WO2023219010A1 - 樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールおよび化合物 - Google Patents

樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールおよび化合物 Download PDF

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一成 八木
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    • G03B11/00—Filters or other obturators specially adapted for photographic purposes

Definitions

  • the present invention relates to a resin composition containing an infrared absorbing dye.
  • the present invention also relates to a film, an optical filter, a solid-state image sensor, an image display device, an infrared sensor, and a camera module using the resin composition.
  • the invention also relates to compounds.
  • CCDs charge-coupled devices
  • CMOSs complementary metal oxide semiconductors
  • These solid-state image sensors use silicon photodiodes sensitive to infrared rays in their light receiving portions. For this reason, an infrared cut filter may be provided to correct visibility.
  • Infrared cut filters are manufactured using resin compositions containing infrared absorbing dyes and resins.
  • Patent Document 1 describes that an infrared cut filter or the like is manufactured using a resin composition containing an infrared absorbing dye containing an iminium compound and a resin.
  • an object of the present invention is to provide a resin composition that can form a film with excellent heat resistance and light resistance.
  • Another object of the present invention is to provide a film, an optical filter, a solid-state image sensor, an image display device, an infrared sensor, a camera module, and a compound.
  • the present invention provides the following. ⁇ 1> At least one infrared absorbing dye A selected from a dye A1 represented by formula (1) and a dye multimer A2 containing two or more dye structures derived from the dye A1 in one molecule, A resin composition comprising a resin;
  • R L101 to R L105 represent a hydrogen atom or a substituent
  • R L103 and R L104 combine to form a ring.
  • X 101 to X 103 each independently represent a nitrogen atom or -CR X101 -
  • R X101 represents a hydrogen atom or a substituent
  • X 104 and X 105 each independently represent a nitrogen atom or -CR X102 -
  • R represents a hydrogen atom or a substituent
  • R Ar101 and R Ar102 each represent independently represents a hydrogen atom or a substituent
  • n101 represents an integer of 1 to 3
  • Y 101 and Y 102 each independently represent -OR Y101 , -NR Y102 RY103 or -SR Y104
  • R Y101 to R Y104 each independently represent
  • X 103 in the above formula (1) is -CR X101 -, R X101 is a hydrogen atom or a substituent, The resin composition according to ⁇ 1>, wherein L 102 and L 103 are each a sulfur atom.
  • X 103 in the above formula (1) is -CR X101 -
  • R X101 is a hydrogen atom or a substituent
  • L 102 and L 103 are each a sulfur atom
  • R L103 and R L104 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, is an aryl group or a heteroaryl group
  • Y 101 and Y 102 are each independently -NR Y102 R Y103
  • R Y102 and R Y103 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heteroaryl
  • R Y102 and R Y103 may be bonded via a single bond or a divalent linking group to form a ring.
  • ⁇ 7> The resin composition according to ⁇ 6>, wherein the maximum absorption wavelength of the infrared absorbing agent other than the infrared absorbing dye A is on the shorter wavelength side than the maximum absorption wavelength of the infrared absorbing dye A.
  • ⁇ 8> The resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the maximum absorption wavelength of the infrared absorbing dye A is in a wavelength range of 700 to 1800 nm.
  • ⁇ 10> A film obtained using the resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>.
  • An optical filter comprising the film according to ⁇ 10>.
  • ⁇ 12> A solid-state imaging device comprising the film according to ⁇ 10>.
  • ⁇ 13> An image display device including the film according to ⁇ 10>.
  • Ar 401 represents an aryl group or a heteroaryl group
  • R 401 to R 404 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • R 405 and R 406 each independently represent an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an alkoxy group or a cyano group
  • R 407 and R 408 each independently represent an alkyl group or an aryl group
  • n401 and n402 each independently represent an integer from 0 to 4
  • q4 represents 1 or 2
  • Z 4 represents a q4-valent counteranion.
  • Ar 501 represents an aryl group or a heteroaryl group
  • R 501 to R 504 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • R 505 and R 506 each independently represent an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an alkoxy group or a cyano group
  • n 501 and n 502 each independently represent an integer from 0 to 4
  • q5 represents 1 or 2
  • Z 5 represents a q5-valent counteranion.
  • the present invention it is possible to provide a resin composition that can form a film with excellent heat resistance and light resistance. Further, the present invention can provide a film, an optical filter, a solid-state imaging device, an image display device, an infrared sensor, a camera module, and a compound.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing one embodiment of an infrared sensor.
  • ⁇ is used to include the numerical values described before and after it as a lower limit and an upper limit.
  • the description that does not indicate substituted or unsubstituted includes a group having a substituent (atomic group) as well as a group having no substituent (atomic group).
  • the term "alkyl group” includes not only an alkyl group without a substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified.
  • the light used for exposure include actinic rays or radiation such as the bright line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays typified by excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, and electron beams.
  • EUV light extreme ultraviolet rays
  • (meth)acrylate” represents acrylate and/or methacrylate
  • (meth)acrylic represents both acrylic and/or methacrylic
  • (meth)acrylate” represents acrylic and/or methacrylate.
  • Acryloyl refers to acryloyl and/or methacryloyl.
  • the weight average molecular weight and number average molecular weight are defined as polystyrene equivalent values measured by gel permeation chromatography (GPC).
  • GPC gel permeation chromatography
  • Me in the chemical formula represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • infrared rays refer to light (electromagnetic waves) with a wavelength of 700 to 2500 nm.
  • the total solid content refers to the total mass of all components of the composition excluding the solvent.
  • the term "process” is used not only to refer to an independent process, but also to include any process that achieves the intended effect even if it cannot be clearly distinguished from other processes. .
  • the resin composition of the present invention includes at least one infrared absorbing dye A selected from a dye A1 represented by formula (1) and a dye multimer A2 containing two or more dye structures derived from the dye A1 in one molecule; It is characterized by containing a resin.
  • the resin composition of the present invention By using the resin composition of the present invention, a film with excellent heat resistance and light resistance can be formed. It is presumed that the infrared absorbing dye A is likely to form associations in the resin during film formation. By associating infrared absorbing dye A in the resin, the frequency of contact with chemical species that induce decomposition such as oxygen and water is reduced, and the decomposition of infrared absorbing dye A is suppressed, resulting in excellent heat resistance and light resistance. It is presumed that a film could be formed.
  • the resin composition of the present invention can be used as a resin composition for optical filters.
  • Types of optical filters include infrared cut filters and infrared transmission filters.
  • the resin composition of the present invention comprises at least one infrared absorbing dye A2 selected from a dye A1 represented by formula (1) and a dye multimer A2 containing two or more dye structures derived from the above-mentioned dye A1 in one molecule. including.
  • the above-mentioned infrared absorbing dye will also be referred to as a specific infrared absorbing dye.
  • the specific infrared absorbing dye may be a dye or a pigment.
  • the specific infrared absorbing dye preferably has a solubility of 0.1 g/100 g or less at 25° C. in both propylene glycol monomethyl ether acetate and water.
  • the average particle size of the pigment is preferably 20 to 300 nm, more preferably 25 to 250 nm, and even more preferably 30 to 200 nm.
  • the term "average particle size" as used herein means the average particle size of secondary particles which are aggregates of primary pigment particles.
  • the particle size distribution of the secondary particles of the pigment (hereinafter also simply referred to as “particle size distribution”) is such that the secondary particles having an average particle size of ⁇ 100 nm account for 70% by mass or more of the total, preferably 80% by mass or more. It is preferable that it is at least % by mass. Note that the particle size distribution of the secondary particles can be measured using scattering intensity distribution.
  • R L101 to R L105 include alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heteroaryl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, and alkenyloxy groups, and it is an alkyl group or an aryl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.
  • the alkyl group may be straight, branched or cyclic.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, and even more preferably 2 to 4 carbon atoms.
  • the alkenyl group may be either straight or branched.
  • the number of carbon atoms in the alkynyl group is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6, even more preferably 2 to 4.
  • the alkynyl group may be either straight or branched.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12. Further, the aryl group is preferably a monocyclic aryl group.
  • the heteroaryl group preferably has a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the hetero atoms constituting the ring of the heteroaryl group are preferably oxygen atoms, nitrogen atoms, and sulfur atoms.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
  • the number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.
  • the alkoxy group may be either straight or branched.
  • the number of carbon atoms in the aryloxy group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12.
  • the alkenyloxy group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms.
  • the alkenyloxy group may be either straight or branched.
  • X 101 to X 103 each independently represent a nitrogen atom or -CR X101 -, and R X101 represents a hydrogen atom or a substituent.
  • R X101 represents a hydrogen atom or a substituent.
  • R represents a substituent represented by R , an alkenyloxy group or an amino group. These groups may further have a substituent.
  • the substituent include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a (meth)allyl group, a (meth)acryloyl group, and the like.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.
  • the alkyl group may be straight, branched or cyclic.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, and even more preferably 2 to 4 carbon atoms.
  • the alkenyl group may be either straight or branched.
  • the number of carbon atoms in the alkynyl group is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6, even more preferably 2 to 4.
  • the alkynyl group may be either straight or branched.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12.
  • the aryl group is preferably a monocyclic aryl group.
  • the heteroaryl group preferably has a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the hetero atoms constituting the ring of the heteroaryl group are preferably oxygen atoms, nitrogen atoms, and sulfur atoms.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
  • the number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.
  • the alkoxy group may be either straight or branched.
  • the number of carbon atoms in the aryloxy group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12.
  • the alkenyloxy group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms.
  • the alkenyloxy group may be either straight or branched.
  • R More preferably, it is a monocyclic aryl group having a substituent, even more preferably a monocyclic aryl group having a substituent at the ortho position.
  • substituents include the groups listed in substituent T described below, groups containing anions described below, ethylenically unsaturated bond-containing groups, and alkyl groups, sulfo groups, carboxy groups, salts of carboxy groups, Preferably, it is a salt of a sulfo group, a group containing an anion described below, or a group containing an ethylenically unsaturated bond.
  • X 101 and X 102 in formula (1) are each independently -CR X101 -.
  • R X101 is preferably a hydrogen atom.
  • X 103 in formula (1) is preferably -CR X101 -.
  • R A monocyclic aryl group having a substituent at the ortho position is even more preferable, and a monocyclic aryl group having a substituent at the ortho position is particularly preferable.
  • R X102 represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent represented by R X102 include the groups described above as the substituent represented by R X101 , and the preferred ranges are also the same.
  • L 102 is preferably a sulfur atom because the maximum absorption wavelength can be present on the longer wavelength side.
  • L 103 is preferably a sulfur atom because the maximum absorption wavelength can be present on the longer wavelength side. It is particularly preferable that L 102 and L 103 are each a sulfur atom
  • R Ar101 and R Ar102 examples include the groups described above as the substituent represented by R X101 , and the preferred ranges are also the same.
  • n101 represents an integer from 1 to 3, preferably 1 or 2, and more preferably 1.
  • the number of carbon atoms in the arylene group represented by Ar 101 and Ar 102 in formula (1) is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12. Furthermore, the arylene group is preferably a monocyclic arylene group.
  • the heterocyclic group represented by Ar 101 and Ar 102 in formula (1) is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the hetero atoms constituting the ring of the heterocyclic group are preferably oxygen atoms, nitrogen atoms, and sulfur atoms.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • a preferred embodiment includes an embodiment in which Ar 101 and Ar 102 are each independently an arylene group.
  • *2 is preferably a bond with Y 101 or Y 102 in formula (1).
  • Y 101 and Y 102 in formula (1) each independently represent -OR Y101 , -NR Y102 RY103 or -SR Y104, and R Y101 to R Y104 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group. , represents an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, and R Y102 and R Y103 may be bonded via a single bond or a divalent linking group to form a ring.
  • R Y101 to R Y104 are each independently preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, more preferably an alkyl group or an aryl group, and preferably an aryl group. More preferred.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R Y101 to R Y104 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.
  • the alkyl group may be straight, branched or cyclic.
  • the alkyl group may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the alkenyl group represented by R Y101 to R Y104 preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, and still more preferably 2 to 4 carbon atoms.
  • the alkenyl group may be either straight or branched.
  • the alkenyl group may further have a substituent.
  • substituents include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the number of carbon atoms in the alkynyl group represented by R Y101 to R Y104 is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6, and even more preferably 2 to 4.
  • the alkynyl group may be either straight or branched.
  • the alkynyl group may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the number of carbon atoms in the aryl group represented by R Y101 to R Y104 is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12. Further, the aryl group is preferably a monocyclic aryl group. The aryl group may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the heteroaryl group represented by R Y101 to R Y104 is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. The hetero atoms constituting the ring of the heteroaryl group are preferably oxygen atoms, nitrogen atoms, and sulfur atoms.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
  • the heteroaryl group may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • -NR Y102 R Y102 and R Y103 in R Y103 may be bonded via a single bond or a divalent linking group to form a ring.
  • the divalent linking group include -CR Y111 R Y112 -, -O-, -S-, and a combination of two or more of these.
  • R Y111 and R Y112 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group. These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • Y 101 and Y 102 in formula (1) are each independently -NR Y102 R Y103 .
  • Ar 101 and X 101 may be bonded via a single bond or a divalent linking group to form a 5-membered ring or a 6-membered ring
  • Ar 101 and Y 101 may be bonded via a single bond or a divalent linking group to form a 5-membered ring or a 6-membered ring
  • Ar 102 and X 102 may be bonded via a single bond or a divalent linking group to form a 5-membered ring or a 6-membered ring
  • Ar 102 and Y 102 may be bonded via a single bond or a divalent linking group to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • Examples of the above-mentioned divalent linking group include -CR Y121 R Y122 -, -O-, -S-, and a group combining two or more of these.
  • R Y121 and R Y122 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group. These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • Z 1 in formula (1) represents a counter ion.
  • Counter ions include counter anions and counter cations.
  • the counter cation may be an inorganic cation or an organic cation.
  • inorganic cations include monovalent metal cations such as Na (sodium) cation, Li (lithium) cation, and K (potassium) cation; Mg (magnesium) cation, Ca (calcium) cation, and Sr (strontium).
  • organic cations examples include ammonium cations (tetraalkylammonium cations, trialkylammonium cations, etc.), imidazolium cations, pyridinium cations (pyridinium cations, N-methylpyridinium cations, N-ethylpyridinium cations, etc.), phosphonium cations, etc. .
  • the counter cation is preferably an inorganic cation, and more preferably a Na cation, Li cation, K cation, Mg cation, or Ba cation, because it can further improve light resistance and heat resistance.
  • the counter anion may be an organic anion or an inorganic anion.
  • Counter anions include the anion represented by formula (AN1), the anion represented by formula (AN2), the anion represented by formula (AN3), the anion represented by formula (AN4), and the anion represented by formula (AN5).
  • R AN1 and R AN2 each independently represent a halogen atom or an alkyl group, and R AN1 and R AN2 may be combined to form a ring;
  • R AN3 to R AN5 each independently represent a halogen atom or an alkyl group, and R AN3 and R AN4 , R AN4 and R AN5 , or R AN3 and R AN5 are bonded together.
  • R AN6 to R AN9 each independently represent a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or a cyano group
  • RAN10 represents a halogenated hydrocarbon group which may be connected by a linking group having a nitrogen atom or an oxygen atom
  • R AN11 to R AN16 each independently represent a halogen atom or a halogenated hydrocarbon group.
  • the halogen atoms represented by R AN1 and R AN2 in formula (AN1), the halogen atoms represented by R AN3 to R AN5 in formula (AN2), and the halogen atoms represented by R AN6 to R AN9 in formula (AN3) include fluorine. Atom, chlorine atom, bromine atom, and iodine atom are mentioned, and fluorine atom is preferable.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R AN1 and R AN2 in formula (AN1), the alkyl group represented by R AN3 to R AN5 in formula (AN2), and the alkyl group represented by R AN6 to R AN9 in formula (AN3) is , 1 to 10 are preferred, 1 to 6 are more preferred, and 1 to 3 are still more preferred.
  • the alkyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • the alkyl group is preferably an alkyl group having a halogen atom as a substituent, and more preferably an alkyl group having a fluorine atom as a substituent (fluoroalkyl group). Further, the fluoroalkyl group is preferably a perfluoroalkyl group.
  • the number of carbon atoms in the aryl group represented by R AN6 to R AN9 in formula (AN3) is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12, and even more preferably 6.
  • the aryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of substituents include halogen atoms and alkyl groups.
  • the halogen atom is preferably a fluorine atom.
  • the alkyl group is preferably a fluoroalkyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkoxy group represented by R AN6 to R AN9 in formula (AN3) is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 3.
  • the alkoxy group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkoxy group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of substituents include halogen atoms and alkyl groups.
  • the halogen atom is preferably a fluorine atom.
  • the alkyl group is preferably a fluoroalkyl group.
  • the number of carbon atoms in the aryloxy group represented by R AN6 to R AN9 in formula (AN3) is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12, and even more preferably 6.
  • the aryloxy group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of substituents include halogen atoms and alkyl groups.
  • the halogen atom is preferably a fluorine atom.
  • the alkyl group is preferably a fluoroalkyl group.
  • R AN1 and R AN2 in formula (AN1) may be combined to form a ring.
  • RAN3 and RAN4 , RAN4 and RAN5 , or RAN3 and RAN5 in formula (AN2) may be bonded to form a ring.
  • RAN10 in formula (AN4) represents a halogenated hydrocarbon group which may be connected by a linking group having a nitrogen atom or an oxygen atom.
  • the halogenated hydrocarbon group refers to a monovalent hydrocarbon group substituted with a halogen atom, and is preferably a monovalent hydrocarbon group substituted with a fluorine atom.
  • the hydrocarbon group include an alkyl group and an aryl group.
  • the monovalent hydrocarbon group substituted with a halogen atom may further have a substituent.
  • the linking group having a nitrogen atom or an oxygen atom include -O-, -CO-, -COO-, -CO-NH-, and the like.
  • R AN11 to R AN16 in formula (AN5) each independently represent a halogen atom or a halogenated hydrocarbon group.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, with a fluorine atom being preferred.
  • the halogenated hydrocarbon group is preferably an alkyl group having a halogen atom as a substituent, and more preferably an alkyl group having a fluorine atom as a substituent.
  • heteropolyacid anions and isopolyate anions include tungstate anions ([W 6 O 19 ] 2- , [W 10 O 32 ] 4- , [WO 4 ] 2-, etc.), molybdate anions ([Mo 2 O 7 ] 2- , [Mo 6 O 19 ] 2- , [Mo 8 O 26 ] 4-, etc.), phosphotungstate anions ([PW 4 O 20 ] 4- , [PW 12 O 40 ] 3- , [P 2 W 15 O 56 ] 12- , [P 2 W 17 O 61 ] 10- , [P 2 W 18 O 62 ] 6-, etc.), phosphomolybdate anion ([P 2 Mo 18 O 62 ] 6-) , [PMo 12 O 40 ] 3- ), phosphotungsten molybdate anion ([PW 12-x Mo x O 40 ] 3- (x is an integer from 1 to 11), [P 2 W 18-y Mo y O 62 ] 6- (y is an integer
  • the counter anion may be a divalent or higher anion.
  • divalent or higher anions include anions having two or more monovalent anions in one molecule, such as imide anions, methide anions, borate anions, and sulfonate anions.
  • p1 represents an integer from 0 to 5
  • q1 represents an integer from 1 to 5.
  • p1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2.
  • q1 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1.
  • p1 is an integer of 1 or more
  • the counter ion represented by Z 1 is preferably a counter anion.
  • the product of the valence of the positive charge in [ ] in formula (1) and q1 is preferably the same value as the product of the valence of the charge of the counter anion represented by Z 1 and p1.
  • p1 is an integer of 1 or more
  • the counter ion represented by Z 1 is preferably a counter cation.
  • the product of the negative charge valence in [ ] in formula (1) and q1 is preferably the same value as the product of the charge valence of the counter cation represented by Z 1 and p1.
  • Z 1 is preferably absent, that is, p1 is 0 and q1 is 1.
  • the dye A1 is a dye represented by formula (2).
  • R X111 and R X112 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • X 203 represents a nitrogen atom or -CR X101 -
  • R X101 represents a hydrogen atom or a substituent
  • X 104 and X 105 each independently represent a nitrogen atom or -CR X102 -
  • R Ar201 and R Ar202 each represent independently represents a hydrogen atom or a substituent
  • n201 represents an integer of 1 to 3
  • Y 201 and Y 202 each independently represent -OR Y101 , -NR Y102 RY
  • L 201 , L 202 , L 203 , X 203 , Y 201 , Y 202 , Z 2 , q2, p2 in formula (2) are the same as L 101 , L 102 , L 103 , X 103 , Y 101 in formula (1 ) , Y 102 , Z 1 , q1, and p1, and the preferred ranges are also the same.
  • R X111 and R X112 in formula (2) include the groups described as the substituent represented by R X101 in formula (1), and the preferred ranges are also the same.
  • R X111 and R X112 in formula (2) are preferably hydrogen atoms.
  • the above X 104 and X 105 have the same meanings as X 104 and X 105 described in formula (1), and the preferred ranges are also the same.
  • R Ar201 , R Ar202 and n201 have the same meanings as R Ar101 , R Ar102 and n101 explained in formula (1), and their preferred ranges are also the same.
  • a preferred embodiment includes an embodiment in which Ar 201 and Ar 202 are each independently an arylene group.
  • *2 is preferably a bond with Y 201 or Y 202 in formula (2).
  • Ar 201 and X 201 may be bonded via a single bond or a divalent linking group to form a 5-membered ring or a 6-membered ring
  • Ar 201 and Y 201 may be bonded via a single bond or a divalent linking group to form a 5-membered ring or a 6-membered ring
  • Ar 202 and X 202 may be bonded via a single bond or a divalent linking group to form a 5-membered ring or a 6-membered ring
  • Ar 202 and Y 202 may be bonded via a single bond or a divalent linking group to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • Examples of the above-mentioned divalent linking group include -CR Y121 R Y122 -, -O-, -S-, and a group combining two or more of these.
  • R Y121 and R Y122 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group. These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the dye A1 is a dye (compound) represented by formula (4).
  • the dye (compound) represented by formula (4) is also a compound of the present invention.
  • Ar 401 represents an aryl group or a heteroaryl group
  • R 401 to R 404 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • R 405 and R 406 each independently represent an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an alkoxy group or a cyano group
  • R 407 and R 408 each independently represent an alkyl group or an aryl group
  • n401 and n402 each independently represent an integer from 0 to 4
  • q4 represents 1 or 2
  • Z 4 represents a q4-valent counteranion.
  • the number of carbon atoms in the aryl group represented by Ar 401 is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12. Further, the aryl group is preferably a monocyclic aryl group.
  • the heteroaryl group represented by Ar 401 is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the hetero atoms constituting the ring of the heteroaryl group are preferably oxygen atoms, nitrogen atoms, and sulfur atoms.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
  • the above aryl group and heteroaryl group may further have a substituent.
  • substituents examples include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • ethylenically unsaturated bond-containing group examples include a vinyl group, a (meth)allyl group, a (meth)acryloyl group, and the like.
  • Ar 401 is preferably an aryl group, more preferably a monocyclic aryl group, even more preferably a monocyclic aryl group having a substituent, and even more preferably a monocyclic aryl group having a substituent at the ortho position. Particularly preferred is an aryl group.
  • substituents examples include the groups listed in substituent T described below, groups containing anions described below, ethylenically unsaturated bond-containing groups, and alkyl groups, sulfo groups, carboxy groups, salts of carboxy groups, A salt of a sulfo group, a group containing an anion as described below, or a group containing an ethylenically unsaturated bond is preferable.
  • R 401 to R 404 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, and preferably an alkyl group or an aryl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R 401 to R 404 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.
  • the alkyl group may be straight, branched or cyclic.
  • the alkyl group may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the number of carbon atoms in the aryl group represented by R 401 to R 404 is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12. Further, the aryl group is preferably a monocyclic aryl group. The aryl group may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the heteroaryl group represented by R 401 to R 404 is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. The hetero atoms constituting the ring of the heteroaryl group are preferably oxygen atoms, nitrogen atoms, and sulfur atoms.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
  • the heteroaryl group may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed for the substituent T described later, a group containing an anion described below, and an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • R 405 and R 406 each independently represent an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an alkoxy group, or a cyano group.
  • n401 and n402 each independently represent an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.
  • Examples of the q4-valent counter anion represented by Z 4 include the above-mentioned counter anions.
  • the dye A1 is a dye (compound) represented by formula (5).
  • the dye (compound) represented by formula (5) is also a compound of the present invention.
  • Ar 501 represents an aryl group or a heteroaryl group
  • R 501 to R 504 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • R 505 and R 506 each independently represent an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an alkoxy group or a cyano group
  • n 501 and n 502 each independently represent an integer from 0 to 4
  • q5 represents 1 or 2
  • Z 5 represents a q5-valent counteranion.
  • Ar 501 , R 501 to R 506 , n 501 , n 502 , q5 and Z 5 in formula (5) are the same as Ar 401 , R 401 to R 406 , n 401 , n 402 , q4 and Z 4 in formula (4) It has the same meaning as , and the preferred range is also the same.
  • the specific infrared absorbing dye may be a dye multimer A2 (hereinafter also simply referred to as a dye multimer) containing two or more dye structures derived from the above dye A1 in one molecule.
  • the dye multimer examples include a dye multimer having a repeating unit represented by formula (A) (hereinafter also referred to as dye multimer (A)), a dye multimer having a repeating unit represented by formula (C) ( (hereinafter also referred to as dye multimer (C)), the dye multimer represented by formula (D) (hereinafter also referred to as dye multimer (D)), and dye multimer (A) or dye multimer ( D) is preferred.
  • A dye multimer having a repeating unit represented by formula (A)
  • C dye multimer having a repeating unit represented by formula (C)
  • dye multimer (D) the dye multimer represented by formula (hereinafter also referred to as dye multimer (D)
  • dye multimer (A) or dye multimer ( D) is preferred.
  • the dye multimer (A) contains a repeating unit represented by formula (A).
  • the proportion of the repeating unit represented by formula (A) is preferably 10% by mass or more of all repeating units constituting the dye multimer (A), more preferably 20% by mass or more, even more preferably 30% by mass or more, Particularly preferred is 50% by mass or more.
  • the upper limit can be 100% by mass or less, or 95% by mass or less.
  • a 1 represents a trivalent linking group
  • L 1 represents a single bond or a divalent linking group
  • DyeI represents a dye structure derived from the above dye A1.
  • the trivalent linking group represented by A1 in formula (A) includes a poly(meth)acrylic linking group, a polyalkyleneimine linking group, a polyester linking group, a polyurethane linking group, a polyurea linking group, and a polyamide linking group.
  • Examples include a linking group, a polyether linking group, a polystyrene linking group, a bisphenol linking group, a novolak linking group, and a poly(meth)acrylic linking group is preferred.
  • L 1 in formula (A) represents a single bond or a divalent linking group.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms.
  • the upper limit is more preferably 25 or less, and even more preferably 20 or less.
  • the lower limit is more preferably 2 or more, and even more preferably 3 or more.
  • the alkylene group may be linear, branched, or cyclic.
  • the alkylene group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • the number of carbon atoms in the arylene group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12.
  • the arylene group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • the heterocyclic group preferably has a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the hetero atoms constituting the ring of the heterocyclic group are preferably oxygen atoms, nitrogen atoms, and sulfur atoms.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the heterocyclic group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • L 1 is preferably an alkylene group, an arylene group, -NH-, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S-, or a linking group combining two or more of these; More preferably, the connecting group is a combination of at least one selected from arylene groups and arylene groups and one or more selected from -O-, -COO-, -OCO-, and -S-.
  • the divalent linking group represented by L 1 is also preferably a group containing -S- or -O-.
  • the number of atoms constituting the chain connecting DyeI and A 1 is preferably 2 or more, more preferably 3 or more.
  • the upper limit can be, for example, 30 or less, or 25 or less.
  • the dye structure derived from dye A1 represented by DyeI in formula (A) is preferably a residue obtained by removing one hydrogen atom from the dye (dye A1) represented by formula (1) described above. Furthermore, any of the sites X 101 to X 103 , L 101 to L 103 , Ar 101 , Ar 102 , Y 101 , and Y 102 in formula (1) includes a connecting portion with L 1 in formula (A). More preferably, X 103 in formula (1) includes a linkage with L 1 in formula (A).
  • the dye multimer (A) may contain other repeating units in addition to the repeating unit represented by formula (A).
  • Examples of other repeating units include repeating units having a polymerizable group and repeating units having an acid group.
  • the polymerizable group include ethylenically unsaturated bond-containing groups such as a vinyl group, a (meth)allyl group, and a (meth)acryloyl group.
  • the acid group include a carboxy group, a sulfo group, and a phosphoric acid group.
  • the proportion of repeating units having a polymerizable group is preferably 50% by mass or less of all repeating units constituting the dye multimer (A).
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 35% by mass or less, more preferably 30% by mass or less.
  • the proportion of repeating units having acid groups is preferably 50% by mass or less of all repeating units constituting the dye multimer (A).
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 35% by mass or less, more preferably 30% by mass or less.
  • the dye multimer (A) is produced by (1) a method of synthesizing dye A1 having a polymerizable group by addition polymerization, (2) a method of synthesizing a dye A1 having a polymerizable group, and (2) a polymer having a highly reactive functional group such as an isocyanate group, an acid anhydride group, or an epoxy group. It can be synthesized by a method such as a method of reacting a highly reactive functional group with a dye A1 having a reactive functional group (hydroxy group, primary or secondary amino group, carboxy group, etc.).
  • the dye multimer (A) is preferably a radical polymer obtained by radical polymerization using dye A1 having an ethylenically unsaturated bond.
  • the dye multimer (C) contains a repeating unit represented by formula (C).
  • the proportion of the repeating unit represented by formula (C) is preferably 10% by mass or more of all the repeating units constituting the dye multimer (C), more preferably 20% by mass or more, even more preferably 30% by mass or more, Particularly preferred is 50% by mass or more.
  • the upper limit can be 100% by mass or less, or 95% by mass or less.
  • L 3 represents a single bond or a divalent linking group
  • DyeIII represents the dye structure derived from the above dye A1
  • m represents 0 or 1.
  • L 3 in formula (C) represents a single bond or a divalent linking group.
  • Each R independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group and alkylene group is preferably 1 to 30.
  • the upper limit is more preferably 25 or less, and even more preferably 20 or less.
  • the lower limit is more preferably 2 or more, and even more preferably 3 or more.
  • the alkyl group and alkylene group may be linear, branched, or cyclic.
  • the number of carbon atoms in the aryl group and arylene group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12.
  • the heterocyclic group preferably has a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the hetero atoms constituting the ring of the heterocyclic group are preferably oxygen atoms, nitrogen atoms, and sulfur atoms.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the alkylene group, arylene group, heterocyclic group, alkyl group and aryl group may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed below for substituent T, a polymerizable group, and an acid group.
  • L 3 in formula (C) is an alkylene group, an arylene group, -NH-, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S-, -SO 2 -, or a combination of two or more of these.
  • a linking group is preferred.
  • the dye structure derived from dye A1 represented by DyeIII of formula (C) is preferably a residue obtained by removing two hydrogen atoms from the dye (dye A1) represented by formula (1) described above. Furthermore, any of the sites X 101 to X 103 , L 101 to L 103 , Ar 101 , Ar 102 , Y 101 , and Y 102 in formula (1) includes a connecting portion with L 1 in formula (A). It is preferable.
  • n in formula (C) represents 0 or 1, and 1 is preferable.
  • the dye multimer (C) may contain other repeating units described for the dye multimer (A).
  • the dye multimer (D) is a compound represented by formula (D).
  • L 4 represents a (n+k)-valent linking group
  • n represents an integer from 2 to 20
  • k represents an integer from 0 to 20
  • DyeIV represents the dye structure derived from the above dye A1
  • P 4 represents a substituent
  • Each of the n DyeIVs may be different, When k is 2 or more, the plurality of P4s may be different from each other, n+k represents an integer from 2 to 20.
  • n is preferably 2 to 14, more preferably 2 to 8, particularly preferably 2 to 7, and even more preferably 2 to 6.
  • k is preferably 0 to 13.
  • the lower limit can be 1 or more, or 2 or more.
  • the upper limit is preferably 10 or less, more preferably 8 or less, even more preferably 7 or less, and even more preferably 6 or less.
  • the (n+k)-valent linking group represented by L 4 in formula (D) includes 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 Mention may be made of groups consisting of from 3 to 200 hydrogen atoms and from 0 to 20 sulfur atoms.
  • the (n+k)-valent linking group is preferably the following structural unit or a group formed by combining two or more of the following structural units (which may form a ring structure). * in the formula below represents a bond.
  • the (n+k)-valent linking group represented by L 4 is preferably a linking group derived from a polyfunctional thiol, a linking group derived from a polyfunctional alcohol, or a linking group derived from an acid anhydride, More preferably, it is a linking group derived from a polyfunctional thiol.
  • the (n+k)-valent linking group represented by L 4 is preferably a group represented by any one of formulas (Za-1) to (Za-5).
  • La 2 represents a divalent group
  • Ta 2 represents a single bond or a divalent linking group
  • the two Ta 2s present may be the same or different from each other.
  • La 3 represents a trivalent group
  • Ta 3 represents a single bond or a divalent linking group
  • the three Ta 3s present may be the same or different from each other.
  • La 4 represents a tetravalent group
  • Ta 4 represents a single bond or a divalent linking group
  • the four Ta 4s present may be the same or different from each other. .
  • La 5 represents a pentavalent group
  • Ta 5 represents a single bond or a divalent linking group
  • the five Ta 5s present may be the same or different from each other.
  • La 6 represents a hexavalent group
  • Ta 6 represents a single bond or a divalent linking group
  • the six Ta 6s present may be the same or different from each other.
  • * represents a bond.
  • Each R independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group and alkylene group is preferably 1 to 30.
  • the upper limit is more preferably 25 or less, and even more preferably 20 or less.
  • the lower limit is more preferably 2 or more, and even more preferably 3 or more.
  • the alkyl group and alkylene group may be linear, branched, or cyclic.
  • the number of carbon atoms in the aryl group and arylene group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12.
  • the heterocyclic group preferably has a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the hetero atoms constituting the ring of the heterocyclic group are preferably oxygen atoms, nitrogen atoms, and sulfur atoms.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the alkylene group, arylene group, heterocyclic group, alkyl group and aryl group may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed below for substituent T, a polymerizable group, and an acid group.
  • Examples of the trivalent group represented by La 3 include a group obtained by removing one hydrogen atom from the above divalent linking group.
  • Examples of the tetravalent group represented by La 4 include a group obtained by removing two hydrogen atoms from the above divalent linking group.
  • Examples of the pentavalent group represented by La 5 include a group obtained by removing three hydrogen atoms from the above divalent linking group.
  • Examples of the hexavalent group represented by La 6 include a group obtained by removing four hydrogen atoms from the above divalent linking group.
  • the trivalent to hexavalent groups represented by La 3 to La 6 may have the above-mentioned substituents.
  • (n+k)-valent linking groups include the linking groups described in paragraph numbers 0071 to 0072 of JP-A No. 2008-222950, and the linking groups described in paragraph number 0176 of JP-A No. 2013-029760. , and the linking groups described in paragraph numbers 0022 to 0024 of International Publication No. 2016/031442.
  • the dye structure derived from dye A1 represented by Dye IV of formula (D) is preferably a residue obtained by removing one hydrogen atom from the dye (dye A1) represented by formula (1) described above. Furthermore, any of the sites X 101 to X 103 , L 101 to L 103 , Ar 101 , Ar 102 , Y 101 , and Y 102 in formula (1) includes a connecting portion with L 1 in formula (A). More preferably, X 103 in formula (1) includes a linkage with L 1 in formula (A).
  • substituent represented by P 4 in formula (D) examples include the groups listed below for substituent T, acid groups, and polymerizable groups. Further, the substituent represented by P 4 may be a monovalent polymer chain having a repeating unit. The monovalent polymer chain having repeating units is preferably a monovalent polymer chain having repeating units derived from a vinyl compound. When k is 2 or more, the k P4s may be the same or different.
  • P 4 When P 4 is a monovalent polymer chain having repeating units and k is 1, P 4 contains 2 to 20 repeating units (preferably 2 to 15 repeating units, more preferably 2 to 15 repeating units) derived from a vinyl compound. It is preferable to use a monovalent polymer chain having 1 to 10 polymer chains. In addition, when P 4 is a monovalent polymer chain having repeating units and k is 2 or more, the average number of vinyl compound-derived repeating units in k P 4 is 2 to 20 ( The number is preferably 2 to 15, more preferably 2 to 10. When P 4 is a monovalent polymer chain having repeating units, the number of repeating units and the average value of the number of repeating units can be determined by nuclear magnetic resonance (NMR).
  • NMR nuclear magnetic resonance
  • examples of the repeating unit constituting P 4 include other repeating units explained in explaining the embodiment of the dye multimer (A) mentioned above. . It is preferable that the other repeating unit has one or more types selected from the above-mentioned repeating unit having an acid group and repeating unit having a polymerizable group.
  • the proportion of the repeating unit containing an acid group is preferably 10 to 80 mol%, and 10 to 65 mol%, based on the total repeating units of P 4 . is more preferable.
  • the proportion of the repeating unit having a polymerizable group is preferably 10 to 80 mol%, and 10 to 65 mol%, based on the total repeating units of P 4 . % is more preferable.
  • substituent T examples include the following groups.
  • Halogen atom e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom
  • alkyl group preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • alkenyl group preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • alkynyl group preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an aryl group preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms
  • an amino group preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms
  • an alkoxy group preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms
  • 1 to 30 alkoxy groups aryloxy groups (preferably aryloxy groups having 6 to 30 carbon atoms), heteroaryloxy groups
  • acyl groups preferably acyl groups having 2 to 30 carbon atoms
  • alkoxycarbonyl groups preferably is an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon
  • atoms or atomic groups constituting the salts include alkali metal ions (Li + , Na + , K + , etc.), alkaline earth metal ions ( Ca 2+ , Mg 2+ , etc.), ammonium ions (tetraalkylammonium ions, trialkylammonium ions, etc.), imidazolium ions, pyridinium ions (pyridinium ions, N-methylpyridinium ions, N-ethylpyridinium ions, etc.), phosphonium ions, etc. can be mentioned.
  • These groups may further have a substituent when the group is a substitutable group. Examples of the substituent include the groups described above for the substituent T.
  • anion-containing group examples include a group represented by formula (P-1) and a group represented by formula (P-2).
  • Lp 1 in formula (P-1) represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group represented by Lp 1 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, -NR Lp1 -, -O-, -S-, -CO-, -SO 2 - Or a group consisting of a combination thereof, etc. can be mentioned.
  • At least some of the hydrogen atoms in the alkylene group are preferably substituted with fluorine atoms, and more preferably a perfluoroalkylene group.
  • alkylene groups include difluoromethylene groups, tetrafluoroethylene groups, hexafluoropropylene groups, and the like. It is preferable that at least some of the hydrogen atoms of the arylene group are substituted with fluorine atoms.
  • Specific examples of such an arylene group include a tetrafluorophenylene group, a hexafluoro-1-naphthylene group, a hexafluoro-2-naphthylene group, and the like.
  • Lp 1 in formula (P-1) is a single bond, a group consisting of a combination of -NR Lp1 -, -SO 2 and an alkylene group containing a fluorine atom, or a combination of -O- and an arylene group containing a fluorine atom. or a group consisting of a combination of -NR Lp1 -, -SO 2 and an alkylene group containing a fluorine atom.
  • Xp 1 in formula (P-1) represents -SO 3 - , -COO - , -PO 4 H - or an anion containing a boron atom, and is preferably -SO 3 - or -COO - .
  • Lp 2 in formula (P-2) represents a single bond or a divalent linking group, and is preferably a single bond.
  • Examples of the divalent linking group represented by Lp 2 include an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, -O-, -S-, or a group consisting of a combination thereof.
  • Lp 3 in formula (P-2) represents -SO 2 - or -CO-, and preferably -SO 2 -.
  • G in formula (P-2) represents a carbon atom or a nitrogen atom, and is preferably a nitrogen atom.
  • n in formula (P-2) represents 2 when G is a carbon atom, and represents 1 when G is a nitrogen atom.
  • Rp 1 in formula (P-2) represents an alkyl group containing a fluorine atom or an aryl group containing a fluorine atom.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group containing a fluorine atom represented by Rp 1 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 3.
  • the number of carbon atoms in the fluorine atom-containing aryl group represented by Rp 1 is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 14, and even more preferably 6 to 10.
  • the alkyl group containing a fluorine atom and the aryl group containing a fluorine atom may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed above for the substituent T.
  • the LUMO (Lowest Unoccupied Molecular Orbital) level of the dye A1 is high.
  • the LUMO level of the dye A1 is preferably ⁇ 6.5 eV or higher, more preferably ⁇ 6.0 eV or higher, and still more preferably ⁇ 5.5 eV or higher.
  • the LUMO level of the dye A1 is determined by, for example, optimizing the structure of the cation moiety of the dye A1 using the quantum chemical calculation program Gaussian09 under conditions of functional B3LYP/basis set 6-31g(d)/vacuum. It can be determined by performing calculations.
  • Specific examples of specific infrared absorbing dyes include compounds having the structures shown below. Resonance structures of these compounds are also mentioned as specific examples of specific compounds. In the structural formula shown below, Bu represents a butyl group and Ph represents a phenyl group.
  • the compound represented by formula (4) can be synthesized using a known method according to the following synthesis scheme, for example.
  • the types and amounts of the solvent, catalyst, and reagent used, as well as synthesis conditions such as reaction time and reaction temperature, can be adjusted as appropriate.
  • Compound 4A is reacted with a brominating agent such as N-bromosuccinimide (NBS) to provide compound 4B. Thereafter, bispinacolborane is reacted in the presence of a palladium catalyst to obtain 4C in which bromine is replaced with boron.
  • the bromine moiety of Compound 4D synthesized by a known method is lithiated with alkyllithium, and then reacted with a dichlorosilicon compound to obtain Compound 4E.
  • Compound 4E is reacted with an alkyllithium and then reacted with 1,2-dibromo-1,1,2,2,-tetrachloroethane to obtain compound 4F.
  • Compound 4C and Compound 4F are reacted in the presence of a palladium catalyst (Suzuki-Miyaura reaction conditions) to obtain Compound 4G.
  • Compound 4G is reacted under acidic conditions to deprotect the acetal moiety, and compound 4H is synthesized.
  • Compound 4I is obtained by reacting Compound 4H with a Grignard reagent. Thereafter, a reaction is performed under acidic conditions to obtain compound 4J.
  • a salt compound having the desired anion By reacting Compound 4J with a salt compound having the desired anion, a compound represented by formula (4) in which the chloride anion is replaced with the desired anion can be obtained.
  • the compound represented by formula (5) can be synthesized in the same manner except for using thionyl chloride instead of the dichlorosilicon compound in the compound 4E synthesis step in the synthesis of the compound represented by formula (4).
  • a compound represented by formula (5) can be synthesized using the formula (5).
  • the maximum absorption wavelength of the specific infrared absorbing dye is preferably in a wavelength range of 700 to 1800 nm, more preferably in a wavelength range of 1000 to 1800 nm, and even more preferably in a wavelength range of 1030 to 1750 nm. , it is even more preferable that the wavelength be in the range of 1050 to 1700 nm, and still more preferably be in the wavelength range of 1070 to 1650 nm.
  • the ratio of the absorbance A max at the maximum absorption wavelength of the specific infrared absorbing dye to the absorbance A max +200 at the maximum absorption wavelength + 200 nm, A max + 200 /A max is preferably 4.5 or more, and preferably 10 or more. is more preferable, and even more preferably 30 or more.
  • the upper limit is preferably 90 or less, for example. According to this aspect, it is possible to form an optical filter with excellent contrast between infrared transmittance and light blocking performance.
  • the content of the specific infrared absorbing dye is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more based on the total solid content of the resin composition.
  • the upper limit of the content of the specific infrared absorbing dye is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less.
  • the resin composition may contain only one type of specific infrared absorbing dye, or may contain two or more types. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain an infrared absorber (another infrared absorber) other than the above-mentioned specific infrared absorbing dye. Furthermore, by containing other infrared absorbers, it is possible to form a film that can block infrared rays in a wider wavelength range.
  • Other infrared absorbers may be dyes or pigments.
  • the maximum absorption wavelength of the other infrared absorbent is preferably within a wavelength range of 700 to 1800 nm, more preferably within a wavelength range of 1000 to 1800 nm, and even more preferably within a wavelength range of 1030 to 1750 nm.
  • the wavelength range is from 1050 to 1700 nm, even more preferably from 1070 to 1650 nm.
  • the maximum absorption wavelength of the other infrared absorbing agent is preferably on the shorter wavelength side than the maximum absorption wavelength of the above-mentioned specific infrared absorbing dye.
  • the difference between the maximum absorption wavelength of other infrared absorbers and the maximum absorption wavelength of the above-mentioned specific infrared absorbing dye is 50 to 1000 nm because it is possible to form a film that can block infrared rays in a wider wavelength range. It is preferable that there be.
  • the upper limit is preferably 800 nm or less, more preferably 500 nm or less.
  • the lower limit is preferably 100 nm or more, more preferably 150 nm or more.
  • infrared absorbers include pyrrolopyrrole compounds, polymethine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonol compounds, iminium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, and pyrromethene compounds. , azomethine compounds, anthraquinone compounds, dibenzofuranone compounds, dithiolene metal complexes, metal oxides, metal borides, and the like. As other infrared absorbers, polymethine compounds, squarylium compounds, and oxonol compounds are preferably used.
  • These compounds generally tend to have low heat resistance and light resistance, but by using them together with the above-mentioned specific infrared-absorbing dyes, they can be adsorbed to the aggregates of the above-mentioned specific infrared-absorbing dyes during film formation. It is presumed that the specific infrared absorbing dye forms an association with the specific infrared absorbing dye, and it is possible to form a film with excellent light resistance and heat resistance, so that the effects of the present invention are more significantly exhibited.
  • Examples of pyrrolopyrrole compounds include compounds described in paragraph numbers 0016 to 0058 of JP2009-263614A, compounds described in paragraphs 0037 to 0052 of JP2011-068731A, and compounds described in WO2015/166873A. Examples include compounds described in paragraph numbers 0010 to 0033. Examples of squarylium compounds include compounds described in paragraph numbers 0044 to 0049 of JP-A No. 2011-208101, compounds described in paragraph numbers 0060 to 0061 of Japanese Patent No. 6065169, and paragraph number 0040 of International Publication No. 2016/181987.
  • 2012-077153 oxytitanium phthalocyanine described in JP-A 2006-343631, and paragraphs 0013 to 0029 of JP-A 2013-195480.
  • the vanadium phthalocyanine compound described in Patent No. 6081771 and the compound described in International Publication No. 2020/071470.
  • naphthalocyanine compounds include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A No. 2012-077153.
  • dithiolene metal complex include compounds described in Japanese Patent No. 5733804.
  • metal oxide examples include indium tin oxide, antimony tin oxide, zinc oxide, Al-doped zinc oxide, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, and tungsten oxide.
  • metal borides include lanthanum boride.
  • Commercially available lanthanum boride products include LaB 6 -F (manufactured by Nippon Shinkinzoku Co., Ltd.).
  • a metal boride the compound described in International Publication No. 2017/119394 can also be used.
  • commercially available indium tin oxide products include F-ITO (manufactured by DOWA Hitech Co., Ltd.).
  • infrared absorbers include squarylium compounds described in JP2017-197437A, squarylium compounds described in JP2017-025311A, squarylium compounds described in International Publication No. 2016/154782, and Japanese Patent No. 5884953.
  • Linked squarylium compounds compounds having a pyrrole bis-type squarylium skeleton or croconium skeleton described in JP 2017-141215, dihydrocarbazole bis-type squarylium compounds described in JP 2017-082029, JP 2017-068120 Asymmetric compounds described in paragraph numbers 0027 to 0114 of the publication, pyrrole ring-containing compounds (carbazole type) described in JP 2017-067963, phthalocyanine compounds described in Patent No. 6251530, etc. are used. You can also do that.
  • tungsten oxide represented by the following formula described in paragraph number 0025 of European Patent No. 3,628,645 can also be used.
  • M 1 and M 2 represent ammonium cations or metal cations, a is 0.01 to 0.5, b is 0 to 0.5, c is 1, and d is 2.5 to 3.
  • e is 0.01 to 0.75, n is 1, 2 or 3, m is 1, 2 or 3, and R represents a hydrocarbon group which may have a substituent. represent.
  • the content of the other infrared absorbing agent is preferably 5 to 500 parts by mass based on 100 parts by mass of the above-mentioned specific infrared absorbing dye.
  • the upper limit is preferably 200 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 15 parts by mass or more.
  • the total content of the above-mentioned specific infrared absorbing dye and other infrared absorbing agent is preferably 2% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and 10% by mass or more based on the total solid content of the resin composition. More preferably, it is at least % by mass.
  • the upper limit of the total content is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less.
  • the resin composition of the present invention contains a resin.
  • the resin is blended, for example, for dispersing pigments and the like in a resin composition or for use as a binder.
  • a resin used mainly for dispersing pigments and the like in a resin composition is also referred to as a dispersant.
  • this use of the resin is just one example, and the resin can also be used for purposes other than this use.
  • the weight average molecular weight of the resin is preferably 3,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 4000 or more, more preferably 5000 or more.
  • resins include (meth)acrylic resin, epoxy resin, ene thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin, Examples include polyamide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, vinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, and polyurea resin. One type of these resins may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • norbornene resin is preferable from the viewpoint of improving heat resistance.
  • Commercially available norbornene resins include, for example, the ARTON series manufactured by JSR Corporation (eg, ARTON F4520).
  • the resins include the resin described in the examples of International Publication No. 2016/088645, the resin described in JP 2017-057265, the resin described in JP 2017-032685, and the resin described in JP 2017-032685.
  • a resin having a fluorene skeleton can also be preferably used.
  • the description in US Patent Application Publication No. 2017/0102610 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • examples of the resin include resins described in paragraphs 0199 to 0233 of JP2020-186373A, alkali-soluble resins described in JP2020-186325A, and Korean Patent Publication No. 10-2020-0078339.
  • the resin represented by Formula 1, the resin described in JP-A No. 2021-134350, can also be used.
  • a resin having acid groups examples include a carboxy group, a phosphoric acid group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group. The number of these acid groups may be one, or two or more.
  • a resin having an acid group can also be used as a dispersant.
  • the acid value of the resin having acid groups is preferably 30 to 500 mgKOH/g.
  • the lower limit is preferably 50 mgKOH/g or more, more preferably 70 mgKOH/g or more.
  • the upper limit is preferably 400 mgKOH/g or less, more preferably 200 mgKOH/g or less, even more preferably 150 mgKOH/g or less, and most preferably 120 mgKOH/g or less.
  • a resin containing a repeating unit derived from a compound represented by formula (ED1) and/or a compound represented by formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as "ether dimer") is used. It is also preferable to include.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description in JP-A No. 2010-168539 can be referred to.
  • paragraph number 0317 of JP-A-2013-029760 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin it is also preferable to use a resin having a polymerizable group.
  • the polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group and a cyclic ether group, and more preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group
  • n represents an integer of 0 to 15.
  • the alkylene group represented by R 21 and R 22 preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, even more preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly 2 or 3 carbon atoms.
  • n represents an integer of 0 to 15, preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 4, even more preferably an integer of 0 to 3.
  • Examples of the compound represented by formula (X) include ethylene oxide- or propylene oxide-modified (meth)acrylate of paracumylphenol.
  • Commercially available products include Aronix M-110 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the resin composition of the present invention preferably contains a resin as a dispersant.
  • the dispersant include acidic dispersants (acidic resins) and basic dispersants (basic resins).
  • the acidic dispersant (acidic resin) refers to a resin in which the amount of acid groups is greater than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a resin in which the amount of acid groups is 70 mol % or more when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol %.
  • the acid group that the acidic dispersant (acidic resin) has is preferably a carboxy group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 10 to 105 mgKOH/g.
  • the basic dispersant refers to a resin in which the amount of basic groups is greater than the amount of acid groups.
  • the basic dispersant (basic resin) is preferably a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol% when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol%.
  • the basic group that the basic dispersant has is preferably an amino group.
  • the resin used as a dispersant is a graft resin.
  • the descriptions in paragraphs 0025 to 0094 of JP-A No. 2012-255128 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin used as a dispersant is a polyimine-based dispersant containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
  • the polyimine dispersant has a main chain having a partial structure having a functional group with a pKa of 14 or less, a side chain having 40 to 10,000 atoms, and a basic nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
  • the resin has The basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it exhibits basicity.
  • the resin used as the dispersant has a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to the core portion.
  • resins include dendrimers (including star-shaped polymers).
  • specific examples of dendrimers include polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraph numbers 0196 to 0209 of JP-A No. 2013-043962.
  • the resin used as a dispersant is also preferably a resin containing a repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in its side chain.
  • the content of the repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in its side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 10 to 80 mol%, and more preferably 20 to 70 mol% of the total repeating units of the resin. More preferably, it is mol%.
  • resins described in JP 2018-087939, block copolymers (EB-1) to (EB-9) described in paragraph numbers 0219 to 0221 of Patent No. 6432077, and international publication Polyethyleneimine having a polyester side chain described in No. 2016/104803, block copolymer described in International Publication No. 2019/125940, block polymer having an acrylamide structural unit described in JP 2020-066687, A block polymer having an acrylamide structural unit described in JP-A No. 2020-066688, a dispersant described in International Publication No. 2016/104803, etc. can also be used.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples include the DISPERBYK series manufactured by BYK Chemie, the SOLSPERSE series manufactured by Japan Lubrizol, the Efka series manufactured by BASF, and Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. Examples include the Ajisper series manufactured by Manufacturer. Further, the product described in paragraph number 0129 of JP 2012-137564A and the product described in paragraph number 0235 of JP 2017-194662A can also be used as a dispersant.
  • the content of the resin in the total solid content of the resin composition is preferably 1 to 95% by mass.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, even more preferably 7% by mass or more, and particularly preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 90% by mass or less, more preferably 85% by mass or less.
  • the content of the resin in the total solid content of the resin composition is preferably 1 to 75% by mass.
  • the upper limit is preferably 70% by mass or less, more preferably 65% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, even more preferably 7% by mass or more, and particularly preferably 10% by mass or more.
  • the content of the resin as a dispersant in the total solid content of the resin composition is preferably 0.1 to 40% by mass.
  • the upper limit is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
  • the content of the resin as a dispersant is preferably 1 to 200 parts by weight per 100 parts by weight of the pigment.
  • the upper limit is preferably 150 parts by mass or less, more preferably 125 parts by mass or less, and even more preferably 100 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 2.5 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more, and even more preferably 10 parts by mass or more.
  • the resin composition of the present invention may contain only one type of resin, or may contain two or more types of resin. When two or more types of resin are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the resin composition of the present invention contains a solvent.
  • the solvent include water and organic solvents, with organic solvents being preferred.
  • the organic solvent include ester solvents, ketone solvents, alcohol solvents, amide solvents, ether solvents, and hydrocarbon solvents.
  • paragraph number 0223 of International Publication No. 2015/166779 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • Ester solvents substituted with a cyclic alkyl group and ketone solvents substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • organic solvents include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -Heptanone, 2-pentanone, 3-pentanone, 4-heptanone, cyclohexanone, 2-methylcyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol Acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N
  • aromatic hydrocarbons benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.
  • organic solvents for environmental reasons (for example, 50 mass ppm (parts) based on the total amount of organic solvents). per million), 10 mass ppm or less, and 1 mass ppm or less).
  • an organic solvent with a low metal content it is preferable to use an organic solvent with a low metal content, and the metal content of the organic solvent is preferably 10 mass ppb (parts per billion) or less, for example. If necessary, an organic solvent at a mass ppt (parts per trillion) level may be used, and such an organic solvent is provided by Toyo Gosei Co., Ltd. (Kagaku Kogyo Nippo, November 13, 2015).
  • Examples of methods for removing impurities such as metals from organic solvents include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene, or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds with the same number of atoms but different structures). Moreover, only one type of isomer may be included, or multiple types may be included.
  • the content of peroxide in the organic solvent is 0.8 mmol/L or less, and it is more preferable that the organic solvent contains substantially no peroxide.
  • the content of the solvent in the resin composition is preferably 10 to 97% by mass.
  • the lower limit is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, even more preferably 50% by mass or more, even more preferably 60% by mass or more, and 70% by mass. It is particularly preferable that it is above.
  • the upper limit is preferably 96% by mass or less, more preferably 95% by mass or less.
  • the composition may contain only one kind of solvent, or may contain two or more kinds. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the resin composition of the present invention can further contain a pigment derivative.
  • Pigment derivatives are used as dispersion aids.
  • Examples of pigment derivatives include compounds having a structure in which an acid group or a basic group is bonded to a pigment skeleton.
  • the pigment skeletons constituting the pigment derivatives include squarylium pigment skeleton, pyrrolopyrrole pigment skeleton, diketopyrrolopyrrole pigment skeleton, quinacridone pigment skeleton, anthraquinone pigment skeleton, dianthraquinone pigment skeleton, benzisoindole pigment skeleton, and thiazine indigo pigment skeleton.
  • azo dye skeleton quinophthalone dye skeleton, phthalocyanine dye skeleton, naphthalocyanine dye skeleton, dioxazine dye skeleton, perylene dye skeleton, perinone dye skeleton, benzimidazolone dye skeleton, benzothiazole dye skeleton, benzimidazole dye skeleton and benzoxazole dye skeleton can be mentioned.
  • Examples of the acid group include a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, a carboxylic acid amide group, a sulfonic acid amide group, an imide acid group, and salts thereof.
  • Atoms or atomic groups constituting the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K + , etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+ , etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, Examples include phosphonium ions.
  • As the carboxylic acid amide group a group represented by -NHCOR A1 is preferable.
  • a group represented by -NHSO 2 R A2 is preferable.
  • the imide acid group is preferably a group represented by -SO 2 NHSO 2 R A3 , -CONHSO 2 R A4 , -CONHCOR A5 or -SO 2 NHCOR A6 , and -SO 2 NHSO 2 R A3 is more preferred.
  • R A1 to R A6 each independently represent an alkyl group or an aryl group.
  • the alkyl group and aryl group represented by R A1 to R A6 may have a substituent.
  • the substituent is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • Examples of the basic group include an amino group, a pyridinyl group and its salts, an ammonium group salt, and a phthalimidomethyl group.
  • Examples of atoms or atomic groups constituting the salt include hydroxide ions, halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, and phenoxide ions.
  • pigment derivatives include compounds described in Examples below.
  • Compounds described in JP-A-10-195326, paragraph numbers 0086 to 0098 of International Publication No. 2011/024896, and paragraph numbers 0063 to 0094 of International Publication No. 2012/102399 are also included, and the contents of these are incorporated herein by reference. be incorporated into.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the pigment.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less. Only one type of pigment derivative may be used, or two or more types may be used. When two or more types are used, it is preferable that the total amount falls within the above range.
  • the resin composition of the present invention can further contain a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound include a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, a compound having a cyclic ether group, a compound having a methylol group, a compound having an alkoxymethyl group, and the like.
  • the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a (meth)allyl group, a (meth)acryloyl group, and the like.
  • the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group. It is also preferable that the polymerizable compound is a radically polymerizable compound.
  • the radically polymerizable compound include compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the polymerizable compound may be in any chemical form such as a monomer, prepolymer, or oligomer, but monomers are preferred.
  • the molecular weight of the monomer-type polymerizable compound is preferably less than 2,000, more preferably 1,500 or less.
  • the lower limit of the molecular weight of the polymerizable monomer is preferably 100 or more, more preferably 200 or more.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group as a polymerizable monomer is preferably a 3- to 15-functional (meth)acrylate compound, more preferably a 3- to 6-functional (meth)acrylate compound.
  • Specific examples include paragraph numbers 0095 to 0108 of JP 2009-288705, paragraph 0227 of JP 2013-029760, paragraph 0254 to 0257 of JP 2008-292970, and JP 2013-253224. Described in paragraph numbers 0034 to 0038 of the publication, paragraph number 0477 of JP 2012-208494, JP 2017-048367, JP 6057891, JP 6031807, JP 2017-194662. , the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group include dipentaerythritol tri(meth)acrylate (commercially available product: KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetra(meth)acrylate (commercially available)
  • Examples of commercially available products include KAYARAD D-320 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol penta(meth)acrylate (commercially available products are KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and dipentaerythritol hexa (meth) ) acrylate (commercially available products are KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.; NK ester A-DPH-12E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), and the (meth)acryloyl group
  • diglycerin EO (ethylene oxide) modified (meth)acrylate commercially available product is M-460; manufactured by Toagosei
  • pentaerythritol tetraacrylate Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • NK ester A-TMMT 1,6-hexanediol diacrylate
  • RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Aronix TO-2349 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • NK Oligo UA-7200 Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • 8UH-1006, 8UH-1012 Taisei Fine Chemical Co., Ltd.
  • Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolpropanepropylene oxide-modified tri(meth)acrylate, trimethylolpropaneethylene oxide-modified tri(meth)acrylate, and isocyanuric acid ethylene oxide-modified tri(meth)acrylate. It is also preferable to use trifunctional (meth)acrylate compounds such as (meth)acrylate and pentaerythritol tri(meth)acrylate. Commercially available trifunctional (meth)acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, M-305.
  • M-303, M-452, M-450 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester A9300, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A -TMM-3LM-N, A-TMPT, TMPT (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), KAYARAD GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330, PET-30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Examples include.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group may further have an acid group such as a carboxy group, a sulfo group, or a phosphoric acid group.
  • an acid group such as a carboxy group, a sulfo group, or a phosphoric acid group.
  • Commercially available products of such compounds include Aronix M-305, M-510, M-520, Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and the like.
  • a compound having a caprolactone structure can also be used.
  • the description in paragraphs 0042 to 0045 of JP-A No. 2013-253224 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of compounds having a caprolactone structure include DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, and DPCA-120, which are commercially available as a series from Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an alkyleneoxy group can also be used.
  • Such a compound is preferably a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an ethyleneoxy group and/or a propyleneoxy group, and preferably a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an ethyleneoxy group. More preferably, it is a 3- to 6-functional (meth)acrylate compound having 4 to 20 ethyleneoxy groups.
  • SR-494 a tetrafunctional (meth)acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartomer, and trifunctional (meth)acrylate having three isobutyleneoxy groups manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • examples include KAYARAD TPA-330.
  • a polymerizable compound having a fluorene skeleton can also be used.
  • Commercially available products include Ogsol EA-0200 and EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., (meth)acrylate monomer having a fluorene skeleton).
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group it is also preferable to use a compound substantially free of environmentally regulated substances such as toluene.
  • Commercially available products of such compounds include KAYARAD DPHA LT, KAYARAD DPEA-12 LT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and the like.
  • Examples of the compound having a cyclic ether group include a compound having an epoxy group, a compound having an oxetanyl group, etc., and a compound having an epoxy group is preferable.
  • Examples of compounds having epoxy groups include compounds having 1 to 100 epoxy groups in one molecule.
  • the upper limit of the number of epoxy groups can be, for example, 10 or less, or 5 or less.
  • the lower limit of the number of epoxy groups is preferably 2 or more.
  • the compound having a cyclic ether group may be a low molecular compound (for example, molecular weight less than 1000) or a macromolecule (for example, molecular weight 1000 or more, in the case of a polymer, the weight average molecular weight is 1000 or more).
  • the weight average molecular weight of the cyclic ether group is preferably 200 to 100,000, more preferably 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5,000 or less, and even more preferably 3,000 or less.
  • Examples of compounds having a cyclic ether group include compounds described in paragraph numbers 0034 to 0036 of JP-A No. 2013-011869, compounds described in paragraph numbers 0147 to 0156 of JP-A-2014-043556, and JP-A No. 2014. Compounds described in paragraph numbers 0085 to 0092 of JP-A-089408 and compounds described in JP-A-2017-179172 can also be used.
  • Examples of compounds having a methylol group include compounds in which a methylol group is bonded to a nitrogen atom or a carbon atom forming an aromatic ring.
  • Examples of compounds having an alkoxymethyl group include compounds in which an alkoxymethyl group is bonded to a nitrogen atom or a carbon atom forming an aromatic ring.
  • Compounds in which an alkoxymethyl group or a methylol group is bonded to a nitrogen atom include alkoxymethylated melamine, methylolated melamine, alkoxymethylated benzoguanamine, methylolated benzoguanamine, alkoxymethylated glycoluril, methylolated glycoluril, alkoxymethylated Preferred are urea and methylolated urea. Further, compounds described in paragraphs 0134 to 0147 of JP-A No. 2004-295116 and paragraphs 0095 to 0126 of JP-A No. 2014-089408 can also be used.
  • the content of the polymerizable compound in the total solid content of the resin composition is preferably 0.1 to 50% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and even more preferably 3% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, and even more preferably 25% by mass or less.
  • the resin composition of the present invention may contain only one kind of polymerizable compound, or may contain two or more kinds of polymerizable compounds. When two or more types of polymerizable compounds are included, it is preferable that the total amount thereof falls within the above range.
  • the resin composition of the present invention contains a polymerizable compound
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, compounds having photosensitivity to light in the ultraviolet to visible range are preferred.
  • the photopolymerization initiator is preferably a radical photopolymerization initiator.
  • photopolymerization initiators include halogenated hydrocarbon derivatives (e.g., compounds with a triazine skeleton, compounds with an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, and the like.
  • halogenated hydrocarbon derivatives e.g., compounds with a triazine skeleton, compounds with an oxadiazole skeleton, etc.
  • acylphosphine compounds e.g., acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, and the like.
  • photopolymerization initiators include trihalomethyltriazine compounds, benzyl dimethyl ketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, and hexaarylbylene compounds.
  • imidazole compounds onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyloxadiazole compounds and 3-aryl substituted coumarin compounds, oxime compounds, ⁇ -hydroxyketones
  • the compound is more preferably a compound selected from a compound, an ⁇ -aminoketone compound, and an acylphosphine compound, and even more preferably an oxime compound.
  • photopolymerization initiators compounds described in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173, compounds described in Japanese Patent No. 6301489, MATERIAL STAGE 37 to 60p, vol. 19, No.
  • hexaarylbiimidazole compounds include 2,2',4-tris(2-chlorophenyl)-5-(3,4-dimethoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1,1'-biimidazole, etc. can be mentioned.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 184, and Irgacure 1. 173, Irgacure 2959, Irgacure 127 (all BASF (manufactured by a company).
  • Commercially available ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 907, and Irgacure.
  • acylphosphine compounds include Omnirad 819, Omnirad TPO (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 819, Irgacure TPO (manufactured by BASF), and the like.
  • Examples of oxime compounds include the compounds described in JP-A No. 2001-233842, the compounds described in JP-A No. 2000-080068, the compounds described in JP-A No. 2006-342166, and the compounds described in J. C. S. Perkin II (1979, pp. 1653-1660); C. S. Perkin II (1979, pp. 156-162), Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp. 202-232), JP-A-2000 - Compounds described in Publication No. 066385, Compounds described in Japanese Patent Publication No. 2004-534797, compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 2006-342166, compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 2017-019766, compounds described in Japanese Patent No.
  • oxime compounds include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-(4-toluenesulfonyloxy)iminobutan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxyimino -1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(phenylthio)phenyl]-3-cyclohexyl-propane-1,2-dione-2-(O-acetyloxime), and the like.
  • an oxime compound having a fluorene ring can also be used.
  • oxime compounds having a fluorene ring include compounds described in JP-A No. 2014-137466, compounds described in Japanese Patent No. 6636081, compounds described in Korean Patent Publication No. 10-2016-0109444, and Examples include fluorenylaminoketone photoinitiators described in Table 2020-507664 and oxime ester compounds described in International Publication No. 2021/023144.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of the carbazole ring is a naphthalene ring is also possible.
  • Specific examples of such oxime compounds include compounds described in International Publication No. 2013/083505.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used as a photopolymerization initiator.
  • oxime compounds having a fluorine atom include compounds described in JP-A No. 2010-262028, compounds 24, 36 to 40 described in Japanese Patent Application Publication No. 2014-500852, and compounds described in JP-A No. 2013-164471. Examples include compound (C-3).
  • an oxime compound having a nitro group can be used as the photopolymerization initiator. It is also preferable that the oxime compound having a nitro group is in the form of a dimer.
  • Specific examples of oxime compounds having a nitro group include compounds described in paragraph numbers 0031 to 0047 of JP 2013-114249, paragraphs 0008 to 0012, and 0070 to 0079 of JP 2014-137466, Examples include compounds described in paragraph numbers 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071, and Adeka Arcles NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in International Publication No. 2015/036910.
  • photopolymerization initiator it is also possible to use an oxime compound in which a substituent having a hydroxy group is bonded to a carbazole skeleton.
  • photopolymerization initiators include compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • oxime compounds preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 350 to 500 nm, more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or 405 nm is preferably high, more preferably from 1000 to 300,000, even more preferably from 2000 to 300,000, and even more preferably from 5000 to 200,000. It is particularly preferable that there be.
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) using an ethyl acetate solvent at a concentration of 0.01 g/L.
  • a difunctional, trifunctional or more functional photoradical polymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator two or more radicals are generated from one molecule of the radical photopolymerization initiator, so that good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity decreases and the solubility in solvents improves, making it difficult to precipitate over time, thereby improving the stability of the resin composition over time.
  • Specific examples of bifunctional or trifunctional or more functional photoradical polymerization initiators include those listed in Japanese Patent Publication No. 2010-527339, Japanese Patent Publication No. 2011-524436, International Publication No.
  • the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 40% by weight, more preferably 0.5 to 35% by weight, and even more preferably 1 to 30% by weight based on the total solid content of the resin composition.
  • the resin composition may contain only one type of photopolymerization initiator, or may contain two or more types of photopolymerization initiators. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the resin composition of the present invention contains a compound having a cyclic ether group, it is preferable that it further contains a curing agent.
  • the curing agent include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, phenol compounds, polyhydric carboxylic acids, and thiol compounds.
  • Specific examples of the curing agent include succinic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, N,N-dimethyl-4-aminopyridine, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), and the like.
  • the curing agent compounds described in paragraph numbers 0072 to 0078 of JP-A No. 2016-075720 and compounds described in JP-A No.
  • the content of the curing agent is preferably 0.01 to 20 parts by weight, more preferably 0.01 to 10 parts by weight, and 0.1 to 6.0 parts by weight per 100 parts by weight of the compound having a cyclic ether group. is even more preferable.
  • the resin composition of the present invention can contain a chromatic colorant.
  • a chromatic colorant means a colorant other than a white colorant and a black colorant.
  • the chromatic colorant is preferably a colorant having absorption in a wavelength range of 400 nm or more and less than 650 nm.
  • Chromatic colorants include red colorants, green colorants, blue colorants, yellow colorants, purple colorants, and orange colorants.
  • the chromatic colorant may be a pigment or a dye.
  • a pigment and a dye may be used together.
  • the pigment may be either an inorganic pigment or an organic pigment.
  • an inorganic pigment or an organic-inorganic pigment partially substituted with an organic chromophore can also be used. By replacing inorganic pigments or organic-inorganic pigments with organic chromophores, hue design can be facilitated.
  • the average primary particle diameter of the pigment is preferably 1 to 200 nm.
  • the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.
  • the upper limit is preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less, and even more preferably 100 nm or less.
  • the average primary particle diameter of the pigment can be determined from a photograph obtained by observing the primary particles of the pigment using a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the primary particles of the pigment is determined, and the corresponding circular equivalent diameter is calculated as the primary particle diameter of the pigment.
  • the average primary particle diameter in the present invention is the arithmetic mean value of the primary particle diameters of 400 pigment primary particles.
  • the primary particles of pigment refer to independent particles without agglomeration.
  • the crystallite size determined from the half-width of the peak derived from any crystal plane in the X-ray diffraction spectrum when the CuK ⁇ ray of the pigment is used as the X-ray source is preferably 0.1 nm to 100 nm, and preferably 0.1 nm to 100 nm.
  • the thickness is more preferably 5 nm to 50 nm, even more preferably 1 nm to 30 nm, and particularly preferably 5 nm to 25 nm.
  • the specific surface area of the pigment is preferably 1 to 300 m 2 /g.
  • the lower limit is preferably 10 m 2 /g or more, more preferably 30 m 2 /g or more.
  • the upper limit is preferably 250 m 2 /g or less, more preferably 200 m 2 /g or less.
  • the value of the specific surface area is determined according to DIN 66131: determination of the specific surface area of solids by gas adsorption according to the BET (Brunauer, Emmett and Teller) method. Determination of specific surface area of solids by adsorption).
  • the chromatic colorant preferably contains a pigment.
  • the content of pigment in the chromatic colorant is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, even more preferably 80% by mass or more, and even more preferably 90% by mass or more. It is particularly preferable. Examples of pigments include those shown below.
  • red pigments C. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58, 59, 62, 63, 64 (phthalocyanine type), 65 (phthalocyanine type), 66 (phthalocyanine type), etc.
  • green pigments C. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, 60 (triarylmethane type), 61 (xanthene type), etc.
  • purple pigments C. I. Pigment Blue 1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,29,60,64,66,79,80,87 (monoazo type), 88 (methine type), etc. (the above are blue pigments).
  • halogenated zinc phthalocyanine pigments have an average number of halogen atoms in one molecule of 10 to 14, an average number of bromine atoms of 8 to 12, and an average of 2 to 5 chlorine atoms. You can also use Specific examples include compounds described in International Publication No. 2015/118720.
  • a green pigment a compound described in Chinese Patent Application No. 106909027, a phthalocyanine compound having a phosphoric acid ester as a ligand described in International Publication No. 2012/102395, a phthalocyanine compound described in JP-A No.
  • a phthalocyanine compound a phthalocyanine compound described in JP 2018-180023, a compound described in JP 2019-038958, a core-shell type dye described in JP 2020-076995, etc. can also be used.
  • an aluminum phthalocyanine compound having a phosphorus atom can also be used as the blue pigment.
  • Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0022 to 0030 of JP-A No. 2012-247591 and paragraph number 0047 of JP-A No. 2011-157478.
  • JP 2018-062644 The quinophthalone compound described in JP 2018-203798, the quinophthalone compound described in JP 2018-062578, and Japanese Patent No. 6432076.
  • red pigment As a red pigment, a diketopyrrolopyrrole compound in which at least one bromine atom is substituted in the structure described in JP 2017-201384, a diketopyrrolopyrrole compound described in paragraph numbers 0016 to 0022 of Patent No. 6248838, Diketopyrrolopyrrole compounds described in International Publication No. 2012/102399, diketopyrrolopyrrole compounds described in International Publication No. 2012/117965, naphthol azo compounds described in JP2012-229344A, Patent No. 6516119 Red pigment described in the publication, red pigment described in Patent No.
  • the descriptions in Japanese Patent No. 6561862, Japanese Patent No. 6413872, Japanese Patent No. 6281345, and Japanese Patent Application Laid-open No. 2020-026503 can be referred to. Incorporated herein.
  • the crystallite size in the plane direction corresponding to the maximum peak in the X-ray diffraction pattern among the eight planes ( ⁇ 1 ⁇ 1 ⁇ 1) of the crystal lattice planes is 140 ⁇ or less. It is also preferable to use one.
  • Dyes can also be used as chromatic colorants. There are no particular restrictions on the dye, and any known dye can be used. For example, pyrazole azo dyes, anilinoazo dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes, anthrapyridone dyes, benzylidene dyes, oxonol dyes, pyrazolotriazole azo dyes, pyridone azo dyes, cyanine dyes, and phenothiazines. Examples include pyrrolopyrazole azomethine dyes, xanthene dyes, phthalocyanine dyes, benzopyran dyes, indigo dyes, pyrromethene dyes, and the like.
  • Pigment multimers can also be used as chromatic colorants.
  • the dye multimer is preferably a dye that is dissolved in a solvent. Further, the dye multimer may form particles. When the dye multimer is in the form of particles, it is usually used in a state of being dispersed in a solvent.
  • the dye multimer in a particle state can be obtained, for example, by emulsion polymerization, and specific examples include the compound and manufacturing method described in JP-A No. 2015-214682.
  • the dye multimer has two or more dye structures in one molecule, and preferably has three or more dye structures. The upper limit is not particularly limited, but may be 100 or less.
  • the plurality of dye structures contained in one molecule may be the same dye structure or may be different dye structures.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the dye multimer is preferably 2,000 to 50,000.
  • the lower limit is more preferably 3,000 or more, and even more preferably 6,000 or more.
  • the upper limit is more preferably 30,000 or less, and even more preferably 20,000 or less.
  • Dye multimers are described in JP 2011-213925, JP 2013-041097, JP 2015-028144, JP 2015-030742, WO 2016/031442, etc. Compounds can also be used.
  • Chromatic colorants include triarylmethane dye polymers described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0028160, xanthene compounds described in JP 2020-117638, and International Publication No. 2020/174991.
  • phthalocyanine compounds, isoindoline compounds or their salts described in JP-A No. 2020-160279, compounds represented by formula 1 described in Korean Published Patent No. 10-2020-0069442, Korean Published Patent No. 10- Compounds represented by formula 1 described in Korean Publication No. 2020-0069730, compounds represented by formula 1 described in Korean Publication Patent No. 10-2020-0069070, and compounds represented by formula 1 described in Korean Publication Patent No. 10-2020-0069067. Compound represented by formula 1 described in Korean Patent Publication No.
  • halogenated zinc phthalocyanine pigment described in Patent No. 6809649, JP 2020-180176 Isoindoline compounds described in JP-A No. 2021-187913, phenothiazine compounds described in JP-A No. 2021-187913, halogenated zinc phthalocyanine described in International Publication No. 2022/004261, and halogenated compounds described in International Publication No. 2021/250883.
  • Zinc phthalocyanine can be used.
  • the other colorant may be a rotaxane, and the dye skeleton may be used in the cyclic structure of the rotaxane, in the rod-like structure, or in both structures.
  • the content of the chromatic colorant is preferably 1 to 50% by mass based on the total solid content of the resin composition of the present invention.
  • the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the resin composition of the present invention does not substantially contain a chromatic colorant.
  • the case where the resin composition of the present invention does not substantially contain a chromatic colorant means that the content of the chromatic colorant in the total solid content of the resin composition of the present invention is 0.5% by mass or less. It is preferably 0.1% by mass or less, and more preferably does not contain a chromatic colorant.
  • the resin composition of the present invention can also contain a coloring material that transmits infrared rays and blocks visible light (hereinafter also referred to as a coloring material that blocks visible light).
  • a resin composition containing a coloring material that blocks visible light is preferably used as a resin composition for forming an infrared transmission filter.
  • the coloring material that blocks visible light is preferably a coloring material that absorbs light in the wavelength range from violet to red. Further, the coloring material that blocks visible light is preferably a coloring material that blocks light in a wavelength range of 450 to 650 nm. Further, the coloring material that blocks visible light is preferably a coloring material that transmits light with a wavelength of 900 to 1500 nm.
  • the coloring material that blocks visible light preferably satisfies at least one of the following requirements (A) and (B).
  • B Contains an organic black colorant.
  • Examples of the chromatic colorant include those mentioned above.
  • Examples of the organic black colorant include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, and azo compounds, with bisbenzofuranone compounds and perylene compounds being preferred.
  • Examples of bisbenzofuranone compounds include compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 2010-534726, Japanese Patent Application Publication No. 2012-515233, and Japanese Patent Application Publication No. 2012-515234, and for example, as "Irgaphor Black" manufactured by BASF. available.
  • Examples of perylene compounds include compounds described in paragraph numbers 0016 to 0020 of JP-A No. 2017-226821, C.I. I. Pigment Black 31, 32, etc.
  • Examples of the azomethine compound include compounds described in JP-A-01-170601 and JP-A-02-034664, and are available as "Chromofine Black A1103" manufactured by Dainichiseika Kaisha, Ltd., for example.
  • examples of the combination of chromatic colorants include the following embodiments (1) to (8).
  • An embodiment containing a green colorant, a blue colorant, a purple colorant, and a red colorant An embodiment containing a green colorant, a blue colorant, a purple colorant, and a red colorant.
  • Embodiment containing a purple colorant and an orange colorant Embodiment containing a green colorant, a purple colorant, and a red colorant.
  • Embodiment containing a green colorant and a red colorant Embodiment containing a green colorant and a red colorant.
  • the content of the coloring material that blocks visible light is preferably 1 to 50% by mass based on the total solid content of the resin composition.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, even more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 30% by mass or more.
  • the resin composition of the present invention does not substantially contain a coloring material that blocks visible light.
  • a coloring material that blocks visible light means that the content of the colorant that blocks visible light in the total solid content of the resin composition of the present invention is This means 0.5% by mass or less, preferably 0.1% by mass or less, and more preferably no coloring material that blocks visible light.
  • the resin composition of the present invention contains a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as fluorine surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants, and silicone surfactants can be used.
  • the surfactant is preferably a silicone surfactant or a fluorine surfactant. Examples of the surfactant include the surfactants described in paragraph numbers 0238 to 0245 of International Publication No. 2015/166779, the contents of which are incorporated herein.
  • fluorine-based surfactants examples include surfactants described in paragraph numbers 0060 to 0064 of JP 2014-041318 (corresponding paragraph numbers 0060 to 0064 of WO 2014/017669), and the like; Examples include the surfactants described in paragraph numbers 0117 to 0132 of Publication No. 132503 and the surfactants described in JP-A-2020-008634, the contents of which are incorporated herein.
  • Commercially available fluorosurfactants include Megafac F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143, F-144.
  • fluorine-based surfactants there are also acrylic compounds that have a molecular structure with a functional group containing a fluorine atom, and when heated, the functional group containing a fluorine atom is cut off and the fluorine atom volatizes. It can be used suitably.
  • fluorine-based surfactants include the Megafac DS series manufactured by DIC Corporation (Kagaku Kogyo Nippo (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016)), An example is DS-21.
  • fluorinated surfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound as the fluorinated surfactant.
  • fluorine-based surfactants include the fluorine-based surfactants described in JP-A No. 2016-216602, the content of which is incorporated herein.
  • a block polymer can also be used as the fluorosurfactant.
  • a fluorine-based surfactant a (meth) having a repeating unit derived from a (meth)acrylate compound having a fluorine atom and two or more (preferably five or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy group, propyleneoxy group)
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the fluorine-containing surfactants described in paragraph numbers 0016 to 0037 of JP-A-2010-032698 and the following compounds are also exemplified as the fluorine-containing surfactant used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compound is preferably 3,000 to 50,000, for example 14,000. In the above compounds, % indicating the proportion of repeating units is mol%.
  • a fluoropolymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in its side chain can also be used as the fluorinated surfactant.
  • Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0050 to 0090 and paragraph numbers 0289 to 0295 of JP-A No. 2010-164965, Megafac RS-101, RS-102, RS-718K manufactured by DIC Corporation, Examples include RS-72-K.
  • the fluorine-based surfactant compounds described in paragraph numbers 0015 to 0158 of JP-A No. 2015-117327 can also be used.
  • a fluorine-containing imide salt compound represented by formula (fi-1) is also preferable to use as a surfactant.
  • m represents 1 or 2
  • n represents an integer of 1 to 4
  • a represents 1 or 2
  • X a+ represents an a-valent metal ion, a primary ammonium ion, or Represents a secondary ammonium ion, tertiary ammonium ion, quaternary ammonium ion or NH 4 + .
  • nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and their ethoxylates and propoxylates (e.g., glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (manufactured by BASF), Solsperse 20000 (manufactured by Japan Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (manufactured by Japan
  • cationic surfactant examples include tetraalkylammonium salts, alkylamine salts, benzalkonium salts, alkylpyridium salts, imidazolium salts, and the like. Specific examples include dihydroxyethylstearylamine, 2-heptadecenyl-hydroxyethylimidazoline, lauryldimethylbenzylammonium chloride, cetylpyridinium chloride, stearamidemethylpyridium chloride, and the like.
  • Anionic surfactants include dodecylbenzenesulfonic acid, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium lauryl sulfate, sodium alkyldiphenyl ether disulfonate, sodium alkylnaphthalenesulfonate, sodium dialkylsulfosuccinate, sodium stearate, potassium oleate, sodium dioctyl Sulfosuccinate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, sodium dialkyl sulfosuccinate, sodium stearate, sodium oleate, t-octylphenoxyethoxypolyethoxyethyl Examples include sodium sulfate salt.
  • silicone surfactants examples include SH8400, SH8400 FLUID, FZ-2122, 67 Additive, 74 Additive, M Additive, SF 8419 OIL (manufactured by Dow Toray Industries, Inc.), TSF-4440, TSF-4300 , TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6000, KF-6001, KF-6002, KF-6003 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd.), BYK-307, BYK-322, BYK-323, BYK-330, BYK-3760, BYK-UV3510 (manufactured by BYK-Chemie Co., Ltd.), and the like.
  • a compound having the following structure can also be used as the silicone surfactant.
  • the content of the surfactant is preferably 0.001 to 1% by mass, more preferably 0.001 to 0.5% by mass, and even more preferably 0.001 to 0.2% by mass based on the total solid content of the resin composition.
  • the resin composition may contain only one type of surfactant, or may contain two or more types of surfactant. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • Polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), Examples include 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salts, cerous salts, etc.), with p-methoxyphenol being preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.0001 to 5% by mass based on the total solid content of the resin composition.
  • the resin composition may contain only one kind of polymerization inhibitor, or may contain two or more kinds of polymerization inhibitors. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain a silane coupling agent.
  • a silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • hydrolyzable group refers to a substituent that is directly bonded to a silicon atom and can form a siloxane bond through at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction. Examples of the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, and an alkoxy group is preferred. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Examples of functional groups other than hydrolyzable groups include vinyl groups, (meth)acryloyl groups, mercapto groups, epoxy groups, oxetanyl groups, amino groups, ureido groups, sulfide groups, isocyanate groups, and phenyl groups. (meth)acryloyl group and epoxy group are preferred.
  • Examples of the silane coupling agent include compounds described in paragraph numbers 0018 to 0036 of JP-A No. 2009-288703, and compounds described in paragraph numbers 0056 to 0066 of JP-A No. 2009-242604, the contents of which are incorporated herein by reference. Incorporated into the specification.
  • the content of the silane coupling agent is preferably 0.01 to 15.0% by mass, more preferably 0.05 to 10.0% by mass based on the total solid content of the resin composition.
  • the resin composition may contain only one type of silane coupling agent, or may contain two or more types. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber.
  • the ultraviolet absorber include conjugated diene compounds, aminodiene compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyltriazine compounds, indole compounds, triazine compounds, dibenzoyl compounds, and the like. Specific examples of such compounds include paragraph numbers 0038 to 0052 of JP2009-217221A, paragraphs 0052 to 0072 of JP2012-208374A, and paragraphs 0317 to 0317 of JP2013-068814A.
  • UV absorbers include the Tinuvin series and Uvinul series manufactured by BASF.
  • examples of the benzotriazole compound include the MYUA series manufactured by Miyoshi Yushi (Kagaku Kogyo Nippo, February 1, 2016).
  • the ultraviolet absorbers include compounds described in paragraph numbers 0049 to 0059 of Patent No. 6268967, compounds described in paragraph numbers 0059 to 0076 of International Publication No.
  • the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.05 to 25% by mass based on the total solid content of the resin composition.
  • the resin composition may contain only one type of ultraviolet absorber, or may contain two or more types of ultraviolet absorbers. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain an antioxidant.
  • the antioxidant include phenolic antioxidants, amine antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, and the like.
  • examples of phenolic antioxidants include hindered phenol compounds.
  • the phenolic antioxidant is preferably a compound having a substituent at a site adjacent to the phenolic hydroxy group (ortho position).
  • the above-mentioned substituents are preferably substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 22 carbon atoms.
  • the antioxidant is a compound having a phenol group and a phosphite group in the same molecule.
  • antioxidants include, for example, Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-50F, Adekastab AO-60, Adekastab AO-60G, Adekastab AO-80. , ADEKA STAB AO-330, ADEKA STAB AO-412S, ADEKA STAB 2112, ADEKA STAB PEP-36, ADEKA STAB HP-10 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.), and JP-650 (manufactured by Johoku Kagaku Kogyo Co., Ltd.).
  • the antioxidants include compounds described in paragraph numbers 0023 to 0048 of Patent No.
  • the content of the antioxidant is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass based on the total solid content of the resin composition.
  • the resin composition may contain only one type of antioxidant, or may contain two or more types of antioxidant. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the resin composition of the present invention may contain sensitizers, curing accelerators, fillers, thermosetting accelerators, plasticizers, and other auxiliary agents (e.g., conductive particles, antifoaming agents, flame retardants, (leveling agents, peeling accelerators, fragrances, surface tension regulators, chain transfer agents, etc.) may also be included.
  • auxiliary agents e.g., conductive particles, antifoaming agents, flame retardants, (leveling agents, peeling accelerators, fragrances, surface tension regulators, chain transfer agents, etc.
  • the resin composition of the present invention may contain a latent antioxidant, if necessary.
  • a latent antioxidant is a compound whose moiety that functions as an antioxidant is protected with a protecting group, and is heated at 100 to 250°C or heated at 80 to 200°C in the presence of an acid/base catalyst. Examples include compounds that function as antioxidants by removing protective groups. Examples of the latent antioxidant include compounds described in WO 2014/021023, WO 2017/030005, and JP 2017-008219. Commercially available latent antioxidants include Adeka Arcles GPA-5001 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.).
  • the container for storing the resin composition of the present invention is not particularly limited, and any known container can be used.
  • the inner wall of the container is preferably made of glass, stainless steel, etc. for the purpose of preventing metal elution from the inner wall of the container, increasing stability of the resin composition over time, and suppressing component deterioration.
  • the resin composition of the present invention can be prepared by mixing the above-mentioned components.
  • the resin composition may be prepared by dissolving or dispersing all the components in a solvent at the same time, or, if necessary, two or more solutions or dispersions containing each component as appropriate may be prepared. may be prepared in advance and mixed at the time of use (at the time of application) to prepare a resin composition.
  • the preparation of the resin composition may include a process of dispersing the pigment.
  • mechanical forces used for dispersing pigments include compression, squeezing, impact, shearing, cavitation, and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion, and the like.
  • pulverizing pigments in a sand mill (bead mill) it is preferable to use small-diameter beads or increase the filling rate of the beads, thereby increasing the pulverizing efficiency.
  • the process and dispersion machine for dispersing pigments are described in ⁇ Complete Works of Dispersion Technology, Published by Information Technology Corporation, July 15, 2005'' and ⁇ Dispersion technology centered on suspension (solid/liquid dispersion system) and industrial
  • the process and dispersion machine described in Paragraph No. 0022 of JP 2015-157893 A, "Practical Application Comprehensive Data Collection, Published by Management Development Center Publishing Department, October 10, 1978" can be suitably used.
  • the pigment may be subjected to a finer treatment in a salt milling step. For the materials, equipment, processing conditions, etc.
  • Bead materials used for dispersion include zirconia, agate, quartz, titania, tungsten carbide, silicon nitride, alumina, stainless steel, and glass.
  • an inorganic compound having a Mohs hardness of 2 or more can also be used for the beads.
  • the resin composition may contain 1 to 10,000 ppm of the beads.
  • any filter that has been conventionally used for filtration and the like can be used without particular limitation.
  • fluororesins such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resins such as nylon (e.g. nylon-6, nylon-6,6), polyolefin resins (high density, ultra-high molecular weight) such as polyethylene, polypropylene (PP), etc.
  • filters using materials such as polyolefin resin (including polyolefin resin). Among these materials, polypropylene (including high-density polypropylene) and nylon are preferred.
  • the pore diameter of the filter is preferably 0.01 to 7.0 ⁇ m, more preferably 0.01 to 3.0 ⁇ m, and even more preferably 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is within the above range, fine foreign matter can be removed more reliably.
  • the pore size value of the filter reference can be made to the nominal value of the filter manufacturer.
  • various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd. DFA4201NXEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P, etc.
  • Advantech Toyo Co., Ltd., Nippon Entegris Co., Ltd. (formerly Nippon Microlith Co., Ltd.), Kitz Microfilter Co., Ltd., etc. can be used. .
  • fibrous filter media include polypropylene fibers, nylon fibers, and glass fibers.
  • Commercially available products include the SBP type series (SBP008, etc.), the TPR type series (TPR002, TPR005, etc.), and the SHPX type series (SHPX003, etc.) manufactured by Loki Techno.
  • filters When using filters, different filters (for example, a first filter and a second filter, etc.) may be combined. At that time, filtration with each filter may be performed only once, or may be performed two or more times. Further, filters having different pore diameters within the above-mentioned range may be combined. Alternatively, only the dispersion liquid may be filtered with the first filter, and then filtered with the second filter after other components are mixed.
  • filters for example, a first filter and a second filter, etc.
  • the membrane of the present invention is obtained from the resin composition of the present invention described above.
  • the film of the present invention can be preferably used as an optical filter.
  • Applications of the optical filter are not particularly limited, but include infrared cut filters, infrared transmission filters, and the like.
  • Examples of the infrared cut filter include an infrared cut filter on the light receiving side of the solid-state image sensor (for example, an infrared cut filter for a wafer level lens, etc.), and an infrared cut filter on the back side of the solid-state image sensor (opposite side to the light receiving side).
  • infrared cut filters for environmental light sensors (for example, illuminance sensors that detect the illuminance and color tone of the environment in which the information terminal device is placed and adjust the color tone of the display, and color correction sensors that adjust the color tone). It will be done. In particular, it can be preferably used as an infrared cut filter on the light receiving side of a solid-state image sensor. Examples of the infrared transmission filter include a filter that can block visible light and selectively transmit infrared rays having a specific wavelength or more.
  • the film of the present invention may have a pattern or may be a film without a pattern (flat film). Further, the membrane of the present invention may be used by being laminated on a support, or the membrane of the present invention may be used by being peeled off from the support. Examples of the support include semiconductor base materials such as silicon substrates and transparent base materials.
  • a charge coupled device CCD
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • transparent conductive film etc.
  • CCD charge coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • a partition wall that isolates each pixel may be formed on the semiconductor substrate. Examples of the partition wall include metals, metal oxides, black matrices, and the like.
  • an undercoat layer may be provided on the semiconductor substrate, if necessary, for improving adhesion with the upper layer, preventing substance diffusion, or flattening the substrate surface.
  • the transparent substrate used as the support is not particularly limited as long as it is made of a material that can transmit at least visible light.
  • Examples include base materials made of materials such as glass and resin.
  • resins include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and ethylene vinyl acetate copolymers, acrylic resins such as norbornene resins, polyacrylates, and polymethyl methacrylates, urethane resins, and vinyl chloride resins. , fluororesin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl alcohol resin, and the like.
  • glass examples include soda lime glass, borosilicate glass, alkali-free glass, quartz glass, and glass containing copper.
  • glass containing copper examples include phosphate glass containing copper, fluorophosphate glass containing copper, and the like.
  • a commercially available glass containing copper can also be used. Examples of commercially available glass containing copper include NF-50 (manufactured by AGC Techno Glass Co., Ltd.).
  • the thickness of the film of the present invention can be adjusted as appropriate depending on the purpose.
  • the thickness of the film can be 200 ⁇ m or less, 150 ⁇ m or less, 120 ⁇ m or less, 20 ⁇ m or less, 10 ⁇ m or less, and 5 ⁇ m or less. You can also do it.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more.
  • the film of the present invention When the film of the present invention is used as an infrared cut filter, it is preferable that the film of the present invention has a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 650 to 1500 nm (preferably a wavelength of 660 to 1200 nm, more preferably a wavelength of 660 to 1000 nm).
  • the average transmittance of light with a wavelength of 420 to 550 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, even more preferably 80% or more, and especially 85% or more.
  • the transmittance over the entire wavelength range of 420 to 550 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and even more preferably 80% or more.
  • the film of the present invention preferably has a transmittance of 15% or less at at least one point in the wavelength range of 650 to 1500 nm (preferably wavelength 660 to 1200 nm, more preferably wavelength 660 to 1000 nm), and preferably 10% or less.
  • the content is more preferably 5% or less, and even more preferably 5% or less.
  • the film of the present invention preferably has an average absorbance of less than 0.030, more preferably less than 0.025, in the wavelength range of 420 to 550 nm, when the absorbance at the maximum absorption wavelength is 1.
  • the film of the present invention preferably has, for example, any one of the following spectral properties (i1) to (i3).
  • a film having such spectral characteristics can block light in a wavelength range of 400 to 850 nm and transmit light with a wavelength exceeding 950 nm.
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1100 to 1500 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in a wavelength range of 400 to 950 nm and transmit light with a wavelength exceeding 1050 nm.
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 1050 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1200 to 1500 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 1050 nm and transmit light with a wavelength exceeding 1150 nm.
  • the film of the present invention can also be used in combination with a color filter containing a chromatic colorant.
  • a color filter can be manufactured using a coloring composition containing a chromatic colorant.
  • the color filter is preferably disposed on the optical path of the film of the present invention.
  • the film of the present invention may be formed on a support different from the support on which the color filter is formed, and the film of the present invention may be formed on a support different from the support on which the color filter is formed.
  • Other members for example, microlenses, flattening layers, etc. constituting the solid-state imaging device may be interposed between the film and the color filter.
  • the film of the present invention is suitable for solid-state imaging devices such as CCDs (charge-coupled devices) and CMOSs (complementary metal oxide semiconductors) (the imaging section uses compound semiconductors such as InGaAs, organic semiconductors, quantum dots, etc. in addition to Si). It can be used in various devices such as infrared sensors, light emitting devices, optical communication devices (both transmitting and receiving), and image display devices.
  • CCDs charge-coupled devices
  • CMOSs complementary metal oxide semiconductors
  • the imaging section uses compound semiconductors such as InGaAs, organic semiconductors, quantum dots, etc. in addition to Si). It can be used in various devices such as infrared sensors, light emitting devices, optical communication devices (both transmitting and receiving), and image display devices.
  • the film of the present invention can be manufactured through a step of applying the resin composition of the present invention.
  • Examples of the support include those mentioned above.
  • a method for applying the resin composition a known method can be used. For example, drop casting method; slit coating method; spray method; roll coating method; spin coating method; casting coating method; slit and spin method; Various methods such as inkjet (for example, on-demand method, piezo method, thermal method), ejection printing such as nozzle jet, flexo printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc. Examples include printing method; transfer method using a mold etc.; nanoimprint method.
  • the application method for inkjet is not particularly limited, and for example, the method shown in "Expanding and Usable Inkjet - Infinite Possibilities Seen in Patents," Published February 2005, Sumibe Techno Research (especially from page 115). 133 pages), and methods described in JP-A No. 2003-262716, JP-A No. 2003-185831, JP-A No. 2003-261827, JP-A No. 2012-126830, JP-A No. 2006-169325, etc. Can be mentioned.
  • the resin composition layer formed by applying the resin composition may be dried (prebaked).
  • the prebaking temperature is preferably 150°C or lower, more preferably 120°C or lower, and even more preferably 110°C or lower.
  • the lower limit can be, for example, 50°C or higher, or 80°C or higher.
  • the prebake time is preferably 10 seconds to 3000 seconds, more preferably 40 to 2500 seconds, and even more preferably 80 to 220 seconds. Drying can be performed using a hot plate, oven, or the like.
  • the film manufacturing method may further include a step of forming a pattern.
  • the pattern forming method include a pattern forming method using a photolithography method and a pattern forming method using a dry etching method, and a pattern forming method using a photolithography method is preferable. Note that when the film of the present invention is used as a flat film, the step of forming a pattern may not be performed. Hereinafter, the process of forming a pattern will be described in detail.
  • the pattern forming method using the photolithography method includes a step of exposing a resin composition layer formed by applying the resin composition of the present invention to light in a pattern (exposure step), and developing the unexposed portions of the resin composition layer. It is preferable to include a step of removing and forming a pattern (developing step). If necessary, a step of baking the developed pattern (post-bake step) may be provided. Each step will be explained below.
  • the resin composition layer is exposed in a pattern.
  • the resin composition layer can be exposed in a pattern by exposing the resin composition layer to light through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. This allows the exposed portion to be cured.
  • Radiation (light) that can be used during exposure includes g-line, i-line, etc. Furthermore, light with a wavelength of 300 nm or less (preferably light with a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used. Examples of light with a wavelength of 300 nm or less include KrF rays (wavelength 248 nm), ArF rays (wavelength 193 nm), and KrF rays (wavelength 248 nm). Furthermore, a long-wave light source of 300 nm or more can also be used.
  • pulse exposure is an exposure method in which exposure is performed by repeating light irradiation and pauses in short cycles (for example, on the millisecond level or less).
  • the irradiation amount is, for example, preferably 0.03 to 2.5 J/cm 2 , more preferably 0.05 to 1.0 J/cm 2 .
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected, and in addition to being carried out in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere with an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, or substantially
  • the exposure may be performed in an oxygen-free environment (in the absence of oxygen), or in a high oxygen atmosphere with an oxygen concentration of more than 21 volume % (for example, 22 volume %, 30 volume %, or 50 volume %).
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000W/m 2 to 100000W/m 2 (for example, 5000W/m 2 , 15000W/m 2 , or 35000W/m 2 ). I can do it.
  • the oxygen concentration and the exposure illuminance may be appropriately combined.
  • the illumination intensity may be 10,000 W/m 2 at an oxygen concentration of 10% by volume, or 20,000 W/m 2 at an oxygen concentration of 35% by volume.
  • the unexposed portions of the resin composition layer after exposure are removed by development to form a pattern.
  • the unexposed portions of the resin composition layer can be removed by development using a developer.
  • the temperature of the developer is preferably, for example, 20 to 30°C.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds.
  • the process of shaking off the developer every 60 seconds and supplying a new developer may be repeated several times.
  • Examples of the developer include organic solvents, alkaline developers, and alkaline developers are preferably used.
  • an alkaline aqueous solution (alkaline developer) prepared by diluting an alkaline agent with pure water is preferable.
  • alkaline agents include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide.
  • alkaline compounds examples include alkaline compounds and inorganic alkaline compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium silicate, and sodium metasilicate.
  • alkali agent compounds with a large molecular weight are preferable from the environmental and safety standpoints.
  • the concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • the developer may further contain a surfactant.
  • the surfactant nonionic surfactants are preferred.
  • the developing solution may be manufactured as a concentrated solution and then diluted to a required concentration before use.
  • the dilution ratio is not particularly limited, but can be set, for example, in the range of 1.5 to 100 times. It is also preferable to wash (rinse) with pure water after development. Further, rinsing is preferably performed by supplying a rinsing liquid to the developed resin composition layer while rotating the support on which the developed resin composition layer is formed.
  • the nozzle that discharges the rinsing liquid from the center of the support it is also preferable to move the nozzle that discharges the rinsing liquid from the center of the support to the peripheral edge of the support.
  • the nozzle may be moved while gradually decreasing its moving speed.
  • Additional exposure processing and post-bake are post-development curing processing to complete curing.
  • the heating temperature in post-baking is, for example, preferably 100 to 240°C, more preferably 200 to 240°C.
  • Post-baking can be carried out in a continuous or batch manner using a heating means such as a hot plate, convection oven (hot air circulation dryer), or high-frequency heater to maintain the developed film under the above conditions.
  • the light used for exposure is preferably light with a wavelength of 400 nm or less. Further, the additional exposure process may be performed by the method described in Korean Patent Publication No. 10-2017-0122130.
  • Pattern formation by the dry etching method involves coating the resin composition on a support and curing the resin composition layer to form a cured material layer, and then forming a patterned photo on this cured material layer. This can be carried out by a method such as forming a resist layer, and then dry etching the cured material layer using an etching gas using the patterned photoresist layer as a mask. In forming the photoresist layer, it is preferable to perform a prebaking process. Regarding pattern formation by the dry etching method, the descriptions in paragraphs 0010 to 0067 of JP-A No. 2013-064993 can be referred to, and the contents thereof are incorporated into the present specification.
  • optical filter of the present invention has the film of the present invention described above.
  • Types of optical filters include infrared cut filters and infrared transmission filters.
  • the optical filter of the invention may further include a copper-containing layer, a dielectric multilayer film, an ultraviolet absorbing layer, and the like.
  • the ultraviolet absorbing layer include the absorbing layers described in paragraph numbers 0040 to 0070 and 0119 to 0145 of International Publication No. 2015/099060.
  • the dielectric multilayer film include the dielectric multilayer films described in paragraph numbers 0255 to 0259 of JP-A No. 2014-041318.
  • a glass substrate made of glass containing copper (copper-containing glass substrate) or a layer containing a copper complex (copper complex-containing layer) can also be used.
  • Examples of the copper-containing glass substrate include phosphate glass containing copper, fluorophosphate glass containing copper, and the like.
  • Commercially available copper-containing glasses include NF-50 (manufactured by AGC Techno Glass Co., Ltd.), BG-60, BG-61 (all manufactured by Schott Co., Ltd.), and CD5000 (manufactured by HOYA Co., Ltd.).
  • Preferred base materials include transparent base materials made of materials such as glass and resin, and it is also preferred to form a film directly on various elements.
  • resins examples include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and ethylene vinyl acetate copolymers, acrylic resins such as norbornene resins, polyacrylates, and polymethyl methacrylates, urethane resins, and vinyl chloride resins. , fluororesin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl alcohol resin, and the like.
  • the glass include soda lime glass, borosilicate glass, alkali-free glass, quartz glass, and glass containing copper.
  • the solid-state imaging device of the present invention includes the film of the present invention described above.
  • the structure of the solid-state image sensor is not particularly limited as long as it has the film of the present invention and functions as a solid-state image sensor. For example, the following configurations may be mentioned.
  • the device On the support, there is a transfer electrode made of polysilicon or the like and a plurality of photodiodes that constitute the light-receiving area of the solid-state image sensor, and a light-shielding material made of tungsten or the like with only the light-receiving part of the photodiode opened above the photodiode and the transfer electrode.
  • the device has a device protective film made of silicon nitride or the like formed to cover the entire surface of the light shielding film and the photodiode light receiving part on the light shielding film, and has the film of the present invention on the device protective film. be.
  • the color filter may have a structure in which a film forming each pixel is embedded in a space partitioned into, for example, a lattice shape by partition walls.
  • the partition wall preferably has a lower refractive index than each pixel. Examples of imaging devices having such a structure include devices described in Japanese Patent Application Laid-open Nos. 2012-227478 and 2014-179577.
  • the image display device of the present invention includes the film of the present invention.
  • Examples of the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence (organic EL) display device.
  • organic EL organic electroluminescence
  • image display devices see, for example, “Electronic Display Devices (written by Akio Sasaki, published by Industrial Research Institute Co., Ltd., 1990)” and “Display Devices (written by Junaki Ibuki, published by Sangyo Tosho Co., Ltd., published in 1989). Publication)” etc.
  • liquid crystal display devices are described, for example, in “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Chosenkai Co., Ltd., 1994)”.
  • the image display device may include a white organic EL element.
  • the white organic EL element preferably has a tandem structure.
  • Japanese Patent Application Laid-open No. 2003-045676 supervised by Akiyoshi Mikami, "The forefront of organic EL technology development - High brightness, high precision, long life, collection of know-how", Technical Information Association, It is described in pages 326-328, 2008, etc.
  • the spectrum of white light emitted by the organic EL element preferably has strong maximum emission peaks in the blue region (430 to 485 nm), green region (530 to 580 nm), and yellow region (580 to 620 nm). In addition to these emission peaks, it is more preferable to have a maximum emission peak in the red region (650 to 700 nm).
  • the film of the present invention can also be used as an infrared transmitting film provided in an opening for infrared communication formed in a frame portion of a protective plate for a display device.
  • the infrared sensor of the present invention includes the film of the present invention described above.
  • the configuration of the infrared sensor is not particularly limited as long as it functions as an infrared sensor. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one embodiment of the infrared sensor of this invention is described using drawings.
  • numeral 110 is a solid-state image sensor.
  • An infrared cut filter 111 and an infrared transmission filter 114 are arranged on the imaging area of the solid-state image sensor 110.
  • a color filter 112 is arranged on the infrared cut filter 111.
  • a microlens 115 is arranged on the incident light hv side of the color filter 112 and the infrared transmission filter 114.
  • a flattening layer 116 is formed to cover the microlens 115.
  • the infrared cut filter 111 can be formed using the resin composition of the present invention.
  • the color filter 112 is a color filter in which pixels that transmit and absorb light of a specific wavelength in the visible region are formed, and there is no particular limitation, and a conventionally known color filter for forming pixels can be used. For example, a color filter in which red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed is used. For example, the descriptions in paragraph numbers 0214 to 0263 of JP-A No. 2014-043556 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the characteristics of the infrared transmission filter 114 are selected depending on the emission wavelength of the infrared LED used.
  • the infrared transmission filter 114 can be formed using the resin composition of the present invention.
  • an infrared cut filter other than the infrared cut filter 111 may be further disposed on the flattening layer 116.
  • Other infrared cut filters include those having a layer containing copper and/or a dielectric multilayer film. Details of these are mentioned above.
  • a dual band pass filter may be used as another infrared cut filter.
  • the camera module of the present invention includes a solid-state image sensor and the above-described film of the present invention.
  • the camera module further includes a lens and a circuit that processes images obtained from the solid-state image sensor.
  • the solid-state image sensor used in the camera module may be the solid-state image sensor according to the present disclosure described above, or may be a known solid-state image sensor.
  • the lens used in the camera module and the circuit that processes the image obtained from the solid-state image sensor known ones can be used.
  • camera modules described in JP-A No. 2016-006476 and JP-A No. 2014-197190 can be referred to, and the contents thereof are incorporated into this specification.
  • the film of the present invention can also be used in light emitting devices.
  • the structure of the light emitting element is not particularly limited as long as it functions as a light emitting element, and light emitting diodes (LEDs), organic light emitting diodes (OLEDs), quantum dot light emitting diodes (QLEDs), vertical cavity surface emitting lasers ( VICSEL), etc.
  • the film of the present invention may be formed directly on the light emitting element, or may be placed on the light emitting path.
  • the film of the present invention can also be used in optical communication devices.
  • the configuration of the optical communication element is not particularly limited as long as it functions as an optical communication element, and may be either a transmitting element or a receiving element.
  • Examples of the optical communication device include an infrared remote control, an infrared transceiver, an optical interposer, and an optical interconnection.
  • the film of the present invention may be formed directly on the receiving element, directly on the transmitting element, or placed on the transmitting/receiving path.
  • the weight average molecular weight of the resin was measured using HPC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation) as a measuring device, TSKguardcolumn SuperHZ-L as a guard column, and TSKgel SuperHZM-M, TSKgel SuperHZ4000, TSKgel SuperH as a column.
  • pigment 017, 018 Compounds 017, 018 (infrared absorbing pigments) shown in the specific examples of the specific infrared absorbing pigments mentioned above IR101 to IR103: Compounds with the following structure (infrared absorbing dyes) PB15:6: C. I. Pigment Blue 15:6 (blue colorant) PR254: C. I. Pigment Red 254 (red colorant)
  • Dis-001 Resin with the following structure (the numerical value appended to the main chain is the molar ratio, and the numerical value appended to the side chain is the number of repeating units.
  • Weight average molecular weight 25,000 Dis-002: Resin with the following structure (the numerical value appended to the main chain is the molar ratio, and the numerical value appended to the side chain is the number of repeating units. Weight average molecular weight 9800)
  • ⁇ Manufacture of resin composition Materials other than the solvents shown in the table below are mixed in the proportions shown in the table below, the solvents shown in the table below are added to adjust the solid content concentration to 20% by mass, and the mixture is stirred to form nylon with a pore size of 0.45 ⁇ m. filter (manufactured by Nippon Pall Co., Ltd.) to produce a resin composition.
  • the numerical values in the blending amount column in the table are values in parts by mass in terms of solid content.
  • B001 Polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 24,000, dispersity 1.8)
  • B003 Resin with the following structure (the numbers added to the main chain are the molar ratio of repeating units, weight average molecular weight 15000, dispersity 2.1)
  • B004 Resin with the following structure (weight average molecular weight 25,000, degree of dispersion 2.2, glass transition temperature 310°C)
  • (Polymerizable compound) M-1 Aronix M-305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate.
  • pentaerythritol triacrylate The content of pentaerythritol triacrylate is 55% by mass to 63% by mass.
  • M-2 KAYARAD RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., ethylene oxide modified pentaerythritol tetraacrylate)
  • M-3 Aronix M-510 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., polybasic acid-modified acrylic oligomer)
  • EPICLON N-695 manufactured by DIC Corporation, o-cresol novolac type epoxy compound
  • C-1 Irgacure OXE01 (manufactured by BASF, oxime ester compound)
  • C-2 Irgacure OXE02 (manufactured by BASF, oxime ester compound)
  • F-1 Megafac RS-72-K (manufactured by DIC Corporation, fluorine-based surfactant)
  • F-2 Compound with the following structure (weight average molecular weight 14,000, the numerical value of % indicating the proportion of repeating units is mol%)
  • F-3 KF-6001 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., polydimethylsiloxane modified with carbinol at both ends, hydroxyl value 62 mgKOH/g, silicone surfactant)
  • U-1 Uvinul3050 (manufactured by BASF)
  • the transmittance of the glass substrate on which the above film was formed was measured in the wavelength range of 400 to 2000 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Tech Corporation).
  • the wavelength at which the transmittance is 20% ( ⁇ L20 ) and the wavelength at which the transmittance is 90% ( ⁇ L90 ), which is on the longer wavelength side than the maximum absorption wavelength, and the maximum absorption The wavelength at which the transmittance is 20% ( ⁇ S20 ) and the wavelength at which the transmittance is 90% ( ⁇ S90 ), which are shorter than the wavelength, are determined, and the rectangularity of each light-shielding area is determined using the following criteria. was evaluated.
  • the transmittance of the glass substrate on which the above film was formed was measured in the wavelength range of 400 to 2000 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Tech Corporation). Next, the glass substrate on which the above film was formed was irradiated with a xenon lamp at 100,000 lux for 20 hours (equivalent to 2 million lux ⁇ h), and the transmittance of the film after irradiation with the xenon lamp was measured.
  • the amount of change in transmittance ( ⁇ T) at each wavelength in the wavelength range of 800 to 2000 nm before and after irradiation with a xenon lamp is determined, and the light resistance is evaluated using the following criteria based on the largest value of ⁇ T in the entire measurement wavelength range. did. The smaller the value of ⁇ T, the better the light resistance.
  • Amount of change in transmittance ( ⁇ T)
  • the examples were excellent in evaluation of light resistance and heat resistance. Furthermore, the examples had excellent evaluation of rectangularity on the long wavelength side, had a steep slope of transmittance on the long wavelength side with respect to the maximum absorption wavelength, and had excellent contrast between transmittance and light shielding properties. Further, for the films obtained using the resin compositions of Examples 28 and 53, the average transmittance in the wavelength range of 400 to 1000 nm was less than 5%.
  • the plate was heated at 100° C. for 2 minutes.
  • FPA-3000i5+ manufactured by Canon Inc.
  • a 2 ⁇ m Bayer pattern was exposed through a mask at an exposure dose of 1000 mJ/cm 2 .
  • paddle development was performed at 23° C. for 60 seconds using a 0.3% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH).
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • 110 solid-state image sensor
  • 111 infrared cut filter
  • 112 color filter
  • 114 infrared transmission filter
  • 115 microlens
  • 116 flattening layer

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Abstract

式（１）で表される色素Ａ１および色素Ａ１由来の色素構造を１分子中に２以上含む色素多量体Ａ２から選ばれる少なくとも１種の赤外線吸収色素Ａと、樹脂と、を含む、樹脂組成物。膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールおよび化合物。

Description

樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールおよび化合物
　本発明は、赤外線吸収色素を含む樹脂組成物に関する。また、本発明は、樹脂組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュールに関する。また、本発明は化合物に関する。
　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などには、カラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用している。このため、赤外線カットフィルタを設けて視感度補正を行うことがある。赤外線カットフィルタは、赤外線吸収色素と樹脂とを含む樹脂組成物などを用いて製造されている。
　特許文献１には、イミニウム化合物を含む赤外線吸収色素と、樹脂とを含む樹脂組成物を用いて赤外線カットフィルタなどを製造することが記載されている。
特開２００７－２３３３６８号公報
　近年、赤外線吸収色素と樹脂を含む樹脂組成物を用いて得られる膜について、耐熱性や耐光性の性能についての更なる向上が求められている。
　よって、本発明の目的は耐熱性および耐光性に優れた膜を形成できる樹脂組成物を提供することにある。また、本発明の目的は、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールおよび化合物を提供することにある。
　本発明は以下を提供する。
　＜１＞　式（１）で表される色素Ａ１および上記色素Ａ１由来の色素構造を１分子中に２以上含む色素多量体Ａ２から選ばれる少なくとも１種の赤外線吸収色素Ａと、
　樹脂と、を含む、樹脂組成物；
　式（１）中、Ｌ１０１は、－Ｐ（＝Ｏ）（ＲＬ１０１）－、－Ｐ（＝Ｓ）（ＲＬ１０２）－、－Ｓｉ（ＲＬ１０３）（ＲＬ１０４）－、－Ｂ（ＲＬ１０５）－、－Ｓ（＝Ｏ）２－または－Ｓ（＝Ｏ）－を表し、ＲＬ１０１～ＲＬ１０５は、水素原子または置換基を表し、ＲＬ１０３とＲＬ１０４は結合して環を形成していてもよく、
　Ｘ１０１～Ｘ１０３は、それぞれ独立して、窒素原子または－ＣＲＸ１０１－を表し、ＲＸ１０１は、水素原子または置換基を表し、
　Ｌ１０２およびＬ１０３は、それぞれ独立して、硫黄原子または－Ｘ１０４＝Ｘ１０５－を表し、Ｘ１０４およびＸ１０５は、それぞれ独立して、窒素原子または－ＣＲＸ１０２－を表し、ＲＸ１０２は、水素原子または置換基を表し、
　Ａｒ１０１およびＡｒ１０２は、それぞれ独立して、－（ＣＲＡｒ１０１＝ＣＲＡｒ１０２）ｎ１０１－、アリーレン基、複素環基またはこれらの基を２以上組み合わせた基を表し、ＲＡｒ１０１およびＲＡｒ１０２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、ｎ１０１は１～３の整数を表し、
　Ｙ１０１およびＹ１０２は、それぞれ独立して、－ＯＲＹ１０１、－ＮＲＹ１０２ＲＹ１０３または－ＳＲＹ１０４を表し、ＲＹ１０１～ＲＹ１０４は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、ＲＹ１０２とＲＹ１０３は単結合または２価の連結基を介して結合して環を形成していてもよく、
　Ａｒ１０１とＸ１０１は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ａｒ１０１とＹ１０１は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ａｒ１０２とＸ１０２は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ａｒ１０２とＹ１０２は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ｚ１は対イオンを表し、
　ｐ１は０～５の整数を表し、
　ｑ１は、１～５の整数を表す。
　＜２＞　上記式（１）のＸ１０３は－ＣＲＸ１０１－であり、ＲＸ１０１は水素原子または置換基であり、
　Ｌ１０２およびＬ１０３は、それぞれ硫黄原子である、＜１＞に記載の樹脂組成物。
　＜３＞　上記式（１）のＸ１０３は－ＣＲＸ１０１－であり、ＲＸ１０１は水素原子または置換基であり、
　Ｌ１０２およびＬ１０３は、それぞれ硫黄原子であり、
　Ｌ１０１は、－Ｐ（＝Ｏ）（ＲＬ１０１）－であり、ＲＬ１０１は、水素原子または置換基である、＜１＞に記載の樹脂組成物。
　＜４＞　上記式（１）のＸ１０３は－ＣＲＸ１０１－であり、ＲＸ１０１は水素原子または置換基であり、
　Ｌ１０２およびＬ１０３は、それぞれ硫黄原子であり、
　Ｌ１０１は、－Ｐ（＝Ｏ）（ＲＬ１０１）－であり、ＲＬ１０１は、水素原子または置換基であり、
　Ｙ１０１およびＹ１０２は、それぞれ独立して、－ＮＲＹ１０２ＲＹ１０３であり、ＲＹ１０２およびＲＹ１０３は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基であり、ＲＹ１０２とＲＹ１０３は単結合または２価の連結基を介して結合して環を形成していてもよい、＜１＞に記載の樹脂組成物。
　＜５＞　上記式（１）のＸ１０３は－ＣＲＸ１０１－であり、ＲＸ１０１は水素原子または置換基であり、
　Ｌ１０２およびＬ１０３は、それぞれ硫黄原子であり、
　Ｌ１０１は、－Ｓｉ（ＲＬ１０３）（ＲＬ１０４）－または－Ｓ（＝Ｏ）－であり、ＲＬ１０３およびＲＬ１０４は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基であり、
　Ｙ１０１およびＹ１０２は、それぞれ独立して、－ＮＲＹ１０２ＲＹ１０３であり、ＲＹ１０２およびＲＹ１０３は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基であり、ＲＹ１０２とＲＹ１０３は単結合または２価の連結基を介して結合して環を形成していてもよい、＜１＞に記載の樹脂組成物。
　＜６＞　更に、上記赤外線吸収色素Ａ以外の赤外線吸収剤を含む、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
　＜７＞　上記赤外線吸収色素Ａ以外の赤外線吸収剤の極大吸収波長が、上記赤外線吸収色素Ａの極大吸収波長よりも短波長側に存在する、＜６＞に記載の樹脂組成物。
　＜８＞　上記赤外線吸収色素Ａの極大吸収波長が、波長７００～１８００ｎｍの範囲に存在する、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
　＜９＞　更に重合性化合物と、光重合開始剤とを含む、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
　＜１０＞　＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物を用いて得られた膜。
　＜１１＞　＜１０＞に記載の膜を含む光学フィルタ。
　＜１２＞　＜１０＞に記載の膜を含む固体撮像素子。
　＜１３＞　＜１０＞に記載の膜を含む画像表示装置。
　＜１４＞　＜１０＞に記載の膜を含む赤外線センサ。
　＜１５＞　＜１０＞に記載の膜を含むカメラモジュール。
　＜１６＞　式（４）で表される化合物；
　式中、Ａｒ４０１はアリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ４０１～Ｒ４０４は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ４０５およびＲ４０６は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルコキシ基またはシアノ基を表し、
　Ｒ４０７およびＲ４０８は、それぞれ独立してアルキル基またはアリール基を表し、
　ｎ４０１およびｎ４０２はそれぞれ独立して０～４の整数を表し、
　ｑ４は１または２を表し、
　Ｚ４はｑ４価の対アニオンを表す。
　＜１７＞　式（５）で表される化合物；
　式中、Ａｒ５０１は、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
Ｒ５０１～Ｒ５０４は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ５０５およびＲ５０６は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルコキシ基またはシアノ基を表し、
　ｎ５０１およびｎ５０２は、それぞれ独立して０～４の整数を表し、
　ｑ５は１または２を表し、
　Ｚ５はｑ５価の対アニオンを表す。
　本発明によれば、耐熱性および耐光性に優れた膜を形成できる樹脂組成物を提供することができる。また、本発明は、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールおよび化合物を提供することができる。
赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。
　本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
　本明細書において、赤外線とは、波長７００～２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜樹脂組成物＞
　本発明の樹脂組成物は、式（１）で表される色素Ａ１および色素Ａ１由来の色素構造を１分子中に２以上含む色素多量体Ａ２から選ばれる少なくとも１種の赤外線吸収色素Ａと、
　樹脂と、を含むことを特徴とする。
　本発明の樹脂組成物を用いることで、耐熱性および耐光性に優れた膜を形成することができる。上記赤外線吸収色素Ａは、製膜時に樹脂中で会合を形成し易いと推測される。赤外線吸収色素Ａが樹脂中で会合することで、酸素や水といった分解を誘発する化学種との接触頻度が下がり、赤外線吸収色素Ａの分解が抑制され、その結果、耐熱性及び耐光性に優れた膜を形成することができたと推測される。
　また、上記赤外線吸収色素Ａを用いることで、極大吸収波長よりも長波長側における透過率の傾斜が急峻で、透過性と遮光性のコントラストに優れた膜を形成することができる。このような分光特性を有する膜は、赤外線カットフィルタや、赤外線透過フィルタなどの光学フィルタとして好ましく用いられる。このため、本発明の樹脂組成物は、光学フィルタ用の樹脂組成物として用いることができる。光学フィルタの種類としては、赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタなどが挙げられる。
　以下、本発明の樹脂組成物に用いられる各成分について説明する。
＜＜特定赤外線吸収色素＞＞
　本発明の樹脂組成物は、式（１）で表される色素Ａ１および前述の色素Ａ１由来の色素構造を１分子中に２以上含む色素多量体Ａ２から選ばれる少なくとも１種の赤外線吸収色素Ａを含む。以下、前述の赤外線吸収色素を、特定赤外線吸収色素ともいう。
　特定赤外線吸収色素は、染料であってもよく、顔料であっても良い。
　特定赤外線吸収色素が顔料である場合、特定赤外線吸収色素は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ－トおよび水のいずれに対しても、２５℃における溶解度が０．１ｇ／１００ｇ以下が好ましい。また、特定赤外線吸収色素が顔料である場合、顔料の平均粒径は、２０～３００ｎｍであることが好ましく、２５～２５０ｎｍであることがより好ましく、３０～２００ｎｍであることが更に好ましい。ここでいう「平均粒径」とは、顔料の一次粒子が集合した二次粒子についての平均粒径を意味する。また、顔料の二次粒子の粒径分布（以下、単に「粒径分布」ともいう。）は、（平均粒径±１００）ｎｍに入る二次粒子が全体の７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上であることが好ましい。なお、二次粒子の粒径分布は、散乱強度分布を用いて測定することができる。
－色素Ａ１－
　まず、式（１）で表される色素Ａ１について説明する。
　式（１）のＬ１０１は、－Ｐ（＝Ｏ）（ＲＬ１０１）－、－Ｐ（＝Ｓ）（ＲＬ１０２）－、－Ｓｉ（ＲＬ１０３）（ＲＬ１０４）－、－Ｂ（ＲＬ１０５）－、－Ｓ（＝Ｏ）２－または－Ｓ（＝Ｏ）－を表し、ＲＬ１０１～ＲＬ１０５は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。
　ＲＬ１０１～ＲＬ１０５が表す置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基およびアルケニルオキシ基が挙げられ、アルキル基またはアリール基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基および後述するアニオンを含む基などが挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。アルキル基は、直截、分岐および環状のいずれでもよい。
　アルケニル基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましく、２～４が更に好ましい。アルケニル基は、直截及び分岐のいずれでもよい。
　アルキニル基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましく、２～４が更に好ましい。アルキニル基は、直截及び分岐のいずれでもよい。
　アリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。また、アリール基は、単環のアリール基であることが好ましい。
　ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３個が好ましい。
　アルコキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。アルコキシ基は、直截及び分岐のいずれでもよい。
　アリールオキシ基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。
　アルケニルオキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。アルケニルオキシ基は、直截及び分岐のいずれでもよい。
　式（１）のＬ１０１は、極大吸収波長の長波長化および耐光性をより向上できるという理由から－Ｐ（＝Ｏ）（ＲＬ１０１）－であることが好ましい。
　式（１）のＬ１０１は、－Ｓｉ（ＲＬ１０３）（ＲＬ１０４）－または－Ｓ（＝Ｏ）－であることも好ましい。
　式（１）のＸ１０１～Ｘ１０３は、それぞれ独立して、窒素原子または－ＣＲＸ１０１－を表し、ＲＸ１０１は、水素原子または置換基を表す。ＲＸ１０１が表す置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基またはアミノ基であることが好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。アルキル基は、直截、分岐および環状のいずれでもよい。
　アルケニル基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましく、２～４が更に好ましい。アルケニル基は、直截及び分岐のいずれでもよい。
　アルキニル基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましく、２～４が更に好ましい。アルキニル基は、直截及び分岐のいずれでもよい。
　アリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。また、アリール基は、単環のアリール基であることが好ましい。
　ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３個が好ましい。
　アルコキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。アルコキシ基は、直截及び分岐のいずれでもよい。
　アリールオキシ基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。
　アルケニルオキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。アルケニルオキシ基は、直截及び分岐のいずれでもよい。
　ＲＸ１０１は、化合物の溶解性や可視透明性をより向上させることができるという理由から、アリール基またはヘテロアリール基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましく、単環のアリール基であることが更に好ましく、置換基を有する単環のアリール基であることがより一層好ましく、オルト位に置換基を有する単環のアリール基であることが特に好ましい。上記の置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられ、アルキル基、スルホ基、カルボキシ基、カルボキシ基の塩、スルホ基の塩、後述するアニオンを含む基またはエチレン性不飽和結合含有基であることが好ましい。
　式（１）のＸ１０１およびＸ１０２は、それぞれ独立して、－ＣＲＸ１０１－であることが好ましい。また、ＲＸ１０１は、水素原子であることが好ましい。
　式（１）のＸ１０３は、－ＣＲＸ１０１－であることが好ましい。また、ＲＸ１０１は、置換基であることが好ましく、アリール基またはヘテロアリール基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましく、単環のアリール基であることが更に好ましく、置換基を有する単環のアリール基であることがより一層好ましく、オルト位に置換基を有する単環のアリール基であることが特に好ましい。
　式（１）のＬ１０２およびＬ１０３は、それぞれ独立して、硫黄原子または－Ｘ１０４＝Ｘ１０５－を表し、Ｘ１０４およびＸ１０５は、それぞれ独立して、窒素原子または－ＣＲＸ１０２－を表し、ＲＸ１０２は、水素原子または置換基を表す。ＲＸ１０２が表す置換基としては、上述したＲＸ１０１が表す置換基として説明した基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　Ｌ１０２は、極大吸収波長をより長波長側に存在させることができるという理由から、硫黄原子であることが好ましい。
　Ｌ１０３は、極大吸収波長をより長波長側に存在させることができるという理由から、硫黄原子であることが好ましい。
　Ｌ１０２およびＬ１０３は、それぞれ硫黄原子であることが特に好ましい
　式（１）のＡｒ１０１およびＡｒ１０２は、それぞれ独立して、－（ＣＲＡｒ１０１＝ＣＲＡｒ１０２）ｎ１０１－、アリーレン基、複素環基またはこれらの基を２以上組み合わせた基を表し、ＲＡｒ１０１およびＲＡｒ１０２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、ｎ１０１は１～３の整数を表す。
　ＲＡｒ１０１およびＲＡｒ１０２が表す置換基としては、上述したＲＸ１０１が表す置換基として説明した基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　ｎ１０１は１～３の整数を表し、１または２であることが好ましく、１であることがより好ましい。
　式（１）のＡｒ１０１およびＡｒ１０２が表すアリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。また、アリーレン基は、単環のアリーレン基であることが好ましい。
　式（１）のＡｒ１０１およびＡｒ１０２が表す複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３個が好ましい。
　式（１）のＡｒ１０１およびＡｒ１０２は、それぞれ独立して、－（ＣＲＡｒ１０１＝ＣＲＡｒ１０２）ｎ１０１－、アリーレン基またはこれらを組み合わせた基であることが好ましい。
　好ましい一態様として、Ａｒ１０１およびＡｒ１０２が、それぞれ独立して、アリーレン基である態様が挙げられる。
　好ましい別の態様として、Ａｒ１０１およびＡｒ１０２が、それぞれ独立して、－（ＣＲＡｒ１０１＝ＣＲＡｒ１０２）ｎ１０１－とアリーレン基とを組み合わせた基である態様が挙げられる。上記の－（ＣＲＡｒ１０１＝ＣＲＡｒ１０２）ｎ１０１－とアリーレン基とを組み合わせた基は、＊１－（ＣＲＡｒ１０１＝ＣＲＡｒ１０２）ｎ１０１－アリーレン基－＊２であることが好ましい。また、＊２は、式（１）のＹ１０１またはＹ１０２との結合手であることが好ましい。
　式（１）のＹ１０１およびＹ１０２は、それぞれ独立して、－ＯＲＹ１０１、－ＮＲＹ１０２ＲＹ１０３または－ＳＲＹ１０４を表し、ＲＹ１０１～ＲＹ１０４は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、ＲＹ１０２とＲＹ１０３は単結合または２価の連結基を介して結合して環を形成していてもよい。
　ＲＹ１０１～ＲＹ１０４は、それぞれ独立してアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基であることが好ましく、アルキル基またはアリール基であることがより好ましく、アリール基であることが更に好ましい。
　ＲＹ１０１～ＲＹ１０４が表すアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。アルキル基は、直截、分岐および環状のいずれでもよい。アルキル基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　ＲＹ１０１～ＲＹ１０４が表すアルケニル基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましく、２～４が更に好ましい。アルケニル基は、直截及び分岐のいずれでもよい。アルケニル基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　ＲＹ１０１～ＲＹ１０４が表すアルキニル基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましく、２～４が更に好ましい。アルキニル基は、直截及び分岐のいずれでもよい。アルキニル基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　ＲＹ１０１～ＲＹ１０４が表すアリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。また、アリール基は、単環のアリール基であることが好ましい。アリール基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　ＲＹ１０１～ＲＹ１０４が表すヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３個が好ましい。ヘテロアリール基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　－ＮＲＹ１０２ＲＹ１０３におけるＲＹ１０２とＲＹ１０３は、単結合または２価の連結基を介して結合して環を形成していてもよい。２価の連結基としては、－ＣＲＹ１１１ＲＹ１１２－、－Ｏ－、－Ｓ－およびこれらを２以上組み合わせた基などが挙げられる。ＲＹ１１１およびＲＹ１１２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　式（１）のＹ１０１およびＹ１０２は、それぞれ独立して－ＮＲＹ１０２ＲＹ１０３であることが好ましい。
　式（１）において、Ａｒ１０１とＸ１０１は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ａｒ１０１とＹ１０１は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ａｒ１０２とＸ１０２は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ａｒ１０２とＹ１０２は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよい。
　上記の２価の連結基としては、－ＣＲＹ１２１ＲＹ１２２－、－Ｏ－、－Ｓ－およびこれらを２以上組み合わせた基などが挙げられる。ＲＹ１２１およびＲＹ１２２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　式（１）のＺ１は対イオンを表す。対イオンとしては、対アニオンおよび対カチオンが挙げられる。
　対カチオンとしては、無機カチオンであってもよく、有機カチオンであってもよい。
　無機カチオンとしては、無機カチオンとしては、Ｎａ（ナトリウム）カチオン、Ｌｉ（リチウム）カチオン、Ｋ（カリウム）カチオンなどの１価の金属カチオン；Ｍｇ（マグネシウム）カチオン、Ｃａ（カルシウム）カチオン、Ｓｒ（ストロンチウム）カチオン、Ｂａ（バリウム）カチオン、Ｔｉ（チタン）カチオン、Ｚｒ（ジルコニウム）カチオン、Ｃｒ（クロム）カチオン、Ｍｎ（マンガン）カチオン、Ｆｅ（鉄）カチオン、Ｃｏ（コバルト）カチオン、Ｎｉ（ニッケル）カチオン、Ｃｕ（銅）カチオン、Ｚｎ（亜鉛）カチオン、Ｃｄ（カドミウム）カチオン、Ａｌ（アルミニウム）カチオン、Ｉｎ（インジウム）カチオン、Ｓｎ（錫）カチオン、Ｐｂ（鉛）カチオンおよびＢｉ（ビスマス）カチオンなど２価以上の金属カチオンなどが挙げられる。
　有機カチオンとしては、アンモニウムカチオン（テトラアルキルアンモニウムカチオン、トリアルキルアンモニウムカチオンなど）、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン（ピリジニウムカチオン、Ｎ－メチルピリジニウムカチオン及びＮ－エチルピリジニウムカチオンなど）、ホスホニウムカチオンなどが挙げられる。
　対カチオンは、耐光性及び耐熱性をより向上させることができるという理由から、無機カチオンであることが好ましく、Ｎａカチオン、Ｌｉカチオン、Ｋカチオン、ＭｇカチオンまたはＢａカチオンであることがより好ましい。
　対アニオンは、有機アニオンであってもよく、無機アニオンであってもよい。対アニオンとしては、式（ＡＮ１）で表されるアニオン、式（ＡＮ２）で表されるアニオン、式（ＡＮ３）で表されるアニオン、式（ＡＮ４）で表されるアニオン、式（ＡＮ５）で表されるアニオン、フッ素アニオン、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、シアン化物イオン、過塩素酸アニオン、カルボン酸アニオン、スルホン酸アニオン、リン酸アニオン、ヘテロポリ酸（リンタングステン酸、リンモリブデン酸、リンタングストモリブデン酸、ケイタングステン酸、ケイモリブデン酸、ケイタングストモリブデン酸等）アニオン、イソポリ酸（タングステン酸、モリブデン酸等）アニオン等が挙げられる。
　式（ＡＮ１）中、ＲＡＮ１およびＲＡＮ２は、それぞれ独立してハロゲン原子またはアルキル基を表し、ＲＡＮ１とＲＡＮ２は、結合して環を形成していてもよい；
　式（ＡＮ２）中、ＲＡＮ３～ＲＡＮ５は、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、ＲＡＮ３とＲＡＮ４、ＲＡＮ４とＲＡＮ５、または、ＲＡＮ３とＲＡＮ５は、結合して環を形成していてもよい；
　式（ＡＮ３）中、ＲＡＮ６～ＲＡＮ９は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはシアノ基を表す；
　式（ＡＮ４）中、ＲＡＮ１０は、窒素原子または酸素原子を有する連結基により連結されていても良いハロゲン化炭化水素基を表す；
　式（ＡＮ５）中、ＲＡＮ１１～ＲＡＮ１６は、それぞれ独立してハロゲン原子またはハロゲン化炭化水素基を表す。
　式（ＡＮ１）のＲＡＮ１およびＲＡＮ２が表すハロゲン原子、式（ＡＮ２）のＲＡＮ３～ＲＡＮ５が表すハロゲン原子、および、式（ＡＮ３）のＲＡＮ６～ＲＡＮ９が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。
　式（ＡＮ１）のＲＡＮ１およびＲＡＮ２が表すアルキル基、式（ＡＮ２）のＲＡＮ３～ＲＡＮ５が表すアルキル基、および、式（ＡＮ３）のＲＡＮ６～ＲＡＮ９が表すアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状が挙げられ、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基は、ハロゲン原子を置換基として有するアルキル基であることが好ましく、フッ素原子を置換基として有するアルキル基（フルオロアルキル基）であることがより好ましい。また、フルオロアルキル基は、パーフルオロアルキル基であることが好ましい。
　式（ＡＮ３）のＲＡＮ６～ＲＡＮ９が表すアリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましく、６が更に好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ハロゲン原子およびアルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子であることが好ましい。アルキル基としては、フルオロアルキル基であることが好ましい。
　式（ＡＮ３）のＲＡＮ６～ＲＡＮ９が表すアルコキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルコキシ基は、直鎖、分岐、環状が挙げられ、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルコキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ハロゲン原子およびアルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子であることが好ましい。アルキル基としては、フルオロアルキル基であることが好ましい。
　式（ＡＮ３）のＲＡＮ６～ＲＡＮ９が表すアリールオキシ基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましく、６が更に好ましい。アリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ハロゲン原子およびアルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子であることが好ましい。アルキル基としては、フルオロアルキル基であることが好ましい。
　式（ＡＮ１）のＲＡＮ１とＲＡＮ２は結合して環を形成していてもよい。式（ＡＮ２）のＲＡＮ３とＲＡＮ４、ＲＡＮ４とＲＡＮ５、または、ＲＡＮ３とＲＡＮ５は、結合して環を形成していてもよい。
　式（ＡＮ４）のＲＡＮ１０は、窒素原子または酸素原子を有する連結基により連結されていても良いハロゲン化炭化水素基を表す。ハロゲン化炭化水素基とは、ハロゲン原子で置換された１価の炭化水素基を指し、フッ素原子で置換された１価の炭化水素基であることが好ましい。炭化水素基としては、アルキル基、アリール基などが挙げられる。ハロゲン原子で置換された１価の炭化水素基はさらに置換基を有していてもよい。窒素原子または酸素原子を有する連結基としては、－Ｏ－、―ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－ＮＨ－などが挙げられる。
　式（ＡＮ５）のＲＡＮ１１～ＲＡＮ１６は、それぞれ独立してハロゲン原子またはハロゲン化炭化水素基を表す。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素基としては、ハロゲン原子を置換基として有するアルキル基であることが好ましく、フッ素原子を置換基として有するアルキル基であることがより好ましい。
　ヘテロポリ酸アニオンおよびイソポリ酸アニオンの具体例としては、タングステン酸アニオン（［Ｗ６Ｏ１９］２－、［Ｗ１０Ｏ３２］４－、［ＷＯ４］２－など）、モリブデン酸アニオン（[Ｍｏ２Ｏ７]２－、[Ｍｏ６Ｏ１９]２－、[Ｍｏ８Ｏ２６]４－など）、リンタングステン酸アニオン（［ＰＷ４Ｏ２０］４－、［ＰＷ１２Ｏ４０］３－、[Ｐ２Ｗ１５Ｏ５６]１２－、[Ｐ２Ｗ１７Ｏ６１]１０－、［Ｐ２Ｗ１８Ｏ６２］６－など）、リンモリブデン酸アニオン（[Ｐ２Ｍｏ１８Ｏ６２]６－、［ＰＭｏ１２Ｏ４０］３－など）、リンタングステンモリブデン酸アニオン（［ＰＷ１２－ｘＭｏｘＯ４０］３－（ｘは１～１１の整数）、［Ｐ２Ｗ１８－ｙＭｏｙＯ６２］６－（ｙは１～１７の整数）など）、ケイタングステン酸アニオン（[ＳｉＷ９Ｏ３４]１０－、[ＳｉＷ１０Ｏ３６]８－、[ＳｉＷ１１Ｏ３９]８－、［ＳｉＷ１２Ｏ４０］４－など）、ケイモリブデン酸アニオン（［ＳｉＭｏ１２Ｏ４０］４－など）、ケイタングストモリブデン酸アニオン（［ＳｉＷ１２－ｘＭｏｘＯ４０］４－（ｘは１～１１の整数）など）、およびタングステン系イソポリ酸アニオンが挙げられる。
　対アニオンは、２価以上のアニオンであってもよい。２価以上のアニオンとしては、イミドアニオン、メチドアニオン、ボレートアニオン、スルホン酸アニオンなどの１価のアニオンを１分子中に２以上有するアニオンなどが挙げられる。
　式（１）のｐ１は０～５の整数を表し、ｑ１は、１～５の整数を表す。ｐ１は０～３の整数であることが好ましく、０～２の整数であることがより好ましい。ｑ１は、１～３の整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。
　式（１）中の［　］内の電荷が正電荷に偏っている場合は、ｐ１は１以上の整数であり、かつ、Ｚ１が表す対イオンは、対アニオンであることが好ましい。また、式（１）中の［　］内の正電荷の価数とｑ１との積は、Ｚ１が表す対アニオンの電荷の価数とｐ１との積と同じ値であることが好ましい。
　式（１）中の［　］内の電荷が負電荷に偏っている場合は、ｐ１は１以上の整数であり、かつ、Ｚ１が表す対イオンは、対カチオンであることが好ましい。また、式（１）中の［　］内の負電荷の価数とｑ１との積は、Ｚ１が表す対カチオンの電荷の価数とｐ１との積と同じ値であることが好ましい。
　式（１）中の［　］内の電荷が電気的に中性である場合には、Ｚ１は、存在しない、すなわち、ｐ１は０であり、ｑ１は１であることが好ましい。
　色素Ａ１は、式（２）で表される色素であることも好ましい。
　式（２）中、Ｌ２０１は、－Ｐ（＝Ｏ）（ＲＬ１０１）－、－Ｐ（＝Ｓ）（ＲＬ１０２）－、－Ｓｉ（ＲＬ１０３）（ＲＬ１０４）－、－Ｂ（ＲＬ１０５）－、－Ｓ（＝Ｏ）２－または－Ｓ（＝Ｏ）－を表し、ＲＬ１０１～ＲＬ１０５は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、ＲＬ１０３とＲＬ１０４は結合して環を形成していてもよく、
　ＲＸ１１１およびＲＸ１１２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、
　Ｘ２０３は、窒素原子または－ＣＲＸ１０１－を表し、ＲＸ１０１は、水素原子または置換基を表し、
　Ｌ２０２～Ｌ２０５は、それぞれ独立して、硫黄原子または－Ｘ１０４＝Ｘ１０５－を表し、Ｘ１０４およびＸ１０５は、それぞれ独立して、窒素原子または－ＣＲＸ１０２－を表し、ＲＸ１０２は、水素原子または置換基を表し、
　Ａｒ２０１およびＡｒ２０２は、それぞれ独立して、－（ＣＲＡｒ２０１＝ＣＲＡｒ２０２）ｎ２０１－、アリーレン基、複素環基またはこれらの基を２以上組み合わせた基を表し、ＲＡｒ２０１およびＲＡｒ２０２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、ｎ２０１は１～３の整数を表し、
　Ｙ２０１およびＹ２０２は、それぞれ独立して、－ＯＲＹ１０１、－ＮＲＹ１０２ＲＹ１０３または－ＳＲＹ１０４を表し、ＲＹ１０１～ＲＹ１０４は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、ＲＹ１０２とＲＹ１０３は単結合または２価の連結基を介して結合して環を形成していてもよく、
　Ａｒ２０１とＸ２０１は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ａｒ２０１とＹ２０１は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ａｒ２０２とＸ２０２は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ａｒ２０２とＹ２０２は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ｚ２は対イオンを表し、
　ｐ２は０～５の整数を表し、
　ｑ２は、１～５の整数を表す。
　式（２）のＬ２０１、Ｌ２０２、Ｌ２０３、Ｘ２０３、Ｙ２０１、Ｙ２０２、Ｚ２、ｑ２、ｐ２は、式（１）のＬ１０１、Ｌ１０２、Ｌ１０３、Ｘ１０３、Ｙ１０１、Ｙ１０２、Ｚ１、ｑ１、ｐ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式（２）のＲＸ１１１およびＲＸ１１２が表す置換基は、式（１）におけるＲＸ１０１が表す置換基として説明した基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。式（２）のＲＸ１１１およびＲＸ１１２は水素原子であることが好ましい。
　式（２）のＬ２０４およびＬ２０５は、それぞれ独立して、硫黄原子または－Ｘ１０４＝Ｘ１０５－を表し、硫黄原子であることが好ましい。上記Ｘ１０４およびＸ１０５は、式（１）で説明したＸ１０４およびＸ１０５と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式（２）のＡｒ２０１およびＡｒ２０２は、それぞれ独立して、－（ＣＲＡｒ２０１＝ＣＲＡｒ２０２）ｎ２０１－、アリーレン基、複素環基またはこれらの基を２以上組み合わせた基を表し、ＲＡｒ２０１およびＲＡｒ２０２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、ｎ２０１は１～３の整数を表す。ＲＡｒ２０１、ＲＡｒ２０２およびｎ２０１は、式（１）で説明したＲＡｒ１０１、ＲＡｒ１０２およびｎ１０１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式（２）のＡｒ２０１およびＡｒ２０２は、それぞれ独立して、－（ＣＲＡｒ２０１＝ＣＲＡｒ２０２）ｎ２０１－、アリーレン基またはこれらを組み合わせた基であることが好ましい。
　好ましい一態様として、Ａｒ２０１およびＡｒ２０２が、それぞれ独立して、アリーレン基である態様が挙げられる。
　好ましい別の態様として、Ａｒ２０１およびＡｒ２０２が、それぞれ独立して、－（ＣＲＡｒ２０１＝ＣＲＡｒ２０２）ｎ２０１－とアリーレン基とを組み合わせた基である態様が挙げられる。上記の－（ＣＲＡｒ２０１＝ＣＲＡｒ２０２）ｎ２０１－とアリーレン基とを組み合わせた基は、＊１－（ＣＲＡｒ２０１＝ＣＲＡｒ２０２）ｎ２０１－アリーレン基－＊２であることが好ましい。また、＊２は、式（２）のＹ２０１またはＹ２０２との結合手であることが好ましい。
　式（２）において、Ａｒ２０１とＸ２０１は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ａｒ２０１とＹ２０１は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ａｒ２０２とＸ２０２は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
　Ａｒ２０２とＹ２０２は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよい。
　上記の２価の連結基としては、－ＣＲＹ１２１ＲＹ１２２－、－Ｏ－、－Ｓ－およびこれらを２以上組み合わせた基などが挙げられる。ＲＹ１２１およびＲＹ１２２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　色素Ａ１は、式（４）で表される色素（化合物）であることも好ましい。式（４）で表される色素（化合物）は本発明の化合物でもある。
　式中、Ａｒ４０１はアリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ４０１～Ｒ４０４は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ４０５およびＲ４０６は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルコキシ基またはシアノ基を表し、
　Ｒ４０７およびＲ４０８は、それぞれ独立してアルキル基またはアリール基を表し、
　ｎ４０１およびｎ４０２はそれぞれ独立して０～４の整数を表し、
　ｑ４は１または２を表し、
　Ｚ４はｑ４価の対アニオンを表す。
　Ａｒ４０１が表すアリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。また、アリール基は、単環のアリール基であることが好ましい。
　Ａｒ４０１が表すヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３個が好ましい。
　上記アリール基及びヘテロアリール基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。
　Ａｒ４０１は、アリール基であることが好ましく、単環のアリール基であることがより好ましく、置換基を有する単環のアリール基であることが更に好ましく、オルト位に置換基を有する単環のアリール基であることが特に好ましい。上記の置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられ、アルキル基、スルホ基、カルボキシ基、カルボキシ基の塩、スルホ基の塩、後述するアニオンを含む基またはエチレン性不飽和結合含有基であることが好ましい
　Ｒ４０１～Ｒ４０４は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、アルキル基またはアリール基であることが好ましい。
　Ｒ４０１～Ｒ４０４が表すアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。アルキル基は、直截、分岐および環状のいずれでもよい。アルキル基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　Ｒ４０１～Ｒ４０４が表すアリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。また、アリール基は、単環のアリール基であることが好ましい。アリール基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　Ｒ４０１～Ｒ４０４が表すヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３個が好ましい。ヘテロアリール基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、後述するアニオンを含む基、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　Ｒ４０５およびＲ４０６は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルコキシ基またはシアノ基を表す。
　ｎ４０１およびｎ４０２はそれぞれ独立して０～４の整数を表し、０～２の整数であることが好ましく、０または１であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。
　Ｚ４が表すｑ４価の対アニオンとしては、上述した対アニオンが挙げられる。
　色素Ａ１は、式（５）で表される色素（化合物）であることも好ましい。式（５）で表される色素（化合物）は本発明の化合物でもある。
　式中、Ａｒ５０１は、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
Ｒ５０１～Ｒ５０４は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ５０５およびＲ５０６は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルコキシ基またはシアノ基を表し、
　ｎ５０１およびｎ５０２は、それぞれ独立して０～４の整数を表し、
　ｑ５は１または２を表し、
　Ｚ５はｑ５価の対アニオンを表す。
　式（５）のＡｒ５０１、Ｒ５０１～Ｒ５０６、ｎ５０１、ｎ５０２、ｑ５およびＺ５は、式（４）のＡｒ４０１、Ｒ４０１～Ｒ４０６、ｎ４０１、ｎ４０２、ｑ４およびＺ４と同義であり、好ましい範囲も同様である。
－色素多量体Ａ２－
　特定赤外線吸収色素は、前述の色素Ａ１由来の色素構造を１分子中に２以上含む色素多量体Ａ２（以下、単に、色素多量体ともいう）であってもよい。
　色素多量体としては、式（Ａ）で表される繰り返し単位を有する色素多量体（以下、色素多量体（Ａ）ともいう）、式（Ｃ）で表される繰り返し単位を有する色素多量体（以下、色素多量体（Ｃ）ともいう）、式（Ｄ）で表される色素多量体（以下、色素多量体（Ｄ）ともいう）が挙げられ、色素多量体（Ａ）または色素多量体（Ｄ）であることが好ましい。
（色素多量体（Ａ））
　色素多量体（Ａ）は、式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む。式（Ａ）で表される繰り返し単位の割合は、色素多量体（Ａ）を構成する全繰り返し単位の１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上が更に好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。上限は、１００質量％以下とすることもでき、９５質量％以下とすることもできる。
　式（Ａ）中、Ａ１は３価の連結基を表し、
　Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、
　ＤｙｅＩは、上記色素Ａ１由来の色素構造を表す。
　式（Ａ）のＡ１が表す３価の連結基としては、ポリ（メタ）アクリル系連結基、ポリアルキレンイミン系連結基、ポリエステル系連結基、ポリウレタン系連結基、ポリウレア系連結基、ポリアミド系連結基、ポリエーテル系連結基、ポリスチレン系連結基、ビスフェノール系連結基、ノボラック系連結基などが挙げられ、ポリ（メタ）アクリル系連結基であることが好ましい。
　式（Ａ）のＬ１は単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、複素環基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－およびこれらを２個以上を連結して形成される連結基が挙げられる。Ｒは、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。
　アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましい。上限は、２５以下がより好ましく、２０以下が更に好ましい。下限は、２以上がより好ましく、３以上が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキレン基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。
　アリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。アリーレン基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。
　複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３個が好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。
　Ｌ１は、アルキレン基、アリーレン基、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－またはこれらを２以上組み合わせた連結基であることが好ましく、アルキレン基およびアリーレン基から選ばれる少なくとも１種と、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－および－Ｓ－から選ばれる１種以上とを組み合わせた連結基であることがより好ましい。Ｌ１が表す２価の連結基は、－Ｓ－または－Ｏ－を含む基であることも好ましい。
　Ｌ１において、ＤｙｅＩとＡ１とをつなぐ鎖を構成する原子の数は、２個以上であることが好ましく、３個以上であることがより好ましい。上限は、例えば３０個以下とすることができ、２５個以下とすることもできる
　式（Ａ）のＤｙｅＩが表す色素Ａ１由来の色素構造は、上述した式（１）で表される色素（色素Ａ１）から水素原子を１個取り除いた残基であることが好ましい。
　また、式（１）のＸ１０１～Ｘ１０３、Ｌ１０１～Ｌ１０３、Ａｒ１０１、Ａｒ１０２、Ｙ１０１、Ｙ１０２のいずれかの部位が、式（Ａ）のＬ１との連結部を含むことが好ましく、式（１）のＸ１０３が、式（Ａ）のＬ１との連結部を含むことがより好ましい。
　色素多量体（Ａ）は、式（Ａ）で表される繰り返し単位の他に、他の繰り返し単位を含んでいてもよい。他の繰り返し単位は、重合性基を有する繰り返し単位、酸基を有する繰り返し単位等が挙げられる。重合性基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などのエチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基などが挙げられる。
　重合性基を有する繰り返し単位の割合は、色素多量体（Ａ）を構成する全繰り返し単位の５０質量％以下であることが好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。上限は、３５質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
　酸基を有する繰り返し単位の割合は、色素多量体（Ａ）を構成する全繰り返し単位の５０質量％以下であることが好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。上限は、３５質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
　色素多量体（Ａ）は、（１）重合性基を有する色素Ａ１を付加重合により合成する方法、（２）イソシアネート基、酸無水物基またはエポキシ基等の高反応性官能基を有するポリマーと、高反応性官能基と反応可能な官能基（ヒドロキシ基、一級または二級アミノ基、カルボキシ基等）を有する色素Ａ１とを反応させる方法などの方法により合成できる。付加重合には公知の付加重合（ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合）が適用できるが、このうち、特にラジカル重合により合成することが反応条件を穏和化でき、色素骨格を分解させないため好ましい。ラジカル重合には、公知の反応条件を適用することができる。色素多量体（Ａ）は、耐熱性の観点から、エチレン性不飽和結合を有する色素Ａ１を用いてラジカル重合して得られたラジカル重合体であることが好ましい。
（色素多量体（Ｃ））
　色素多量体（Ｃ）は、式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む。式（Ｃ）で表される繰り返し単位の割合は、色素多量体（Ｃ）を構成する全繰り返し単位の１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上が更に好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。上限は、１００質量％以下とすることもでき、９５質量％以下とすることもできる。
　式（Ｃ）中、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表し、
　ＤｙｅＩＩＩは、上記色素Ａ１由来の色素構造を表し、
　ｍは０または１を表す。
　式（Ｃ）のＬ３は単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、複素環基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－およびこれらを２個以上連結して形成される連結基が挙げられる。Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、または複素環基を表す。
　アルキル基およびアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましい。上限は、２５以下がより好ましく、２０以下が更に好ましい。下限は、２以上がより好ましく、３以上が更に好ましい。アルキル基およびアルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
　アリール基およびアリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。
　複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３個が好ましい。
　アルキレン基、アリーレン基、複素環基、アルキル基およびアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有してもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、重合性基、酸基が挙げられる。
　式（Ｃ）のＬ３は、アルキレン基、アリーレン基、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－およびこれらを２以上組み合わせた連結基が好ましい。
　式（Ｃ）のＤｙｅＩＩＩが表す色素Ａ１由来の色素構造は、上述した式（１）で表される色素（色素Ａ１）から水素原子を２個取り除いた残基であることが好ましい。
　また、式（１）のＸ１０１～Ｘ１０３、Ｌ１０１～Ｌ１０３、Ａｒ１０１、Ａｒ１０２、Ｙ１０１、Ｙ１０２のいずれかの部位が、式（Ａ）のＬ１との連結部を含むことが好ましい。
　式（Ｃ）のｍは０または１を表し、１が好ましい。
　色素多量体（Ｃ）は、一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位の他に、色素多量体（Ａ）で説明した他の繰り返し単位を含んでいてもよい。
（色素多量体（Ｄ））
　色素多量体（Ｄ）は、式（Ｄ）で表される化合物である。
　式（Ｄ）中、Ｌ４は（ｎ＋ｋ）価の連結基を表し、
　ｎは２～２０の整数を表し、
　ｋは０～２０の整数を表し、
　ＤｙｅＩＶは、上記色素Ａ１由来の色素構造を表し、
　Ｐ４は、置換基を表し、
　ｎ個のＤｙｅＩＶはそれぞれ異なっていてもよく、
　ｋが２以上の場合、複数のＰ４はそれぞれ異なっていても良く、
　ｎ＋ｋは、２～２０の整数を表す。
　式（Ｄ）のｎは２～１４が好ましく、２～８がより好ましく、２～７が特に好ましく、２～６が一層好ましい。
　式（Ｄ）のｋは０～１３が好ましい。下限は、１以上とすることもでき、２以上とすることもできる。上限は１０以下が好ましく、８以下がより好ましく、７以下が更に好ましく、６以下がより一層好ましい。
　式（Ｄ）のＬ４が表す（ｎ＋ｋ）価の連結基としては、１個から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が挙げられる。（ｎ＋ｋ）価の連結基としては、下記の構造単位または以下の構造単位が２以上組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）であることが好ましい。以下の式中の＊は結合手を表す。
　Ｌ４が表す（ｎ＋ｋ）価の連結基は、多官能チオールから誘導される連結基、多官能アルコールから誘導される連結基、または、酸無水物から誘導される連結基であることが好ましく、多官能チオールから誘導される連結基であることがより好ましい。
　Ｌ４が表す（ｎ＋ｋ）価の連結基は、式（Ｚａ－１）～（Ｚａ－５）のいずれかで表される基であることが好ましい。
　式（Ｚａ－１）中、Ｌａ２は２価の基を表し、Ｔａ２は単結合又は２価の連結基を表し、２個存在するＴａ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　式（Ｚａ－２）中、Ｌａ３は３価の基を表し、Ｔａ３は単結合又は２価の連結基を表し、３個存在するＴａ３は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　式（Ｚａ－３）中、Ｌａ４は４価の基を表し、Ｔａ４は単結合又は２価の連結基を表し、４個存在するＴａ４は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　式（Ｚａ－４）中、Ｌａ５は５価の基を表し、Ｔａ５は単結合又は２価の連結基を表し、５個存在するＴａ５は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　式（Ｚａ－５）中、Ｌａ６は６価の基を表し、Ｔａ６は単結合又は２価の連結基を表し、６個存在するＴａ６は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　上記式中、＊は結合手を表す。
　Ｌａ２、Ｔａ２～Ｔａ６が表す２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、複素環基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－およびこれらを２個以上連結して形成される連結基が挙げられる。Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、または複素環基を表す。
　アルキル基およびアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましい。上限は、２５以下がより好ましく、２０以下が更に好ましい。下限は、２以上がより好ましく、３以上が更に好ましい。アルキル基およびアルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
　アリール基およびアリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。
　複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３個が好ましい。
　アルキレン基、アリーレン基、複素環基、アルキル基およびアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有してもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、重合性基、酸基が挙げられる。
　Ｌａ３が表す３価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を１個除いた基が挙げられる。Ｌａ４が表す４価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を２個除いた基が挙げられる。Ｌａ５が表す５価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を３個除いた基が挙げられる。Ｌａ６が表す６価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を４個除いた基が挙げられる。Ｌａ３～Ｌａ６が表す３～６価の基は、上述した置換基を有してもよい。
　（ｎ＋ｋ）価の連結基の具体例としては、特開２００８－２２２９５０号公報の段落番号００７１～００７２に記載された連結基、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０１７６に記載された連結基、国際公開第２０１６／０３１４４２号の段落番号００２２～００２４に記載された連結基などが挙げられる。
　式（Ｄ）のＤｙｅＩＶが表す色素Ａ１由来の色素構造は、上述した式（１）で表される色素（色素Ａ１）から水素原子を１個取り除いた残基であることが好ましい。
　また、式（１）のＸ１０１～Ｘ１０３、Ｌ１０１～Ｌ１０３、Ａｒ１０１、Ａｒ１０２、Ｙ１０１、Ｙ１０２のいずれかの部位が、式（Ａ）のＬ１との連結部を含むことが好ましく、式（１）のＸ１０３が、式（Ａ）のＬ１との連結部を含むことがより好ましい。
　式（Ｄ）のＰ４が表す置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基、酸基、重合性基等が挙げられる。また、Ｐ４が表す置換基は、繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖であってもよい。繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖としては、ビニル化合物由来の繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖が好ましい。ｋが２以上の場合、ｋ個のＰ４は、同一であっても、異なっていてもよい。
　Ｐ４が繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖であり、かつ、ｋが１の場合、Ｐ４はビニル化合物由来の繰り返し単位を２～２０個（好ましくは、２～１５個、さらに好ましくは２～１０個）有する１価のポリマー鎖であることが好ましい。また、Ｐ４が繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖であり、かつ、ｋが２以上の場合、ｋ個のＰ４におけるビニル化合物由来の繰り返し単位の個数の平均値は、２～２０個（好ましくは、２～１５個、さらに好ましくは２～１０個）であることが好ましい。
　Ｐ４が繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖である場合、繰り返し単位の数、および、繰り返し単位の個数の平均値は、核磁気共鳴（ＮＭＲ）により求めることができる。
　Ｐ４が繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖である場合、Ｐ４を構成する繰り返し単位としては、上述した色素多量体（Ａ）の態様を説明する中で説明した他の繰り返し単位が挙げられる。他の繰り返し単位は、上述した酸基を有する繰り返し単位および重合性基を有する繰り返し単位から選ばれる１種以上を有することが好ましい。
　Ｐ４が、酸基を含む繰り返し単位を含む場合、酸基を含む繰り返し単位の割合は、Ｐ４の全繰り返し単位に対して、１０～８０モル％であることが好ましく、１０～６５モル％がより好ましい。
　Ｐ４が重合性基を有する繰り返し単位を含む場合、重合性基を有する繰り返し単位の割合は、Ｐ４の全繰り返し単位に対して、１０～８０モル％であることが好ましく、１０～６５モル％がより好ましい。
－置換基Ｔ－
　置換基Ｔとしては、次の基が挙げられる。ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、アミノ基（好ましくは炭素数０～３０のアミノ基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、ヘテロアリールオキシ基、アシル基（好ましくは炭素数２～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１～３０）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０）、ヘテロアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０）、ヘテロアリールスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０）、ヒドロキシ基、カルボキシ基、カルボキシ基の塩、スルホ基、スルホ基の塩、リン酸基、リン酸基の塩、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基、メルカプト基、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロアリール基（好ましくは炭素数１～３０）。カルボキシ基の塩、スルホ基の塩、およびリン酸基の塩において、塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン（テトラアルキルアンモニウムイオン、トリアルキルアンモニウムイオンなど）、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン（ピリジニウムイオン、Ｎ－メチルピリジニウムイオン及びＮ－エチルピリジニウムイオンなど）、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。これらの基は、さらに置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　－アニオンを含む基－
　アニオンを含む基としては、式（Ｐ－１）で表される基、および、式（Ｐ－２）で表される基が挙げられる。
　式（Ｐー１）のＬｐ１は単結合または２価の連結基を表す。Ｌｐ１が表す２価の連結基は、炭素数１～６のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－ＮＲＬｐ１－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＳＯ２－またはこれらの組み合わせからなる基等が挙げられる。上記アルキレン基の水素原子の少なくとも一部はフッ素原子で置換されていることが好ましく、パーフルオロアルキレン基であることがより好ましい。このようなアルキレン基の具体例としては、ジフルオロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、ヘキサフルオロプロピレン基などが挙げられる。上記アリーレン基の水素原子の少なくとも一部はフッ素原子で置換されていることが好ましい。このようなアリーレン基の具体例としては、テトラフルオロフェニレン基、ヘキサフルオロ－１－ナフチレン基、ヘキサフルオロ－２－ナフチレン基などが挙げられる。
　式（Ｐー１）のＬｐ１は、単結合、－ＮＲＬｐ１－と－ＳＯ２とフッ素原子を含むアルキレン基との組み合わせからなる基、－Ｏ－とフッ素原子を含むアリーレン基との組み合わせからなる基、または、－ＮＲＬｐ１－と－ＳＯ２とフッ素原子を含むアルキレン基との組み合わせからなる基であることが好ましい。
　式（Ｐー１）のＸｐ１は、－ＳＯ３ －、－ＣＯＯ－、－ＰＯ４Ｈ－またはホウ素原子を含むアニオンを表し、－ＳＯ３ －または－ＣＯＯ－であることが好ましい。
　式（Ｐ－２）のＬｐ２は、単結合または２価の連結基を表し、単結合であることが好ましい。Ｌｐ２が表す２価の連結基としては、炭素数１～６のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、またはこれらの組み合わせからなる基等が挙げられる。
　式（Ｐー２）のＬｐ３は、－ＳＯ２－または－ＣＯ－を表し、－ＳＯ２－であることが好ましい。
　式（Ｐー２）のＧは、炭素原子または窒素原子を表し、窒素原子であることが好ましい。
　式（Ｐー２）のｎは、Ｇが炭素原子の場合は２を表し、Ｇが窒素原子の場合は１を表す。
　式（Ｐー２）のＲｐ１は、フッ素原子を含むアルキル基またはフッ素原子を含むアリール基を表す。ｎが２の場合、２つのＲｐ１はそれぞれ同一でも異なっていても良い。Ｒｐ１が表すフッ素原子を含むアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましい。Ｒｐ１が表すフッ素原子を含むアリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。フッ素原子を含むアルキル基およびフッ素原子を含むアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで挙げた基などが挙げられる。
　一電子還元や求核剤による色素Ａ１の分解を防ぐ観点から、色素Ａ１のＬＵＭＯ（Ｌｏｗｅｓｔ　Ｕｎｏｃｃｕｐｉｅｄ　Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｏｒｂｉｔａｌ）準位は高い方が好ましい。色素Ａ１のＬＵＭＯ準位は、－６．５ｅＶ以上であることが好ましく、－６．０ｅＶ以上であることがより好ましく、－５．５ｅＶ以上であることが更に好ましい。色素Ａ１のＬＵＭＯ準位は、例えば、色素Ａ１のカチオン部分の構造に対して、量子化学計算プログラムＧａｕｓｓｉａｎ０９を用いて汎関数Ｂ３ＬＹＰ／基底関数６－３１ｇ（ｄ）／真空下の条件で構造最適化計算を実施することで求めることが出来る。
－具体例について－
　特定赤外線吸収色素の具体例としては、以下に示す構造の化合物が挙げられる。これらの化合物の共鳴構造体も特定化合物の具体例として挙げられる。以下に示す構造式中、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
　式（４）で表される化合物は、例えば、下記の合成スキームに従い公知の手法を用いて合成することができる。使用する溶剤、触媒、試薬の種類や量、ならびに反応時間や反応温度などの合成条件は適宜調整することが可能である。
　化合物４ＡをＮ－ブロモコハク酸イミド（ＮＢＳ）などの臭素化剤と反応させて化合物４Ｂを得る。その後、ビスピナコールボランをパラジウム触媒存在下に反応させることで、臭素がホウ素に置換した４Ｃを得る。
　公知の方法で合成した化合物４Ｄに対して臭素部位をアルキルリチウムにてリチウム化した後にジクロロケイ素化合物と反応させて化合物４Ｅを得る。化合物４Ｅに対してアルキルリチウムを反応させ、その後１，２－ジブロモ－１，１，２，２，－テトラクロロエタンを反応させることで化合物４Ｆを得る。
　化合物４Ｃと化合物４Ｆをパラジウム触媒存在下（鈴木－宮浦反応条件）で反応させて、化合物４Ｇを得る。化合物４Ｇを酸性条件で反応してアセタール部位の脱保護を行い、化合物４Ｈを合成する。
　化合物４Ｈにグリニヤール試薬を反応させて化合物４Ｉ得る。その後、酸性条件下で反応させて化合物４Ｊを得る。
　化合物４Ｊに対して、目的のアニオンを有する塩化合物を反応させることで、塩化物アニオンを目的のアニオンへ交換した式（４）で表される化合物を得ることができる。
　式（５）で表される化合物は、式（４）で表される化合物の合成における化合物４Ｅ合成工程において、ジクロロケイ素化合物の代わりに塩化チオニルを用いて、それ以外は同様に合成を行うことで式（５）で表される化合物を合成することができる。
　特定赤外線吸収色素の極大吸収波長は、波長７００～１８００ｎｍの範囲に存在することが好ましく、波長１０００～１８００ｎｍの範囲に存在することがより好ましく、波長１０３０～１７５０ｎｍの範囲に存在することが更に好ましく、波長１０５０～１７００ｎｍの範囲に存在することがより一層好ましく、波長１０７０～１６５０ｎｍの範囲に存在することが更に一層好ましい。
　特定赤外線吸収色素の極大吸収波長における吸光度Ａｍａｘと、極大吸収波長＋２００ｎｍの波長における吸光度Ａｍａｘ＋２００との比である、Ａｍａｘ＋２００／Ａｍａｘは４．５以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。上限は、例えば、９０以下が好ましい。この態様によれば、赤外線の透過性と遮光性のコントラストに優れた光学フィルタを形成することができる。
　特定赤外線吸収色素の含有量は、樹脂組成物の全固形分中１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることが更に好ましい。特定赤外線吸収色素の含有量の上限は、５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。樹脂組成物は特定赤外線吸収色素を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜他の赤外線吸収剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、上述した特定赤外線吸収色素以外の赤外線吸収剤（他の赤外線吸収剤）を含有することができる。更に他の赤外線吸収剤を含有することで、より幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる膜を形成することができる。他の赤外線吸収剤は、染料であってもよく、顔料であってもよい。
　他の赤外線吸収剤の極大吸収波長は、波長７００～１８００ｎｍの範囲に存在することが好ましく、波長１０００～１８００ｎｍの範囲に存在することがより好ましく、波長１０３０～１７５０ｎｍの範囲に存在することが更に好ましく、波長１０５０～１７００ｎｍの範囲に存在することがより一層好ましく、波長１０７０～１６５０ｎｍの範囲に存在することが更に一層好ましい。
　また、他の赤外線吸収剤の極大吸収波長は、上述した特定赤外線吸収色素の最大吸収波長よりも短波長側に存在する好ましい。
　また、他の赤外線吸収剤の極大吸収波長と上述した特定赤外線吸収色素の最大吸収波長との差は、より幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる膜を形成することができるという理由から５０～１０００ｎｍであることが好ましい。上限は、８００ｎｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以下であることがより好ましい。下限は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、１５０ｎｍ以上であることがより好ましい。
　他の赤外線吸収剤としては、ピロロピロール化合物、ポリメチン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、イミニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物、ジチオレン金属錯体、金属酸化物、金属ホウ化物等が挙げられる。
　他の赤外線吸収剤としては、ポリメチン化合物、スクアリリウム化合物、オキソノール化合物が好ましく用いられる。これらの化合物は、一般的に耐熱性や耐光性が低い傾向にあるが、上述した特定赤外線吸収色素を併用することにより、製膜時に上述した特定赤外線吸収色素の会合体に吸着したり、上述した特定赤外線吸収色素とともに会合形成すると推測され、耐光性及び耐熱性に優れた膜を形成することができるので、本発明の効果がより顕著に発揮される。
　ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられる。スクアリリウム化合物としては、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００４０に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００７２に記載の化合物、特開２０１６－０７４６４９号公報の段落番号０１９６～０２２８に記載の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報の段落番号０１２４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１３５３５９号に記載の化合物、特開２０１７－１１４９５６号公報に記載の化合物、特許６１９７９４０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１２０１６６号に記載の化合物などが挙げられる。ポリメチン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－０８８４２６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００９０に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられる。クロコニウム化合物としては、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載の化合物が挙げられる。イミニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物、特開２０１２－０１２３９９号公報に記載の化合物、特開２００７－０９２０６０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１８／０４３５６４号の段落番号００４８～００６３に記載の化合物が挙げられる。フタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物、特許第６０８１７７１号公報に記載のバナジウムフタロシアニン化合物、国際公開第２０２０／０７１４７０号に記載の化合物が挙げられる。ナフタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられる。ジチオレン金属錯体としては、特許第５７３３８０４号公報に記載の化合物が挙げられる。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、酸化亜鉛、Ａｌドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、酸化タングステンなどが挙げられる。酸化タングステンの詳細については、特開２０１６－００６４７６号公報の段落番号００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。金属ホウ化物としては、ホウ化ランタンなどが挙げられる。ホウ化ランタンの市販品としては、ＬａＢ６－Ｆ（日本新金属（株）製）などが挙げられる。また、金属ホウ化物としては、国際公開第２０１７／１１９３９４号に記載の化合物を用いることもできる。酸化インジウムスズの市販品としては、Ｆ－ＩＴＯ（ＤＯＷＡハイテック（株）製）などが挙げられる。
　他の赤外線吸収剤としては、特開２０１７－１９７４３７号公報に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０２５３１１号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１６／１５４７８２号に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８８４９５３号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第６０３６６８９号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８１０６０４号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１７／２１３０４７号の段落番号００９０～０１０７に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１８－０５４７６０号公報の段落番号００１９～００７５に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４０９５５号公報の段落番号００７８～００８２に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－００２７７３号公報の段落番号００４３～００６９に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４１０４７号公報の段落番号００２４～００８６に記載のアミドα位に芳香環を有するスクアリリウム化合物、特開２０１７－１７９１３１号公報に記載のアミド連結型スクアリリウム化合物、特開２０１７－１４１２１５号公報に記載のピロールビス型スクアリリウム骨格又はクロコニウム骨格を有する化合物、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載されたジヒドロカルバゾールビス型のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報の段落番号００２７～０１１４に記載の非対称型の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報に記載されたピロール環含有化合物（カルバゾール型）、特許第６２５１５３０号公報に記載されたフタロシアニン化合物などを用いることもできる。
　他の赤外線吸収剤として、欧州特許第３６２８６４５号明細書の段落番号００２５に記載の下記式で表される酸化タングステンを用いることもできる。
　Ｍ１ ａＭ２ ｂＷｃＯｄ（Ｐ（Ｏ）ｎＲｍ）ｅ
　Ｍ１、Ｍ２はアンモニウムカチオンまたは金属カチオンを表し、ａは０．０１～０．５であり、ｂは０～０．５であり、ｃは１であり、ｄは２．５～３であり、ｅは０．０１～０．７５であり、ｎは１、２または３であり、ｍは１、２または３であり、Ｒは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
　他の赤外線吸収剤の含有量は、上述した特定赤外線吸収色素１００質量部に対し５～５００質量部であることが好ましい。上限は、２００質量部以下であることが好ましく、１００質量部以下であることがより好ましい。下限は、１０質量部以上であることが好ましく、１５質量部以上であることがより好ましい。
　上述した特定赤外線吸収色素と他の赤外線吸収剤との合計の含有量は、樹脂組成物の全固形分中２質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましい。上記合計の含有量の上限は、５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。
＜＜樹脂＞＞
　本発明の樹脂組成物は樹脂を含有する。樹脂は、例えば、顔料等を樹脂組成物中で分散させる用途や、バインダーの用途で配合される。なお、主に顔料等を樹脂組成物中で分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外を目的として樹脂を使用することもできる。
　樹脂の重量平均分子量は、３０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、４０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましい。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０）などが挙げられる。また、樹脂としては、国際公開第２０１６／０８８６４５号の実施例に記載された樹脂、特開２０１７－０５７２６５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０３２６８５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０６６２４０号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１６７５１３号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１７３７８７号公報に記載された樹脂、特開２０１７－２０６６８９号公報の段落番号００４１～００６０に記載された樹脂、特開２０１８－０１０８５６号公報の段落番号００２２～００７１に記載された樹脂、特開２０１６－２２２８９１号公報に記載されたブロックポリイソシアネート樹脂、特開２０２０－１２２０５２号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１１１６５６号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１３９０２１号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１３８５０３号公報に記載の主鎖に環構造を有する構成単位と側鎖にビフェニル基を有する構成単位とを含む樹脂を用いることもできる。また、樹脂としては、フルオレン骨格を有する樹脂を好ましく用いることもできる。フルオレン骨格を有する樹脂については、米国特許出願公開第２０１７／０１０２６１０号明細書の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、樹脂としては、特開２０２０－１８６３７３号公報の段落０１９９～０２３３に記載の樹脂、特開２０２０－１８６３２５号公報に記載のアルカリ可溶性樹脂、韓国公開特許第１０－２０２０－００７８３３９号公報に記載の式１で表される樹脂、特開２０２１－１３４３５０号公報に記載された樹脂を用いることもできる。
　樹脂として、酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂は分散剤として用いることもできる。酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。
　樹脂としては、式（ＥＤ１）で示される化合物および／または式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）由来の繰り返し単位を含む樹脂を含むことも好ましい。
　式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
　エーテルダイマーの具体例については、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂としては、重合性基を有する樹脂を用いることも好ましい。重合性基は、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基であることがより好ましい。
　樹脂としては、式（Ｘ）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む樹脂を用いることも好ましい。
　式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ独立してアルキレン基を表し、ｎは０～１５の整数を表す。Ｒ２１およびＲ２２が表すアルキレン基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、１～３であることが更に好ましく、２または３であることが特に好ましい。ｎは０～１５の整数を表し、０～５の整数であることが好ましく、０～４の整数であることがより好ましく、０～３の整数であることが更に好ましい。
　式（Ｘ）で表される化合物としては、パラクミルフェノールのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレートなどが挙げられる。市販品としては、アロニックスＭ－１１０（東亞合成（株）製）などが挙げられる。
　本発明の樹脂組成物は、分散剤としての樹脂を含有することが好ましい。分散剤としては、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上である樹脂が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシ基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、１０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基が好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフト樹脂であることも好ましい。グラフト樹脂の詳細については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むポリイミン系分散剤であることも好ましい。ポリイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数４０～１００００の側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。ポリイミン系分散剤については、特開２００９－２０３４６２号公報の段落番号００２２～００９７、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えば、デンドリマー（星型ポリマーを含む）が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１などが挙げられる。
　分散剤として用いる樹脂は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量は、樹脂の全繰り返し単位中１０モル％以上であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましく、２０～７０モル％であることが更に好ましい。
　分散剤として、特開２０１８－０８７９３９号公報に記載された樹脂、特許第６４３２０７７号公報の段落番号０２１９～０２２１に記載されたブロック共重合体（ＥＢ－１）～（ＥＢ－９）、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載のポリエステル側鎖を有するポリエチレンイミン、国際公開第２０１９／１２５９４０号に記載のブロック共重合体、特開２０２０－０６６６８７号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、特開２０２０－０６６６８８号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載の分散剤などを用いることもできる。
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥシリーズ、ＢＡＳＦ社製のＥｆｋａシリーズ、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を分散剤として用いることもできる。
　樹脂組成物の全固形分中における樹脂の含有量は、１～９５質量％が好ましい。下限は２質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、７質量％以上が更に好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。上限は、９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましい。
　また、本発明の樹脂組成物が、更に後述する重合性化合物を含有する場合には、樹脂組成物の全固形分中における樹脂の含有量は、１～７５質量％であることが好ましい。上限は、７０質量％以下が好ましく、６５質量％以下がより好ましい。下限は２質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、７質量％以上が更に好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。
　本発明の樹脂組成物が分散剤としての樹脂を含有する場合、樹脂組成物の全固形分中における分散剤としての樹脂の含有量は、０．１～４０質量％が好ましい。上限は、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。また、分散剤としての樹脂の含有量は、顔料１００質量部に対して、１～２００質量部が好ましい。上限は、１５０質量部以下が好ましく、１２５質量部以下がより好ましく、１００質量部以下が更に好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましく、１０質量部以上が更に好ましい。
　本発明の樹脂組成物は、樹脂を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。樹脂を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、水、有機溶剤が挙げられ、有機溶剤であることが好ましい。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、２－ペンタノン、３－ペンタノン、４－ヘプタノン、シクロヘキサノン、２－メチルシクロヘキサノン、３－メチルシクロヘキサノン、４－メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、プロピレングリコールジアセテート、３－メトキシブタノール、メチルエチルケトン、ガンマブチロラクトン、スルホラン、アニソール、１，４－ジアセトキシブタン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、二酢酸ブタン－１，３－ジイル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセタート、ジアセトンアルコール（別名としてダイアセトンアルコール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン）、２－メトキシプロピルアセテート、２－メトキシ－１－プロパノール、イソプロピルアルコールなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　樹脂組成物中における溶剤の含有量は、１０～９７質量％であることが好ましい。下限は、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることがより一層好ましく、７０質量％以上であることが特に好ましい。上限は、９６質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましい。組成物は溶剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜顔料誘導体＞＞
　本発明の樹脂組成物は、更に顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体は分散助剤として用いられる。顔料誘導体としては、色素骨格に酸基または塩基性基が結合した構造を有する化合物が挙げられる。
　顔料誘導体を構成する色素骨格としては、スクアリリウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、アゾ色素骨格、キノフタロン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリレン色素骨格、ペリノン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、ベンゾイミダゾール色素骨格およびベンゾオキサゾール色素骨格が挙げられる。
　酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ボロン酸基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基及びこれらの塩等が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲＡ１で表される基が好ましい。スルホン酸アミド基としては、－ＮＨＳＯ２ＲＡ２で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＡ３、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＡ４、－ＣＯＮＨＣＯＲＡ５または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＡ６で表される基が好ましく、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＡ３がより好ましい。ＲＡ１～ＲＡ６は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ＲＡ１～ＲＡ６が表すアルキル基及びアリール基は、置換基を有してもよい。置換基としてはハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　顔料誘導体の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物が挙げられる。また、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０１－２１７０７７号公報、特開平０３－００９９６１号公報、特開平０３－０２６７６７号公報、特開平０３－１５３７８０号公報、特開平０３－０４５６６２号公報、特開平０４－２８５６６９号公報、特開平０６－１４５５４６号公報、特開平０６－２１２０８８号公報、特開平０６－２４０１５８号公報、特開平１０－０３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落番号００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落番号００６３～００９４に記載の化合物も挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対し、１～５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。顔料誘導体は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合性化合物＞＞
　本発明の樹脂組成物は、更に重合性化合物を含有することができる。重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシメチル基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。
　重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることも好ましい。ラジカル重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物などが挙げられる。
　重合性化合物は、モノマー、プレポリマー、オリゴマーなどの化学的形態のいずれであってもよいが、モノマーが好ましい。
　モノマータイプの重合性化合物（重合性モノマー）の分子量は、２０００未満であることが好ましく、１５００以下であることがより好ましい。重合性モノマーの分子量の下限は１００以上であることが好ましく、２００以上であることがより好ましい。
　重合性モノマーとしてのエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報、特開２０１７－１９４６６２号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの化合物の（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）などが挙げられる。また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることも好ましい。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、更に、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。このような化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する化合物については、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基とアルキレンオキシ基を有する化合物を用いることもできる。このような化合物は、エチレン性不飽和結合含有基と、エチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基とを有する化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基とエチレンオキシ基とを有する化合物であることがより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物であることがさらに好ましい。市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、日本化薬（株）製のイソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、フルオレン骨格を有する重合性化合物を用いることもできる。市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２　ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　環状エーテル基を有する化合物としては、エポキシ基を有する化合物、オキセタニル基を有する化合物などが挙げられ、エポキシ基を有する化合物であることが好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、１分子内にエポキシ基を１～１００個有する化合物が挙げられる。エポキシ基の数の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の数の下限は、２個以上が好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物は、低分子化合物（例えば分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）でもよい。環状エーテル基の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６に記載された化合物、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６に記載された化合物、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもできる。
　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、デナコール　ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１２、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１４、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－２１６、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－３２１、ＥＸ－８５０Ｌ、ＥＸ－８５０（以上、ナガセケムテックス（株）製）、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０００Ｓ、ＥＰ－４００３Ｓ、ＥＰ－４０１０Ｓ、ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、ＰＢ　４７００（以上、（株）ダイセル製）、サイクロマーＰ　ＡＣＡ　２００Ｍ、ＡＣＡ　２３０ＡＡ、ＡＣＡ　Ｚ２５０、ＡＣＡ　Ｚ２５１、ＡＣＡ　Ｚ３００、ＡＣＡ　Ｚ３２０（以上、（株）ダイセル製）、ｊＥＲ１０３１Ｓ、ｊＥＲ１５７Ｓ６５、ｊＥＲ１５２、ｊＥＲ１５４、ｊＥＲ１５７Ｓ７０（以上、三菱ケミカル（株）製）、アロンオキセタンＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）、アデカグリシロール　ＥＤ－５０５（（株）ＡＤＥＫＡ製、エポキシ基含有モノマー）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）、ＯＸＴ－１０１、ＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２１２、ＯＸＴ－２２１（以上、東亞合成（株）製、オキセタニル基含有モノマー）、ＯＸＥ－１０、ＯＸＥ－３０（以上、大阪有機化学工業（株）製、オキセタニル基含有モノマー）などが挙げられる。
　メチロール基を有する化合物（以下、メチロール化合物ともいう）としては、メチロール基が窒素原子または芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。アルコキシメチル基を有する化合物（以下、アルコキシメチル化合物ともいう）としては、アルコキシメチル基が窒素原子または芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。アルコキシメチル基またはメチロール基が窒素原子に結合している化合物としては、アルコキシメチル化メラミン、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、メチロール化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル、メチロール化グリコールウリル、アルコキシメチル化尿素およびメチロール化尿素等が好ましい。また、特開２００４－２９５１１６号公報の段落０１３４～０１４７、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落００９５～０１２６に記載された化合物を用いることもできる。
　樹脂組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量は０．１～５０質量％であることが好ましい。下限は、０．５質量％以上であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましく、３質量％以上であることが更に好ましい。上限は、４０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましく、２５質量％以下であることが更に好ましい。本発明の樹脂組成物は、重合性化合物を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。重合性化合物を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明の樹脂組成物が重合性化合物を含む場合、本発明の樹脂組成物は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。重合性化合物としてラジカル重合性化合物を用いた場合には、光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１に記載された化合物、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－１６７３１３号公報に記載の過酸化物系開始剤、特開２０２０－０５５９９２号公報に記載のオキサゾリジン基を有するアミノアセトフェノン系開始剤、特開２０１３－１９０４５９号公報に記載のオキシム系光重合開始剤、特開２０２０－１７２６１９号公報に記載の重合体、国際公開第２０２０／１５２１２０号に記載の式１で表される化合物、特開２０２１－１８１４０６号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　ヘキサアリールビイミダゾール化合物の具体例としては、２，２’，４－トリス（２－クロロフェニル）－５－（３，４－ジメトキシフェニル）－４，５－ジフェニル－１，１’－ビイミダゾールなどが挙げられる。
　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号、国際公開第２０１７／１６９８１９号、特開２０１９－１６８６５４号公報の段落番号００２９～００４４に記載の化合物、特開２０２１－１７３８５８号公報の一般式（１）で表される化合物や段落００２２から００２４に記載の化合物、特開２０２１－１７００８９号公報の一般式（１）で表される化合物や段落０１１７から０１２０に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロヘキシル－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－アセチルオキシム）などが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０１、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４、ＴＲ－ＰＢＧ－３２７（ＴＲＯＮＬＹ社製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物、特許６６３６０８１号公報に記載の化合物、韓国公開特許第１０－２０１６－０１０９４４４号公報に記載の化合物、特表２０２０－５０７６６４号公報に記載のフルオレニルアミノケトン類光開始剤、国際公開第２０２１／０２３１４４号に記載のオキシムエステル化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されているＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。
　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、樹脂組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル系開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）、特許第６４６９６６９号公報に記載されているオキシムエステル系開始剤などが挙げられる。
　光重合開始剤の含有量は、樹脂組成物の全固形分中０．１～４０質量％が好ましく、０．５～３５質量％がより好ましく、１～３０質量％が更に好ましい。樹脂組成物は光重合開始剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜硬化剤＞＞
　本発明の樹脂組成物が環状エーテル基を有する化合物を含む場合、硬化剤をさらに含むことが好ましい。硬化剤としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノール化合物、多価カルボン酸、チオール化合物などが挙げられる。硬化剤の具体例としては、コハク酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）などが挙げられる。硬化剤は、特開２０１６－０７５７２０号公報の段落番号００７２～００７８に記載の化合物、特開２０１７－０３６３７９号公報に記載の化合物を用いることもできる。硬化剤の含有量は、環状エーテル基を有する化合物の１００質量部に対し、０．０１～２０質量部が好ましく、０．０１～１０質量部がより好ましく、０．１～６．０質量部がさらに好ましい。
＜＜有彩色着色剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ未満の範囲に吸収を有する着色剤が好ましい。
　有彩色着色剤としては、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤およびオレンジ色着色剤が挙げられる。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料と染料とを併用してもよい。また、顔料は、無機顔料、有機顔料のいずれでもよい。また、顔料には、無機顔料または有機－無機顔料の一部を有機発色団で置換した材料を用いることもできる。無機顔料や有機－無機顔料を有機発色団で置換することで、色相設計をしやすくできる。
　顔料の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましい。下限は５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。上限は、１８０ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、樹脂組成物中における顔料の分散安定性が良好である。なお、本発明において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた画像写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本発明における平均一次粒子径は、４００個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
　顔料のＣｕＫα線をＸ線源としたときのＸ線回折スペクトルにおけるいずれかの結晶面に由来するピークの半値幅より求めた結晶子サイズは、０．１ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましく、０．５ｎｍ～５０ｎｍであることがより好ましく、１ｎｍ～３０ｎｍであることが更に好ましく、５ｎｍ～２５ｎｍであることが特に好ましい。
　顔料の比表面積は１～３００ｍ２／ｇであることが好ましい。下限は１０ｍ２／ｇ以上であることが好ましく、３０ｍ２／ｇ以上であることがより好ましい。上限は、２５０ｍ２／ｇ以下であることが好ましく、２００ｍ２／ｇ以下であることがより好ましい。比表面積の値は、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ、ＥｍｍｅｔｔおよびＴｅｌｌｅｒ）法に準じてＤＩＮ　６６１３１：ｄｅｔｅｒｍｉｎａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｓｐｅｃｉｆｉｃ　ｓｕｒｆａｃｅ　ａｒｅａ　　ｏｆ　ｓｏｌｉｄｓ　ｂｙ　ｇａｓ　ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ（ガス吸着による固体の比表面積の測定）に従って測定することができる。
　有彩色着色剤は、顔料を含むものであることが好ましい。有彩色着色剤中における顔料の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。顔料としては以下に示すものが挙げられる。
　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２１５，２２８，２３１，２３２（メチン系），２３３（キノリン系），２３４（アミノケトン系），２３５（アミノケトン系），２３６（アミノケトン系）等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２６９，２７０，２７２，２７９，２９１，２９４（キサンテン系、Ｏｒｇａｎｏ　Ｕｌｔｒａｍａｒｉｎｅ、Ｂｌｕｉｓｈ　Ｒｅｄ），２９５（モノアゾ系），２９６（ジアゾ系），２９７（アミノケトン系）等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３，６４（フタロシアニン系），６５（フタロシアニン系），６６（フタロシアニン系）等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２，６０（トリアリールメタン系），６１（キサンテン系）等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７（モノアゾ系），８８（メチン系）等（以上、青色顔料）。
　また、緑色顔料として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子数が平均８～１２個であり、塩素原子数が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／１１８７２０号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色顔料として中国特許出願第１０６９０９０２７号明細書に記載の化合物、国際公開第２０１２／１０２３９５号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１８－１８００２３号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１９－０３８９５８号公報に記載の化合物、特開２０２０－０７６９９５号公報に記載のコアシェル型色素などを用いることもできる。
　また、青色顔料として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落番号００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落番号００４７に記載の化合物が挙げられる。
　また、黄色顔料として、特開２０１７－２０１００３号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７７１９号公報に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１２号公報の段落番号００１１～００６２、０１３７～０２７６に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１３号公報の段落番号００１０～００６２、０１３８～０２９５に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１４号公報の段落番号００１１～００６２、０１３９～０１９０に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１５号公報の段落番号００１０～００６５、０１４２～０２２２に記載の化合物、特開２０１３－０５４３３９号公報の段落番号００１１～００３４に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２６２２８号公報の段落番号００１３～００５８に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２６４４号公報に記載のイソインドリン化合物、特開２０１８－２０３７９８号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２５７８号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６４３２０７６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１５５８８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１１１７５７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０４０８３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１７－１９７６４０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１６－１４５２８２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０８５５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２１１３９号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９６１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９４３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－１８１０１５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０６１６２２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０３２４８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１２－２２６１１０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０８１５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０５０４２０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０３１２８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特公昭４８－０３２７６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載のキノフタロン化合物、韓国公開特許第１０－２０１４－００３４９６３号公報に記載の化合物、特開２０１７－０９５７０６号公報に記載の化合物、台湾特許出願公開第２０１９２０４９５号公報に記載の化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２５号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２４号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２３号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２２号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２１号公報に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５２００号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９９号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９７号に記載の化合物を用いることもできる。また、これらの化合物を多量体化したものも、色価向上の観点から好ましく用いられる。
　赤色顔料として、特開２０１７－２０１３８４号公報に記載の構造中に少なくとも１つの臭素原子が置換したジケトピロロピロール化合物、特許第６２４８８３８号の段落番号００１６～００２２に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１０２３９９号に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１１７９６５号に記載のジケトピロロピロール化合物、特開２０１２－２２９３４４号公報に記載のナフトールアゾ化合物、特許第６５１６１１９号公報に記載の赤色顔料、特許第６５２５１０１号公報に記載の赤色顔料、特開２０２０－０９０６３２号公報の段落番号０２２９に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４１号公報に記載のアントラキノン化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４４号公報に記載のアントラキノン化合物、特開２０２０－０７９３９６号公報に記載のペリレン化合物などを用いることもできる。また、赤色顔料として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。
　各種顔料が有していることが好ましい回折角については、特許第６５６１８６２号公報、特許第６４１３８７２号公報、特許第６２８１３４５号公報、特開２０２０－０２６５０３号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ピロロピロール系顔料としては、結晶格子面のうち（±１±１±１）の８個の面の中でＸ線回折パターンにおける最大ピークに対応する面方向の結晶子サイズが１４０Å以下であるものを用いることも好ましい。また、ピロロピロール系顔料の物性については、特開２０２０－０９７７４４号公報の段落番号００２８～００７３に記載の通り設定することも好ましい。
　有彩色着色剤には染料を用いることもできる。染料としては特に制限はなく、公知の染料を使用できる。例えば、ピラゾールアゾ系染料、アニリノアゾ系染料、トリアリールメタン系染料、アントラキノン系染料、アントラピリドン系染料、ベンジリデン系染料、オキソノール系染料、ピラゾロトリアゾールアゾ系染料、ピリドンアゾ系染料、シアニン系染料、フェノチアジン系染料、ピロロピラゾールアゾメチン系染料、キサンテン系染料、フタロシアニン系染料、ベンゾピラン系染料、インジゴ系染料、ピロメテン系染料等が挙げられる。
　有彩色着色剤には色素多量体を用いることもできる。色素多量体は、溶剤に溶解して用いられる染料であることが好ましい。また、色素多量体は、粒子を形成していてもよい。色素多量体が粒子である場合は通常溶剤に分散した状態で用いられる。粒子状態の色素多量体は、例えば乳化重合によって得ることができ、特開２０１５－２１４６８２号公報に記載されている化合物および製造方法が具体例として挙げられる。色素多量体は、一分子中に、色素構造を２以上有するものであり、色素構造を３以上有することが好ましい。上限は、特に限定はないが、１００以下とすることもできる。一分子中に有する複数の色素構造は、同一の色素構造であってもよく、異なる色素構造であってもよい。色素多量体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～５００００が好ましい。下限は、３０００以上がより好ましく、６０００以上がさらに好ましい。上限は、３００００以下がより好ましく、２００００以下がさらに好ましい。色素多量体は、特開２０１１－２１３９２５号公報、特開２０１３－０４１０９７号公報、特開２０１５－０２８１４４号公報、特開２０１５－０３０７４２号公報、国際公開第２０１６／０３１４４２号等に記載されている化合物を用いることもできる。
　有彩色着色剤には、韓国公開特許第１０－２０２０－００２８１６０号公報に記載されたトリアリールメタン染料ポリマー、特開２０２０－１１７６３８号公報に記載のキサンテン化合物、国際公開第２０２０／１７４９９１号に記載のフタロシアニン化合物、特開２０２０－１６０２７９号公報に記載のイソインドリン化合物又はそれらの塩、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９４４２号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９７３０号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９０７０号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９０６７号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９０６２号公報に記載の式１で表される化合物、特許第６８０９６４９号に記載のハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料、特開２０２０－１８０１７６号公報に記載のイソインドリン化合物、特開２０２１－１８７９１３号公報に記載のフェノチアジン系化合物、国際公開第２０２２／００４２６１号に記載のハロゲン化亜鉛フタロシアニン、国際公開第２０２１／２５０８８３号に記載のハロゲン化亜鉛フタロシアニンを用いることができる。他の着色剤は、ロタキサンであってもよく、色素骨格はロタキサンの環状構造に使用されていてもよく、棒状構造に使用されていてもよく、両方の構造に使用されていてもよい。
　本発明の樹脂組成物が、有彩色着色剤を含有する場合、有彩色着色剤の含有量は、本発明の樹脂組成物の全固形分中１～５０質量％が好ましい。本発明の樹脂組成物が、有彩色着色剤を２種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
　本発明の樹脂組成物を赤外線カットフィルタ用として用いる場合には、本発明の樹脂組成物は有彩色着色剤を実質的に含有しないことが好ましい。なお、本発明の樹脂組成物が有彩色着色剤を実質的に含有しない場合とは、本発明の樹脂組成物の全固形分中における有彩色着色剤の含有量が、０．５質量％以下であることを意味し、０．１質量％以下であることが好ましく、有彩色着色剤を含有しないことがより好ましい。
＜＜赤外線を透過させて可視光を遮光する色材＞＞
　本発明の樹脂組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材（以下、可視光を遮光する色材ともいう）を含有することもできる。可視光を遮光する色材を含む樹脂組成物は、赤外線透過フィルタ形成用の樹脂組成物として好ましく用いられる。
　可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長４５０～６５０ｎｍの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長９００～１５００ｎｍの光を透過させる色材であることが好ましい。可視光を遮光する色材は、以下の（Ａ）および（Ｂ）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（Ａ）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（Ｂ）：有機系黒色着色剤を含む。
　有彩色着色剤としては、上述したものが挙げられる。有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、特開２０１７－２２６８２１号公報の段落番号００１６～００２０に記載の化合物、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平０１－１７０６０１号公報、特開平０２－０３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
　２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下の（１）～（８）の態様が挙げられる。
（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（２）黄色着色剤、青色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（３）黄色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（４）黄色着色剤および紫色着色剤を含有する態様。
（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（６）紫色着色剤およびオレンジ色着色剤を含有する態様。
（７）緑色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（８）緑色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
　本発明の樹脂組成物が可視光を遮光する色材を含有する場合、可視光を遮光する色材の含有量は、樹脂組成物の全固形分中１～５０質量％が好ましい。下限は５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。
　本発明の樹脂組成物を赤外線カットフィルタ用として用いる場合には、本発明の樹脂組成物は可視光を遮光する色材を実質的に含有しないことが好ましい。なお、本発明の樹脂組成物が可視光を遮光する色材を実質的に含有しない場合とは、本発明の樹脂組成物の全固形分中における可視光を遮光する色材の含有量が、０．５質量％以下であることを意味し、０．１質量％以下であることが好ましく、可視光を遮光する色材を含有しないことがより好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤はシリコーン系界面活性剤またはフッ素系界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤、特開２０２０－００８６３４号公報に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６３、Ｆ－５６５、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント２０８Ｇ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、６１０ＦＭ、７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、７１０ＦＳ、ＦＴＸ－２１８（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤として、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤として、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤として、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤として、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　また、フッ素系界面活性剤として、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤として、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
　また、国際公開第２０２０／０８４８５４号に記載の界面活性剤を、炭素数６以上のパーフルオロアルキル基を有する界面活性剤の代替として用いることも、環境規制の観点から好ましい。
　また、式（ｆｉ－１）で表される含フッ素イミド塩化合物を界面活性剤として用いることも好ましい。
　式（ｆｉ－１）中、ｍは１または２を表し、ｎは１～４の整数を表し、ａは１または２を表し、Ｘａ＋はａ価の金属イオン、第１級アンモニウムイオン、第２級アンモニウムイオン、第３級アンモニウムイオン、第４級アンモニウムイオンまたはＮＨ４ ＋を表す。
　ノニオン性界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　カチオン性界面活性剤としては、テトラアルキルアンモニウム塩、アルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリウム塩等が挙げられる。具体例としては、ジヒドロキシエチルステアリルアミン、２－ヘプタデセニル－ヒドロキシエチルイミダゾリン、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルピリジニウムクロライド、ステアラミドメチルピリジウムクロライド等が挙げられる。
　アニオン性界面活性剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、ナトリウムジオクチルスルホサクシネート、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテ硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、ｔ－オクチルフェノキシエトキシポリエトキシエチル硫酸ナトリウム塩等が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、ＳＨ８４００、ＳＨ８４００　ＦＬＵＩＤ、ＦＺ－２１２２、６７　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、７４　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、Ｍ　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、ＳＦ　８４１９　ＯＩＬ（以上、ダウ・東レ（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６０００、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＦ－６００３（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３７６０、ＢＹＫ－ＵＶ３５１０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　また、シリコーン系界面活性剤には下記構造の化合物を用いることもできる。
　界面活性剤の含有量は、樹脂組成物の全固形分中０．００１～１質量％が好ましく、０．００１～０．５質量％がより好ましく、０．００１～０．２質量％が更に好ましい。樹脂組成物は界面活性剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられ、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、樹脂組成物の全固形分中、０．０００１～５質量％が好ましい。樹脂組成物は重合禁止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の樹脂組成物はシランカップリング剤を含有することができる。本明細書において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤は、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤の含有量は、樹脂組成物の全固形分中０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。樹脂組成物はシランカップリング剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物、ジベンゾイル化合物などが挙げられる。このような化合物の具体例としては、特開２００９－２１７２２１号公報の段落番号００３８～００５２、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０、国際公開第２０２１／１３１３５５号の段落番号００５２、００７４、国際公開第２０２１／１３２２４７号の段落番号００２２～００２４に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、ＢＡＳＦ社製のＴｉｎｕｖｉｎシリーズ、Ｕｖｉｎｕｌ（ユビナール）シリーズなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。紫外線吸収剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９に記載された化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００５９～００７６に記載された化合物、国際公開第２０２０／１３７８１９号に記載されたチオアリール基置換ベンゾトリアゾール型紫外線吸収剤、特開２０２１－１７８９１８号公報に記載の反応性トリアジン紫外線吸収剤を用いることもできる。紫外線吸収剤の含有量は、樹脂組成物の全固形分中０．０１～３０質量％が好ましく、０．０５～２５質量％がより好ましい。樹脂組成物は紫外線吸収剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤などが挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール系酸化防止剤は、フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。リン系酸化防止剤としては、トリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブＡＯ－２０、アデカスタブＡＯ－３０、アデカスタブＡＯ－４０、アデカスタブＡＯ－５０、アデカスタブＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブＡＯ－６０、アデカスタブＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブＡＯ－８０、アデカスタブＡＯ－３３０、アデカスタブＡＯ－４１２Ｓ、アデカスタブ２１１２、アデカスタブＰＥＰ－３６、アデカスタブＨＰ－１０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＪＰ－６５０（城北化学工業（株）製）などが挙げられる。酸化防止剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００２３～００４８に記載された化合物、国際公開第２０１７／００６６００号に記載された化合物、国際公開第２０１７／１６４０２４号に記載された化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－００５９３７１号公報に記載された化合物を使用することもできる。酸化防止剤の含有量は、樹脂組成物の全固形分中０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。樹脂組成物は酸化防止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第２０１４／０２１０２３号、国際公開第２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
＜収容容器＞
　本発明の樹脂組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や樹脂組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。また、容器内壁は、容器内壁からの金属溶出を防ぎ、樹脂組成物の経時安定性を高めたり、成分変質を抑制するなど目的で、ガラス製やステンレス製などにすることも好ましい。
＜樹脂組成物の調製方法＞
　本発明の樹脂組成物は、前述の成分を混合して調製できる。樹脂組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して樹脂組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して樹脂組成物として調製してもよい。
　樹脂組成物の調製に際して、顔料を分散させるプロセスを含んでいてもよい。顔料を分散させるプロセスにおいて、顔料の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、顔料を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全集、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また顔料を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて顔料の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。分散に使用するビーズの素材としては、ジルコニア、メノウ、石英、チタニア、タングステンカーバイト、窒化ケイ素、アルミナ、ステンレス鋼およびガラスが挙げられる。また、ビーズには、モース硬度が２以上の無機化合物を使用することもできる。樹脂組成物中に上記ビーズが１～１００００ｐｐｍ含まれていてもよい。
　樹脂組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、樹脂組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍが好ましく、０．０１～３．０μｍがより好ましく、０．０５～０．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹ、ＤＦＡ４２０１ＮＡＥＹ、ＤＦＡ４２０１Ｊ００６Ｐなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）および株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
　また、フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）が挙げられる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜膜＞
　次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した本発明の樹脂組成物から得られるものである。本発明の膜は、光学フィルタとして好ましく用いることができる。光学フィルタの用途は、特に限定されないが、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタなどが挙げられる。赤外線カットフィルタとしては、例えば、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタ（例えば、ウエハーレベルレンズに対する赤外線カットフィルタ用など）、固体撮像素子の裏面側（受光側とは反対側）における赤外線カットフィルタ、環境光センサー用の赤外線カットフィルタ（例えば、情報端末装置が置かれた環境の照度や色調を感知してディスプレイの色調を調整する照度センサーや、色調を調整する色補正用センサー）などが挙げられる。特に、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。赤外線透過フィルタとしては、可視光を遮光し、特定の波長以上の赤外線を選択的に透過可能なフィルタが挙げられる。
　本発明の膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜（平坦膜）であってもよい。また、本発明の膜は、支持体上に積層して用いてもよく、本発明の膜を支持体から剥離して用いてもよい。支持体としては、シリコン基板などの半導体基材や、透明基材が挙げられる。
　支持体として用いられる半導体基材上には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、半導体基材上には、各画素を隔離する隔壁が形成されていてもよい。隔壁としては金属、金属酸化物、ブラックマトリクスなどが挙げられる。また、半導体基材上には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。
　支持体として用いられる透明基材としては、少なくとも可視光を透過できる材料で構成されたものであれば特に限定されない。例えば、ガラス、樹脂などの材質で構成された基材が挙げられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、銅を含有するガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスとしては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスは、市販品を用いることもできる。銅を含有するガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）等が挙げられる。
　本発明の膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。膜の厚さは２００μｍ以下とすることができ、１５０μｍ以下とすることもでき、１２０μｍ以下とすることもでき、２０μｍ以下とすることもでき、１０μｍ以下とすることもでき、５μｍ以下とすることもできる。膜の厚さの下限は０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましい。
　本発明の膜を赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の膜は、波長６５０～１５００ｎｍ（好ましくは波長６６０～１２００ｎｍ、より好ましくは波長６６０～１０００ｎｍ）の範囲に極大吸収波長が存在することが好ましい。また、波長４２０～５５０ｎｍの光の平均透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましく、８５％以上であることが特に好ましい。また、波長４２０～５５０ｎｍの全ての範囲での透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましい。また、本発明の膜は、波長６５０～１５００ｎｍ（好ましくは波長６６０～１２００ｎｍ、より好ましくは波長６６０～１０００ｎｍ）の範囲の少なくとも１点での透過率が１５％以下であることが好ましく、１０％以下がより好ましく、５％以下が更に好ましい。また、本発明の膜は、極大吸収波長における吸光度を１とした時、波長４２０～５５０ｎｍの範囲における平均吸光度が０．０３０未満であることが好ましく、０．０２５未満であることがより好ましい。
　本発明の膜を赤外線透過フィルタとして用いる場合、本発明の膜は、例えば、以下の（ｉ１）～（ｉ３）のいずれかの分光特性を有することが好ましい。
　（ｉ１）：波長４００～８５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～８５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ２）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ３）：波長４００～１０５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１２００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～１０５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１１５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　本発明の膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。本発明の膜を赤外線カットフィルタとして用い、かつ、本発明の膜とカラーフィルタと組み合わせて用いる場合、本発明の膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本発明の膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることが好ましい。積層体においては、本発明の膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本発明の膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体上に、本発明の膜が形成されていてもよく、本発明の膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。
　本発明の膜は、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子(撮像部はＳｉの他に、ＩｎＧａＡｓなどの化合物半導体、有機半導体、量子ドットなどを用いることも出来る)や、赤外線センサ、発光素子、光通信素子(送信・受信共に)、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
＜膜の製造方法＞
　本発明の膜は、本発明の樹脂組成物を塗布する工程を経て製造できる。
　支持体としては、上述したものが挙げられる。樹脂組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。
　樹脂組成物を塗布して形成した樹脂組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０秒～３０００秒が好ましく、４０～２５００秒がより好ましく、８０～２２０秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられ、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法が好ましい。なお、本発明の膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。
（フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合）
　フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の樹脂組成物を塗布して形成した樹脂組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の樹脂組成物層を現像除去してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
　露光工程では樹脂組成物層をパターン状に露光する。例えば、樹脂組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。
　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。
　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２（例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、または、３５０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
　次に、露光後の樹脂組成物層における未露光部の樹脂組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の樹脂組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の樹脂組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、更に界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、ノニオン性界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄（リンス）することも好ましい。また、リンスは、現像後の樹脂組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の樹脂組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載された方法で行ってもよい。
（ドライエッチング法でパターン形成する場合）
　ドライエッチング法でのパターン形成は、上記樹脂組成物を支持体上に塗布して形成した樹脂組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、プリベーク処理を施すことが好ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜光学フィルタ＞
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜を有する。光学フィルタの種類としては、赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタなどが挙げられる。
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開第２０１５／０９９０６０号の段落番号００４０～００７０、０１１９～０１４５に記載された吸収層が挙げられる。誘電体多層膜としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号０２５５～０２５９に記載された誘電体多層膜が挙げられる。銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基板（銅含有ガラス基板）や、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。銅含有ガラス基板としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）、ＢＧ－６０、ＢＧ－６１（以上、ショット社製）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製）等が挙げられる。好ましい基材としては、ガラス、樹脂などの材質で構成された透明基材が挙げられ、また各種素子上に直接成膜することも好ましい。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、銅を含有するガラスなどが挙げられる。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を含む。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
　支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の膜を有する構成である。更に、デバイス保護膜上であって、本発明の膜の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本発明の膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報に記載された装置が挙げられる。
＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、本発明の膜を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３－０４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６～３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０～４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０～５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０～６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０～７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。本発明の膜は、表示装置用保護板の額縁部に形成された赤外線通信用の開口部内に設けられる赤外線透過膜として用いることもできる。
＜赤外線センサ＞
　本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を含む。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
　図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０の撮像領域上には、赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とが配置されている。また、赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が配置されている。カラーフィルタ１１２および赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。
　赤外線カットフィルタ１１１は本発明の樹脂組成物を用いて形成することができる。カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０２１４～０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。赤外線透過フィルタ１１４は、使用する赤外ＬＥＤの発光波長に応じてその特性が選択される。赤外線透過フィルタ１１４は本発明の樹脂組成物を用いて形成することができる。
　図１に示す赤外線センサにおいて、平坦化層１１６上には、赤外線カットフィルタ１１１とは別の赤外線カットフィルタ（他の赤外線カットフィルタ）が更に配置されていてもよい。他の赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層および／または誘電体多層膜を有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
＜カメラモジュール＞
　本発明のカメラモジュールは、固体撮像素子と、上述した本発明の膜を含む。カメラモジュールは、レンズ、及び、固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路を更に有することが好ましい。カメラモジュールに用いられる固体撮像素子としては、上記本開示に係る固体撮像素子であってもよいし、公知の固体撮像素子であってもよい。また、カメラモジュールに用いられるレンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路としては、公知のものを用いることができる。カメラモジュールの例としては、特開２０１６－００６４７６号公報、及び、特開２０１４－１９７１９０号公報に記載のカメラモジュールを参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
＜発光素子＞
　本発明の膜は、発光素子に用いることもできる。発光素子の構成としては、発光素子として機能する構成であれば特に限定はなく、発光ダイオード（ＬＥＤ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、量子ドット発光ダイオード（ＱＬＥＤ）、垂直共振器型面発光レーザー（ＶＩＣＳＥＬ）などが挙げられる。本発明の膜は発光素子に直接形成されてもよく、また発光の経路上に配置されても良い。
＜光通信素子＞
　本発明の膜は、光通信素子に用いることもできる。光通信素子の構成としては、光通信素子として機能する構成であれば特に限定はなく、送信素子であっても受信素子であっても良い。光通信素子としては、赤外線リモコンや、赤外線トランシーバー、光インターポーザ―、光インターコネクションなどが挙げられる。本発明の膜は受信素子に直接形成されてもよく、また送信素子に直接形成されてもよく、また送受信経路上に配置されても良い。
　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。
＜重量平均分子量の測定＞
　樹脂の重量平均分子量の測定は、測定装置としてＨＰＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）、ガードカラムとしてＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ　ＳｕｐｅｒＨＺ－Ｌ、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｍ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ３０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２０００を直結したカラムを用い、カラム温度を４０℃にして、試料濃度０．１質量％のテトラヒドロフラン溶液をカラムに１０μＬ注入し、溶出溶剤としてテトラヒドロフランを毎分０．３５ｍＬの流量でフローさせ、ＲＩ（示差屈折率）検出装置にて試料ピークを検出し、標準ポリスチレンを用いて作製した検量線を用いて計算した。
＜化合物の合成例＞
（合成例１）　化合物０３３の合成
－化合物０３３Ｋの合成工程－
　ブロモベンゼンの１０．０ｇ（６３．７ｍｍｏｌ）、２，４，６－トリメチルアニリンの８．７８ｇ（６５．０ｍｍｏｌ；１．０２ｅｑ．）、ｔ－ブトキシナトリウムの９．１８ｇ（９５．５ｍｍｏｌ；１．５ｅｑ．）、トルエンの３０ｍＬを混合した。次いで、減圧脱気を行ったのち窒素置換を行う操作を３回繰り返した後、酢酸パラジウムの０．２８６ｇ（１．２７ｍｍｏｌ；０．０２ｅｑ．）およびトリｔ－ブチルホスホニウムテトラフルオロボレートの０．９２４ｇ（３．１８ｍｍｏｌ；０．０５ｅｑ．）を添加した。次いで、減圧脱気を行ったのち窒素置換を行う操作を３回繰り返した後、窒素フロー下にて、１２０℃で４時間反応させた。放冷後、水を添加し、酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）を添加し、分液した。得られた有機層をｂｒｉｎｅ洗浄した後、ＭｇＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒　ヘキサン）で精製して、化合物０３３Ｋを１２．０５ｇ得た。収率は９０％であった。
　ＴＬＣ（Ｔｈｉｎ－Ｌａｙｅｒ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）　Ｒｆ値＝０．２６（ヘキサン）
　１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　２．１７（ｓ，　３Ｈ），　２．１８（ｓ，　３Ｈ），　２．３０（ｓ，　３Ｈ），　５．０９（ｓ，　１Ｈ），　６．４７－６．４９（ｍ，　２Ｈ），　６．７２（ｔ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　１Ｈ），　６．９４（ｓ，　２Ｈ），　７．１４（ｔ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　２Ｈ）．
　－化合物０３３Ａの合成工程－
　化合物０３３Ｋの４．１９ｇ（１９．８ｍｍｏｌ）を脱水ＤＭＦ（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド）の４９．６ｍＬに溶解させ、氷冷下、水素化ナトリウムの０．９５２ｇ（２３．８ｍｍｏｌ；　１．２ｅｑ．）を少しずつ添加し、水浴で３０分撹拌した。氷冷下、ｐ－トルエンスルホン酸エチルの４．７７ｇ（２３．８ｍｍｏｌ；１．２ｅｑ．）を少しずつ添加し、油浴９０℃で２時間、１００℃で３時間反応させた。放冷後、水を添加し、酢酸エチルを添加し、分液した。得られた有機層を水で３回洗浄し、ｂｒｉｎｅ洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒　ヘキサン）で精製して、化合物０３３Ａを４．０５ｇ得た。収率は８５％であった。
　ＴＬＣ　Ｒｆ値＝　０．５５（ヘキサン）
　１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　１．２０（ｔ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　３Ｈ），　２．０６（ｓ，　６Ｈ），　２．３１（ｓ，　３Ｈ），　３．５７（ｑ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　２Ｈ），　６．３９－６．４１（ｍ，　２Ｈ），　６．６１－６．６５（ｍ，　１Ｈ），　６．９５（ｓ，　２Ｈ），　７．１４（ｔ，　Ｊ＝７．６Ｈｚ，　２Ｈ）．
１３Ｃ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　１３．２３，　１８．３１，　２０．９７，　４５．３０，　１１１．１６，　１１５．６８，　１２９．１６，　１２９．６０，　１３６．３４，　１３７．８５，　１４０．３０，　１４７．６４．
　－化合物０３３Ｂの合成工程－
　化合物０３３Ａの９．４９ｇ（３９．６ｍｍｏｌ）を脱水ＤＭＦの１９８ｍＬに溶解させ、氷冷下、Ｎ－ブロモスクシンイミドの７．０６ｇ（３９．６ｍｍｏｌ；１．０ｅｑ．）を脱水ＤＭＦの２３．８ｍＬに溶かした溶液を４０分かけて滴下し、氷浴で３０分間、室温で３時間撹拌した。氷冷下、水１００ｍＬを添加し、酢酸エチルの２００ｍＬと水１００ｍＬを加え、分液した。得られた有機層を水で２回洗浄し、ｂｒｉｎｅ洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒　ヘキサン）で精製して、化合物０３３Ｂを１２．３１ｇ得た。収率は９８％であった。
　ＴＬＣ　Ｒｆ値＝　０．６２（ヘキサン）
　１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　１．１９（ｔ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　３Ｈ），　２．０４（ｓ，　６Ｈ），　２．３１（ｓ，　３Ｈ），　３．５２（ｑ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　２Ｈ），　６．２０－６．３５（ｍ，　２Ｈ），　６．９５（ｓ，　２Ｈ），　７．１９（ｄ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ，　２Ｈ）．
　１３Ｃ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　１３．０１，　１８．２０，　２０．９６，　４５．４４，　１０７．５２，　１１２．８５，　１２９．７２，　１３１．８２，　１３６．６９，　１３７．５９，　１３９．７５，　１４６．７０．
　－化合物０３３Ｃ合成工程
　化合物０３３Ｂの５．００ｇ（１５．７ｍｍｏｌ）を４－メチルテトラヒドロピランの１００ｍＬに溶解し、ビス（ピナコラト）ジボロンの４．９９ｇ（１９．６ｍｍｏｌ；１．２５ｅｑ．）、酢酸カリウムの１．９３ｇ（１９．６ｍｍｏｌ；１．２５ｅｑ．）を添加した。次いで、減圧脱気を行ったのち窒素置換を行う操作を３回繰り返し、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ｄｐｐｆ）の０．５７５ｇ（０．７９ｍｍｏｌ；５ｍｏｌ％）を添加した。次いで、減圧脱気を行ったのち窒素置換を行う操作を３回繰り返し、窒素フロー下で、１００℃で４５時間反応させた。放冷後、水と酢酸エチルを添加し、分液した。得られた有機層をｂｒｉｎｅ洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒　ヘキサン：酢酸エチル＝９：１（質量比））で精製して、化合物０３３Ｃを２．９０ｇ得た。収率は５１％であった。
　ＴＬＣ　Ｒｆ値＝　０．５７（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１（質量比））
　１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　１．２１（ｔ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　３Ｈ），　１．３０（ｓ，　１２Ｈ），　２．０４（ｓ，　６Ｈ），　２．３２（ｓ，　３Ｈ），　３．５２（ｑ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　２Ｈ），　６．００－６．９０（ｂｒ，　２Ｈ），　６．９６（ｓ，　２Ｈ），　７．６０－７．７０（ｂｒ，　２Ｈ）．
　１３Ｃ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　１３．０５，　１８．２１，　２０．９６，　２４．８３，　４５．４６，　８３．０８，　１２７．７１，　１２９．６４，　１３４．７３，　１３６．３２，　１３６．５６，　１３７．５０，　１３９．８２，　１５０．０２．
　－化合物４Ｄの合成工程－
　文献（Ａｎｇｅｗ．　Ｃｈｅｍ．　Ｉｎｔ．　Ｅｄ．，　２０１３年，　５２巻，　８９９０－８９９４頁）記載の手法により化合物４Ｄを合成した。
　－化合物０３３Ｅの合成工程－
　化合物４Ｄの２．０ｇ（５．０５ｍｍｏｌ）を脱水ジエチルエーテルの１０５ｍＬおよび脱水ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）の３４．８ｍＬに溶解させた後、ドライアイス－アセトン浴で冷却し、ｎ－ブチルリチウム（ＢｕＬｉ）（１．６ｍｏｌ／Ｌ）の６．８２ｍＬ（１０．９ｍｍｏｌ；２．１６ｅｑ．）を内温－７４℃以下で滴下し、そのまま２時間撹拌した。ジクロロジフェニルシラン（Ｐｈ２ＳｉＣｌ２）の１．２８ｇ（５．０５ｍｍｏｌ；１．０ｅｑ．）を脱水ジエチルエーテルの１４ｍＬに溶かした溶液を、内温－７５℃以下で１時間かけて滴下し、そのまま１時間撹拌し、冷浴に浸けたまま０℃まで６時間かけてゆっくり昇温しながら撹拌した。水の５０ｍＬを加え、酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をｂｒｉｎｅ洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒　ヘキサン：酢酸エチル＝１９：１（質量比））で精製して、化合物０３３Ｅを０．８０ｇ得た。収率は３８％であった。
　ＴＬＣ　Ｒｆ　＝　０．２４（ヘキサン：酢酸エチル＝１９：１（質量比））
　１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　４．３７（ｓ，　４Ｈ），　７．１６（ｄ，　Ｊ＝５．２Ｈｚ，　２Ｈ），　７．３２－７．３６（ｍ，　４Ｈ），　７．３７－７．４２（ｍ，　４Ｈ），　７．５８（ｄｄ，　Ｊ＝１．２　ａｎｄ　８．０Ｈｚ，　４Ｈ）．
　１３Ｃ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　６６．２０，　１０４．７９，　１２６．３６，　１２８．０７，　１２９．９９，　１３１．４２，　１３３．２９，　１３３．７９，　１３５．６０，　１５５．２５．
　２９Ｓｉ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　－３３．２７．
　－化合物０３３Ｆの合成工程－
　化合物０３３Ｅの０．５０ｇ（１．２ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦの１２ｍＬに溶解した後、ドライアイス－アセトン浴で冷却し、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）のトルエン溶液（１ｍｏｌ／Ｌ）の３．６ｍＬ（３．６ｍｍｏｌ；　３．０ｅｑ．）を内温－７６℃以下で滴下し、そのまま２時間撹拌した。１，２－ジブロモテトラクロロエタンの０．８６ｇ（２．６ｍｍｏｌ；２．２ｅｑ．）を脱水ＴＨＦの２ｍＬに溶かした溶液を滴下し、冷浴に浸けたままゆっくり昇温しながら終夜撹拌した。水の１０ｍＬを加え、酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をｂｒｉｎｅ洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮し、ヘキサンと酢酸エチルを加えて超音波分散し、濾過し、ヘキサンでかけ洗いし、減圧乾燥（６０℃）して、化合物０３３Ｆを０．５６ｇ得た。収率は８１％であった。
　１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　４．３０（ｓ，　４Ｈ），　７．０４（ｓ，　２Ｈ），　７．３６－７．４３（ｍ，　４Ｈ），　７．４４－７．４６（ｍ，　２Ｈ），　７．５４－７．５６（ｍ，　４Ｈ）．
　１３Ｃ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　６６．２８，　１０３．７５，　１１４．３１，　１２８．３０，　１３０．４５，　１３１．９０，　１３３．７８，　１３５．１１，　１３５．５５，　１５５．７１．
　２９Ｓｉ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　－３４．７２．
　－化合物０３３Ｇの合成工程－
　化合物０３３Ｆの０．８５９ｇ（１．４９ｍｍｏｌ）、化合物０３３Ｃの１．２０ｇ（３．２８ｍｍｏｌ；２．２ｅｑ．）、炭酸セシウムの１．１７ｇ（３．５８ｍｍｏｌ；２．４ｅｑ．）、４－メチルテトラヒドロピランの８５．９ｍＬ、水の８．５９ｍＬを混合した。ついで、減圧脱気を行ったのち窒素置換を行う操作を３回繰り返した後、（２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’，４’，６’－トリイソプロピル－１，１’－ビフェニル）［２－（２’－アミノ－１，１’－ビフェニル）］パラジウムメタンスルホン酸塩
（ＸＰｈｏｓ　Ｐｄ　Ｇ３）の０．１３３ｇ（０．１４９ｍｍｏｌ；０．１ｅｑ．）を添加した。次いで、減圧脱気を行ったのち窒素置換を行う操作を３回繰り返した後、窒素フロー下で、１１０℃で８時間反応させた。放冷後、酢酸エチルを添加し、分液した。得られた有機層をｂｒｉｎｅ洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒　ヘキサン：酢酸エチル＝４：１（質量比））で精製して、化合物０３３Ｇを得た。得られた化合物０３３Ｇはそのまま次工程で使用した。
　ＴＬＣ　Ｒｆ値＝　０．６１（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１（質量比））
　１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　１．２０（ｔ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　６Ｈ），　２．０５（ｓ，　１２Ｈ），　２．３２（ｓ，　６Ｈ），　３．５８（ｑ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　４Ｈ），　４．３８（ｓ，　４Ｈ），　６．２０－６．５０（ｍ，　４Ｈ），　６．９５（ｓ，　４Ｈ），　７．０９（ｓ，　２Ｈ），　７．３１－７．３９（ｍ，　１０Ｈ），　７．６２－７．６４（ｍ，　４Ｈ）．
　１３Ｃ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　１３．１５，　１８．２７，　２０．９８，　４５．４６，　６６．１５，　７７．２２，　１０４．９２，　１１１．３４，　１２１．９３，　１２４．６４，　１２７．４４，　１２８．０２，　１２９．６６，　１３３．６２，　１３４．７９，　１３５．７２，　１３６．５８，　１３７．６３，　１３９．８８，　１４６．６２，　１４７．４３，　１５１．９０．
－化合物０３３Ｈの合成工程－
　化合物０３３Ｇを塩化メチレン４０ｍＬに溶解させ、塩化水素（４ｍｏｌ／Ｌ　１，４－ジオキサン溶液）の２．５６ｍＬ（１０．２ｍｍｏｌ　６．９ｅｑ．）を添加して、室温で一晩撹拌した。飽和重曹水で中和し、分液した。得られた水層をＣＨ２Ｃｌ２で抽出し、有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮し、ＣＨ２Ｃｌ２－メタノールで濃縮再結晶し、濾過し、メタノールでかけ洗いして、化合物０３３Ｈを０．９８ｇ得た。収率は７７％であった（化合物０３３Ｆからの収率）。
　ＴＬＣ　Ｒｆ値＝　０．５４（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１（質量比））
　１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　１．２２（ｔ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　６Ｈ），　２．０６（ｓ，　１２Ｈ），　２．３２（ｓ，　６Ｈ），　３．６１（ｑ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　４Ｈ），　６．２０－６．５０（ｍ，　４Ｈ），　６．９６（ｓ，　４Ｈ），　７．３５－７．４４（ｍ，　１２Ｈ），　７．６２－７．６４（ｍ，　４Ｈ）．
　１３Ｃ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　１３．０６，　１８．２２，　２０．９８，　４５．５７，　７７．２２，　１０４．９２，　１１１．４１，　１２１．１０，　１２６．１７，　１２７．８８，　１２８．３２，　１２９．７４，　１３２．１４，　１３５．６１，　１３６．８３，　１３７．４０，　１３９．５３，　１４３．５８，　１４８．４４，　１５４．７１，　１７５．７２．
　２９Ｓｉ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　－３４．７８．
－化合物０３３Ｉの合成工程－
　マグネシウムの０．０５２ｇ（２．１ｍｍｏｌ；１２ｅｑ．）、脱水ＴＨＦの１．５ｍＬにヨウ素の３ｍｇを添加し、約４０℃に加温した後、２－ブロモ－１，３－ジメトキシベンゼンの０．３８ｇ（１．８ｍｍｏｌ；１０ｅｑ．）を脱水ＴＨＦの１．５ｍＬに溶解した溶液を内温４０℃以上でゆっくり滴下し、油浴６０℃で４時間撹拌した後室温まで冷却して、グリニヤール試薬溶液を調製した。化合物０３３Ｈの０．１５ｇ（０．１８ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦの１．５ｍＬに溶解し、氷浴下、調製したグリニヤール試薬溶液を内温４℃以下で滴下し、油浴５０℃で５時間撹拌した。放冷後、反応液を減圧濃縮し、飽和塩化アンモニウム水溶液とＣＨ２Ｃｌ２を加え、分液した。得られた有機層をｂｒｉｎｅ洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒　ヘキサン：酢酸エチル＝４：１（質量比））で精製して、化合物０３３Ｉを０．０９６ｇ得た。収率は５５％であった。
　ＴＬＣ　Ｒｆ値＝　０．３２（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１（質量比））
　１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤ２Ｃｌ２）　ｄ　１．２１（ｔ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　６Ｈ），　１．２９－１．３４（ｂｒ，　１Ｈ），　２．０６（ｓ，　１２Ｈ），　２．３３（ｓ，　６Ｈ），　３．５９（ｑ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　４Ｈ），　３．６０（ｓ，　６Ｈ），　６．２０－６．６０（ｂｒ，　４Ｈ），　６．６９－６．７１（ｍ，　２Ｈ），　６．９９（ｓ，　４Ｈ），　７．１５（ｓ，　２Ｈ），　７．３２－７．３７（ｍ，　５Ｈ），　７．３８－７．４５（ｍ，　６Ｈ），　７．７１－７．８０（ｍ，　４Ｈ）．
　１３Ｃ　ＮＭＲ　（ＣＤ２Ｃｌ２）　ｄ　１３．２６，　１８．３６，　２１．０６，　４５．７６，　５６．９７，　７５．９７，　１０７．０２，　１１１．６３，　１２２．４０，　１２３．４８，　１２７．４０，　１２８．３４，　１２８．４１，　１２９．９１，　１２９．９４，　１３０．０４，　１３０．５０，　１３５．９４，　１３６．０４，　１３６．９７，　１３７．９５，　１４０．１８，　１４４．７９，　１４７．７０，　１５８．５３，　１５９．９８．
－化合物０３３Ｊの合成工程－
　化合物０３３Ｉの０．０９６ｇ（０．０９７ｍｍｏｌ）を塩化メチレンの５ｍＬに溶解させ、塩化水素（４ｍｏｌ／Ｌ　１，４－ジオキサン溶液）の０．１９ｍＬ（０．７８ｍｍｏｌ；８ｅｑ．）を添加して、室温で３０分間撹拌した。希塩酸（６ｍｏｌ／Ｌ）の５ｍＬとＣＨ２Ｃｌ２を加えて撹拌し、分液した。得られた有機層を、水層がｐＨ７になるまで水洗し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧濃縮して、化合物０３３Ｊを０．１０ｇ得た。得られた化合物０３３Ｊはそのまま次工程に使用した。
　ＴＬＣ　Ｒｆ値＝　０．００（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１（質量比））
ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　９６９．３８　（［Ｍ－Ｃｌ］＋）．
　－化合物０３３の合成工程－
　化合物０３３Ｊを塩化メチレンの１０ｍＬに添加して懸濁させたのち、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウム（Ｔｆ２Ｎ－Ｋ＋）の０．０３１０ｇ（０．０９７ｍｍｏｌ；１．０ｅｑ．）を水の１ｍＬに溶かして添加し、室温で５０分間攪拌し、分液した。得られた有機層を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（初期の展開液はヘキサン：酢酸エチル＝４：１（質量比）を用いて、その後展開液をＣＨ２Ｃｌ２：酢酸エチル＝４：１（質量比）に変更した）で精製して、化合物０３３を０．０９２ｇ得た。収率は７６％であった（化合物０３３Ｉからの収率）。
　ＴＬＣ　Ｒｆ値＝　０．７３（ＣＨ２Ｃｌ２：酢酸エチル＝４：１（質量比））
　１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　１．２３（ｔ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　６Ｈ），　２．０２（ｓ，　１２Ｈ），　２．３２（ｓ，　６Ｈ），　３．６９（ｑ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　４Ｈ），　３．７７（ｓ，　６Ｈ），　５．８０－６．２０（ｂｒ，　４Ｈ），　６．６９（ｑ，　Ｊ＝８．８Ｈｚ，　２Ｈ），　６．９７（ｓ，　４Ｈ），　７．３０－７．４３（ｂｒ，　２Ｈ），　７．４５－７．６３（ｍ，　８Ｈ），　７．６６－７．７６（ｍ，　５Ｈ），　７．８２（ｓ，　２Ｈ）．
　１３Ｃ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　１２．７５，　１８．０４，　２０．９８，　４６．３９，　５６．３１，　７７．２３，　１０４．１６，　１１１．４１，　１１４．６５，　１２０．０３（ｑ，　Ｊ＝３２１．８Ｈｚ），　１２０．５３，　１２９．００，　１２９．７１，　１２９．９８，　１３１．４８，　１３３．１０，　１３４．６２，　１３５．５２，　１３６．２３，　１３７．９０，　１３８．１３，　１４７．２０，　１４８．２３，　１５１．２１，　１５２．１８，　１５７．８６，　１６７．７４．
　２９Ｓｉ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　－３２．７１．
　１９Ｆ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　ｄ　－７８．６２．
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　９６９．３７　（［Ｍ－Ｔｆ２Ｎ］＋），　２７９．９３　（Ｔｆ２Ｎ－）．
　極大吸収波長＝９９５ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）　ｅ　１．３５×１０５　Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ
（合成例２）　化合物０３４の合成
　化合物０３３Ｅの合成工程において、ジクロロジフェニルシランを等モル量のジクロロジメチルシランに変えた以外は合成例１と同様の操作を行い化合物０３４を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８４５．３７　（［Ｍ－Ｔｆ２Ｎ］＋），　２７９．９２　（Ｔｆ２Ｎ－）．
　極大吸収波長＝９２８ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例３）　化合物０３５の合成
　化合物０３３Ｅの合成工程において、ジクロロジフェニルシランを等モル量のジクロロジエチルシランに変えた以外は合成例１と同様の操作を行い化合物０３５を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８７３．３９　（［Ｍ－Ｔｆ２Ｎ］＋），　２７９．９１　（Ｔｆ２Ｎ－）．
　極大吸収波長＝９０９ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例４）　化合物０３６の合成
　化合物０３３Ｂの合成工程において、化合物０３３Ａを等モル量のジエチルアニリンに変えた以外は合成例１と同様の操作を行い化合物０３６を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　７８９．３０　（［Ｍ－Ｔｆ２Ｎ］＋），　２７９．９２　（Ｔｆ２Ｎ－）．
　極大吸収波長＝９１５ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例５）　化合物０３７の合成
　化合物０３３Ｉの合成工程において、２－ブロモ－１，３－ジメトキシベンゼンを等モル量の２－ブロモメシチレンに変えた以外は合成例１と同様の操作を行い化合物０３７を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　９５１．４３　（［Ｍ－Ｔｆ２Ｎ］＋），　２７９．９３　（Ｔｆ２Ｎ－）．
　極大吸収波長＝１０３７ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例６）　化合物０３８の合成
　化合物０３３Ｉの合成工程において、２－ブロモ－１，３－ジメトキシベンゼンを等モル量のブロモベンゼンに変えた以外は合成例１と同様の操作を行い化合物０３８を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　９０９．３５　（［Ｍ－Ｔｆ２Ｎ］＋），　２７９．９３　（Ｔｆ２Ｎ－）．
　極大吸収波長＝１０２１ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例７）　化合物０３９の合成
　化合物０３３の合成工程において、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウムを等モル量のトリフルオロ酢酸カリウムに変えた以外は合成例１と同様の操作を行い化合物０３９を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８４５．３７　（［Ｍ－　ＣＦ３ＣＯ２］＋），　１１３．００　（ＣＦ３ＣＯ２ －）．
　極大吸収波長＝９９６ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例８）　化合物０４０の合成
　化合物０３３の合成工程において、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウムを等モル量のトリフルオロメタンスルホン酸ナトリウムに変えた以外は合成例１と同様の操作を行い化合物０４０を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８４５．３７　（［Ｍ－　ＣＦ３ＳＯ３］＋），　１４８．９５　（ＣＦ３ＳＯ３ －）．
　極大吸収波長＝９９５ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例９）　化合物０４１の合成
　化合物０３３の合成工程において、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウムを等モル量のヘキサフルオロリン酸カリウムに変えた以外は合成例１と同様の操作を行い化合物０４１を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８４５．３７　（［Ｍ－　ＰＦ６］＋），　１４４．９７　（ＰＦ６ －）．
　極大吸収波長＝９９４ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例１０）　化合物０４２の合成
　化合物０３３の合成工程において、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウムを等モル量のリチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート　エチルエーテラートに変えた以外は合成例１と同様の操作を行い化合物０４２を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８４５．３７　（［Ｍ－　Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４］＋），　６７８．９７　（Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４ －）．
　極大吸収波長＝９９５ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例１１）　化合物０４３の合成
　化合物０３３の合成工程において、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウムを等モル量のカリウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メタニドに変えた以外は合成例１と同様の操作を行い化合物０４３を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８４５．３７　（［Ｍ－　Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３］＋），　４１０．８８　（Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３ －）．
　極大吸収波長＝９９７ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例１２）　化合物０４４の合成
　化合物０３３の合成工程において、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウムを化合物０３３Ｊに対して０．５当量の１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロプロパン－１，３－ジスルホン酸カリウムに変えた以外は合成例１と同様の操作を行い化合物０４４を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８４５．３７　（［カチオン部］），　１５４．９６　（［アニオン部］／２）．
　極大吸収波長＝９９５ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例１３）　化合物０４５の合成
　合成例１において、ジクロロジフェニルシランを等モル量の塩化チオニルに変えた以外は合成例１と同様の操作を行い化合物０４５を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８３５．３２　（［Ｍ－Ｔｆ２Ｎ］＋），　２７９．９２　（Ｔｆ２Ｎ－）．
　極大吸収波長＝１０３７ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例１４）　化合物０４６の合成
　合成例４において、ジクロロジフェニルシランを等モル量の塩化チオニルに変えた以外は合成例４と同様の操作を行い化合物０４６を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　６５５．２０　（［Ｍ－Ｔｆ２Ｎ］＋），　２７９．９１　（Ｔｆ２Ｎ－）．
　極大吸収波長＝９３２ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例１５）　化合物０４７の合成
　合成例５において、ジクロロジフェニルシランを等モル量の塩化チオニルに変えた以外は合成例５と同様の操作を行い化合物０４５を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８１７．３５　（［Ｍ－Ｔｆ２Ｎ］＋），　２７９．９１　（Ｔｆ２Ｎ－）．
　極大吸収波長＝９７３ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例１６）　化合物０４８の合成
　合成例６において、ジクロロジフェニルシランを等モル量の塩化チオニルに変えた以外は合成例６と同様の操作を行い化合物０４５を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　７７５．２７　（［Ｍ－Ｔｆ２Ｎ］＋），　２７９．９２　（Ｔｆ２Ｎ－）．
　極大吸収波長＝１０６７ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例１７）　化合物０４９の合成
　合成例１３において、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウムを等モル量のヘキサフルオロリン酸カリウムに変えた以外は合成例１３と同様の操作を行い化合物０４９を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８３５．３２　（［Ｍ－　ＣＦ３ＣＯ２］＋），　１１３．００　（ＣＦ３ＣＯ２ －）．
　極大吸収波長＝１０３８ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例１８）　化合物０５０の合成
　合成例１３において、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウムを等モル量のトリフルオロメタンスルホン酸ナトリウムに変えた以外は合成例１３と同様の操作を行い化合物０５０を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８３５．３２　（［Ｍ－　ＣＦ３ＳＯ３］＋），　１４８．９５　（ＣＦ３ＳＯ３ －）．
　極大吸収波長＝１０３６ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例１９）　化合物０５１の合成
　合成例１３において、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウムを等モル量のトリフルオロメタンスルホン酸ナトリウムに変えた以外は合成例１３と同様の操作を行い化合物０５１を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８３５．３２　（［Ｍ－　ＰＦ６］＋），　１４４．９７　（ＰＦ６ －）．
　極大吸収波長＝１０３７ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例２０）　化合物０５２の合成
　合成例１３において、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウムを等モル量のリチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート　エチルエーテラートに変えた以外は合成例１３と同様の操作を行い化合物０５２を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８３５．３２　（［Ｍ－　Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４］＋），　６７８．９７　（Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４ －）．
　極大吸収波長＝１０３８ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例２１）　化合物０５３の合成
　合成例１３において、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウムを等モル量のカリウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メタニドに変えた以外は合成例１３と同様の操作を行い化合物０５３を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８３５．３１　（［Ｍ－　Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３］＋），　４１０．８８　（Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３ －）．
　極大吸収波長＝１０３６ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
（合成例２２）　化合物０５４の合成
　合成例１２において、ジクロロジフェニルシランを等モル量の塩化チオニルに変えた以外は合成例１２と同様の操作を行い化合物０５４を合成した。
　ＭＳ（ＬＤＩ）：　ｍ／ｚ　８３５．３２　（［カチオン部］），　１５４．９６　（［アニオン部］／２）．
　極大吸収波長＝１０３８ｎｍ（ＣＨ２Ｃｌ２）
＜顔料分散液の製造＞
　下記表に示す素材を下記表に示す割合で配合し、総量１０ｇの混合物得た。この混合物を０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合および分散して、各顔料分散液を調製した。顔料分散液の固形分濃度は溶剤の配合量で調整した。
　表に記載の素材の詳細は以下の通りである。
（顔料）
　０１７、０１８：上述した特定赤外線吸収色素の具体例で示した化合物０１７、０１８（赤外線吸収色素）
　ＩＲ１０１～ＩＲ１０３：下記構造の化合物（赤外線吸収色素）
　ＰＢ１５：６　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６（青色着色剤）
　ＰＲ２５４　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（赤色着色剤）
（顔料誘導体）
　Ｓｙｎ－００１、Ｓｙｎ－００２：下記構造の化合物
（分散剤）
　Ｄｉｓ－００１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量２５０００）
　Ｄｉｓ－００２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量９８００）
（溶剤）
　Ｓ－００１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
＜樹脂組成物の製造＞
　下記表に示す溶剤以外の素材を下記表に示す割合で混合し、下記表に示す溶剤を加えて固形分濃度が２０質量％となるように調整した後、撹拌し、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、樹脂組成物を製造した。表中の配合量欄の数値は固形分換算値での質量部の値である。
　上記表に記載の素材の詳細は以下の通りである。
（顔料分散液）
　Ｄ００１、Ｄ００２、Ｄ１０１～Ｄ１０５：上述した顔料分散液Ｄ００１、Ｄ００２、Ｄ１０１～Ｄ１０５
（色材）
　００１、００２、００８、００９、０１６、０２１、０２２、０２３、０２５～０５４：上述した特定赤外線吸収色素の具体例で示した化合物００１、００２、００８、００９、０１６、０２１、０２２、０２３、０２５～０５４
　ＩＲ００１～ＩＲ００７：下記構造の化合物（赤外線吸収色素）
（樹脂）
　Ｂ００１：ポリメタクリル酸メチル（重量平均分子量２４０００、分散度１．８）
　Ｂ００２：ベンジルメタクリレートとメタクリル酸のランダム共重合体（ベンジルメタクリレート：メタクリル酸＝６０：４０（モル比）、重量平均分子量２００００、分散度１．９）
　Ｂ００３：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比である、重量平均分子量１５０００、分散度２．１）
　Ｂ００４：下記構造の樹脂（重量平均分子量２５０００、分散度２．２、ガラス転移温度３１０℃）
（重合性化合物）
　Ｍ－１：アロニックスＭ－３０５（東亞合成（株）製、ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートとの混合物。ペンタエリスリトールトリアクリレートの含有量が５５質量％～６３質量％である。）
　Ｍ－２：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート）
　Ｍ－３：アロニックスＭ－５１０（東亞合成（株）製、多塩基酸変性アクリルオリゴマー）
　Ｍ－４：ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製、ｏ－クレゾールノボラック型エポキシ化合物）
（光重合開始剤）
　Ｃ－１：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製、オキシムエステル化合物）
　Ｃ－２：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製、オキシムエステル化合物）
（界面活性剤）
　Ｆ－１：メガファックＲＳ－７２－Ｋ（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）
　Ｆ－２：下記構造の化合物（重量平均分子量１４０００、繰り返し単位の割合を示す％の数値はモル％である）
　Ｆ－３：ＫＦ－６００１（信越化学工業（株）製、両末端カルビノール変性ポリジメチルシロキサン、水酸基価６２ｍｇＫＯＨ／ｇ、シリコーン系界面活性剤）
（重合禁止剤）
　Ｇ－１：ｐ－メトキシフェノール
（紫外線吸収剤）
　Ｕ－１：Ｕｖｉｎｕｌ３０５０（ＢＡＳＦ製）
（溶剤）
　Ｓ－００１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　Ｓ－００２：プロピレングリコールモノメチルエーテル
＜膜の製造＞
（製造例１）　実施例１、２、比較例１、２の樹脂組成物を用いた膜の製造方法
　樹脂組成物をガラス基材または８インチ（１インチ＝２．５４ｃｍ）シリコンウエハ上に、製膜後の膜厚が１．５μｍとなるようにスピンコート塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で１分間加熱し、膜を製造した。
（製造例２）　実施例３の樹脂組成物を用いた膜の製造方法
　樹脂組成物をガラス基材または８インチ（１インチ＝２．５４ｃｍ）シリコンウエハ上に、製膜後の膜厚が１．５μｍとなるようにスピンコート塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で１０分間加熱し、膜を製造した。
（製造例３）　実施例４～５３の樹脂組成物を用いた膜の製造方法
　樹脂組成物をガラス基材または８インチ（１インチ＝２．５４ｃｍ）シリコンウエハ上に、製膜後の膜厚が１．５μｍとなるようにスピンコート塗布し、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で全面露光した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で２分間加熱し、膜を製造した。
＜分光特性の評価＞
（近赤外線遮蔽性の評価）
　上記の膜を製膜したガラス基材について、紫外可視近赤外分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテク製）を用いて、波長４００～２０００ｎｍの範囲の透過率を測定して、波長１０００～１４００ｎｍの範囲の透過率の平均値（Ｔ）を求めた。以下の基準で、近赤外線遮蔽性を評価した。
　Ａ：Ｔ＜５％
　Ｂ：５％≦Ｔ＜１０％
　Ｃ：１０％≦Ｔ
（近赤外領域の遮光域の矩形性の評価）
　上記の膜を製膜したガラス基材について、紫外可視近赤外分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテク製）を用いて、波長４００～２０００ｎｍの範囲の透過率を測定した。
　波長７００～１８００ｎｍの範囲において、最大吸収波長よりも長波長側であって、透過率が２０％を示す波長（λＬ２０）および透過率が９０％を示す波長（λＬ９０）、ならびに、最大吸収波長よりも短波長側であって、透過率が２０％を示す波長（λＳ２０）および透過率が９０％を示す波長（λＳ９０）をそれぞれ求め、以下の基準で、各遮光域の矩形性を評価した。
　－短波長側の遮光域の矩形性（短波長側矩形性）の評価基準－
　Ａ：λＳ９０－λＳ２０＜１５０ｎｍ
　Ｂ：１５０ｎｍ≦λＳ９０－λＳ２０＜２００ｎｍ
　Ｃ：２００ｎｍ≦λＳ９０－λＳ２０
　－長波長側の遮光域の矩形性（長波長側矩形性）の評価基準－
　Ａ：λＬ２０－λＬ９０＜１５０ｎｍ
　Ｂ：１５０ｎｍ≦λＬ２０－λＬ９０＜２００ｎｍ
　Ｃ：２００ｎｍ≦λＬ２０－λＬ９０
＜耐光性の評価＞
　上記の膜を製膜したガラス基材について、紫外可視近赤外分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテク製）を用いて、波長４００～２０００ｎｍの範囲の透過率を測定した。
　次に、上記の膜を製膜したガラス基材を、キセノンランプを用い１０万ｌｕｘで２０時間照射（２００万ｌｕｘ・ｈ相当）し、キセノンランプ照射後の膜の透過率を測定した。
　キセノンランプ照射前後での波長８００～２０００ｎｍの範囲における各波長での透過率の変化量（ΔＴ）を求め、測定波長域全体でのΔＴの最も大きい値に基づき、以下の基準で耐光性を評価した。ΔＴの値が小さいほうが耐光性が良好である。
　透過率の変化量（ΔＴ）＝｜キセノンランプ照射前の膜の透過率－キセノンランプ照射後の膜の透過率｜
　Ａ：ΔＴ＜３％
　Ｂ：３≦ΔＴ＜５％
　Ｃ：５≦ΔＴ％
＜耐熱性の評価＞
　上記の膜を製膜したガラス基材について、紫外可視近赤外分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテク製）を用いて、波長４００～２０００ｎｍの範囲で透過率を測定した。
　次に、上記の膜を製膜したガラス基材を、ホットプレートを用いて２００℃で１０分間加熱した。
　加熱前後での波長８００～２０００ｎｍの範囲における各波長での透過率の変化量（ΔＴ）を求め、測定波長域全体でのΔＴの最も大きい値に基づき、以下の基準で耐熱性を評価した。ΔＴの値が小さいほうが耐熱性が良好である。
　透過率の変化量（ΔＴ）＝｜加熱前の膜の透過率－加熱後の膜の透過率｜
　Ａ：ΔＴ＜５％
　Ｂ：５≦ΔＴ＜１０％
　Ｃ：１０≦ΔＴ％
　上記表に示すように、実施例は、耐光性及び耐熱性の評価に優れていた。更には、実施例は、長波長側矩形性の評価も優れており、極大吸収波長よりも長波長側における透過率の傾斜が急峻で、透過性と遮光性のコントラストに優れていた。
　また、実施例２８、５３の樹脂組成物を用いて得られた膜については、波長４００～１０００ｎｍの範囲における平均透過率は５％未満であった。
　実施例４～５３の樹脂組成物をガラス基材または８インチ（１インチ＝２．５４ｃｍ）シリコンウエハ上に、製膜後の膜厚が１．５μｍとなるようにスピンコート塗布し、その後ホットプレートで、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で２μｍのベイヤーパターンをマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した後に、ホットプレートで、２００℃で５分間加熱してパターンを形成した。得られたパターンを顕微鏡で観察したところ、ベイヤーパターンが形成されていた。
　１１０：固体撮像素子、１１１：赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層

Claims (17)

  1. 　式（１）で表される色素Ａ１および前記色素Ａ１由来の色素構造を１分子中に２以上含む色素多量体Ａ２から選ばれる少なくとも１種の赤外線吸収色素Ａと、
    　樹脂と、を含む、樹脂組成物；
    　式（１）中、Ｌ１０１は、－Ｐ（＝Ｏ）（ＲＬ１０１）－、－Ｐ（＝Ｓ）（ＲＬ１０２）－、－Ｓｉ（ＲＬ１０３）（ＲＬ１０４）－、－Ｂ（ＲＬ１０５）－、－Ｓ（＝Ｏ）２－または－Ｓ（＝Ｏ）－を表し、ＲＬ１０１～ＲＬ１０５は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、ＲＬ１０３とＲＬ１０４は結合して環を形成していてもよく、
    　Ｘ１０１～Ｘ１０３は、それぞれ独立して、窒素原子または－ＣＲＸ１０１－を表し、ＲＸ１０１は、水素原子または置換基を表し、
    　Ｌ１０２およびＬ１０３は、それぞれ独立して、硫黄原子または－Ｘ１０４＝Ｘ１０５－を表し、Ｘ１０４およびＸ１０５は、それぞれ独立して、窒素原子または－ＣＲＸ１０２－を表し、ＲＸ１０２は、水素原子または置換基を表し、
    　Ａｒ１０１およびＡｒ１０２は、それぞれ独立して、－（ＣＲＡｒ１０１＝ＣＲＡｒ１０２）ｎ１０１－、アリーレン基、複素環基またはこれらの基を２以上組み合わせた基を表し、ＲＡｒ１０１およびＲＡｒ１０２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、ｎ１０１は１～３の整数を表し、
    　Ｙ１０１およびＹ１０２は、それぞれ独立して、－ＯＲＹ１０１、－ＮＲＹ１０２ＲＹ１０３または－ＳＲＹ１０４を表し、ＲＹ１０１～ＲＹ１０４は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、ＲＹ１０２とＲＹ１０３は単結合または２価の連結基を介して結合して環を形成していてもよく、
    　Ａｒ１０１とＸ１０１は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
    　Ａｒ１０１とＹ１０１は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
    　Ａｒ１０２とＸ１０２は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
    　Ａｒ１０２とＹ１０２は、単結合または２価の連結基を介して結合して５員環または６員環を形成していてもよく、
    　Ｚ１は対イオンを表し、
    　ｐ１は０～５の整数を表し、
    　ｑ１は、１～５の整数を表す。
  2. 　前記式（１）のＸ１０３は－ＣＲＸ１０１－であり、ＲＸ１０１は水素原子または置換基であり、
    　Ｌ１０２およびＬ１０３は、それぞれ硫黄原子である、請求項１に記載の樹脂組成物。
  3. 　前記式（１）のＸ１０３は－ＣＲＸ１０１－であり、ＲＸ１０１は水素原子または置換基であり、
    　Ｌ１０２およびＬ１０３は、それぞれ硫黄原子であり、
    　Ｌ１０１は、－Ｐ（＝Ｏ）（ＲＬ１０１）－であり、ＲＬ１０１は、水素原子または置換基である、請求項１に記載の樹脂組成物。
  4. 　前記式（１）のＸ１０３は－ＣＲＸ１０１－であり、ＲＸ１０１は水素原子または置換基であり、
    　Ｌ１０２およびＬ１０３は、それぞれ硫黄原子であり、
    　Ｌ１０１は、－Ｐ（＝Ｏ）（ＲＬ１０１）－であり、ＲＬ１０１は、水素原子または置換基であり、
    　Ｙ１０１およびＹ１０２は、それぞれ独立して、－ＮＲＹ１０２ＲＹ１０３であり、ＲＹ１０２およびＲＹ１０３は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基であり、ＲＹ１０２とＲＹ１０３は単結合または２価の連結基を介して結合して環を形成していてもよい、請求項１に記載の樹脂組成物。
  5. 　前記式（１）のＸ１０３は－ＣＲＸ１０１－であり、ＲＸ１０１は水素原子または置換基であり、
    　Ｌ１０２およびＬ１０３は、それぞれ硫黄原子であり、
    　Ｌ１０１は、－Ｓｉ（ＲＬ１０３）（ＲＬ１０４）－または－Ｓ（＝Ｏ）－であり、ＲＬ１０３およびＲＬ１０４は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基であり、
    　Ｙ１０１およびＹ１０２は、それぞれ独立して、－ＮＲＹ１０２ＲＹ１０３であり、ＲＹ１０２およびＲＹ１０３は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基であり、ＲＹ１０２とＲＹ１０３は単結合または２価の連結基を介して結合して環を形成していてもよい、請求項１に記載の樹脂組成物。
  6. 　更に、前記赤外線吸収色素Ａ以外の赤外線吸収剤を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
  7. 　前記赤外線吸収色素Ａ以外の赤外線吸収剤の極大吸収波長が、赤外線吸収色素Ａの極大吸収波長よりも短波長側に存在する、請求項６に記載の樹脂組成物。
  8. 　前記赤外線吸収色素Ａの極大吸収波長が、波長７００～１８００ｎｍの範囲に存在する、請求項１～５のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
  9. 　更に重合性化合物と、光重合開始剤とを含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
  10. 　請求項１～５のいずれか１項に記載の樹脂組成物を用いて得られた膜。
  11. 　請求項１０に記載の膜を含む光学フィルタ。
  12. 　請求項１０に記載の膜を含む固体撮像素子。
  13. 　請求項１０に記載の膜を含む画像表示装置。
  14. 　請求項１０に記載の膜を含む赤外線センサ。
  15. 　請求項１０に記載の膜を含むカメラモジュール。
  16. 　式（４）で表される化合物；
    　式中、Ａｒ４０１はアリール基またはヘテロアリール基を表し、
    　Ｒ４０１～Ｒ４０４は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
    　Ｒ４０５およびＲ４０６は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルコキシ基またはシアノ基を表し、
    　Ｒ４０７およびＲ４０８は、それぞれ独立してアルキル基またはアリール基を表し、
    　ｎ４０１およびｎ４０２はそれぞれ独立して０～４の整数を表し、
    　ｑ４は１または２を表し、
    　Ｚ４はｑ４価の対アニオンを表す。
  17. 　式（５）で表される化合物；
    　式中、Ａｒ５０１は、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
    Ｒ５０１～Ｒ５０４は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
    　Ｒ５０５およびＲ５０６は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルコキシ基またはシアノ基を表し、
    　ｎ５０１およびｎ５０２は、それぞれ独立して０～４の整数を表し、
    　ｑ５は１または２を表し、
    　Ｚ５はｑ５価の対アニオンを表す。
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