WO2025005248A1

WO2025005248A1 - 感光性組成物、硬化物及びその製造方法、表示素子、並びに撮像素子

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Publication number: WO2025005248A1
Application number: PCT/JP2024/023515
Authority: WO
Inventors: 康巨鄭; 杏介依田; 誠一郎児玉
Original assignee: JSR Corp
Current assignee: JSR Corp
Priority date: 2023-06-30
Filing date: 2024-06-28
Publication date: 2025-01-02
Anticipated expiration: 2025-12-30
Also published as: CN121399545A; JPWO2025005248A1; KR20260030766A; TW202502840A

Abstract

本発明は、一定時間経過後においても粘度増加が少なく保存安定性に優れ、塗布スリットノズル等を使用する際に感光性組成物が凝固せず、一定時間経過後であっても塗布可能である（経時塗布性が良好である）感光性組成物、当該感光性組成物から形成された硬化膜及びその製造方法、当該硬化膜を備える表示素子、並びに当該硬化膜を備える撮像素子を提供することを目的とする。本発明は、粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、光ラジカル発生剤（Ｃ）、及び脱水剤（Ｄ）を含み、上記脱水剤（Ｄ）がオルトエステル化合物を含む、光学部材形成用の感光性組成物に関する。

Description

感光性組成物、硬化物及びその製造方法、表示素子、並びに撮像素子

　本発明は、感光性組成物、硬化物及びその製造方法、表示素子、並びに撮像素子に関し、詳しくは、表示素子用又は撮像素子用の光学部材を形成するための技術に関する。

　ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ－Ｃｏｕｐｌｅｄ　Ｄｅｖｉｃｅ）イメージセンサや、ＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ　Ｍｅｔａｌ－Ｏｘｉｄｅ－Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）イメージセンサといった各種イメージセンサは、カメラ等の撮像装置における固体撮像素子として用いられている。固体撮像素子には、受光素子（フォトダイオード）に光を集めてセンサ感度を向上させるために、半球状の集光レンズ（以下、「マイクロレンズ」ともいう）や層内レンズが設けられている。また、有機ＥＬ素子等の表示素子において、光取り出し効率の向上や視野角調整を目的として、各画素に対し光出射側にマイクロレンズを設けた構造を採用することが行われている（例えば、特許文献１参照）。固体撮像素子や表示素子のレンズもまた、感光性組成物を用いたフォトリソグラフィー技術により形成することが近年行われている。

　上記感光性組成物として、例えば、無機粒子、ポリシラン化合物、重合性モノマー及び脱水剤等の硬化促進剤を含有する膜形成用組成物が知られている（例えば、特許文献２参照）。

特開２０２０－１０１６５９号公報特開２００７－１３１７１４号公報

　本発明者らが検討したところ、粒子を配合した感光性組成物では、経時的に粘度が増加し保存安定性が劣ることがある。また、塗布スリットノズル等の塗布手段を使用する際には、スリットノズルを塗布、静置、塗布、静置と繰り返して使用するが、一定時間経過後に、塗布手段内部の感光性組成物の一部が凝固し、ノズル先端部に付着して塗布不良が発生することが分かった。

　本発明は、一定時間経過後においても粘度増加が少なく保存安定性に優れ、塗布スリットノズル等を使用する際に感光性組成物が凝固せず、一定時間経過後であっても塗布可能である（経時塗布性が良好である）感光性組成物、当該感光性組成物から形成された硬化膜及びその製造方法、当該硬化膜を備える表示素子、並びに当該硬化膜を備える撮像素子を提供することを目的とする。

　本発明者らは、本課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、下記構成の感光性組成物とすることにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。

　本発明は、一実施形態において、
　粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、光ラジカル発生剤（Ｃ）、及び脱水剤（Ｄ）を含み、
　上記脱水剤（Ｄ）がオルトエステル化合物を含む、
　光学部材形成用の感光性組成物に関する。

　本発明は、別の実施形態において、
　粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、及び光ラジカル発生剤（Ｃ）を含む光学部材形成用の感光性組成物であり、
　前記感光性組成物中に含まれる水分量が２０００ｐｐｍ未満である、
　光学部材形成用の感光性組成物に関する。

　本発明は、別の実施形態において、
　上記感光性組成物を基材上に塗布する工程と、
　上記基材上に塗布した感光性組成物に放射線を照射する工程と、
　放射線を照射した後の上記感光性組成物を現像する工程と、
　現像後の上記感光性組成物を１００℃以下の温度で加熱して硬化させる工程と、
を含む、硬化物の製造方法に関する。

　本発明は、別の実施形態において、
　上記感光性組成物を硬化して形成した硬化物、当該硬化膜を備える表示素子、撮像素子に関する。

　本発明の感光性組成物によれば、一定時間経過後においても粘度増加が少なく保存安定性に優れるものであり、塗布スリットノズル等を使用する場合において感光性組成物が凝固せず、一定時間経過後であっても塗布可能である（即ち、経時塗布性が良好である）。この理由は以下のように推察される。粒子が配合された感光性組成物は、一定時間大気に曝されると、大気中の水分が感光性組成物中の粒子に作用して凝集を促進し、その結果、感光性組成物の粘度が増加し、経時塗布性や保存安定性に劣ると考えられるが、本発明においては、感光性組成物にオルトエステル化合物を配合することで、感光性組成物中に侵入した水分を捕捉することができ、粒子を配合した感光性組成物であっても、粘度増加が少なく、経時塗布性や保存安定性に優れると考えられる。

　また、他の実施形態に係る感光性組成物によれば、感光性組成物中に含まれる水分量が２０００ｐｐｍ未満であるため、組成物中の粒子成分が凝集しにくく、経時塗布性が良好になると考えられる。

　本発明の硬化膜の製造方法では、一定時間経過後においても粘度増加も少なく、経時塗布性や保存安定性に優れる感光性組成物を用いるため、一定時間経過後であっても高品位な硬化膜を製造することができる。

　本発明の表示素子及び撮像素子は、上記硬化膜を備えるため、高品位なものである。

　以下、本発明の実施形態について詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において、「～」を用いて記載された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味である。「構造単位」とは、主鎖構造を主として構成する単位であって、少なくとも主鎖構造中に２個以上含まれる単位をいう。

　本明細書において、「炭化水素基」は、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基を含む意味である。「鎖状炭化水素基」とは、主鎖に環状構造を含まず、鎖状構造のみで構成された直鎖状炭化水素基及び分岐状炭化水素基を意味する。ただし、飽和でも不飽和でもよい。「脂環式炭化水素基」とは、環構造としては脂環式炭化水素の構造のみを含み、芳香環構造を含まない炭化水素基を意味する。ただし、脂環式炭化水素の構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造を有するものも含む。「芳香族炭化水素基」とは、環構造として芳香環構造を含む炭化水素基を意味する。ただし、芳香環構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造や脂環式炭化水素の構造を含んでいてもよい。なお、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基が有する環構造は、炭化水素構造からなる置換基を有していてもよい。

　本明細書において、「（メタ）アクリロ」は、「アクリロ」及び「メタクリロ」を包含する意味であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」及び「メタクリル」を包含する意味である。「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」及び「メタクリレート」を包含する意味である。

≪感光性組成物≫
　本実施形態に係る感光性組成物（以下、単に「本組成物」ともいう。）は、
　粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、光ラジカル発生剤（Ｃ）、及び脱水剤（Ｄ）を含み、上記脱水剤（Ｄ）がオルトエステル化合物を含む組成物（以下、本組成物（１）とも言う。）と、
　粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、及び光ラジカル発生剤（Ｃ）を含む光学部材形成用の感光性組成物であり、前記感光性組成物中に含まれる水分量が２０００ｐｐｍ未満である組成物（以下、本組成物（２）とも言う。）である。

　上記感光性組成物は、有機ＥＬ素子等の表示素子用や撮像素子用の光学部材を形成するための感光性組成物である。本組成物により形成される光学部材は、例えば、表示素子において光取り出し効率を高めたり、固体撮像装置において受光素子（フォトダイオード）に光を集めてセンサ感度を向上させたりするものである。当該光学部材としては、好ましくは平坦化膜又はレンズを繰り返し整列して形成されたパターンが挙げられる。パターンを構成するレンズの形状としては、半球状、円柱状、円錐台状等のものが挙げられる。レンズの上面から見た形状としては、円状、多角形状等が挙げられ、各々が球状のような曲面を有するものであったり、柱状、円錐台のような台形状のものであってもよい。レンズは、本発明の感光性組成物により形成されており、そのレンズとレンズとの間隙に低屈材層等の他の透明材層が形成されていてもよい。平坦化膜は、半導体素子等が形成された基板の表面を平坦化するために基板上に形成される。パターンは、表示素子や固体撮像素子（例えば、ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ）に設けられる微小集光体（レンズあるいは台形／長方形パターン）又は層間レンズである。有機ＥＬ素子等の表示素子においては、各画素における光取り出し効率の向上や視野角調整を目的として各画素に設けられ、固体撮像素子においては、受光素子に光を集めてセンサ感度を向上させる目的で設けられる。本組成物は、好ましくは、平坦化膜形成用感光性組成物又はパターン形成用感光性組成物である。以下、上記感光性組成物に含まれる各成分について説明する。

＜粒子（Ａ）＞
　上記粒子（Ａ）は、屈折率調整等の添加目的に応じた粒子を使用することができ、本発明においては、得られる硬化物の高屈折率化を図ることができる粒子を使用することが好ましい。上記粒子（Ａ）としては、無機粒子又は有機粒子のいずれであってもよく、顔料粒子も使用することができる。

　上記無機粒子としては、特に限定されず、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化銀、酸化亜鉛、チタン酸バリウム、二酸化ケイ素（シリカ、中空シリカを含む）、酸化セリウム、窒化ケイ素、硫化パラジウム等の粒子状物質が挙げられる。これらのうち、粒子の安定性の観点から、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸バリウムよりなる群から選択される少なくとも１種の粒子が好ましく、分散体の安定性が高い点において酸化ジルコニウム粒子が特に好ましい。

　上記有機粒子としては、特に限定されず、例えば、ポリスチレン、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂等の高分子化合物からなる粒子が挙げられる。また、有機粒子には透明粒子、不透明粒子、着色粒子が含まれ、中空粒子も含まれる。

　また、上記顔料粒子としては、有機顔料や無機顔料のいずれも使用することができる。上記顔料としては、例えば、カーボンブラック、黒鉛、活性炭、炭素繊維、カーボンナノチューブ、カーボンマイクロコイル、カーボンナノホーン、カーボンエアロゲル、フラーレン、アニリンブラック、ピグメントブラック７、チタンブラック、ラクタムブラック、ペリレンブラック、酸化クロム緑、ミロリブルー、コバルト緑、コバルト青、マンガン系、フェロシアン化物、リン酸塩群青、紺青、ウルトラマリン、セルリアンブルー、ピリジアン、エメラルドグリーン、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら（赤色酸化鉄（ＩＩＩ））、カドミウム赤、アンバー、レーキ顔料、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、含水珪酸マグネシウム（タルク）、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、珪藻土、マイカ、シリカ等の有機又は無機顔料が挙げられる。これらの中でも、ペリレンブラックが好ましい。

　上記粒子（Ａ）の形状については、特に限定されないが、例えば、球状、粒状、板状、柱状等が挙げられる。

　また、粒子（Ａ）の平均粒子径は、特に限定されないが、表面平坦性及び透明性が高い硬化膜を得る観点から、好ましくは１００ｎｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以下であり、更に好ましくは３０ｎｍ以下である。また、粒子（Ａ）の平均粒子径は、分散安定性の観点から、例えば、１ｎｍ以上であり、好ましくは２ｎｍ以上である。本発明における平均粒子径とは、動的光散乱法での測定におけるＤ５０粒子径（積算分布曲線の５０％積算値を示す粒子径であるメジアン径）を意味し、例えば、マイクロトラックベル社製ＭｉｃｒｏｔｒａｃＷａｖｅＩＩ－ＥＸ１５０を用いて測定することができる。

　上記粒子（Ａ）としては、溶剤中における粒子の分散安定性の点から、表面被覆剤により被覆された粒子であることが好ましく、酸性基を有する化合物（以下、「特定被覆剤」ともいう）により被覆された無機粒子（以下、「被覆粒子」ともいう）であることがより好ましい。ここで、特定被覆剤により被覆された無機粒子とは、上記特定被覆剤を含む表面被覆剤により粒子が表面処理された特定被覆剤－粒子複合体である。

　上記特定被覆剤が有する酸性基としては、カルボキシ基、フェノール性水酸基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基等が挙げられる。溶剤中における粒子の分散性及びアルカリ現像性を良好にする観点から、これらのうちカルボキシ基又はフェノール性水酸基が好ましく、カルボキシ基が特に好ましい。アルカリ現像性に優れ、現像残渣を抑制できる点において、被覆粒子としては、酸化ジルコニウム、酸化チタン、及びチタン酸バリウムよりなる群から選択される少なくとも１種の表面がカルボキシ基含有化合物によって被覆された粒子が好ましく、カルボキシ基含有化合物によって表面が被覆された酸化ジルコニウム粒子がより好ましい。

　上記特定被覆剤は、低分子化合物（即ち、分子量分布を有しない化合物）であってもよく、重合体であってもよい。特定被覆剤は、カルボキシ基含有化合物を含むことが好ましく、カルボキシ基含有化合物としてモノカルボン酸又はカルボキシ基含有重合体を含むことがより好ましい。

　上記特定被覆剤として用いられるモノカルボン酸としては、下記式（２）で表される化合物が挙げられる。
　Ｒ^３－ＣＯＯＨ　　…（２）
（式（２）中、Ｒ^３は、炭素数４以上の１価の炭化水素基若しくはハロゲン化炭化水素基、又は、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子よりなる群から選択される１個以上を有する１価の基である。）

　上記式（２）において、Ｒ^３で表される炭素数４以上の１価の炭化水素基としては、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基、及び芳香族炭化水素基が挙げられる。また、Ｒ^３で表される１価の炭化水素基が鎖状炭化水素基又は脂環式炭化水素基である場合、飽和及び不飽和のいずれでもよく、鎖状炭化水素基である場合、直鎖状及び分岐状のいずれでもよい。Ｒ^３で表される１価の炭化水素基は、これらのうち鎖状炭化水素基が好ましく、アルキル基又はアルケニル基がより好ましい。Ｒ^３の炭素数は、粒子（Ａ）の分散性を高める観点から、好ましくは６以上であり、より好ましくは７以上である。また、被覆容易性の観点から、Ｒ^３の炭素数は、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２０以下である。Ｒ^３が炭素数４以上の１価のハロゲン化炭化水素基である場合、Ｒ^３が有するハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子等が挙げられる。

　Ｒ^３が酸素原子、硫黄原子及び窒素原子よりなる群から選択される１個以上を有する１価の基である場合、当該１価の基としては、炭化水素基における炭素－炭素結合間に－Ｏ－、－Ｓ－及び－ＮＨ－よりなる群から選択される１種以上を含む基、炭化水素基が有する任意の水素原子が水酸基、チオール基及びアミノ基よりなる群から選択される１種以上で置換された基が挙げられる。これらのうち、炭化水素基における炭素－炭素結合間に－Ｏ－を含む基が好ましい。Ｒ^３が酸素原子、硫黄原子及び窒素原子よりなる群から選択される１個以上を有する１価の基である場合、Ｒ^３の炭素数は、粒子（Ａ）の分散性を高める観点から、２以上が好ましく、２～１５がより好ましく、２～８が更に好ましい。

　上記式（２）で表される化合物の具体例としては、Ｒ^３が１価の炭化水素基であるモノカルボン酸として、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン酸、ヘキサデカン酸、オクタデカン酸、ステアリン酸、２－エチルヘキサン酸、２－メチルヘプタン酸、ネオデカン酸、２－ヘキシルデカン酸、ナフテン酸、シクロヘキサンカルボン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等が挙げられる。

　Ｒ^３が酸素原子、硫黄原子及び窒素原子よりなる群から選択される１個以上を有する１価の基であるモノカルボン酸として、メトキシ酢酸、エトキシ酢酸、３－エトキシプロピオン酸、２－メトキシエトキシ酢酸、グリオキシル酸、ピルビン酸、ヒドロキシ安息香酸、チオグリコール酸、２－［２－（２－メトキシエトキシ）］エトキシ酢酸、オキソ吉草酸、アスパラギン、グルタミン、メチオニン、グリコール酸、乳酸、２－ヒドロキシイソ酪酸、ヒドロキシステアリン酸、サリチル酸等が挙げられる。

　カルボキシ基含有重合体としては、カルボキシ基を有する構造単位を含む重合体を好ましく使用できる。特定被覆剤としてのカルボキシ基含有重合体の具体例としては、後述するバインダー樹脂（Ｇ）の具体例として例示する重合体と同様のものが挙げられる。

　上記表面被覆剤としては、上記特定被覆剤以外の化合物（以下、「その他の被覆剤」ともいう）を単独で用いてもよく、又は、上記特定被覆剤と併用してもよい。その他の被覆剤としては、例えば、チタンアルコキシド、アルコキシシリル基含有化合物、不飽和炭素－炭素結合含有化合物等が挙げられる。これらの具体例としては、チタンアルコキシドとして、チタニウムテトラ－ｎ－ブトキシド、チタニウムテトラ－ｔ－ブトキシド、チタニウムテトラエトキシド等が挙げられる。アルコキシシリル基含有化合物としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等が挙げられる。不飽和炭素－炭素結合含有化合物としては、アルコキシシリル基含有化合物として例示した化合物のうち、炭素－炭素不飽和結合を有するシラン化合物が挙げられる。また、上記表面被覆剤として、塩基性基を有する化合物も使用することができる。

　上記特定被覆剤とその他の被覆剤を併用する場合、その他の被覆剤の使用割合は、粒子（Ａ）の被覆に使用する表面被覆剤の全量に対して、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。

　粒子（Ａ）が、被覆粒子である場合、その製造方法は特に限定されず、公知の方法に従い被処理粒子と表面被覆剤とを接触させることにより製造することができる。このとき、被覆粒子は、トップダウン法により製造されてもよく、ボトムアップ法により製造されてもよい。また、被覆粒子は、気相中で製造されてもよく、液相中で製造されてもよい。例えば、被処理粒子と表面被覆剤とを好ましくは水存在下で接触させることにより被覆粒子を得ることができる。また、被処理粒子と表面被覆剤とを好ましくは分散剤の存在下、有機溶媒中で混合し、ビーズを用いて撹拌処理を行うことにより被覆粒子を得てもよい。被処理粒子と表面被覆剤とを接触させる際の温度や圧力については、採用する製造方法に応じて適宜設定することができる。被処理粒子と表面被覆剤とを接触させる際において、被処理粒子と表面被覆剤との割合は、例えば、被処理粒子１００質量部に対し、表面被覆剤が０．５～２０質量部となる量とすることができ、被処理粒子１００質量部に対し、表面被覆剤が１～２０質量部となる量とすることが好ましい。

　また、粒子（Ａ）として、特開２０１３－００８４２８号公報や特開２００９－１７９６７８号公報に記載のケイ素、亜鉛、スズ、ジルコニウム、アルミニウム等の無機酸化物で表面が被覆された酸化チタン粒子（無機酸化物被覆酸化チタン粒子）も好適に用いることができる。

　本組成物は、上記粒子（Ａ）を１種又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。

　本組成物における粒子（Ａ）の含有割合（複数種含む場合は合計の含有割合）の下限値は、得られる硬化物の高屈折率化を図る観点から、本組成物に含まれる固形分（即ち、溶剤以外の成分）の全量に対して、１０質量％が好ましく、１５質量％がより好ましく、３５質量％が更に好ましく、４５質量％がより更に好ましく、５５質量％が特に好ましい。また、粒子（Ａ）の含有割合の上限値は、分散液の安定性確保の観点から、本組成物に含まれる固形分の全量に対して、９５質量％が好ましく、９０質量％がより好ましい。

＜ラジカル重合性化合物（Ｂ）＞
　ラジカル重合性化合物（Ｂ）としては、単官能重合性化合物（Ｂ１）、多官能重合性化合物（Ｂ２）を挙げることができる。ラジカル重合性化合物（Ｂ）とは、本組成物に対する放射線照射に伴い、複数の重合性化合物（Ｂ）同士が反応して重合体を生成し得る化合物である。

　単官能重合性化合物（Ｂ１）としては、ラジカル重合性基を１個有する化合物を好ましく使用でき、例えば、（メタ）アクリロイル基含有化合物、鎖状ビニル化合物、芳香族ビニル化合物、マレイミド化合物等が挙げられる。（メタ）アクリロイル基含有化合物の具体例としては、不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、鎖状構造からなる（メタ）アクリル酸エステル、脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステル、芳香環構造を有する（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド化合物、鎖状ビニル化合物、リン酸基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物等が挙げられる。これらの化合物は、重合性が良好である点や、可塑性が比較的高い点で好ましく使用できる。単官能重合性化合物（Ｂ１）としては、高屈折率化を図る観点や透明性の観点から、中でも（メタ）アクリロイル基含有化合物を好ましく使用できる。

　上記不飽和カルボン酸としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸等；上記不飽和カルボン酸無水物としては、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物等が挙げられる。

　上記鎖状構造からなる（メタ）アクリル酸エステルとしては、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸ポリオキシアルキレンエステル、（メタ）アクリル酸アルコキシポリオキシアルキレンエステル、（メタ）アクリル酸ポリオキシカルボニルアルキレンエステル、（メタ）アクリル酸アルコキシポリオキシカルボニルアルキレンエステル、ジカルボン酸のモノ（メタ）アクリロイルオキシアルキルエステル等が挙げられる。

　上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ－プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ｎ－ラウリル、（メタ）アクリル酸ｎ－ステアリル等；
　上記（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４－ヒドロキシブチル等；
　上記（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル、（メタ）アクリル酸プロポキシエチル等；
　上記（メタ）アクリル酸ポリオキシアルキレンエステル及び（メタ）アクリル酸アルコキシポリオキシアルキレンエステルとしては、（メタ）アクリル酸メトキシジエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシテトラエチレングリコール、（メタ）アクリル酸エトキシジエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシジプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸エトキシジプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルオキシジエチレングリコール、α－（メタ）アクリロイルオキシ－ω－カルボキシメチル－ポリエチレングリコール（ＡＡ－ＰＥＧ－ＣＯＯＨ）等；
　上記（メタ）アクリル酸ポリオキシカルボニルアルキレンエステルとしては、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等；
　上記ジカルボン酸のモノ（メタ）アクリロイルオキシアルキルエステルとしては、こはく酸モノ（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）、フタル酸モノ（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）等が挙げられる。

　上記脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、（メタ）アクリル酸シクロへキシル、（メタ）アクリル酸２－メチルシクロへキシル、（メタ）アクリル酸４－ブチルシクロへキシル、（メタ）アクリル酸４－ヒドロキシメチルシクロへキシル、（メタ）アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン－８－イル、（メタ）アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０^２，５］デカン－８－イルオキシエチル、（メタ）アクリル酸イソボルニル等が挙げられる。

　上記芳香環構造を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ナフチルメチル、（メタ）アクリル酸ナフチルエチル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニルチオエチル、（メタ）アクリル酸ｍ－フェノキシフェニルメチル、（メタ）アクリル酸ｐ－フェノキシフェニルメチル、（メタ）アクリル酸ｏ－フェニルフェノキシエチル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル、（メタ）アクリル酸ポリエチレンオキシノニルフェニル、（メタ）アクリル酸（１－ナフチル）メチル、（メタ）アクリル酸（２－ナフチル）メチル、（メタ）アクリル酸（１，１’－ビフェニル－４－イル）メチル、４’－（６－アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ビフェニル－４－カルボン酸（ＣＡＳ番号：１３４９０３－８８－１）、等が挙げられる。

　上記（メタ）アクリルアミド化合物としては、（メタ）アクリロイルモルフォリン、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン、Ｎ－ビニル－ε－カプロラクタム等が挙げられる。

　上記鎖状ビニル化合物としては、プロペン、ブテン、ペンテン、ヘキセン等が挙げられる。上記芳香族ビニル化合物としては、スチレン、メチルスチレン、α－メチルスチレン、ｔ－ブトキシスチレン、ｏ－ヒドロキシスチレン、ｍ－ヒドロキシスチレン、ｐ－ヒドロキシスチレン、ｏ－ビニル安息香酸、ｍ－ビニル安息香酸、ｐ－ビニル安息香酸、ビニルナフタレン等が挙げられる。上記マレイミド化合物としては、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－（ｐ－メチルフェニル）マレイミド等が挙げられる。

　上記リン酸基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物としては、リン酸メタクリル酸２－ヒドロキシエチルエステル（ＣＡＳ番号：５２６２８－０３－２）、ｂｅｔａ－（２－フリル）アクリルアミドリン酸エステル（ＣＡＳ番号：１６６５５－９９－５），ビス（２－メチルアクリロキシエチル）ホスフェート（ＣＡＳ番号：３２４３５－４６－４）、ポリエチレングリコールメタクリレートホスフェート（ＣＡＳ番号：３５７０５－９４－３）、ビス（２－（アクリロイルオキシ）エチル）ホスフェート（ＣＡＳ番号：４００７４－３４－８），１０－（２－メタクリロイルオキシ基）モノデシルホスフェート（ＣＡＳ番号：８５５９０－００－７）等が挙げられる。

　単官能重合性化合物（Ｂ１）の更なる具体例としては、下記式（ｂ１－１）～式（ｂ１－２８）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。

（式（ｂ１－１）～式（ｂ１－２８）中、Ｒ^２０は、水素原子又はメチル基である。Ｒ^２１は、炭素数１～２０の１価の炭化水素基である。ｎは０～１０の整数である。）

　上記多官能重合性化合物（Ｂ２）としては、ラジカル重合性基を２個以上有する化合物を好ましく使用でき、例えば、多官能（メタ）アクリロイル基含有化合物、多官能芳香族ビニル化合物、多官能鎖状ビニル化合物等が挙げられる。

　上記多官能（メタ）アクリロイル基含有化合物の具体例としては、２官能（メタ）アクリル酸エステル、３官能以上の（メタ）アクリル酸エステル等を例示できる。これらの具体例としては、２官能（メタ）アクリル酸エステルとして、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

　３官能以上の（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）フォスフェート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、コハク酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリス（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）、カルボキシ基含有多塩基酸変性（メタ）アクリルオリゴマーの他、直鎖アルキレン基及び脂環式構造を有し、かつ２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、分子内に１個以上のヒドロキシ基とを有し、かつ３個、４個又は５個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と反応させて得られる多官能ウレタンアクリレート化合物等が挙げられる。

　上記多官能芳香族ビニル化合物としては、１，３－ジビニルベンゼン、１，４－ジビニルベンゼン等が挙げられる。上記多官能鎖状ビニル化合物としては、１，５－ヘキサジエン、１，６－ヘプタジエン、１，７－オクタジエン等が挙げられる。

　多官能重合性化合物（Ｂ２）の更なる具体例としては、下記式（ｂ２－２９）～式（ｂ２－５３）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。

（式（ｂ２－２９）～式（ｂ２－５３）中、Ｒ^２０は、水素原子又はメチル基である。ｍ及びｎは、それぞれ独立して０～１０の整数である。ｘ、ｙ及びｚは、それぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、１≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦３を満たす。）

　多官能重合性化合物（Ｂ２）としては、高屈折率化を図る観点や透明性の観点から、上記の中でも（メタ）アクリロイル基含有化合物を好ましく使用できる。

　また、ラジカル重合性化合物（Ｂ）として、ラジカル重合性基とカチオン重合性基の両方を有する重合性化合物（Ｂ３）も挙げることができ、上記単官能重合性化合物（Ｂ１）や多官能重合性化合物（Ｂ２）と併用することが好ましい。カチオン重合性基としては、エポキシ基、オキセタニル基又はビニルエーテル基を挙げることができる。

　ラジカル重合性基とカチオン重合性基の両方を有する重合性化合物（Ｂ３）としては、ラジカル重合性基として、ビニル基又は（メタ）アクリロイル基を有し、カチオン重合性基として、エポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物が好ましい。重合性化合物（Ｂ３）としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシトリシクロ［５．２．１．０^２，６］デシル（メタ）アクリレート、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル［３，４－エポキシトリシクロ（５．２．１．０^２，６）デカン－９－イル］、メタクリル酸［３，４－エポキシトリシクロ（５．２．１．０^２，６）デカン－９－イル］、（３－メチルオキセタン－３－イル）メチル（メタ）アクリレート、（３－エチルオキセタン－３－イル）（メタ）アクリレート、（３－エチルオキセタン－３－イル）メチル（メタ）アクリレート、（オキセタン－３－イル）メチル（メタ）アクリレート、３－（メタ）アクリロイルオキシメチル－３－エチルオキセタン、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、３－［（４－ビニルベンジル）オキシメチル］－３－エチルオキセタン等が挙げられ、３－［（４－ビニルベンジル）オキシメチル］－３－エチルオキセタンが好ましい。

　本組成物は、上記ラジカル重合性化合物（Ｂ）を１種又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。

　上記ラジカル重合性化合物（Ｂ）が、単官能重合性化合物（Ｂ１）と多官能重合性化合物（Ｂ２）の両方を含む場合、単官能重合性化合物（Ｂ１）の含有量は、単官能重合性化合物（Ｂ１）と多官能重合性化合物（Ｂ２）との合計量に対して２０質量％以上含むことが好ましく、３０質量％以上含むことがより好ましく、４０質量％以上含むことが更に好ましい。また、単官能重合性化合物（Ｂ１）の含有量は、単官能重合性化合物（Ｂ１）と多官能重合性化合物（Ｂ２）との合計量に対して、１００質量％以下含むことが好ましく、９０質量％以下含むことが好ましく、８０質量％以下含むことがより好ましく、７０質量％以下含むことが更に好ましい。

　また、ラジカル重合性化合物（Ｂ）が、前記重合性化合物（Ｂ３）を含む場合、その含有量は、ラジカル重合性化合物（Ｂ）中５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましい。

　本組成物におけるラジカル重合性化合物（Ｂ）の含有割合（上記重合性化合物（Ｂ１）～（Ｂ３）を複数種含む場合は合計の含有割合）の下限値は、粒子（Ａ）１００質量部に対して、５質量部が好ましく、１０質量部がより好ましく、２０質量部が更に好ましい。また、ラジカル重合性化合物（Ｂ）の含有割合の上限は、粒子（Ａ）１００質量部に対して、３５０質量部が好ましく、２００質量部がより好ましく、１００質量部がさら更に好ましく、５０質量部がより更に好ましく、４５質量部がより更に好ましく、３５質量部が特に好ましい。本組成物におけるラジカル重合性化合物（Ｂ）の含有割合を上記範囲とすることにより、屈折率を高めることができ、本組成物の感度を良好にでき、また耐熱性及び耐薬品性が良好な硬化物を得ることができる。

＜ラジカル重合性基を有さず、カチオン重合性基を有するカチオン重合性化合物（Ｂ４）＞
　本発明においては、ラジカル重合性基を有さず、カチオン重合性基を有するカチオン重合性化合物（Ｂ４）を用いることができる。カチオン重合性化合物（Ｂ４）としては、エポキシ基（オキシラニル基）を有する化合物又はオキセタニル基を有する化合物（オキセタン化合物）が好ましい。カチオン重合性化合物（Ｂ４）は、カチオン重合性基を１個以上有すればよく、１～３個有することが好ましい。

　上記エポキシ基を有する化合物としては、エポキシ基を有する脂環式化合物（脂環式エポキシ化合物）、エポキシ基を有する芳香族化合物（芳香族エポキシ化合物）、エポキシ基を有する非環式化合物（非環式エポキシ化合物）等が挙げられ、脂環式エポキシ化合物が好ましい。脂環式エポキシ化合物としては、３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシシクロヘキシルアルキル（メタ）アクリレート（例えば、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等）、（３、３’、４、４’－ジエポキシ）ビシクロヘキシル、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等が挙げられる。

　上記オキセタン化合物としては、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン（東亞合成（株）製商品名アロンオキセタンＯＸＴ－１０１等）、１，４－ビス［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン（同ＯＸＴ－１２１等）、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン（同ＯＸＴ－２１１等）、ジ（１－エチル－（３－オキセタニル））メチルエーテル（同ＯＸＴ－２２１等）、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン（同ＯＸＴ－２１２等）等が挙げられる。

　また、エポキシ基とオキセタニル基との両方を有する化合物も用いることができる。当該化合物としては、３－エチル－３－（２，３－エポキシプロポキシメチル）オキセタンが挙げられる。

　本組成物が上記カチオン重合性化合物（Ｂ４）を含有する場合、カチオン重合性化合物（Ｂ４）の含有割合（複数種含む場合は合計の含有割合）の下限値は、粒子（Ａ）１００質量部に対して、５質量部が好ましく、１０質量部がより好ましく、２０質量部が更に好ましい。また、カチオン重合性化合物（Ｂ４）の含有割合の上限は、粒子（Ａ）１００質量部に対して、１００質量部が好ましく、８０質量部がより好ましく、６０質量部が更に好ましい。本組成物におけるカチオン重合性化合物（Ｂ４の含有割合を上記範囲とすることにより、屈折率を高めることができ、本組成物の感度を良好にでき、また耐熱性及び耐薬品性が良好な硬化物を得ることができる。

　上記ラジカル重合性化合物（Ｂ）としては、上記重合性化合物（Ｂ１）～（Ｂ４）を適宜組み合わせて用いることができるが、これらの中でも、エチレンオキサイド鎖、プロピレンオキサイド鎖等のアルキレンオキサイド鎖を有する重合性化合物、酸性基を有する重合性化合物が、折り曲げ耐性や分散性の観点から好ましい。

＜光ラジカル発生剤（Ｃ）＞
　光ラジカル発生剤（Ｃ）としては、放射線に感応してラジカルを発生し、前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）の重合を開始できる光ラジカル重合開始剤を好ましく使用できる。使用される光重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、Ｏ－アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物等を挙げることができる。

　Ｏ－アシルオキシム化合物としては、例えば、１，２－オクタンジオン１－［４－（フェニルチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン－１－〔９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル〕－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、１－（９－エチル－６－ベンゾイル－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル）－オクタン－１－オンオキシム－Ｏ－アセテート、１－〔９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル〕－エタン－１－オンオキシム－Ｏ－ベンゾエート、１－〔９－ｎ－ブチル－６－（２－エチルベンゾイル）－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル〕－エタン－１－オンオキシム－Ｏ－ベンゾエート、エタノン－１－［９－エチル－６－（２－メチル－４－テトラヒドロフラニルベンゾイル）－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、エタノン－１－〔９－エチル－６－（２－メチル－４－テトラヒドロピラニルベンゾイル）－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル〕－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、エタノン－１－〔９－エチル－６－（２－メチル－５－テトラヒドロフラニルベンゾイル）－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル〕－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、エタノン－１－〔９－エチル－６－｛２－メチル－４－（２，２－ジメチル－１，３－ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝－９．Ｈ．－カルバゾール－３－イル〕－１－（Ｏ－アセチルオキシム）等が挙げられる。また、市販品として、例えば、アデカアークルズＮ－１９１９Ｔ、同ＮＣＩ－８３１Ｅ、同ＮＣＩ－９３０、同ＮＣＩ－７３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、イルガキュアＯＸＥ０１、同ＯＸＥ２、同ＯＸＥ３、同ＯＸＥ４（以上、ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。

　アセトフェノン化合物としては、例えば、α－アミノケトン化合物、α－ヒドロキシケトン化合物等が挙げられる。これらの具体例としては、α－アミノケトン化合物として、例えば、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタン－１－オン、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチルベンジル）－１－（４－モルフォリン－４－イル－フェニル）－ブタン－１－オン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン等が挙げられる。α－ヒドロキシケトン化合物としては、例えば、１－フェニル－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ｉ－プロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。また、市販品として、例えば、イルガキュア３６９、同３６９Ｅ、同３７９ＥＧ、同６５１、同１８４、同９０７（以上、ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。

　ビイミダゾール化合物としては、例えば、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール、２，２’－ビス（２，４－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール、又は２，２’－ビス（２，４，６－トリクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール等を挙げることができる。

　アシルホスフィンオキサイド化合物としては、例えば、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルホスフィンオキサイド、フェニルビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキサイド等が挙げられる。

　本組成物は、上記光ラジカル発生剤（Ｃ）を１種又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。

　本組成物における光ラジカル発生剤（Ｃ）の含有割合（複数種含む場合は合計の含有割合）の下限値は、本組成物中に含まれる粒子（Ａ）１００質量部に対して、０．５質量部が好ましく、１質量部がより好ましい。また、光ラジカル発生剤（Ｃ）の含有割合の上限値は、本組成物中に含まれる粒子（Ａ）１００質量部に対して、４０質量部が好ましく、３０質量部がより好ましく、１５質量部が更に好ましく、１０質量部がより更に好ましく、５質量部が特に好ましい。光ラジカル発生剤（Ｃ）の含有割合を上記範囲とすることにより、良好な硬化性と透明性を示す感光性組成物とすることができる。

＜脱水剤（Ｄ）＞
　本組成物（１）は、脱水剤（Ｄ）を含有し、脱水剤（Ｄ）は、オルトエステル化合物を含む。オルトエステル化合物とは、３個の基「－ＯＲ^１」（ただし、Ｒ^１は１価の炭化水素基である）が同一の炭素に結合した構造を有する化合物であり、一般式：Ｒ^２－Ｃ（ＯＲ^１）_３で表される。ここで、Ｒ^２は、水素原子又は１価の有機基である。オルトエステル化合物は、加水分解してエステルに変わる。こうしたオルトエステル化合物を感光性組成物に含有させることにより、オルトエステル化合物の吸水作用によって、感光性組成物の経時塗布性や保存安定性を向上させることができる。また、オルトエステル化合物は、アルカリ現像液に対し安定で疎水的であり、露光部に及ぼす影響（例えば、感度への影響）も少ない点で好ましい。

　オルトエステル化合物が有する基「－ＯＲ^１」としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ｎ－ペントキシ基、フェノキシ基、メチルフェニルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、オルトエステル化合物が有する基「－ＯＲ^１」は、アルコキシ基が好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がより好ましい。なお、オルトエステル化合物が有する３個の基「－ＯＲ^１」は、互いに同一の基又は異なる基である。

　Ｒ^２としては、例えば、水素原子、１価の鎖状炭化水素基、当該鎖状炭化水素基の少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子で置換されたハロゲン化鎖状炭化水素基、１価の芳香環基等が挙げられる。これらのうち、Ｒ^２は、水素原子、１価の鎖状炭化水素基又は１価の芳香環基が好ましく、具体的には、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、炭素数６～２０のアリール基が挙げられる。

　オルトエステル化合物としては、上記の中でも、下記式（１）で表される化合物を好ましく使用することができる。
　　　Ｒ^２１－Ｃ－（ＯＲ^１１）_３　　…（１）
（式（１）中、Ｒ^１１は、炭素数１～４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｒ^２１は、水素原子、炭素数１～４の１価の鎖状炭化水素基又は炭素数６～１２の１価の芳香環基である。３個のＲ^１１は、互いに同一又は異なる。）

　上記式（１）において、Ｒ^１１のアルキル基は、直鎖状でも分岐状でもよい。感度への影響がより小さい点で、Ｒ^１１は、メチル基、エチル基又はフェニル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。

　Ｒ^２１の鎖状炭化水素基は、炭素数１～４の鎖状又は分岐状のアルキル基が好ましい。Ｒ^２１の芳香環基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。また、当該鎖状炭化水素基や芳香環基の少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子で置換された基であってもよい。Ｒ^２１は、経時塗布性や保存安定性の向上効果が高い点で、１価の芳香環基が好ましく、フェニル基が特に好ましい。

　オルトエステル化合物の具体例としては、オルトクロロ酢酸トリエチル、オルト蟻酸トリメチル、オルト蟻酸トリエチル、オルト蟻酸トリプロピル、オルト蟻酸トリイソプロピル、オルト蟻酸トリブチル、オルト蟻酸ジエチルフェニル、オルト酢酸トリメチル、オルト酢酸トリエチル、オルトジクロロ酢酸トリエチル、オルト酪酸トリメチル、オルト酪酸トリエチル、オルトプロピオン酸トリメチル、オルトプロピオン酸トリエチル、オルト吉草酸トリメチル、オルト吉草酸トリエチル、オルトイソ酪酸トリメチル、オルト安息香酸トリメチル、オルト安息香酸トリエチル等が挙げられ、これらの中でも、オルト酢酸メチル、オルト酢酸トリエチル、オルト安息香酸トリメチル、及びオルト安息香酸トリエチルよりなる群から選択される１種以上であることが好ましく、オルト酢酸トリエチル、オルト安息香酸トリメチル、及びオルト安息香酸トリエチルよりなる群から選択される１種以上であることがより好ましく、オルト安息香酸トリメチル及びオルト安息香酸トリエチルよりなる群から選択される１種以上であることが更に好ましい。

　オルトエステル化合物としては、経時塗布性や保存安定性の観点から、芳香環基を有する化合物を好ましく使用できる。芳香環基を有する化合物の具体例としては、上記式（１）においてＲ^１１及びＲ^２１の少なくとも一つの基が芳香環含有基である化合物が挙げられる。

　芳香環基を有するオルトエステル化合物の具体例としては、オルト安息香酸トリメチル、オルト安息香酸トリエチル、オルト蟻酸ジエチルフェニル等を挙げることができる。これらのうち、経時塗布性及び保存安定性の改善効果が高い点で、オルト安息香酸トリメチル及びオルト安息香酸トリエチルが特に好ましい。

　オルトエステル化合物の沸点は、特に限定されないが、１気圧において１０５℃以上であることが好ましく、１１０℃以上であることがより好ましく、１１５℃以上であることが更に好ましい。なお、オルトエステル化合物の沸点が高い場合、感光性組成物を塗布手段等に一定時間滞在させても、その間にオルトエステル化合物が揮発するのを抑制でき、オルトエステル化合物の配合効果を維持することができるため好ましい。

　沸点が１気圧において１０５℃以上であるオルトエステル化合物の具体例としては、オルト蟻酸トリエチル（沸点１４５℃）、オルト蟻酸トリプロピル（沸点１９８℃）、オルト蟻酸トリブチル（沸点２４７℃）、オルト酢酸トリメチル（沸点１０８℃）、オルト酢酸トリエチル（沸点１４５℃）、オルトジクロロ酢酸トリエチル（沸点１９５℃）、オルト酪酸トリメチル（沸点１４６℃）、オルトプロピオン酸トリメチル（沸点１２８℃）、オルトプロピオン酸トリエチル（沸点１５８℃）、オルト吉草酸トリメチル（沸点１６４℃）、オルト安息香酸トリメチル（沸点１１５℃）、オルト安息香酸トリエチル（沸点２４０℃）等が挙げられ、これらの中でも、オルト安息香酸トリメチル（沸点１１５℃／３．３ｋＰａ）、オルト安息香酸トリエチル（沸点２４０℃）が好ましい。なお、本明細書において沸点は１気圧下での値である。

　脱水剤（Ｄ）は、上記オルトエステル化合物を１種又は２種以上組み合わせて含んでいてもよく、また、オルトエステル化合物以外の公知の脱水剤を含んでもよいが、オルトエステル化合物のみからなることが好ましい。

　本組成物における脱水剤（Ｄ）の含有割合の下限値は、本組成物中に含まれる粒子（Ａ）１００質量部に対して、１質量部が好ましく、３質量部がより好ましく、５質量部が更に好ましい。また、脱水剤（Ｄ）の含有割合の上限値は、本組成物中に含まれる粒子（Ａ）１００質量部に対して、４０質量部が好ましく、３０質量部がより好ましく、２５質量部更に好ましい。脱水剤（Ｄ）の含有割合を上記範囲にすることで、経時塗布性、保存安定性に優れる感光性組成物とすることができるため好ましい。

　本組成物（１）には、上記粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、光ラジカル発生剤（Ｃ）、及び脱水剤（Ｄ）以外の成分を含むことができる。その他の成分としては、光酸発生剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）、バインダー樹脂（Ｇ）、界面活性剤（Ｈ）、密着助剤（Ｉ）等を挙げることができる。また、本組成物（２）には、上記粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、及び光ラジカル発生剤（Ｃ）以外の成分を含むことができる。その他の成分としては、上記脱水剤（Ｄ）、光酸発生剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）、バインダー樹脂（Ｇ）、界面活性剤（Ｈ）、密着助剤（Ｉ）、増感剤（Ｊ）等を挙げることができる。

＜光酸発生剤（Ｅ）＞
　光酸発生剤（Ｅ）は、光又はその他の放射線の照射によって酸を発生する化合物をいう。放射線としては、例えば、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等が挙げられる。この酸の発生により、カチオン重合性化合物のカチオン重合を開始させることができる。従って、上記ラジカル重合性化合物（Ｂ）が、重合性化合物（Ｂ３）を含有する場合は、光酸発生剤（Ｅ）を含むことが好ましい。

　光酸発生剤（Ｅ）としては、例えば、オキシムスルホネート化合物、スルホンイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物、オニウム塩等を挙げることができる。これらの化合物の具体例としては、例えば、特開２０２０－０２６５１５号公報に記載のものを挙げることができる。これらの中でも、オニウム塩が好ましい。

　上記オニウム塩としては、ジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、テトラヒドロチオフェニウム塩等を挙げることができる。ジフェニルヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４－イソブチルフェニル－４’－トルイルヨードヘキサフルオロホスフェートを挙げることができる。トリフェニルスルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート、ジフェニル［４－（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムヘキサフルオロホスフェート等を挙げることができる。これらの中でも、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル［４－（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムヘキサフルオロホスフェートが好ましい。

　本組成物は、上記光酸発生剤（Ｅ）を１種又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。

　本組成物が光酸発生剤（Ｅ）を含有する場合、光酸発生剤（Ｅ）の含有割合（複数種含む場合は合計の含有割合）の下限値は、本組成物中に含まれる粒子（Ａ）１００質量部に対して、０．１質量部が好ましく、０．２質量部がより好ましく、０．５質量部が更に好ましく、１質量部がより更に好ましい。また、光酸発生剤（Ｅ）の含有割合の上限値は、本組成物中に含まれる粒子（Ａ）１００質量部に対して、１０質量部が好ましく、５質量部がより好ましい。光酸発生剤（Ｅ）の含有割合を上記範囲とすることにより、良好な硬化性を示す感光性組成物とすることができる。

　本組成物に光酸発生剤（Ｅ）を使用する場合には、上記重合性化合物（Ｂ３）や、密着助剤（Ｉ）の中でもオキシラニル基又はオキセタニル基のようなカチオン重合性基を有するもの、重合性化合物（Ｂ４）を用いることができる。また、本組成物に光酸発生剤（Ｅ）を使用する場合には、感度向上のため増感剤（Ｊ）を用いることができる。

＜溶剤（Ｆ）＞
　本組成物は、上記粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、光ラジカル発生剤（Ｃ）、脱水剤（Ｄ）、及び必要に応じて配合されるその他の成分が、溶剤に溶解又は分散された液状の組成物であることが好ましい。溶剤（Ｆ）としては、上記粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、光ラジカル発生剤（Ｃ）、及び脱水剤（Ｄ）を溶解し、かつ各成分と反応しない有機溶媒が好ましい。

　溶剤（Ｆ）の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類；エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレンジグリコールモノメチルエーテル、エチレンジグリコールエチルメチルエーテル、ジメチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。これらのうち、溶剤（Ｆ）としては、アルコール類、エーテル類、及びエステル類よりなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３－メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジアセトンアルコール、及びジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートよりなる群から選択される少なくとも１種を含むことがより好ましい。

　溶剤（Ｆ）としては、経時塗布性の観点から、沸点が高い（例えば、１６０℃以上）溶剤を含むことが好ましい。

＜バインダー樹脂（Ｇ）＞
　バインダー樹脂（Ｇ）は、酸性基を有する重合体であることが好ましい。酸性基としては、カルボキシ基、フェノール性水酸基、フッ素化ヒドロキシアルキル基等が挙げられる。バインダー樹脂は、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。ここで、「アルカリ可溶性」とは、２５℃において、２．３８質量％濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液に溶解又は膨潤可能な重合体をいう。フッ素化ヒドロアルキル基は、ヒドロキシアルキル基が有する、炭素に結合する任意の水素原子がフッ素原子で置換された基をいう。

　上記バインダー樹脂（Ｇ）としては、エチレン性不飽和単量体を構成単位とする重合体を好ましく使用できる。当該重合体を構成するエチレン性不飽和単量体としては、単官能重合性化合物（Ｂ１）として例示した化合物と同様の化合物が挙げられ、カルボキシ基含有化合物を含むことが好ましい。この場合、バインダー樹脂（Ｇ）は、カルボキシ基含有化合物に由来する構造単位を、バインダー樹脂（Ｇ）を構成する全構造単位に対して、５質量％以上有することが好ましく、１０質量％以上有することがより好ましく、２０質量％以上有することが更に好ましい。

　バインダー樹脂（Ｇ）が、エチレン性不飽和単量体を構成単位とする重合体である場合、当該重合体は、例えば、上述したエチレン性不飽和単量体を用い、適当な溶媒中、重合開始剤等の存在下で、ラジカル重合等の公知の方法に従って製造することができる。重合開始剤としては、２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル等のアゾ化合物が挙げられる。重合開始剤の使用割合は、反応に使用する単量体の全量１００質量部に対して、０．０１～３０質量部であることが好ましい。重合溶媒としては、例えば、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、炭化水素類等が挙げられ、具体的には、上記溶剤（Ｆ）で挙げたものを挙げることができる。重合溶媒の使用量は、反応に使用する単量体の合計量が、反応溶液の全体量に対して、０．１～６０質量％になるような量にすることが好ましい。重合において、反応温度は、通常、３０℃～１８０℃である。反応時間は、重合開始剤及び単量体の種類や反応温度に応じて異なるが、通常、０．５～１０時間である。

　バインダー樹脂（Ｇ）としては、エチレン性不飽和単量体を構成単位とする重合体のほか、例えば、ノボラック樹脂、フェノール－キシリレングリコール縮合樹脂、クレゾール－キシリレングリコール縮合樹脂、フェノール－ジシクロペンタジエン縮合樹脂等のフェノール性水酸基含有重合体が挙げられる。また、バインダー樹脂（Ｇ）として、アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン、アルカリ可溶性ポリイミド、アルカリ可溶性ポリベンゾオキサゾール等を使用してもよい。アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサンの具体例としては、例えば、国際公開第２０１７／１８８０４７号、国際公開第２０１７／１６９７６３号等に記載されている重合体が挙げられる。アルカリ可溶性のポリイミド及びポリベンゾオキサゾールの具体例としては、例えば、国際公開第２０１７／１６９７６３号、国際公開第２０１７／１５９８７６号等に記載されている重合体が挙げられる。

　本組成物にバインダー樹脂（Ｇ）を含有させることによってアルカリ現像性の向上を図ることができる一方、得られる硬化物の表面平坦性が低下する傾向がある。従って、得られる硬化物の使用目的に応じてバインダー樹脂（Ｇ）を配合の有無、及びその配合量を決めることができる。具体的には、得られる硬化物に表面平坦性が必要とされる用途においては、バインダー樹脂（Ｇ）を使用しないことが好ましく、アルカリ現像性の向上が必要とされる用途においては、バインダー樹脂（Ｇ）を使用することが好ましい。

　本組成物は、上記バインダー樹脂（Ｇ）を１種又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。

　本組成物がバインダー樹脂（Ｇ）を含む場合、バインダー樹脂（Ｇ）の含有割合（複数種含む場合は合計の含有割合）は、本組成物中に含まれる粒子（Ａ）１００質量部に対して、１質量部以上３０質量部以下が好ましく、５質量部以上２０質量部以下がより好ましい。

＜界面活性剤（Ｈ）＞
　界面活性剤（Ｈ）は、本組成物の塗布性（濡れ広がり性や塗布ムラの低減）を改良するために使用することができる。界面活性剤（Ｈ）としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤が挙げられる。

　界面活性剤（Ｈ）の具体例としては、フッ素系界面活性剤として、以下商品名で、メガファックＦ－１７１、同Ｆ－１７２、同Ｆ－１７３、同Ｆ－２５１、同Ｆ－４３０、Ｆ－５５４、Ｆ－５６３（ＤＩＣ（株）製）；フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム社製）；アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０２、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、同ＳＣ－１０５、同ＳＣ－１０６、同Ｓ－６１１（ＡＧＣセイミケミカル（株）製）；ポリフローＮｏ．７５、同Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）；ＦＴＸ－２１８（（株）ネオス製）；エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（新秋田化成（株）製）等が挙げられる。

　シリコーン系界面活性剤としては、以下商品名で、ＳＨ２００－１００ｃｓ、ＳＨ－２８ＰＡ、ＳＨ－３０ＰＡ、ＳＨ－８９ＰＡ、ＳＨ－１９０、ＳＨ－８４００、ＦＬＵＩＤ、ＳＨ－１９３、ＳＺ－６０３２、ＳＦ－８４２８、ＤＣ－５７、ＤＣ－１９０、ＰＡＩＮＴＡＤ１９、ＦＺ－２１０１、ＦＺ－７７、ＦＺ－２１１８、Ｌ－７００１、Ｌ－７００２（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）；オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）；ＢＹＫ－３００、同３０６、同３１０、同３１３、同３２０、同３３０、同３３１、同３３５、同３４１、同３４４、同３７０、同３４０、同３４５（ビックケミー・ジャパン（株）製）が挙げられる。

　ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンｎ－オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ－ノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等が挙げられる。

　本組成物は、上記界面活性剤（Ｈ）を１種又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。

　本組成物中に界面活性剤（Ｈ）を配合する場合、界面活性剤（Ｈ）の含有割合（複数種含む場合は合計の含有割合）は、本組成物中に含まれる粒子（Ａ）１００質量部に対して、０．０１質量部以上１５質量部以下が好ましく、０．０１質量部以上５質量部以下がより好ましく、０．０１質量部以上３質量部以下が更に好ましく、０．０１質量部以上１．５質量部以下がより更に好ましく、０．０２質量部以上１．２質量部以下が特に好ましい。

　＜密着助剤（Ｉ）＞
　密着助剤（Ｉ）は、得られる硬化膜と基板との接着性を向上させる成分である。上記密着助剤（Ｉ）としては、カルボキシ基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、オキシラニル基等の反応性官能基を有する官能性シランカップリング剤が好ましい。

　上記官能性シランカップリング剤としては、例えば、トリメトキシシリル安息香酸、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ－イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。

　本組成物は、上記密着助剤（Ｉ）を１種又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。

　本組成物が密着助剤（Ｉ）を含む場合、密着助剤（Ｉ）の含有割合（複数種含む場合は合計の含有割合）は、本組成物中に含まれる粒子（Ａ）１００質量部に対して、１質量部以上６０質量部以下が好ましく、１質量部以上５０質量部以下がより好ましく、１質量部以上３５質量部以下が更に好ましく、１質量部以上１５質量部以下がより更に好ましく、３質量部以上１０質量部以下が特に好ましい。

＜増感剤（Ｊ）＞
　本発明において重合を増進させるために増感剤を使用できる。増感剤としては、例えばアミン系増感剤、アルコキシアントラセン系増感剤が挙げられる。アミン系増感剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、メチル４－ジメチルアミノベンゾエート、エチル４－ジメチルアミノベンゾエート、イソアミル４－ジメチルアミノベンゾエート、２－ジメチルアミノエチルベンゾエート、２－エチルヘキシル４－ジメチルアミノベンゾエート、Ｎ、Ｎ－ジメチルｐ－トルイジン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称：ミヒラーズ（Ｍｉｃｈｌｅｒ’ｓ）ケトン）、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノンなどが挙げられる。前記アルコキシアントラセン系増感剤としては、９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジブトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。

　本組成物が増感剤（Ｊ）を含む場合、増感剤（Ｊ）の含有割合（複数種含む場合は合計の含有割合）は、本組成物中に含まれる粒子（Ａ）１００質量部に対して、０．０１質量部以上１０質量部以下が好ましく、０．０１質量部以上５質量部以下がより好ましく、０．０５質量部以上５質量部以下が更に好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下がより更に好ましい。

　その他の成分としては、上記のほか、例えば、重合禁止剤、酸化防止剤、軟化剤、可塑剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。これらの成分の配合割合は、本開示の効果を損なわない範囲で各成分に応じて適宜選択される。

　本組成物（１）は、上記粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、光ラジカル発生剤（Ｃ）、脱水剤（Ｄ）、及び任意に配合されるその他の成分を、本組成物（２）は、上記粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、光ラジカル発生剤（Ｃ）、及び任意に配合されるその他の成分を、所定の割合で混合することにより得ることができる。各成分を混合することにより得られる組成物は、例えば、孔径０．５μｍ以下のフィルタでろ過してもよい。

　本組成物の固形分濃度（即ち、感光性組成物中の溶剤以外の成分の合計質量が、感光性組成物の全質量に対して占める割合）は、粘性や揮発性等を考慮して適宜に選択される。本組成物の固形分濃度は、好ましくは３～６０質量％の範囲である。固形分濃度が３質量％以上であると、本組成物を基板上に塗布した際に塗膜の膜厚を十分に確保できる点で好ましい。また、固形分濃度が６０質量％以下であると、塗膜の膜厚が過大となりすぎず、更に本組成物の粘性を適度に高くでき、良好な塗布性を確保できる点で好ましい。本組成物における固形分濃度は、より好ましくは５～５５質量％であり、更に好ましくは１０～５０質量％である。

　本組成物（２）に含まれる水分量は、２０００ｐｐｍ未満であり、１５００ｐｐｍ以下が好ましく、１２００ｐｐｍ以下がより好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更に好ましい。水分量が上記の範囲内であることで、安定した塗布性が得られる。組成物中の水分量は実施例に記載の方法で測定することができる。また、本組成物（１）においても、上記水分量であることが好ましい。

≪硬化物の製造方法≫
　上記のように調製された感光性組成物を用いることにより硬化物を製造することができる。本組成物は特に、感光性組成物により形成された膜の一部を露光し、未露光部をアルカリ現像液に溶解させることによって得られたパターン（即ち、感光性組成物により形成された部分）を熱処理により硬化させるネガ型のパターン形成材料として好適である。

　本開示の硬化物は、例えば、以下の工程（Ｉ）～（ＩＶ）を含む方法により製造される。
（Ｉ）基材上に本組成物を塗布する工程
（ＩＩ）基材上に塗布した本組成物に放射線を照射する工程
（ＩＩＩ）放射線を照射した後の本組成物を現像する工程
（ＩＶ）現像後の本組成物を１００℃以下の温度で加熱して硬化させる工程
　以下、本開示の製造方法における各工程（工程（Ｉ）～（ＩＶ））について説明する。

＜工程（Ｉ）：塗布工程＞
　工程（Ｉ）は、本組成物を基材上に塗布することにより、基材上に塗膜を形成する工程である。基材としては、例えば、ガラス基板、シリコンウエハ、プラスチック基板、プラスチックフィルム及びこれらの表面に着色レジスト、オーバーコート、反射防止膜、各種金属薄膜、封止膜等が形成された基板等が挙げられる。プラスチック基板及びプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックからなる樹脂基板及びフィルムが挙げられる。これらの基材には、各種素子（例えば、フォトダイオード等の受光素子や、有機発光ダイオード等の発光素子）が予め設けられていてもよい。

　本組成物の塗布方法としては、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット法等の適宜の方法を採用することができる。塗布方法としては、これらのうち、スピンコート法、バー塗布法、スリットダイ塗布法が好ましい。

　本組成物を基材上に塗布した後には、液だれ防止等を目的として、本組成物を予備加熱する処理（プレベーク）が行われてもよい。プレベークの条件は、各成分の種類や使用割合等によって適宜設定することができる。プレベークの条件は、例えば、６０～１００℃で３０秒間～１０分間程度の条件とすることができる。プレベーク温度は、有機ＥＬ素子に適用可能にする観点から、好ましくは６０～９０℃である。形成される塗膜の膜厚は、プレベーク後の値として、０．１～２０μｍが好ましく、０．２～１５μｍがより好ましい。

＜工程（ＩＩ）：露光工程＞
　工程（ＩＩ）は、工程（Ｉ）で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程である。この放射線照射により露光部において硬化反応が進行する。工程（ＩＩ）において、塗膜に対する放射線照射は、通常、マスクを介して実施される。マスクは、ハーフトーンマスクやグレイトーンマスク等の多階調マスクであってもよい。

　塗膜に照射する放射線としては、例えば、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等が挙げられる。紫外線としては、例えば、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザー光（波長２４８ｎｍ）等が挙げられる。Ｘ線としては、例えば、シンクロトロン放射線等が挙げられる。荷電粒子線としては、例えば、電子線等が挙げられる。これらのうち、塗膜に照射する放射線は紫外線が好ましく、波長２００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の紫外線がより好ましい。使用する光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマレーザー等が挙げられる。放射線の露光量としては、５００Ｊ／ｍ^２～５，０００Ｊ／ｍ^２（５０～５００ｍＪ／ｃｍ^２）が好ましい。

＜工程（ＩＩＩ）：現像工程＞
　工程（ＩＩＩ）は、工程（ＩＩ）により放射線が照射された塗膜を現像することにより、基材上にパターンを形成する工程である。この現像工程により、基材上に形成された塗膜のうち未露光部が除去されて、露光部からなるパターンを基材上に形成することができる。

　現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ－プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ－ｎ－プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ〔５．４．０〕－７－ウンデセン、１，５－ジアザビシクロ〔４．３．０〕－５－ノナン等のアルカリ（塩基性化合物）の水溶液等が挙げられる。また、アルカリの水溶液に、メタノールやエタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適量添加したり、本組成物を溶解可能な各種有機溶媒を少量添加したりすることにより得られる水溶液を現像液として使用してもよい。

　現像方法としては、例えば、液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の適宜の方法を採用することができる。現像時間は、本組成物の組成によって適宜調整すればよい。現像時間は、例えば、２０秒～１２０秒である。

＜工程（ＩＶ）：加熱工程＞
　工程（ＩＶ）は、現像後のパターンを１００℃以下で加熱する工程である。工程（ＩＶ）の加熱処理により更に硬化が進行して、良好な耐熱性及び耐薬品性を示す硬化物を得ることができる。加熱処理は、例えば、オーブンやホットプレート等の加熱装置を用いて行うことができる。硬化物としてマイクロレンズを得る場合、工程（ＩＶ）の加熱処理によって現像後のパターンをサーマルフローさせることにより半球状のマイクロレンズを得るようにしてもよい。

　工程（ＩＶ）における加熱温度は、有機ＥＬ素子への適用を可能にする観点から、１００℃以下であり、９５℃以下が好ましく、９０℃以下がより好ましい。また、耐熱性及び耐薬品性が高い硬化物を得る観点から、工程（ＩＶ）における加熱温度は、６０℃以上が好ましく、８０℃以上がより好ましい。加熱時間は、加熱装置の種類等に応じて適宜設定することができる。例えば、ホットプレートにより加熱を行う場合、加熱時間は、例えば、５～６０分間である。また、オーブンにより加熱を行う場合、加熱時間は、例えば、１０～９０分間である。工程（ＩＶ）においては、複数回の加熱処理を行うステップベーク法を用いてもよい。

　本開示の製造方法は、任意の工程として、工程（ＩＶ）による加熱工程の前又は後の硬化物に対し放射線を照射する工程（以下、「ポスト露光工程」ともいう）を更に含んでいてもよい。ポスト露光工程における放射線の照射（以下、「ポスト露光」ともいう）により、耐熱性や耐薬品性等を更に向上でき、信頼性がより高い硬化物とすることができる。ポスト露光における放射線の種類や露光条件については、工程（ＩＩ）と同様の条件を採用することができる。なお、ポスト露光の際の照射光の波長や照射量、光源等の条件は、工程（ＩＩ）と同一でもよく異なってもよい。

≪硬化膜≫
　本発明の硬化膜は、上記感光性組成物を硬化して形成することができる。本組成物によれば、高屈折率の硬化物を得ることができ、具体的には、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０以上の硬化物を得ることができる。また、本組成物によれば、波長５５０ｎｍにおける屈折率が、好ましくは１．６８以上、より好ましくは１．７０以上である高屈折率の硬化膜を得ることもできる。

　本組成物は、アルカリ現像液に対する溶解性が高く、かつ、保存安定性や経時塗布性に優れるものである。したがって、本組成物によれば、本組成物に対する露光処理及び現像処理によって所望のパターン形状を有する硬化物を得ることができ、一定時間経過後であっても、同様の硬化物を得ることができるものである。

　上記硬化膜は、表示素子用又は撮像素子用の光学部材として適している。当該光学部材は、表示素子における光取り出し効率を向上させる部材（光の経路を調整する光路調整用部材）カメラ等の撮像素子が備える受光素子（フォトダイオード）に集光するために光の経路を調整する光路調整用部材が好ましい。

≪表示素子≫
　本発明の表示素子は、上記感光性組成物から形成された硬化膜を備える。表示素子としては、例えば、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、マイクロＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）表示素子等が挙げられる。

≪撮像素子≫
　本発明の撮像素子は、上記感光性組成物から形成された硬化膜を備える。本発明の硬化膜は、カメラ等の撮像素子が備える受光素子（フォトダイオード）に集光するために光の経路を調整する光路調整用部材として用いることが好ましい。

　以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例、比較例中の「部」及び「％」は、特に断らない限り質量基準である。本実施例において、重合体（バインダー樹脂）の重量平均分子量（Ｍｗ）は以下の方法により測定した。

［重量平均分子量（Ｍｗ）］
　重合体（バインダー樹脂）のＭｗは、下記方法及び条件により測定したポリスチレン換算値である。
・測定方法：ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法
・装置：昭和電工（株）製のＧＰＣ－１０１
・ＧＰＣカラム：（株）島津ジーエルシー製のＧＰＣ－ＫＦ－８０１、ＧＰＣ－ＫＦ－８０２、ＧＰＣ－ＫＦ－８０３及びＧＰＣ－ＫＦ－８０４を結合
・移動相：テトラヒドロフラン
・カラム温度：４０℃
・流速：１．０ｍＬ／分
・試料濃度：１．０質量％
・試料注入量：１００μＬ
・検出器：示差屈折計
・標準物質：単分散ポリスチレン

［平均粒子径］
　粒子の平均粒子径は、動的光散乱法での測定におけるＤ５０粒子径（積算分布曲線の５０％積算値を示す粒子径であるメジアン径）であり、マイクロトラックベル社製ＭｉｃｒｏｔｒａｃＷａｖｅＩＩ－ＥＸ１５０を用いて測定した。

＜バインダー樹脂（Ｇ－１）の合成＞
［合成例１］
　冷却管と撹拌機を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００質量部を仕込んで窒素置換した。８０℃に加熱して、同温度でプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００質量部、メタクリル酸１５質量部、スチレン１５質量部、ベンジルメタクリレート５質量部、２－ヒドロキシエチルメタクリレート１５質量部、２－エチルヘキシルメタクリレート２３質量部、Ｎ－フェニルマレイミド１２質量部、こはく酸モノ（２－アクリロイルオキシエチル）１５質量部及び２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）６質量部の混合溶液を１時間かけて滴下し、この温度を保持して２時間重合した。その後、反応溶液の温度を１００℃に昇温させ、更に１時間重合することにより、バインダー樹脂溶液（固形分濃度：３３質量％）を得た。得られたバインダー樹脂溶液のＭｗは１２，２００であった。このバインダー樹脂溶液を「バインダー樹脂（Ｇ－１）」とする。

＜粒子分散液の調製＞
［調製例１］ジルコニア粒子分散液（Ａ－１）
　２－エチルヘキサン酸ジルコニウムミネラルスピリット溶液（第一稀元素化学工業（株）製）７８２ｇに、純水２６８ｇを混合した。得られた混合物を撹拌機付きオートクレーブ内に仕込み、反応容器中の雰囲気を窒素ガスにより置換した。その後、反応溶液を１８０℃まで加熱し、１６時間反応させることにより酸化ジルコニウムを合成した。１８０℃で反応した際の容器中圧力は１．０３ＭＰａであった。反応後の溶液を取り出し、底部にたまった沈殿物を濾別してアセトンで洗浄した後に乾燥した。乾燥後の沈殿物１００ｇをトルエン８００ｍＬに分散させたところ、白濁溶液となった。
　次に、精製工程として定量濾紙（アドバンテック東洋（株）製、Ｎｏ．５Ｃ）にて再度濾過し、沈殿物中の粗大粒子等を除去した。次に、濾液を減圧濃縮したトルエンを除去することで白色の酸化ジルコニウム粒子を回収した。
　上記で得られた酸化ジルコニウム粒子１０ｇをトルエン９０ｇに分散させ、透明分散液を得た。得られた透明分散液に、表面被覆剤として、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．５ｇ（信越化学工業（株）製、ＫＢＭ－５０３）を添加し、９０℃で１時間加熱還流した。次いで、還流処理後の分散液にｎ－ヘキサンを添加することで分散粒子を凝集させて分散液を白濁させた。白濁液から凝集粒子を濾紙により分離後、室温で加熱乾燥し、２－エチルヘキサン酸と３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシランにより表面処理された酸化ジルコニウム粒子を調製した。得られた被覆酸化ジルコニウム粒子の平均粒子径を測定したところ１２ｎｍであった。また、白色粉末にプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を添加し、撹拌して被覆ジルコニア粒子を８０質量％含有するジルコニア粒子分散液（これを「ジルコニア粒子分散液（Ａ－１）」とする）を得た。ジルコニア粒子分散液（Ａ－１）中での凝集粒子の平均粒子径は１２ｎｍであった。

［調製例２］ジルコニア粒子分散液（Ａ－２）
　粒子分散液（Ａ－１）の溶剤（ＰＧＭＥ）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）に変更した以外は、調製例１と同様にして、ジルコニア粒子分散液（Ａ－２）を作製した。ジルコニア粒子分散液（Ａ－２）中での粒子の平均粒子径は１２ｎｍであった。

［調製例３］ジルコニア粒子分散液（Ａ－３）
　分散液中における二酸化ジルコニウム粒子、分散剤及びバインダー樹脂（Ｇ－１）の固形分並びに溶剤の量が以下の量となるように、二酸化ジルコニウム粒子、分散剤、バインダー樹脂（Ｇ－１）及び溶剤を混合し、粒子分散液（Ａ－３）を調製した。なお、以下の溶剤の量は、粒子分散液（Ａ－３）を調製する際に用いた分散剤及びバインダー樹脂（Ｇ－１）に含まれる溶剤量を含む総量である。
・二酸化ジルコニウム粒子（第一稀元素化学工業（株）製、ＵＥＰ）１００．００質量部
・分散剤（ビックケミー社製、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１１１）６．６７質量部／固形分換算
・バインダー樹脂（Ｇ－１）　６．６７質量部／固形分換算
・溶剤（ＰＧＭＥＡ）１３８．５１質量部
　上記の成分を十分に撹拌して混合液（これを混合液Ｌｑｂとする）を得た。次に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２０ｇと、混合液Ｌｑｂ　１０ｇを用い、ペイントシェーカーにより２５～４５℃で６時間分散処理を行った。分散処理終了後、フィルターによりビーズと分散液を分離して、全固形分の含有割合が４５質量％のジルコニア分散液（Ａ－３）を調製した。ジルコニア粒子分散液（Ａ－３）中での粒子の平均粒子径は３８ｎｍであった。

［調製例４］チタニア粒子分散液（Ａ－４）
（１）ルチル型酸化チタンヒドロゾルの製造
　１Ｌのガラスビーカーに、ＴｉＯ_２濃度２５％のオキシ塩化チタン水溶液２４０ｇ（ＴｉＯ_２として６０ｇ）と、ＺｒＯ_２濃度３５％のオキシ塩化ジルコニウム粉末５ｇ（ＺｒＯ_２として１．８ｇ）を入れ、水を加えて全量を１Ｌとし、オキシ塩化ジルコニウム粉末が溶解したことを確認した。この溶液をＡ液と呼ぶ。撹拌手段及び還流冷却器を備えた２Ｌフラスコに、水１ｋｇと、ＳｎＯ_２濃度３０％の塩化第二スズ水溶液２０ｇ（ＳｎＯ_２として６ｇ）を仕込み、撹拌下加熱し、温度が６０℃に達した時点で６０℃を維持しながらＡ液を１５分かけて滴下し、滴下終了後沸騰するまで加熱し、還流下３時間沸騰状態を維持した。その後４０℃に冷却し、２８％アンモニア水溶液でｐＨを７．０に調整し、濾過し、洗浄してケーキを得た。このケーキに、水と３６％塩酸を加えて撹拌し、ｐＨ１．３、ＴｉＯ_２濃度２０％で、ＴｉＯ_２に対して、ＳｎＯ_２として１０％、ＺｒＯ_２として３％を含有する酸化チタンヒドロゾル３００ｇを製造した。
（２）ヒドロゾルの被覆処理
　２Ｌガラスビーカーに、上記（１）で得たＴｉＯ_２濃度２０％の酸化チタンヒドロゾル２００ｇ（ＴｉＯ_２として４０ｇ）を入れ、イオン交換水を加えてＴｉＯ_２濃度４％に希釈し、これに撹拌しながら３－グリシドキシプロピルトリメトキシラン（信越化学工業（株）製、オルガノシランＫＢＭ－４０３）５．２ｇを添加した。この溶液をＢ液と呼ぶ。別の５Ｌガラスビーカーに、ＳｉＯ_２濃度１０％のケイ酸ナトリウム水溶液４０ｇ（ＳｉＯ_２として４ｇ）と、４８％水酸化ナトリウム水溶液２ｇを仕込み、イオン交換水で希釈して全量を１２００ｇとした。この溶液に、撹拌しながらＢ液を１５分かけて滴下した。滴下終了後のｐＨは１０であった。次にこの混合溶液へ、ＳｎＯ_２濃度３０％の塩化第二スズ水溶液２０ｇ（ＳｎＯ_２として６ｇ）を、４８％水酸化ナトリウム水溶液と同時に、ｐＨ１０を維持しながら１５分かけて滴下し、引き続きＳｉＯ_２濃度１０％のケイ酸ナトリウム水溶液２０ｇ（ＳｉＯ_２として２ｇ）を添加し、８０℃に加熱した後、１％塩酸でｐＨ８に調整し、同温度で１２０分間熟成した。これを２０℃に冷却し、濃度１０％のクエン酸水溶液でｐＨ３に調整し、この液を限外濾過モジュール（旭化成ケミカルズ（株）製、マイクローザＳＬＰ－１　０５３）に濾過量と同量のイオン交換水を補水しながら通液し、ＴｉＯ_２濃度３％で電気伝導度３×１０^－３Ｓ／ｃｍ以下になるまで電解質成分を低減させた。この段階でｐＨ調整剤として使用したクエン酸は除去され、残存していなかった。更にｔ－ブチルアミンでｐＨ８に調整し、更に同じ限外濾過モジュールを用いて固形分濃度が２０％になるまで濃縮し、固形分濃度２０％で、ＴｉＯ_２に対して、ＳｉＯ_２として１５％、ＳｎＯ_２として１５％を被覆したルチル形酸化チタンヒドロゾルを得た。
（３）ヒドロゾルのプロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒置換
　上記（２）で得た被覆処理酸化チタンヒドロゾルをプロピレングリコールモノメチルエーテルでＴｉＯ_２濃度５％に希釈し、同じ限外濾過モジュールを用いて濾過量と同量のプロピレングリコールモノメチルエーテルを補給しながら通液し、最後にプロピレングリコールモノメチルエーテルの補給を止めて水分が１％以下、固形分濃度２０％で、ＴｉＯ_２に対して、ＳｉＯ_２として１５％、ＳｎＯ_２として１５％を被覆したチタニア粒子分散液（Ａ－４）を得た。チタニア粒子分散液（Ａ－４）中での粒子の平均粒子径は３６ｎｍであった。

［調製例５］チタン酸バリウム粒子分散液（Ａ－５）
　パーフルオロアルコキシアルカン（ＰＦＡ）容器に、チタン酸バリウム（シグマアルドリッチ社製、一次粒子径１００ｎｍ未満）１００質量部に対して、松本油脂製薬（株）製マーボンＡＣ－Ｆ３（ポリオキシエチレンセカンダリーアルキルエーテル）１１質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１９２質量部を加え、更に粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズ（（株）ニッカトー製）９００質量部を加えて、ペイントコンディショナー（ＲＥＤＤＥＶＩＬ社製）を用いて、１時間振とうして、チタン酸バリウムのナノ粒子をプロピレングリコールモノメチルエーテルに分散させた後、ジルコニアビーズを除去することでチタン酸バリウム粒子分散液（Ａ－５）を得た。チタン酸バリウム粒子分散液（Ａ－５）中での粒子の平均粒子径は５０ｎｍであった。

［調製例６］ペリレンブラック粒子分散液（Ａ－６）
　ペリレンブラック系黒色顔料として、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７８８を１２質量部、分散剤としてＢＹＫ－ＬＰＮ２１１１６（ビックケミー（ＢＹＫ）社製）を６質量部（固形分濃度：４０質量％）、バインダー樹脂（Ｇ－１）を４質量部（固形分濃度：３３質量％）、溶媒としてＰＧＭＥＡ７８質量部を用いて、ビーズミルにより処理して、ペリレンブラック粒子分散液（Ａ－６）を調製した。ペリレンブラック粒子分散液（Ａ－６）中での粒子の平均粒子径は４２ｎｍであった。

＜重合性化合物（Ｂ－３）の合成＞
［合成例２］
　５０質量％水酸化ナトリウム水溶液／ジクロロメタン（質量比＝１／１）４４０質量部に、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン１３．９ｇ（０．１２モル）、ｐ－ビニルベンジルクロライド１５．２ｇ（０．１モル）、及び層間移動触媒としてテトラブチルアンモニウムブロマイド２．１ｇを加え、室温、窒素雰囲気下にて６時間撹拌した。次いで、ガラスフィルターにより反応液から生成した塩を取り除き、残渣を十分なジクロロメタンで洗浄した。得られた濾液について、ジクロロメタンと蒸留水を用いて３回分液精製を行い、ジクロロメタンにより抽出した。次いで、ジクロロメタン層に少量の活性炭素を加え着色を取り除いた後、硫酸マグネシウムで乾燥し、更に減圧濃縮にて溶剤を留去した。得られた粗生成物を、シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ－ヘキサン＝１／３）により精製し、３－［（４－ビニルベンジル）オキシメチル］－３－エチルオキセタン（重合性化合物（Ｂ－３））１７．２ｇを得た。

＜感光性組成物の調製＞
　感光性組成物の調製に用いた粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、ラジカル重合開始剤（Ｃ）、脱水剤（Ｄ）、光酸発生剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）、バインダー樹脂（Ｇ）、界面活性剤（Ｈ）、密着助剤（Ｉ）の種類及び略称を以下に示す。
＜（Ａ）粒子＞
　Ａ－１～Ａ－６：調製例１～６により得られた粒子分散液（Ａ－１）～（Ａ－６）
＜（Ｂ）ラジカル重合性化合物＞
　Ｂ－１：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
　Ｂ－２：３－フェノキシベンジルアクリレート（商品名：ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ、共栄社化学（株）製）
　Ｂ－３：合成例２で得られた３－［（４－ビニルベンジル）オキシメチル］－３－エチルオキセタン
＜（Ｃ）光ラジカル発生剤＞
　Ｃ－１：ＮＣＩ－９３０（商品名、（株）ＡＤＥＫＡ製）
＜（Ｄ）脱水剤＞
　Ｄ－１：オルトギ酸メチル
　Ｄ－２：オルト酢酸メチル
　Ｄ－３：オルト酢酸トリエチル
　Ｄ－４：オルト安息香酸トリメチル
　Ｄ－５：オルト安息香酸トリエチル
　Ｄ－６：無水酢酸
＜（Ｅ）光酸発生剤＞
　Ｅ－１：トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
＜（Ｆ）溶剤＞
　Ｆ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　Ｆ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル
　Ｆ－３：３－メトキシブチルアセテート
　Ｆ－４：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
　Ｆ－５：ジアセトンアルコール
　Ｆ－６：ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート
＜（Ｇ）バインダー樹脂＞
　Ｇ－１：合成例１により得られたバインダー樹脂（Ｇ－１）
＜（Ｈ）界面活性剤＞
　Ｈ－１：ポリエーテル変性シリコーン添加剤（商品名：ＤＯＷＳＩＬＴＭ　ＳＨ２８　Ｐａｉｎｔ　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、東レダウコーニング社製）
＜（Ｉ）密着助剤＞
　Ｉ－１：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
　Ｉ－２：３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（商品名：サイラエースＳ７１０、チッソ（株）製）

［実施例１］感光性組成物の調製
　粒子（Ａ）としてジルコニア粒子分散液（Ａ－１）を１００．０質量部（固形分換算）、バインダー樹脂（Ｇ－１）を１０．０質量部（固形分換算）、重合性化合物（Ｂ）として重合性化合物（Ｂ－１）１０．０質量部、重合性化合物（Ｂ－２）１５．０質量部、光ラジカル発生剤（Ｃ）として（Ｃ－１）４．０質量部、脱水剤（Ｄ）として（Ｄ－１）１０．０質量部、及び界面活性剤（Ｈ）として（Ｈ－１）０．０５質量部、更に固形分濃度が４０．０質量％となるように溶剤（Ｆ）として、（Ｆ－１）及び（Ｆ－２）を５０：５０（質量比）で加えて撹拌した後、０．５μｍのフィルターを用いて濾過を行い、感光性組成物（Ｓ－１）を調製した。

［実施例２～２１、比較例１、２］感光性組成物（Ｓ－２）～（Ｓ－２４）の調製
　粒子分散液、バインダー樹脂、ラジカル重合性化合物、光ラジカル発生剤、脱水剤、界面活性剤、密着助剤、並びに溶剤は、表１に記載の比率で各材料を混合し、感光性組成物（Ｓ－１）と同様にして、感光性組成物（Ｓ－２）～（Ｓ－２４）を調製した。なお、表１中、「－」は該当する成分を用いなかったことを示す。また、表１中、溶剤欄の％は、各成分の質量比を表す。例えば、実施例２では、（Ｆ－１）と（Ｆ－２）を５０：５０（質量比）で混合した混合溶媒を用いたことを示し、実施例１０では、（Ｆ－１）を単体で用いたことを示す。

＜経時塗布性（シリンジ詰まり）評価方法＞
　１０ｍＬクリアシリンジ（武蔵エンジニアリング（株）製、ＰＳＹ－１０Ｅ）にＳＵＳニードル（武蔵エンジニアリング（株）製、ＳＮＡ－２０Ｇ－Ｂ、内径×針外径(φｍｍ)：０．６１×０．９１）を装着した。クリアシリンジに感光性組成物（Ｓ－１～２４）それぞれ５ｇを入れ、速やかにシリンジヘッドキャップ（武蔵エンジニアリング（株）製、ＨＣ－１０Ｃ）で蓋をした。ＳＵＳニードルから感光性組成物が出てくるが、２０秒程度で止まった。クリアシリンジを静置し、一定時間経過した後に、シリンジヘッドキャップを取り、感光性組成物が通液すれば「シリンジ詰まりなし」、通液しなければ「シリンジ詰まりあり」と判断し、以下の評価基準で評価した。
　Ａ：１００分以上経過してもシリンジ詰まりが発生しなかった。
　Ｂ：８０分未満経過ではシリンジが詰まらなかったが、８０分以上１００分未満経過でシリンジ詰まりが発生した。
Ｃ：６０未満経過ではシリンジが詰まらなかったが、６０分以上８０分未満経過でシリンジ詰まりが発生した。
　Ｄ：２０分未満経過ではシリンジが詰まらなかったが、２０分以上６０分未満経過でシリンジ詰まりが発生した。
　Ｅ：２０分未満経過でシリンジ詰まりが発生した。

＜保存安定性評価（粘度変化率）＞
　感光性組成物（Ｓ－１～２４）それぞれについて、Ｅ型粘度計を用いて、調製直後の粘度を測定した（初期粘度）。その後２５℃下で感光性組成物を１ヶ月保管し、再度粘度を測定した（保管後粘度）。以下の式により、粘度変化率を求め、以下の評価基準で評価した。

　Ａ：粘度変化率が２％未満
　Ｂ：粘度変化率が２％以上５％未満
　Ｃ：粘度変化率が５％以上１０％未満
　Ｄ：粘度変化率が１０％以上

＜保存安定性評価（解像度変化）＞
　感光性組成物（Ｓ－１～２４）それぞれについて、調製直後の解像度を以下の方法に従って測定した（初期解像度）。その後２５℃下で感光性組成物を１ヶ月保管し、再度解像度を測定した（保管後解像度）。以下の式により、解像度変化を求め、以下の評価基準で評価した。
　解像度変化（μｍ）＝（初期解像度）－（保管後解像度）
（解像度評価方法）
　６インチガラスウエハー上にスピンナーを用いて感光性組成物（Ｓ－１～２４）をそれぞれ塗布した後、８５℃にて６０秒間ホットプレート上でプレベークして膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。高圧水銀ランプ（ＳＵＳＳ社）を用い、２０μｍのホールを有するフォトマスクを介して、積算照射量が１００ｍＪ／ｃｍ^２となるように露光し、２．３８％ＴＭＡＨ水溶液（現像液の温度：２５℃）を用いパドル現像を６０秒間行い、その後水洗した。この基板をクリーンオーブン内にて８５℃で６０分加熱することにより、６インチガラスウエハー上に硬化膜を形成した。光学顕微鏡にて、得られたホール内部の下部幅を確認し、解像度を評価した。
　Ａ：解像度変化が１μｍ未満
　Ｂ：解像度変化が１μｍ以上３μｍ未満
　Ｃ：解像度変化が３μｍ以上５μｍ未満
　Ｄ：解像度変化が５μｍ以上

　実施例及び比較例で調製した感光性組成物（Ｓ－１～２４）について、評価結果を表２に示す。

　表２に示されるように、実施例１～２１の各感光性組成物は、経時塗布性、及び保存安定性の評価がいずれも良好であった。これに対し、比較例１～３は、６０分未満経過後にシリンジが詰まり、塗布ができなかった。また、保存安定性にも劣るものであった。

　続いて実施例２２～実施例２６、及び、比較例４について説明する。これらの実施例、比較例に使用した化合物は以下の通りである。
＜（Ａ）粒子＞
　Ａ－２、Ａ－４：調製例２、調製例４により得られた粒子分散液（Ａ－２）、（Ａ－４）
＜（Ｂ）ラジカル重合性化合物＞
　Ｂ－４：α－アクリロイルオキシ－ω－カルボキシメチル－ポリエチレングリコール
　Ｂ－５：４’－（６－アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ビフェニル－４－カルボン酸（ＣＡＳ番号：１３４９０３－８８－１）
　Ｂ－６：２－メチル－２－アクリル酸－２－ヒドロキシエチルホスフェート（ＣＡＳ番号：５２６２８－０３－２）
　Ｂ－７：２－（２－エトキシエトキシ）エチルアクリレート（ＣＡＳ番号：７３２８－１７－８）
　Ｂ－８：α－アクリロイル－ω－（アクリロイルオキシ）ポリ（オキシチレン）（ＣＡＳ番号：２６５７０－４８－９）
　Ｂ－９：トリプロピレングリコールジアクリレート（ＣＡＳ番号：４２９７８－６６－５）
　Ｂ－１０：α，α’－［プロパン－２，２－ジイルビス（４，１－フェニレン）］ビス［ω－（メタクリロイルオキシ）ポリ（オキシエチレン）］（ＣＡＳ番号：４１６３７－３８－１）
　Ｂ－１１：３－エチル－３－（２，３－エポキシプロポキシメチル）オキセタン（ＣＡＳ番号：１５９５７－３４－３）
　Ｂ－１２：３，３’－［オキシビス（メチレン）］ビス（３－エチルオキセタン）（ＣＡＳ番号：１８９３４－００－４）
＜（Ｃ）光ラジカル発生剤＞
　Ｃ－２：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ－０１（ＢＡＳＦ社製）
　Ｃ－３：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製）
＜（Ｄ）脱水剤＞
　Ｄ－４：オルト安息香酸トリメチル
＜（Ｅ）光酸発生剤＞
　Ｅ－２：ジフェニル［４－（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムヘキサフルオロりん酸塩
　Ｅ－３：４－イソブチルフェニル－４’－トルイルヨードヘキサフルオロりん酸塩
＜（Ｆ）溶剤＞
　Ｆ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　Ｆ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル
　Ｆ－３：３－メトキシブチルアセテート
　Ｆ－５：ジアセトンアルコール
＜（Ｈ）界面活性剤＞
　Ｈ－２：ＢＹＫ－３１０（ビックケミー（ＢＹＫ）社製）
　Ｈ－３：ＢＹＫ－３１３（ビックケミー（ＢＹＫ）社製）
　Ｈ－４：ＢＹＫ－３２０（ビックケミー（ＢＹＫ）社製）
　Ｈ－５：ＢＹＫ－３３１（ビックケミー（ＢＹＫ）社製）
＜（Ｉ）密着助剤＞
　Ｉ－３：β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（ＣＡＳ番号：３３８８－０４－３）
　Ｉ－４：β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン
＜（Ｊ）増感剤＞
　Ｊ－１：４－（ジメチルアミノ）安息香酸エチル（ＣＡＳ番号：１０２８７－５３－３）
　Ｊ－２：９，１０－ジブトキシアントラセン（ＣＡＳ番号：７６２７５－１４－４）

［実施例２２］感光性組成物の調製
　粒子（Ａ）としてジルコニア粒子分散液（Ａ－２）を１０．０質量部（固形分換算）、重合性化合物（Ｂ）として重合性化合物（Ｂ－４）１６．０質量部、重合性化合物（Ｂ－７）１６．０質量部、光ラジカル発生剤（Ｃ）として（Ｃ－２）３．０質量部、光酸発生剤として（Ｅ－２）０．０２質量部、増感剤として（Ｊ－１）０．０１質量部、脱水剤（Ｄ）として（Ｄ－４）１．０質量部、密着助剤（Ｉ）として（Ｉ－３）６．０質量部、及び界面活性剤（Ｈ）として（Ｈ－２）１．０質量部、更に固形分濃度が４０．０質量％となるように溶剤（Ｆ）として（Ｆ－３）を加えて撹拌した後、０．５μｍのフィルターを用いて濾過を行い、感光性組成物（Ｓ－２５）を調製した。

［実施例２３～実施例２６、比較例４］感光性組成物（Ｓ－２６）～（Ｓ－３０）の調製
　粒子分散液、重合性化合物、光ラジカル発生剤、光酸発生剤、増感剤、脱水剤、界面活性剤、密着助剤、並びに溶剤は、表３に記載の比率で各材料を混合し、感光性組成物（Ｓ－２５）と同様にして、感光性組成物（Ｓ－２６）～（Ｓ－３０）を調製した。なお、表３中、「－」は該当する成分を用いなかったことを示す。また、表３中、溶剤欄の％は、各成分の質量比を表す。

　実施例及び比較例で調製した感光性組成物（Ｓ－２５～３０）について、評価結果を表４に示す。

　表４に示されるように、実施例２２～２６の各感光性組成物は、経時塗布性、及び保存安定性の評価がいずれも良好であった。これに対し、比較例４は、経時塗布性、及び保存安定性が実施例より劣るものであった。

　実施例１～２６、及び、比較例１～４の組成物中の水分量と経時塗布性（シリンジ詰まり）との相関性を評価した結果を表５に示した。なお、水分量の測定は以下の通りに行った。

＜水分量評価＞
　感光性組成物（Ｓ－１～３０）それぞれについて、（株）三菱ケミカルアナリティック製電量滴定用水分計ＣＡ－１００を用いて、水分量を測定した。滴定の試薬はアクアミクロンＴＭＡＸ／ＣＸＵを使用した。繰り返し３回測定し、平均値を各感光性組成物の水分量として算出した。

　表５の結果から、水分量が２０００ｐｐｍ以上である比較例１～４では、組成物中の粒子成分が凝集しやすく、経時塗布性に劣るものであった。一方、水分量が２０００ｐｐｍ未満では、凝集しにくく、経時塗布性が比較例より良好なものであった。特に、水分量が１０００ｐｐｍより小さい場合には、組成物中の粒子成分が凝集しにくく、経時塗布性は良好であり、全く問題がなかった。

Claims

　粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、光ラジカル発生剤（Ｃ）、及び脱水剤（Ｄ）を含み、
　上記脱水剤（Ｄ）がオルトエステル化合物を含む、
　光学部材形成用の感光性組成物。
　上記脱水剤（Ｄ）が、沸点が１０５℃以上のオルトエステル化合物を含む、請求項１に記載の感光性組成物。
　上記オルトエステル化合物は、以下の式（１）で表される化合物である、請求項１に記載の感光性組成物。
　　　Ｒ^２１－Ｃ－（ＯＲ^１１）_３　　…（１）
（式（１）中、Ｒ^１１は、炭素数１～４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｒ^２１は、水素原子、炭素数１～４の１価の鎖状炭化水素基又は炭素数６～１２の１価の芳香環基である。３個のＲ^１１は、互いに同一又は異なる。）
　上記オルトエステル化合物は芳香環基を有する、請求項１に記載の感光性組成物。
　上記粒子（Ａ）は、酸性基を有する化合物により被覆された無機粒子である、請求項１に記載の感光性組成物。
　上記無機粒子は、酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸バリウム及びシリカよりなる群から選択される少なくとも１種の粒子である、請求項５に記載の感光性組成物。
　上記感光性組成物中に含まれる水分量が２０００ｐｐｍ未満である、請求項１に記載の感光性組成物。
　上記光学部材は、表示素子における光取出効率を向上させる部材である、請求項１に記載の感光性組成物。
　請求項１～８のいずれか一項に記載の感光性組成物が硬化された硬化物。
　請求項１～８のいずれか一項に記載の感光性組成物を基材上に塗布する工程と、
　上記基材上に塗布した感光性組成物に放射線を照射する工程と、
　放射線を照射した後の上記感光性組成物を現像する工程と、
　現像後の上記感光性組成物を１００℃以下の温度で加熱して硬化させる工程と、
を含む、硬化物の製造方法。
　請求項９に記載の硬化物を備える、表示素子。
　請求項９に記載の硬化物を備える、撮像素子。
　粒子（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、及び光ラジカル発生剤（Ｃ）を含む光学部材形成用の感光性組成物であり、
　前記感光性組成物中に含まれる水分量が２０００ｐｐｍ未満である、
　光学部材形成用の感光性組成物。