA(Optical Clear Adhesive)用保護、粘着テープ用保護など)、医療分野の経皮吸収型貼付薬用セパレータ、回路基板等の半導体関連部品の製造工程に用いる工程紙、セラミックコンデンサー等の電子部品の製造工程に用いる工程紙、画像表示用部材の保護等、その他の用途にも適用できる。効果についても同様の効果が期待される。
一態様において、本発明の離型フィルムは、離型層が含む成分の特性により、セラミックコンデンサー等の電子部品の製造用離型フィルム、エポキシ系樹脂を含む樹脂シート成型用の離型フィルム、全固体電池形成用の離型フィルム、ウレタン構造を有する樹脂シート成型用離型フィルムにおいて、本発明が有する効果をより発揮できる。
以下に、実施例を用いて本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。本発明で用いた特性値は下記の方法を用いて評価した。
<評価>
(テープ剥離力)
離型フィルム表面に粘着テープ(日東電工(株)社製の「31B」)を貼り合わせ、線圧5kgf/mmの圧着ローラーで圧着後、温度22℃、湿度60%の条件下で20時間放置した。粘着テープを貼り合わせた離型フィルムを幅25mm、長さ150mmの短冊状に裁断した。粘着テープの一端を固定し、離型フィルムの一端を担持し、離型フィルム側を300mm/min.の速度で引っ張り、T字剥離強度を測定した。測定には、引っ張り試験機((株)島津製作所製の「AUTOGRAPHAG-A-1」)を用いた。
(テープ剥離力)
離型フィルム表面に粘着テープ(日東電工(株)社製の「31B」)を貼り合わせ、線圧5kgf/mmの圧着ローラーで圧着後、温度22℃、湿度60%の条件下で20時間放置した。粘着テープを貼り合わせた離型フィルムを幅25mm、長さ150mmの短冊状に裁断した。粘着テープの一端を固定し、離型フィルムの一端を担持し、離型フィルム側を300mm/min.の速度で引っ張り、T字剥離強度を測定した。測定には、引っ張り試験機((株)島津製作所製の「AUTOGRAPHAG-A-1」)を用いた。
(水接触角)
接触角計(協和界面科学社製の「全自動接触角計DM-701」)を用いて、22℃、60%RHの条件下で、離型層表面に接する水の接触角を測定した。
接触角計(協和界面科学社製の「全自動接触角計DM-701」)を用いて、22℃、60%RHの条件下で、離型層表面に接する水の接触角を測定した。
(加熱後の水接触角)
接触角計(協和界面科学社製の「全自動接触角計DM-701」)を用いて、180℃に設定したオーブン内に入れ、1時間経過後、オーブンから取り出し、室温になるまで静置した離型フィルムを、22℃、60%RHの条件下で、離型層表面に接する水の接触角を測定した。
接触角計(協和界面科学社製の「全自動接触角計DM-701」)を用いて、180℃に設定したオーブン内に入れ、1時間経過後、オーブンから取り出し、室温になるまで静置した離型フィルムを、22℃、60%RHの条件下で、離型層表面に接する水の接触角を測定した。
(基材フィルムのマルテンス硬さ)
基材フィルムを0.5mm×0.5mmのサイズにカットし、粘着テープを用いてガラス上に固定し、ダイナミック超微小硬度計(DUH-211S、島津製作所社製)を用いて、負荷-除荷試験を行った。この測定から、下記式を用いてマルテンス硬さ(HMT115)を求めた(n=10の平均値)。
HMT115 = F/(26.43×h2)(N/mm2)
(F:負荷(N)、h:押し込み深さ(mm))
(測定条件)
使用圧子:ダイヤモンド製正三角錐圧子(稜間角度:115゜)
測定モード:負荷-除荷試験
試験力: 500 mN
最小試験力: 1.96 mN
負荷速度: 7.0mN/sec
負荷保持時間: 5sec
除荷保持時間: 5sec
測定雰囲気:25±1℃、65±5%RH
測定n数:10
基材フィルムを0.5mm×0.5mmのサイズにカットし、粘着テープを用いてガラス上に固定し、ダイナミック超微小硬度計(DUH-211S、島津製作所社製)を用いて、負荷-除荷試験を行った。この測定から、下記式を用いてマルテンス硬さ(HMT115)を求めた(n=10の平均値)。
HMT115 = F/(26.43×h2)(N/mm2)
(F:負荷(N)、h:押し込み深さ(mm))
(測定条件)
使用圧子:ダイヤモンド製正三角錐圧子(稜間角度:115゜)
測定モード:負荷-除荷試験
試験力: 500 mN
最小試験力: 1.96 mN
負荷速度: 7.0mN/sec
負荷保持時間: 5sec
除荷保持時間: 5sec
測定雰囲気:25±1℃、65±5%RH
測定n数:10
(離型層のマルテンス硬さ)
試料とする樹脂、架橋剤混合組成物を固形分濃度が20質量%となるように、トルエン50質量%とMEK50質量%の混合溶媒(25℃)で調整した。スライドガラスの表面に、塗工液を、ワイヤーバーを用いて、塗布層厚みが3.0μmとなるスライドガラスサンプルを調整した。スライドガラスサンプルを温度130℃に設定した熱風循環オーブン中に5分間静置し、取り出すことで熱処理を行った。
得られたサンプルの表面について、ダイナミック超微小硬度計(DUH-211S、島津製作所社製)を用いて、負荷-除荷試験を行った。この測定から、下記式を用いてマルテンス硬さ(HMT115)を求めた(n=10の平均値)。
HMT115 = F/(26.43×h2)(N/mm2)
(F:負荷(N)、h:押し込み深さ(mm))
(測定条件)
使用圧子:ダイヤモンド製正三角錐圧子(稜間角度:115゜)
測定モード:押し込み深さ設定負荷-除荷試験
最小試験力: 0.002 mN
負荷速度: 0.0150mN/sec
負荷保持時間: 3sec
除荷保持時間: 3sec
押し込み深さ:0.1μm
測定雰囲気:25±1℃、65±5%RH
測定n数:10
試料とする樹脂、架橋剤混合組成物を固形分濃度が20質量%となるように、トルエン50質量%とMEK50質量%の混合溶媒(25℃)で調整した。スライドガラスの表面に、塗工液を、ワイヤーバーを用いて、塗布層厚みが3.0μmとなるスライドガラスサンプルを調整した。スライドガラスサンプルを温度130℃に設定した熱風循環オーブン中に5分間静置し、取り出すことで熱処理を行った。
得られたサンプルの表面について、ダイナミック超微小硬度計(DUH-211S、島津製作所社製)を用いて、負荷-除荷試験を行った。この測定から、下記式を用いてマルテンス硬さ(HMT115)を求めた(n=10の平均値)。
HMT115 = F/(26.43×h2)(N/mm2)
(F:負荷(N)、h:押し込み深さ(mm))
(測定条件)
使用圧子:ダイヤモンド製正三角錐圧子(稜間角度:115゜)
測定モード:押し込み深さ設定負荷-除荷試験
最小試験力: 0.002 mN
負荷速度: 0.0150mN/sec
負荷保持時間: 3sec
除荷保持時間: 3sec
押し込み深さ:0.1μm
測定雰囲気:25±1℃、65±5%RH
測定n数:10
(前乾燥工程条件での樹脂シート剥離力:PF1)
樹脂としてエポキシ樹脂(三菱ケミカル株式会社製、jER828)、架橋剤としてフェノール樹脂(DIC株式会社製、フェノールノボラック、TD-2090-60M、固形分60%MEK溶液)1:2の割合で混合し、さらにMEKを加え、固形分濃度を60.0質量%とし、樹脂塗工液を得た。
得られた樹脂塗工液を離型フィルム表面に、アプリケーターを用いて塗布した後、100℃、2分間の条件にて乾燥を行い、厚さ50.0μmの樹脂シート付き離型フィルムを形成した。
得られた樹脂付き離型フィルムの樹脂面に粘着テープ(日東電工(株)社製の「31B」)を貼り合わせ、粘着テープを貼り合わせた樹脂シート付き離型フィルムを幅25mm、長さ150mmの短冊状に裁断した。粘着テープの一端を固定し、樹脂シート付き離型フィルムの一端を担持し、樹脂シート付き離型フィルム側を300mm/min.の速度で引っ張り、T字剥離強度を測定した。測定には、引っ張り試験機((株)島津製作所製の「AUTOGRAPHAG-A-1」)を用いた。
樹脂としてエポキシ樹脂(三菱ケミカル株式会社製、jER828)、架橋剤としてフェノール樹脂(DIC株式会社製、フェノールノボラック、TD-2090-60M、固形分60%MEK溶液)1:2の割合で混合し、さらにMEKを加え、固形分濃度を60.0質量%とし、樹脂塗工液を得た。
得られた樹脂塗工液を離型フィルム表面に、アプリケーターを用いて塗布した後、100℃、2分間の条件にて乾燥を行い、厚さ50.0μmの樹脂シート付き離型フィルムを形成した。
得られた樹脂付き離型フィルムの樹脂面に粘着テープ(日東電工(株)社製の「31B」)を貼り合わせ、粘着テープを貼り合わせた樹脂シート付き離型フィルムを幅25mm、長さ150mmの短冊状に裁断した。粘着テープの一端を固定し、樹脂シート付き離型フィルムの一端を担持し、樹脂シート付き離型フィルム側を300mm/min.の速度で引っ張り、T字剥離強度を測定した。測定には、引っ張り試験機((株)島津製作所製の「AUTOGRAPHAG-A-1」)を用いた。
(本乾燥後工程条件での樹脂シート剥離力:PF2)
乾燥条件を温度180℃、15分間加熱に変更した以外は、(前乾燥工程での樹脂剥離力)と同様に測定を実施した。
乾燥条件を温度180℃、15分間加熱に変更した以外は、(前乾燥工程での樹脂剥離力)と同様に測定を実施した。
(フィルム平面性)
離型フィルムの幅方向中央部から切り出した幅1m×長さ10mのフィルムサンプルを、フィルムサンプルの幅方向と、細長い3波長蛍光灯の軸方向とが平行になるように3波長蛍光灯の下に置いたうえで、フィルムサンプルへの3波長蛍光灯の映り込みを目視で検査した。フィルムサンプルに映り込んだ3波長蛍光灯の像は、フィルムサンプルを180℃で15分加熱後に熱しわがある場合、乱れが発生するもしくは断続的になる。3波長蛍光灯の像が、ほぼ一直線であった場合を〇と判定した。また、この像が僅かに乱れていた、および/または断続的であった場合を△と判定した。
離型フィルムの幅方向中央部から切り出した幅1m×長さ10mのフィルムサンプルを、フィルムサンプルの幅方向と、細長い3波長蛍光灯の軸方向とが平行になるように3波長蛍光灯の下に置いたうえで、フィルムサンプルへの3波長蛍光灯の映り込みを目視で検査した。フィルムサンプルに映り込んだ3波長蛍光灯の像は、フィルムサンプルを180℃で15分加熱後に熱しわがある場合、乱れが発生するもしくは断続的になる。3波長蛍光灯の像が、ほぼ一直線であった場合を〇と判定した。また、この像が僅かに乱れていた、および/または断続的であった場合を△と判定した。
(ガラス転移点)
ポリマーのガラス転移点(補外開始温度)は、DSC(セイコーインスツルメンツ社製のEXSTAR6000)を用いて、試料量10mg、昇温速度20℃/minで測定した。
ポリマーのガラス転移点(補外開始温度)は、DSC(セイコーインスツルメンツ社製のEXSTAR6000)を用いて、試料量10mg、昇温速度20℃/minで測定した。
(実施例1)
表1に記載の配合量で樹脂成分(A)としてメラミン樹脂(日本カーバイド株式会社製、フルエーテル型メチル化メラミン樹脂、ニカラックMW-30)、硬化触媒としてパラトルエンスルホン酸(日立化成ポリマー株式会社製、ドライヤー#900)を加え、さらに溶剤(トルエン/MEK=50/50:質量比)を加え、固形分濃度を12.0質量%とし、離型層塗工液を得た。
基材フィルムとしてはポリエチレンナフタレートフィルム(東洋紡社製、Q5100、厚さ:25μm、表面粗さ(Sa):0.006μm、ヘイズ:12.6%)を使用した。
表1に記載の配合量で樹脂成分(A)としてメラミン樹脂(日本カーバイド株式会社製、フルエーテル型メチル化メラミン樹脂、ニカラックMW-30)、硬化触媒としてパラトルエンスルホン酸(日立化成ポリマー株式会社製、ドライヤー#900)を加え、さらに溶剤(トルエン/MEK=50/50:質量比)を加え、固形分濃度を12.0質量%とし、離型層塗工液を得た。
基材フィルムとしてはポリエチレンナフタレートフィルム(東洋紡社製、Q5100、厚さ:25μm、表面粗さ(Sa):0.006μm、ヘイズ:12.6%)を使用した。
(離型層の形成)
得られた離型層塗工液を、基材フィルムへグラビアコーターを用いて塗布した後、130℃、30秒の条件にて乾燥を行い、厚さ0.3μmの離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。各種組成、評価結果などを表1、表2に示す。
得られた離型層塗工液を、基材フィルムへグラビアコーターを用いて塗布した後、130℃、30秒の条件にて乾燥を行い、厚さ0.3μmの離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。各種組成、評価結果などを表1、表2に示す。
(メラミン系樹脂の重量平均重合度)
分析条件
試料16mgを秤量し、クロロホルム8mlに溶解させた。0.2μmのメンブランフィルターで濾過し、得られた試料溶液のGPC分析を以下の条件で実施した。
装置:TOSOH HLC-8320GPC
カラム:K-G+ K-802(排除限界分子量5×103)+ K-801(排除限界分子量1.5×103)(Shodex)、
溶媒:クロロホルム100%
流速:1.0ml/min
濃度:0.2%
注入量:50μL
温度:40℃
検出器:RI
分析条件
試料16mgを秤量し、クロロホルム8mlに溶解させた。0.2μmのメンブランフィルターで濾過し、得られた試料溶液のGPC分析を以下の条件で実施した。
装置:TOSOH HLC-8320GPC
カラム:K-G+ K-802(排除限界分子量5×103)+ K-801(排除限界分子量1.5×103)(Shodex)、
溶媒:クロロホルム100%
流速:1.0ml/min
濃度:0.2%
注入量:50μL
温度:40℃
検出器:RI
重量平均分子量をポリスチレン換算で算出し、その値を基に重量平均重合度を算出した。ポリスチレンは、PStQuickシリーズのPStQuick C(TOSOH)を使用した。PStQuick C(TOSOH)に添加されているポリスチレンのうち、カラムの排除限界分子量を大きく超えているポリスチレンMw2110000、427000、37900については、検量線作成から外した。
(実施例2~4)
組成を表1のものに変更した以外は、実施例1と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
組成を表1のものに変更した以外は、実施例1と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
(実施例5)
樹脂成分(A)をメラミン樹脂(日本カーバイド株式会社製、メチロール型メチル化メラミン樹脂、ニカラックMS-11)に変更した以外は、実施例3と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
樹脂成分(A)をメラミン樹脂(日本カーバイド株式会社製、メチロール型メチル化メラミン樹脂、ニカラックMS-11)に変更した以外は、実施例3と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
(実施例6)
樹脂成分(A)をメラミン樹脂(日本カーバイド株式会社製、イミノ型メチル化メラミン樹脂、ニカラックMW-24X)に変更した以外は、実施例5と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
樹脂成分(A)をメラミン樹脂(日本カーバイド株式会社製、イミノ型メチル化メラミン樹脂、ニカラックMW-24X)に変更した以外は、実施例5と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
(実施例7)
樹脂成分(A)をメラミン樹脂(日本カーバイド株式会社製、イミノ・メチロール型メチル化メラミン樹脂、ニカラックMS-001)に変更した以外は、実施例6と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
樹脂成分(A)をメラミン樹脂(日本カーバイド株式会社製、イミノ・メチロール型メチル化メラミン樹脂、ニカラックMS-001)に変更した以外は、実施例6と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
(実施例8)
樹脂成分(A)をメラミン樹脂(日本カーバイド株式会社製、イミノ・メチロール型メチル化メラミン樹脂、ニカラックMX-750)に変更した以外は、実施例7と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
樹脂成分(A)をメラミン樹脂(日本カーバイド株式会社製、イミノ・メチロール型メチル化メラミン樹脂、ニカラックMX-750)に変更した以外は、実施例7と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
(比較例1)
(アクリル樹脂(B)および離型層塗工液の準備)
ステアリルアクリレート(CH2=C(H)COOC18H37)、ヒドロキシエチルアクリレート(CH2=C(H)COOC2H4OH)を90:10の割合で混合し、固形分濃度が40質量%になるようにトルエンを加え、窒素気流下、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.5モル%加えて共重合させ、アクリル樹脂(B)を得た。
表1に記載の配合量で樹脂成分(A)としてメラミン樹脂(日本カーバイド株式会社製、フルエーテル型メチル化メラミン樹脂、ニカラックMW-30)、剥離成分としてアクリル樹脂B、硬化触媒としてパラトルエンスルホン酸(日立化成ポリマー株式会社製、ドライヤー#900)を加え、さらに溶剤(トルエン/MEK=50/50:質量比)を加え、固形分濃度を12.0質量%とし、離型層塗工液を得た。
離型層塗工液を上記のとおり変更した以外は、実施例1と同様の手順で離型層を形成し、得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
(アクリル樹脂(B)および離型層塗工液の準備)
ステアリルアクリレート(CH2=C(H)COOC18H37)、ヒドロキシエチルアクリレート(CH2=C(H)COOC2H4OH)を90:10の割合で混合し、固形分濃度が40質量%になるようにトルエンを加え、窒素気流下、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.5モル%加えて共重合させ、アクリル樹脂(B)を得た。
表1に記載の配合量で樹脂成分(A)としてメラミン樹脂(日本カーバイド株式会社製、フルエーテル型メチル化メラミン樹脂、ニカラックMW-30)、剥離成分としてアクリル樹脂B、硬化触媒としてパラトルエンスルホン酸(日立化成ポリマー株式会社製、ドライヤー#900)を加え、さらに溶剤(トルエン/MEK=50/50:質量比)を加え、固形分濃度を12.0質量%とし、離型層塗工液を得た。
離型層塗工液を上記のとおり変更した以外は、実施例1と同様の手順で離型層を形成し、得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
(比較例2)
樹脂成分(A)をブロックイソシアネート(Baxenden社製)、その他成分(バインダー成分)としてMD1200(東洋紡社製)、さらに溶剤(水/IPA=5/3:質量比)を加え、固形分濃度を4.0質量%とし、離型層塗工液を得た。
基材フィルムとしてはポリエチレンナフタレートフィルム(東洋紡社製、Q5100、厚さ:25μm、表面粗さ(Sa):0.006μm、ヘイズ:12.6%)を使用した。
得られた離型層塗工液を、基材フィルムへグラビアコーターを用いて塗布した後、150℃、30秒の条件にて乾燥を行い、厚さ0.3μmの離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
樹脂成分(A)をブロックイソシアネート(Baxenden社製)、その他成分(バインダー成分)としてMD1200(東洋紡社製)、さらに溶剤(水/IPA=5/3:質量比)を加え、固形分濃度を4.0質量%とし、離型層塗工液を得た。
基材フィルムとしてはポリエチレンナフタレートフィルム(東洋紡社製、Q5100、厚さ:25μm、表面粗さ(Sa):0.006μm、ヘイズ:12.6%)を使用した。
得られた離型層塗工液を、基材フィルムへグラビアコーターを用いて塗布した後、150℃、30秒の条件にて乾燥を行い、厚さ0.3μmの離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
(参考例1)
基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡社製、E5100、厚さ:38μm、表面粗さ(Sa):0.0365μm(コロナ処理面)、表面最大断面高さ(St):3.72、ヘイズ:3.7%)を使用して、コロナ処理面に離型層塗工液を塗布した以外は、実施例3と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡社製、E5100、厚さ:38μm、表面粗さ(Sa):0.0365μm(コロナ処理面)、表面最大断面高さ(St):3.72、ヘイズ:3.7%)を使用して、コロナ処理面に離型層塗工液を塗布した以外は、実施例3と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
(参考例2、3)
組成を表1のものに変更した以外は、実施例1と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
組成を表1のものに変更した以外は、実施例1と同様の手順で離型層を形成した。得られた離型フィルムについて、上記の各評価を行った。
<評価結果>
本発明によれば、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれず、乾燥後に樹脂シートが変形、破断することなく離型フィルムから剥がすことができる離型フィルムを提供する。
更に、離型フィルムに熱、圧力が加わる場合、本発明の離型フィルムであれば、離型フィルムが薄い場合でも変形すること、シワ等が入ることを抑制できる。
一方、比較例1では、メラミン系樹脂とは異なる剥離成分の含有量が、本発明の範囲外であるため、
テープ剥離力が大きく低下し、前乾燥条件において樹脂シートが剥がれてしまった。
比較例2では、樹脂成分としてメラミン樹脂を含まず、イソシアネートを使用したため、テープを張り付けた後、剥離することができなかった。同様に、樹脂シートにおいても剥離不可であった。
参考例1は、基材フィルムがナフタレンジカルボン酸を含まないPETを使用しているため、本発明と対比すると、フィルムの平面性が若干損なわれていることを確認した。
参考例2では、触媒量が少なすぎるため、離型層が十分に硬化しておらず本来の性能を発現しなかった。
参考例3では、事前検証により、実施例4相当の物性を発現することが分かっていたが、触媒量が多いことで、乾燥設備の汚染の可能性もあったため、途中で検証を中止した。
本発明によれば、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれず、乾燥後に樹脂シートが変形、破断することなく離型フィルムから剥がすことができる離型フィルムを提供する。
更に、離型フィルムに熱、圧力が加わる場合、本発明の離型フィルムであれば、離型フィルムが薄い場合でも変形すること、シワ等が入ることを抑制できる。
一方、比較例1では、メラミン系樹脂とは異なる剥離成分の含有量が、本発明の範囲外であるため、
テープ剥離力が大きく低下し、前乾燥条件において樹脂シートが剥がれてしまった。
比較例2では、樹脂成分としてメラミン樹脂を含まず、イソシアネートを使用したため、テープを張り付けた後、剥離することができなかった。同様に、樹脂シートにおいても剥離不可であった。
参考例1は、基材フィルムがナフタレンジカルボン酸を含まないPETを使用しているため、本発明と対比すると、フィルムの平面性が若干損なわれていることを確認した。
参考例2では、触媒量が少なすぎるため、離型層が十分に硬化しておらず本来の性能を発現しなかった。
参考例3では、事前検証により、実施例4相当の物性を発現することが分かっていたが、触媒量が多いことで、乾燥設備の汚染の可能性もあったため、途中で検証を中止した。
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した実施の形態ではなく請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
本発明は、前乾燥時には樹脂シートが離型フィルムから剥がれず、乾燥後に樹脂シートが変形、破断することなく離型フィルムから剥がすことができ、かつ、離型フィルムが薄い場合でも熱工程において離型フィルムが変形せず、樹脂シートにも変形や破れが発生しない離型フィルムを提供する。
Claims (7)
- 基材フィルムと離型層とを有する離型フィルムであって、
前記離型層はメラミン系樹脂を含み、
前記メラミン系樹脂は、イミノ型メチル化メラミン樹脂、メチロール型メチル化メラミン樹脂、フルエーテル型メチル化メラミン樹脂、またはイミノ・メチロール型メチル化メラミン樹脂から選択される少なくとも1つを含み、
前記離型層は、前記メラミン系樹脂とは異なる剥離成分をメラミン系樹脂に対して0~1.5wt%の割合で含み、
前記離型層は実質的にシリコーン成分を含まず、
前記基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移点が100℃以上である、
離型フィルム。 - 前記メラミン系樹脂の重量平均重合度が8.0以下である請求項1記載の離型フィルム。
- 前記離型フィルムの水接触角が65°以下である請求項1に記載の離型フィルム。
- 剥離速度300mm/min.におけるテープ剥離力が5000mN/50mm以上15000mN/50mm以下である請求項1に記載の離型フィルム。
- 前記離型フィルムに用いる基材フィルムのマルテンス硬さが150N/mm2以上である、請求項1または2に記載の離型フィルム。
- 180℃、1時間加熱後の離型層表面の水接触角(α)と加熱前の離型層表面の水接触角(β)が以下の式(1)を満たす請求項1に記載の離型フィルム。
式(1) α>β - 前記基材フィルムが、ポリエステル樹脂を含有する組成物から硬化されてなるフィルムであり、
前記ポリエステル樹脂が、ジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸を含む、請求項1に記載の離型フィルム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024-053558 | 2024-03-28 | ||
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2025205263A1 true WO2025205263A1 (ja) | 2025-10-02 |
Family
ID=97217212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2025/010532 Pending WO2025205263A1 (ja) | 2024-03-28 | 2025-03-18 | 離型フィルム |
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| Country | Link |
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| WO (1) | WO2025205263A1 (ja) |
Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| WO2010140688A1 (ja) * | 2009-06-05 | 2010-12-09 | 旭硝子株式会社 | 積層膜付き基板およびその製造方法 |
| JP2014151448A (ja) * | 2013-02-05 | 2014-08-25 | Daicel Corp | 離型フィルム及び繊維強化プラスチックの製造方法 |
| KR20200111999A (ko) * | 2019-03-20 | 2020-10-05 | 도레이첨단소재 주식회사 | 캐리어용 이형필름 및 이의 제조방법 |
-
2025
- 2025-03-18 WO PCT/JP2025/010532 patent/WO2025205263A1/ja active Pending
- 2025-03-26 TW TW114111374A patent/TW202547609A/zh unknown
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2014151448A (ja) * | 2013-02-05 | 2014-08-25 | Daicel Corp | 離型フィルム及び繊維強化プラスチックの製造方法 |
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