WO2024104702A1 - Reinigungsvorrichtung, behandlungsvorrichtung sowie verfahren zum reinigen bzw. behandeln von topfförmigen hohlkörpern, insbesondere von transportbehältern für halbleiterwafer oder für lithografie-masken - Google Patents

Reinigungsvorrichtung, behandlungsvorrichtung sowie verfahren zum reinigen bzw. behandeln von topfförmigen hohlkörpern, insbesondere von transportbehältern für halbleiterwafer oder für lithografie-masken Download PDF

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WO2024104702A1
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cleaning
hollow body
cleaning fluid
gripping
fluid
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PCT/EP2023/079134
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Lutz Rebstock
Herve Guichardaz
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Gsec German Semiconductor Equipment Company Gmbh
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    • H01L21/6773—Conveying cassettes, containers or carriers

Definitions

  • Cleaning device, treatment device and method for cleaning or treating pot-shaped hollow bodies in particular transport containers for semiconductor wafers or for lithography masks
  • the present invention relates to a cleaning device for cleaning pot-shaped hollow bodies, in particular transport containers for semiconductor wafers or for lithography masks. Furthermore, the present invention relates to a treatment device and a method for treating pot-shaped hollow bodies, in particular transport containers for semiconductor wafers or for lithography masks.
  • FOUPs Front Opening Unified Pods
  • FOUPs Front Opening Unified Pods
  • These are box-shaped shaped transport containers into which a large number of semiconductor wafers are inserted.
  • the FOUPs are usually closed with a removable lid. Without the lid, the FOUPs have a pot-shaped basic form with a rectangular base.
  • the FOUPs are closed with their lid, the inserted semiconductor wafers can be transported from one clean room to another, protected from the environment.
  • FOUPs have reached a processing station, they are opened, the semiconductor wafers are removed and processed accordingly. After processing has been completed, the semiconductor wafers are transported back to the FOUPs and then conveyed to the next processing station.
  • the FOUPs are contaminated in particular by the abrasion of the semiconductor wafers when they are placed in and removed from the FOUPs.
  • EUV lithography masks are used to produce very small integrated circuits. Like semiconductors, lithography masks also have to be transported, which creates a similar situation.
  • FOUPs are mentioned below, the relevant statements apply equally to transport containers for lithography masks.
  • the FOUPs are cleaned on both their inner and outer surfaces.
  • the outer surfaces of the FOUPs are usually much more contaminated than the inner surfaces.
  • the cleaning fluid becomes enriched during the cleaning process with particles from the outer surface as well as with particles from the inner surface.
  • the particles can therefore be transported from the outer surface to the inner surface.
  • a satisfactory cleaning result is only achieved if the number of particles has fallen below a certain value.
  • the cleaning process has to be carried out for a correspondingly long period of time in order to be able to remove a sufficient proportion of the particles.
  • This is disadvantageous in that, on the one hand, the amount of cleaning fluid required is comparatively high and, on the other hand, the FOUPs cannot be used to transport the semiconductor wafers during the cleaning process. This makes the production of the semiconductor wafers more expensive.
  • both the outer surface and the inner surface can be cleaned in the same cleaning device.
  • a first cleaning head is used to clean the inner surface and a second cleaning head is used to clean the outer surface.
  • the cover is separated from the rest of the FOUP and the FOUP is placed on a support wall of the cleaning device in such a way that the FOUP is sealed against the support wall.
  • the first cleaning head protrudes into the interior of the FOUP.
  • the second cleaning head is U-shaped and is mounted in the side wall of the cleaning device so that it can rotate about an axis of rotation. While the cleaning fluid, which is used for cleaning ing the inner surface, this is not immediately the case with the cleaning fluid used to clean the outer surface.
  • a cover which encloses the FOUR and the second cleaning head after the FOUR has been placed on the support wall.
  • the cover and the mechanism for opening and closing the cover require a relatively high level of equipment.
  • the outer surface of a FOUP is usually more contaminated than the inner surface.
  • the requirements for cleaning the inner surface are significantly higher than those for cleaning the outer surface.
  • the equipment required to clean the outer surface of the FOUP is not proportionate to the requirements. In some applications, therefore, cleaning of the outer surface is not necessary.
  • omitting cleaning of the outer surface is not optimal either.
  • the object of one embodiment of the present invention is to propose a cleaning device and a treatment device with which it is possible to remedy the above-mentioned disadvantages using simple and cost-effective means and in particular to clean the outer surface of the hollow body with little equipment outlay. Furthermore, one embodiment of the present invention is based on the object of providing a corresponding method for cleaning the outer surface of the hollow body. This object is achieved with the features specified in claims 1, 12 and 16. Advantageous embodiments are the subject of the subclaims.
  • One embodiment of the invention relates to a cleaning device for cleaning pot-shaped hollow bodies, in particular transport containers for semiconductor wafers or for lithography masks, wherein
  • the hollow body has a hollow body wall which o forms a hollow body opening which can be closed or is closed by a lid, and o a hollow body outer surface, wherein
  • the cleaning device o at least one side wall which delimits a cleaning space, wherein o the side wall forms at least one device opening through which the hollow body closed with the lid can be introduced into the cleaning space by means of a gripping and moving device for cleaning the hollow body outer surface, and o at least one supply device for supplying a cleaning fluid to the hollow body outer surface of the hollow body closed with the lid, wherein
  • the device opening is designed in such a way that the gripping and moving device at least partially protrudes into the cleaning space or is flush with the device opening, at least during the supply of the cleaning fluid and/or
  • a storage device is arranged in the cleaning room, on which the gripping and moving device can place the hollow body closed with the lid for supplying the cleaning fluid.
  • An important aspect of the proposed cleaning device is that the outer surface of the hollow body can be cleaned when the latter is closed with the lid. This eliminates the need to separate the lid from the rest of the hollow body, which saves time.
  • the outer surface of the hollow body can be cleaned when the gripping and moving device is connected to the hollow body. It is therefore not necessary to place it in a defined position.
  • the gripping and moving device can move the hollow body within certain limits in a translational and/or rotational manner while the outer surface of the hollow body is being cleaned, so that the cleaning fluid used can also reach hard-to-reach places.
  • the cleaning device can be provided with a storage device on which the hollow body closed with the lid can be placed. After it has been placed down, the connection between the hollow body and the gripping and moving device can be released. While the cleaning fluid is being supplied to the outer surface of the hollow body, the gripping and moving device can move other hollow bodies. In particular, if cleaning in the cleaning device takes a long time, the gripping and moving device can perform other tasks and thus be used more effectively.
  • the feed device can have a number of or outlet nozzles leading into the cleaning chamber.
  • outlet nozzles makes it possible to impose a specific flow direction on the cleaning fluid, which means that the entire outer surface of the hollow body is exposed to the cleaning fluid. This enables effective and thorough cleaning of the outer surface of the hollow body.
  • the outlet nozzles arranged in the side wall can include through holes or be formed by these. This keeps the required installation space to a minimum.
  • the through holes can be arranged distributed over the entire side wall so that the cleaning fluid can be introduced evenly into the cleaning chamber.
  • the feeding device has through holes arranged in the side wall and
  • the outlet nozzles are fixed to the side wall in fluid communication with the through holes and open into the cleaning chamber.
  • the outlet nozzles are arranged in the cleaning chamber and are in fluid communication with the through holes. Consequently, the cleaning fluid first flows through the through holes and then through the outlet nozzles.
  • the outlet nozzles can be brought relatively close to the hollow body. This allows the cleaning fluid to be directed very specifically at certain sections of the hollow body's outer surface, for example those sections which experience has shown to be more heavily contaminated and/or more difficult to access than other sections. This can also contribute to for thorough cleaning of the hollow body outer surface.
  • the feed device can comprise a number of feed channels communicating with the outlet nozzles, with which the cleaning fluid can be fed to the outlet nozzles.
  • each outlet nozzle can be connected to its own feed channel, but this is associated with a correspondingly high level of equipment expenditure.
  • a feed channel can be connected to several outlet nozzles, so that the equipment expenditure is reduced.
  • a further developed embodiment can be characterized by the fact that the feed channels are attached to the side wall and communicate with the through holes. Since the side wall is required anyway to limit the cleaning space, it can also be used in this embodiment to accommodate the feed channels. An additional fastening or holder for the feed channels can be omitted, which is why the installation space and the equipment expenditure can be kept to a minimum.
  • the feed device can have a number of first outlet nozzles for feeding a first cleaning fluid and a number of second outlet nozzles for feeding a second cleaning fluid into the cleaning chamber.
  • the hollow body outer surface can, for example, first be cleaned with a first cleaning fluid, in particular with water, and then with a second cleaning fluid, in particular with air. The air then also has a drying effect. This can improve the cleaning result.
  • the cleaning device may have a number of guide plates arranged in the cleaning chamber or interacting with the guide plates for guiding the cleaning fluid within the cleaning chamber.
  • the guide plates can also be used to ensure that the cleaning fluid reaches the entire outer surface of the hollow body and/or is directed more strongly towards typically more heavily soiled or difficult to access sections.
  • the guide plates can be adjusted using a drive unit. Due to the possibility of adjusting the guide plates, the flow of the cleaning fluid can be adapted to differently shaped hollow bodies. In addition, the flow of the cleaning fluid through the cleaning chamber can be given a certain dynamic, which can also improve the cleaning effect.
  • the cleaning device has a closure unit with which the device opening can be at least partially closed.
  • the device opening is closed in particular when the cleaning fluid is applied to the hollow body outer surface.
  • the closure unit can be used to prevent or limit the uncontrolled escape of the cleaning fluid, particularly when a gaseous fluid such as nitrogen or compressed air is used.
  • the closure unit can be designed in the manner of a cover which closes the device opening.
  • the cover can be designed in such a way that it at least largely closes the device opening even when the gripping and moving device protrudes into the cleaning chamber while the cleaning fluid is being supplied.
  • the cover can, for example, have several movable parts which can be moved very close to the gripping and moving device when the latter protrudes into the cleaning chamber with the hollow body attached to it. If the cleaning device has a storage device on which the hollow body can be placed, the gripping and moving device can be separated from the hollow body when the cleaning fluid is applied to the outer surface of the hollow body. The closure unit can then close the entire device opening.
  • the cleaning device has at least one outlet opening communicating with the cleaning chamber, through which the cleaning fluid or the first cleaning fluid and the second cleaning fluid can be discharged from the cleaning chamber.
  • a gripping and moving device arranged in the interior for moving the hollow body within the interior
  • the hollow body closed with the lid is connected to the gripping and moving device during the supply of the cleaning fluid and is o introduced into the cleaning room with the gripping and moving device, o removed from the cleaning room and o held in the cleaning room by the gripping and moving device during the supply of the cleaning fluid.
  • the outer surface of the hollow body can be cleaned without having to separate the lid from the rest of the hollow body, which can save time.
  • the cleaning of the hollow body's outer surface can be carried out when the gripping and movement device is connected to the hollow body ("on the fly"). It is therefore not necessary to place it in a defined position.
  • the gripping and movement device can move the hollow body within certain limits during cleaning of the hollow body's outer surface, for example pivoting and/or rotating it, so that the cleaning fluid used can also reach places that are difficult to access.
  • the cleaning device can be provided with a storage device on which the hollow body closed with the lid can be placed. After it has been placed down, the connection between the hollow body and the gripping and moving device can be released. While the cleaning fluid is being supplied to the outer surface of the hollow body, the gripping and moving device can move other hollow bodies. In particular, if cleaning in the cleaning device takes a long time, the gripping and moving device can perform other tasks and thus be used more effectively.
  • the gripping and moving device has a cover unit for at least partially covering the device opening during the supply of the cleaning fluid.
  • the cover unit can, for example, have movable or foldable metal sheets which cover the device opening when the cleaning fluid is applied to the outer surface of the hollow body. This can prevent the cleaning fluid from escaping uncontrollably from the cleaning chamber. This in particular reduces the probability that the particles detached from the outer surface of the hollow body with the cleaning fluid enter the interior in an uncontrolled manner and There they can be deposited again on the outer surface of the hollow body or on the inner surface of the hollow body.
  • a further development can stipulate that the treatment device has a discharge channel for discharging the cleaning fluid or the first cleaning fluid and the second cleaning fluid, wherein the discharge channel communicates with the outlet opening.
  • the cleaning fluid loaded with the particles detached from the hollow body outer surface is discharged from the treatment device so that these particles cannot be deposited again on the hollow body outer surface or the hollow body inner surface.
  • a particle measuring device for determining the number of particles in the discharged cleaning fluid, in the first cleaning fluid and/or in the second cleaning fluid can be arranged in the discharge channel.
  • the particle measuring device can be used to determine the number of particles contained in the discharged cleaning fluid, which allows a statement to be made about the progress of the cleaning process.
  • the number of particles usually decreases as the cleaning time increases.
  • a limit value can be defined for the number of particles. As soon as this limit value is undershot, the cleaning process of the outer surface of the hollow body can be aborted. This makes it possible to define a certain degree of cleaning for the outer surface of the hollow body. Excessively long cleaning processes can be avoided.
  • the cleaning device has a tempering unit for tempering the cleaning fluid applied to the hollow body outer surface.
  • the tempering unit can be integrated into the feed device be integrated so that the cleaning fluid is heated or cooled accordingly on the way to the cleaning room. Due to the temperature changes, the hollow body and the particles adhering to the outer surface of the hollow body expand and contract. However, since the particles usually have a different coefficient of linear expansion than the hollow body, relative movements occur between the particles and the outer surface of the hollow body, which promotes the detachment of the particles from the outer surface of the hollow body. This promotes the cleaning process.
  • the depositing device is mounted so as to be rotatable about a rotation axis and can be rotated by means of a drive motor.
  • the rotational speed at which the hollow body deposited on the depositing device can be rotated can be selected to be so high that any residues of the cleaning fluid still adhering to the outer surface of the hollow body are thrown outwards due to the centrifugal force that then acts. This is particularly helpful when water or another liquid is used as the cleaning fluid. This assists in removing the cleaning fluid from the outer surface of the hollow body.
  • One embodiment of the invention relates to a method for cleaning pot-shaped hollow bodies, in particular transport containers for semiconductor wafers or for lithography masks, with a treatment device according to one of the previously discussed embodiments, comprising the following steps:
  • the outer surface of the hollow body can be cleaned with the lid attached to the hollow body.
  • the cleaning of the hollow body's outer surface can be carried out when the gripping and movement device is connected to the hollow body ("on the fly"). It is therefore not necessary to place it in a defined position.
  • the gripping and movement device can move the hollow body within certain limits during cleaning of the hollow body's outer surface, so that the cleaning fluid used can also reach places that are difficult to access.
  • the hollow body On the storage device, which makes particular sense if the gripping and movement device is to be used to move other hollow bodies in the treatment device during cleaning of the hollow body's outer surface. Placing the hollow body on the storage device is also a good option if the hollow body is to be rotated around its own axis at high speed to throw away residues of the cleaning fluid used. Exemplary embodiments of the invention are explained in more detail below with reference to the accompanying drawings. They show
  • Figure 1A is a schematic side view of a treatment device as known from the prior art
  • Figure 1B a separate, basic representation of a hollow body to be treated
  • Figure 2A is a highly simplified basic side view of a proposed treatment device, which has a first embodiment of a cleaning device according to the invention
  • Figure 2B is a separate schematic representation of the first embodiment of the cleaning device shown in Figure 2A along the section plane X-X defined in Figure 2A,
  • Figure 3 is a schematic plan view of a second embodiment of the cleaning device according to the invention, analogous to the representation chosen in Figure 2B, and
  • Figure 4 is a schematic side view of a third embodiment of the cleaning device, analogous to the view shown in Figure 2A.
  • FIG 1A shows a treatment device 10 known from the prior art for treating pot-shaped hollow bodies 12 in simplified form.
  • Figure 1B shows a separate representation of the hollow body 12.
  • the treatment device 10 comprises a boundary wall 14 which encloses an interior space 16.
  • a gripping and moving device 18 is provided in the interior space 16, with which the hollow bodies 12 to be treated can be moved in the interior space 16.
  • a number of treatment units 20 are located in the interior space 16, which can be designed, for example, in the form of a washing device 22 and/or an evacuation device 24.
  • the boundary wall 14 forms a wall opening 26 which can be closed in a manner not shown in detail and through which the interior space 16 is accessible.
  • the treatment device 10 is operated in the following way: A hollow body 12 to be treated, which has a hollow body wall 28 which forms a hollow body opening 29 which can be closed by a cover 30, as well as a hollow body outer surface 32 and a hollow body inner surface 34 (see Figure 1B), is transported to the wall opening 26 in a manner not shown in detail and positioned in such a way that the gripping and moving device 18 can grip the hollow body 12 using a correspondingly designed interface 36 and move it within the interior 16.
  • the hollow body 12 is fed to the washing device 22 using the gripping and moving device 18.
  • Figure 1A shows a cover handling unit 38 with which the cover 30 can be connected and separated from the rest of the hollow body 12.
  • the lid handling unit 38 is then rotated together with the lid 30 by approximately 90° and consequently closes a process chamber opening 40 of the washing device 22.
  • the hollow body 12 separated from the lid 30 is guided into the Washing device 22 is introduced.
  • a washing fluid in particular water, is applied to the hollow body inner surface 34 and the cover 30.
  • the hollow body 12 is removed from the washing device 22 with the gripping and moving device 18, the lid handling unit 38 is rotated into the position shown in Figure 1A and the hollow body 12 is reconnected to the lid 30.
  • the hollow body 12 is now fed together with the cover 30 to the evacuation device 24.
  • the procedure is largely analogous to that for the washing device 22.
  • the cover 30 is first separated from the hollow body 12.
  • a negative pressure is applied to the cover 30 and the hollow body 12, which leads to the evaporation of residues of the washing fluid used in the washing device 22.
  • the lid 30 is reconnected to the hollow body 12 and moved to the wall opening 26 by the gripping and moving device 18, and the cleaned hollow body 12 is ejected together with the lid 30 from the interior 16 of the treatment device 10 and transported further.
  • the hollow body 12 ejected from the interior 16 can now be used for transporting and storing semiconductor wafers (not shown here).
  • a treatment device 42 according to the present invention is shown in a basic side view.
  • the essential structure of the treatment device according to the invention The treatment device 42 is similar to that of the treatment device 10 shown in Figure 1A according to the prior art, which is why only the essential differences are discussed below.
  • the treatment device 42 according to the invention is equipped with a cleaning device 44 according to a first embodiment, which serves to clean the hollow body outer surface 32 of the hollow body 12 (see Figure 1B).
  • the cleaning device 44x is shown separately in Figure 2B using a basic sectional view along the section plane X-X defined in Figure 2A, but without the hollow body 12 and without claiming to graphic completeness and scale.
  • the cleaning device 44 comprises a side wall 46 which delimits a cleaning chamber 50 and which has a square cross-section in plan view. Consequently, the side wall 46 is closed in the section plane X-X selected in Figure 2B.
  • the side wall 46 forms at least one device opening 48 through which the hollow body 12 closed with the lid 30 can be introduced into the cleaning chamber 50 for cleaning the hollow body outer surface 32 by means of the gripping and moving device 18.
  • the cleaning device 44 is equipped with a feed device 52 with which a cleaning fluid can be introduced into the cleaning chamber 50.
  • the feed device 52 comprises a number of first outlet nozzles 54 for supplying a first cleaning fluid and a number of second outlet nozzles 56 for supplying a second cleaning fluid into the cleaning chamber 50. Consequently, two different cleaning fluids can be conveyed into the cleaning chamber 50, wherein the first cleaning fluid can be, for example, water and the second cleaning fluid can be, for example, air.
  • Both the first outlet nozzles 54 and the second outlet nozzles 56 communicate with through holes 58 penetrating the side wall 46, which in turn are connected to feed channels 60 which are also attached to the side wall 46.
  • a total of four guide plates 62 are arranged in the cleaning chamber 50, which can be moved by means of a drive unit 64.
  • the guide plates 62 can, for example, be raised and lowered and/or rotated using the drive unit 64.
  • the cleaning device 44 also has a bottom wall 66 in which an outlet opening 67 is arranged.
  • the bottom wall 66 is placed on a bottom 68 of the treatment device 42.
  • the bottom 68 has a number of openings 70 which open into a discharge channel 72 arranged underneath (see also Figure 1A).
  • the cleaning device 44 is arranged such that the outlet opening 67 communicates with the openings 70.
  • the cleaning fluid introduced into the cleaning chamber 50 through the outlet nozzles 54, 56 can be discharged from the treatment device 42 through the outlet opening 67, the openings 70 and the discharge channel 72.
  • a particle measuring device 74 is arranged in the discharge channel 72, with which the number of particles contained in the cleaning fluid can be determined.
  • the cleaning device 44 is operated in the following way: As already described with reference to Figure 1A, the hollow body 12 to be treated is gripped by the gripping and moving device 18, so that the hollow body 12 in the interior 16 can be moved. Before the hollow body 12 is fed to the washing device 22 by means of the gripping and moving device 18, the hollow body 12 is introduced into the cleaning chamber 50 of the cleaning device 44 through the device opening 48, as shown in Figure 2A. The connection between the hollow body 12 and the gripping and moving device 18 is maintained. The cover 30 is also not separated from the hollow body 12. Figure 2A also shows that the gripping and moving device 18 dips slightly into the cleaning chamber 50 to ensure that the entire hollow body 12 is introduced into the cleaning chamber 50. Depending on the application, it may also be advantageous to only partially introduce the hollow body 12 into the cleaning chamber 50. In this case, the gripping and moving device 18 does not dip into the cleaning chamber 50.
  • the gripping and moving device 18 of the treatment device 42 is equipped with a cover unit 76 with which the device opening 48 can be at least partially covered.
  • the cover unit 76 can, for example, have movable or foldable plates 78.
  • the plates 78 can also serve as a stop and strike the side wall 46 from above, whereby an end position of the hollow body 12 in the cleaning chamber 50 can be defined and collisions of the hollow body 12, in particular with the bottom wall 66, can be avoided.
  • the first cleaning fluid is conveyed through the first outlet nozzles 54 as a result of activation of conveying units (not shown) and applied to the hollow body outer surface 32, as indicated by the arrows in Figure 2A.
  • the cover unit The device 76 prevents the first cleaning fluid from entering the interior 16 through the device opening 48 in an uncontrolled manner.
  • the hollow body 12 can be moved by the gripping and moving device 18 in the cleaning chamber 50 while the first cleaning fluid is applied to the hollow body outer surface 32. In this case, an up and down movement, a rotary movement, a sideways movement and/or a combination of these movements can be carried out.
  • the movement can be selected largely freely as long as there is no collision between the hollow body 12 and the cleaning device 44x.
  • the first cleaning fluid sweeps over the hollow body outer surface 32 and removes particles deposited thereon.
  • the outlet nozzles 54, the cover unit 76 and the guide plates 62 impose a flow on the first cleaning fluid towards the outlet opening 67, as a result of which the first cleaning fluid laden with particles is discharged from the cleaning device 44x and the treatment device 42 through the outlet opening 67, the openings 70 and the discharge channel 72.
  • a given volume unit of the cleaning fluid passes through the particle measuring device 74, which determines the number of particles contained in the relevant volume unit. This determination is continued with subsequent volume units. As soon as a certain limit value of the certain number of particles is undershot, the supply of the first cleaning fluid can be stopped.
  • the second cleaning fluid can then be applied to the hollow body outer surface 32 through the second outlet nozzles 56. This is done in a similar way to the first cleaning fluid.
  • the hollow body 12 is removed from the cleaning device 44x and, as described for Figure 1A, is subjected to the washing process. device 22 and the evacuation device 24.
  • the hollow body 12 is moved with the gripping and moving device 18 to the wall opening 26, from where the cleaned hollow body 12 together with the lid 30 is discharged from the interior 16 of the cleaning device 44 and transported further.
  • the hollow body 12 closed with the lid 30 can only be fed to the cleaning device 44 after the treatment steps carried out in the washing device 22 and the evacuation device 24 have been completed. It is also possible to feed the hollow body 12 closed with the lid 30 to the cleaning device 44 2 both before and after the treatment steps carried out in the washing device 22 and the evacuation device 24.
  • a second embodiment of the cleaning device 44 2 is shown using a basic top view.
  • the essential structure of the cleaning device 44 2 according to the second embodiment corresponds to that of the cleaning device 44 2 of the first embodiment, so that only the differences are discussed below.
  • the cleaning device 44 2 according to the first embodiment has a closed side wall 46 with four sections
  • the cleaning device 44 2 according to the second embodiment comprises a first side wall 46 2 and a second side wall 46 2 which run parallel and are arranged at a distance from one another on the base 68 of the treatment device 42. Consequently, the device opening 48 extends not only within the drawing plane of Figure 3, but also perpendicular to it. It is therefore possible to body 12 into the cleaning chamber 50 not only from above, but also from the side. The movement of the gripping and moving device 18 required for this can be simplified.
  • the cleaning device 44 2 according to the second embodiment does not have a bottom wall 66.
  • the cleaning device 44 2 has a number of outlet nozzles 80 through which only one cleaning fluid, for example air, can be introduced into the cleaning chamber 50.
  • the outlet nozzles 80 of the first side wall 46 2 are again connected to a common feed channel 60 using the through holes 58. The same applies to the outlet nozzles 80 of the second side wall 46 2.
  • a temperature control unit 81 is arranged in the common feed channel 60, with which the temperature of the cleaning fluid can be changed.
  • the volume flow through each outlet nozzle 54, 56 can be individually adjusted in the cleaning device 442 according to the first embodiment and in particular can be switched on or off earlier or later than with other outlet nozzles 54, 56.
  • the cleaning device 442 according to the first embodiment can also be equipped with the temperature control unit 81 so that the cleaning fluid can be individually tempered on the way to each outlet nozzle 54, 56.
  • the individual adjustment of the cleaning fluid with regard to the stated sizes at each of the outlet nozzles 54, 56 is not provided for in the cleaning device 442 according to the second embodiment.
  • the equipment complexity is simplified due to the common feed channel 60 in the second embodiment.
  • Figure 4 shows a third embodiment of the cleaning device 44 3 according to the invention, analogous to the representation chosen in Figure 2A.
  • the cleaning device 44 3 according to the third embodiment largely corresponds to the cleaning devices 44 3 , 44 2 according to the first and second embodiments, which is why only the essential differences are discussed below.
  • the cleaning device 44 3 is equipped with a depositing device 82 on which the hollow body 12 can be deposited.
  • the hollow body 12 is introduced into the cleaning chamber 50 by the gripping and moving device 18 until the hollow body 12 comes into contact with the depositing device 82. The contact between the gripping and moving device 18 and the hollow body 12 is then broken.
  • the hollow body 12 with the lid 30 is placed on the depositing device 82, wherein it is also possible to place the hollow body 12 with the hollow body wall 28 (see Figure 1B) on the depositing device 82.
  • the depositing device 82 is arranged adjacent to the base wall 66 and has a frame structure with rod- or beam-like supports, which is designed in such a way that it impedes the flow of the cleaning fluid as little as possible. In particular, it is ensured that the lid 30 can be easily exposed to the cleaning fluid. It can be advisable for the frame structure to provide at least three circular support points on which the hollow body 12 can be placed.
  • the storage device 82 can be fastened in the cleaning chamber 50.
  • the storage device 82 is rotatably mounted in the base 68 of the treatment device 42 and can be rotated about a rotation axis D by means of a drive motor 84.
  • the hollow body 12 deposited on the storage device 82 can be rotated, whereby the supply of the cleaning fluid to hard-to-reach places on the hollow body outer surface 32 can be improved.
  • the support points are formed by hold-down devices 88 designed as suction cups 86, which serve to fix the hollow body 12 while it is being exposed to the cleaning fluid.
  • the hold-down devices 88 can also be designed in a different way, for example in the form of clamps. Fixing arms or the like, which can engage the hollow body 12 from above or from the side, can ensure that the hollow body 12 is fixed while it is being exposed to the cleaning fluid (not shown).
  • the storage device 82 can be rotated about the rotation axis D by means of the motor 84.
  • holding rods 96 are provided which come into contact with or almost into contact with the hollow body wall 28 when the hollow body 12 is deposited on the storage device 82.
  • the holding rods 96 can also be connected in a basket-like manner to a net (not shown here).
  • the cleaning device 44 3 has a closure unit 90 with which the cleaning chamber 50 can be closed, in particular when the hollow body 12 is introduced into the cleaning chamber 50 and is to be exposed to the cleaning fluid.
  • the closure unit 90 shown here has a closure body 92 which is rotatably attached to the side wall 46 of the cleaning device 44 3 with a fastening means 94 (not shown in detail).
  • the fastening means 94 can comprise a hinge.
  • an adjusting device (not shown) can be provided with which the closure unit 90 can be moved to open and close the device opening 48.
  • the hollow body 12 is introduced into the cleaning chamber 50 with the gripping and moving device 18 and placed on the depositing device 82 when the closure unit 90 is in an open position (not shown).
  • the hold-down devices 88 are then activated and the gripping and moving device 18 is separated from the hollow body 12.
  • the closure unit 90 can be transferred to the closed position, as shown in Figure 4.
  • the cleaning fluid can now be applied to the hollow body outer surface 32.
  • a first cleaning fluid for example water
  • a second cleaning fluid for example air
  • the hollow body 12 can be before or during the supply of the second cleaning fluid with the depositing device 82 is rotated so quickly that water residues are thrown away from the hollow body outer surface 32.
  • the holding rods prevent the hollow body 12 from slipping away during the rotation.
  • the closure unit 90 is moved into the open position.
  • the hollow body 12 with the gripping and moving device 18 is removed from the cleaning chamber 50 and fed for further treatment.
  • closure unit 90 which can be placed in the closed position even when the gripping and movement device 18 is still connected to the hollow body 12 (see Figure 2A).
  • the closure body 92 can have corresponding cutouts for this purpose and can be pushed towards the gripping and movement device 18.
  • the closure unit 90 ensures that at least part of the cleaning fluid cannot escape uncontrollably through the device opening 48 from the cleaning chamber 50 of the cleaning device 443.
  • the rotation of the hollow body 12 about its own axis to throw away residues of the cleaning fluid from the hollow body outer surface 32 is only possible in the embodiment shown in Figure 4.
  • the hollow body 12 can also be rotated about its own axis with the gripping and moving device 18, i.e. when the hollow body is connected to the gripping and moving device 18, however the achievable rotational speed is too low to be able to remove residues of the cleaning fluid to any significant extent from the hollow body outer surface 32.

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Reinigungsvorrichtung (44) zum Reinigen von topfförmigen Hohlkörpern (12), wobei die Reinigungsvorrichtung (44) zumindest eine Seitenwand (46), welche einen Reinigungsraum (50) begrenzt, wobei die Seitenwand (46) zumindest eine Vorrichtungsöffnung (48) bildet, durch welche der mit dem Deckel (30) verschlossene Hohlkörper (12) zum Reinigen der Hohlkörperaußenfläche (32) mittels einer Greif- und Bewegungseinrichtung (18) in den Reinigungsraum (50) einbringbar ist, und zumindest eine Zuführeinrichtung (52) zum Zuführen eines Reinigungsfluids auf die Hohlkörperau- ßenfläche (32) des mit dem Deckel (30) verschlossenen Hohlkörpers (12) umfasst, wobei die Vorrichtungsöffnung (48) derart ausgestaltet ist, dass die Greif- und Bewegungseinrichtung (18) zumindest während des Zuführens des Reinigungsfluids zumindest teilweise in den Reinigungsraum (50) hineinragt oder bündig mit der Vorrichtungsöffnung (48) abschließt. Des Weiteren betrifft die Erfindung eine Behandlungsvorrichtung (42) mit einer derartigen Reinigungsvorrichtung (44) sowie ein Verfahren zum Reinigen von topfförmigen Hohlkörpern mit einer solchen Behandlungsvorrichtung (42).

Description

Reinigungsvorrichtung , Behandlungs orrichtung sowie Verfahren zum Reinigen bzw . Behandeln von topf förmigen Hohlkörpern , insbesondere von Transportbehältern für Halbleiterwafer oder für Lithografie-Masken
Die vorliegende Erfindung betri f ft eine Reinigungsvorrichtung zum Reinigen von topf förmigen Hohlkörpern, insbesondere von Transportbehältern für Halbleiterwafer oder für Lithografie- Masken . Weiterhin betri f ft die vorliegende Erfindung eine Behandlungsvorrichtung und ein Verfahren zum Behandeln von topfförmigen Hohlkörpern, insbesondere von Transportbehältern für Halbleiterwafer oder für Lithografie-Masken .
Die Herstellung von hochintegrierten elektronischen Schaltungen und anderen empfindlichen Halbleiterbauelementen erfolgt heutzutage in Fabriken, in denen sogenannte Halbleiterwafer eine Viel zahl von Bearbeitungsschritten durchlaufen . Ein großer Teil dieser Bearbeitungsschritte erfolgt in Reinräumen, welche mit hohem Aufwand frei von Verunreinigungen, insbesondere frei von Partikeln, gehalten werden . Eine solch aufwendige Bearbeitung ist erforderlich, da insbesondere Partikel , die mit dem Halbleitermaterial der Halbleiterwafer in Berührung kommen, die Materialeigenschaften der Halbleiterwafer so beeinflussen können, dass eine gesamte Produktionscharge fehlerhaft und unbrauchbar wird und ausgesondert werden muss .
Da die Reinhaltung mit zunehmender Integrationsdichte der Halbleiterschaltungen immer wichtiger und der Aufwand zur Reinhaltung mit zunehmender Größe der Reinräume exponentiell ansteigt , werden die Halbleiterwafer nicht "of fen" von einer Bearbeitungsstation zur nächsten transportiert . Stattdessen verwendet man spezielle Transportbehälter ( sogenannte FOUPs , Front Opening Uni fied Pods ) . Hierunter versteht man kastenför- mige Transportbehälter, in die eine Viel zahl von Halbleiterwafern eingesteckt wird . Verschlossen werden die FOUPs üblicherweise mit einem abnehmbaren Deckel . Ohne den Deckel haben die FOUPs eine topf förmige Grundform mit einer rechteckigen Grundfläche . Wenn die FOUPs mit ihrem Deckel verschlossen sind, können die eingesteckten Halbleiterwafer vor der Umwelt geschützt von einem Reinraum zu einem anderen Reinraum transportiert werden . Wenn die FOUPs eine Bearbeitungsstation erreicht haben, werden diese geöf fnet , die Halbleiterwafer entnommen und entsprechend bearbeitet . Nach erfolgter Bearbeitung werden die Halbleiterwafer zurück in die FOUPs transportiert und dann zur nächsten Bearbeitungsstation befördert .
Aufgrund der hohen Produktionsaus fälle bei Verunreinigungen der Halbleiterwafer ist es erforderlich, die FOUPs von Zeit zu Zeit zu reinigen . Die FOUPs werden insbesondere vom Abrieb der Halbleiterwafer beim Einbringen in die und beim Entnehmen aus den FOUPs verunreinigt .
Sinngemäß gilt dasselbe für Transportbehälter Lithographie- Masken, beispielsweise für EUV-Lithograf ie-Masken ( „extreme ultra-violet radiation" , extrem ultraviolette Strahlung) . Die EUV-Lithograf ie-Masken werden eingesetzt , um sehr kleine integrierte Schaltungen herzustellen . Auch die Lithograf ie-Masken müssen, wie die Halbleiter, transportiert werden, wobei sich eine ähnliche Situation einstellt . Wenn im Folgenden von FOUPs gesprochen wird, gelten die diesbezüglichen Aussagen gleichermaßen für Transportbehälter für Lithographie-Masken .
Vorrichtungen vom Reinigen von FOUPs sind beispielsweise aus der US 5 238 703 A, der WO 2005/ 001888 A2 , der DE 10 2020 129 469 Al und der EP 1 899 084 Bl bekannt . Bei derartigen Vorrichtungen werden die FOUPs sowohl auf ihrer
Innenfläche als auch auf ihrer Außenfläche gereinigt . Üblicherweise sind die FOUPs auf ihrer Außenfläche deutlich stärker verunreinigt als auf ihrer Innenfläche . Infolgedessen reichert sich das Reinigungs fluid während des Reinigungsvorgangs sowohl mit Partikeln, die von der Außenfläche stammen, als auch mit Partikeln, die von der Innenfläche stammen, an . Die Partikel können daher von der Außenfläche zur Innenfläche transportiert werden . Ein zufriedenstellendes Reinigungsergebnis wird allerdings nur dann erreicht , wenn die Anzahl der Partikel einen bestimmten Wert unterschritten hat . Aufgrund der von der Außenfläche stammenden Partikel muss der Reinigungsvorgang für eine entsprechend lange Zeitdauer durchgeführt werden, um einen ausreichenden Anteil der Partikel abführen zu können . Dies ist insofern nachteilig, als dass einerseits die Menge des benötigten Reinigungs fluids vergleichsweise hoch ist und andererseits die FOUPs während des Reinigungsvorgangs nicht zum Transport der Halbleiterwafer verwendet werden können . Hierdurch verteuert sich die Produktion der Halbleiterwafer .
In der bereits erwähnten DE 10 2020 129 469 Al können sowohl die Außenfläche als auch die Innenfläche in derselbe Reinigungsvorrichtung gereinigt werden . Zur Reinigung der Innenfläche wird ein erster Reinigungskopf und zur Reinigung der Außenfläche ein zweiter Reinigungskopf verwendet . Der Deckel wird hierbei vom übrigen FOUP getrennt und der FOUP wird auf eine Auflagewand der Reinigungsvorrichtung derart aufgelegt , dass der FOUP gegenüber der Auflagewand abgedichtet ist . Der erste Reinigungskopf ragt dabei in den Innenraum des FOUPs hinein . Der zweite Reinigungskopf ist U- förmig ausgebildet und um eine Drehachse drehbar in der Seitenwand der Reinigungsvorrichtung gelagert . Während das Reinigungs fluid, das zur Reini- gung der Innenfläche verwendet wird, definiert geführt werden kann, ist dies beim Reinigungs fluid, welches zur Reinigung der Außenfläche verwendet wird, nicht unmittelbar der Fall . Um eine unkontrollierte Verteilung des zur Reinigung der Außenfläche verwendeten Reinigungs fluids zu verhindern, ist eine Abdeckung vorgesehen, welche den FOUR und den zweiten Reinigungskopf umschließt , nachdem der FOUR auf die Auflagewand aufgesetzt worden ist . Die Abdeckung sowie die Mechanik zum Öf fnen und Schließen der Abdeckung erfordern einen relativ hohen apparativen Aufwand . Wie erwähnt , ist die Außenfläche eines FOUPs üblicherweise stärker verunreinigt als die Innenfläche . Da aber der FOUR meistens mit dem Deckel verschlossen ist , sind die Anforderungen an die Reinigung der Innenfläche deutlich höher als diej enigen, die an die Reinigung der Außenfläche gestellt werden . Insofern steht bei einigen Anwendungen der apparative Aufwand für die Reinigung der Außenfläche des FOUPs nicht im Verhältnis zu den gestellten Anforderungen . Bei einigen Anwendungen wird daher auf die Reinigung der Außenfläche verzichtet . Da aber hierdurch die Gefahr, dass fehlerhafte und unbrauchbare Produktchargen von Halbleiterwafern entstehen, erhöht wird, ist der Verzicht auf die Reinigung der Außenfläche auch nicht optimal .
Aufgabe einer Aus führungs form der vorliegenden Erfindung ist es , eine Reinigungsvorrichtung und eine Behandlungsvorrichtung vorzuschlagen, mit welchen es mit einfachen und kostengünstigen Mitteln möglich ist , eine Abhil fe für die oben genannten Nachteile zu schaf fen und insbesondere die Außenfläche der Hohlkörper mit geringem apparativem Aufwand zu reinigen . Des Weiteren liegt einer Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde , ein entsprechendes Verfahren zum Reinigen der Außenfläche des Hohlkörpers bereitzustellen . Diese Aufgabe wird mit den in den Ansprüchen 1 , 12 und 16 angegebenen Merkmalen gelöst . Vorteilhafte Aus führungs formen sind Gegenstand der Unteransprüche .
Eine Aus führungs form der Erfindung betri f ft eine Reinigungsvorrichtung zum Reinigen von topf förmigen Hohlkörpern, insbesondere von Transportbehältern für Halbleiterwafer oder für Lithograf ie-Masken, wobei
- der Hohlkörper eine Hohlkörperwandung aufweist , die o eine Hohlkörperöf fnung, welche von einem Deckel verschließbar oder verschlossen ist , und o eine Hohlkörperaußenfläche bildet , wobei
- die Reinigungsvorrichtung o zumindest eine Seitenwand, welche einen Reinigungsraum begrenzt , wobei o die Seitenwand zumindest eine Vorrichtungsöf fnung bildet , durch welche der mit dem Deckel verschlossene Hohlkörper zum Reinigen der Hohlkörperaußenfläche mittels einer Grei f- und Bewegungseinrichtung in den Reinigungsraum einbringbar ist , und o zumindest eine Zuführeinrichtung zum Zuführen eines Reinigungs fluids auf die Hohlkörperaußenfläche des mit dem Deckel verschlossenen Hohlkörpers umfasst , wobei
- die Vorrichtungsöf fnung derart ausgestaltet ist , dass die Grei f- und Bewegungseinrichtung zumindest während des Zuführens des Reinigungs fluids zumindest teilweise in den Reinigungsraum hineinragt oder bündig mit der Vorrichtungsöf fnung abschließt und/oder
- im Reinigungsraum eine Ablageeinrichtung angeordnet ist , auf welcher die Grei f- und Bewegungseinrichtung den mit dem Deckel verschlossenen Hohlkörper zum Zuführen des Reinigungs fluids ablegen kann . Ein wesentlicher Aspekt bei der vorschlagsgemäßen Reinigungsvorrichtung ist , dass die Hohlkörperaußenfläche des Hohlkörpers gereinigt werden kann, wenn dieser mit dem Deckel verschlossen ist . Insofern entfällt die Notwendigkeit , hierzu den Deckel vom übrigen Hohlkörper zu trennen, wodurch entsprechend Zeit eingespart werden kann . Darüber hinaus kann die Reinigung der Hohlkörperaußenfläche erfolgen, wenn die Grei f- und Bewegungseinrichtung mit dem Hohlkörper verbunden ist . Ein Ablegen in eine definierte Position ist daher nicht erforderlich . Die Grei f- und Bewegungseinrichtung kann den Hohlkörper während der Reinigung der Hohlkörperaußenfläche in gewissen Grenzen translatorisch und/oder rotatorisch bewegen, so dass das verwendete Reinigungs fluid auch an schwer zugängliche Stellen gelangen kann .
Sofern gewünscht , kann die Reinigungsvorrichtung mit einer Ablageeinrichtung versehen werden, auf welche der mit dem Deckel verschlossene Hohlkörper abgelegt werden kann . Nach dem Ablegen kann die Verbindung zwischen dem Hohlkörper und der Grei f- und Bewegungseinrichtung gelöst werden . Während der Zufuhr des Reinigungs fluids auf die Hohlkörperaußenfläche kann die Grei f- und Bewegungseinrichtung andere Hohlkörper bewegen . Insbesondere dann, wenn die Reinigung in der Reinigungsvorrichtung recht lange dauert , kann die Grei f- und Bewegungseinrichtung andere Aufgaben erledigen und somit ef fektiver genutzt werden .
Als Reinigungs fluid kann beispielsweise Stickstof f oder Druckluft und besonders bevorzug extrem saubere getrocknete Luft , auch als XCDA bezeichnet , eingesetzt werden . Es ist aber auch möglich, Wasser einzusetzen .
Nach Maßgabe einer weiteren Aus führungs form kann die Zuführeinrichtung eine Anzahl von zum Reinigungsraum weisende oder in den Reinigungsraum mündende Austrittsdüsen umfassen . Die Verwendung von Austrittsdüsen ermöglicht es , dem Reinigungs fluid eine bestimmte Strömungsrichtung auf zuprägen, wodurch erreicht werden kann, dass die komplette Hohlkörperaußenfläche mit dem Reinigungs fluid beaufschlagt wird . Hierdurch wird eine ef fektive und gründliche Reinigung der Hohlkörperaußenfläche ermöglicht .
In einer weitergebildeten Aus führungs form kann die Austrittsdüsen in der Seitenwand angeordnet Durchgangslöcher umfassen oder von diesen gebildet werden . Hierdurch wird der benötigte Bauraum gering gehalten . Zudem können die Durchgangslöcher über die gesamte Seitenwand verteilt angeordnet werden, so dass das Reinigungs fluid gleichmäßig in den Reinigungsraum eingeleitet werden kann .
Bei einer weitergebildeten Aus führungs form können
- die Zuführeinrichtung in der Seitenwand angeordnete Durchgangslöcher aufweisen und
- die Austrittsdüsen an der Seitenwand in Fluidkommunikation mit den Durchgangslöchern befestigt sein und in den Reinigungsraum münden .
In dieser Aus führungs form sind die Austrittsdüsen im Reinigungsraum angeordnet und stehen mit den Durchgangslöchern in Fluidkommunikation . Folglich durchströmt das Reinigungs fluid zunächst die Durchgangslöcher und anschließend die Austrittsdüsen . Die Austrittsdüsen können relativ nah an den Hohlkörper herangeführt werden . Hierdurch kann das Reinigungs fluid sehr gezielt auf bestimmte Abschnitte der Hohlkörperaußenfläche gerichtete werden, beispielsweise solche Abschnitte , die erfahrungsgemäß stärker verschmutzt und/oder schwerer zugänglich sind als andere Abschnitte . Auch hierdurch kann ein Beitrag zur gründlichen Reinigung der Hohlkörperaußenfläche geleistet werden .
Bei einer weiteren Aus führungs form kann die Zuführeinrichtung eine Anzahl von mit den Austrittsdüsen kommuni zierenden Zuführkanälen umfassen, mit welcher das Reinigungs fluid zu den Austrittsdüsen geführt werden kann . Prinzipiell kann j ede Austrittsdüse an einen eigenen Zuführkanal angeschlossen werden, was aber mit einem entsprechend hohen apparativen Aufwand verbunden ist . In dieser Aus führungs form kann ein Zuführkanal mit mehreren Austrittsdüsen verbunden werden, so dass der apparative Aufwand sinkt .
Eine weitergebildete Aus führungs form kann sich dadurch auszeichnen, dass die Zuführkanäle an der Seitenwand befestigt sind und mit den Durchgangslöchern kommuni zieren . Da die Seitenwand ohnehin benötigt wird, um den Reinigungsraum zu begrenzen, kann diese in dieser Aus führungs form auch zur Aufnahme der Zuführkanäle genutzt werden . Eine zusätzliche Befestigung oder Aufnahme für die Zuführkanäle kann entfallen, weshalb der Bauraum und der apparative Aufwand gering gehalten werden können .
Nach Maßgabe einer weiteren Aus führungs form kann die Zuführeinrichtung eine Anzahl von ersten Austrittsdüsen zum Zuführen eines ersten Reinigungs fluids und eine Anzahl von zweiten Austrittsdüsen zum Zuführen eines zweiten Reinigungs fluids in den Reinigungsraum aufweisen . In dieser Aus führungs form kann die Hohlkörperaußenfläche beispielsweise zunächst mit ersten Reinigungs fluid, insbesondere mit Wasser, und anschließend mit einem zweiten Reinigungs fluid, insbesondere mit Luft , gereinigt werden . Die Luft hat dann auch einen trocknenden Effekt . Hierdurch kann das Reinigungsergebnis verbessert werden . Es ist aber auch möglich, j e nach zu reinigendem Hohlkörper nur das erste Reinigungs fluid oder nur das zweite Reinigungsfluid zu verwenden, ohne dass hierzu die Reinigungsvorrichtung umgebaut werden müsste .
Bei einer weiteren Aus führungs form kann es sich anbieten, dass die Reinigungsvorrichtung eine Anzahl von im Reinigungsraum angeordneten oder mit dem zusammenwirkenden Leitblechen zum Leiten des Reinigungs fluids innerhalb des Reinigungsraums aufweist . Wie zu den Austrittsdüsen ausgeführt , ist es auch mit den Leitblechen möglich, dem Reinigungs fluid eine bestimmte Strömung innerhalb des Reinigungsraums auf zuprägen . Auch mit den Leitblechen kann erreicht werden, dass das Reinigungs fluid die gesamte Hohlkörperaußenfläche erreicht und/oder verstärkt auf typischerweise stärker verschmutzte oder schwer zugängliche Abschnitte gelenkt wird .
In einer weitergebildeten Aus führungs form können die Leitbleche mittels einer Antriebseinheit verstellbar sein . Aufgrund der Verstellmöglichkeit der Leitbleche kann die Strömung des Reinigungs fluids an unterschiedlich geformte Hohlkörper angepasst werden . Zudem kann der Strömung des Reinigungs fluids durch den Reinigungsraum eine gewisse Dynamik aufgeprägt werden, wodurch der Reinigungsef fekt ebenfalls verbessert werden kann .
Bei einer weiteren Aus führungs form weist die Reinigungsvorrichtung eine Verschlusseinheit auf , mit welcher die Vorrichtungsöf fnung zumindest teilweise verschließbar ist . Die Vorrichtungsöf fnung wird insbesondere dann verschlossen, wenn das Reinigungs fluid auf die Hohlkörperaußenfläche aufgebracht wird . Mit der Verschlusseinheit kann der unkontrollierte Austritt des Reinigungs fluids verhindert oder begrenzt werden, insbesondere dann, wenn ein gas förmiges Fluid wie Stickstof f oder Druckluft eingesetzt wird . Die Verschlusseinheit kann nach Art einer Abdeckung ausgebildet sein, welche die Vorrichtungsöf fnung verschließt . Dabei kann die Abdeckung so ausgebildet sein, dass sie die Vorrichtungsöf fnung auch dann zumindest weitgehend verschließt , wenn die Grei f- und Bewegungseinrichtung während des Zuführens des Reinigungs fluids in den Reinigungsraum hineinragt . Die Abdeckung kann hierzu beispielsweise mehrere verschiebbare Teile aufweisen, welche sehr nahe an die Grei f- und Bewegungseinrichtung herangefahren werden können, wenn diese mit dem an ihr befestigten Hohlkörper in den Reinigungsraum hineinragt . Weist die Reinigungsvorrichtung eine Ablageeinrichtung auf , auf welche der Hohlkörper abgelegt werden kann, kann die Grei f- und Bewegungseinrichtung vom Hohlkörper getrennt werden, wenn das Reinigungs fluid auf die Hohlkörperaußenfläche aufgebracht wird . Dann kann die Verschlusseinheit die gesamte Vorrichtungsöf fnung verschließen .
Bei einer weiteren Aus führungs form weist die Reinigungsvorrichtung zumindest eine mit dem Reinigungsraum kommuni zierende Austrittsöf fnung auf , durch welche das Reinigungs fluid oder das erste Reinigungs fluid und das zweite Reinigungs fluid aus dem Reinigungsraum abgeführt werden kann . Hierdurch kann eine kontrollierte Strömung innerhalb des Reinigungsraums erzeugt werden, ohne dass es zu stärkeren Verwirbelungen und zur Ausbildung von Toträumen auf der Hohlkörperaußenfläche kommt , in denen das Reinigungs fluid nicht oder nur unzureichend auf die Hohlkörperaußenfläche einwirken kann . Zudem wird das mit den Partikeln beladene Reinigungs fluid kontrolliert aus der Reinigungsvorrichtung abgeführt , so dass sich diese Partikel nicht erneut auf der Hohlkörperaußenfläche anlagern können . Eine Ausbildung der Erfindung betri f ft eine Behandlungsvorrichtung zum Behandeln von topf förmigen Hohlkörpern, insbesondere von Transportbehältern für Halbleiterwafer oder für Lithograf ie-Masken, umfassend
- eine Begrenzungswandung, welche einen Innenraum umschließt ,
- eine im Innenraum angeordnete Grei f- und Bewegungseinrichtung zum Bewegen des Hohlkörpers innerhalb des Innenraums , und
- eine von der Begrenzungswandung gebildete Wandungsöf fnung, durch welche der Innenraum zugänglich ist ,
- zumindest eine Behandlungseinheit zum Behandeln des Hohlkörpers , und
- eine Reinigungsvorrichtung nach einem der vorherigen Ausführungs formen, wobei
- der mit dem Deckel verschlossene Hohlkörper während des Zuführens des Reinigungs fluids mit der Grei f- und Bewegungseinrichtung verbunden ist und mit der Grei f- und Bewegungseinrichtung o in den Reinigungsraum eingebracht , o aus dem Reinigungsraum entfernt und o während des Zuführens des Reinigungs fluids von dieser im Reinigungsraum gehalten wird .
Die technischen Ef fekte und Vorteile , die sich mit der vorschlagsgemäßen Behandlungsvorrichtung erreichen lassen, entsprechen denj enigen, die für die vorliegende Reinigungsvorrichtung erörtert worden sind . Zusammenfassend sei darauf hingewiesen, dass die Hohlkörperaußenfläche gereinigt werden kann, ohne dass der Deckel vom übrigen Hohlkörper getrennt werden muss , wodurch entsprechend Zeit eingespart werden kann . Darüber hinaus kann die Reinigung der Hohlkörperaußenfläche erfolgen, wenn die Grei f- und Bewegungseinrichtung mit dem Hohlkörper verbunden ist ( „on the fly" ) . Ein Ablegen in eine definierte Position ist daher nicht erforderlich . Die Grei f- und Bewegungseinrichtung kann den Hohlkörper während der Reinigung der Hohlkörperaußenfläche in gewissen Grenzen bewegen, beispielsweise schwenken und/oder drehen, so dass das verwendete Reinigungs fluid auch an schwer zugängliche Stellen gelangen kann .
Sofern gewünscht , kann die Reinigungsvorrichtung mit einer Ablageeinrichtung versehen werden, auf welche der mit dem Deckel verschlossene Hohlkörper abgelegt werden kann . Nach dem Ablegen kann die Verbindung zwischen dem Hohlkörper und der Grei f- und Bewegungseinrichtung gelöst werden . Während der Zufuhr des Reinigungs fluids auf die Hohlkörperaußenfläche kann die Grei f- und Bewegungseinrichtung andere Hohlkörper bewegen . Insbesondere dann, wenn die Reinigung in der Reinigungsvorrichtung recht lange dauert , kann die Grei f- und Bewegungseinrichtung andere Aufgaben erledigen und somit ef fektiver genutzt werden .
Bei einer weiteren Ausbildung kann vorgesehen sein, dass die Grei f- und Bewegungseinrichtung eine Abdeckeinheit zum zumindest teilweisen Abdecken der Vorrichtungsöf fnung während des Zuführens des Reinigungs fluids aufweist . Die Abdeckeinheit kann beispielsweise aus fahrbare oder klappbare Bleche aufweisen, welche die Vorrichtungsöf fnung abdecken, wenn das Reinigungs fluid auf die Hohlkörperaußenfläche aufgebracht wird . Hierdurch kann das unkontrollierte Austreten des Reinigungsfluids aus dem Reinigungsraum vermieden werden . Hierdurch wird insbesondere die Wahrscheinlichkeit verringert , dass die mit dem Reinigungs fluid von der Hohlkörperaußenfläche abgelösten Partikel unkontrolliert in den Innenraum gelangen und sich dort wieder auf der Hohlkörperaußenfläche oder auch an der Hohlkörperinnenfläche anlagern können .
Eine fortentwickelte Ausbildung kann vorgeben, dass die Behandlungsvorrichtung einen Abführkanal zum Abführen des Reinigungs fluids oder des ersten Reinigungs fluids und des zweiten Reinigungs fluids aufweist , wobei der Abführkanal mit der Austrittsöf fnung kommuni ziert . In dieser Ausbildung wird das mit den von der Hohlkörperaußenfläche abgelösten Partikeln beladene Reinigungs fluid aus der Behandlungsvorrichtung abgeführt , so dass sich diese Partikel nicht erneut auf der Hohlkörperaußenfläche oder der Hohlkörperinnenfläche ablagern können .
Nach Maßgabe einer fortentwickelten Ausbildung kann im Abführkanal eine Partikelmesseinrichtung zum Bestimmen der Anzahl der im abgeführten Reinigungs fluid, im abgeführten ersten Reinigungs fluid und/oder im abgeführten zweiten Reinigungs fluid angeordnet sein . Mit der Partikelmesseinrichtung kann die Anzahl der im abgeführten Reinigungs fluid enthaltenen Partikel bestimmt werden, wodurch sich eine Aussage über den Fortschritt des Reinigungsprozesses tref fen lässt . Üblicherweise sinkt die Anzahl der Partikel mit zunehmender Reinigungsdauer . Man kann einen Grenzwert bezüglich der Anzahl der Partikel definieren . Sobald dieser Grenzwert unterschritten wird, kann der Reinigungsprozess der Hohlkörperaußenfläche abgebrochen werden . Hierdurch lässt sich ein bestimmter Reinigungsgrad bezüglich der Hohlkörperaußenfläche festlegen . Übermäßig lange Reinigungsprozesse können vermieden werden .
Eine weitere Ausbildung gibt vor, dass die Reinigungsvorrichtung eine Temperierungseinheit zum Temperieren des auf die Hohlkörperaußenfläche aufgebrachten Reinigungs fluids aufweist . Die Temperierungseinheit kann dabei in die Zuführeinrichtung integriert sein, so dass das Reinigungs fluid auf dem Weg in den Reinigungsraum entsprechend erwärmt oder gekühlt wird . Aufgrund der Temperaturänderungen kommt es zu einem Ausdehnen und einem Zusammenziehen des Hohlkörpers und der auf der Hohlkörperaußenfläche anhaftenden Partikel . Da aber die Partikel in der Regel einen anderen Längenausdehnungskoef fi zienten aufweisen als der Hohlkörper, kommt es zu Relativbewegungen zwischen den Partikeln und der Hohlkörperaußenfläche , wodurch das Ablösen der Partikel von der Hohlkörperaußenfläche begünstigt wird . Der Reinigungsprozess wird hierdurch gefördert .
Nach Maßgabe einer weiteren Ausbildung ist die Ablageeinrichtung um eine Drehachse drehbar gelagert und mittels eines Antriebsmotors drehbar . Die Drehgeschwindigkeit , mit welcher der auf der Ablageeinrichtung abgelegte Hohlkörper gedreht werden kann, kann so hoch gewählt werden, dass Reste des Reinigungsfluids , welche noch auf der Hohlkörperaußenfläche anhaften, aufgrund der dann wirkenden Zentri fugalkraft nach außen weggeschleudert werden . Dies ist insbesondere dann hil freich, wenn Wasser oder eine andere Flüssigkeit als Reinigungs fluid verwendet wird . Das Entfernen des Reinigungs fluids von der Hohlkörperaußenfläche wird hierdurch unterstützt .
Eine Ausgestaltung der Erfindung betri f ft ein Verfahren zum Reinigen von topf förmigen Hohlkörpern, insbesondere von Transportbehältern für Halbleiterwafer oder für Lithograf ie-Masken, mit einer Behandlungsvorrichtung nach einer der zuvor diskutierten Ausbildungen, umfassend die folgenden Schritte :
- Einbringen des mit dem Deckel verschlossenen Hohlkörpers in den Reinigungsraum mit der Grei f- und Bewegungseinrichtung, und
- Zuführen eines Reinigungs fluids auf die Hohlkörperaußenfläche des mit dem Deckel verschlossenen Hohlkörpers mit- tels der Zuführeinrichtung, wobei der Hohlkörper während des Zuführens des Reinigungs fluids o mit der Grei f- und Bewegungseinrichtung verbunden ist und von dieser im Reinigungsraum gehalten wird oder o mit der Grei f- und Bewegungseinrichtung auf der Ablageeinrichtung abgelegt und anschließend von der Grei f- und Bewegungseinrichtung getrennt wird .
Die technischen Ef fekte und Vorteile , die sich mit dem vorliegenden Verfahren erreichen lassen, entsprechen denj enigen, die für die vorliegende Reinigungsvorrichtung erörtert worden sind . Zusammenfassend sei darauf hingewiesen, dass die Hohlkörperaußenfläche bei am Hohlkörper befestigtem Deckel gereinigt werden kann . Insofern entfällt die Notwendigkeit , hierzu den Deckel vom übrigen Hohlkörper zu trennen, wodurch entsprechend Zeit eingespart werden kann . Darüber hinaus kann die Reinigung der Hohlkörperaußenfläche erfolgen, wenn die Grei f- und Bewegungseinrichtung mit dem Hohlkörper verbunden ist ( „on the fly" ) . Ein Ablegen in eine definierte Position ist daher nicht erforderlich . Die Grei f- und Bewegungseinrichtung kann den Hohlkörper während der Reinigung der Hohlkörperaußenfläche in gewissen Grenzen bewegen, so dass das verwendete Reinigungs fluid auch an schwer zugängliche Stellen gelangen kann . Je nach Ausgestaltung ist es aber gleichwohl möglich, den Hohlkörper auf der Ablageeinrichtung abzulegen, was insbesondere dann Sinn macht , wenn die Grei f- und Bewegungseinrichtung während des Reinigens der Hohlkörperaußenfläche zum Bewegen anderer, in der Behandlungsvorrichtung befindlichen Hohlkörper verwendet werden soll . Auch dann, wenn der Hohlkörper mit hoher Drehgeschwindigkeit zum Wegschleudern von Resten des verwendeten Reinigungs fluids um seine eigene Achse gedreht werden soll , bietet sich ein Ablegen auf der Ablageeinrichtung an . Beispielhafte Aus führungs formen der Erfindung werden im Folgenden unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen näher erläutert . Es zeigen
Figur 1A eine prinzipielle Seitenansicht einer Behandlungsvorrichtung, wie sie aus dem Stand der Technik bekannt ist ,
Figur 1B eine separate , prinzipielle Darstellung eines zu behandelnden Hohlkörpers ,
Figur 2A eine stark vereinfachte prinzipielle Seitenansicht einer vorschlagsgemäßen Behandlungsvorrichtung, welche ein erstes Aus führungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Reinigungsvorrichtung aufweist ,
Figur 2B eine separate prinzipielle Darstellung des in Figur 2A dargestellten ersten Aus führungsbeispiels der Reinigungsvorrichtung entlang der in Figur 2A definierten Schnittebene X-X,
Figur 3 eine prinzipielle Draufsicht auf ein zweites Aus führungsbeispiel der erfindungsgemäßen Reinigungsvorrichtung, analog zu der in Figur 2B gewählten Darstellung, und
Figur 4 eine prinzipielle Seitendarstellung eines dritten Aus führungsbeispiels der Reinigungsvorrichtung, analog zu der in Figur 2A gewählten Darstellung .
In Figur 1A ist eine aus dem Stand der Technik bekannte Behandlungsvorrichtung 10 zum Behandeln von topf förmigen Hohlkörpern 12 in vereinfachter Form dargestellt . Figur 1B zeigt eine separate Darstellung des Hohlkörpers 12 . Die Behandlungsvorrichtung 10 umfasst eine Begrenzungswandung 14 , welche einen Innenraum 16 umschließt . Im Innenraum 16 ist eine Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 vorgesehen, mit welcher die zu behandelnden Hohlkörper 12 im Innenraum 16 bewegt werden können . Zudem befindet sich im Innenraum 16 eine Anzahl von Behandlungseinheiten 20 , die beispielsweise in Form einer Wascheinrichtung 22 und/oder einer Evakuierungseinrichtung 24 ausgebildet sein können .
Die Begrenzungswandung 14 bildet eine auf nicht näher gezeigte Weise verschließbare Wandungsöf fnung 26 , durch welche der Innenraum 16 zugänglich ist .
Die Behandlungsvorrichtung 10 wird auf folgende Weise betrieben : Ein zu behandelnder Hohlkörper 12 , der eine Hohlkörperwandung 28 aufweist , die eine Hohlkörperöf fnung 29 , welche von einem Deckel 30 verschlossen werden kann, sowie eine Hohlkörperaußenfläche 32 und eine Hohlkörperinnenfläche 34 bildet ( siehe Figur 1B ) , wird auf nicht näher gezeigte Weise zur Wandungsöf fnung 26 transportiert und derart positioniert , dass die Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 den Hohlkörper 12 unter Verwendung einer entsprechend ausgebildeten Schnittstelle 36 ergrei fen und innerhalb des Innenraums 16 bewegen kann . Mit der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 wird der Hohlkörper 12 der Wascheinrichtung 22 zugeführt . In Figur 1A ist eine Deckelhandhabungseinheit 38 dargestellt , mit welcher der Deckel 30 verbunden und vom übrigen Hohlkörper 12 getrennt werden kann . Die Deckelhandhabungseinheit 38 wird anschließend zusammen mit dem Deckel 30 um ca . 90 ° gedreht und verschließt infolgedessen eine Prozessraumöf fnung 40 der Wascheinrichtung 22 . Der vom Deckel 30 getrennte Hohlkörper 12 wird durch eine hier nicht dargestellte weitere Prozessraumöf fnung in die Wascheinrichtung 22 eingebracht . In der Wascheinrichtung 22 wird ein Waschfluid, insbesondere Wasser, auf die Hohlkörperinnenfläche 34 und den Deckel 30 aufgebracht . Je nach Ausbildung der Wascheinrichtung 22 ist es auch möglich, das Waschfluid auf die Hohlkörperaußenfläche 32 auf zubringen .
Nach Abschluss des Waschvorgangs wird der Hohlkörper 12 mit der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 aus der Wascheinrichtung 22 entnommen, die Deckelhandhabungseinheit 38 in die in Figur 1A gezeigte Stellung gedreht und der Hohlkörper 12 wieder mit dem Deckel 30 verbunden .
Nun wird der Hohlkörper 12 zusammen mit dem Deckel 30 der Evakuierungseinrichtung 24 zugeführt . Hierzu wird weitgehend analog wie bei der Wascheinrichtung 22 vorgegangen . Insbesondere wird zunächst der Deckel 30 vom Hohlkörper 12 getrennt . In der Evakuierungseinrichtung 24 wird ein auf den Deckel 30 und den Hohlkörper 12 einwirkender Unterdrück angelegt , der zum Verdampfen von Resten des in der Wascheinrichtung 22 verwendeten Waschfluids führt .
Nachdem dieser Prozess abgeschlossen ist , wird der Deckel 30 wieder mit dem Hohlkörper 12 verbunden und mit der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 zur Wandungsöf fnung 26 bewegt und der gereinigte Hohlkörper 12 zusammen mit dem Deckel 30 aus dem Innenraum 16 der Behandlungsvorrichtung 10 ausgeschleust und weiter transportiert . Der aus dem Innenraum 16 ausgeschleuste Hohlkörper 12 kann nun zum Transport und der Lagerung von hier nicht dargestellten Halbleiterwafern verwendet werden .
In Figur 2A ist eine Behandlungsvorrichtung 42 gemäß der vorliegenden Erfindung anhand einer prinzipiellen Seitenansicht gezeigt . Der wesentliche Aufbau der erfindungsgemäßen Behänd- lungsvorrichtung 42 gleicht dabei demj enigen der in Figur 1A gezeigten Behandlungsvorrichtung 10 nach dem Stand der Technik, weshalb im Folgenden nur auf die wesentlichen Unterschiede eingegangen wird .
Die erfindungsgemäße Behandlungsvorrichtung 42 ist mit einer Reinigungsvorrichtung 44 nach einem ersten Aus führungsbeispiel ausgestattet , welche zum Reinigen der Hohlkörperaußenfläche 32 des Hohlkörpers 12 dient ( siehe Figur 1B ) . Die Reinigungsvorrichtung 44x ist in der Figur 2B separat anhand einer prinzipiellen Schnittdarstellung entlang der in Figur 2A definierten Schnittebene X-X dargestellt , allerdings ohne den Hohlkörper 12 und ohne Anspruch auf zeichnerische Vollständigkeit und Maßstabstreue . Die Reinigungsvorrichtung 44 umfasst eine Seitenwand 46 , die einen Reinigungsraum 50 begrenzt und welche in der Draufsicht einen viereckigen Querschnitt aufweist . Folglich ist die Seitenwand 46 in der in Figur 2B gewählten Schnittebene X-X geschlossen .
Die Seitenwand 46 bildet zumindest eine Vorrichtungsöf fnung 48 , durch welche der mit dem Deckel 30 verschlossene Hohlkörper 12 zum Reinigen der Hohlkörperaußenfläche 32 mittels der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 in den Reinigungsraum 50 einbringbar ist . Weiterhin ist die Reinigungsvorrichtung 44 mit einer Zuführeinrichtung 52 ausgestattet , mit welcher ein Reinigungs fluid in den Reinigungsraum 50 einbringbar ist . Gemäß dem ersten Aus führungsbeispiel der Reinigungsvorrichtung 44x umfasst die Zuführeinrichtung 52 eine Anzahl von ersten Austrittsdüsen 54 zum Zuführen eines ersten Reinigungs fluids und eine Anzahl von zweiten Austrittsdüsen 56 zum Zuführen eines zweiten Reinigungs fluids in den Reinigungsraum 50 . Folglich können zwei unterschiedliche Reinigungs fluide in den Reinigungsraum 50 gefördert werden, wobei das erste Reinigungs- fluid beispielsweise Wasser und das zweite Reinigungs fluid beispielsweise Luft sein können . Sowohl die ersten Austrittsdüsen 54 als auch die zweiten Austrittsdüsen 56 kommuni zieren mit die Seitenwand 46 durchdringenden Durchgangslöchern 58 , die wiederum mit Zuführkanälen 60 verbunden sind, die ebenfalls an der Seitenwand 46 befestigt sind .
Wie aus der Figur 2B erkennbar ist , sind im Reinigungsraum 50 insgesamt vier Leitbleche 62 angeordnet , welche mittels einer Antriebseinheit 64 bewegt werden können . Die Leitbleche 62 können mit der Antriebseinheit 64 beispielsweise angehoben und gesenkt und/oder gedreht werden .
Die Reinigungsvorrichtung 44 weist ferner eine Bodenwand 66 auf , in welcher eine Austrittsöf fnung 67 angeordnet ist . Die Bodenwand 66 ist auf einen Boden 68 der Behandlungsvorrichtung 42 aufgesetzt . Der Boden 68 weist eine Anzahl von Durchbrüchen 70 auf , die in einen darunter angeordneten Abführkanal 72 münden ( siehe auch Figur 1A) . Die Reinigungsvorrichtung 44 ist so angeordnet , dass die Austrittsöf fnung 67 mit den Durchbrüchen 70 kommuni ziert . Das durch die Austrittsdüsen 54 , 56 in den Reinigungsraum 50 eingebrachte Reinigungs fluid kann durch die Austrittsöf fnung 67 , die Durchbrüche 70 und den Abführkanal 72 aus der Behandlungsvorrichtung 42 abgeführt werden .
Im Abführkanal 72 ist eine Partikelmesseinrichtung 74 angeordnet , mit welcher die Anzahl der im Reinigungs fluid enthaltenen Partikel bestimmt werden kann .
Die Reinigungsvorrichtung 44 wird auf folgende Weise betrieben : Wie in Bezug auf Figur 1A bereits geschildert , wird der zu behandelnde Hohlkörper 12 von der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 ergri f fen, so dass der Hohlkörper 12 im Innenraum 16 bewegt werden kann . Bevor der Hohlkörper 12 mittels der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 der Wascheinrichtung 22 zugeführt wird, wird der Hohlkörper 12 wie in Figur 2A gezeigt durch die Vorrichtungsöf fnung 48 in den Reinigungsraum 50 der Reinigungsvorrichtung 44 eingebracht . Dabei bleibt die Verbindung zwischen dem Hohlkörper 12 und der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 erhalten . Auch wird der Deckel 30 nicht vom Hohlkörper 12 getrennt . Aus Figur 2A geht ebenfalls hervor, dass die Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 etwas in den Reinigungsraum 50 eintaucht , um sicherzustellen, dass der gesamte Hohlkörper 12 in den Reinigungsraum 50 eingebracht ist . Je nach Anwendungs fall kann es auch vorteilhaft sein, den Hohlkörper 12 nur teilweise in den Reinigungsraum 50 einzubringen . Dann taucht die Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 nicht in den Reinigungsraum 50 ein .
Wie aus einem Vergleich der Figuren 1 und 2A hervorgeht , ist die Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 der erfindungsgemäßen Behandlungsvorrichtung 42 mit einer Abdeckeinheit 76 ausgestattet , mit welcher die Vorrichtungsöf fnung 48 zumindest teilweise abgedeckt werden kann . Die Abdeckeinheit 76 kann beispielsweise aus fahrbare oder klappbare Bleche 78 aufweisen . Die Bleche 78 können auch als Anschlag dienen und von oben an die Seitenwand 46 anschlagen, wodurch eine Endstellung des Hohlkörpers 12 im Reinigungsraum 50 definiert und Kollisionen des Hohlkörpers 12 insbesondere mit der Bodenwand 66 vermieden werden können .
Wenn die in Figur 2A gezeigte Position erreicht ist , wird das erste Reinigungs fluid infolge einer Aktivierung von nicht dargestellten Fördereinheiten durch die ersten Austrittsdüsen 54 gefördert und auf die Hohlkörperaußenfläche 32 aufgebracht , wie in Figur 2A mit den Pfeilen gekennzeichnet . Die Abdeckein- heit 76 verhindert , dass das erste Reinigungs fluid durch die Vorrichtungsöf fnung 48 unkontrolliert in den Innenraum 16 gelangen kann . Der Hohlkörper 12 kann von der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 im Reinigungsraum 50 bewegt werden, während das erste Reinigungs fluid auf die Hohlkörperaußenfläche 32 aufgebracht wird . Dabei kann eine Auf- und Abbewegung, eine Drehbewegung, eine seitlich gerichtete Bewegung und/oder eine Kombination aus diesen Bewegungen vorgenommen werden . Die Bewegung kann weitgehend frei gewählt werden, solange es zu keiner Kollision des Hohlkörpers 12 mit der Reinigungsvorrichtung 44x kommt .
Das erste Reinigungs fluid überstreicht die Hohlkörperaußenfläche 32 und führt darauf angelagerte Partikel ab . Die Austrittsdüsen 54 , die Abdeckeinheit 76 und die Leitbleche 62 prägen dem ersten Reinigungs fluid eine Strömung zur Austrittsöf fnung 67 hin auf , infolgedessen das mit den Partikeln beladene erste Reinigungs fluid durch die Austrittsöf fnung 67 , die Durchbrüche 70 und den Abführkanal 72 aus der Reinigungsvorrichtung 44x und der Behandlungsvorrichtung 42 abgeführt wird . Dabei passiert eine gegebene Volumeneinheit des Reinigungs fluids die Partikelmesseinrichtung 74 , mit welcher die Anzahl der in der betref fenden Volumeneinheit enthaltenen Partikel bestimmt wird . Diese Bestimmung wird mit nachfolgenden Volumeneinheiten fortgesetzt . Sobald ein bestimmter Grenzwert der bestimmten Anzahl von Partikeln unterschritten wird, kann die Zufuhr des ersten Reinigungs fluid beendet werden . Anschließend kann das zweites Reinigungs fluid durch die zweiten Austrittsdüsen 56 auf die Hohlkörperaußenfläche 32 aufgebracht werden . Hierbei wird auf analoge Weise zum ersten Reinigungs fluid vorgegangen . Nachdem die Zufuhr des zweiten Reinigungs fluid beendet ist , wird der Hohlkörper 12 aus der Reinigungsvorrichtung 44x entnommen und wie für Figur 1A beschrieben der Waschein- richtung 22 und der Evakuierungseinrichtung 24 zugeführt . Nachdem die dort durchgeführten Behandlungsschritte beendet worden sind, wird der Hohlkörper 12 mit der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 zur Wandungsöf fnung 26 bewegt , von wo aus der gereinigte Hohlkörper 12 zusammen mit dem Deckel 30 aus dem Innenraum 16 der Reinigungsvorrichtung 44 ausgeschleust und weiter transportiert wird .
Alternativ kann der mit dem Deckel 30 verschlossene Hohlkörper 12 erst dann der Reinigungsvorrichtung 44 zugeführt werden, nachdem die in der Wascheinrichtung 22 und der Evakuierungseinrichtung 24 durchgeführten Behandlungsschritte abgeschlossen worden sind . Auch ist es möglich, den mit dem Deckel 30 verschlossenen Hohlkörper 12 sowohl vor als auch nach den in der Wascheinrichtung 22 und der Evakuierungseinrichtung 24 durchgeführten Behandlungsschritten der Reinigungsvorrichtung 442 zuzuführen .
In Figur 3 ist ein zweites Aus führungsbeispiel der Reinigungsvorrichtung 442 anhand einer prinzipiellen Draufsicht gezeigt . Der wesentliche Aufbau der Reinigungsvorrichtung 442 nach dem zweiten Aus führungsbeispiel entspricht dabei demj enigen der Reinigungsvorrichtung 442 des ersten Aus führungsbeispiels , so dass im Folgenden nur auf die Unterschiede eingegangen wird . Während die Reinigungsvorrichtung 442 nach dem ersten Aus führungsbeispiel eine geschlossene Seitenwand 46 mit vier Abschnitten aufweist , umfasst die Reinigungsvorrichtung 442 nach dem zweiten Aus führungsbeispiel eine erste Seitenwand 462 und eine zweite Seitenwand 462 , die parallel verlaufen und beab- standet zueinander am Boden 68 der Behandlungsvorrichtung 42 angeordnet sind . Folglich erstreckt sich die Vorrichtungsöf fnung 48 nicht nur innerhalb der Zeichnungsebene der Figur 3 , sondern auch senkrecht dazu . Es ist daher möglich, den Hohl- körper 12 nicht nur von oben, sondern auch von der Seite in den Reinigungsraum 50 einzubringen . Die hierzu notwendige Bewegung der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 kann vereinfacht werden . Eine Bodenwand 66 weist die Reinigungsvorrichtung 442 nach dem zweiten Aus führungsbeispiel nicht auf .
Zudem weist die Reinigungsvorrichtung 442 nach dem zweiten Ausführungsbeispiel eine Anzahl von Austrittsdüsen 80 auf , durch welche nur ein Reinigungs fluid, beispielsweise Luft , in den Reinigungsraum 50 eingeleitet werden kann . Im dargestellten zweiten Aus führungsbeispiel sind die Austrittsdüsen 80 der ersten Seitenwand 462 wiederum unter Verwendung der Durchgangslöcher 58 mit einem gemeinsamen Zuführkanal 60 verbunden . Entsprechendes gilt für die Austrittsdüsen 80 der zweiten Seitenwand 462 . Im gemeinsamen Zuführkanal 60 ist eine Temperierungseinheit 81 angeordnet , mit welcher die Temperatur des Reinigungs fluids geändert werden kann .
Der Volumenstrom durch j ede Austrittsdüse 54 , 56 kann bei der Reinigungsvorrichtung 442 nach dem ersten Aus führungsbeispiel individuell eingestellt und insbesondere früher oder später als bei anderen Austrittsdüsen 54 , 56 ein- oder ausgestellt werden . Zudem kann auch die Reinigungsvorrichtung 442 nach dem ersten Aus führungsbeispiel mit der Temperierungseinheit 81 ausgestattet werden, so dass das Reinigungs fluid auf dem Weg zu j eder Austrittsdüse 54 , 56 , individuell temperiert werden kann . Die individuelle Einstellung des Reinigungs fluids hinsichtlich der genannten Größen an j eder der Austrittsdüsen 54 , 56 ist bei der Reinigungsvorrichtung 442 nach dem zweiten Ausführungsbeispiel nicht vorgesehen ist . Allerdings vereinfacht sich der apparative Aufwand aufgrund des gemeinsamen Zuführkanals 60 beim zweiten Aus führungsbeispiel . Figur 4 zeigt ein drittes Aus führungsbeispiel der erfindungsgemäßen Reinigungsvorrichtung 443 analog zu der in Figur 2A gewählten Darstellung . Aus Gründen der Übersichtlichkeit sind Bestandteile der Behandlungsvorrichtung 42 , insbesondere die Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 , nicht dargestellt . Die Reinigungsvorrichtung 443 nach dem dritten Aus führungsbeispiel entspricht weitgehend den Reinigungsvorrichtungen 443 , 442 nach dem ersten und dem zweiten Aus führungsbeispiel , weshalb im Folgenden nur auf die wesentlichen Unterschiede eingegangen wird .
Die Reinigungsvorrichtung 443 nach dem dritten Aus führungsbeispiel ist mit einer Ablageeinrichtung 82 ausgestattet , auf welcher der Hohlkörper 12 abgelegt werden kann . Hierzu wird der Hohlkörper 12 von der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 in den Reinigungsraum 50 eingebracht , bis dass der Hohlkörper 12 mit der Ablageeinrichtung 82 in Kontakt tritt . Anschließend wird der Kontakt zwischen der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 und dem Hohlkörper 12 getrennt .
Im dargestellten Aus führungsbeispiel der Reinigungsvorrichtung 443 wird der Hohlkörper 12 mit dem Deckel 30 auf der Ablageeinrichtung 82 abgelegt , wobei es auch möglich ist , den Hohlkörper 12 mit der Hohlkörperwandung 28 ( siehe Figur 1B ) auf der Ablageeinrichtung 82 abzulegen . Die Ablageeinrichtung 82 ist benachbart zur Bodenwand 66 angeordnet und weist eine Rahmenstruktur mit stangen- oder balkenartigen Trägern auf , die so ausgebildet ist , dass sie die Strömung des Reinigungs fluids so wenig wie möglich behindert . Insbesondere ist gewährleistet , dass der Deckel 30 gut mit dem Reinigungs fluid beaufschlagt werden kann . Dabei kann es sich anbieten, dass die Rahmenstruktur zumindest drei kreis förmige Auflagepunkte bereitstellt , auf welche der Hohlkörper 12 abgelegt werden kann . Die Ablageeinrichtung 82 kann im Reinigungsraum 50 befestigt sein . Im dargestellten Aus führungsbeispiel der Behandlungsvorrichtung 42 ist die Ablageeinrichtung 82 j edoch im Boden 68 der Behandlungsvorrichtung 42 drehbar gelagert und kann mittels eines Antriebsmotors 84 um eine Drehachse D gedreht werden . Infolge dieser Drehung kann der auf der Ablageeinrichtung 82 abgelegte Hohlkörper 12 gedreht werden, wodurch die Zufuhr des Reinigungs fluids zu schwer zugänglichen Stellen der Hohlkörperaußenfläche 32 verbessert werden kann .
Nicht dargestellt ist ein Aus führungsbeispiel , bei welchem die bereits erwähnte Temperierungseinheit 81 (vgl . Figur 3 ) vorgesehen ist , um die Temperatur des zugeführten Reinigungs fluids zu ändern .
Die Auflagepunkte werden im dargestellten Aus führungsbeispiel der Behandlungsvorrichtung 42 von als Saugnäpfe 86 ausgebildeten Niederhaltern 88 gebildet , welche zur Fixierung des Hohlkörpers 12 während der Beaufschlagung mit dem Reinigungs fluid dienen . Die Niederhalter 88 können auch auf andere Weise ausgebildet sein, beispielsweise in Form von Klammern . So können Fixierarme oder dergleichen, die von oben oder von der Seite am Hohlkörper 12 angrei fen können, für die Fixierung des Hohlkörpers 12 während der Beaufschlagung mit dem Reinigungs fluid sorgen (nicht dargestellt ) .
Wie erwähnt , kann die Ablageeinrichtung 82 mit dem Motor 84 um die Drehachse D gedreht werden . Um ein Verrutschen des Hohlkörpers 12 auf der Ablageeinrichtung 82 infolge von Unwuchten oder anderen Gründen während des Drehens zu verhindern, sind Haltestäbe 96 vorgesehen, die mit der Hohlkörperwandung 28 zur Anlage oder nahezu zur Anlage kommen, wenn der Hohlkörper 12 auf der Ablageeinrichtung 82 abgelegt ist . Die Haltestäbe 96 können auch korbartig mit einem hier nicht gezeigten Netz verbunden sein .
Ferner weist die Reinigungsvorrichtung 443 nach dem dritten Aus führungsbeispiel eine Verschlusseinheit 90 auf , mit welcher der Reinigungsraum 50 verschlossen werden kann, insbesondere dann, wenn der Hohlkörper 12 in den Reinigungsraum 50 eingebracht ist und mit dem Reinigungs fluid beaufschlagt werden soll . Die hier dargestellte Verschlusseinheit 90 weist einen Verschlusskörper 92 auf , der mit einem nicht näher dargestellten Befestigungsmittel 94 drehbar an der Seitenwand 46 der Reinigungsvorrichtung 443 befestigt ist . Das Befestigungsmittel 94 kann dabei ein Scharnier umfassen . Weiterhin kann eine nicht dargestellte Stelleinrichtung vorgesehen sein, mit welcher die Verschlusseinheit 90 zum Öf fnen und Schließen der Vorrichtungsöf fnung 48 bewegt werden kann .
Der Hohlkörper 12 wird mit der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 in den Reinigungsraum 50 eingebracht und auf die Ablageeinrichtung 82 abgelegt , wenn sich die Verschlusseinheit 90 in einer Of fenstellung befindet (nicht dargestellt ) . Anschließend werden die Niederhalter 88 aktiviert und die Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 vom Hohlkörper 12 getrennt . Sobald die Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 die Reinigungsvorrichtung 443 verlassen hat , kann die Verschlusseinheit 90 in die Schließstellung überführt werden, wie in Figur 4 dargestellt . Nun kann das Reinigungs fluid auf die Hohlkörperaußenfläche 32 aufgebracht werden . Wie erwähnt , kann durch die ersten Austrittsdüsen 54 ein erstes Reinigungs fluid, beispielsweise Wasser, und durch die zweiten Austrittsdüsen 56 ein zweites Reinigungs fluid, beispielsweise Luft , in den Reinigungsraum 50 eingebracht werden . Der Hohlkörper 12 kann vor oder während der Zufuhr des zweiten Reinigungs fluids mit der Ablageeinrichtung 82 so schnell gedreht werden, dass Wasserreste von der Hohlkörperaußenfläche 32 weggeschleudert werden . Die Haltestäbe verhindern dabei ein Wegrutschen des Hohlkörpers 12 während der Drehung .
Nach abgeschlossener Reinigung der Hohlkörperaußenfläche 32 wird die Verschlusseinheit 90 in die Of fenstellung überführt . Der Hohlkörper 12 mit der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 aus dem Reinigungsraum 50 entnommen und der weiteren Behandlung zugeführt .
Nicht dargestellt ist eine Aus führungs form der Verschlusseinheit 90 , welche in die Schließstellung gestellt werden kann, auch wenn die Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 noch mit dem Hohlkörper 12 verbunden ist (vgl . Figur 2A) . Der Verschlusskörper 92 kann hierzu entsprechende Ausschnitte aufweisen und an die Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 herangeschoben werden .
Die Verschlusseinheit 90 bewirkt , dass zumindest ein Teil des Reinigungs fluids nicht unkontrolliert durch die Vorrichtungsöf fnung 48 aus dem Reinigungsraum 50 der Reinigungsvorrichtung 443 austreten kann .
Während eine Änderung der Temperatur des zugeführten Reinigungs fluids bei allen gezeigten Aus führungsbeispielen der Reinigungsvorrichtung 44 vorgesehen sein kann, ist die Drehung des Hohlkörpers 12 um die eigene Achse zum Wegschleudern von Resten des Reinigungs fluids von der Hohlkörperaußenfläche 32 nur bei dem in Figur 4 dargestellten Aus führungsbeispiel möglich . Zwar kann der Hohlkörper 12 auch mit der Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 um seine eigene Achse gedreht werden, also dann, wenn der Hohlkörper mit Grei f- und Bewegungseinrichtung 18 verbunden ist , allerdings ist die erreichbare Drehgeschwindigkeit zu gering, um Reste des Reinigungs fluids in nennenswertem Umfang von der Hohlkörperaußenfläche 32 ent- fernen zu können .
Bezugs zeichenliste
10 Behandlungsvorrichtung nach dem Stand der Technik
12 Hohlkörper
14 Begrenzungswand
16 Innenraum
18 Grei f- und Bewegungseinrichtung
20 Behandlungseinheit
22 Wascheinrichtung
24 Evakuierungseinrichtung
26 Wandungsöf fnung
28 Hohlkörperwandung
29 Hohlkörperöf fnung
30 Deckel
32 Hohlkörperaußenfläche
34 Hohlkörperinnenfläche
36 Schnittstelle
38 Deckelhandhabungseinheit
40 Prozessraumöf fnung
42 Behandlungsvorrichtung
44 Reinigungsvorrichtung
442 Reinigungsvorrichtung
442 Reinigungsvorrichtung
443 Reinigungsvorrichtung
46 Seitenwand
462 erste Seitenwand
462 zweite Seitenwand
48 Vorrichtungsöf fnung
50 Reinigungsraum 2 Zuführeinrichtung 4 erste Austrittsdüse 6 zweite Austrittsdüse 8 Durchgangsloch
60 Zuführkanal
62 Leitblech
64 Antriebseinheit
66 Bodenwand
67 Austrittsöf fnung
68 Boden
70 Durchbruch
72 Abführkanal
74 Partikelmesseinrichtung
76 Abdeckeinheit
78 Blech
80 Austrittsdüse
81 Temperierungseinheit
82 Ablageeinrichtung
84 Antriebsmotor
86 Saugnapf
88 Niederhalter
90 Verschlusseinheit
92 Verschlusskörper
94 Befestigungsmittel
96 Haltestäbe
D Drehachse

Claims

Patentansprüche
1. Reinigungsvorrichtung (44) zum Reinigen von topfförmigen Hohlkörpern (12) , insbesondere von Transportbehältern für Halbleiterwafer oder für Lithograf ie-Masken, wobei
- der Hohlkörper (12) eine Hohlkörperwandung (28) aufweist, die o eine Hohlkörperöffnung (29) , welche von einem Deckel (30) verschließbar oder verschlossen ist, und o eine Hohlkörperaußenfläche (32) bildet, wobei
- die Reinigungsvorrichtung (44) o zumindest eine Seitenwand (46) , welche einen Reinigungsraum (50) begrenzt, wobei o die Seitenwand (46) zumindest eine Vorrichtungsöffnung (48) bildet, durch welche der mit dem Deckel (30) verschlossene Hohlkörper (12) zum Reinigen der Hohlkörperaußenfläche (32) mittels einer Greif- und Bewegungseinrichtung (18) in den Reinigungsraum (50) einbringbar ist, und o zumindest eine Zuführeinrichtung (52) zum Zuführen eines Reinigungsfluids auf die Hohlkörperaußenfläche (32) des mit dem Deckel (30) verschlossenen Hohlkörpers (12) umfasst, wobei
- die Vorrichtungsöffnung (48) derart ausgestaltet ist, dass die Greif- und Bewegungseinrichtung (18) zumindest während des Zuführens des Reinigungsfluids zumindest teilweise in den Reinigungsraum (50) hineinragt oder bündig mit der Vorrichtungsöffnung (48) abschließt und/ oder
- im Reinigungsraum (50) eine Ablageeinrichtung (82) angeordnet ist, auf welcher die Greif- und Bewegungseinrichtung (18) den mit dem Deckel (30) verschlossenen Hohlkörper (12) zum Zuführen des Reinigungsfluids ablegen kann. Reinigungsvorrichtung (44) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Zuführeinrichtung (52) eine Anzahl von zum Reinigungsraum (50) weisende oder in den Reinigungsraum (50) mündende Austrittsdüsen (54, 56, 80) umfasst . Reinigungsvorrichtung (44) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Austrittsdüsen (54, 56, 80) in der Seitenwand (46) angeordnet Durchgangslöcher (58) umfassen oder von diesen gebildet werden. Reinigungsvorrichtung (44) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass
- die Zuführeinrichtung (52) in der Seitenwand (46) angeordnete Durchgangslöcher (58) aufweist und
- die Austrittsdüsen (54, 56, 80) an der Seitenwand (46) in Fluidkommunikation mit den Durchgangslöchern (58) befestigt ist und in den Reinigungsraum (50) münden. Reinigungsvorrichtung (44) nach einem der Ansprüche 2 bis
4, dadurch gekennzeichnet, dass die Zuführeinrichtung (52) eine Anzahl von mit den Austrittsdüsen (54, 56, 80) kommunizierenden Zuführkanälen (60) umfasst, mit welcher das Reinigungsfluid zu den Austrittsdüsen (54, 56, 80) geführt werden kann. Reinigungsvorrichtung (44) nach den Ansprüchen 3 und 5 oder 4 und 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Zuführkanäle (60) an der Seitenwand (46) befestigt sind und mit den Durchgangslöchern (58) kommunizieren. Reinigungsvorrichtung (44) nach einem der Ansprüche 2 bis
6, dadurch gekennzeichnet, dass die Zuführeinrichtung (52) eine Anzahl von ersten Austrittsdüsen (54) zum Zuführen eines ersten Reinigungsfluids und eine Anzahl von zweiten Austrittsdüsen (56) zum Zuführen eines zweiten Reinigungsfluids in den Reinigungsraum (50) aufweist. Reinigungsvorrichtung (44) nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungsvorrichtung (44) eine Anzahl von im Reinigungsraum (50) angeordneten oder mit dem zusammenwirkenden Leitblechen (62) zum Leiten des Reinigungsfluids innerhalb des Reinigungsraums (50) aufweist. Reinigungsvorrichtung (44) nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Leitbleche (62) mittels einer Antriebseinheit (64) verstellbar sind. Reinigungsvorrichtung (44) nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungsvorrichtung (44) eine Verschlusseinheit (90) aufweist, mit welcher die Vorrichtungsöffnung (48) zumindest teilweise verschließbar ist . Reinigungsvorrichtung (44) nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungsvorrichtung (44) zumindest eine mit dem Reinigungsraum (50) kommunizierende Austrittsöffnung (67) aufweist, durch welche das Reinigungsfluid oder das erste Reinigungsfluid und das zweite Reinigungsfluid aus dem Reinigungsraum (50) abgeführt werden kann. Reinigungsvorrichtung (44) nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungsvorrichtung (44) eine Temperierungseinheit (81) zum Temperieren des auf die Hohlkörperaußenfläche (32) aufgebrachten Reinigungsfluids aufweist . Reinigungsvorrichtung (44) nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Ablageeinrichtung (82) um eine Drehachse (D) drehbar gelagert und mittels eines Antriebsmotors (84) drehbar ist. Behandlungsvorrichtung (42) zum Behandeln von topf förmigen Hohlkörpern (12) , insbesondere von Transportbehältern für Halbleiterwafer oder für Lithograf ie-Masken, umfassend eine Begrenzungswandung (14) , welche einen Innenraum (16) umschließt, eine im Innenraum (16) angeordnete Greif- und Bewegungseinrichtung (18) zum Bewegen des Hohlkörpers (12) innerhalb des Innenraums (16) , und eine von der Begrenzungswandung (14) gebildete Wandungsöffnung (26) , durch welche der Innenraum (16) zugänglich ist, zumindest eine Behandlungseinheit (20) zum Behandeln des Hohlkörpers (12) , und eine Reinigungsvorrichtung (44) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei der mit dem Deckel (30) verschlossene Hohlkörper (12) während des Zuführens des Reinigungsfluids mit der Greif- und Bewegungseinrichtung (18) verbunden ist und mit der Greif- und Bewegungseinrichtung (18) o in den Reinigungsraum (50) eingebracht, o aus dem Reinigungsraum (50) entfernt und o während des Zuführens des Reinigungsfluids von dieser im Reinigungsraum (50) gehalten wird, wobei
- die Vorrichtungsöffnung (48) derart ausgestaltet ist, dass die Greif- und Bewegungseinrichtung (18) zumindest während des Zuführens des Reinigungsfluids zumindest teilweise in den Reinigungsraum (50) hineinragt oder bündig mit der Vorrichtungsöffnung (48) abschließt. Behandlungsvorrichtung (42) nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Greif- und Bewegungseinrichtung (18) eine Abdeckeinheit (76) zum zumindest teilweisen Abdecken der Vorrichtungsöffnung (48) während des Zuführens des Reinigungsfluids aufweist. Behandlungsvorrichtung (42) nach einem der Ansprüche 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungsvorrichtung (42) einen Abführkanal (72) zum Abführen des Reinigungsfluids oder des ersten Reinigungsfluids und des zweiten Reinigungsfluids aufweist, wobei der Abführkanal (72) mit der Austrittsöffnung (67) kommuniziert. Behandlungsvorrichtung (42) nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass im Abführkanal (72) eine Partikelmesseinrichtung (74) zum Bestimmen der Anzahl der im abgeführten Reinigungsfluid, im abgeführten ersten Reinigungsfluid und/oder im abgeführten zweiten Reinigungsfluid angeordnet ist.
18. Verfahren zum Reinigen von topfförmigen Hohlkörpern (12) , insbesondere von Transportbehältern für Halbleiterwafer oder für Lithograf ie-Masken, mit einer Behandlungsvorrichtung (42) nach einem der Ansprüche 11 bis 14, umfassend die folgenden Schritte:
- Einbringen des mit dem Deckel (30) verschlossenen Hohlkörpers (12) in den Reinigungsraum (50) mit der Greif- und Bewegungseinrichtung (18) , und
- Zuführen eines Reinigungsfluids auf die Hohlkörperaußenfläche (32) des mit dem Deckel (30) verschlossenen Hohlkörpers (12) mittels der Zuführeinrichtung (52) , wobei der Hohlkörper (12) während des Zuführens des Reinigungsfluids o mit der Greif- und Bewegungseinrichtung (18) verbunden ist und von dieser im Reinigungsraum (50) gehalten wird oder o mit der Greif- und Bewegungseinrichtung (18) auf der
Ablageeinrichtung (82) abgelegt und anschließend von der Greif- und Bewegungseinrichtung (18) getrennt wird .
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