WO2023181481A1 - 冷却装置 - Google Patents

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WO2023181481A1
WO2023181481A1 PCT/JP2022/040415 JP2022040415W WO2023181481A1 WO 2023181481 A1 WO2023181481 A1 WO 2023181481A1 JP 2022040415 W JP2022040415 W JP 2022040415W WO 2023181481 A1 WO2023181481 A1 WO 2023181481A1
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cooling device
fins
semiconductor component
path sections
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努 川水
浩輝 松田
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三菱重工業株式会社
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/46Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
    • H01L23/473Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids by flowing liquids
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/20Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating

Definitions

  • the present disclosure relates to a cooling device.
  • This application claims priority to Japanese Patent Application No. 2022-045924 filed in Japan on March 22, 2022, the contents of which are incorporated herein.
  • the device described in Patent Document 1 below As a device for cooling semiconductor components (chips), for example, the device described in Patent Document 1 below is known.
  • a cooling water channel through which cooling water flows is formed between a plurality of semiconductor modules. It is said that the cooling water is guided laterally from one end of the cooling waterway and can sequentially cool the semiconductor modules.
  • the present disclosure has been made to solve the above problems, and an object of the present disclosure is to provide a cooling device that exhibits even higher cooling effects.
  • a cooling device that cools a plurality of semiconductor components mounted on the front surface of a substrate and arranged in a first direction, and that is mounted on the back surface of the substrate.
  • the passage is provided independently for each of the semiconductor components and has a plurality of passage sections extending in a second direction perpendicular to the first direction, and a central part of the bottom plate in the second direction has a plurality of passage sections.
  • An inlet for supplying the refrigerant to the flow path section is formed.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of a cooling device and a substrate according to a first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the bottom plate of the cooling device according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of a cooling device and a substrate according to a second embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 7 is a plan view showing the configuration of a bottom plate of a cooling device according to a second embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 7 is a plan view showing a modification of the cooling device according to the second embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 7 is a plan view showing the configuration of a bottom plate of a cooling device according to a third embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 7 is a plan view showing a modification of the cooling device according to the third embodiment of the present disclosure.
  • This cooling device 1 is a device for cooling a semiconductor component 20 mounted on a substrate 2 using a liquid coolant.
  • the substrate 2 includes a substrate body 21, a copper pattern 22, and bonding materials 23 and 24.
  • the substrate main body 21 is formed into a plate shape of, for example, glass epoxy resin, Bakelite resin, or the like. Copper patterns 22 are deposited on the front and back surfaces of the substrate body 21, respectively. A desired printed wiring is formed on the copper pattern 22 by etching. Bonding material 24 is provided to fix semiconductor component 20 to copper pattern 22 .
  • a plurality of semiconductor components 20 are arranged on the substrate 2.
  • the semiconductor component 20 is electrically connected to the copper pattern 22 described above.
  • the semiconductor component 20 is, for example, a power transistor or a power FET, and generates heat due to internal resistance associated with its operation.
  • These semiconductor components 20 are arranged on the substrate 2 at intervals in the first direction d1.
  • the cooling device 1 includes a base 10, fins 11, and a bottom plate 12. These base 10, fins 11, and bottom plate 12 are made of a metal material with good thermal conductivity, such as aluminum or copper. It is also possible to model the cooling device 1 using an additive manufacturing method (AM method).
  • the base 10, the fins 11, and the bottom plate 12 may be integrally formed, or only the bottom plate 12 may be configured to be removable from the base 10 and the fins 11. In this case, it is desirable that a leak prevention member such as an O-ring be disposed on the joint surface between the bottom plate 12 and the fins 11.
  • the base 10 is fixed by a bonding material 23 to the back surface of the substrate 2 (that is, the surface facing opposite to the surface on which the semiconductor component 20 is mounted).
  • the base 10 has a plate shape and has a larger area than the substrate 2.
  • a plurality of fins 11 are provided on the back surface 13 of the base 10. Each fin 11 projects in a direction away from the base 10. More specifically, as shown in FIG. 2, these fins 11 extend along the back surface 13 of the base 10 in a second direction d2, which is a horizontal direction orthogonal to the first direction d1, and extend in the first direction d1. Arranged at intervals. Thereby, a flow path F through which the refrigerant flows is formed between the fins 11. Further, a pair of side walls 14 are provided on both sides in the second direction d2.
  • This flow path F is independently divided into three flow path sections F1 for each of the three semiconductor components 20 described above. Specifically, the flow path sections F1 adjacent to each other are separated by one fin 11a of the plurality of fins 11.
  • the fins 11a have the same shape and dimensions as the other fins 11. Note that in FIG. 2, only the fin 11a is shown for the sake of simplification.
  • the bottom plate 12 has a plate shape and is spaced apart from the base 10 by the amount of the flow path F.
  • the bottom plate 12 extends in a first direction d1 and a second direction d2.
  • the thickness of the bottom plate 12 is constant over the entire area.
  • An inlet 17 for introducing the refrigerant into the flow path F from the outside is formed in the center of the bottom plate 12 in the second direction d2 (that is, directly below the center of each semiconductor component 20 in the second direction d2). .
  • the introduction port 17 is a rectangular opening extending in the first direction d1 (see FIG. 2).
  • the dimension of the inlet 17 in the second direction d2 is constant throughout all the flow path sections F1.
  • a refrigerant is introduced in a direction from the bottom plate 12 toward the base 10.
  • the refrigerant flows between the fins 11 to both sides in the second direction d2.
  • alcohol or the like is preferably used as the refrigerant.
  • each semiconductor component 20 can be individually cooled by the refrigerant flowing through each flow path section F1. That is, each semiconductor component 20 is normally supplied with new coolant. Thereby, the refrigerant between the semiconductor components 20 becomes less susceptible to the influence of heat, and it becomes possible to improve the cooling effect. Further, since the introduction port 17 is formed in the center of the flow path section F1 in the second direction d2, the initial low temperature refrigerant can be actively supplied toward the semiconductor component. This makes it possible to cool the semiconductor component 20 more efficiently and actively.
  • the direction in which the refrigerant flows can be restricted to only the second direction d2. This reduces the possibility that the refrigerant will stay in the flow path F or form a vortex, for example. As a result, the refrigerant flows more smoothly, making it possible to cool the semiconductor component 20 more efficiently. Furthermore, only by providing a plurality of fins 11, it is possible to form a plurality of flow path sections F1. In other words, the flow path section F1 can be formed without requiring any other members. This also makes it possible to reduce manufacturing costs and maintenance costs.
  • the number of semiconductor components 20 is not limited to three, and may be four or more. Also in this case, by forming the number of flow path sections F1 corresponding to the number of semiconductor components 20, the same effects as those described above can be obtained.
  • the distance between the fins 11 in the flow path section F1 (first flow path section F11) corresponding to the first semiconductor component 21a (that is, the distance between the fins 11 in the first direction
  • the distance between the fins 11 in d1) is smaller than the distance between the fins 11 in the other flow path section F1.
  • the fins 11 are arranged more densely than in the other flow path sections F1.
  • the size of the inlet 17 in the second direction d2 is larger than the inlet port 17 of the other flow path section F1.
  • the flow rate flowing into the first flow path section F11 becomes equal to or higher than that of the other flow path section F1.
  • the interval between the fins 11 is narrow, and the dimension of the inlet 17 in the second direction d2 is smaller than that of the other one. It is larger than the flow path section F1.
  • the first semiconductor component 21a in the center, which tends to generate heat, with an amount of refrigerant equal to or more than that in the other flow path sections F1, and to enhance the cooling effect by the more densely arranged fins 11. can. Therefore, it is possible to suppress the influence of superimposed heat generation around the first semiconductor component 21a, and the possibility of thermal runaway or damage to each semiconductor component 20 can be significantly reduced.
  • each flow path division F1 is mutually divided by the plate-shaped partition part 18 extended in the second direction d2.
  • the pins 111 are used as cooling bodies, the surface area of the surface with which the refrigerant comes into contact is increased compared to the fins 11. This allows more heat to be transferred from pin 111 to the refrigerant. As a result, in addition to the effects described in the second embodiment, it is possible to further improve the cooling performance of the cooling device 101.
  • the dimensions of the fins 11 in the second direction d2 are smaller than those of the fins 11 in the other flow path sections F1.
  • both ends are close to the center side in the second direction d2, so that the overall length thereof is shortened.
  • the distance between the fins 11 in the first direction d1 is smaller than the distance between the fins 11 in the other flow path sections F1.
  • the dimensions of the inlet 17 are the same in each flow path section F1, and the intervals between the fins 11 are narrow in the first flow path section F11 corresponding to the first semiconductor component 21a in the center. Therefore, in the first flow path section F11, the pressure loss with respect to the refrigerant tends to be larger than in the other flow path sections F1.
  • the length of the fin 11 in the second direction d2 is set smaller than that of the fin 11 in the other flow path section F1.
  • the section where pressure loss occurs when flowing between the fins 11 becomes shorter in the first flow path section F11.
  • the flow rate of the refrigerant supplied to the first flow path section F11 can be made equal to or higher than that of the other flow path section F1.
  • the cooling effect is enhanced by arranging the fins 11 narrowly, and by shortening the length, other The amount of refrigerant equal to or greater than that of the flow path section F1 is supplied. Therefore, it is possible to suppress the influence of superimposed heat generation around the first semiconductor component 21a, and it is possible to significantly reduce the possibility of thermal runaway or damage of each semiconductor component 20.
  • the processing cost and processing time when forming the introduction port 17 can also be reduced. As a result, it is possible to reduce the manufacturing cost of the cooling device 201.
  • the distance between the pins 111 in the first flow path section F11 is set smaller than the distance between the pins 111 in the other flow path section F1.
  • the dimension in the second direction d2 of the region where the pin 111 is arranged is set smaller than the region where the pin 111 is arranged in the other flow path section F1.
  • the pins 111 are used as cooling bodies, the surface area of the surface with which the refrigerant comes into contact is increased compared to the fins 11. This allows more heat to be transferred from pin 111 to the refrigerant. As a result, in addition to the effects described in the third embodiment, it is possible to further improve the cooling performance of the cooling device 201.
  • the cooling device 1, 101, 201 is a cooling device 1, 101, 201 that is mounted on the surface of the substrate 2 and cools a plurality of semiconductor components 20 arranged in the first direction d1.
  • An inlet 17 is formed in the center of the bottom plate 12 in the second direction d2 to supply the refrigerant to each of the flow path sections F1.
  • each semiconductor component 20 can be individually cooled by the refrigerant flowing through each flow path section F1. Further, since the introduction port 17 is formed in the center of the flow path section F1, the initial low temperature refrigerant can be actively supplied toward the semiconductor component 20. This makes it possible to efficiently and actively cool the semiconductor component 20.
  • the cooling device 1, 101, 201 is the cooling device 1, 101, 201 of (1), in which the cooling body protrudes from the base 10 toward the bottom plate 12.
  • a plurality of fins 11 extending in the second direction d2 may be provided, and a pair of adjacent flow path sections F1 may be partitioned by one fin 11a.
  • the direction in which the refrigerant flows can be restricted to only the second direction d2. This allows the refrigerant to flow more smoothly, making it possible to cool the semiconductor component 20 more efficiently.
  • the cooling device 101 is the cooling device 101 of (2), and is configured to cool the semiconductor component 20 located at the center in the first direction d1 among the plurality of semiconductor components 20.
  • the interval between the fins 11 is narrower than in the other flow path section F1
  • the distance between the fins 11 is narrower in the second direction of the introduction port 17 than in the other flow path section F1.
  • the dimension at d2 may be large.
  • the interval between the fins 11 is narrow, and the size of the introduction port 17 is large.
  • the flow rate of the refrigerant supplied to the central semiconductor component 20, which is susceptible to the effects of superimposed heat generation, is equal to or higher than that of the other flow path sections F1, while the fins 11 arranged more densely provide a cooling effect. can be further increased.
  • the cooling device 201 according to the fourth aspect is the cooling device 201 of (2), in which the size of the inlet 17 in the second direction d2 is between the plurality of flow path sections F1.
  • the flow path section F11 corresponding to the semiconductor component 20 that is the same and located at the center in the first direction d1 among the plurality of semiconductor components 20 has a larger number of fins than the other flow path sections F1.
  • 11 may be narrow, and the dimensions of the fins 11 in the second direction d2 may be smaller than the dimensions of the fins 11 in the other channel sections F1.
  • the dimensions of the inlet 17 are the same in each flow path section F1, and the intervals between the fins 11 are narrow in the flow path section F11 corresponding to the semiconductor component 20 in the center.
  • the length of the fin 11 in the second direction d2 is small.
  • the cooling device 101, 201 is the cooling device 101, 201 of (1), in which the cooling body includes a plurality of rod-shaped rods extending from the base 10 toward the bottom plate 12. It may further include a partition wall portion 18 which is a pin 111 and is provided between the pair of flow path sections F1 adjacent to each other.
  • the pins 111 are used as cooling bodies, the surface area is increased compared to the fins 11. Thereby, it becomes possible to further improve the cooling performance of the cooling device 1.
  • the cooling device 101 according to the sixth aspect is the cooling device 101 according to (5), and is configured to cool the semiconductor component 20 located at the center in the first direction d1 among the plurality of semiconductor components 20.
  • the distance between the pins 111 is narrower than in the other channel sections F11, and the distance between the pins 111 is narrower in the second direction of the inlet 17 than in the other channel section F1.
  • the dimension at d2 may be large.
  • the interval between the pins 111 is narrow, and the size of the introduction port 17 is large.
  • the flow rate of the refrigerant supplied to the semiconductor component 20 in the central part, which tends to generate heat is equal to or higher than that of the other flow path sections F1, and the cooling effect can be further enhanced by the more densely arranged pins 111. can.
  • the cooling device 201 according to the seventh aspect is the cooling device 201 according to (5), in which the size of the introduction port 17 in the second direction d2 is between the plurality of flow path sections F1.
  • the flow path section F11 corresponding to the semiconductor component 20 that is the same and located at the center in the first direction d1 among the plurality of semiconductor components 20 has a smaller number of pins than the other flow path sections F1.
  • 111 is narrow, and the size of the region where the pins 111 are arranged in the second direction d2 is smaller than the size of the region where the pins 111 are arranged in the other channel section F1. Good too.
  • the dimensions of the inlet 17 are the same in each flow path section F1, and the intervals between the pins 111 are narrow in the flow path section F11 corresponding to the semiconductor component 20 in the center.
  • the size of the area where the pin 111 is arranged in the second direction d2 is small.
  • a cooling device that exhibits even higher cooling effects can be provided.
  • Cooling device 2 ... Substrate 10... Base 11, 11a... Fin 12... Bottom plate 13... Back surface 14... Side wall 17... Inlet 18... Partition wall part 20
  • Semiconductor component 21a ... First semiconductor component 21b
  • ...Binding material 24 ...Binding material 101
  • Cooling device 111 ...Pin 201
  • Cooling device d1 ...First direction d2
  • Second direction F...Flow path

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Abstract

本開示の冷却装置は、基板の表面に実装され、第一方向に配列された複数の半導体部品を冷却する冷却装置であって、基板の裏面に取り付けられたベースと、ベースに離間して配置されることでベースとの間に冷媒が流通する流路を形成する底板と、流路内に配置された冷却体と、を備え、流路は、半導体部品ごとに独立して設けられ、第一方向に直交する第二方向に延びる複数の流路区画を有し、底板における第二方向の中央部には、各流路区画に冷媒を供給する導入口が形成されている。

Description

冷却装置
 本開示は、冷却装置に関する。
 本願は、2022年3月22日に日本に出願された特願2022-045924号について優先権を主張し、その内容をここに援用する。
 半導体部品(チップ)を冷却するための装置として、例えば下記特許文献1に記載されたものが知られている。下記特許文献1に記載された装置では、複数の半導体モジュールの間に、冷却水が流通する冷却水路が形成されている。冷却水は、冷却水路の一端から横方向に導かれ、順次半導体モジュールを冷却することができるとされている。
特開2006-203138号公報
 ところで、上記のように複数の半導体部品を実装した場合、各半導体部品の発熱が重畳されることで、これら複数の半導体部品のうちの中央部の温度が高温になりやすい。また、上記特許文献1のように、冷却水路の一端から横方向に順次冷却水を流通させる構成では、高温となった冷媒が他の半導体部品の冷却に順次供されるため、冷媒の流れ方向の下流側に位置する半導体部品になるほど冷却効果が低下してしまう。
 本開示は上記課題を解決するためになされたものであって、さらに高い冷却効果を発揮する冷却装置を提供することを目的とする。
 上記課題を解決するために、本開示に係る冷却装置は、基板の表面に実装され、第一方向に配列された複数の半導体部品を冷却する冷却装置であって、前記基板の裏面に取り付けられたベースと、前記ベースに離間して配置されることで該ベースとの間に冷媒が流通する流路を形成する底板と、前記流路内に配置された冷却体と、を備え、前記流路は、前記半導体部品ごとに独立して設けられ、前記第一方向に直交する第二方向に延びる複数の流路区画を有し、前記底板における前記第二方向の中央部には、各前記流路区画に前記冷媒を供給する導入口が形成されている。
 本開示によれば、さらに高い冷却効果を発揮する冷却装置を提供することができる。
本開示の第一実施形態に係る冷却装置、及び基板の構成を示す断面図である。 本開示の第一実施形態に係る冷却装置の底板の構成を示す平面図である。 本開示の第二実施形態に係る冷却装置、及び基板の構成を示す断面図である。 本開示の第二実施形態に係る冷却装置の底板の構成を示す平面図である。 本開示の第二実施形態に係る冷却装置の変形例を示す平面図である。 本開示の第三実施形態に係る冷却装置の底板の構成を示す平面図である。 本開示の第三実施形態に係る冷却装置の変形例を示す平面図である。
<第一実施形態>
 以下、本開示の第一実施形態に係る基板2、及び冷却装置1について、図1と図2を参照して説明する。この冷却装置1は、基板2に実装された半導体部品20を液体の冷媒によって冷却するための装置である。
(基板の構成)
 図1に示すように、基板2は、基板本体21と、銅パターン22と、接合材23,24と、を有している。
 基板本体21は、例えばガラスエポキシ樹脂や、ベークライト樹脂等で板状に形成されている。基板本体21の表面、及び裏面にはそれぞれ銅パターン22が蒸着されている。銅パターン22には、所望のプリント配線がエッチングによって形成されている。接合材24は、半導体部品20を銅パターン22に固定するために設けられている。
 半導体部品20は、複数(一例として3つ)が基板2上に配置されている。半導体部品20は上記の銅パターン22に対して電気的に接続されている。半導体部品20は、例えばパワートランジスタやパワーFETであり、その動作に伴う内部抵抗によって発熱する。これら半導体部品20は、基板2上で第一方向d1に互いに間隔をあけて配置されている。
(冷却装置の構成)
 次いで、冷却装置1の構成について説明する。図1に示すように、冷却装置1は、ベース10と、フィン11と、底板12と、を備えている。これらベース10、フィン11、及び底板12は、アルミニウムや銅のように熱伝導性の良好な金属材料で形成されている。Additive Manufacturing造形法(AM造形法)によって冷却装置1を造形することも可能である。なお、ベース10、フィン11、及び底板12は一体に形成されていてもよいし、底板12のみがベース10、フィン11に対して取り外し可能に構成されていてもよい。この場合、底板12とフィン11の接合面にはOリング等の漏洩防止部材が配置されることが望ましい。
 ベース10は、上記の基板2の裏面(つまり、半導体部品20が実装されている表面とは反対側を向く面)に対して接合材23によって固定されている。ベース10は、基板2よりも大きな面積を有する板状をなしている。
 ベース10の裏面13には、複数のフィン11(冷却体)が設けられている。それぞれのフィン11は、ベース10から離間する方向に突出している。より具体的には図2に示すように、これらフィン11は、ベース10の裏面13に沿って、第一方向d1に直交する水平方向である第二方向d2に延びるとともに、第一方向d1に間隔をあけて配列されている。これにより、フィン11同士の間には冷媒が流れる流路Fが形成されている。また、第二方向d2における両側には、一対の側壁14が設けられている。
 この流路Fは、上記の3つの半導体部品20ごとに独立して3つの流路区画F1に区画されている。具体的には、互いに隣り合う流路区画F1同士は、複数のフィン11のうちの一のフィン11aによって区画されている。フィン11aは他のフィン11と同等の形状と寸法を有する。なお、図2中では図示簡略化のため、このフィン11aのみを図示している。
 再び図1に示すように、上記のフィン11は、底板12によってベース10との間に支持されている。底板12は、ベース10に対して流路Fの分だけ間隔をあけて配置された板状をなしている。底板12は、第一方向d1、及び第二方向d2に広がっている。底板12の厚さは全域で一定である。
 第二方向d2における底板12の中央部(つまり、第二方向d2における各半導体部品20の中央部直下)には、外部から流路F内に冷媒を導くための導入口17が形成されている。導入口17は、第一方向d1に延びる矩形状の開口である(図2参照)。全ての流路区画F1を通じて導入口17の第二方向d2における寸法が一定である。この導入口17を通じて、底板12からベース10に向かう方向に冷媒が導入される。冷媒は各フィン11同士の間を通じて第二方向d2の両側に向かって流通する。なお、冷媒としては低温の水の他、アルコール等が好適に用いられる。
(作用効果)
 上記の半導体部品20に電流が流れると、内部抵抗に伴って当該半導体部品20が発熱する。ここで、従来は、複数の半導体部品20に対して一方向(例えば上記の第一方向d1)に冷媒を供給することでこれら半導体部品20を上流側から下流側にかけて順番に冷却する構成を採ることが一般的であった。しかしながら、この構成では、下流側に位置する半導体部品20になるほど高温の冷媒が供給されることから、当該下流側の半導体部品20に対する冷却効果が低下してしまうという課題があった。そこで、本実施形態では上記の構成を採っている。
 上記構成によれば、各流路区画F1を流れる冷媒によって、それぞれの半導体部品20を個別に冷却することができる。つまり、それぞれの半導体部品20には常態的に新しい冷媒が供給される。これにより、半導体部品20同士の間で冷媒が熱の影響を受けにくくなり、冷却効果を向上させることが可能となる。また、導入口17が第二方向d2における流路区画F1の中央部に形成されていることから、初期の低温の冷媒を半導体部品に向けて積極的に供給することができる。これにより、半導体部品20をさらに効率的かつ積極的に冷却することが可能となる。
 さらに、上記構成によれば、フィン11が第二方向d2に延びていることによって、冷媒の流れる方向を当該第二方向d2のみに規制することができる。これにより、例えば冷媒が流路F内で滞留したり、渦を形成したりする可能性が低減される。その結果、冷媒がより円滑に流れるようになり、半導体部品20をより効率的に冷却することが可能となる。また、複数のフィン11を設けることのみによって複数の流路区画F1を形成することが可能となる。つまり、他の部材を必要とすることなく、流路区画F1を形成することができる。これにより、製造コストやメンテナンスコストの削減も実現することができる。
 以上、本開示の第一実施形態について説明した。なお、本開示の要旨を逸脱しない限りにおいて、上記の構成に種々の変更や改修を施すことが可能である。例えば、半導体部品20の数は3つに限定されず、4つ以上であってもよい。この場合にも、半導体部品20の数に応じた数の流路区画F1が形成されることで、上述したものと同様の作用効果を得ることができる。
<第二実施形態>
 続いて、本開示の第二実施形態について、図3と図4を参照して説明する。なお、上記の第一実施形態と同様の構成については同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。以下の説明では、3つの半導体部品20のうち、第一方向d1の中央部に位置する半導体部品20を第一半導体部品21aと呼び、残余の2つの半導体部品20を第二半導体部品21bと呼ぶ。
 図3に示すように、本実施形態に係る冷却装置101では、第一半導体部品21aに対応する流路区画F1(第一流路区画F11)におけるフィン11同士の間の間隔(つまり、第一方向d1におけるフィン11同士の間の間隔)が、他の流路区画F1におけるフィン11同士の間の間隔に比べて小さくなっている。言い換えると、当該中央部に位置する第一流路区画F11では、フィン11が、他の流路区画F1に比べて、より密になるように配列されている。
 さらに、図4に示すように、この第一流路区画F11では、導入口17の第二方向d2における寸法が他の流路区画F1の導入口17よりも大きくなっている。これにより、第一流路区画F11に流れる流量が他の流路区画F1と同等以上となる。
(作用効果)
 ここで、複数の半導体部品20の発熱量が互いに等しいと仮定した場合、上述のように3つの半導体部品20のうち、中央部に配置された第一半導体部品21aの周囲では、第二半導体部品21bの影響を受けて発熱が重畳される。その結果、第一半導体部品21aは第二半導体部品21bに比べて高温になりやすい。そこで、本実施形態では、上述のような構成を採っている。
 上記構成によれば、中央部の半導体部品20(第一半導体部品21a)に対応する第一流路区画F11ではフィン11同士の間隔が狭く、かつ導入口17の第二方向d2における寸法が他の流路区画F1よりも大きい。これにより、発熱しやすい中央部の第一半導体部品21aに対して他の流路区画F1と同等以上の量の冷媒を供給しつつ、より密に配置されたフィン11によって冷却効果を高めることができる。したがって、第一半導体部品21aの周囲で発熱が重畳される影響を小さく抑えることが可能となり、各半導体部品20の熱暴走や損壊が生じる可能性を大幅に低減することができる。
 以上、本開示の第二実施形態について説明した。なお、本開示の要旨を逸脱しない限りにおいて、上記の構成に種々の変更や改修を施すことが可能である。
 例えば、図5に変形例として示すように、冷却体としてフィン11に代えて、ピン111を適用することも可能である。この場合、同図に示すように、第一流路区画F11ではピン111同士の間の間隔が、他の流路区画F1に比べて狭くなるように配置される。また、各流路区画F1は、第二方向d2に延びる板状の隔壁部18によって互いに区画されている。
 上記構成によれば、冷却体としてピン111が用いられていることから、フィン11に比べて冷媒が接触する面の表面積が増加する。これにより、ピン111から冷媒に移動する熱がより多くなる。その結果、第二実施形態で説明した作用効果に加えて、冷却装置101の冷却性能をさらに向上させることが可能となる。
<第三実施形態>
 次に、本開示の第三実施形態について、図6を参照して説明する。なお、上記の各実施形態と同様の構成については同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。同図に示すように、本実施形態に係る冷却装置201では、全ての流路区画F1を通じて導入口17の第二方向d2における寸法が一定である。
 さらに、第一半導体部品21aに対応する第一流路区画F11では、第二方向d2におけるフィン11の寸法が、他の流路区画F1のフィン11に比べて小さくなっている。具体的には、第一流路区画F11のフィン11では、両端部が第二方向d2における中央側に近接することでその全長が短くなっている。さらに、第一流路区画F11では、フィン11同士の第一方向d1における間隔が、他の流路区画F1のフィン11同士の間隔よりも小さくなっている。
(作用効果)
 上記構成によれば、導入口17の寸法が各流路区画F1で同一であり、中央部の第一半導体部品21aに対応する第一流路区画F11ではフィン11同士の間隔が狭い。このため、第一流路区画F11では、冷媒に対する圧力損失が他の流路区画F1に比べて大きくなる傾向にある。
 そこで、この第一流路区画F11では第二方向d2におけるフィン11の長さが他の流路区画F1のフィン11に比べて小さく設定されている。これにより、フィン11同士の間を流れる際に圧力損失が生じる区間が第一流路区画F11では短くなる。その結果、第一流路区画F11に供給される冷媒の流量を、他の流路区画F1と同等以上とすることができる。中央部の半導体部品20(第一半導体部品21a)に対応する第一流路区画F11ではフィン11同士の間隔が狭く配置されることで冷却効果が高められており、長さを短くすることで他の流路区画F1と同等以上の冷媒が供給される。このため、第一半導体部品21aの周囲で発熱が重畳される影響を小さく抑えることが可能となり、各半導体部品20の熱暴走や損壊が生じる可能性を大幅に低減することができる。
 さらに、導入口17の第二方向d2における寸法が各流路区画F1同士の間で一定であることから、当該導入口17を形成する際の加工コストや加工時間を短縮することもできる。その結果、冷却装置201の製造コストを削減することが可能となる。
 以上、本開示の第三実施形態について説明した。なお、本開示の要旨を逸脱しない限りにおいて、上記の構成に種々の変更や改修を施すことが可能である。
 例えば、図7に変形例として示すように、フィン11に代えて、ピン111を冷却体として用いることも可能である。この場合、第一流路区画F11では、ピン111同士の間の間隔が他の流路区画F1のピン111同士の間の間隔よりも小さく設定される。また、第一流路区画F11では、ピン111が配置される領域の第二方向d2における寸法が他の流路区画F1におけるピン111が配置される領域よりも小さく設定される。
 上記構成によれば、冷却体としてピン111が用いられていることから、フィン11に比べて冷媒が接触する面の表面積が増加する。これにより、ピン111から冷媒に移動する熱がより多くなる。その結果、第三実施形態で説明した作用効果に加えて、冷却装置201の冷却性能をさらに向上させることが可能となる。
<付記>
 各実施形態に記載の冷却装置1,101,201は、例えば以下のように把握される。
(1)第1の態様に係る冷却装置1,101,201は、基板2の表面に実装され、第一方向d1に配列された複数の半導体部品20を冷却する冷却装置1,101,201であって、前記基板2の裏面に取り付けられたベース10と、前記ベース10に離間して配置されることで該ベース10との間に冷媒が流通する流路Fを形成する底板12と、前記流路F内に配置された冷却体と、を備え、前記流路Fは、前記半導体部品20ごとに独立して設けられ、前記第一方向d1に直交する第二方向d2に延びる複数の流路区画F1を有し、前記底板12における前記第二方向d2の中央部には、各前記流路区画F1に前記冷媒を供給する導入口17が形成されている。
 上記構成によれば、各流路区画F1を流れる冷媒によって、それぞれの半導体部品20を個別に冷却することができる。また、導入口17が流路区画F1の中央部に形成されていることから、初期の低温の冷媒を半導体部品20に向けて積極的に供給することができる。これにより、半導体部品20を効率的かつ積極的に冷却することが可能となる。
(2)第2の態様に係る冷却装置1,101,201は、(1)の冷却装置1,101,201であって、前記冷却体は、前記ベース10から前記底板12に向かって突出するとともに、前記第二方向d2に延びる複数のフィン11であり、互いに隣り合う一対の前記流路区画F1は、一の前記フィン11aによって区画されていてもよい。
 上記構成によれば、フィン11が第二方向d2に延びていることによって、冷媒の流れる方向を当該第二方向d2のみに規制することができる。これにより、冷媒がより円滑に流れるため、半導体部品20をより効率的に冷却することが可能となる。
(3)第3の態様に係る冷却装置101は、(2)の冷却装置101であって、前記複数の半導体部品20のうち、前記第一方向d1における中央部に位置する前記半導体部品20に対応する前記流路区画F1では、他の前記流路区画F1に比べて前記フィン11同士の間の間隔が狭く、かつ他の前記流路区画F1に比べて前記導入口17の前記第二方向d2における寸法が大きくてもよい。
 上記構成によれば、中央部の半導体部品20に対応する流路区画F11ではフィン11同士の間隔が狭く、かつ導入口17の寸法が大きい。これにより、発熱の重畳の影響を受けやすい中央部の半導体部品20に対して供給される冷媒の流量を他の流路区画F1と同等以上としつつ、より密に配置されたフィン11によって冷却効果をさらに高めることができる。
(4)第4の態様に係る冷却装置201は、(2)の冷却装置201であって、前記導入口17の前記第二方向d2における寸法は、複数の前記流路区画F1同士の間で同一であり、前記複数の半導体部品20のうち、前記第一方向d1における中央部に位置する前記半導体部品20に対応する前記流路区画F11では、他の前記流路区画F1に比べて前記フィン11同士の間の間隔が狭く、かつ前記第二方向d2における前記フィン11の寸法が他の前記流路区画F1における前記フィン11の寸法に比べて小さくてもよい。
 上記構成によれば、導入口17の寸法が各流路区画F1で同一であり、中央部の半導体部品20に対応する流路区画F11ではフィン11同士の間隔が狭い。一方で、中央部の半導体部品20に対応する流路区画F1では第二方向d2におけるフィン11の長さが小さい。これにより、中央部の半導体部品20に対応する流路区画F11に供給される冷媒の流量を他の流路区画F1と同等以上にすることができる。
(5)第5の態様に係る冷却装置101,201は、(1)の冷却装置101,201であって、前記冷却体は、前記ベース10から前記底板12に向かって延びる棒状をなす複数のピン111であり、互いに隣り合う一対の前記流路区画F1同士の間に設けられた隔壁部18をさらに備えてもよい。
 上記構成によれば、冷却体としてピン111が用いられていることから、フィン11に比べて表面積が増加する。これにより、冷却装置1の冷却性能をさらに向上させることが可能となる。
(6)第6の態様に係る冷却装置101は、(5)の冷却装置101であって、前記複数の半導体部品20のうち、前記第一方向d1における中央部に位置する前記半導体部品20に対応する前記流路区画F11では、他の前記流路区画F11に比べて前記ピン111同士の間の間隔が狭く、かつ他の前記流路区画F1に比べて前記導入口17の前記第二方向d2における寸法が大きくてもよい。
 上記構成によれば、中央部の半導体部品20に対応する流路区画F11ではピン111同士の間隔が狭く、かつ導入口17の寸法が大きい。これにより、発熱しやすい中央部の半導体部品20に対して供給される冷媒の流量を他の流路区画F1と同等以上としつつ、より密に配置されたピン111によって冷却効果をさらに高めることができる。
(7)第7の態様に係る冷却装置201は、(5)の冷却装置201であって、前記導入口17の前記第二方向d2における寸法は、複数の前記流路区画F1同士の間で同一であり、前記複数の半導体部品20のうち、前記第一方向d1における中央部に位置する前記半導体部品20に対応する前記流路区画F11では、他の前記流路区画F1に比べて前記ピン111同士の間の間隔が狭く、かつ前記第二方向d2における前記ピン111が配置される領域の寸法が他の前記流路区画F1における前記ピン111が配置される領域の寸法に比べて小さくてもよい。
 上記構成によれば、導入口17の寸法が各流路区画F1で同一であり、中央部の半導体部品20に対応する流路区画F11ではピン111同士の間隔が狭い。一方で、中央部の半導体部品20に対応する流路区画F11では第二方向d2におけるピン111が配置される領域の寸法が小さい。これにより、中央部の半導体部品20に対応する流路区画F1に供給される冷媒の流量を他の流路区画F1と同等以上とすることができる。
 さらに高い冷却効果を発揮する冷却装置を提供することができる。
1…冷却装置
2…基板
10…ベース
11,11a…フィン
12…底板
13…裏面
14…側壁
17…導入口
18…隔壁部
20…半導体部品
21a…第一半導体部品
21b…第二半導体部品
21…基板本体
22…銅パターン
23…接合材
24…接合材
101…冷却装置
111…ピン
201…冷却装置
d1…第一方向
d2…第二方向
F…流路
F1…流路区画
F11…第一流路区画

Claims (7)

  1.  基板の表面に実装され、第一方向に配列された複数の半導体部品を冷却する冷却装置であって、
     前記基板の裏面に取り付けられたベースと、
     前記ベースに離間して配置されることで該ベースとの間に冷媒が流通する流路を形成する底板と、
     前記流路内に配置された冷却体と、
    を備え、
     前記流路は、前記半導体部品ごとに独立して設けられ、前記第一方向に直交する第二方向に延びる複数の流路区画を有し、
     前記底板における前記第二方向の中央部には、各前記流路区画に前記冷媒を供給する導入口が形成されている冷却装置。
  2.  前記冷却体は、前記ベースから前記底板に向かって突出するとともに、前記第二方向に延びる複数のフィンであり、互いに隣り合う一対の前記流路区画は、一の前記フィンによって区画されている請求項1に記載の冷却装置。
  3.  前記複数の半導体部品のうち、前記第一方向における中央部に位置する前記半導体部品に対応する前記流路区画では、他の前記流路区画に比べて前記フィン同士の間の間隔が狭く、かつ他の前記流路区画に比べて前記導入口の前記第二方向における寸法が大きい請求項2に記載の冷却装置。
  4.  前記導入口の前記第二方向における寸法は、複数の前記流路区画同士の間で同一であり、
     前記複数の半導体部品のうち、前記第一方向における中央部に位置する前記半導体部品に対応する前記流路区画では、他の前記流路区画に比べて前記フィン同士の間の間隔が狭く、かつ前記第二方向における前記フィンの寸法が他の前記流路区画における前記フィンの寸法に比べて小さい請求項2に記載の冷却装置。
  5.  前記冷却体は、前記ベースから前記底板に向かって延びる棒状をなす複数のピンであり、
     互いに隣り合う一対の前記流路区画同士の間に設けられた隔壁部をさらに備える請求項1に記載の冷却装置。
  6.  前記複数の半導体部品のうち、前記第一方向における中央部に位置する前記半導体部品に対応する前記流路区画では、他の前記流路区画に比べて前記ピン同士の間の間隔が狭く、かつ他の前記流路区画に比べて前記導入口の前記第二方向における寸法が大きい請求項5に記載の冷却装置。
  7.  前記導入口の前記第二方向における寸法は、複数の前記流路区画同士の間で同一であり、
     前記複数の半導体部品のうち、前記第一方向における中央部に位置する前記半導体部品に対応する前記流路区画では、他の前記流路区画に比べて前記ピン同士の間の間隔が狭く、かつ前記第二方向における前記ピンが配置される領域の寸法が他の前記流路区画における前記ピンが配置される領域の寸法に比べて小さい請求項5に記載の冷却装置。
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