WO2025150540A1 - 光学積層体、並びに、前記光学積層体を用いた反射防止性物品、パネル及び画像表示装置 - Google Patents

光学積層体、並びに、前記光学積層体を用いた反射防止性物品、パネル及び画像表示装置

Info

Publication number
WO2025150540A1
WO2025150540A1 PCT/JP2025/000539 JP2025000539W WO2025150540A1 WO 2025150540 A1 WO2025150540 A1 WO 2025150540A1 JP 2025000539 W JP2025000539 W JP 2025000539W WO 2025150540 A1 WO2025150540 A1 WO 2025150540A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
refractive index
optical laminate
index layer
sample
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
PCT/JP2025/000539
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
正人 手塚
慧 渡辺
咲乃 安藤
恵実子 加藤
陽介 大脇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to CN202580008960.9A priority Critical patent/CN122514716A/zh
Publication of WO2025150540A1 publication Critical patent/WO2025150540A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/022—Mechanical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors

Definitions

  • This disclosure relates to an optical laminate, as well as an anti-reflective article, panel, and image display device that uses the optical laminate.
  • Anti-reflection films may be provided on the surfaces of image display devices such as liquid crystal display devices, organic EL display devices, and micro LED display devices to improve visibility. Anti-reflection films may also be provided on the surfaces of items such as showcases.
  • Patent Document 1 As an anti-reflection film, an optical laminate having an anti-reflection layer such as a low refractive index layer on a substrate has been proposed (Patent Document 1, etc.).
  • the objective of the present disclosure is to provide an optical laminate that can provide good anti-reflection properties even when applied to components with non-flat shapes.
  • the objective of the present disclosure is to provide an anti-reflection article, panel, and image display device that uses the optical laminate.
  • the present disclosure provides the following (1) to (4).
  • ⁇ Condition 1> A first sample having a size of 20 mm on the short side and 100 mm on the long side is cut out from the optical laminate. The first sample is set in a tensile tester with a chuck distance of 50 mm. When the first sample is pulled in the long side direction under conditions of 130° C. and a tensile speed of 50 mm/min, the elongation of the first sample at the upper yield point is 6.5% or more.
  • a second sample having a size of 20 mm short side x 100 mm long side is cut out from the optical laminate. After marking the second sample with 50 mm intervals, preheat it at 130 ° C for 2 minutes. The second sample after preheating is quickly set in a tensile tester. The chuck distance of the tensile tester is adjusted to the distance between the marks after preheating. The second sample is pulled in the long side direction under conditions of 130 ° C and a pulling speed of 50 mm / min, and the pulling is stopped when the chuck distance reaches 60 mm. The second sample is removed from the tensile tester and left at 23 ° C for 120 minutes, and the thickness of the low refractive index layer after elongation of the second sample is measured.
  • the average thickness of the low refractive index layer after elongation is designated as t2.
  • the ratio of the thickness of the low refractive index layer after stretching to the thickness of the low refractive index layer before stretching, calculated from the following formula, is 80% or more and 99% or less.
  • Ratio (%) of the thickness of the low refractive index layer after stretching to the thickness of the low refractive index layer before stretching (t2/t1) x 100 (2)
  • An anti-reflective article comprising a member and the optical laminate according to (1) disposed on the member, the optical laminate being disposed so that the surface of the optical laminate on the low refractive index layer side faces away from the member.
  • the optical laminate of the present disclosure can provide good anti-reflection properties even when applied to components with non-flat shapes.
  • the anti-reflection articles, panels, and image display devices of the present disclosure can provide good anti-reflection properties even when the shapes of these components are non-flat.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of an optical laminate of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of one embodiment of a panel of the present disclosure.
  • FIG. 13 is a plan view for explaining second and third samples used under conditions 2 and 3.
  • the average thickness of the low refractive index layer of the optical laminate before stretching is defined as t1.
  • a second sample having a size of 20 mm short side x 100 mm long side is cut out from the optical laminate. After marking the second sample with 50 mm intervals, it is preheated at 130 ° C for 2 minutes. The second sample after preheating is quickly set in a tensile tester. The chuck distance of the tensile tester is adjusted to the distance between the marks after preheating. The second sample is pulled in the long side direction under conditions of 130 ° C and a pulling speed of 50 mm / min, and the pulling is stopped when the chuck distance reaches 60 mm.
  • the hard coat layer has a large effect on the upper yield point of the optical laminate.
  • the low refractive index layer and the high refractive index layer have little effect on the upper yield point because they are thin.
  • the crosslink density of the hard coat layer is reduced or the thickness of the hard coat layer is reduced, the elongation at the upper yield point tends to increase.
  • the crosslink density of the hard coat layer is reduced or the thickness of the hard coat layer is reduced, the surface hardness of the hard coat layer decreases, and the surface hardness of the optical laminate also tends to decrease. If the surface hardness of the optical laminate decreases, the scratch resistance of the optical laminate tends to decrease.
  • the elongation at the upper yield point is preferably 17.0% or less, more preferably 15.0% or less, and even more preferably 12.0% or less.
  • a thickness change rate of less than 80% means that the low refractive index layer becomes too thin after the optical laminate is applied to a member with a non-flat shape. Therefore, in condition 2, if the thickness change rate is less than 80%, it is not possible to achieve good anti-reflection properties when applied to a member with a non-flat shape.
  • the average thickness t3 of the high refractive index layer before the optical laminate is stretched, and the average thickness t5 of the hard coat layer before the optical laminate is stretched are calculated by replacing the "low refractive index layer” in (a2) above with “high refractive index layer” or "hard coat layer.”
  • the cut sample is cut vertically to prepare a slice sample in which the cross section of the optical laminate is exposed.
  • the cut sample is cut with a microtome using a glass knife and a diamond knife.
  • When cutting a cut sample with a microchromate first roughly cut it with a glass knife to create a surface of about 100um length x 20um width including the cross section of the coated surface (rough trimming). Finally, cut this surface with a diamond knife, and the slice floated on the water is collected with a mesh.
  • B2 A second sample measuring 20 mm on the short side and 100 mm on the long side is cut out from the optical laminate.
  • B3 Mark the second sample with marks spaced 50 mm apart, then preheat at 130°C for 2 minutes. After preheating, the second sample is quickly set in the tensile tester. The chuck distance of the tensile tester is adjusted to the distance between the marks after preheating is completed.
  • the temperature when marking the second sample with intervals of 50 mm is 23°C.
  • the second sample is marked with marks at intervals of 50 mm, and then preheated at 130° C. for 2 minutes. Preheating at the same temperature as in step B4 can prevent the sample from elongating due to residual heat after step B4. Therefore, it is possible to reduce the variation in thickness of the low refractive index layer due to elongation due to residual heat after step 4.
  • heat-resistant tape is wrapped around both ends of the long side of the preheated second sample for two turns (FIG. 3). The heat-resistant tape is wrapped around the outside of the marked lines.
  • the portion indicated by the reference symbol 201 is the portion where the heat-resistant tape is wrapped.
  • the reference symbol L corresponds to the distance between the marked lines after preheating.
  • the second sample is heated to 130°C.
  • the second sample can be heated, for example, by a heating system provided in the tensile tester. It is preferable to heat the second sample quickly.
  • B5 The second sample is pulled in the long side direction at 130° C. and a pulling speed of 50 mm/min, and pulling is stopped when the chuck distance reaches 60 mm.
  • the tensile tester is set to operating conditions such that the tension is stopped when the chuck distance reaches 60 mm and the chuck does not return to the origin position.
  • the second sample is removed from the tensile tester and left at 23°C for 120 minutes, after which the thickness of the low refractive index layer of the second sample after stretching is measured.
  • the average thickness of the low refractive index layer after stretching is designated as t2.
  • the average thickness t2 of the low refractive index layer after stretching the optical laminate is measured by the following procedures (b1) and (b2).
  • (b1) A sample for film thickness measurement in which the cross section of the optical laminate is exposed is prepared from the second sample that has been left at 23° C. for 120 minutes. The sample is preferably taken from within the area “S” in FIG. (b2)
  • the cross section of the sample is imaged at two locations using an STEM. From each of the two images, the thicknesses of the low refractive index layer after stretching are extracted at five locations, for a total of 10 thicknesses. The thicknesses at the 10 locations are averaged to calculate the average thickness t2 of the low refractive index layer after stretching.
  • the sample in which the cross section of the optical laminate (b1) is exposed can be prepared, for example, by the same procedure as X1 to X2 above.
  • Ratio (%) of the thickness of the low refractive index layer after stretching to the thickness of the low refractive index layer before stretching (t2/t1) x 100
  • the resin substrate preferably has good light transmittance, is easily stretchable, and has excellent moldability.
  • the resin constituting the resin substrate is not particularly limited, but in order to easily satisfy condition 1, a resin selected from the group consisting of carbonate resin, (meth)acrylic resin, olefin resin, and ABS resin is preferred. That is, the resin substrate is preferably a carbonate resin substrate, a (meth)acrylic resin substrate, an olefin resin substrate, or an ABS resin substrate.
  • the (meth)acrylic resin substrate is more preferred because it is easy to improve adhesion with the hard coat layer.
  • the resin substrate may contain additives such as rubber particles to improve moldability.
  • "(meth)acrylic” is a general term for "acrylic” and "methacrylic".
  • the ionizing radiation refers to electromagnetic waves or charged particle beams that have an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules.
  • ultraviolet rays (UV) or electron beams (EB) are used, but other types of radiation, such as electromagnetic waves such as X-rays and gamma rays, and charged particle beams such as alpha rays and ion beams, can also be used.
  • the (meth)acrylate compound may be a monomer or an oligomer.
  • the monomer (1) above plays a role in increasing the hardness of the hard coat layer. However, if the amount of the monomer (1) above is too large, it may be difficult to satisfy conditions 1 and 2, or the load at the upper yield point measured under condition 1 may become too large. If the amount of the monomer (1) above is too small, the hardness of the hard coat layer may decrease, or the elongation under condition 1 may become too large.
  • the oligomer (2) above plays a role in making it easier to satisfy conditions 1 and 2 while maintaining the hardness of the hard coat layer. If only the monomer (1) above is used as the (meth)acrylate-based compound, it is difficult to make it easier to satisfy conditions 1 and 2 while maintaining the hardness of the hard coat layer.
  • the mass proportion of the (meth)acrylate monomer (1) having an average functionality of 3 or more is preferably 1 mass % or more and 45 mass % or less, and more preferably 10 mass % or more and 35 mass % or less.
  • the mass proportion of the (meth)acrylate oligomer (2) having an average functionality of 3 or more is preferably 20 mass% or more and 85 mass% or less, and more preferably 35 mass% or more and 60 mass% or less.
  • the mass proportion of the (3) (meth)acrylate monomer having an average functionality of 1 or 2 is preferably 10 mass% or more and 50 mass% or less, and more preferably 20 mass% or more and 40 mass% or less.
  • R1 ⁇ t5 is preferably 60 or more and 310 or less, and more preferably 70 or more and 180 or less.
  • R2 ⁇ t5 is preferably 150 or more and 800 or less, and more preferably 180 or more and 500 or less.
  • R3 ⁇ t5 is preferably 75 or more and 350 or less, and more preferably 130 or more and 232 or less.
  • trifunctional or higher (meth)acrylate monomers examples include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, and isocyanuric acid-modified tri(meth)acrylate.
  • the (meth)acrylate monomer may have a part of its molecular skeleton modified with, for example, ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, isocyanuric acid, an alkyl group, a cyclic alkyl group, an aromatic group, or a bisphenol.
  • the average number of functional groups of the (meth)acrylate oligomer in (2) above is preferably 3 or more and 8 or less, more preferably 3 or more and 6 or less. By making the average number of functional groups 3 or more, it is easier to improve scratch resistance. By making the average number of functional groups 8 or less, it is easier to satisfy conditions 1 and 2 while maintaining the hardness of the hard coat layer.
  • the weight average molecular weight of the (meth)acrylate oligomer (2) is preferably 500 or more and 3,000 or less, more preferably 600 or more and 2,000 or less, and even more preferably 700 or more and 1,200 or less.
  • the number average molecular weight and the weight average molecular weight are average molecular weights measured by GPC analysis and converted into standard polystyrene.
  • the (meth)acrylate monomer having one or two functional groups in (3) above may be a (meth)acrylate monomer having one functional group, a (meth)acrylate monomer having two functional groups, or a combination of both.
  • bifunctional (meth)acrylate monomer examples include ethylene glycol di(meth)acrylate, bisphenol A tetraethoxydiacrylate, bisphenol A tetrapropoxydiacrylate, and 1,6-hexanediol diacrylate.
  • Examples of the monofunctional (meth)acrylate include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, and isobornyl (meth)acrylate.
  • the hard coat layer can be formed, for example, by applying a coating solution for the hard coat layer, which contains a material for forming the hard coat layer and a solvent, onto a resin substrate, drying the coating solution, and then irradiating the coating with ionizing radiation as necessary.
  • a coating solution for the hard coat layer which contains a material for forming the hard coat layer and a solvent
  • the optical laminate of the present disclosure is required to have a low refractive index layer.
  • the low refractive index layer is preferably located on the surface of the hard coat layer opposite to the resin substrate.
  • the material of the outer shell layer of the hollow particles may be either an inorganic compound such as silica or magnesium fluoride, or an organic compound, but silica is preferred from the viewpoint of low refractive index and strength.
  • the low refractive index layer preferably contains hollow silica particles as the hollow particles.
  • the number of hollow particles can be increased by reducing the average particle diameter of the hollow particles.
  • the hard coat layer is less likely to shrink in areas where large particles such as hollow particles exist. Therefore, by making the average particle diameter of the hollow particles 90.0 nm or less, the shrinkage of the hard coat layer can be suppressed, and condition 2 can be more easily satisfied.
  • the reasons for excluding the bottom 10% of hollow particles in terms of particle size are as follows (1) and (2).
  • Hollow particles whose particle diameter is measured to be small may be cut at a point away from the center of the hollow particle.
  • steps D1 to D3 above if the particles to be extracted are changed to "all solid particles in the low refractive index layer contained in one captured image," the average particle diameter of the solid particles can be calculated. Also, in steps D1 to D3 above, if the particles to be extracted are changed to "all high refractive index particles in the high refractive index layer contained in one captured image," the average particle diameter of the high refractive index particles can be calculated.
  • the surfaces of the hollow particles are preferably coated with a silane coupling agent to prevent aggregation.
  • the silane coupling agent preferably has a (meth)acryloyl group or an epoxy group, and more preferably has a methacryloyl group.
  • the hollow particles may contain two or more types of hollow particles. For example, they may contain hollow particles with different shell layer materials or hollow particles with different particle diameters.
  • the low refractive index layer preferably contains solid particles in addition to hollow particles. By containing solid particles in addition to hollow particles, the scratch resistance of the low refractive index layer can be easily improved.
  • the material of the solid particles is preferably an inorganic compound such as silica or magnesium fluoride, and more preferably silica.
  • the content of the solid particles is preferably 10 parts by mass or more, and more preferably 20 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the binder resin.
  • the content of the solid particles is preferably 100 parts by mass or less, and more preferably 50 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the binder resin.
  • the lower limit of the thickness of the low refractive index layer is preferably 80 nm or more, more preferably 85 nm or more, and more preferably 90 nm or more, and the upper limit is preferably 150 nm or less, more preferably 110 nm or less, and more preferably 105 nm or less.
  • the thickness of the low refractive index layer refers to the above-mentioned "average thickness t1 of the low refractive index layer before stretching the optical laminate.”
  • the ratio D/t1 which is the thickness t1 of the low refractive index layer and the average particle diameter D of the hollow particles, is preferably 0.55 or more and 1.00 or less, more preferably 0.65 or more and 0.95 or less, and even more preferably 0.70 or more and 0.80 or less.
  • D/t1 0.55 or more
  • the refractive index of the low refractive index layer can be easily reduced.
  • D/t1 it is easy to suppress the occurrence of uneven thickness of the low refractive index layer when the optical laminate is applied to a member having a non-flat shape.
  • the lower limit of the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.10 or more, more preferably 1.20 or more, more preferably 1.26 or more, more preferably 1.28 or more, and more preferably 1.30 or more, and the upper limit is preferably 1.48 or less, more preferably 1.45 or less, more preferably 1.40 or less, more preferably 1.38 or less, and more preferably 1.35 or less.
  • the refractive indexes of the low refractive index layer and the high refractive index layer refer to values at a wavelength of 589.3 nm.
  • the low refractive index layer may further contain additives such as antistatic agents, antioxidants, surfactants, dispersants, light stabilizers, and ultraviolet absorbers.
  • the low refractive index layer can be formed by applying a coating liquid for the low refractive index layer, which contains the components constituting the low refractive index layer and a solvent, drying it, and curing it by irradiating it with ionizing radiation as necessary.
  • the binder resin of the high refractive index layer preferably contains a cured product of a curable resin composition.
  • the ratio of the cured product of the curable resin composition to the total binder resin of the high refractive index layer is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and most preferably 100% by mass.
  • the curable resin composition of the high refractive index layer includes a heat curable resin composition or an ionizing radiation curable resin composition, and the ionizing radiation curable resin composition is preferred.
  • the curable resin composition such as a heat curable resin composition or an ionizing radiation curable resin composition may be the same as those exemplified for the hard coat layer.
  • the ionizing radiation curable compound used in the high refractive index layer preferably includes a (meth)acrylate-based compound having 3 or more (meth)acryloyl groups.
  • the lower limit of the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.53 or more, more preferably 1.54 or more, more preferably 1.55 or more, and more preferably 1.56 or more, and the upper limit is preferably 1.85 or less, more preferably 1.80 or less, more preferably 1.78 or less, and more preferably 1.77 or less.
  • the upper limit of the thickness of the high refractive index layer is preferably 200 nm or less, more preferably 185 nm or less, and even more preferably 175 nm or less, and the lower limit is preferably 50 nm or more, more preferably 70 nm or more, and even more preferably 80 nm or more.
  • the thickness of the high refractive index layer refers to the above-mentioned "average thickness t3 of the high refractive index layer before stretching the optical laminate.”
  • the surface of the optical laminate preferably has a pencil hardness of H or more, more preferably 2H or more.
  • the surface means the surface of the optical laminate on the side having the low refractive index layer with respect to the hard coat layer.
  • the pencil hardness is measured in accordance with JIS K5600-5-4:1999 under conditions of a load of 500 g and a speed of 1.4 mm/sec.
  • the pencil hardness test was performed five times on the pencil hardness measurement sample, and the hardness when no appearance abnormality such as scratches was observed four or more times was taken as the pencil hardness value of each sample. For example, if five tests were performed using a 2H pencil and no appearance abnormality occurred four times, the pencil hardness of the sample was 2H. The appearance abnormality was checked for scratches and dents, not including discoloration.
  • the optical laminate preferably has a haze according to JIS K7136:2000 of 1.0% or less, more preferably 0.8% or less, and even more preferably 0.7% or less. By keeping the haze at 1.0% or less, it becomes easier to improve the image resolution. There is no particular lower limit for the haze, but it is usually 0.1% or more.
  • the optical laminate preferably has an internal haze of 0.4% or less, more preferably 0.3% or less. By making the internal haze 0.4% or less, it is possible to easily improve the resolution of images.
  • the internal haze can be measured by a general-purpose method, for example, by the following method. (1) A sample is prepared in which the surface irregularities of the optical laminate are smoothed by, for example, attaching a transparent sheet via a transparent adhesive layer to the surface of the optical laminate having a low refractive index layer. (2) The haze of the sample is measured in accordance with JIS K7136: 2000. The measured value is regarded as the internal haze of the optical laminate.
  • the optical laminate may be in the form of a sheet cut to a predetermined size, or in the form of a roll obtained by winding a long sheet into a roll.
  • the size of the sheet is not particularly limited, but the maximum diameter is about 2 inches to 500 inches.
  • the "maximum diameter” means the maximum length when any two points on the optical laminate are connected.
  • the optical laminate is rectangular, the diagonal line of the rectangle is the maximum diameter.
  • the optical laminate is circular, the diameter of the circle is the maximum diameter.
  • the width and length of the roll are not particularly limited, but generally, the width is about 500 mm to 3000 mm, and the length is about 500 m to 5000 m.
  • the optical laminate in the form of a roll can be cut into sheets according to the size of an image display device or the like. When cutting, it is preferable to exclude the ends of the roll, which have unstable physical properties.
  • the shape of the sheet is not particularly limited, and may be, for example, a polygon such as a triangle, a rectangle, or a pentagon, a circle, or a random, indefinite shape. More specifically, when the optical laminate is rectangular, the aspect ratio is not particularly limited as long as it does not cause any problems as a display screen. For example, horizontal: vertical ratios of 1:1, 4:3, 16:10, 16:9, 2:1, etc. may be mentioned.
  • Examples of means for laminating the member and the optical laminate via an adhesive layer include the following (1) and (2).
  • the above TOM molding (2) has, for example, the following steps (v1) to (v5).
  • TOM molding is described in JP 2021-178410 A and the like.
  • (v1) A process of placing a member previously formed into a product shape in a lower vacuum chamber of a TOM molding machine having an upper vacuum chamber and a lower vacuum chamber.
  • (v2) A step of disposing the optical laminate of the present disclosure between the upper vacuum chamber and the lower vacuum chamber so that the surface of the optical laminate facing the resin substrate faces downward. It is preferable that an adhesive layer is formed in advance on the surface of the optical laminate facing the resin substrate.
  • (v3) A step of evacuating the upper vacuum chamber and the lower vacuum chamber.
  • the panel 120 of the present disclosure has a display element 110 and an optical film arranged on the light emission surface side of the display element 110, and includes the optical laminate 100 of the present disclosure described above as the optical film, and is arranged so that the surface of the optical laminate 100 on the side of the low refractive index layer 40 faces the opposite side to the display element 110 (see Figure 2).
  • Examples of the display element include a liquid crystal display element, an EL display element such as an organic EL display element or an inorganic EL display element, a plasma display element, etc., and further includes an LED display element such as a micro LED display element. These display elements may have a touch panel function inside the display element.
  • Examples of the liquid crystal display mode of the liquid crystal display element include the IPS mode, VA mode, multi-domain mode, OCB mode, STN mode, and TSTN mode.
  • the panel of the present disclosure may be a panel with a touch panel.
  • the optical laminate may be used as a component that constitutes the touch panel.
  • the maximum diameter is approximately 2 inches to 500 inches.
  • the maximum diameter refers to the maximum length when connecting any two points on the surface of the panel.
  • the image display device of the present disclosure includes the panel of the present disclosure described above.
  • the image display device further includes a drive control unit electrically connected to the panel, and a housing that houses the panel, the drive control unit, and the like.
  • the display element is a liquid crystal display element
  • the image display device of the present disclosure requires a backlight, which is disposed on the side opposite to the light exit surface of the liquid crystal display element.
  • the size of the image display device is not particularly limited, but the maximum diameter of the effective display area is about 2 inches to 500 inches.
  • the effective display area of an image display device is an area in which an image can be displayed. For example, when the image display device has a housing that surrounds a display element, the effective display area is the area inside the housing.
  • the maximum diameter of the effective display area is the maximum length between any two points in the effective display area. For example, if the effective display area is rectangular, the maximum diameter is the diagonal of the rectangle. If the effective display area is circular, the maximum diameter is the diameter of the circle.
  • the present disclosure includes the following (1) to (15).
  • ⁇ Condition 1> A first sample having a size of 20 mm on the short side and 100 mm on the long side is cut out from the optical laminate. The first sample is set in a tensile tester with a chuck distance of 50 mm. When the first sample is pulled in the long side direction under conditions of 130° C. and a tensile speed of 50 mm/min, the elongation of the first sample at the upper yield point is 6.5% or more.
  • the average thickness of the low refractive index layer after elongation is designated as t2.
  • the ratio of the thickness of the low refractive index layer after stretching to the thickness of the low refractive index layer before stretching, calculated from the following formula, is 80% or more and 99% or less.
  • Ratio (%) of the thickness of the low refractive index layer after stretching to the thickness of the low refractive index layer before stretching (t2/t1) x 100
  • the average thickness of the high refractive index layer of the optical laminate before stretching is defined as t3.
  • a third sample having a size of 20 mm on the short side and 100 mm on the long side is cut out from the optical laminate.
  • the third sample is marked with marks at intervals of 50 mm, and then preheated at 130° C. for 2 minutes.
  • the third sample after preheating is quickly set in a tensile tester.
  • the distance between the chucks of the tensile tester is adjusted to the distance between the marks after preheating.
  • the third sample is pulled in the long side direction under conditions of 130° C. and a pulling speed of 50 mm/min, and pulling is stopped when the distance between the chucks reaches 60 mm.
  • the third sample is removed from the tensile tester and left at 23° C.
  • the optical laminate according to (3) in which an absolute value of the difference between the thickness ratio under condition 2 and the thickness ratio under condition 3 is 3% or less.
  • the STEM used to measure the thicknesses t1 to t4 was "S-4800" manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation.
  • the imaging conditions were as follows. ⁇ Imaging conditions> Mode: TE Acceleration voltage: 30 kV Emission current: 10uA WD (Working Distance): 8.0mm Magnification: 100,000 times in high magnification mode.
  • the following materials and devices were used for the black plate, optically transparent adhesive sheet, microtome and mesh used to prepare a sample with an exposed cross section of the optical laminate.
  • the measurement device used was a spectral reflectance measuring device (Shimadzu Corporation, product name: UV-2450).
  • the measurement device measures the reflectance in the wavelength range of 380 nm to 780 nm at 0.5 nm intervals, and then performs conversion using software that converts the reflectance into the brightness perceived by the human eye.
  • the software is built into the measurement device. The software calculates the reflectance under the conditions that the light source is D65 and the viewing angle is 2 degrees.
  • the optical laminate molded into a concave lens shape was stretched to a flat state, and the adhesive layer side of the laminate in which the adhesive layer and the black plate were adhered to the resin substrate side of the optical laminate was attached to prepare a sample.
  • the adhesive layer was an optically transparent adhesive sheet (Panac Corporation, product name: Panaclean PD-S1).
  • the black plate was a black plate manufactured by Kuraray Co., Ltd.
  • the difference between the initial reflectance and the reflectance after molding is shown in Tables 1 and 2. A difference of 0.04% or less is an acceptable level.
  • the initial reflectance means the reflectance before molding.
  • ((reflectance after molding-initial reflectance)/initial reflectance) x 100 (unit: "%)" is shown in Tables 1 and 2. A ratio of 35.0% or less is an acceptable level.
  • condition A When the initial reflectance (%) of the sample is defined as Y21 and the reflectance (%) of the sample after molding is defined as Y22, it is preferable to satisfy the following condition A or condition B, and it is more preferable to satisfy conditions A and B.
  • condition A is preferably 0.02% or less, and more preferably 0.01% or less.
  • the ratio of condition B is preferably 10.0% or less, more preferably 5.0% or less, and even more preferably 1.0% or less.
  • the reflectance in the above measurement means the luminous reflectance Y value measured by irradiating light onto the sample from a direction of 5 degrees, with the direction perpendicular to the surface of the low refractive index layer side of the sample being taken as 0 degrees, and measuring the specularly reflected light of the incident light.
  • the optical laminates of the examples and comparative examples were cut into samples of 5 cm x 10 cm in size.
  • the pencil hardness of the surface of the low refractive index layer of each sample was measured in accordance with JIS K5600-5-4:1999 under conditions of a load of 500 g and a speed of 1.4 mm/sec.
  • a pencil hardness tester (product number: NP-type pencil scratch coating hardness tester) manufactured by Toyo Seiki Seisakusho was used for the measurement. Both ends of the cut sample were attached to the base of the pencil hardness tester using mending tape (3M, product number "810-3-18"). Five pencil hardness tests were performed, and the hardness when no appearance abnormality such as scratches was observed four or more times was taken as the pencil hardness value of each sample.
  • Total light transmittance (Tt), haze, internal haze The optical laminates of the examples and comparative examples were cut to 10 cm x 10 cm to prepare samples for measurement. Using a haze meter (HM-150, manufactured by Murakami Color Research Laboratory), the total light transmittance of each sample according to JIS K7361-1:1997 and the haze according to JIS K7136:2000 were measured under the following conditions.
  • a TAC film manufactured by Fujifilm Corporation, TD80UL
  • TD80UL a TAC film having a thickness of 80 ⁇ m
  • a transparent adhesive manufactured by Panac Corporation, PD-S1, thickness 25 ⁇ m
  • the haze of the sample according to JIS K7136:2000 was measured, and the obtained value was taken as the internal haze.
  • a coating liquid for a high refractive index layer of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the zirconium oxide particles having an average particle diameter of 20 nm were changed to zirconium oxide particles having an average particle diameter of 40 nm.
  • Coating solution for low refractive index layer of Example 1 The following materials were mixed and stirred to obtain a coating solution for a low refractive index layer of Example 1.
  • Hexafunctional acrylate monomer 100 parts by mass (solid content equivalent) (D.P.H.A.)
  • Hollow silica particles 130 parts by mass (average particle size: 75 nm; hollow silica particles surface-treated with a silane coupling agent having a methacryloyl group)
  • Solid silica particles 10 parts by weight (average particle size: 12 nm)
  • Coating Solutions for Low Refractive Index Layer in Examples 2 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the average particle diameter of the hollow silica particles was set to the average particle diameters shown in Tables 1 and 2 (the average particle diameter of the hollow silica in Example 4 was 60 nm, and the average particle diameter of the hollow silica in Example 9, Comparative Examples 1 and 3 was 100 nm).
  • the coating solutions for low refractive index layers of Examples 8 and 10 contained 100 parts by mass of hollow silica particles having an average particle diameter of 75 nm and 30 parts by mass of hollow silica particles having an average particle diameter of 100 nm.
  • the coating solution was irradiated with ultraviolet light at an integrated light amount of 100 mJ/cm 2 to form a high refractive index layer having a dry thickness of 155 nm.
  • the coating liquid for the low refractive index layer of Example 1 was applied onto the high refractive index layer, and then the solvent was evaporated by drying at 40° C. for 60 seconds.
  • a low refractive index layer having a dry thickness of 106 nm was formed by irradiating ultraviolet light with an integrated light amount of 200 mJ/cm 2 in a nitrogen atmosphere, and the optical laminate of Example 1 was obtained.
  • Examples 2 to 10 [Comparative Examples 1 and 3]
  • the coating liquid for the hard coat layer, the coating liquid for the high refractive index layer, and the coating liquid for the low refractive index layer were changed to the coating liquids for Examples 2 to 10 and Comparative Examples 1 and 3, respectively, and further, the thicknesses of the hard coat layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer were changed to the values in Tables 1 and 2. Except for this, the optical laminates of Examples 2 to 10 and Comparative Examples 1 and 3 were obtained in the same manner as in Example 1.
  • Resin substrate 20 Hard coat layer 30: High refractive index layer 40: Low refractive index layer 100: Optical laminate 110: Display element 120: Panel

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

非平坦形状の部材に適用した際にも、反射防止性を良好にできる光学積層体を提供する。樹脂基材上に、ハードコート層及び低屈折率層をこの順に有し、条件１及び２を満たす光学積層体。条件１：前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第１のサンプルを切り出す。前記第１のサンプルを、チャック間距離を５０ｍｍとして引張試験機にセットする。前記第１のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で、長辺方向に引っ張った際の、前記第１のサンプルの上降伏点における伸度が６．５％以上である。条件２：前記光学積層体を伸長する前の低屈折率層の厚みの平均をｔ１とする。所定の条件で測定した伸長後の低屈折率層の厚みの平均をｔ２とする。下記式から算出される、伸長前の低屈折率層の厚みｔ１に対する伸長後の低屈折率層の厚みｔ２の比率が８０％以上９９％以下である。

Description

光学積層体、並びに、前記光学積層体を用いた反射防止性物品、パネル及び画像表示装置
　本開示は、光学積層体、並びに、前記光学積層体を用いた反射防止性物品、パネル及び画像表示装置に関する。
　液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、マイクロＬＥＤ表示装置等の画像表示装置の表面には、視認性を良好にするために、反射防止フィルムを設ける場合がある。また、ショーケース等の物品の表面にも、反射防止フィルムを設ける場合がある。
　反射防止フィルムとしては、基材上に低屈折率層等の反射防止層を有する光学積層体が提案されている（特許文献１等）。
特開２０２２－１５０９０６号公報
　これまでの画像表示装置は平坦な形状が多かった。このため、反射防止層を有する光学積層体は、平坦な形状に適用した際に反射防止性を良好にできれば問題はなかった。
　しかし、近年、曲面を備えた表示装置、立体形状を備えた表示装置等の非平坦形状の表示装置が開発されている。このような非平坦形状の表示装置、非平坦形状のショーケース等の非平坦形状の部材に対して、特許文献１のような従前の反射防止層を有する光学積層体を適用した場合、反射率が理論値よりも高くなってしまうケースが頻発した。
　本開示は、非平坦形状の部材に適用した際にも、反射防止性を良好にできる光学積層体を提供すること課題とする。また、本開示は、前記光学積層体を用いた反射防止性物品、パネル及び画像表示装置を提供することを課題とする。
　本開示は、以下の（１）～（４）を提供する。
（１）　樹脂基材上に、ハードコート層及び低屈折率層をこの順に有する光学積層体であって、下記条件１及び２を満たす、光学積層体。
＜条件１＞
　前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第１のサンプルを切り出す。前記第１のサンプルを、チャック間距離を５０ｍｍとして引張試験機にセットする。前記第１のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で、長辺方向に引っ張った際の、前記第１のサンプルの上降伏点における伸度が６．５％以上である。
＜条件２＞
　前記光学積層体を伸長する前の低屈折率層の厚みの平均をｔ１とする。
　前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第２のサンプルを切り出す。前記第２のサンプルに間隔５０ｍｍの標線を付けた後、１３０℃で２分間予備加熱する。予備加熱が終了した第２のサンプルを速やかに引張試験機にセットする。引張試験機のチャック間距離は、予備加熱が終了した後の標線間の距離に合わせる。前記第２のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で長辺方向に引っ張り、チャック間距離が６０ｍｍに到達した時点で引っ張りを停止する。前記第２のサンプルを前記引張試験機から取り外し、２３℃で１２０分放置した後、前記第２のサンプルの伸長後の低屈折率層の厚みを測定する。伸長後の低屈折率層の厚みの平均をｔ２とする。
　下記式から算出される、伸長前の低屈折率層の厚みに対する伸長後の低屈折率層の厚みの比率が８０％以上９９％以下である。
　伸長前の低屈折率層の厚みに対する伸長後の低屈折率層の厚みの比率（％）＝（ｔ２／ｔ１）×１００
（２）　部材と、部材上に配置した（１）に記載の光学積層体とを有し、前記光学積層体の前記低屈折率層側の面が前記部材とは反対側を向くように配置してなる、反射防止性物品。
（３）　表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムとを有するパネルであって、前記光学フィルムとして（１）に記載の光学積層体を含み、前記光学積層体の前記低屈折率層側の面が前記表示素子とは反対側を向くように配置してなる、パネル。
（４）　（３）に記載のパネルを含む画像表示装置。
　本開示の光学積層体は、非平坦形状の部材に適用した際にも、反射防止性を良好にすることができる。本開示の反射防止性物品、パネル及び画像表示装置は、これらの形状が非平坦形状であっても反射防止性を良好にすることができる。
本開示の光学積層体の一実施形態を示す概略断面図である。 本開示のパネルの一実施形態を示す断面図である。 条件２及び３で用いる、第２及び３のサンプルを説明するための平面図である。
　以下、本開示の実施形態を説明する。
［光学積層体］
　本開示の光学積層体は、樹脂基材上に、ハードコート層及び低屈折率層をこの順に有する光学積層体であって、下記条件１及び２を満たす、ものである。
＜条件１＞
　前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第１のサンプルを切り出す。前記第１のサンプルを、チャック間距離を５０ｍｍとして引張試験機にセットする。前記第１のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で、長辺方向に引っ張った際の、前記第１のサンプルの上降伏点における伸度が６．５％以上である。
＜条件２＞
　前記光学積層体を伸長する前の低屈折率層の厚みの平均をｔ１とする。
　前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第２のサンプルを切り出す。前記第２のサンプルに間隔５０ｍｍの標線を付けた後、１３０℃で２分予備加熱する。予備加熱が終了した第２のサンプルを速やかに引張試験機にセットする。引張試験機のチャック間距離は、予備加熱が終了した後の標線間の距離に合わせる。前記第２のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で長辺方向に引っ張り、チャック間距離が６０ｍｍに到達した時点で引っ張りを停止する。前記第２のサンプルを前記引張試験機から取り外し、２３℃で１２０分放置した後、前記第２のサンプルの伸長後の低屈折率層の厚みを測定する。伸長後の低屈折率層の厚みの平均をｔ２とする。
　下記式から算出される、伸長前の低屈折率層の厚みに対する伸長後の低屈折率層の厚みの比率が８０％以上９９％以下である。
　伸長前の低屈折率層の厚みに対する伸長後の低屈折率層の厚みの比率（％）＝（ｔ２／ｔ１）×１００
　図１は、本開示の光学積層体１００の断面形状の概略断面図である。
　図１の光学積層体１００は、樹脂基材１０上に、ハードコート層２０及び低屈折率層４０をこの順に有している。図１の光学積層体１００は、さらに、ハードコート層２０と低屈折率層４０との間に高屈折率層３０を有している。
　図１は模式的な断面図である。すなわち、図１において、光学積層体１００を構成する各層の縮尺等は、図示しやすくするために模式化したものであり、実際の縮尺等とは相違している。図２等の他の図面も同様である。
　本開示の光学積層体は、図１の積層構成に限定されない。例えば、本開示の光学積層体は、図１に記載されていないその他の層を有していてもよい。
＜条件１＞
　条件１では、第１のサンプルの上降伏点における伸度が６．５％以上であることを規定している。第１のサンプルの上降伏点における伸度は、光学積層体の上降伏点における伸度とみなすことができる。すなわち、本開示の光学積層体は、上降伏点における伸度が６．５％以上であることを要する。
　上降伏点における伸度が６．５％未満の場合、光学積層体を非平坦形状の部材に適用することが困難となる。上降伏点における伸度は、６．７％以上であることが好ましく、６．９％以上であることがより好ましく、７．０％以上であることがさらに好ましい。
　ハードコート層は、光学積層体の上降伏点に大きな影響を与える。一方、低屈折率層及び高屈折率層は、厚みが薄いため上降伏点への影響は少ない。このため、ハードコート層の架橋密度を低くしたり、ハードコート層の厚みを薄くしたりすると、上降伏点における伸度が高くなる傾向がある。しかし、ハードコート層の架橋密度を低くしたり、ハードコート層の厚みを薄くしたりすると、ハードコート層の表面硬度が低下することにより、光学積層体の表面硬度も低下しやすくなる。光学積層体の表面硬度が低下すると、光学積層体の耐擦傷性が低下しやすくなる。このため、上降伏点における伸度は、１７．０％以下であることが好ましく、１５．０％以下であることがより好ましく、１２．０％以下であることがさらに好ましい。
　本明細書で示す構成要件において、数値の上限の選択肢及び下限の選択肢がそれぞれ複数示されている場合には、上限の選択肢から選ばれる一つと、下限の選択肢から選ばれる一つとを組み合わせた範囲の実施形態が記載されているものとする。例えば、上降伏点における伸度の範囲の実施形態としては、６．５％以上１７．０％以下、６．５％以上１５．０％以下、６．５％以上１２．０％以下、６．７％以上１７．０％以下、６．７％以上１５．０％以下、６．７％以上１２．０％以下、７．０％以上１７．０％以下、７．０％以上１５．０％以下、７．０％以上１２．０％以下が挙げられる。
　条件１は、より具体的には、下記Ａ１～Ａ６の手順で測定する。
Ａ１：光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第１のサンプルを切り出す。サンプルは１０個用意する。
Ａ２：　第１のサンプルを、チャック間距離を５０ｍｍとして引張試験機にセットする。その際、引張試験機の一対のチャックで、第１のサンプルの短辺側の両端を固定する。
Ａ３：第１のサンプルを１３０℃に加温する。
　上記Ａ３において、第１のサンプルは、例えば、引張試験機が備える加温システムにより加温することができる。
Ａ４：第１の両端を固定した状態で、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で引っ張り、第１のサンプルにひずみを与える。
Ａ５：第１のサンプルの伸びを横軸、引っ張り応力を縦軸とした、応力－ひずみ曲線から、上降伏点、及び、上降伏点における伸度を算出する。
　本明細書において、「上降伏点」とは、ＪＩＳ　　Ｋ７１６１：２０１４の「引張降伏ひずみ」を生じる地点を意味する。言い換えると、本明細書において、「上降伏点」とは、応力の増加を伴わずにひずみが増加する最初の地点を意味する。
Ａ６：１０個のサンプルについてＡ２～Ａ５を実施する。１０個のサンプルの上降伏点における伸度の平均値を、光学積層体の上降伏点における伸度とする。
　引張試験機は、温度を制御できる引張試験機を用いる。
　本明細書において、上降伏点における伸度は、下記式で算出する。下記式において、「引っ張り前のチャック間距離」は、第１のサンプルを引張試験機にセットした際の５０ｍｍである。第１のサンプルを引張試験機にセットする際の温度は２３℃とする。
　上降伏点における伸度（％）＝｛（上降伏点におけるチャック間距離－引っ張り前のチャック間距離）／引張前のチャック間距離｝×１００
　後述する「上降伏点における荷重」は、上降伏点における応力（N）を、引張前のチャック間に位置するサンプルの面積（1000　ｍｍ２）で除することにより算出できる。
　条件１を満たしやすくするためには、樹脂基材として伸びやすいものを用いたり、ハードコート層の架橋密度及び厚みを調整したりすることが好ましい。詳細な手法は、樹脂基材及びハードコート層の実施形態で説明する。
　条件１で測定した上降伏点における荷重は、７．０ｍＮ／ｍｍ２以下であることが好ましく、６．０ｍＮ／ｍｍ２以下であることがより好ましく、５．０ｍＮ／ｍｍ２以下であることがさらに好ましい。前記荷重を７．０ｍＮ／ｍｍ２以下とすることにより、光学積層体を非平坦形状の部材に適用する際の作業性を良好にしやすくできる。
　前記荷重が小さすぎると、光学積層体の耐擦傷性が低下しやすくなる。このため、前記荷重は、１．６ｍＮ／ｍｍ２以上であることが好ましく、２．０ｍＮ／ｍｍ２以上であることがより好ましい。
＜条件２＞
　条件２では、伸長前の低屈折率層の厚みに対する伸長後の低屈折率層の厚みの比率が８０％以上９９％以下であることを規定している。
　本明細書において、「伸長前の低屈折率層の厚みに対する伸長後の低屈折率層の厚みの比率」のことを、「伸長前後の低屈折率層の厚みの比率」と称する場合がある。
　本明細書において、「伸長前の高屈折率層の厚みに対する伸長後の高屈折率層の厚みの比率」のことを、「伸長前後の高屈折率層の厚みの比率」と称する場合がある。
　光学積層体は、光学積層体を引き伸ばしながら非平坦形状の部材に貼り合わせることにより、非平坦形状の部材に適用される。また、前述した適用の際には、光学積層体を引き伸ばしやすくするため、光学積層体を所定の温度まで加温する。条件２では、光学積層体から作製した第２のサンプルを、１３０℃で１０ｍｍ伸長しているため、光学積層体を非平坦形状の部材に適用した状態を再現しているといえる（注：条件２は、最初の標線の距離が５０ｍｍである。そして、チャック間距離を標線の距離に合わせて第２のサンプルをセットした後、チャック間距離が６０ｍｍに到達しているまで第２のサンプルを引っ張っている。このため、条件２において、第２のサンプルは、６０ｍｍと５０ｍｍとの差分である１０ｍｍ伸長されている）。さらに、条件２では、２３℃で１２０分放置した後に、伸長後の低屈折率層の厚みを測定しているため、加温により変化した物性が安定した状態で厚みを測定しているといえる。このため、条件２では、光学積層体を非平坦形状の部材に適用した状態であって、かつ、光学積層体が安定した後の状態を再現しているといえる。
　したがって、条件２の「伸長前後の低屈折率層の厚みの比率」は、「非平坦形状の部材に光学積層体を適用する前後の低屈折率層の厚みの比率」を示しているといえる。同様に、後述する条件３の「伸長前後の高屈折率層の厚みの比率」は、「非平坦形状の部材に光学積層体を適用する前後の高屈折率層の厚みの比率」を示しているといえる。
　条件２において、厚み変化率が８０％未満であることは、非平坦形状の部材に光学積層体を適用した後に、低屈折率層の厚みが薄くなりすぎることを意味する。このため、条件２において、厚み変化率が８０％未満の場合、非平坦形状の部材に適用した際の反射防止性を良好にすることができない。
　条件２では、標線間距離を５０ｍｍから６０ｍｍまで伸長するため、伸長部分の伸度は２０％である。このため、単純に考えると、第２のサンプルの厚みは伸長後に２０％減少し、伸長前後の低屈折率層の厚みの比率は約８０％となる。しかし、以下の理由から、通常は、伸長前後の低屈折率層の厚みの比率は８０％よりも大きな値となる。
　まず、低屈折率層中に中空粒子等の大きな粒子を含む場合、大きな粒子が存在する箇所の厚みは、伸長時に変動しにくい（一方、大きな粒子が存在しない箇所は、バインダー樹脂が引き伸ばされるため、厚みが薄くなりやすい。）。また、ハードコート層は通常は架橋性樹脂を含む。このため、光学積層体を加温しながら非平坦形状の部材に適用した際に、ハードコート層中の未反応の架橋性樹脂の架橋が進行する。ハードコート層の架橋が進行すると、ハードコート層が収縮し、厚みが厚いハードコート層の影響により低屈折率層も収縮する。そして、低屈折率層は、自身の収縮の度合いに応じて厚みが増加する。このため、第２のサンプルの低屈折率層の厚み変化率は、８０％よりも大きな値となる。また、低屈折率層の厚み変化率が８０％より大きくなるほど、ハードコート層の収縮の影響により、低屈折率層の厚みが増加した度合いが大きいといえる。
　低屈折率層が収縮して厚みが増加する際には、低屈折率層にクラックが生じたり、中空粒子の配列が乱れたりしやすくなる。このため、低屈折率層が収縮して厚みが大きく増加した際には、低屈折率層の物性が変化しやすくなる。
　したがって、条件２において、厚み変化率が９９％を超えることは、ハードコート層の収縮の影響により、低屈折率層の厚み変化率が理論値の８０％よりも大きく増加することを意味している。このように厚みが大きく増加した低屈折率層は、上述したように、低屈折率層にクラックが生じたり、中空粒子の配列が乱れたりしやすくなるため、反射防止性を良好にすることができない。したがって、条件２において、厚み変化率が９９％を超えたものは、非平坦形状の部材に適用した際の反射防止性を良好にすることができない。
　条件２において、伸長前後の低屈折率層の厚み変化率は、８２％以上９７％以下であることが好ましく、８４％以上９５％以下であることがより好ましく、８６％以上９３％以下であることがさらに好ましい。
　条件２は、より具体的には、下記Ｂ１～Ｂ７の手順で測定する。
Ｂ１：光学積層体を伸長する前の低屈折率層の厚みの平均をｔ１とする。
　本明細書において、光学積層体を伸長する前の低屈折率層の厚みの平均ｔ１は、下記（ａ１）及び（ａ２）の手順で測定したものとする。
（ａ１）光学積層体の断面が露出した膜厚測定用のサンプルを作製する。
（ａ２）前記サンプルの断面をＳＴＥＭで２箇所撮像する。２つの画像から、それぞれ５か所の低屈折率層の厚みを抽出し、合計１０の厚みを抽出する。１０箇所の厚みを平均し、低屈折率層の厚みの平均ｔ１を算出する。
　本明細書において、光学積層体を伸長する前の高屈折率層の厚みの平均ｔ３、及び、光学積層体を伸長する前のハードコート層の厚みの平均ｔ５は、上記（ａ２）の「低屈折率層」を、「高屈折率層」又は「ハードコート層」に読み替えて算出するものとする。
　上記（ａ１）の光学積層体の断面が露出したサンプルは、下記Ｘ１～Ｘ２の手順で作製する。
Ｘ１：光学積層体と黒色板とを光学透明粘着シートを介して貼合し、任意の大きさに切断したカットサンプルを作製する。カットサンプルの大きさは、例えば、縦１０ｍｍ×横３ｍｍの短冊状とする。
Ｘ２：カットサンプルを垂直に切削し、光学積層体の断面が露出した切片サンプルを作製する。カットサンプルはガラスナイフとダイヤモンドナイフを用いてミクロトームで切削する。
　ミクロクロトームでカットサンプルを切削する際は、最初はガラスナイフで大まかに切削し、塗工面の断面を含む縦100um×横20um程度の面を作製する（粗トリミング）。最終的には、この面をダイヤモンドナイフで切削し、水上に浮かべた切片をメッシュで採取する。
Ｂ２：前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第２のサンプルを切り出す。
Ｂ３：前記第２のサンプルに間隔５０ｍｍの標線を付けた後、１３０℃で２分間予備加熱する。予備加熱が終了した第２のサンプルを速やかに引張試験機にセットする。引張試験機のチャック間距離は、予備加熱が終了した後の標線間の距離に合わせる。
　上記Ｂ３において、第２のサンプルに間隔５０ｍｍの標線を付ける際の温度は２３℃とする。
　上記Ｂ３では、第２のサンプルに間隔５０ｍｍの標線を付けた後、１３０℃で２分間予備加熱する。工程Ｂ４と同一温度で予備加熱することにより、サンプルが工程Ｂ４の後に余熱で伸長することを抑制することができる。このため、工程４の後の余熱による伸長により低屈折率層の厚みが変動することを低減することができる。
　上記Ｂ３では、予備加熱後の第２のサンプルを引張試験機にセットする前に、予備加熱後の第２のサンプルの長辺側の両端部に耐熱テープを２周分巻き付ける（図３）。耐熱テープを巻き付ける箇所は、標線の外側とする。図３において、符号２０１の部分は、耐熱テープを巻き付けた箇所である。図３において、符号Ｌは、予備加熱後の標線間の距離に相当する。
　第２のサンプルを引張試験機にセットする際には、第２のサンプルの耐熱テープを巻き付けた箇所を、引張試験機の一対のチャックで固定する。
Ｂ４：第２のサンプルを１３０℃に加温する。
　上記Ｂ４において、第２のサンプルは、例えば、引張試験機が備える加温システムにより加温することができる。第２のサンプルの加温は速やかに実施することが好ましい。
Ｂ５：第２のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で長辺方向に引っ張り、チャック間距離が６０ｍｍに到達した時点で引っ張りを停止する。
　上記Ｂ５では、チャック間距離が６０ｍｍに到達した時点で引っ張りを停止し、かつ、チャックが原点位置に戻らない動作条件を引張試験機に設定する。
Ｂ６：前記第２のサンプルを前記引張試験機から取り外し、２３℃で１２０分放置した後、前記第２のサンプルの伸長後の低屈折率層の厚みを測定する。伸長後の低屈折率層の厚みの平均をｔ２とする。
　前記Ｂ６において、光学積層体を伸長した後の低屈折率層の厚みの平均ｔ２は、下記（ｂ１）及び（ｂ２）の手順で測定する。
（ｂ１）２３℃で１２０分放置した第２のサンプルから、光学積層体の断面が露出した膜厚測定用のサンプルを作製する。サンプルは、図３の「Ｓ」の領域内から取得することが好ましい。
（ｂ２）前記サンプルの断面をＳＴＥＭで２箇所撮像する。２つの画像から、それぞれ５か所の伸長後の低屈折率層の厚みを抽出し、合計１０の厚みを抽出する。１０箇所の厚みを平均し、低屈折率層の伸長後の厚みの平均ｔ２を算出する。
　上記（ｂ１）の光学積層体の断面が露出したサンプルは、例えば、上記Ｘ１～Ｘ２と同様の手順で作製できる。
Ｂ７：下記式から、伸長前の低屈折率層の厚みに対する伸長後の低屈折率層の厚みの比率を算出する。
　伸長前の低屈折率層の厚みに対する伸長後の低屈折率層の厚みの比率（％）＝（ｔ２／ｔ１）×１００
　条件２において、引張試験機は、温度を制御できる引張試験機を用いる。
　条件２及び後述する条件３において、ｔ１、ｔ２、ｔ３及びｔ４を測定する雰囲気は、２３℃、相対湿度５０％とする。
　条件２及び後述する条件３を満たしやすくするためには、ハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂組成物の官能基当量を調整したり、低屈折率層の中空粒子の平均粒子径及び含有量を調整したりすることが好ましい。詳細な調整方法は、各構成要件の実施形態で説明する。
　光学積層体は、前記ハードコート層と前記低屈折率層との間に高屈折率層を有することが好ましい。
　光学積層体は、さらに下記条件３を満たすことが好ましい。
＜条件３＞
　前記光学積層体を伸長する前の高屈折率層の厚みの平均をｔ３とする。
　前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第３のサンプルを切り出す。前記第３のサンプルに間隔５０ｍｍの標線を付けた後、１３０℃で２分予備加熱する。予備加熱が終了した第３のサンプルを速やかに引張試験機にセットする。引張試験機のチャック間距離は、予備加熱が終了した後の標線間の距離に合わせる。前記第３のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で長辺方向に引っ張り、チャック間距離が６０ｍｍに到達した時点で引っ張りを停止する。前記第３のサンプルを前記引張試験機から取り外し、２３℃で１２０分放置した後、前記第３のサンプルの伸長後の高屈折率層の厚みを測定する。伸長後の高屈折率層の厚みの平均をｔ４とする。
　下記式から算出される、伸長前の高屈折率層の厚みに対する伸長後の高屈折率層の厚みの比率が８０％以上９９％以下である。
　伸長前の高屈折率層の厚みに対する伸長後の高屈折率層の厚みの比率（％）＝（ｔ４／ｔ３）×１００
　条件３において、厚み変化率が８０％以上であることは、非平坦形状の部材に光学積層体を適用した後に、高屈折率層の厚みが薄くなりすぎないことを意味する。条件３において、厚み変化率が９９％以下であることは、ハードコート層の収縮の影響により、高屈折率層の厚み変化率が理論値の９０％よりも極端に増加しないことを意味している。
　このため、光学積層体が、ハードコート層と低屈折率層との間に高屈折率層を有し、かつ、条件３を満たすことにより、非平坦形状の部材に適用した際の反射防止性をより良好にしやすくできる。
　条件３において、伸長前後の高屈折率層の厚み変化率は、８２％以上９７％以下であることが好ましく、８４％以上９５％以下であることがより好ましく、８６％以上９３％以下であることがさらに好ましい。
　条件３は、より具体的には、下記Ｃ１～Ｃ７の手順で測定する。
Ｃ１：光学積層体を伸長する前の高屈折率層の厚みの平均をｔ３とする。
　上記Ｃ１において、ｔ３の測定は、上述した手順で測定することができる。
Ｃ２：前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第３のサンプルを切り出す。
　前記第３のサンプルは、前記第２のサンプルと兼用することができる。第３のサンプルを第２のサンプルと兼用すれば、下記Ｃ２～Ｃ５の手順は、前記Ｂ２～Ｂ５の手順と兼用できる。
Ｃ３：前記第３のサンプルに間隔５０ｍｍの標線を付けた後、１３０℃で２分予備加熱する。予備加熱が終了した第３のサンプルを速やかに引張試験機にセットする。引張試験機のチャック間距離は、予備加熱が終了した後の標線間の距離に合わせる。
　上記Ｃ３において、第３のサンプルに間隔５０ｍｍの標線を付ける際の温度は２３℃とする。
　第３のサンプルを予備加熱する具体的な実施形態、及び、第３のサンプルを引張試験機にセットする具体的な実施形態は、第２のサンプルの対応する実施形態と同様である。
Ｃ４：第３のサンプルを１３０℃に加温する。
Ｃ５：第３のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で長辺方向に引っ張り、チャック間距離が６０ｍｍに到達した時点で引っ張りを停止する。
　前記Ｃ４及びＣ５の具体的な実施形態は、前記Ｂ４及びＢ５の具体的な実施形態と同様である。
Ｃ６：前記第３のサンプルを前記引張試験機から取り外し、２３℃で１２０分放置した後、前記第３のサンプルの伸長後の高屈折率層の厚みを測定する。伸長後の高屈折率層の厚みの平均をｔ４とする。
　本明細書において、光学積層体を伸長した後の高屈折率層の厚みの平均ｔ４は、前記（ｂ１）及び（ｂ２）の手順において、「第２のサンプル」及び「低屈折率層」を、それぞれ「第３のサンプル」及び「高屈折率層」に読み替えることにより、測定する。
Ｃ７：下記式から、伸長前の高屈折率層の厚みに対する伸長後の高屈折率層の厚みの比率を算出する。
　伸長前の高屈折率層の厚みに対する伸長後の高屈折率層の厚みの比率（％）＝（ｔ４／ｔ３）×１００
　光学積層体が、ハードコート層と低屈折率層との間に高屈折率層を有する一方で、条件３を満たさない場合には、非平坦形状の部材に適用した際の反射防止性を良好にすることは困難である。光学積層体が高屈折率層及び低屈折率層を有する場合、高屈折率層及び低屈折率層の厚みのバランスが重要になるためである。
　前記条件２の厚みの比率と前記条件３の厚みの比率との差の絶対値は、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましい。前記差の絶対値を３％以下とすることにより、高屈折率層及び低屈折率層の厚みのバランスが保たれるため、非平坦形状の部材に適用した際の反射防止性を良好にしやすくできる。
　本明細書において、反射率とは、光学積層体から作製したサンプルの低屈折率層側の表面に対して垂直方向を０度とした際に、５度の方向からサンプルに光を入射し、入射光の正反射光に基づいて測定した、視感反射率Ｙ値を意味する。
＜樹脂基材＞
　樹脂基材は、光透過性が良好であり、かつ伸びやすく成形性に優れたものであることが好ましい。
　樹脂基材を構成する樹脂としては、特に制限されないが、条件１を満たしやすくするため、カーボネート樹脂、（メタ）アクリル樹脂、オレフィン樹脂及びＡＢＳ樹脂の群から選ばれる樹脂が好ましい。すなわち、樹脂基材としては、カーボネート樹脂基材、（メタ）アクリル樹脂基材、オレフィン樹脂基材、又はＡＢＳ樹脂基材が好ましい。（メタ）アクリル樹脂基材は、ハードコート層との密着性を良好にしやすいため、より好ましい。樹脂基材は、成形性を良好にするため、ゴム粒子等の添加剤を含んでいてもよい。
　本明細書において、「（メタ）アクリル」とは「アクリル」及び「メタクリル」の総称である。
　（メタ）アクリル樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステルの単独又は共重合体、及び（メタ）アクリル酸エステルとコモノマーとの共重合体が挙げられる。（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート及びグリシジル（メタ）アクリレートが挙げられる。コモノマーとしては、例えば、酢酸ビニル、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、スチレン、（メタ）アクリル酸、イタコン酸及び無水マレイン酸が挙げられる。（メタ）アクリル樹脂は、フッ素で変性されていてもよい。
　（メタ）アクリル樹脂としては、具体的には、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチル（メタ）アクリレート、ポリプロピル（メタ）アクリレート及びポリブチル（メタ）アクリレート等のポリアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中でもポリメチル（メタ）アクリレートが好ましい。
　樹脂基材の厚みは、５μｍ以上１５０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上１００μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以上５０μｍ以下であることがさらに好ましい。
　樹脂基材の厚みを５μｍ以上とすることにより、光学積層体の取り扱い性を良好にしやすくできる。樹脂基材の厚みを１５０μｍ以下とすることにより、光学積層体の成形性を良好にしやすくできる。
　樹脂基材の厚みは、汎用の膜厚測定器で測定できる。樹脂基材の厚みは、任意の１０点を測定した平均値が上記数値であればよい。
　樹脂基材の表面には、密着性向上のために、コロナ放電処理等の物理的な処理や化学的な処理を施したり、易接着層を形成したりしてもよい。
　樹脂基材は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。
＜ハードコート層＞
　本開示の光学積層体は、樹脂基材上にハードコート層を有することを要する。ハードコート層を有することにより、光学積層体の耐擦傷性を良好にしやすくできる。
　ハードコート層は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を主成分として含むものが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を主成分として含むことがより好ましい。主成分とは、ハードコート層を構成する樹脂成分の５０質量％以上であることを意味し、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上であり、さらに好ましくは９９質量％以上である。
　熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
　熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
　電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、（メタ）アクリロイル基を有する化合物がより好ましい。（メタ）アクリロイル基を有する化合物は、（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。
　電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
　（メタ）アクリレート系化合物は、モノマーであってもよいし、オリゴマーであってもよい。（メタ）アクリレート系化合物は、ハードコート層の硬度を維持しつつ、条件１及び２を満たしやすくするため、複数種類の（メタ）アクリレート系化合物を混合することが好ましい。例えば、下記（１）～（３）の（メタ）アクリレート系化合物を混合することが好ましい。
（１）官能基数が３以上の（メタ）アクリレートモノマー
（２）平均官能基数が３以上の（メタ）アクリレートオリゴマー
（３）官能基数が１又は２の（メタ）アクリレートモノマー
　上記（１）～（３）において、官能基数とは、（メタ）アクリロイル基の数のことをいう。
　上記（１）のモノマーは、ハードコート層の硬度を高める役割を有する。しかし、上記（１）のモノマーが多すぎる場合、条件１及び２を満たしにくくなったり、条件１で測定した上降伏点における荷重が大きくなり過ぎたりする場合がある。上記（１）のモノマーが少なすぎる場合、ハードコート層の硬度が低下したり、条件１の伸度が大きくなり過ぎたりする場合がある。
　上記（２）のオリゴマーは、ハードコート層の硬度を維持しつつ、条件１及び２を満たしやすくする役割を有する。仮に、（メタ）アクリレート系化合物として、上記（１）のモノマーのみを用いた場合、ハードコート層の硬度を維持しつつ、条件１及び２を満たしやすくすることは難しい。適正な量の上記（２）のオリゴマーを含むことで、ハードコート層の硬度を維持しつつ、条件１及び２を満たしやすくできる。
　上記（３）のモノマーは、ハードコート層が過度に架橋することを抑制する役割を有する。また、（メタ）アクリレート系化合物として、上記（３）のモノマーを含むことにより、条件１及び２を満たしやすくできるとともに、条件１で測定した上降伏点における荷重を小さくしやすくできる。さらに、上記（３）のモノマーは、樹脂基材（特に、（メタ）アクリル樹脂基材）との密着性を良好にしやすくできる。しかし、上記（３）のモノマーが多すぎる場合、ハードコート層の硬度が低下したり、条件１の伸度が大きくなり過ぎたりする場合がある。
　電離放射線硬化性樹脂組成物の全量基準で、上記（１）の平均官能基数が３以上の（メタ）アクリレートモノマーの質量割合は、１質量％以上４５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上３５質量％以下であることがより好ましい。
　電離放射線硬化性樹脂組成物の全量基準で、上記（２）の平均官能基数が３以上の（メタ）アクリレートオリゴマーの質量割合は、２０質量％以上８５質量％以下であることが好ましく、３５質量％以上６０質量％以下であることがより好ましい。
　電離放射線硬化性樹脂組成物の全量基準で、上記（３）の平均官能基数が１又は２の（メタ）アクリレートモノマーの質量割合は、１０質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上４０質量％以下であることがより好ましい。
　電離放射線硬化性樹脂組成物の全量基準に対する上記（１）の平均官能基数が３以上の（メタ）アクリレートモノマーの質量割合をＲ１（質量％）、電離放射線硬化性樹脂組成物の全量基準に対する上記（２）の平均官能基数が３以上の（メタ）アクリレートオリゴマーの質量割合をＲ２（質量％）、電離放射線硬化性樹脂組成物の全量基準に対する上記（３）の官能基数が１又は２の（メタ）アクリレートモノマーの質量割合をＲ３（質量％）、光学積層体を伸長する前のハードコート層の厚みの平均をｔ５（μｍ）、と定義した際に、下記の条件Ｅ１～Ｅ３を満たすことが好ましい。下記の条件Ｅ１～Ｅ３を満たすことにより、条件１及び２を満たしやすくできる。
＜条件Ｅ１＞
　５５≦Ｒ１×ｔ５≦６００
＜条件Ｅ２＞
　１５０≦Ｒ２×ｔ５≦１１５０
＜条件Ｅ３＞
　７０≦Ｒ３×ｔ５≦４００
　条件Ｅ１において、Ｒ１×ｔ５は、６０以上３１０以下が好ましく、７０以上１８０以下がより好ましい。
　条件Ｅ２において、Ｒ２×ｔ５は、１５０以上８００以下が好ましく、１８０以上５００以下がより好ましい。
　条件Ｅ３において、Ｒ３×ｔ５は、７５以上３５０以下が好ましく、１３０以上２３２以下がより好ましい。
　上記（１）の（メタ）アクリレートモノマーの官能基数は、３以上８以下が好ましく、３以上６以下がより好ましい。官能基数を３以上とすることにより、耐擦傷性を良好にしやすくできる。官能基数を８以下とすることにより、ハードコート層の硬度を維持しつつ、条件１及び２を満たしやすくできる。
　３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　上記（メタ）アクリレートモノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよい。例えば、上記（メタ）アクリレートモノマーは、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等により、分子骨格の一部を変性したものも使用することができる。
　上記（２）の（メタ）アクリレートオリゴマーの平均官能基数は、３以上８以下が好ましく、３以上６以下がより好ましい。平均官能基数を３以上とすることにより、耐擦傷性を良好にしやすくできる。平均官能基数を８以下とすることにより、ハードコート層の硬度を維持しつつ、条件１及び２を満たしやすくできる。
　（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
　ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
　好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
　上記（２）の（メタ）アクリレートオリゴマーの重量平均分子量は、５００以上３０００以下であることが好ましく、６００以上２０００以下であることが好ましく、７００以上１２００以下であることがさらに好ましい。
　本明細書において、数平均分子量及び重量平均分子量は、ＧＰＣ分析によって測定され、かつ標準ポリスチレンで換算された平均分子量である。
　上記（３）の官能基数が１又は２の（メタ）アクリレートモノマーは、官能基数が１の（メタ）アクリレートモノマーであってもよいし、官能基数が２の（メタ）アクリレートモノマーであってもよいし、両者を併用してもよい。ハードコート層の硬度を維持しつつ、条件１及び２を満たしやすくするためには、官能基数が１の（メタ）アクリレートモノマーのみを含むことが好ましい。
　２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
　単官能（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート及びイソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、ハードコート層用塗布液は、光重合開始剤及び光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
　光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、α－アミノアルキルフェノン、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
　光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
　ハードコート層の厚みは、下限は、２．５μｍ以上であることが好ましく、４．０μｍ以上であることがより好ましく、５．０μｍ以上であることがさらに好ましく、上限は１３．５μｍ以下であることが好ましく、１２．０μｍ以下であることがより好ましく、１０．０μｍ以下であることがさらに好ましい。「前記ハードコート層の厚み」は、上述した「光学積層体を伸長する前のハードコートの厚みの平均ｔ５」のことを意味する。
　ハードコート層の厚みを２．５μｍ以上とすることにより、耐擦傷性を良好にしやすくできる。ハードコート層の厚みを１３．５μｍ以下とすることにより、条件１を満たしやすくでき、かつ、条件１で測定した上降伏点における荷重を小さくしやすくでき、かつ、内部ヘイズが過度に上昇することを抑制しやすくできる。
　ハードコート層は、更に、マット剤、レベリング剤、防汚剤、帯電防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、分散剤、紫外線吸収剤及び光安定剤等の添加剤を含んでいてもよい。
　ハードコート層は、例えば、ハードコート層を形成する材料及び溶剤を含むハードコート層用塗布液を、樹脂基材上に塗布、乾燥した後、必要に応じて電離放射線を照射することにより形成できる。
＜低屈折率層＞
　本開示の光学積層体は、低屈折率層を有することを要する。低屈折率層は、ハードコート層の樹脂基材とは反対側の表面に位置することが好ましい。
　低屈折率層は、バインダー樹脂及び中空粒子を含むことが好ましい。低屈折率層は、さらに、中実粒子を含むことがより好ましい。
《バインダー樹脂》
　低屈折率層は、バインダー樹脂として硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性化合物等の硬化性化合物を含む組成物である。
　低屈折率層の全バインダー樹脂に対する硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、５０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、最も好ましくは１００質量％である。
　低屈折率層の硬化性樹脂組成物としては、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられ、電離放射線硬化性樹脂組成物が好ましい。すなわち、低屈折率層は、バインダー樹脂として、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。
　熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物は、ハードコート層で例示したものと同様のものが挙げられる。
　低屈折率層に用いる電離放射線硬化性化合物は、耐擦傷性を良好にするため、（メタ）アクリロイル基の数が３以上の（メタ）アクリレート系化合物を含むことが好ましい。
《中空粒子》
　中空粒子とは、外殻層を有し、前記外殻層に囲まれた粒子内部が空洞であり、前記空洞内部に空気を含む粒子をいう。中空粒子は、空隙率に比例して屈折率が低下する粒子である。
　中空粒子の外殻層の材質は、シリカ及びフッ化マグネシウム等の無機化合物、有機化合物のいずれであってもよいが、低屈折率化及び強度の観点からシリカが好ましい。すなわち、低屈折率層は、中空粒子として、中空シリカ粒子を含むことが好ましい。
　中空粒子は、平均粒子径が５５．０ｎｍ以上１３０．０ｎｍ以下であることが好ましく、６０．０ｎｍ以上１１０．０ｎｍ以下であることがより好ましく、６５．０ｎｍ以上９０．０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、７０．０ｎｍ以上８０．０ｎｍ以下であることがよりさらに好ましい。
　平均粒子径を５５．０ｎｍ以上とすることにより、低屈折率層の反射率を低くして、光学積層体の反射防止性を良好にしやすくできる。平均粒子径を１３０．０ｎｍ以下とすることにより、光学積層体を非平坦形状の部材に適用した際に、低屈折率層の厚みムラが生じることを抑制しやすくできる。
　中空粒子の含有量が同じ場合、中空粒子の平均粒子径を小さくすることにより、中空粒子の数を増やすことができる。そして、中空粒子のように大きな粒子が存在する箇所ではハードコート層は収縮しにくい。このため、中空粒子の平均粒子径を９０．０ｎｍ以下とすることにより、ハードコート層の収縮を抑制し、条件２をより満たしやすくできる。
　中空粒子及び後述する中実粒子、並びに、後述する高屈折粒子の平均粒子径は、以下のＤ１～Ｄ３の作業により算出する。
Ｄ１：反射防止部材の断面をＳＴＥＭで撮像する。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ以上３０ｋＶ以下が好ましく、倍率は５万倍以上１０万倍以下とすることが好ましい。
Ｄ２：撮像した１つの画像に含まれる低屈折率層中の全ての中空粒子を抽出する。そして、個々の中空粒子の粒子径を算出する。個々の中空粒子の粒子径は、中空粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、前記２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離を意味する。
Ｄ３：Ａ２で粒子径を測定した全ての中空粒子の中から、粒子径が下位から１０％の中空粒子を除外する。「％」は個数基準であり、四捨五入した値とする。残りの９０％の中空粒子の粒子径の平均値を、中空粒子の平均粒子径とする。
　上記Ｄ３において、粒子径が下位から１０％の中空粒子を除外する理由は、以下の（１）、（２）である。
（１）粒子径が小さく測定されて中空粒子は、中空粒子の中心から外れた箇所で切断されている可能性がある。
（２）粒子径が小さく測定されて中空粒子は、高屈折率層及びハードコート層等の低屈折率層に隣接する層に、中空粒子の一部が埋没している可能性がある。
　上記Ｄ１～Ｄ３の作業において、抽出する粒子を「撮像した１つの画像に含まれる低屈折率層中の全ての中実粒子」に変更すれば、中実粒子の平均粒子径を算出できる。また、上記Ｄ１～Ｄ３の作業において、抽出する粒子を「撮像した１つの画像に含まれる高屈折率層中の全ての高屈折率粒子」に変更すれば、高屈折率粒子の平均粒子径を算出できる。
　中空粒子の含有量が多くなるほど、低屈折率層の屈折率が低下する。一方で、バインダー樹脂に対する中空粒子の含有量が多すぎると、光学積層体を非平坦形状の部材に適用した際に、低屈折率層の厚みムラが生じやすくなる。
　このため、中空粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して１００質量部以上３００質量部以下であることが好ましく、１２０質量部以上２５０質量部以下であることがより好ましく、１３０質量部以上２００質量部以下であることがさらに好ましい。
　中空粒子は、凝集を抑制するため、表面がシランカップリング剤で被覆されていることが好ましい。シランカップリング剤は、（メタ）アクリロイル基又はエポキシ基を有するものが好ましく、メタクリロイル基を有するものがより好ましい。
　中空粒子は、２種以上の中空粒子を含んでいてもよい。例えば、外殻層の材質の異なる中空粒子、粒子径の異なる中空粒子を含んでいてもよい。
《中実粒子》
　低屈折率層は、中空粒子に加えて、中実粒子を含むことが好ましい。中空粒子に加えて、中実粒子を含むことにより、低屈折率層の耐擦傷性を良好にしやすくできる。
　中実粒子の材質は、シリカ及びフッ化マグネシウム等の無機化合物が好ましく、シリカがより好ましい。
　中実粒子の平均粒子径は、中空粒子の平均粒子径よりも小さいことが好ましい。中実粒子の平均粒子径は、下限は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以下であることがより好ましい。
　中実粒子の含有量は、耐擦傷性をより良好にする観点から、バインダー樹脂１００質量部に対して１０質量部以上であることが好ましく、２０質量部以上であることがより好ましい。
　一方で、中実粒子の含有量が多すぎると、中実粒子が凝集しやすくなるとともに、中空粒子を覆うバインダー樹脂の量が減少し、耐擦傷性が低下する場合がある。このため、中実粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して１００質量部以下であることが好ましく、５０質量部以下であることがより好ましい。
　低屈折率層の厚みは、下限は、８０ｎｍ以上が好ましく、８５ｎｍ以上がより好ましく、９０ｎｍ以上がより好ましく、上限は、１５０ｎｍ以下が好ましく、１１０ｎｍ以下がより好ましく、１０５ｎｍ以下がより好ましい。「前記低屈折率層の厚み」は、上述した「光学積層体を伸長する前の低屈折率層の厚みの平均ｔ１」のことを意味する。
　低屈折率層の厚みｔ１と、中空粒子の平均粒子径Ｄとは、Ｄ／ｔ１が、０．５５以上１．００以下であることが好ましく、０．６５以上０．９５以下であることがより好ましく、０．７０以上０．８０以下であることがさらに好ましい。
　Ｄ／ｔ１を０．５５以上とすることにより、低屈折率層の屈折率を低くしやすくできる。Ｄ／ｔ１を１．００以下とすることにより、光学積層体を非平坦形状の部材に適用した際に、低屈折率層の厚みムラが生じることを抑制しやすくなる。
　低屈折率層の屈折率は、下限は、１．１０以上が好ましく、１．２０以上がより好ましく、１．２６以上がより好ましく、１．２８以上がより好ましく、１．３０以上がより好ましく、上限は、１．４８以下が好ましく、１．４５以下がより好ましく、１．４０以下がより好ましく、１．３８以下がより好ましく、１．３５以下がより好ましい。
　本明細書において、低屈折率層及び高屈折率層の屈折率は、波長５８９．３ｎｍにおける値を意味するものとする。
　低屈折率層は、更に、帯電防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、分散剤、光安定剤及び紫外線吸収剤等の添加剤を含有してもよい。
　低屈折率層は、低屈折率層を構成する成分及び溶剤を含む低屈折率層用塗布液を塗布、乾燥し、必要に応じて電離放射線を照射して硬化することにより形成することができる。
＜その他の層＞
　光学積層体は、高屈折率層及び帯電防止層等のその他の層を有していてもよい。
　高屈折率層を有することにより、光学積層体の反射率をより低くしやすくできる。高屈折率層は、ハードコート層と低屈折率層との間に有することが好ましい。光学積層体が高屈折率層を有する場合、樹脂基材、ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有することが好ましい。
＜高屈折率層＞
　高屈折率層は、例えば、バインダー樹脂組成物及び高屈折率粒子を含む高屈折率層用塗布液から形成することができる。すなわち、高屈折率層は、バインダー樹脂及び高屈折率粒子を含むことが好ましい。
　高屈折率層のバインダー樹脂は、硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。高屈折率層の全バインダー樹脂に対する硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は５０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、最も好ましくは１００質量％である。
　高屈折率層の硬化性樹脂組成物としては、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられ電離放射線硬化性樹脂組成物が好ましい。熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物は、ハードコート層で例示したものと同様のものが挙げられる。高屈折率層に用いる電離放射線硬化性化合物は、（メタ）アクリロイル基の数が３以上の（メタ）アクリレート系化合物を含むことが好ましい。
　高屈折率粒子としては、五酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、スズドープ酸化インジウ、アンチモンドープ酸化スズ、酸化イットリウム及び酸化ジルコニウム等が挙げられる。
　高屈折率粒子の平均粒子径は、２ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上がさらに好ましい。高屈折率粒子の平均粒子径は、白化抑制及び透明性の観点から、２００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましい。
　高屈折率粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、下限は、１００質量部以上であることが好ましく、１５０質量部以上であることがより好ましく、２５０質量部以上であることがさらに好ましく、上限は、５００質量部以下であることが好ましく、４００質量部以下であることがより好ましく、３５０質量部以下であることがさらに好ましい。
　高屈折率層の屈折率は、下限は、１．５３以上が好ましく、１．５４以上がより好ましく、１．５５以上がより好ましく、１．５６以上がより好ましく、上限は、１．８５以下が好ましく、１．８０以下がより好ましく、１．７８以下がより好ましく、１．７７以下がより好ましい。
　高屈折率層の厚みは、上限は、２００ｎｍ以下が好ましく、１８５ｎｍ以下がより好ましく、１７５ｎｍ以下がさらに好ましく、下限は、５０ｎｍ以上が好ましく、７０ｎｍ以上がより好ましく、８０ｎｍ以上がさらに好ましい。「前記高屈折率層の厚み」は、上述した「光学積層体を伸長する前の高屈折率層の厚みの平均ｔ３」のことを意味する。
　高屈折率層中には、更に、レベリング剤、帯電防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、分散剤、光安定剤及び紫外線吸収剤等の添加剤を含有してもよい。
＜鉛筆硬度＞
　光学積層体の表面は、耐擦傷性を高めるため、鉛筆硬度がＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましい。
　前記表面とは、ハードコート層を基準として、低屈折率層を有する側の光学積層体の表面を意味する。
　本明細書において、鉛筆硬度は、ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４：１９９９に準拠して、荷重５００ｇ、速度１．４ｍｍ／秒の条件で測定したものとする。
　また、鉛筆硬度の測定サンプルに対して、５回の鉛筆硬度試験を行い、４回以上の傷等の外観異常が認められなかった際の硬度を、各サンプルの鉛筆硬度の値とする。例えば、２Ｈの鉛筆を用いて、５回の試験を行い、４回外観異常が生じなければ、そのサンプルの鉛筆硬度は２Ｈである。外観異常については、変色は含まず、傷及び凹みについて確認を行った。
＜光学特性＞
　光学積層体は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。
　全光線透過率及びヘイズを測定する際の光入射面は、樹脂基材側の面とする。本明細書において、全光線透過率は、１０箇所の測定値の平均値を意味する。
　光学積層体は、ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズが１．０％以下であることが好ましく、０．８％以下であることがより好ましく、０．７％以下であることがさらに好ましい。ヘイズを１．０％以下とすることにより、映像の解像度を良好にしやすくできる。ヘイズの下限値は特に制限されないが、通常０．１％以上である。
　光学積層体は、内部ヘイズが０．４％以下であることが好ましく、０．３％以下であることがより好ましい。内部ヘイズを０．４％以下とすることにより、映像の解像度を良好にしやすくできる。
　内部ヘイズは汎用の手法で測定することができ、例えば、以下の手法で測定できる。
（１）光学積層体の低屈折率層を有する側の表面に透明粘着剤層を介して透明シートを貼り合わせるなどして、光学積層体の表面凹凸を潰したサンプルを作製する。
（２）ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００に準拠して、前記サンプルのヘイズを測定する。測定値を光学積層体の内部ヘイズとみなす。
＜大きさ、形状等＞
　光学積層体は、所定の大きさにカットした枚葉状の形態でもよいし、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態であってもよい。枚葉の大きさは特に限定されないが、最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。「最大径」とは、光学積層体の任意の２点を結んだ際の最大長さを意味する。光学積層体が長方形の場合は、長方形の対角線が最大径となる。光学積層体が円形の場合は、円の直径が最大径となる。
　ロール状の幅及び長さは特に限定されないが、一般的には、幅は５００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下、長さは５００ｍ以上５０００ｍ以下程度である。ロール状の形態の光学積層体は、画像表示装置等の大きさに合わせて、枚葉状にカットして用いることができる。カットする際、物性が安定しないロール端部は除外することが好ましい。
　枚葉の形状も特に限定されず、例えば、三角形、長方形及び五角形等の多角形であってもよいし、円形であってもよいし、ランダムな不定形であってもよい。より具体的には、光学積層体が長方形である場合には、縦横比は表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、横：縦＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１等が挙げられる。
［反射防止性物品］
　本開示の反射防止性物品は、部材と、部材上に配置した本開示の光学積層体とを有し、前記光学積層体の前記低屈折率層側の面が前記部材とは反対側を向くように配置してなる、ものである。
　光学積層体は、反射防止物品の最表面に配置することが好ましい。
　部材と光学積層体とは、接着剤層を介して積層されることが好ましい。接着剤層は、部材と光学積層体とを積層する前に、光学積層体の樹脂基材側、又は、部材上に形成することが好ましい。
　部材としては、インストルメントパネル、時計、ショーケース、ショーウィンドウ及び窓が挙げられる。部材は、透明でも不透明でもよく、色調も特に限定されない。
　部材は、曲面を備えた部材、立体形状を備えた部材が好ましい。
　部材と光学積層体とを接着剤層を介して積層する手段としては、下記（１）及び（２）が挙げられる。
（１）ロール転写装置等による加熱加圧を併用したラミネート法
（２）ＴＯＭ成形
　上記（２）のＴＯＭ成形は、例えば、下記（ｖ１）～（ｖ５）の工程を有する。ＴＯＭ成形は、特開２０２１－１７８４１０号公報等に記載されている。
（ｖ１）上側真空室及び下側真空室を有するＴＯＭ成形機の下側真空室内に、予め製品形状に成形された部材を配置する工程。
（ｖ２）上側真空室と下側真空室との間に、本開示の光学積層体の樹脂基材側の面が、下側を向くように配置する工程。光学積層体の樹脂基材側の面には、あらかじめ接着剤層を形成しておくことが好ましい。
（ｖ３）上側真空室及び下側真空室を真空引きする工程。
（ｖ４）光学積層体を加熱しつつ、部材を上側真空室まで押し上げて、加熱された光学積層体に部材を押し当てる工程。
（ｖ５）光学積層体が加熱された状態で上側真空室を加圧し、部材の露出面に成形用シートを密着させる工程。
［パネル］
　本開示のパネル１２０は、表示素子１１０と、前記表示素子１１０の光出射面側に配置された光学フィルムとを有し、前記光学フィルムとして上述した本開示の光学積層体１００を含み、前記光学積層体１００の前記低屈折率層４０側の面が前記表示素子１１０とは反対側を向くように配置してなるものである（図２参照）。
　光学積層体は、パネルの最表面に配置することが好ましい。
　光学積層体とは、表面板等の部材に接着剤層を介して積層されていることが好ましい。前記部材は、曲面又は立体形状を備えることが好ましい。
　表示素子としては、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子及び無機ＥＬ表示素子等のＥＬ表示素子、プラズマ表示素子等が挙げられ、さらには、マイクロＬＥＤ表示素子等のＬＥＤ表示素子が挙げられる。これら表示素子は、表示素子の内部にタッチパネル機能を有していてもよい。
　液晶表示素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる。
　本開示のパネルは、タッチパネル付きのパネルであってもよい。この場合、光学積層体はタッチパネルを構成する部材として用いられていてもよい。
　パネルの大きさ特に限定されないが、最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。最大径とは、パネルの面内の任意の２点を結んだ際の最大長さを意味する。
［画像表示装置］
　本開示の画像表示装置は、上述した本開示のパネルを含むものである。
　本開示の画像表示装置は、さらに、前記パネルに電気的に接続された駆動制御部と、前記パネル及び前記駆動制御部等を収容する筐体とを備えることが好ましい。
　表示素子が液晶表示素子である場合、本開示の画像表示装置にはバックライトが必要である。バックライトは、液晶表示素子の光出射面側とは反対側に配置される。
　画像表示装置の大きさ特に限定されないが、有効表示領域の最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。
　画像表示装置の有効表示領域とは、画像を表示し得る領域である。例えば、画像表示装置が表示素子を囲う筐体を有する場合、筐体の内側の領域が有効表示領域となる。
　有効表示領域の最大径とは、有効表示領域内の任意の２点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、有効表示領域が長方形の場合は、長方形の対角線が最大径となる。有効表示領域が円形の場合は、円の直径が最大径となる。
　本開示は、以下の（１）～（１５）を含む。
（１）　樹脂基材上に、ハードコート層及び低屈折率層をこの順に有する光学積層体であって、下記条件１及び２を満たす、光学積層体。
＜条件１＞
　前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第１のサンプルを切り出す。前記第１のサンプルを、チャック間距離を５０ｍｍとして引張試験機にセットする。前記第１のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で、長辺方向に引っ張った際の、前記第１のサンプルの上降伏点における伸度が６．５％以上である。
＜条件２＞
　前記光学積層体を伸長する前の低屈折率層の厚みの平均をｔ１とする。
　前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第２のサンプルを切り出す。前記第２のサンプルに間隔５０ｍｍの標線を付けた後、１３０℃で２分間予備加熱する。予備加熱が終了した第２のサンプルを速やかに引張試験機にセットする。引張試験機のチャック間距離は、予備加熱が終了した後の標線間の距離に合わせる。前記第２のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で長辺方向に引っ張り、チャック間距離が６０ｍｍに到達した時点で引っ張りを停止する。前記第２のサンプルを前記引張試験機から取り外し、２３℃で１２０分放置した後、前記第２のサンプルの伸長後の低屈折率層の厚みを測定する。伸長後の低屈折率層の厚みの平均をｔ２とする。
　下記式から算出される、伸長前の低屈折率層の厚みに対する伸長後の低屈折率層の厚みの比率が８０％以上９９％以下である。
　伸長前の低屈折率層の厚みに対する伸長後の低屈折率層の厚みの比率（％）＝（ｔ２／ｔ１）×１００
（２）　前記ハードコート層と前記低屈折率層との間に高屈折率層を有する、（１）に記載の光学積層体。
（３）　前記光学積層体が、さらに下記条件３を満たす、（２）に記載の光学積層体。
＜条件３＞
　前記光学積層体を伸長する前の高屈折率層の厚みの平均をｔ３とする。
　前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第３のサンプルを切り出す。前記第３のサンプルに間隔５０ｍｍの標線を付けた後、１３０℃で２分間予備加熱する。予備加熱が終了した第３のサンプルを速やかに引張試験機にセットする。引張試験機のチャック間距離は、予備加熱が終了した後の標線間の距離に合わせる。前記第３のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で長辺方向に引っ張り、チャック間距離が６０ｍｍに到達した時点で引っ張りを停止する。前記第３のサンプルを前記引張試験機から取り外し、２３℃で１２０分放置した後、前記第３のサンプルの伸長後の高屈折率層の厚みを測定する。伸長後の高屈折率層の厚みの平均をｔ４とする。
　下記式から算出される、伸長前の高屈折率層の厚みに対する伸長後の高屈折率層の厚みの比率が８０％以上９９％以下である。
　伸長前の高屈折率層の厚みに対する伸長後の高屈折率層の厚みの比率（％）＝（ｔ４／ｔ３）×１００
（４）　前記条件２の厚みの比率と前記条件３の厚みの比率との差の絶対値が３％以下である、（３）に記載の光学積層体。
（５）　ｔ１が８０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である、（１）～（４）の何れかに記載の光学積層体。
（６）　ｔ３が８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、（３）又は（４）に記載の光学積層体。
（７）　前記光学積層体を伸長する前のハードコートの厚みの平均をｔ５と定義した際に、ｔ５が２．５μｍ以上１３．５μｍ以下である、（１）～（６）の何れかに記載の光学積層体。
（８）　前記条件１の前記上降伏点における伸度が１７．０％以下である、（１）～（７）の何れかに記載の光学積層体。
（９）　前記条件１で測定した上降伏点における荷重が、７．０ｍＮ／ｍｍ２以下である、（１）～（８）の何れかに記載の光学積層体。
（１０）　前記低屈折率層が中空粒子を含み、前記中空粒子の平均粒子径が５５．０ｎｍ以上１３０．０ｎｍ以下である、（１）～（９）の何れかに記載の光学積層体。
（１１）　内部ヘイズが０．４％以下である、（１）～（１０）の何れかに記載の光学積層体。
（１２）　ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４：１９９９に準拠して、荷重５００ｇ、速度１．４ｍｍ／秒の条件で測定した、前記光学積層体の表面の鉛筆硬度がＨ以上である、（１）～（１１）の何れかに記載の光学積層体。
（１３）　部材と、部材上に配置した（１）～（１２）の何れかに記載の光学積層体とを有し、前記光学積層体の前記低屈折率層側の面が前記部材とは反対側を向くように配置してなる、反射防止性物品。
（１４）　表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムとを有するパネルであって、前記光学フィルムとして（１）～（１２）の何れかに記載の光学積層体を含み、前記光学積層体の前記低屈折率層側の面が前記表示素子とは反対側を向くように配置してなる、パネル。
（１５）　（１４）に記載のパネルを含む画像表示装置。
　次に、本開示を実施例により更に詳細に説明するが、本開示はこれらの例によってなんら限定されるものではない。「部」及び「％」は特に断りのない限り質量基準とする。
１．測定及び評価
　以下のように、実施例及び比較例の光学積層体の測定及び評価を行った。
　各測定及び評価時の雰囲気は、特記しない限り、温度２３℃、相対湿度５０％とした。各測定及び評価の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に３０分以上６０分以下晒してから測定及び評価を行った。
　各測定及び評価に用いるサンプルは、実施例及び比較例の光学積層体を切断して作製できる。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。
１－１．上降伏点における伸度及び荷重の測定
　明細書本文のＡ１～Ａ６の手順に従い、実施例及び比較例の光学積層体の上降伏点における伸度を測定した（単位は「％」）。測定装置は、オリエンテック株式会社製の品番「RTC-1210A」に、オプション「TCLF」を追加した試験機を用いた。前記試験機は、温度を制御できる引張試験機である。
　また、上降伏点における応力（ＭＰａ）と、測定サンプルの引張前の断面積（ｍｍ２）との掛け算により、実施例及び比較例の光学積層体の上降伏点における荷重を算出した（単位は「ｍＮ／ｍｍ２」）。
１－２．伸長前後の厚み変化率
　明細書本文のＢ１～Ｂ７の手順に従い、実施例及び比較例の光学積層体の伸長前後の低屈折率層の厚みの比率を測定した（単位は「％」）。
　明細書本文のＣ１～Ｃ７の手順に従い、実施例及び比較例の光学積層体の伸長前後の高屈折率層の厚みの比率を測定した（単位は「％」）。伸長前後の高屈折率層の厚みの比率を測定する際に、第３のサンプルは第２のサンプルと兼用した。また、Ｃ２～Ｃ５の手順は、Ｂ２～Ｂ５の手順と兼用した。Ｂ３及びＣ３で用いる耐熱テープは、Nitto　America社の工業用テープ　WS-1を用いた。
　上記測定において、厚みｔ１～ｔ４を測定する際のＳＴＥＭは、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の品番「Ｓ－４８００」を用いた。撮像条件は下記の条件とした。
＜撮像条件＞
モード：TE
加速電圧：30kV
エミッション電流：10uA
WD（Working　Distance）：8.0mm
倍率：High　magnificationモードによる１００，０００倍
　上記測定において、光学積層体の断面が露出したサンプルを作製する際に用いる、黒色板、光学透明粘着シート、ミクロトーム及びメッシュは、下記の材料及び装置を用いた。
・黒色板（クラレ社、商品名：コモグラス　ＤＦＡ２ＣＧ　５０２Ｋ（黒）系、厚み２ｍｍ）
・光学透明粘着シート（パナック社、商品名；パナクリーンPD-S1）
・ミクロトーム（ライカマイクロシステムズ社、商品名：ウルトラミクロトーム　ＥＭ　ＵＣ７）
・メッシュ（日新EM社、商品名：コロジオン膜貼付メッシュ(CatNo；651)）
　上記測定において、ミクロトームの切削条件は、「SPEED：1.40mm/s」、「FEED：７０ｎｍ」とした。
１－３．反射率（視感反射率Ｙ値）
＜初期反射率＞
　実施例及び比較例の光学積層体を５ｃｍ×５ｃｍに切断した。切断した光学積層体の樹脂基材側と、縦５ｃｍ×横５ｃｍの大きさの黒色板（クラレ社製、商品名：コモグラス　ＤＦＡ２ＣＧ　５０２Ｋ（黒）系、厚み２ｍｍ）とを、光学透明粘着シート（パナック社、商品名：パナクリーンPD-S1）を介して貼り合わせたサンプルを作製した。
　サンプルの低屈折率層側の表面に対して垂直方向を０度とした際に、５度の方向からサンプルに光を入射し、入射光の正反射光に基づいて、サンプルの視感反射率Ｙ値を測定した。測定した値を「初期反射率」とした。
　測定装置は、分光反射率測定器（島津製作所社製、商品名：ＵＶ－２４５０）を用いた。前記測定装置は、波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の範囲を０．５ｎｍ間隔で反射率を測定し、その後、人間が目で感じる明度に換算するソフトにより、換算を実施するものである。前記ソフトは、前記測定装置に内蔵されているソフトである。前記ソフトでは、光源がＤ６５、視野角が２度であることを条件として反射率を算出している。
＜成形後の反射率＞
　上側真空室及び下側真空室を有するＴＯＭ成形機の下側真空室内の台上に、底面が円形の凹レンズ（材質ガラス、底面の直径５０ｍｍ、側面の高さ２０ｍｍ、曲率半径１７０ｍｍ）を配置した。
　次いで、上側真空室と下側真空室との間に、実施例及び比較例の光学積層体を、樹脂基材側が下側（前記凹レンズ側）を向くようにして配置し、治具で固定した。
　次いで、上側真空室及び下側真空室を閉じて密閉し、各真空室を真空引きした（真空圧力：－０．１ＭＰａ（ゲージ圧））。
　次いで、光学積層体を低屈折率層側から加熱しつつ（加熱温度：１２０℃）、台を操作して凹レンズを上側真空室まで押し上げ、加熱された光学積層体に凹レンズを押し当てた。
　次いで、光学積層体が加熱された状態で、上側真空室を加圧し（圧空圧力：０．２ＭＰａ（ゲージ圧））、凹レンズの形状に倣うように光学積層体を成形した。
　次いで、上側真空室及び下側真空室を大気開放し、室温まで空冷後、凹レンズ及び光学積層体を取り出した。その後、成形した光学積層体から凹レンズを剥がした。
（注：通常のＴＯＭ成形は、２つの部材を密着させる成形である。本実施例では、成形後の光学積層体の反射率を、凹レンズを含まない状態で測定する必要があるため、上記のＴＯＭ成形では凹レンズと光学積層体とを密着させていない。）
　次いで、凹レンズ状に成形した光学積層体を平坦な状態に伸ばした後、光学積層体の樹脂基材側の面に、粘着剤層と黒色板とを密着した積層体の粘着剤層側を貼り合わせた、サンプルを作製した。粘着剤層は、光学透明粘着シート（パナック社、商品名：パナクリーンPD-S1）を用いた。黒色板は、クラレ社製の黒色板（商品名：コモグラス　ＤＦＡ２ＣＧ　５０２Ｋ（黒）系、厚み：２ｍｍ）を用いた。
　サンプルの低屈折率層側の表面に対して垂直方向を０度とした際に、５度の方向からサンプルに光を入射し、入射光の正反射光に基づいて、サンプルの視感反射率Ｙ値を測定した。測定した値を「成形後の反射率」とした。測定装置は初期反射率と同じ装置を用いた。
　比較例２のものは、非平坦形状への適性がないため、成形後の反射率を測定できなかった。
　初期の反射率と成形後の反射率との差分（成形後の反射率－初期の反射率）を表１及び２に示す。前記差分が０．０４％以下のものが合格レベルである。初期の反射率は成形前の反射率を意味する。
　さらに、（（成形後の反射率－初期の反射率）／初期の反射率）×１００を表１及び２に示す（単位は「％」）。前記比率が３５．０％以下のものが合格レベルである。
　前記サンプル初期の反射率（％）をＹ２１、前記サンプルの成形後の反射率（％）をＹ２２と定義した際に、下記の条件Ａ又は条件Ｂを満たすことが好ましく、条件Ａ及び条件Ｂを満たすことがより好ましい。条件Ａの差分は、０．０２％以下であることが好ましく、０．０１％以下であることがより好ましい。条件Ｂの比率は、１０．０％以下であることが好ましく、５．０％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
　上記測定における反射率は、サンプルの低屈折率層側の表面に対して垂直方向を０度とした際に、５度の方向からサンプルに光を入射し、入射光の正反射光に基づいて測定した、視感反射率Ｙ値を意味する。
＜条件Ａ＞
　Ｙ２２－Ｙ２１≦０．０４％　
＜条件Ｂ＞
　（（Ｙ２２－Ｙ２１）／Ｙ２１）×１００≦３５．０％
１－４．非平坦形状への適性
　実施例及び比較例の光学積層体の非平坦形状への適用性について、下記の基準で評価した。評価は３０歳代の健康な人で、視力１．０以上の人が目視で実施した。
Ａ：低屈折率層にクラックが確認できないもの。
Ｂ：低屈折率層にクラックが確認できるが、クラックの方向が一つの方向に限られるもの。
Ｃ：低屈折率層の二以上の方向にクラックが確認できるもの。
１－５．鉛筆硬度
　実施例及び比較例の光学積層体を５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切断したサンプルを作製した。ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４：１９９９に準拠して、荷重５００ｇ、速度１．４ｍｍ／秒の条件で、前記サンプルの低屈折率層側の面の鉛筆硬度を測定した。
　測定には、東洋精機製作所の鉛筆硬度試験機（品番：ＮＰ型鉛筆引掻塗膜硬度試験機）を用いた。メンディングテープ（スリーエム社、品番「８１０－３－１８」）を用いて、カットしたサンプルの両端部を鉛筆硬度試験機の土台に貼り合わせた。５回の鉛筆硬度試験を行い、４回以上の傷等の外観異常が認められなかった際の硬度を、各サンプルの鉛筆硬度の値とした。例えば、２Ｈの鉛筆を用いて、５回の試験を行い、４回外観異常が生じなければ、そのサンプルの鉛筆硬度は２Ｈである。外観異常については、変色は含まず、傷及び凹みについて確認を行った。鉛筆硬度Ｈ以上が合格レベルである。
１－６．全光線透過率（Ｔｔ）、ヘイズ、内部ヘイズ
　実施例及び比較例の光学積層体を１０ｃｍ×１０ｃｍに切断して、測定用のサンプルを作製した。ヘイズメーター（ＨＭ－１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、下記の条件で、各サンプルのＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率及びＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズを測定した。
　次いで、実施例及び比較例の光学積層体の低屈折率層側の表面に、透明粘着剤（パナック社製、ＰＤ－Ｓ１、厚み２５μｍ）を介して、厚み８０μｍのＴＡＣフィルム（富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）を貼り付けることによって凹凸形状をつぶして平坦にして、表面形状起因のヘイズの影響をなくしたサンプルを作製した。サンプルのＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズを測定して、得られた値を内部ヘイズとした。
＜条件＞
　光源を安定させるために、事前に装置の電源スイッチをＯＮにしてから１５分以上経過した後、測定サンプルを設置する箇所である入口開口に何もセットせずに校正を行った。その後に入口開口に測定サンプルをセットして、全光線透過率及びヘイズを測定した。測定時の光入射面は基材側とした。
２．ハードコート層用塗布液の調製
＜実施例１のハードコート層用塗布液＞
　下記の材料を混合及び撹拌し、実施例１のハードコート層用塗布液を得た。
・ウレタンアクリレートオリゴマー　４９質量部
（平均官能基数３、重量平均分子量７００～１２００）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　１８質量部
（日本化薬社製、商品名：PET-30)
・単官能アクリルモノマー　３３質量部
（共栄社化学製、　商品名：ライトアクリレートPO-A）
・光重合開始剤　５質量部
（IGM　Resins社製、商品名：Omnirad184）
・レベリング剤　０．５質量部
（ＤＩＣ社製、商品名：F-568）
・希釈溶媒
（メチルエチルケトンとメチルイソブチルケトンとの、質量比１：１の混合溶媒。固形分が３０質量％となるように調製。）
＜実施例２～９、比較例１～３のハードコート層用塗布液＞
　バインダー樹脂組成物の配合を、表１及び２の配合に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２～９、比較例１～３のハードコート層用塗布液を得た。
３．高屈折率層用塗布液の調製
＜実施例１～９、比較例２～３の高屈折率層用塗布液＞
　下記の材料を混合及び撹拌し、実施例１～９、比較例２～３の高屈折率層用塗布液を得た。
・ウレタンアクリレート　１００質量部
（共栄社化学株式会社、商品名「UA-306H」」
・酸化ジルコニウム粒子　１３０質量部
（平均粒子径：２０ｎｍ）
・光重合開始剤　５質量部
（IGM　Resins社製、商品名：Omnirad184）
・レベリング剤　０．４質量部
（ＢＹＫ社、商品名：BYK-331）
・メチルイソブチルケトン　７０００質量部
＜比較例１の高屈折率層用塗布液＞
　平均粒子径２０ｎｍの酸化ジルコニウム粒子を、平均粒子径４０ｎｍの酸化ジルコニウム粒子に変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例１の高屈折率層用塗布液を得た。
４．低屈折率層用塗布液の調製
＜実施例１の低屈折率層用塗布液＞
　下記の材料を混合及び撹拌し、実施例１の低屈折率層用塗布液を得た。
・６官能アクリレートモノマー　１００質量部（固形分換算）
（ＤＰＨＡ）
・中空シリカ粒子　１３０質量部
（平均粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる中空シリカ粒子）
・中実シリカ粒子　１０質量部
（平均粒子径１２ｎｍ）
・レベリング剤　０．１質量部
（大日精化工業社、商品名：セイカビーム１０２８（ＭＢ））
・光重合開始剤　５質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１２７）
・メチルエチルケトン　１７００質量部
・メチルイソブチルケトン　４３００質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート　２５００質量部
＜実施例２～１０、比較例１～３の低屈折率層用塗布液＞
　中空シリカ粒子の平均粒子径を、表１及び２に記載の平均粒子径とした以外は、実施例１と同様にして、実施例２～１０、比較例１～３の低屈折率層用塗布液を得た（実施例４の中空シリカの平均粒子径は６０ｎｍであり、実施例９、比較例１及び３の中空シリカの平均粒子径は１００ｎｍである。）。なお、実施例８及び１０の低屈折率層用塗布液は、平均粒子径７５ｎｍの中空シリカ粒子を１００質量部、平均粒子径１００ｎｍの中空シリカ粒子を３０質量部含んでいる。
５．光学積層体の作製
［実施例１］
　厚み４０μｍのポリメチルメタクリレート基材（Ｔｇ＝１２５℃）上に、実施例１のハードコート層用塗布液を塗布した後、７０℃×１分で乾燥し溶剤を揮発させた。次いで、窒素雰囲気において、積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２と紫外線を照射することにより、ドライ厚み７．０μｍのハードコート層を形成した。
　次いで、ハードコート層上に、実施例１の高屈折率層用塗布液を塗布した後、７０℃×１分で乾燥し溶剤を揮発させた。次いで、窒素雰囲気において、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射することにより、ドライ厚み１５５ｎｍの高屈折率層を形成した。
　次いで、高屈折率層上に、実施例１の低屈折率層用塗布液を塗布した後、４０℃×６０秒で乾燥することにより、溶剤を揮発させた。次いで、窒素雰囲気において、積算光量２００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射することにより、ドライ厚み１０６ｎｍの低屈折率層を形成し、実施例１の光学積層体を得た。
［実施例２～１０］、［比較例１、３］
　ハードコート層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を、それぞれ、実施例２～１０、比較例１、３用の塗布液に変更し、さらに、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の厚みを表１及び２の値に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２～１０、比較例１、３の光学積層体を得た。
［比較例２］
　樹脂基材を、厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム社製の商品名「フジタック」）に変更し、ハードコート層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を、比較例２用の塗布液に変更し、さらに、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の厚みを表２の値に変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例２の光学積層体を得た。
　表１及び２において、「ＰＥＴＡ」はペンタエリスリトールトリアクリレート、「ＰＭＭＡ」はポリメチルメタクリレートフィルム、「ＴＡＣ」はトリアセチルセルロースフィルム、を示す。
　表１及び２において、「Ｒ１」は樹脂組成物の全量基準に対するペンタエリスリトールトリアクリレートの質量割合を示し、「Ｒ２」は樹脂組成物の全量基準に対するウレタンアクリレートオリゴマーの質量割合を示し、「Ｒ３」は樹脂組成物の全量基準に対する単官能アクリルモノマーの質量割合を示す。Ｒ１～Ｒ３の単位はいずれも「質量％」である。
　表１及び２の結果から、実施例の光学積層体は、非平坦形状の部材に適用した際にも反射防止性を良好にできることを確認できる。
　１０：樹脂基材
　２０：ハードコート層
　３０：高屈折率層
　４０：低屈折率層
１００：光学積層体
１１０：表示素子
１２０：パネル

 

Claims (15)

  1. 　樹脂基材上に、ハードコート層及び低屈折率層をこの順に有する光学積層体であって、下記条件１及び２を満たす、光学積層体。
    ＜条件１＞
    　前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第１のサンプルを切り出す。前記第１のサンプルを、チャック間距離を５０ｍｍとして引張試験機にセットする。前記第１のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で、長辺方向に引っ張った際の、前記第１のサンプルの上降伏点における伸度が６．５％以上である。
    ＜条件２＞
    　前記光学積層体を伸長する前の低屈折率層の厚みの平均をｔ１とする。
    　前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第２のサンプルを切り出す。前記第２のサンプルに間隔５０ｍｍの標線を付けた後、１３０℃で２分間予備加熱する。予備加熱が終了した第２のサンプルを速やかに引張試験機にセットする。引張試験機のチャック間距離は、予備加熱が終了した後の標線間の距離に合わせる。前記第２のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で長辺方向に引っ張り、チャック間距離が６０ｍｍに到達した時点で引っ張りを停止する。前記第２のサンプルを前記引張試験機から取り外し、２３℃で１２０分放置した後、前記第２のサンプルの伸長後の低屈折率層の厚みを測定する。伸長後の低屈折率層の厚みの平均をｔ２とする。
    　下記式から算出される、伸長前の低屈折率層の厚みに対する伸長後の低屈折率層の厚みの比率が８０％以上９９％以下である。
    　伸長前の低屈折率層の厚みに対する伸長後の低屈折率層の厚みの比率（％）＝（ｔ２／ｔ１）×１００
  2. 　前記ハードコート層と前記低屈折率層との間に高屈折率層を有する、請求項１に記載の光学積層体。
  3. 　前記光学積層体が、さらに下記条件３を満たす、請求項２に記載の光学積層体。
    ＜条件３＞
    　前記光学積層体を伸長する前の高屈折率層の厚みの平均をｔ３とする。
    　前記光学積層体から、短辺２０ｍｍ×長辺１００ｍｍの大きさの第３のサンプルを切り出す。前記第３のサンプルに間隔５０ｍｍの標線を付けた後、１３０℃で２分間予備加熱する。予備加熱が終了した第３のサンプルを速やかに引張試験機にセットする。引張試験機のチャック間距離は、予備加熱が終了した後の標線間の距離に合わせる。前記第３のサンプルを、１３０℃、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で長辺方向に引っ張り、チャック間距離が６０ｍｍに到達した時点で引っ張りを停止する。前記第３のサンプルを前記引張試験機から取り外し、２３℃で１２０分放置した後、前記第３のサンプルの伸長後の高屈折率層の厚みを測定する。伸長後の高屈折率層の厚みの平均をｔ４とする。
    　下記式から算出される、伸長前の高屈折率層の厚みに対する伸長後の高屈折率層の厚みの比率が８０％以上９９％以下である。
    　伸長前の高屈折率層の厚みに対する伸長後の高屈折率層の厚みの比率（％）＝（ｔ４／ｔ３）×１００
  4. 　前記条件２の厚みの比率と前記条件３の厚みの比率との差の絶対値が３％以下である、請求項３に記載の光学積層体。
  5. 　ｔ１が８０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
  6. 　ｔ３が８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、請求項３に記載の光学積層体。
  7. 　前記光学積層体を伸長する前のハードコートの厚みの平均をｔ５と定義した際に、ｔ５が２．５μｍ以上１３．５μｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
  8. 　前記条件１の前記上降伏点における伸度が１７．０％以下である、請求項１に記載の光学積層体。
  9. 　前記条件１で測定した上降伏点における荷重が、７．０ｍＮ／ｍｍ２以下である、請求項１に記載の光学積層体。
  10. 　前記低屈折率層が中空粒子を含み、前記中空粒子の平均粒子径が５５．０ｎｍ以上１３０．０ｎｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
  11. 　内部ヘイズが０．４％以下である、請求項１に記載の光学積層体。
  12. 　ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４：１９９９に準拠して、荷重５００ｇ、速度１．４ｍｍ／秒の条件で測定した、前記光学積層体の表面の鉛筆硬度がＨ以上である、請求項１に記載の光学積層体。
  13. 　部材と、部材上に配置した請求項１～１２の何れかに記載の光学積層体とを有し、前記光学積層体の前記低屈折率層側の面が前記部材とは反対側を向くように配置してなる、反射防止性物品。
  14. 　表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムとを有するパネルであって、前記光学フィルムとして請求項１～１２の何れかに記載の光学積層体を含み、前記光学積層体の前記低屈折率層側の面が前記表示素子とは反対側を向くように配置してなる、パネル。
  15. 　請求項１４に記載のパネルを含む画像表示装置。

     
PCT/JP2025/000539 2024-01-12 2025-01-09 光学積層体、並びに、前記光学積層体を用いた反射防止性物品、パネル及び画像表示装置 Pending WO2025150540A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202580008960.9A CN122514716A (zh) 2024-01-12 2025-01-09 光学层叠体、和使用了所述光学层叠体的防反射性物品、面板以及图像显示装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2024-002981 2024-01-12
JP2024002981 2024-01-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2025150540A1 true WO2025150540A1 (ja) 2025-07-17

Family

ID=96387198

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2025/000539 Pending WO2025150540A1 (ja) 2024-01-12 2025-01-09 光学積層体、並びに、前記光学積層体を用いた反射防止性物品、パネル及び画像表示装置

Country Status (3)

Country Link
CN (1) CN122514716A (ja)
TW (1) TW202538316A (ja)
WO (1) WO2025150540A1 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101391241B1 (ko) * 2013-02-18 2014-05-02 주식회사 효성 광학용 투명 하드코팅 필름의 제조방법
JP2015069008A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 日東電工株式会社 光学積層体
JP2021101221A (ja) * 2019-12-24 2021-07-08 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 光学機能樹脂パネルおよびその製造方法
JP2022079918A (ja) * 2020-11-17 2022-05-27 リンテック株式会社 成形用フィルム
JP2022089600A (ja) * 2020-12-04 2022-06-16 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 積層フィルムおよび成形体、ならびにそれらの製造方法
WO2023210436A1 (ja) * 2022-04-27 2023-11-02 日東電工株式会社 反射防止フィルム及びその製造方法、並びに画像表示装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101391241B1 (ko) * 2013-02-18 2014-05-02 주식회사 효성 광학용 투명 하드코팅 필름의 제조방법
JP2015069008A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 日東電工株式会社 光学積層体
JP2021101221A (ja) * 2019-12-24 2021-07-08 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 光学機能樹脂パネルおよびその製造方法
JP2022079918A (ja) * 2020-11-17 2022-05-27 リンテック株式会社 成形用フィルム
JP2022089600A (ja) * 2020-12-04 2022-06-16 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 積層フィルムおよび成形体、ならびにそれらの製造方法
WO2023210436A1 (ja) * 2022-04-27 2023-11-02 日東電工株式会社 反射防止フィルム及びその製造方法、並びに画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN122514716A (zh) 2026-08-04
TW202538316A (zh) 2025-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6237796B2 (ja) 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
ES3064608T3 (en) Layered film and layered member
JP4135232B2 (ja) ハードコートフィルムもしくはシート
WO2019107036A1 (ja) ハードコートフィルム、光学積層体および画像表示装置
KR20150143866A (ko) 편광판, 광학 부재 및 액정 표시 장치
JP2001287308A (ja) プラスチック積層体および画像表示保護フイルム
WO2016129419A1 (ja) 波長変換部材、バックライトユニット、画像表示装置および波長変換部材の製造方法
JPWO2017175674A1 (ja) 保護フィルム、光学フィルム、積層体、偏光板、画像表示装置、および偏光板の製造方法
CN104854491A (zh) 光学层叠体、使用其的偏振片及图像显示装置
TWI901582B (zh) 成型用層合膜
JP2004182765A (ja) ハードコートフィルム
KR20130054314A (ko) 대전 방지층용 경화성 수지 조성물, 광학 필름, 편광판 및 디스플레이 패널
JP6856028B2 (ja) 光学フィルム、偏光フィルム、偏光フィルムの製造方法、および画像表示装置
JP7409574B1 (ja) 光学フィルム、画像表示パネル及び画像表示装置
JP7524582B2 (ja) 成形体、転写シート及び成形体の製造方法
JP6721410B2 (ja) 保護フィルム、フィルム積層体、および偏光板
WO2024257762A1 (ja) 光学シート、シート物品、偏光板、タッチパネル部材、表示装置、光学シートの選定方法、及び光学シートの製造方法
JP7147121B2 (ja) 保護フィルム、積層体、偏光板、および画像表示装置
TW202538316A (zh) 光學積層體、以及使用上述光學積層體之抗反射性物品、面板及影像顯示裝置
TW202406752A (zh) 光學膜、影像顯示面板及影像顯示裝置
WO2018123457A1 (ja) 光学積層体
JP2022050403A (ja) 成形体及びそれを用いた表示装置
WO2022176849A1 (ja) 光学フィルム及び偏光板
WO2022176848A1 (ja) 光学フィルム及び偏光板
JP6745348B2 (ja) 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 25738807

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2025569421

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A