WO2024034594A1 - 汚染物質除去方法 - Google Patents

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WO2024034594A1
WO2024034594A1 PCT/JP2023/028873 JP2023028873W WO2024034594A1 WO 2024034594 A1 WO2024034594 A1 WO 2024034594A1 JP 2023028873 W JP2023028873 W JP 2023028873W WO 2024034594 A1 WO2024034594 A1 WO 2024034594A1
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self
film
mass
composition
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PCT/JP2023/028873
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典明 牛尾
悠仁 城地
晃平 栗原
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花王株式会社
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Publication date
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D125/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D125/18—Homopolymers or copolymers of aromatic monomers containing elements other than carbon and hydrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D129/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Coating compositions based on hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D129/02—Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
    • C09D129/04—Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/20—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for coatings strippable as coherent films, e.g. temporary coatings strippable as coherent films

Definitions

  • the present invention relates to a method for removing contaminants using a self-peeling film that spontaneously peels off as the coating dries after being applied to a target surface.
  • cleaning with water or solvent, wiping, scraping with mechanical force, suction, etc. are used to remove dirt, fine particles, and other dust that adheres to or remains on the surface of equipment.
  • the cleaning liquid used contains substances that are harmful to the human body or the substances to be removed are contaminated substances, such as asbestos, harmful chemicals, or radioactive substances, workers may inhale the cleaning liquid or pollutants.
  • a method is required to prevent this.
  • contaminated materials from nuclear power plants contain radioactive materials, which poses a risk of exposure to radiation through inhalation or adhesion to workers during cleaning and decommissioning work. Therefore, there is a need for technology that can remove such pollutants with high efficiency and safety.
  • Contaminants have the characteristic that they tend to remain on equipment surfaces, especially in small details such as uneven parts.
  • An effective technique for removing such contaminants without scattering them is the use of a removable paint film, which involves applying paint to the target surface, peeling it off after drying, and removing all the adsorbed contaminants. There is a method. Although this technique is effective in removing contaminants that remain in small areas, it is difficult to create a starting point at the edge of the paint film when peeling it off after drying, and the time it takes to do this makes it difficult for workers to remove it. This increases the risk of inhalation or exposure to hazardous substances. Another problem is that it is difficult to recover peeled films in environments where people cannot enter.
  • Patent Document 1 discloses a developer removal material for penetrant flaw detection that has self-peelability and is made by dissolving a cellulose-based synthetic resin capable of forming a peelable resin film in a volatile organic solvent.
  • Patent Document 2 discloses a means for peeling off a film containing a water-based paint as a main component and a water-soluble thickener by swelling it with water.
  • Patent Document 3 discloses a technique different from the self-peeling film, in which a coating composition is applied to a substrate in advance to form a barrier coating, and after contaminants are deposited on the barrier coating, , discloses a method for removing barrier coatings and contaminants from substrates.
  • Patent Document 1 JP-A-59-171841 (Patent Document 2) JP-A-2000-327958 (Patent Document 3) Japanese Patent Publication No. 2010-530806
  • the present invention is a method for removing contaminants attached to a target surface, comprising: Contains the following components (A) to (C), and the mass ratio of component (B) to the total amount of component (A) and component (B) (B) / [(A) + (B)] is 0.6 or more and 0.95 or less a step of forming a coating film by applying a composition for forming a self-peeling film to a target surface to which a contaminant has adhered; a step of drying the coating film;
  • the present invention provides a method for removing contaminants, which includes a step of removing contaminants together with the paint film by self-peeling the paint film as it dries.
  • B Polystyrene sulfonic acid or its salt with a sulfonation rate of 89% or more
  • C Volatile solvent
  • the present invention contains the following components (A) to (C), and the mass ratio of component (B) to the total amount of component (A) and component (B) is (B)/[(A)+(B). ] is 0.6 or more and 0.95 or less, and the present invention provides the use of a composition for forming a self-peeling film, which has a value of 0.6 or more and 0.95 or less, for removing contaminants on a target surface by self-peeling as the coating dries.
  • A Polymer containing vinyl alcohol as a constituent unit
  • B Polystyrene sulfonic acid or its salt with a sulfonation rate of 89% or more
  • C Volatile solvent
  • the present invention contains the following components (A) to (C), and the mass ratio of component (B) to the total amount of component (A) and component (B) is (B)/[(A)+(B). ] is 0.6 or more and 0.95 or less.
  • C Volatile solvent
  • Patent Document 1 contains a considerable amount of organic solvent, so there are problems in that it generates a strange odor and that its self-removability is not sufficient.
  • the method described in Patent Document 2 requires adding water to the film to swell it.
  • the method described in Patent Document 3 removes the barrier coating and contaminants by washing, wiping, etc., and the method for removing the coating film is not simple.
  • the present invention aims at removing contaminants and peeling and recovering the paint film that has adsorbed the contaminants by using a composition for forming a self-peeling film that spontaneously peels off the paint film just by drying after being applied to the target surface.
  • This invention relates to a pollutant removal method that allows work to be carried out easily and in a short time.
  • the present inventors have discovered that by containing a polymer containing vinyl alcohol as a constituent unit and polystyrene sulfonic acid or its salt in a specific ratio in a volatile solvent, it is possible to remove contaminants that have solved the above requirements. They discovered this and completed the present invention.
  • the contaminant removal method of the present invention removes contaminants and adsorbs contaminants by using a composition for forming a self-peeling film that peels off from the periphery of the paint film during the drying process after being applied to the target surface.
  • the peeling and recovery work of the paint film can be easily done in a short time.
  • self-peel means that after the composition for forming a self-peel film is applied to the target surface, the volatile solvent evaporates and the internal stress of the coating film components is applied without applying a peeling force. This refers to the gradual peeling off of the paint film from its periphery. More specifically, it is preferable that the peeling degree of the dry coating film measured by the following evaluation method is 20% or more and 100% or less. The degree of peeling is preferably 30% or more and 100% or less, further 40% or more and 100% or less, further 50% or more and 100% or less, further 60% or more and 100% or less, and even 70% or more and 100% or more. % or less.
  • the composition was applied to an epoxy resin coated substrate at a rate of 0.3 g/cm 2 and dried for 24 hours. It is calculated by measuring the adhesion area S 1 of the composition spread on the substrate before drying and the area S 2 of the coating film in contact with the substrate after drying (S 1 - The value of S 2 )/S 1 is defined as the degree of peeling.
  • polymers containing vinyl alcohol as a constituent unit of component (A) include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol such as anionically modified or cationically modified polyvinyl alcohol, vinyl acetate-ethylene copolymer, and its hydrolyzate.
  • polyvinyl alcohol and vinyl acetate-ethylene copolymer are preferred because they form an appropriate coating film through the interaction of intermolecular hydrogen bonds with component (B) and further develop the self-peelability of the dry coating film. Combined hydrolysates are preferred.
  • the glass transition point of the polymer of component (A) is preferably 0°C or higher, more preferably 10°C or higher, even more preferably 20°C or higher, from the viewpoint of self-peelability due to internal stress during drying. More preferably, the temperature is 30°C or higher. Further, from the viewpoint of improving the film strength, the temperature is preferably 120°C or less, more preferably 110°C or less, even more preferably 100°C or less, and still more preferably 90°C or less. Moreover, if the glass transition point is less than 0° C., self-peelability will not be exhibited.
  • the weight average molecular weight of component (A) is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more, still more preferably 20,000 or more, and even more preferably is over 40,000. In addition, from the viewpoint of improving coating properties, it is preferably 10,000,000 or less, more preferably 1,000,000 or less, still more preferably 500,000 or less, and even more preferably 200,000 or less.
  • polyvinyl alcohol products include Kuraray Poval 3-98, 5-98, 28-98, 60-98, 27-95, 27-96, 17-94, 7-92, and Kuraray Poval. 3-88, 5-88, 22-88, 44-88, 95-88, 48-80 (manufactured by Kuraray), etc. can be used.
  • As commercially available hydrolyzates of vinyl acetate-ethylene copolymers Excelval RS-2117, RS-1717 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), etc. can be used.
  • the content of component (A) in the composition for forming a self-peelable film of the present invention is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, from the viewpoint of sufficiently expressing the self-peelability of the dry coating film. , more preferably 1% by mass or more, even more preferably 1.5% by mass or more, and from the viewpoint of improving coating properties, preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less, still more preferably 10% by mass or less.
  • the content is at most 7% by mass, more preferably at most 7% by mass, even more preferably at most 5% by mass.
  • the content of component (A) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 1.5 to 20% by mass, more preferably 1.5 to 15% by mass, even more preferably 1.5 to 10% by mass, and even more preferably It can also be 1.5 to 7% by weight, more preferably 1.5 to 5% by weight.
  • the sulfonation rate of polystyrene sulfonic acid or its salt as component (B) is 89% or more, but from the viewpoint of sufficiently exhibiting self-peelability when used in combination with component A, it is preferably 95% or more, more preferably It is 98% or more, more preferably 99% or more.
  • the glass transition point of component (B) is preferably 210°C or higher, more preferably 300°C or higher, still more preferably 400°C or higher, and even more preferably The temperature is 440°C or higher.
  • the weight average molecular weight of component (B) is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more, still more preferably 50,000 or more, and even more preferably 100,000 or more, and from the viewpoint of improving coating properties, preferably 10,000,000 or less, more preferably 5,000,000 or less, and even more preferably 2,000,000 or less.
  • PS-100 manufactured by Tosoh Finechem
  • PS-50 unsame
  • PS-5 semaize
  • PS-100 manufactured by Tosoh Finechem
  • the content of component (B) in the composition for forming a self-peelable film of the present invention is preferably 5% by mass or more, more preferably 7% by mass or more, from the viewpoint of sufficiently expressing the self-peelability of the dry coating film. , more preferably 8% by mass or more, even more preferably 10% by mass or more, and from the viewpoint of improving coating properties, preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, even more preferably It is 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less. That is, the content of component (B) is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 7 to 40% by mass, still more preferably 8 to 30% by mass, even more preferably is 10 to 25% by mass.
  • the mass ratio (B)/[(A)+(B)] of component (B) to the total amount of component (A) and component (B) is determined from the viewpoint of sufficiently expressing the self-peelability of the dry coating film. And from the viewpoint of the strength of the dried coating film, it is 0.6 or more, preferably 0.65 or more, more preferably 0.70 or more, even more preferably 0.75 or more, even more preferably 0.80 or more, and 0.95 or less, It is preferably 0.94 or less, more preferably 0.93 or less. Further, the mass ratio (B)/[(A)+(B)] is preferably 0.70 to 0.94, more preferably 0.75 to 0.94, still more preferably 0.75 to 0.93, even more preferably 0.80 to 0.93. You can also do it.
  • the volatile solvent of component (C) is a substance that is volatile in a liquid state, is selected from water and a volatile organic solvent, preferably contains water, and more preferably contains water as a main component. Further, from the viewpoint of forming a suitably dried coating film by drying after coating, a volatile organic solvent can be used in combination with water. Examples of the volatile organic solvent include alcohols such as ethanol, methanol, and propanol, ketones such as acetone, and tetrahydrofuran, and one or more selected from alcohols and ketones are preferred.
  • the volatile organic solvent preferably has a vapor pressure of 0.01 kPa or more and 106.66 kPa or less, more preferably 0.13 kPa or more and 66.66 kPa or less, and 0.67 kPa or more and 40.00 kPa or less at 20°C. More preferably, it is 1.33 kPa or more and 40.00 kPa or less.
  • component (C) contains a volatile organic solvent, the proportion thereof is preferably 50% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and further preferably 10% by mass or less based on the entire component (C).
  • the content of component (C) in the composition for forming a self-peelable film of the present invention is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and further The content is preferably 70% by mass or more, and from the viewpoint of improving self-peelability, the content is preferably 95% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, and even more preferably 85% by mass or less.
  • composition for forming a self-peeling film of the present invention can further contain potassium iodide as component (D).
  • the contaminant is a substance that reacts with iodine, such as radioactive substances such as cesium-134, cesium-137, strontium-90, or cobalt-60, the coating will become colored, which is a sign of cleaning, and the coating should be removed until the coloration disappears. By repeating this, you can check the removal effect.
  • the content of component (D) in the composition for forming a self-peelable film of the present invention is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, still more preferably The content is 3% by mass or more, and from the viewpoint of incorporation into the composition for forming a self-peelable film, the content is preferably 15% by mass or less, more preferably 12% by mass or less, and even more preferably 10% by mass or less.
  • composition for forming a self-peelable film of the present invention may further contain components such as a surfactant, a thickener, a plasticizer, and a preservative within a range that does not impair the self-peelability of the dried coating film. .
  • any of anionic surfactants, cationic surfactants, nonionic surfactants, and amphoteric surfactants can be used.
  • thickeners include components other than component (A) of the present invention, such as organic thickeners such as xanthan gum, gellan gum, locust bean gum, and guar gum, or bentonite, magnesium aluminum silicate, laponite, and hexanthan gum.
  • Inorganic thickeners such as light, silicic anhydride, etc. may be used at such low concentrations that they do not form a film when used alone.
  • the plasticizer include propylene glycol, 1,3-butylene glycol, glycerin, isopentylene glycol, hexylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and the like.
  • preservatives include phenoxyethanol, benzoic acid, benzisothiazoline, sorbic acid, propionic acid, and the like.
  • the pollutant removal method of the present invention includes components (A) to (C), and the mass ratio (B)/[(A)+(B)] of component (B) to component (A) is 0.6 or more and 0.95.
  • the composition for forming a self-peeling film of the present invention by applying the composition for forming a self-peeling film of the present invention to a target surface to which contaminants have adhered, the deposits on the target surface are adsorbed to the composition, and in the process of drying the composition, Contaminants are adsorbed to the dried paint film.
  • the coating dries, the dried coating film to which contaminants have been adsorbed spontaneously peels off from the target surface.
  • the coating film of the composition for forming a self-peeling film of the present invention gradually peels off from the periphery of the coating film as it dries. Contaminants on the target surface can then be removed by collecting the peeled dry coating.
  • Surfaces targeted for contaminant removal include synthetic resin surfaces (epoxy resin, vinyl chloride, acrylic resin, polyethylene, etc.), synthetic resin painted surfaces, metal surfaces, glass surfaces, ceramic surfaces, concrete surfaces, mortar surfaces, cement hardened surfaces. Examples include body surfaces and asphalt surfaces, and the surfaces may be smooth or have minute irregularities. The fine irregularities can be applied to areas such as cement surfaces that do not inhibit self-peeling.
  • the target surface may be installed on the floor, wall, ceiling, or other sloped surface of various facilities such as power plants, factories, warehouses, office buildings, condominiums, parking lots, roads, bridges, and tunnels. You can leave it there.
  • the pollutants to be removed include powdery or granular deposits (e.g., asbestos, dust, sand, sludge, sludge, soot, etc.), oily deposits (e.g., oily dirt such as crude oil, tar, etc.), It can also be used to remove paints such as oil-based pens and lacquer sprays), deposits derived from animals and plants (moss, algae, bird droppings, dead insects, etc.), and salt.
  • the technology of the present invention can be used to remove asbestos and other harmful substances in addition to nuclear power plant contaminants, and to work in harsh environments.
  • the coating amount of the composition for forming a self-peeling film of the present invention on the target surface is preferably 0.1 kg/m 2 or more, more preferably 0.5 kg/m 2 or more, from the viewpoint of improving the self-peelability of the dry coating film.
  • it is 1 kg/m 2 or more, and from the viewpoint of ease of curing and film formation, it is preferably 10 kg/m 2 or less, more preferably 8 kg/m 2 or less, and still more preferably 5 kg/m 2 or less. , and even more preferably 3 kg/m 2 or less.
  • the step of drying the coating film after applying the composition to the target surface may be carried out by natural drying or air drying, and a heat source such as a halogen heater may also be used.
  • the environmental temperature in the drying step is preferably -10°C or higher, more preferably 0°C or higher, even more preferably 5°C or higher, and preferably 60°C or lower, more preferably 55°C or lower, and even more preferably 50°C. It is as follows.
  • 50% by mass or more of water or water other than the composition for forming a self-peeling film of the present invention is added in the steps up to the start of self-peeling.
  • it does not include a step of coating or applying the aqueous composition containing it.
  • it is more preferable to carry out a coating film drying process after the coating process of the composition for forming a self-peelable film of the present invention without intervening any other process.
  • the coating film starts to shrink as the volatile solvent (water) of component (C) evaporates, but while it is in a high water content state.
  • the molecular chains of the film-forming component (A) can move freely and no internal stress is generated.
  • the coating film further shrinks and the thermal motion of the molecular chains of component (A) is frozen. It is thought that this generates a strong internal stress, which causes the coating film to develop a peeling force greater than its adhesive force with the target surface, making it easier to peel off spontaneously from the edges.
  • a method for removing contaminants attached to a target surface comprising: Contains the following components (A) to (C), and the mass ratio of component (B) to the total amount of component (A) and component (B) (B) / [(A) + (B)] is 0.6 or more and 0.95 or less a step of forming a coating film by applying a composition for forming a self-peeling film to a target surface to which a contaminant has adhered; a step of drying the coating film; A method for removing contaminants, comprising the step of removing contaminants together with the paint film by self-peeling the paint film as it dries.
  • C Volatile solvent
  • ⁇ 2> Contains the following components (A) to (C), and the mass ratio of component (B) to the total amount of component (A) and component (B) (B) / [(A) + (B)] is 0.6 or more and 0.95 Use of the following composition for forming a self-peeling film to remove contaminants on a target surface by self-peeling as the coating film dries.
  • B Polystyrene sulfonic acid or its salt with a sulfonation rate of 89% or more
  • C Volatile solvent
  • ⁇ 3> The contaminant removal method or use according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the self-peelable film-forming composition is applied to the target surface, preferably using a dragonfly, rake, brush, roller, or spray.
  • the amount of the self-peel forming composition applied to the target surface is preferably 0.1 kg/m 2 or more, more preferably 0.5 kg/m 2 or more, even more preferably 1 kg/m 2 or more, and preferably 10 kg/m 2 or more. m 2 or less, more preferably 8 kg/m 2 or less, even more preferably 5 kg/m 2 or less, even more preferably 3 kg/m 2 or less, the pollutant according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>. Removal method or use.
  • ⁇ 5> Preferably, after the step of applying the self-peelable film-forming composition to the target surface to form a coating film, a step of drying the coating film is performed without intervening other steps, ⁇ 1> to ⁇ 4 >Contaminant removal method or use according to any one of >.
  • the drying step is preferably carried out in an environment of -10°C or higher, more preferably 0°C or higher, even more preferably 5°C or higher, and preferably 60°C or lower, more preferably 55°C or lower, even more preferably 50°C or lower.
  • ⁇ 7> The method or use for removing contaminants according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the coating film of the self-peeling composition preferably peels off from the peripheral edge as it dries.
  • component (A) is a hydrolyzate of polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, cation-modified modified polyvinyl alcohol, vinyl acetate-ethylene copolymer, or vinyl acetate-ethylene copolymer. Contaminant removal method or use as described in any one of.
  • the glass transition point of component (A) is preferably 0°C or higher, more preferably 10°C or higher, even more preferably 20°C or higher, even more preferably 30°C or higher, and preferably 120°C or lower, more preferably
  • the weight average molecular weight of component (A) is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more, even more preferably 20,000 or more, even more preferably 40,000 or more, and preferably 10,000,000 or less, more preferably 1,000,000 or less, even more preferably is 500,000 or less, more preferably 200,000 or less, the pollutant removal method or use according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>.
  • the content of component (A) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, even more preferably 1% by mass or more, even more preferably 1.5% by mass or more.
  • ⁇ 1> ⁇ The method or use for removing pollutants according to any one of ⁇ 10>.
  • the content of component (A) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 1.5 to 20% by mass, more preferably 1.5 to 15% by mass, even more preferably 1.5 to 10% by mass, even more preferably 1.5 to 7% by mass.
  • ⁇ 13> The method for removing contaminants according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12>, wherein the sulfonation rate of component (B) is preferably 95% or more, more preferably 98% or more, and still more preferably 99% or more. Or use.
  • ⁇ 14> Any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>, wherein the glass transition point of component (B) is preferably 210°C or higher, more preferably 300°C or higher, even more preferably 400°C or higher, even more preferably 440°C or higher. Contaminant removal methods or uses described in .
  • the weight average molecular weight of component (B) is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more, even more preferably 50,000 or more, even more preferably 100,000 or more, and preferably 10,000,000 or less, more preferably 5,000,000 or less, even more preferably is 2,000,000 or less, the pollutant removal method or use according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 14>.
  • the content of component (B) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 5% by mass or more, more preferably 7% by mass or more, even more preferably 8% by mass or more, even more preferably 10% by mass or more.
  • the content is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, even more preferably 30% by mass or less, even more preferably 25% by mass or less. Contaminant removal method or use as described.
  • the content of component (B) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 7 to 40% by mass, even more preferably 8 to 30% by mass, even more preferably 8 to 50% by mass.
  • the mass ratio (B)/[(A)+(B)] of component (B) to the total amount of component (A) and component (B) is preferably 0.65 or more, more preferably 0.70 or more, and even more preferably 0.75 or more. , more preferably 0.80 or more, and preferably 0.94 or less, more preferably 0.93 or less, the method or use for removing contaminants according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 17>.
  • the mass ratio (B)/[(A)+(B)] of component (B) to the total amount of component (A) and component (B) is preferably 0.70 to 0.94, more preferably 0.75 to 0.94, and even more preferably The method or use for removing contaminants according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 17>, wherein the concentration is 0.75 to 0.93, more preferably 0.80 to 0.93.
  • component (C) is preferably selected from water and a volatile organic solvent, more preferably contains water, and even more preferably has water as a main component. Material removal method or use.
  • the vapor pressure of component (C) at 20°C is preferably 0.01 kPa or more and 106.66 kPa or less, more preferably 0.13 kPa or more and 66.66 kPa or less, even more preferably 0.67 kPa or more and 40.00 kPa or less, and even more preferably 1.33 kPa or more and 40.00 kPa or less.
  • the content of component (C) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, even more preferably 70% by mass or more, and preferably 95% by mass.
  • ⁇ 23> The contaminant removal method or use according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 22>, further comprising potassium iodide as component (D).
  • the content of component (D) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, even more preferably 3% by mass or more, and preferably 15% by mass.
  • the method or use for removing contaminants according to ⁇ 23> which is more preferably 12% by mass or less, further preferably 10% by mass or less.
  • composition for forming a self-peeling film which is as follows.
  • a composition for forming a self-peeling film which contains the following components (A) to (C) and has a peeling degree of 20% or more and 100% or less as measured by the following evaluation method.
  • (C) Volatile solvent ⁇ Evaluation method> Apply 0.3g/g of the composition to an epoxy resin coated substrate. Apply 2 cm and dry for 24 hours. It is calculated by measuring the adhesion area S 1 of the composition spread on the substrate before drying and the area S 2 of the coating film in contact with the substrate after drying (S 1 - The value of S 2 )/S 1 is defined as the degree of peeling.
  • component (A) is a hydrolyzate of polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, cation-modified modified polyvinyl alcohol, vinyl acetate-ethylene copolymer, or vinyl acetate-ethylene copolymer.
  • component (A) is a hydrolyzate of polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, cation-modified modified polyvinyl alcohol, vinyl acetate-ethylene copolymer, or vinyl acetate-ethylene copolymer.
  • the glass transition point of component (A) is preferably 0°C or higher, more preferably 10°C or higher, even more preferably 20°C or higher, even more preferably 30°C or higher, and preferably 120°C or lower, more preferably
  • the weight average molecular weight of component (A) is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more, even more preferably 20,000 or more, even more preferably 40,000 or more, and preferably 10,000,000 or less, more preferably 1,000,000 or less, even more preferably is 500,000 or less, more preferably 200,000 or less, the composition for forming a self-peeling film according to any one of ⁇ 25> to ⁇ 28>.
  • the content of component (A) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, even more preferably 1% by mass or more, even more preferably 1.5% by mass or more.
  • the content of component (A) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 1.5 to 20% by mass, more preferably 1.5 to 15% by mass, even more preferably 1.5 to 10% by mass, even more preferably 1.5 to 7% by mass.
  • ⁇ 32> The self-peelable film formation according to any one of ⁇ 25> to ⁇ 31>, wherein the sulfonation rate of component (B) is preferably 95% or more, more preferably 98% or more, and still more preferably 99% or more. Composition for use. .
  • ⁇ 33> Any one of ⁇ 25> to ⁇ 32>, wherein the glass transition point of component (B) is preferably 210°C or higher, more preferably 300°C or higher, even more preferably 400°C or higher, even more preferably 440°C or higher.
  • the weight average molecular weight of component (B) is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more, even more preferably 50,000 or more, even more preferably 100,000 or more, and preferably 10,000,000 or less, more preferably 5,000,000 or less, even more preferably is 2,000,000 or less, the composition for forming a self-peelable film according to any one of ⁇ 25> to ⁇ 33>.
  • the content of component (B) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 5% by mass or more, more preferably 7% by mass or more, even more preferably 8% by mass or more, even more preferably 10% by mass or more. In any one of ⁇ 25> to ⁇ 34>, the content is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, still more preferably 30% by mass or less, even more preferably 25% by mass or less.
  • the composition for forming a self-peeling film as described above.
  • the content of component (B) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 7 to 40% by mass, even more preferably 8 to 30% by mass, even more preferably 8 to 50% by mass.
  • the mass ratio (B)/[(A)+(B)] of component (B) to the total amount of component (A) and component (B) is preferably 0.65 or more, more preferably 0.70 or more, and even more preferably 0.75 or more. , more preferably 0.80 or more, and preferably 0.94 or less, more preferably 0.93 or less, the composition for forming a self-peeling film according to any one of ⁇ 25> to ⁇ 36>.
  • the mass ratio (B)/[(A)+(B)] of component (B) to the total amount of component (A) and component (B) is preferably 0.70 to 0.94, more preferably 0.75 to 0.94, and even more preferably
  • Component (C) is preferably selected from water and a volatile organic solvent, more preferably contains water, and still more preferably has water as a main component. Composition for forming a peeling film.
  • the vapor pressure of component (C) at 20°C is preferably 0.01 kPa or more and 106.66 kPa or less, more preferably 0.13 kPa or more and 66.66 kPa or less, even more preferably 0.67 kPa or more and 40.00 kPa or less, and even more preferably 1.33 kPa or more and 40.00 kPa or less.
  • the content of component (C) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, even more preferably 70% by mass or more, and preferably 95% by mass.
  • the content of component (D) in the composition for forming a self-peelable film is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, even more preferably 3% by mass or more, and preferably 15% by mass.
  • composition for forming a self-peelable film according to any one of ⁇ 25> to ⁇ 43>, further containing a surfactant, a thickener, a plasticizer, or a preservative.
  • the composition was dried on a glass plate or a Teflon (registered trademark) sheet at a temperature of 25° C. and a humidity of 50% RH to a dry film thickness of 500 ⁇ m to obtain a dry film.
  • a film that did not break was designated as a
  • a film that broke was designated as c
  • a film that had creases or cracks but did not break was designated as b.
  • ⁇ Glass transition point> The glass transition points of components (A) and (B) described in the examples were determined for the dry solids obtained by drying each sample at room temperature for 24 hours and then drying under reduced pressure at 80°C under the following conditions. Obtained by DSC measurement. Measuring device: DSC7000X (Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) Temperature profile: 1. Raise the temperature from 20°C to the target temperature at 10°C/min and hold for 5 minutes 2. Cool from the target temperature to 20°C at 10°C/min and hold for 5 minutes 3. From 20°C to the target temperature 10°C/min Raise the temperature at 10°C/min and hold for 5 minutes 4.
  • Target temperature is 250 for Kuraray Poval 22-98, 5-98, and Excelval RS-2117. Measurements were performed at 440°C for PS-100 and PS-50, and 100°C for HA-LATEX.
  • Test examples 1 to 3 The composition of Example 2 and the composition of Example 2 in which 2% by mass or 5% by mass of potassium iodide was added and the same amount of water was reduced were evaluated for hue change according to the following method. . (Hue change evaluation method)
  • a UV-C irradiation test was conducted using the following method. Each composition was applied at 0.1 g/cm 2 onto a 10 cm 2 area of a polyester substrate, dried at 25°C and 40% RH under fluorescent lamp irradiation and UV-C irradiation for 24 hours, and the change in hue was visually observed. Observed. Fluorescent lamp irradiation was performed in a normal laboratory environment.
  • the UV-C lamp used was a compact germicidal lamp GPL27 manufactured by Sankyo Denki Co., Ltd., and was placed 15 cm away from the light source.

Abstract

対象表面に付着した汚染物質を除去する方法であって、次の成分(A)～(C)を含み、成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が0.6以上0.95以下である自己剥離膜形成用組成物を汚染物質が付着した対象表面に塗布して塗膜を形成する工程と、該塗膜を乾燥する工程と、該乾燥に伴う塗膜の自己剥離によって塗膜とともに汚染物質を除去する工程とを備える、汚染物質除去方法。　(A) ビニルアルコールを構成単位として含む重合体　(B) スルホン化率が89％以上のポリスチレンスルホン酸又はその塩　(C) 揮発性溶剤

Description

汚染物質除去方法
　本発明は、対象表面に塗布後、塗膜が乾燥することによって自発的に剥離する自己剥離膜を利用した汚染物質除去方法に関する。
　一般に、設備表面に付着・残留した汚れ、微粒子などの粉じんを除去する方法として、水や溶剤による洗浄、ふき取り、機械力による削り取り、吸引などが行われている。しかしながら、これらの作業では、洗浄液や飛散した粉じんを作業者が吸引してしまうおそれがある。特に、使用する洗浄液が人体には有害な物質であったり、除去する物質がアスベスト、有害な化学物質、放射性物質などを含む汚染物質であったりする場合は、作業員が洗浄液や汚染物質を吸引しないような手段が求められる。例えば、原子力発電所の汚染物質は放射性物質を含んでいるため、洗浄や廃炉作業時の作業員に対して、吸引や付着による被ばくの危険がある。そこで、このような汚染物質を高効率かつ安全に除去する技術が求められている。
　汚染物質は、設備表面、特に凹凸部などの細部に残留しやすいという特徴がある。このような汚染物質を飛散させずに除去する効果的な技術として、塗料を対象表面に塗布し、乾燥後塗膜を剥離することで吸着した汚染物質ごと除去するという、剥離性塗膜を利用した方法がある。この技術は、細部残留した汚染物質の除去には効果的ではあるが、乾燥後の剥離時に、塗膜の端部に剥離の始点をつくることが難しく、これに作業時間がかかれば作業員が有害物質を吸引したり暴露したりするリスクが高まることとなる。また、人が入ることができない環境においては剥離した膜の回収も難しいという問題もある。
　このような問題に対応できる手段として、乾燥後の塗膜が自発的に剥離する自己剥離膜を開発できれば、回収作業が簡単に短時間で行うことができ、ロボットなどによる遠隔作業も可能となると考えられる。
　自己剥離膜に関する技術として、特許文献１には、揮発性有機溶剤に可剥性樹脂被膜形成能を有するセルロース系合成樹脂を溶解してなる自己剥離性を備えた浸透探傷用現像剤除去材料が開示されている。特許文献２には、水性塗料を主成分とし、水可溶性増粘剤を含む皮膜を水で膨潤させて剥離する手段が開示されている。一方、特許文献３には、自己剥離膜とは別の技術であるが、あらかじめ基材に被覆用組成物を塗布してバリアー被覆物を形成させ、汚染物質がバリアー被覆物上に堆積した後、基材からバリアー被覆物と汚染物質を取り除く方法が開示されている。
　　　　（特許文献１）特開昭59-171841号公報
　　　　（特許文献２）特開2000-327958号公報
　　　　（特許文献３）特表2010-530806号公報
　本発明は、対象表面に付着した汚染物質を除去する方法であって、
　次の成分(A)～(C)を含み、成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が0.6以上0.95以下である自己剥離膜形成用組成物を汚染物質が付着した対象表面に塗布して塗膜を形成する工程と、
　該塗膜を乾燥する工程と、
　該乾燥に伴う塗膜の自己剥離によって塗膜とともに汚染物質を除去する工程と
を備える、汚染物質除去方法を提供するものである。
　(A) ビニルアルコールを構成単位として含む重合体
　(B) スルホン化率が89％以上のポリスチレンスルホン酸又はその塩
　(C) 揮発性溶剤
　さらに本発明は、次の成分(A)～(C)を含有し、成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が0.6以上0.95以下である自己剥離膜形成用組成物の、塗膜の乾燥に伴う自己剥離により対象表面上の汚染物質を除去するための使用を提供するものである。
　(A) ビニルアルコールを構成単位として含む重合体
　(B) スルホン化率が89％以上のポリスチレンスルホン酸又はその塩
　(C) 揮発性溶剤
　さらに本発明は、次の成分(A)～(C)を含有し、成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が0.6以上0.95以下である、自己剥離膜形成用組成物を提供するものである。
　(A) ビニルアルコールを構成単位として含む重合体
　(B) スルホン化率が89％以上のポリスチレンスルホン酸又はその塩
　(C) 揮発性溶剤
発明の詳細な説明
　特許文献１に記載の技術は、有機溶剤を相当量含有しているため異臭が生じることや自己剥離性が十分ではないという問題があった。特許文献２に記載の方法は、皮膜に水を添加して膨潤させる必要があった。特許文献３に記載の方法は、バリアー被覆物と汚染物質とを洗浄やふき取り等で除去するものであり、塗膜の除去方法が簡便でない。
　したがって本発明は、対象表面に塗布後、乾燥するだけで塗膜が自発的に剥離する自己剥離膜形成用組成物を用いることにより、汚染物質の除去及び汚染物質を吸着した塗膜の剥離回収作業を簡単に短時間で行うことができる、汚染物質除去方法に関する。
　本発明者らは、ビニルアルコールを構成単位として含む重合体とポリスチレンスルホン酸又はその塩を特定比率で揮発性溶剤中に含有することにより、前記要求を解決した汚染物質の除去が可能となることを見出し、本発明を完成した。
　本発明の汚染物質除去方法は、対象表面に塗布した後、塗膜が乾燥する過程で塗膜の周囲から剥離する自己剥離膜形成用組成物の利用により、汚染物質の除去及び汚染物質を吸着した塗膜の剥離回収作業を簡単に短時間で行うことができる。
　本発明において「自己剥離」とは、自己剥離膜形成用組成物を対象表面に塗布した後、揮発性溶剤が蒸発することにより、引き剥がす力を印加することなく、塗膜成分の内部応力により塗膜の周縁部から徐々に剥離していくことをいう。より具体的には、下記評価方法によって測定される乾燥塗膜の剥離度が20％以上100％以下であることが好ましい。この剥離度は、30％以上100％以下であることが好ましく、更には40％以上100％以下、更には50％以上100％以下、更には60％以上100％以下、更には70％以上100％以下であることが好ましい。
＜評価方法＞　組成物をエポキシ樹脂塗装基板に0.3g/cm2塗布し、24時間乾燥する。乾燥前の前記基板上に濡れ広がった組成物の前記基板との接着面積Ｓ1と、乾燥後の塗膜が前記基材に接している面積Ｓ2を測定し、算出される(Ｓ1－Ｓ2)／Ｓ1の値を剥離度とする。
　成分(A)のビニルアルコールを構成単位として含む重合体としては、ポリビニルアルコールのほか、アニオン変性、カチオン変性などの変性ポリビニルアルコール、酢酸ビニル-エチレン共重合体及びその加水分解物などが挙げられる。これらのうち、成分（Ｂ）との分子間水素結合の相互作用により適度な塗膜を形成し、乾燥塗膜の自己剥離性をより一層発現させる点で、ポリビニルアルコール及び酢酸ビニル-エチレン共重合体の加水分解物が好ましい。
　また、成分(A)の重合体のガラス転移点は、乾燥時の内部応力により自己剥離性を発現する点から、好ましくは０℃以上、より好ましくは10℃以上、更に好ましくは20℃以上、更に好ましくは30℃以上である。また、膜強度を良好にする観点から、好ましくは120℃以下、より好ましくは110℃以下、更に好ましくは100℃以下、更に好ましくは90℃以下である。また、ガラス転移点が０℃未満であると、自己剥離性を発現しなくなる。
　さらに、成分(A)の重量平均分子量は、塗膜の形成及び乾燥塗膜の自己剥離性を良好にする観点から、好ましくは5,000以上、より好ましくは10,000以上、更に好ましくは20,000以上、更に好ましくは40,000以上である。また、塗布性を良好にする観点から、好ましくは10,000,000以下、より好ましくは1,000,000以下、更に好ましくは500,000以下、更に好ましくは200,000以下である。
　ポリビニルアルコールの市販品としては、クラレポバール3-98、同5-98、同28-98、同60-98、同27-95、同27-96、同17-94、同7-92、同3-88、同5-88、同22-88、同44-88、同95-88、同48-80（クラレ社製）等を使用することができる。
　また、酢酸ビニル-エチレン共重合体の加水分解物の市販品としては、エクセバールRS-2117、RS-1717（クラレ社製）等を使用することができる。
　本発明の自己剥離膜形成用組成物中における成分(A)の含有量は、乾燥塗膜の自己剥離性を十分に発現させる観点から、好ましくは0.1質量％以上、より好ましくは0.5質量％以上、更に好ましくは１質量％以上、より更に好ましくは1.5質量％以上であり、また、塗布性を良好にする観点から、好ましくは20質量％以下、より好ましくは15質量％以下、更に好ましくは10質量％以下、更に好ましくは７質量％以下、より更に好ましくは５質量％以下である。また、成分(A)の含有量は、自己剥離膜形成用組成物中に、好ましくは1.5～20質量％、より好ましくは1.5～15質量％、更に好ましくは1.5～10質量％、更に好ましくは1.5～７質量％、より更に好ましくは1.5～５質量％とすることもできる。
　成分(B)のポリスチレンスルホン酸又はその塩のスルホン化率は89％以上であるが、成分Ａと併用することにより自己剥離性を十分に発現する観点から、好ましくは95％以上、より好ましくは98％以上、更に好ましくは99％以上である。
　ポリスチレンスルホン酸又はその塩は、スルホン化率が高いほどガラス転移点が高くなることが文献で知られており（BALDING, Paul, et al. Physical Properties of Sodium Poly (styrene sulfonate): Comparison to Incompletely Sulfonated Polystyrene. Macromolecules, 2022, 55.5: 1747-1762）、例えば、スルホン化率89％のTgは約210℃、スルホン化率100％近くではTgは分解温度（440℃）を超えるといわれている。
　成分(B)のガラス転移点は、乾燥時の内部応力により自己剥離性を十分に発現する点から、好ましくは210℃以上、より好ましくは300℃以上、更に好ましくは400℃以上、更に好ましくは440℃以上である。
　また、成分(B)の重量平均分子量は、塗膜の形成及び乾燥塗膜の自己剥離を良好にする観点から、好ましくは5,000以上、より好ましくは10,000以上、更に好ましくは50,000以上、更に好ましくは100,000以上であり、また、塗布性を良好にする観点から、好ましくは10,000,000以下、より好ましくは5,000,000以下、更に好ましくは2,000,000以下である。
　ポリスチレンスルホン酸又はその塩の市販品としては、PS-100（東ソー・ファインケム社製）、PS-50（同）、PS-5（同）等を使用することができる。
　本発明の自己剥離膜形成用組成物中における成分(B)の含有量は、乾燥塗膜の自己剥離性を十分に発現させる観点から、好ましくは５質量％以上、より好ましくは７質量％以上、更に好ましくは８質量％以上、より更に好ましくは10質量％以上、であり、また、塗布性を良好にする観点から、好ましくは50質量％以下、より好ましくは40質量％以下、更に好ましくは30質量％以下、より更に好ましくは25質量％以下である。即ち、成分(B)の含有量は、自己剥離膜形成用組成物中に、好ましくは５～50質量％、より好ましくは７～40質量％、更に好ましくは８～30質量％、より更に好ましくは10～25質量％である。
　また、成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]は、乾燥塗膜の自己剥離性を十分に発現させる観点、及び乾燥塗膜の強度の観点から、0.6以上であって、好ましくは0.65以上、より好ましくは0.70以上、更に好ましくは0.75以上、より更に好ましくは0.80以上であり、また、0.95以下であって、好ましくは0.94以下、より好ましくは0.93以下である。また、かかる質量比(B)／[(A)＋(B)]は、好ましくは0.70～0.94、より好ましくは0.75～0.94、更に好ましくは0.75～0.93、より更に好ましくは0.80～0.93とすることもできる。
　成分(C)の揮発性溶剤は、液体の状態において揮発性を有する物質であり、水及び揮発性有機溶剤から選ばれ、水を含むことが好ましく、水を主成分とすることがさらに好ましい。また、塗布後に乾燥して好適に乾燥塗膜を形成させる観点から、水と共に揮発性有機溶剤を併用することもできる。揮発性有機溶剤としては、エタノール、メタノール、プロパノール等のアルコール、アセトン等のケトンのほか、テトラヒドロフラン等が挙げられ、アルコール及びケトンから選ばれる１種又は２種以上が好ましい。また、揮発性有機溶剤としては、蒸気圧が20℃において0.01kPa以上106.66kPa以下であることが好ましく、0.13kPa以上66.66kPa以下であることがより好ましく、0.67kPa以上40.00kPa以下であることが更に好ましく、1.33kPa以上40.00kPa以下であることがより一層好ましい。成分(C)が揮発性有機溶剤を含有する場合、その割合は成分(C)全体の50質量％以下、更には20質量％以下に、更には10質量％以下とすることが好ましい。
　本発明の自己剥離膜形成用組成物中における成分(C)の含有量は、対象表面への塗布性を良好にする観点から、好ましくは50質量％以上、より好ましくは60質量％以上、更に好ましくは70質量％以上であり、また、自己剥離性を高める観点から、好ましくは95質量％以下、より好ましくは90質量％以下、更に好ましくは85質量％以下である。
　本発明の自己剥離膜形成用組成物は、更に、成分(D)としてヨウ化カリウムを含有することができる。汚染物質がセシウム-134、セシウム-137、ストロンチウム-90、コバルト-60等放射性物質などのヨウ素に反応する物質である場合、塗膜が着色するため清浄化のサインとなり、着色がなくなるまで塗布剥離を繰り返すことで除去効果を確認することができる。
　本発明の自己剥離膜形成用組成物中における成分(D)の含有量は、ヨウ化物由来の着色を発現させる観点から、好ましくは１質量％以上、より好ましくは２質量％以上、更に好ましくは３質量％以上であり、また、自己剥離膜形成用組成物への配合性の観点から、好ましくは15質量％以下、より好ましくは12質量％以下、更に好ましくは10質量％以下である。
〔任意成分〕
　本発明の自己剥離膜形成用組成物には、更に、乾燥塗膜の自己剥離性を損ねない範囲において、界面活性剤、増粘剤、可塑剤、防腐剤等の成分を含有させることができる。
　界面活性剤としては、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、非イオン界面活性剤、両性界面活性剤のいずれを用いることもできる。
　増粘剤としては、本発明の成分(A)以外の成分であって、例えば、キサンタンガム、ジェランガム、ローカストビーンガム、グアーガム等の有機系増粘剤、又はベントナイト、ケイ酸アルミニウムマグネシウム、ラポナイト、ヘクトライト、無水ケイ酸等の無機系増粘剤等を、単独では膜を形成しない程度の低濃度で用いてもよい。可塑剤としては、プロピレングリコール、1,3-ブチレングリコール、グリセリン、イソペンチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等が挙げられる。防腐剤としては、フェノキシエタノール、安息香酸、ベンズイソチアゾリン、ソルビン酸、プロピオン酸等が挙げられる。
〔汚染物質除去方法〕
　本発明の汚染物質の除去方法は、成分(A)～(C)を含み、成分(A)に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が0.6以上0.95以下である自己剥離膜形成用組成物を汚染物質が付着した対象表面に塗布して塗膜を形成する工程、該塗膜を乾燥する工程、該乾燥に伴う塗膜の自己剥離によって塗膜とともに汚染物質を除去する工程を備えるものである。
　本発明においては、汚染物質が付着した対象表面に、本発明の自己剥離膜形成用組成物を適用することで対象表面上の付着物が組成物に吸着し、組成物が乾燥する過程において、乾燥塗膜に汚染物質が吸着する。これにより、乾燥に伴い、汚染物質が吸着した乾燥塗膜が対象表面から自発的に剥離する。この際、本発明の自己剥離膜形成用組成物の塗膜は、乾燥に伴い塗膜の周縁部から徐々に剥離する。その後、剥離した乾燥塗膜を回収することによって対象表面上の汚染物質を除去することができる。
　汚染物質除去の対象表面としては、合成樹脂（エポキシ樹脂、塩化ビニル、アクリル樹脂、ポリエチレンなど）の表面、合成樹脂の塗装表面、金属表面、ガラス表面、セラミック表面、コンクリート表面、モルタル表面、セメント固化体表面、アスファルト表面が挙げられ、表面が平滑であっても微細凹凸であってもよい。微細凹凸はセメント表面などの自己剥離を阻害しない範囲に適応できる。前記対象表面は、発電所、工場、倉庫、オフィスビル、マンション、駐車場、道路、橋、トンネルなどの各種施設の床面、壁面、天井、その他スロープ等の傾斜のある場所のいずれに設置されていてもよい。
　また、除去する汚染物質としては、粉状又は粒状の付着物（例えば、アスベスト、ホコリ、砂、汚泥、ヘドロ、ススなどの粉塵）、油性の付着物（例えば、原油、タールなどの油状汚れ、油性ペン、ラッカースプレーなどのペイントされた塗料）、動植物由来の付着物（コケ、藻類、鳥の糞、虫の死骸など）、塩などにも対応可能である。本発明の技術は、原子力発電所の汚染物質のほか、アスベストその他の有害物質の除去や劣悪な環境での作業にも利用可能である。
　対象表面への塗布には、へら、トンボ、レーキ、刷毛、ローラー、スプレー、噴霧機などを利用することができる。また、塗布方法は、前記用具を用いて直接塗り拡げるほか、噴霧などによる適用も含まれる。対象表面に対する本発明の自己剥離膜形成用組成物の塗布量は、乾燥塗膜の自己剥離性を高める観点から、好ましくは0.1kg/m2以上、より好ましくは０．５kg/m2以上、更に好ましくは１kg/m2以上であり、また、硬化、膜形成のしやすさの観点で、好ましくは１０kg/m2以下、より好ましくは８kg/m2以下、更に好ましくは５kg/m2以下、より更に好ましくは３kg/m2以下である。
　組成物を対象表面に塗布した後の塗膜の乾燥工程は、自然乾燥によっても、風乾によってもよく、また、ハロゲンヒーター等の熱源を利用することもできる。乾燥工程における環境温度は、好ましくは-10℃以上、より好ましくは０℃以上、更に好ましくは５℃以上であり、また、好ましくは60℃以下、より好ましくは55℃以下、更に好ましくは50℃以下である。
　本発明の汚染物質除去方法においては、自己剥離の阻害を避ける観点から、自己剥離を開始するまでの工程において、水、又は本発明の自己剥離膜形成用組成物以外の水を50質量％以上含有する水性組成物を塗布又は適用する工程を含まないことが好ましい。さらには、本発明の自己剥離膜形成用組成物の塗布工程の次に、他の工程を挟むことなく、塗膜の乾燥工程を行うことがより好ましい。
　本発明の自己剥離膜形成用組成物は、対象表面に塗布した後、塗膜は成分(C)の揮発性溶剤（水）が蒸発することで収縮し始めるが、高含水状態である間は成分(A)の膜化成分の分子鎖が自由に動くことができ内部応力は生じない。乾燥が進み低含水状態となると、塗膜が更に収縮するとともに成分(A)の分子鎖の熱運動が凍結される。これにより強力な内部応力が発生することにより、塗膜は対象表面との接着力よりも大きな剥離力が発現し、端部から自発的に剥離しやすくなるものと考えられる。
　以上述べた実施形態に関し、以下に本発明の好ましい態様を更に開示する。
＜１＞
　対象表面に付着した汚染物質を除去する方法であって、
　次の成分(A)～(C)を含み、成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が0.6以上0.95以下である自己剥離膜形成用組成物を汚染物質が付着した対象表面に塗布して塗膜を形成する工程と、
　該塗膜を乾燥する工程と、
　該乾燥に伴う塗膜の自己剥離によって塗膜とともに汚染物質を除去する工程と
を備える、汚染物質除去方法。
　(A) ビニルアルコールを構成単位として含む重合体
　(B) スルホン化率が89％以上のポリスチレンスルホン酸又はその塩
　(C) 揮発性溶剤
＜２＞
　次の成分(A)～(C)を含有し、成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が0.6以上0.95以下である自己剥離膜形成用組成物の、塗膜の乾燥に伴う自己剥離により対象表面上の汚染物質を除去するための使用。
　(A) ビニルアルコールを構成単位として含む重合体
　(B) スルホン化率が89％以上のポリスチレンスルホン酸又はその塩
　(C) 揮発性溶剤
＜３＞
　対象表面への自己剥離膜形成用組成物の塗布が、好ましくはトンボ、レーキ、刷毛、ローラー又はスプレーを利用して行われる、＜１＞又は＜２＞記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜４＞
　対象表面に対する自己剥離形成用組成物の塗布量が、好ましくは0.1kg/m2以上、より好ましくは0.5kg/m2以上、更に好ましくは１kg/m2以上であり、また、好ましくは10kg/m2以下、より好ましくは８kg/m2以下、更に好ましくは５kg/m2以下、より更に好ましくは３kg/m2以下である、＜1＞～＜３＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜５＞
　好ましくは、自己剥離膜形成用組成物を対象表面に塗布して塗膜を形成する工程の後、他の工程を挟むことなく、該塗膜を乾燥する工程を行う、＜１＞～＜４＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜６＞
　乾燥工程が、好ましくは-10℃以上、より好ましくは０℃以上、更に好ましくは５℃以上の環境下で、また、好ましくは60℃以下、より好ましくは55℃以下、更に好ましくは50℃以下の環境下で行われるものである、＜１＞～＜５＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜７＞
　自己剥離形成用組成物の塗膜が、好ましくは乾燥に伴い周縁部から剥離する、＜１＞～＜６＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜８＞
　成分(A)が、ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、カチオン変性変性ポリビニルアルコール、酢酸ビニル-エチレン共重合体、又は酢酸ビニル-エチレン共重合体の加水分解物である、＜１＞～＜７＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜９＞
　成分(A)のガラス転移点が、好ましくは０℃以上、より好ましくは10℃以上、更に好ましくは20℃以上、更に好ましくは30℃以上であり、また、好ましくは120℃以下、より好ましくは110℃以下、更に好ましくは100℃以下、更に好ましくは90℃以下である０℃以上120℃未満である、＜１＞～＜８＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜10＞
　成分(A)の重量平均分子量が、好ましくは5,000以上、より好ましくは10,000以上、更に好ましくは20,000以上、更に好ましくは40,000以上であり、また、好ましくは10,000,000以下、より好ましくは1,000,000以下、更に好ましくは500,000以下、更に好ましくは200,000以下である、＜１＞～＜９＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜11＞
　自己剥離膜形成用組成物中の成分(A)の含有量が、好ましくは0.1質量％以上、より好ましくは0.5質量％以上、更に好ましくは１質量％以上、より更に好ましくは1.5質量％以上であり、また、好ましくは20質量％以下、より好ましくは15質量％以下、更に好ましくは10質量％以下、より更に好ましくは７質量％以下、より更に好ましくは５質量％以下である、＜１＞～＜10＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜12＞
　自己剥離膜形成用組成物中の成分(A)の含有量が、好ましくは1.5～20質量％、より好ましくは1.5～15質量％、更に好ましくは1.5～10質量％、更に好ましくは1.5～７質量％、より更に好ましくは1.5～７質量％である、＜１＞～＜10＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜13＞
　成分(B)のスルホン化率が、好ましくは95％以上、より好ましくは98％以上、更に好ましくは99％以上である、＜１＞～＜12＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜14＞
　成分(B)のガラス転移点が、好ましくは210℃以上、より好ましくは300℃以上、更に好ましくは400℃以上、更に好ましくは440℃以上である、＜１＞～＜13＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜15＞
　成分(B)の重量平均分子量が、好ましくは5,000以上、より好ましくは10,000以上、更に好ましくは50,000以上、更に好ましくは100,000以上であり、また、好ましくは10,000,000以下、より好ましくは5,000,000以下、更に好ましくは2,000,000以下である、＜１＞～＜14＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜16＞
　自己剥離膜形成用組成物中の成分(B)の含有量が、好ましくは５質量％以上、より好ましくは７質量％以上、更に好ましくは８質量％以上、より更に好ましくは10質量％以上であり、また、好ましくは50質量％以下、より好ましくは40質量％以下、更に好ましくは30質量％以下、より更に好ましくは25質量％以下である、＜１＞～＜15＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜17＞
　自己剥離膜形成用組成物中の成分(B)の含有量が、好ましくは５～50質量％、より好ましくは７～40質量％、更に好ましくは８～30質量％、より更に好ましくは８～20質量％、より更に好ましくは10～25質量％である、＜１＞～＜15＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜18＞
　成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が、好ましくは0.65以上、より好ましくは0.70以上、更に好ましくは0.75以上、より更に好ましくは0.80以上であり、また、好ましくは0.94以下、より好ましくは0.93以下である、＜１＞～＜17＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜19＞
　成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が、好ましくは0.70～0.94、より好ましくは0.75～0.94、更に好ましくは0.75～0.93、より更に好ましくは0.80～0.93である、＜１＞～＜17＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜20＞
　成分(C)が、好ましくは水及び揮発性有機溶剤から選ばれ、より好ましくは水を含み、更に好ましくは水を主成分とする、＜１＞～＜19＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜21＞
　成分(C)の20℃における蒸気圧が、好ましくは0.01kPa以上106.66kPa以下、より好ましくは0.13kPa以上66.66kPa以下、更に好ましくは0.67kPa以上40.00kPa以下、更に好ましくは1.33kPa以上40.00kPa以下である、＜１＞～＜20＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜22＞
　自己剥離膜形成用組成物中の成分(C)の含有量が、好ましくは50質量％以上、より好ましくは60質量％以上、更に好ましくは70質量％以上であり、また、好ましくは95質量％以下、より好ましくは90質量％以下、更に好ましくは85質量％以下以下である、＜１＞～＜21＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜23＞
　さらに、成分(D)としてヨウ化カリウムを含有する、＜１＞～＜22＞のいずれか一に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜24＞
　自己剥離膜形成用組成物中の成分(D)の含有量が、好ましくは１質量％以上、より好ましくは２質量％以上、更に好ましくは３質量％以上であり、また、好ましくは15質量％以下、より好ましくは12質量％以下、更に好ましくは10質量％以下である、＜23＞に記載の汚染物質除去方法又は使用。
＜25＞
　次の成分(A)～(C)を含有し、成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が0.6以上0.95以下である、自己剥離膜形成用組成物。
　(A) ビニルアルコールを構成単位として含む重合体
　(B) スルホン化率が89％以上のポリスチレンスルホン酸又はその塩
　(C) 揮発性溶剤
＜26＞
　次の成分(A)～(C)を含有し、下記評価方法によって測定される剥離度が20％以上100％以下である、自己剥離膜形成用組成物。
　(A) ビニルアルコールを構成単位として含む重合体
　(B) スルホン化率が89％以上のポリスチレンスルホン酸又はその塩
　(C) 揮発性溶剤
＜評価方法＞　組成物をエポキシ樹脂塗装基板に0.3g/cm2塗布し、24時間乾燥する。乾燥前の前記基板上に濡れ広がった組成物の前記基板との接着面積Ｓ1と、乾燥後の塗膜が前記基材に接している面積Ｓ2を測定し、算出される(Ｓ1－Ｓ2)／Ｓ1の値を剥離度とする。
＜27＞
　成分(A)が、ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、カチオン変性変性ポリビニルアルコール、酢酸ビニル-エチレン共重合体、又は酢酸ビニル-エチレン共重合体の加水分解物である、＜25＞又は＜26＞に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜28＞
　成分(A)のガラス転移点が、好ましくは０℃以上、より好ましくは10℃以上、更に好ましくは20℃以上、更に好ましくは30℃以上であり、また、好ましくは120℃以下、より好ましくは110℃以下、更に好ましくは100℃以下、更に好ましくは90℃以下である０℃以上120℃未満である、＜25＞～＜27＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜29＞
　成分(A)の重量平均分子量が、好ましくは5,000以上、より好ましくは10,000以上、更に好ましくは20,000以上、更に好ましくは40,000以上であり、また、好ましくは10,000,000以下、より好ましくは1,000,000以下、更に好ましくは500,000以下、更に好ましくは200,000以下である、＜25＞～＜28＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜30＞
　自己剥離膜形成用組成物中の成分(A)の含有量が、好ましくは0.1質量％以上、より好ましくは0.5質量％以上、更に好ましくは１質量％以上、より更に好ましくは1.5質量％以上であり、また、好ましくは20質量％以下、より好ましくは15質量％以下、更に好ましくは10質量％以下、より更に好ましくは７質量％以下、より更に好ましくは５質量％以下である、＜25＞～＜29＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜31＞
　自己剥離膜形成用組成物中の成分(A)の含有量が、好ましくは1.5～20質量％、より好ましくは1.5～15質量％、更に好ましくは1.5～10質量％、更に好ましくは1.5～７質量％、より更に好ましくは1.5～７質量％である、＜25＞～＜29＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜32＞
　成分(B)のスルホン化率が、好ましくは95％以上、より好ましくは98％以上、更に好ましくは99％以上である、＜25＞～＜31＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。。
＜33＞
　成分(B)のガラス転移点が、好ましくは210℃以上、より好ましくは300℃以上、更に好ましくは400℃以上、更に好ましくは440℃以上である、＜25＞～＜32＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜34＞
　成分(B)の重量平均分子量が、好ましくは5,000以上、より好ましくは10,000以上、更に好ましくは50,000以上、更に好ましくは100,000以上であり、また、好ましくは10,000,000以下、より好ましくは5,000,000以下、更に好ましくは2,000,000以下である、＜25＞～＜33＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜35＞
　自己剥離膜形成用組成物中の成分(B)の含有量が、好ましくは５質量％以上、より好ましくは７質量％以上、更に好ましくは８質量％以上、より更に好ましくは10質量％以上であり、また、好ましくは50質量％以下、より好ましくは40質量％以下、更に好ましくは30質量％以下、より更に好ましくは25質量％以下である、＜25＞～＜34＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜36＞
　自己剥離膜形成用組成物中の成分(B)の含有量が、好ましくは５～50質量％、より好ましくは７～40質量％、更に好ましくは８～30質量％、より更に好ましくは８～20質量％、より更に好ましくは10～25質量％である、＜25＞～＜35＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜37＞
　成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が、好ましくは0.65以上、より好ましくは0.70以上、更に好ましくは0.75以上、より更に好ましくは0.80以上であり、また、好ましくは0.94以下、より好ましくは0.93以下である、＜25＞～＜36＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜38＞
　成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が、好ましくは0.70～0.94、より好ましくは0.75～0.94、更に好ましくは0.75～0.93、より更に好ましくは0.80～0.93である、＜25＞～＜36＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜39＞
　成分(C)が、好ましくは水及び揮発性有機溶剤から選ばれ、より好ましくは水を含み、更に好ましくは水を主成分とする、＜25＞～＜38＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜40＞
　成分(C)の20℃における蒸気圧が、好ましくは0.01kPa以上106.66kPa以下、より好ましくは0.13kPa以上66.66kPa以下、更に好ましくは0.67kPa以上40.00kPa以下、更に好ましくは1.33kPa以上40.00kPa以下である、＜25＞～＜39＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜41＞
　自己剥離膜形成用組成物中の成分(C)の含有量が、好ましくは50質量％以上、より好ましくは60質量％以上、更に好ましくは70質量％以上であり、また、好ましくは95質量％以下、より好ましくは90質量％以下、更に好ましくは85質量％以下以下である、＜25＞～＜40＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜42＞
　さらに、成分(D)としてヨウ化カリウムを含有する、＜25＞～＜41＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜43＞
　自己剥離膜形成用組成物中の成分(D)の含有量が、好ましくは１質量％以上、より好ましくは２質量％以上、更に好ましくは３質量％以上であり、また、好ましくは15質量％以下、より好ましくは12質量％以下、更に好ましくは10質量％以下である、＜42＞に記載の自己剥離膜形成用組成物。
＜44＞
　さらに、界面活性剤、増粘剤、可塑剤又は防腐剤を含有する、＜25＞～＜43＞のいずれか一に記載の自己剥離膜形成用組成物。
実施例１～６、比較例１～３
　表１に示す組成物を調製し、以下に示す方法に従って、剥離度（％）及び膜強度を評価した。
（剥離度評価方法）
　各組成物をセメント固化体基板の10cm2の範囲に0.3g/cm2塗布し、25℃40％RHで24時間乾燥して、試料を製作した。
　乾燥前の前記基板上に濡れ広がった組成物の前記基板との接着面積Ｓ1と、乾燥後の塗膜が前記基材に接している面積Ｓ2を測定し、算出される(Ｓ1－Ｓ2)／Ｓ1の値を剥離度とする。
（膜強度評価方法）
　温度25℃湿度50%RHの環境で、ガラス板あるいはテフロン（登録商標）シート上で、組成物を乾燥膜厚500μmとなるように乾燥させ、乾燥膜を得た。得られた膜を180°折り畳み、その後開く動作をした際に、破断しないものをａ、破断したものをｃ、折すじやヒビが生じるが破断しないものをｂとした。
<ガラス転移点>
　実施例に記載した成分(A)及び(B)のガラス転移点は、各試料を室温で24時間乾燥させた後更に80℃にて減圧乾燥して得られた乾燥固体について、下記の条件でDSC測定して求めた。
測定装置：DSC7000X（株式会社日立ハイテクサイエンス）
温度プロファイル：
１. 20℃から目標温度まで10℃/minで昇温し、５分間維持
２. 目標温度から20℃まで10℃/minで冷却し、５分間保持
３. 20℃から目標温度まで10℃/minで昇温し、５分間保持
４. 目標温度から20℃まで10℃/minで冷却し、５分間保持
　目標温度は、クラレポバール22-98、同5-98、エクセバールRS-2117に関しては250℃、PS-100、PS-50に関しては440℃、HA-LATEXに関しては100℃で測定を行った。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
試験例１～３
　実施例２の組成物、及び実施例２の組成物に２質量％又は５質量％のヨウ化カリウムを添加し、同量の水を減じた組成物について、以下の方法に従って色相変化を評価した。
（色相変化評価方法）
　放射線照射試験の代替として、UV-C照射試験を以下の方法で実施した。
　各組成物をポリエステル基板の10cm2の範囲に0.1g/cm2塗布し、25℃40％RHで蛍光灯照射下、及びUV-C照射下において24時間乾燥して、目視で色相の変化を観察した。蛍光灯照射は通常の実験室の環境にて実施した。UV-Cランプは三共電気株式会社製のコンパクト型殺菌ランプGPL27を用いて、光源から15cm離した状態で実施した。
　その結果、実施例２の組成物では、蛍光灯照射下、UV-C照射下のいずれも色相の変化は認められなかった。一方、実施例２の組成物に２質量％又は５質量％のヨウ化カリウムを添加した組成物はいずれも、蛍光灯照射下では色相変化はなかったが、UV-C照射下では褐変した。なお、ヨウ化カリウムを添加しても剥離度及び膜強度は変わらなかった。

Claims (15)

  1. 　対象表面に付着した汚染物質を除去する方法であって、
    　次の成分(A)～(C)を含み、成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が0.6以上0.95以下である自己剥離膜形成用組成物を汚染物質が付着した対象表面に塗布して塗膜を形成する工程と、
    　該塗膜を乾燥する工程と、
    　該乾燥に伴う塗膜の自己剥離によって塗膜とともに汚染物質を除去する工程と
    を備える、汚染物質除去方法。
    　(A) ビニルアルコールを構成単位として含む重合体
    　(B) スルホン化率が89％以上のポリスチレンスルホン酸又はその塩
    　(C) 揮発性溶剤
  2. 　塗膜とともに汚染物質を除去する工程が、剥離した乾燥塗膜を回収する工程を含む、請求項１に記載の汚染物質除去方法。
  3. 　自己剥離形成用組成物の塗膜が、乾燥に伴い周縁部から剥離する、請求項１又は２に記載の汚染物質除去方法。
  4. 　対象表面に対する自己剥離形成用組成物の塗布量が、0.1kg/m2以上である、請求項１～３のいずれか１項に記載の汚染物質除去方法。
  5. 　乾燥工程が、-10℃以上60℃以下の環境下で行われるものである、請求項１～４のいずれか１項に記載の汚染物質除去方法。
  6. 　成分(A)のガラス転移点が、０℃以上120℃以下である、請求項１～５のいずれか１項に記載の汚染物質除去方法。
  7. 　成分(A)のビニルアルコールを構成単位として含む重合体が、ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコール、酢酸ビニル-エチレン共重合体又はその加水分解物である、請求項１～６のいずれか１項に記載の汚染物質除去方法。
  8. 　成分(B)が、重量平均分子量5,000以上10,000,000以下のポリスチレンスルホン酸又はその塩である、請求項１～７のいずれか１項に記載の汚染物質除去方法。
  9. 　成分(C)が、水を含むものである、請求項１～７のいずれか１項に記載の汚染物質除去方法。
  10. 　次の成分(A)～(C)を含有し、成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が0.6以上0.95以下であり、塗膜の乾燥に伴う自己剥離により対象表面上の汚染物質を除去するための使用。
    　(A) ビニルアルコールを構成単位として含む重合体
    　(B) スルホン化率が89％以上のポリスチレンスルホン酸又はその塩
    　(C) 揮発性溶剤
  11. 次の成分(A)～(C)を含有し、成分(A)及び成分(B)の総量に対する成分(B)の質量比(B)／[(A)＋(B)]が0.6以上0.95以下である、自己剥離膜形成用組成物。
    　(A) ビニルアルコールを構成単位として含む重合体
    　(B) スルホン化率が89％以上のポリスチレンスルホン酸又はその塩
    　(C) 揮発性溶剤
  12. 　成分(A)のガラス転移点が、０℃以上120℃以下である、請求項１１に記載の自己剥離膜形成用組成物。
  13. 　成分(B)が、重量平均分子量5,000以上10,000,000以下のポリスチレンスルホン酸又はその塩である、請求項１１又は１２に記載の自己剥離膜形成用組成物。
  14. 　成分(B)のガラス転移点が、210℃以上である、請求項１１～１３のいずれか１項に記載の自己剥離膜形成用組成物。
  15. 　さらに、成分(D)ヨウ化カリウムを含有する、請求項１１～１４のいずれか１項に記載の自己剥離膜形成用組成物。
     
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