WO2023171567A1 - 光学積層体、物品および画像表示装置 - Google Patents

光学積層体、物品および画像表示装置 Download PDF

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祐子 木伏
哲哉 小野
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デクセリアルズ株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to an optical laminate, an article, and an image display device.
  • This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2022-037443 filed in Japan on March 10, 2022, the contents of which are incorporated herein.
  • an antireflection optical laminate may be provided on the surface of a flat panel display (FPD), touch panel, solar cell, etc.
  • FPD flat panel display
  • touch panel for various operating devices, etc.
  • scratch resistance of anti-reflection optical laminates.
  • deformable types such as input surfaces or display surfaces that can be folded (flexed) inward or outward, and types that can be rolled up have been developed.
  • anti-reflection optical laminates are required to be compatible with these deformations, and in this context, there is a need for improved scratch resistance.
  • Patent Document 1 describes that the scratch resistance is controlled by specifying the dynamic friction coefficient of the antireflection layer.
  • Patent Document 2 describes that the scratch resistance is controlled by specifying the surface roughness and silica fine particle diameter of the hard coat layer.
  • Patent Document 3 describes that mechanical properties are controlled by defining the average particle diameter of low refractive index nanoparticles and the solid content ratio of inorganic particles in the low refractive index layer.
  • the present invention was made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an optical laminate, an article, and an image display device that have both excellent scratch resistance and bending resistance.
  • the present invention provides the following means to solve the above problems.
  • the optical laminate according to the first aspect is an optical laminate in which a transparent base material, a hard coat layer, an optical functional layer, and an antifouling layer are laminated in this order, and the hard coat layer does not contain a filler.
  • the hard coat layer has a thickness of more than 1.0 ⁇ m and less than 3.0 ⁇ m, and the 10-point average roughness Rz of the surface of the optical laminate is 19 nm or more and 100 nm or less.
  • the minimum value of the mandrel diameter may be any value of 7 mm or less.
  • the optical functional layer may include at least a low refractive index layer.
  • the optical functional layer may be one in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated.
  • the water contact angle value after 2000 cycles of the steel wool sliding test is 80% or more of the water contact angle value before the steel wool sliding test. Good too.
  • the antifouling layer may contain a fluorine-based compound.
  • the article according to the second aspect includes the optical laminate according to the above aspect.
  • An image display device includes a screen and an optical laminate according to the above aspect formed on a surface of the screen.
  • optical laminate, article, and image display device have excellent scratch resistance and bending resistance.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of an example of an optical laminate according to a first embodiment. It is a schematic diagram of an example of the manufacturing device which manufactures the optical layered product concerning a 1st embodiment.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of an example of an optical laminate 10 according to the first embodiment.
  • a transparent base material 1 a hard coat layer 2, an adhesive layer 3, an optical functional layer 4, and an antifouling layer 5 are laminated in this order.
  • the transparent base material 1 is made of a transparent material that can transmit light in the visible light range.
  • the transparent base material 1 is, for example, a plastic film.
  • the constituent materials of the plastic film include, for example, polyester resin, acetate resin, polyethersulfone resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin, polyolefin resin, (meth)acrylic resin, and polyvinyl chloride resin. resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyarylate resin, and polyphenylene sulfide resin.
  • the transparent base material 1 is an inorganic base material, and may be a glass film.
  • the constituent material of the transparent base material 1 is preferably a polyester resin, an acetate resin, a polycarbonate resin, or a polyolefin resin.
  • the transparent base material 1 is preferably a triacetyl cellulose (TAC) base material.
  • TAC triacetyl cellulose
  • transparent material refers to a material that has a transmittance of 80% or more for light in the wavelength range used, within a range that does not impair the effects of the present invention.
  • (meth)acrylic is used to include both methacrylic and acrylic.
  • the transparent base material 1 may contain a reinforcing material as long as the optical properties are not significantly impaired.
  • the reinforcing material include cellulose nanofibers and nanosilica.
  • the transparent base material 1 may be a film provided with an optical function and/or a physical function.
  • films having optical and/or physical functions include polarizing plates, retardation compensation films, heat ray blocking films, transparent conductive films, brightness-enhancing films, and barrier property-improving films.
  • the thickness of the transparent base material 1 depends on whether the display is bent inward or outward, and in the case of bending inward, for example. Although it depends on how much space is allowed between the curved surfaces and how much space can be secured for the curved portion of the foldable display device, it is, for example, 2 ⁇ m or more, preferably 8 ⁇ m or more. . Further, the upper limit is, for example, 250 ⁇ m or less, preferably 100 ⁇ m or less. When the thickness of the transparent base material 1 is 2 ⁇ m or more, the rigidity of the base material itself can be ensured while achieving a smaller diameter when bent, for example, with respect to inward bending. On the other hand, if it exceeds 250 ⁇ m, whether the bending direction is inside or outside, combined with the elasticity of the transparent base material 1 itself, the transparent base material 1 cannot be bent sufficiently, and the diameter when bent tends to become large.
  • the thickness of the transparent base material 1 is not particularly limited, but is, for example, 25 ⁇ m or more, preferably 40 ⁇ m or more.
  • the thickness of the transparent base material 1 is 25 ⁇ m or more, the rigidity of the base material itself is ensured, and wrinkles are less likely to occur even when stress is applied to the optical laminate 10.
  • the thickness of the transparent base material 1 is 25 ⁇ m or more, even if the hard coat layer 2 is continuously formed on the transparent base material 1, wrinkles are unlikely to occur and there are few manufacturing concerns.
  • the thickness of the transparent base material 1 is 40 ⁇ m or more, wrinkles are even less likely to occur.
  • the surface of the transparent base material 1 may be subjected to etching treatment such as sputtering, corona discharge, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, oxidation, etc. and/or undercoating treatment in advance. By performing these treatments in advance, the adhesion of the hard coat layer 2 formed on the transparent base material 1 is improved. Furthermore, before forming the hard coat layer 2 on the transparent base material 1, the surface of the transparent base material 1 may be cleaned by solvent cleaning, ultrasonic cleaning, etc., as necessary. Dust removal and cleaning may be performed.
  • etching treatment such as sputtering, corona discharge, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, oxidation, etc. and/or undercoating treatment in advance.
  • the hard coat layer 2 contains a binder resin and a filler. In addition to this, the hard coat layer 2 may also contain an aggregating agent.
  • the binder resin is preferably transparent, and includes, for example, ionizing radiation-curable resins that are cured by ultraviolet rays or electron beams, thermoplastic resins, thermosetting resins, and the like.
  • ionizing radiation-curable resins that are binder resins include ethyl (meth)acrylate, ethylhexyl (meth)acrylate, styrene, methylstyrene, and N-vinylpyrrolidone.
  • the ionizing radiation curable resin may be a compound having two or more unsaturated bonds.
  • ionizing radiation-curable resins having two or more unsaturated bonds include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, and dipropylene glycol di(meth)acrylate.
  • pentaerythritol tri(meth)acrylate pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane Tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, tripentaerythritol octa(meth)acrylate, tetrapentaerythritol deca(meth)acrylate, isocyanuric acid tri(meth)acrylate, Isocyanuric acid di(meth)acrylate, polyester tri(meth)acrylate, polyester di(meth)acrylate, bisphenol di(meth)acrylate, diglycerin tetra
  • pentaerythritol triacrylate PETA
  • dipentaerythritol hexaacrylate DPHA
  • pentaerythritol tetraacrylate PETA
  • (meth)acrylate is used to include both methacrylate and acrylate.
  • the ionizing radiation-curable resin may also be one obtained by modifying the above-mentioned compounds with PO (propylene oxide), EO (ethylene oxide), CL (caprolactone), or the like.
  • the ionizing radiation curable resin is preferably an acrylic ultraviolet curable resin composition.
  • thermoplastic resins that are binder resins include styrene resins, (meth)acrylic resins, vinyl acetate resins, vinyl ether resins, halogen-containing resins, alicyclic olefin resins, polycarbonate resins, and polyester resins. , polyamide resin, cellulose derivative, silicone resin, rubber or elastomer, etc.
  • the thermoplastic resin is amorphous and soluble in an organic solvent (particularly a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds).
  • the binder resin may be styrene resin, (meth)acrylic resin, alicyclic olefin resin, polyester resin, cellulose derivative (cellulose esters, etc.), etc. preferable.
  • thermosetting resins that are binder resins include phenol resins, urea resins, diallyl phthalate resins, melamine resins, guanamine resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, epoxy resins, aminoalkyd resins, melamine-urea cocondensation resins, Silicone resins, polysiloxane resins (including so-called silsesquioxanes such as cage-shaped and ladder-shaped silsesquioxanes), etc. may also be used.
  • the hard coat layer 2 may contain an organic resin and an inorganic material, or may be an organic-inorganic hybrid material.
  • an organic resin and an inorganic material
  • organic-inorganic hybrid material One example is one formed by a sol-gel method.
  • inorganic materials include silica, alumina, zirconia, and titania.
  • organic material include acrylic resin.
  • the filler may be made of an organic substance, an inorganic substance, or an organic substance and an inorganic substance.
  • the filler contained in the hard coat layer 2 can be selected from various types depending on the use of the optical laminate 10 in terms of anti-glare properties, adhesion with the optical functional layer 4 described below, anti-blocking properties, and the like. Specifically, known fillers such as silica (Si oxide) particles, alumina (aluminum oxide) particles, and organic fine particles can be used as fillers.
  • various reinforcing materials may be added as fillers within a range that does not impair optical properties.
  • the reinforcing material is, for example, cellulose nanofiber.
  • the average particle diameter of the filler is, for example, 800 nm or less, preferably 100 nm or less, and more preferably 40 nm or more and 70 nm or less.
  • the average particle diameter of the organic fine particles is, for example, 10 ⁇ m or less, preferably 5 ⁇ m or less, and more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the average particle diameter of the filler is not particularly limited, but it is preferably 100 nm or more.
  • the filler is dispersed within the hard coat layer 2 while being partially aggregated. Aggregates of fillers become secondary particles. For example, if the resin in the hard coat layer 2 is a sea and the filler aggregates are islands, the hard coat layer 2 has a sea-island structure formed by the resin and the filler. The filler aggregates form irregularities on the surface of the hard coat layer 2 .
  • filler aggregates When the surface of the hard coat layer 2 is measured using an atomic force microscope (AFM), filler aggregates can be confirmed as irregularities.
  • the surface shape of the hard coat layer 2 can be measured using, for example, an atomic force microscope (AFM5000) manufactured by Hitachi High-Tech Science.
  • the apparent average particle size of filler aggregates obtained by measuring the surface of the hard coat layer 2 with an atomic force microscope is, for example, 110 nm or more and 1600 nm or less, preferably 230 nm or more and 1600 nm or less, and more preferably is 300 nm or more and 1600 nm or less.
  • the apparent average particle diameter becomes larger, surface irregularities become larger, and sliding damage in the recessed portions can be further suppressed.
  • the antifouling properties are easily maintained even if the number of times of sliding is increased, and scratches are less likely to occur.
  • Otsu's automatic threshold setting method is a classification method proposed by Otsu et al. that classifies a population into two classes by setting a threshold that minimizes the within-class variance and maximizes the between-class variance. It's a method.
  • the threshold value obtained with this method is equivalent to the threshold value that minimizes the mean square error of the binary image obtained as the original grayscale image.
  • the AFM displays the difference in distance between the AFM probe and the surface of the hard coat layer 2 as a grayscale image.
  • By binarizing and classifying this grayscale image according to Otsu's automatic threshold setting method concave portions and convex portions on the surface of the hard coat layer 2 are classified.
  • the average particle diameter of the classified convex portions becomes the apparent average particle diameter of the filler aggregate.
  • a 10 ⁇ m x 10 ⁇ m range is measured at five arbitrary points on the film using AFM, and the average particle diameters determined at each of the five points are further averaged.
  • the degree of filler aggregation can be controlled by the stirring conditions when mixing the filler and binder resin, the surface treatment of the filler, the addition of a coagulant and its amount, etc.
  • the flocculant is, for example, a substance that has poor compatibility with the binder resin or a polar substance that has high polarity.
  • compounds having oxygen or nitrogen in their cyclic structure function as flocculants.
  • known flocculants can be used.
  • the 10-point average roughness Rz of the surface of the hard coat layer 2 is, for example, 15 nm or more and 110 nm or less, preferably 20 nm or more and 75 nm or less.
  • the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the hard coat layer 2 is, for example, 1.0 nm or more and 10 nm or less.
  • the 10-point average roughness Rz and the arithmetic average roughness Ra are values based on JIS B 0601:1994 and JIS B 0031:1994.
  • a portion of the filler may be exposed on the surface of the hard coat layer 2 on the adhesive layer 3 side. That is, the filler in the hard coat layer 2 may be formed so as to be in contact with the adhesive layer 3. In this case, the binder resin of the hard coat layer 2 and the adhesive layer 3 are strongly bonded. Therefore, the adhesion between the hard coat layer 2 and the adhesive layer 3 is improved, the hardness of the hard coat layer 2 is increased, and the scratch resistance of the optical laminate 10 is improved.
  • the thickness of the hard coat layer 2 is more than 1.0 ⁇ m and less than 3.0 ⁇ m, preferably 1.2 ⁇ m or more and less than 3.0 ⁇ m, and more preferably 1.5 ⁇ m or more and less than 2.9 ⁇ m. If the thickness of the hard coat layer 2 is more than 1.0 ⁇ m, reaction inhibition caused by oxygen in the curing reaction of the binder resin can be suppressed. Furthermore, by having the thickness of the hard coat layer 2 within this range, the unevenness of the surface of the hard coat layer 2 can be made within a predetermined range, and the hard coat layer can have excellent flexibility. .
  • the thickness of the hard coat layer 2 can be measured by cutting the film using an FIB (focused ion beam device) so that the cross-sectional direction of the film is exposed and then observing the cross section using a SEM (scanning electron microscope).
  • FIB focused ion beam device
  • SEM scanning electron microscope
  • the hard coat layer 2 may be a single layer or may be a stack of multiple layers. Further, the hard coat layer 2 may be further provided with known functions such as ultraviolet absorption performance, antistatic performance, refractive index adjustment function, and hardness adjustment function. Further, the functions provided to the hard coat layer 2 may be provided in a single hard coat layer, or may be provided in a plurality of divided layers. Furthermore, in order to accommodate the flexibility of the display device, the ionizing radiation curable resin or thermosetting resin may be cured, for example, only at the bent portions to reduce the degree of curing, without being completely cured.
  • the adhesion layer 3 is a layer for improving the adhesion between the hard coat layer 2 and the optical functional layer 4.
  • the adhesive layer 3 may be omitted.
  • the adhesive layer 3 is, for example, an oxygen-deficient metal oxide or metal.
  • the metal oxide in an oxygen-deficient state refers to a metal oxide in a state in which the number of oxygen atoms is insufficient compared to the stoichiometric composition.
  • metal oxides in an oxygen-deficient state include SiOx , AlOx , TiOx , ZrOx , CeOx, MgOx , ZnOx , TaOx , SbOx , SnOx , MnOx , and the like.
  • Examples of metals include Si, Al, Ti, Zr, Ce, Mg, Zn, Ta, Sb, Sn, and Mn.
  • the adhesion layer 3 may be, for example, SiO x in which x is greater than 0 and less than 2.0.
  • the thickness of the adhesive layer 3 is preferably greater than 0 nm and less than 20 nm, particularly preferably greater than 1 nm and less than 10 nm, from the viewpoint of maintaining transparency and obtaining good optical properties.
  • the optical functional layer 4 is a layer that exhibits an optical function.
  • Optical functions are functions that control the properties of light, such as reflection, transmission, and refraction, and include, for example, antireflection functions, selective reflection functions, antiglare functions, and lens functions.
  • the optical functional layer 4 is, for example, an antireflection layer, a selective reflection layer, or an antiglare layer.
  • As the antireflection layer, selective reflection layer, and antiglare layer known ones can be used.
  • the antireflection layer, the selective reflection layer, and the antiglare layer may each be a single layer or a laminate of multiple layers.
  • the optical functional layer 4 shown in FIG. 1 is an antireflection layer.
  • the optical functional layer 4 shown in FIG. 1 includes a high refractive index layer 4a and a low refractive index layer 4b.
  • the optical functional layer 4 shown in FIG. 1 is a laminate of a total of four layers in which high refractive index layers 4a and low refractive index layers 4b are alternately laminated in order from the adhesive layer 3 side.
  • the number of high refractive index layers 4a and low refractive index layers 4b is not particularly limited, and the number of high refractive index layers 4a and low refractive index layers 4b can be any number of layers.
  • the optical laminate 10 shown in FIG. 1 has two problems: the reflected light reflected at each interface of the laminate in which high refractive index layers 4a and low refractive index layers 4b are alternately laminated interferes with each other, and the antifouling layer 5 It exhibits an anti-reflection function by diffusing light that enters from the side.
  • the low refractive index layer 4b contains, for example, an oxide of Si.
  • the low refractive index layer 4b is, for example, a layer containing SiO 2 (Si oxide) as a main component.
  • Si oxide is easily available and is advantageous in terms of cost.
  • the SiO 2 single layer film is colorless and transparent.
  • the main component of the low refractive index layer 4b means a component contained in the low refractive index layer 4b in an amount of 50% by mass or more.
  • the low refractive index layer 4b When the low refractive index layer 4b is a layer containing Si oxide as a main component, it may contain less than 50% by mass of another element.
  • the content of elements other than Si oxide is preferably 10% or less.
  • Other elements are, for example, Na, Zr, Al, N. Na increases the durability of the low refractive index layer 4b.
  • Zr, Al, and N increase the hardness and alkali resistance of the low refractive index layer 4b.
  • the refractive index of the low refractive index layer 4b is, for example, 1.20 or more and 1.60 or less, preferably 1.30 or more and 1.50 or less.
  • the dielectric material used for the low refractive index layer 4b is, for example, magnesium fluoride (MgF 2 , refractive index 1.38).
  • the refractive index of the high refractive index layer 4a is, for example, 2.00 or more and 2.60 or less, preferably 2.10 or more and 2.45 or less.
  • the refractive index of the low refractive index layer 4b and the high refractive index layer 4a is measured using an ellipsometry analyzer.
  • the dielectric material used for the high refractive index layer 4a is, for example, niobium pentoxide (Nb 2 O 5 , refractive index 2.33), titanium oxide (TiO 2 , refractive index 2.33 to 2.55), tungsten oxide ( WO 3 , refractive index 2.2), cerium oxide (CeO 2 , refractive index 2.2), tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 , refractive index 2.16), zinc oxide (ZnO, refractive index 2.1) , indium tin oxide (ITO, refractive index 2.06), zirconium oxide (ZrO 2 , refractive index 2.2), and the like.
  • ITO indium zinc oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • the optical functional layer 4 is preferably made of niobium pentoxide (Nb 2 O 5 , refractive index 2.33) as the high refractive index layer 4a, and made of SiO 2 as the low refractive index layer 4b. .
  • the film thickness of the low refractive index layer 4b may be in the range of 1 nm or more and 200 nm or less, and is appropriately selected depending on the wavelength range that requires an antireflection function.
  • the film thickness of the high refractive index layer 4a may be, for example, 1 nm or more and 200 nm or less, and is appropriately selected depending on the wavelength range that requires an antireflection function.
  • the film thicknesses of the high refractive index layer 4a and the low refractive index layer 4b can be selected as appropriate depending on the design of the optical functional layer 4, respectively.
  • a high refractive index layer 4a with a thickness of 5 to 50 nm, a low refractive index layer 4b with a thickness of 10 to 80 nm, a high refractive index layer 4a with a thickness of 20 to 200 nm, and a low refractive index layer 4b with a thickness of 50 to 200 nm be able to.
  • a low refractive index layer 4b is arranged on the antifouling layer 5 side.
  • the antireflection performance of the optical functional layer 4 becomes good.
  • the antifouling layer 5 is on the outermost surface of the optical functional layer 4.
  • the antifouling layer 5 prevents the optical functional layer 4 from being contaminated. Furthermore, when applied to a touch panel or the like, the antifouling layer 5 suppresses wear and tear on the optical functional layer 4 due to its abrasion resistance and scratch resistance.
  • the antifouling layer 5 is, for example, a vapor-deposited film in which an antifouling material is deposited.
  • the antifouling layer 5 is formed, for example, by vacuum-depositing a fluorine-based compound as an antifouling material on one surface of the low refractive index layer 4b constituting the optical functional layer 4.
  • the antifouling layer 5 contains a fluorine-based compound, the abrasion resistance and alkali resistance of the optical laminate 10 are further improved.
  • the fluorine-based compound contained in the antifouling layer 5 is, for example, a fluorine-based organic compound.
  • the fluorine-based organic compound is, for example, a compound consisting of a fluorine-modified organic group and a reactive silyl group (eg, alkoxysilane).
  • Commercially available products that can be used for the antifouling layer 5 include Optool DSX (manufactured by Daikin Corporation), KY-100 series (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the like.
  • the fluorine-based organic compound A siloxane bond is formed between the skeleton silanol group and SiO 2 .
  • the siloxane bond increases the adhesion between the optical functional layer 4 and the antifouling layer 5.
  • the optical thickness of the antifouling layer 5 is, for example, 1 nm or more and 20 nm or less, preferably 3 nm or more and 10 nm or less.
  • the thickness of the antifouling layer 5 is 1 nm or more, sufficient wear resistance can be ensured when the optical laminate 10 is applied to a touch panel or the like.
  • the thickness of the antifouling layer 5 is 20 nm or less, the time required for vapor deposition is short and it can be manufactured efficiently.
  • the antifouling layer 5 contains a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a colorant, an antistatic agent, a lubricant, a leveling agent, an antifoaming agent, an antioxidant, a flame retardant, an infrared absorber, a surfactant, etc., as necessary. It may contain additives.
  • the antifouling layer 5 formed by vapor deposition is strongly bonded to the optical functional layer 4 and is dense with few voids. Therefore, the antifouling layer 5 formed by vapor deposition exhibits different characteristics from the antifouling layer formed by other methods such as applying an antifouling material.
  • the antifouling layer 5 formed by vapor deposition has fewer voids and is denser than the antifouling layer formed by coating. Further, the antifouling layer 5 formed by vapor deposition is more firmly bonded to the low refractive index layer 4b than the antifouling layer 5 formed by coating.
  • Irregularities are formed on the outermost surface of the optical laminate 10 (the surface of the antifouling layer 5).
  • the unevenness on the outermost surface of the optical laminate 10 is caused by the unevenness formed on the surface of the hard coat layer 2 .
  • an adhesion layer 3, an optical functional layer 4, and an antifouling layer 5 are laminated on the hard coat layer 2, the thickness of each layer is not thick enough to fill the irregularities on the surface of the hard coat layer 2. Therefore, on the outermost surface of the optical laminate 10, irregularities reflecting the irregularities on the surface of the hard coat layer 2 are formed.
  • the 10-point average roughness Rz of the outermost surface of the optical laminate 10 is 19 nm or more and 100 nm or less.
  • the antifouling layer 5 will be difficult to peel off due to contact such as wiping.
  • the scratch resistance of the optical laminate 10 is improved.
  • the arithmetic mean roughness Ra of the optical laminate 10 is, for example, 1.0 nm or more and 10 nm or less, preferably 1.2 nm or more and 9 nm or less.
  • the apparent average particle size of filler aggregates obtained by measuring the surface of the optical laminate 10 with an atomic force microscope is, for example, 150 nm or more and 2200 nm or less, preferably 340 nm or more and 2200 nm or less.
  • the apparent average particle size of the filler aggregates on the surface of the optical laminate 10 is the same as the measurement method used on the surface of the hard coat layer 2.
  • the value of the water contact angle after 2000 cycles of the steel wool sliding test on the surface of the optical laminate 10 is 80% or more of the water contact angle value before the steel wool sliding test, preferably 84%. or more, and more preferably 88% or more. That is, the optical laminate 10 having the antifouling layer 5 formed by vapor deposition or the like has a water contact angle retention rate of 80% or more before and after the scratch resistance test, for example, by horizontally reciprocating steel wool 2000 times.
  • the optical laminate 10 when the optical laminate 10 is bent at a diameter of 7 mm or less in a bending test, cracks and peeling occur in the antifouling layer 5, optical functional layer 4, adhesive layer 3, and hard coat layer 2. It is preferable not to do so. Specifically, when the optical laminate 10 is bent 180 degrees using a bending tester (type 1 mandrel tester) in accordance with JIS K5600-5-1:1999 so that the antifouling layer 5 is on the inside. It is preferable that the minimum value of the mandrel diameter at the time of bending without cracking is 7 mm or less.
  • the bending test differs from the cylindrical mandrel test of JIS K5600-5-1:1999 in that the optical laminate 10 was bent so that the antifouling layer 5 as the painted surface was on the inside.
  • the minimum value of the mandrel diameter at the time of bending without cracking refers to a value 1 mm larger than the mandrel diameter at which cracking was confirmed for the first time.
  • the transparent base material 1 wound into a roll is unwound.
  • a slurry containing the material that will become the hard coat layer 2 is applied onto the transparent substrate 1 using a known method, and is cured using a known method that corresponds to the material that will become the hard coat layer 2.
  • a flocculant is added to the slurry containing the material that will become the hard coat layer 2.
  • a material having poor compatibility with the resin component of the hard coat layer 2 for example, a compound having oxygen or nitrogen in its cyclic structure
  • Predetermined irregularities are formed on the surface of the hard coat layer 2 after hardening.
  • the transparent base material 1 on which the hard coat layer 2 is formed is wound up into a roll by a known method.
  • an adhesion layer formation step of forming an adhesion layer 3 and an optical function layer formation step of forming an optical function layer 4 are performed.
  • an antifouling layer forming step of forming an antifouling layer 5 on the optical functional layer 4 is performed.
  • a first surface treatment step for treating the surface of the hard coat layer 2 may be performed before the optical functional layer forming step.
  • a second surface treatment step of treating the surface of the antireflection film may be performed.
  • the first surface treatment step, the adhesion layer formation step, the optical functional layer formation step, the second surface treatment step, and the antifouling layer formation step are carried out continuously by maintaining the optical laminate in the process of manufacture under reduced pressure. It is preferable to do so.
  • FIG. 2 is an example of a manufacturing apparatus that can be used to manufacture the optical laminate 10 according to the first embodiment.
  • the manufacturing apparatus 20 includes a roll unwinding device 14, a pretreatment device 12A, a sputtering device 11, a pretreatment device 12B, a vapor deposition device 13, and a roll winding device 15, which are connected in this order.
  • the manufacturing device 20 manufactures the optical laminate 10 in a roll-to-roll manner by unwinding the base material from a roll, passing it through these connected devices in order, and then winding it up.
  • the transport speed (line speed) of the optical laminate 10 during manufacture can be set as appropriate.
  • the conveyance speed is preferably 0.5 to 20 m/min, more preferably 0.5 to 10 m/min, for example.
  • the roll unwinding device 14 includes a chamber 34, a vacuum pump 21, an unwinding roll 23, and a guide roll 22.
  • the pressure inside the chamber 34 is reduced by the vacuum pump 21.
  • the vacuum pump 21 is a known pump.
  • the transparent base material 1 on which the hard coat layer 2 is formed is wound around the unwinding roll 23 .
  • the unwinding roll 23 supplies the transparent base material 1 on which the hard coat layer 2 is formed to the pretreatment device 12A at a predetermined conveyance speed.
  • the pretreatment device 12A includes a chamber 32, a can roll 26, a guide roll 22, and a plasma discharge device 42.
  • the can roll 26, the guide roll 22, and the plasma discharge device 42 are installed in the chamber 32.
  • Chamber 32 is connected to chambers 31 and 34. The pressure inside the chamber 32 is reduced.
  • the can roll 26 and the guide roll 22 transport the film sent from the roll unwinding device 14 at a predetermined transport speed.
  • the plasma discharge device 42 is arranged facing the outer peripheral surface of the can roll 26 and spaced apart from it at a predetermined distance.
  • the plasma discharge device 42 ionizes gas by glow discharge.
  • the gas include argon gas, oxygen gas, nitrogen gas, and helium gas.
  • Argon gas is preferred because it is inexpensive, inert, and does not affect optical properties.
  • the plasma discharge device 42 is, for example, a glow discharge device that ionizes argon gas using high-frequency plasma.
  • the plasma discharge device 42 performs a first surface treatment step as a pretreatment for the surface on which the adhesive layer 3 and the optical functional layer 4 are to be formed.
  • the can roll 26 and the guide roll 22 are rotated to treat the surface of the hard coat layer 2 at a predetermined conveyance speed.
  • the plasma discharge device 42 performs, for example, glow discharge treatment, plasma treatment, ion etching, alkali treatment, and the like. Glow discharge treatment is capable of treating large areas.
  • glow discharge treatment is performed, the surface of the hard coat layer 2 is roughened on a nano-level, and substances with weak bonding strength present on the surface of the hard coat layer 2 are removed. As a result, the adhesion between the hard coat layer 2 and the adhesive layer 3 formed on the hard coat layer 2 is improved.
  • the film after passing through the plasma discharge device 42 is transported to the sputtering device 11.
  • the sputtering apparatus 11 includes a chamber 31, a vacuum pump 21, a film forming roll 25, a guide roll 22, and a film forming section 41.
  • the film forming roll 25, the guide roll 22, and the film forming section 41 are installed in the chamber 31.
  • the pressure in the chamber 31 is reduced by the vacuum pump 21.
  • an adhesive layer forming process and an optical functional layer forming process are performed in the chamber 31 of the sputtering device 11.
  • the film forming roll 25 and the guide roll 22 transport the film at a predetermined transport speed.
  • the sputtering device 11 sequentially laminates the adhesive layer 3, the high refractive index layer 4a, and the low refractive index layer 4b on the hard coat layer 2 of the transparent base material 1 running on the film forming roll 25 by sputtering.
  • the optical functional layer 4 is formed by alternately stacking the high refractive index layers 4a and the low refractive index layers 4b.
  • a plurality of film forming units 41 are arranged facing the outer circumferential surface of the film forming roll 25 at a predetermined interval, and are provided in plurality so as to surround the film forming roll 25.
  • the number of film forming parts 41 is determined according to the total number of laminated layers of the adhesive layer 3 and the high refractive index layer 4a and low refractive index layer 4b forming the optical functional layer 4.
  • a plurality of film forming rolls 25 or chambers 31 may be provided to secure a space in which the film forming section 41 is arranged.
  • Each film forming unit 41 is, for example, a sputtering device.
  • Each film forming section 41 includes, for example, a target, a voltage application section to the target, a gas supply section that supplies a reaction gas, etc., and a magnetic field generation source that forms a magnetic field on the target surface.
  • the target differs depending on the film to be formed. For example, when forming a layer made of SiO 2 , Si is used as the target and O 2 is used as the reactive gas. Furthermore, for example, when forming a layer made of Nb 2 O 5 , Nb is used as the target and O 2 is used as the reactive gas.
  • the film forming method of the film forming part 41 is, for example, a sputtering method, and preferably a magnetron sputtering method.
  • a two-pole sputtering method using plasma generated by direct current glow discharge or high frequency waves, and a three-pole sputtering method using a hot cathode may also be used.
  • the sputtering apparatus 11 may have an optical monitor that measures optical properties after forming each layer.
  • Optical monitors check the quality of each layer.
  • the optical monitor measures the optical characteristics of each layer in the width direction using, for example, an optical head that can scan in the width direction.
  • the optical monitor can measure the optical thickness distribution of each layer in the width direction, for example, by measuring the peak wavelength of reflectance as an optical property and converting it into optical thickness.
  • the film on which the adhesive layer 3 and the optical functional layer 4 are formed is transported to the pretreatment device 12B.
  • the pretreatment device 12B includes a chamber 32, a can roll 26, a guide roll 22, and a plasma discharge device 42.
  • the configuration of the preprocessing device 12B is similar to that of the preprocessing device 12A.
  • a second surface treatment step is performed as a pretreatment for the surface on which the antifouling layer 5 is to be formed.
  • the surface roughness of the film surface after performing the second surface treatment step may change.
  • the surface roughness of the surface on which the antifouling layer 5 is laminated may be adjusted.
  • the pretreated film is transported to the vapor deposition device 13.
  • the vapor deposition apparatus 13 includes a chamber 33, a vacuum pump 21, a guide roll 22, a vapor deposition source 43, and a heating device 53.
  • the pressure inside the chamber 33 is reduced by the vacuum pump 21.
  • the vapor deposition device 13 vapor deposits the antifouling layer 5 on the transported film.
  • the vapor deposition source 43 is located at a position facing the film that is conveyed substantially horizontally between two adjacent guide rolls 22.
  • the vapor deposition source 43 supplies evaporative gas made of the material that will become the antifouling layer 5 onto the optical functional layer 4 .
  • the direction of the vapor deposition source 43 can be set arbitrarily.
  • the heating device 53 heats the material that will become the antifouling layer 5 to a vapor pressure temperature.
  • the heating device 53 heats by, for example, a resistance heating method, a heater heating method, an induction heating method, or an electron beam method.
  • the vapor deposition apparatus 13 includes, for example, a guide plate, a film thickness gauge, a vacuum pressure gauge, and a power supply device.
  • the guide plate guides the evaporated deposition material to a desired position.
  • a film thickness meter measures the thickness of a deposited film.
  • the vacuum pressure gauge measures the degree of vacuum within the chamber 33.
  • the vacuum pressure gauge is, for example, an ion gauge.
  • the power supply device is, for example, a high frequency power supply.
  • the film on which the antifouling layer 5 has been formed in the vapor deposition device 13 is conveyed to the roll winding device 15. It is preferable that the steps from the optical functional layer forming step to the antifouling layer forming step are performed continuously in-line while maintaining a reduced pressure state. Formation of natural oxide film and contamination such as foreign matter can be avoided.
  • the roll winding device 15 includes a chamber 35, a vacuum pump 21, a winding roll 24, and a guide roll 22.
  • the pressure inside the chamber 35 is reduced by the vacuum pump 21.
  • the winding roll 24 winds up the optical laminate 10 formed up to the antifouling layer 5.
  • the winding roll 24 and the guide roll 22 wind up the optical laminate 10 at a predetermined winding speed.
  • a carrier film may also be used if necessary.
  • the optical laminate 10 can be produced through the above procedure.
  • the antifouling layer 5 is difficult to peel off even when there is contact such as wiping. Since the antifouling layer 5 is peeled off from the optical laminate 10, the scratch resistance of the optical laminate 10 is unlikely to deteriorate. That is, the optical laminate 10 can maintain scratch resistance for a long time.
  • the optical laminate 10 may have layers other than the transparent base material 1, hard coat layer 2, adhesive layer 3, optical functional layer 4, and antifouling layer 5. Further, the optical laminate 10 may have various layers as necessary on the surface of the transparent base material 1 that faces the surface on which the optical functional layer 4 and the like are formed. For example, an adhesive layer used for adhesion to other members may be provided. Further, another optical film may be provided via this adhesive layer. Examples of other optical films include polarizing films, retardation compensation films, films that function as 1/2 wavelength plates, and 1/4 wavelength plates.
  • layers having functions such as antireflection, selective reflection, antiglare, polarization, phase difference compensation, viewing angle compensation or expansion, light guide, diffusion, brightness improvement, hue adjustment, and conductivity are provided on the opposing surfaces of the transparent base material 1.
  • layers having functions such as antireflection, selective reflection, antiglare, polarization, phase difference compensation, viewing angle compensation or expansion, light guide, diffusion, brightness improvement, hue adjustment, and conductivity are provided on the opposing surfaces of the transparent base material 1. may be formed directly.
  • a nano-order uneven structure that exhibits moth-eye and anti-glare functions may be formed on the surface of the optical laminate 10.
  • geometric shapes such as lenses and prisms on the order of micro to millimeter may be formed.
  • the optical laminate 10 can be applied to various articles.
  • the optical laminate 10 may be provided on the screen of an image display unit such as a liquid crystal display panel or an organic EL display panel.
  • an image display unit such as a liquid crystal display panel or an organic EL display panel.
  • a touch panel display portion of a smartphone or an operating device exhibits high scratch resistance, and an image display device suitable for actual use can be obtained.
  • the items are not limited to image display devices, but include window glass, goggles, light-receiving surfaces of solar cells, smartphone screens and personal computer displays, information input terminals, tablet terminals, AR (augmented reality) devices, and VR (virtual reality).
  • the optical laminate 10 can be applied to devices, electronic display boards, glass table surfaces, game machines, operation support devices such as airplanes and trains, navigation systems, instrument panels, optical sensors, and the like.
  • a photocurable resin composition was prepared in which the content of silica particles (filler) having an average particle diameter of 50 nm was 28% by mass based on the entire solid content of the resin composition (binder resin).
  • the resin composition was prepared by dissolving silica particles, acrylate, leveling agent, and photopolymerization initiator in a solvent as shown in Table 1, and finally adding a flocculant.
  • a roll-shaped TAC film with a thickness of 80 ⁇ m and a length of 3900 m was prepared as the transparent substrate 1, and the above photocurable resin composition was applied onto the TAC film using a gravure coater. The resin composition was then cured by irradiating light to form a hard coat layer 2 with a thickness of 2.9 ⁇ m.
  • the surface roughness (arithmetic mean roughness Ra, 10 point mean roughness Rz) of the produced hard coat layer 2 and the apparent average particle size of the filler aggregates were determined.
  • the surface roughness and the apparent average particle size of filler aggregates were measured by AFM.
  • an adhesive layer 3, an optical functional layer 4, and an antifouling layer 5 are sequentially applied in this order onto the transparent base material 1 on which the hard coat layer 2 is formed.
  • the optical laminate (antireflection film) of Example 1 was produced.
  • a manufacturing apparatus 20 shown in FIG. 2 was used as the manufacturing apparatus.
  • the line speed was 2 m/min.
  • the first surface treatment step, adhesion layer formation step, optical functional layer formation step, second surface treatment step, and antifouling layer formation step were performed continuously while the optical laminate being manufactured was maintained under reduced pressure. .
  • a glow discharge treatment was performed on the hard coat layer 2 at a treatment intensity of 4000 W ⁇ min/m 2 . Then, on the hard coat layer 2 after the glow discharge treatment, an adhesion layer 3 made of SiO x with a thickness of 5 nm is formed by sputtering in a chamber with a pressure of 1.0 Pa or less, and an adhesion layer 3 made of SiO x with a thickness of 15 nm is formed on the adhesion layer .
  • O 5 film high refractive index layer
  • 38 nm thick SiO 2 film low refractive index layer
  • 30 nm thick Nb 2 O 5 film high refractive index layer
  • 102 nm thick SiO 2 film low refractive index layer
  • the integrated output of the glow discharge treatment was 326 W ⁇ min/m 2 .
  • an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group which is an organic compound containing fluorine, is applied at a vapor deposition chamber internal pressure of 0.01 Pa or less, a vapor deposition temperature of 230° C., and a line speed of 2.0 m/min.
  • the surface roughness (arithmetic mean roughness Ra, 10-point average roughness Rz) of the produced optical laminate and the apparent average particle diameter of the filler aggregates were determined.
  • the surface roughness and the apparent average particle size of filler aggregates were measured by AFM.
  • haze and transmittance were measured as optical properties of the optical laminate.
  • the optical properties were measured using an optical spectrometer (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., NDH5000SP).
  • optical properties of the optical laminate were also measured. As for optical properties, diffuse reflected light (SCE), haze, and transmittance (TT) were measured. The optical properties were measured using an optical spectrometer NDH-5000SP manufactured by Nippon Denshoku Industries. An adhesion test of the optical functional layer in the optical laminate was also conducted. Adhesion was evaluated using a grid test method based on JIS K5400.
  • a scratch resistance test was also conducted on the optical laminate.
  • a steel wool sliding test and a pen sliding test were conducted.
  • the steel wool sliding test was conducted using a friction tester type I based on JIS L0849.
  • Steel wool #0000, manufactured by Bonstar Co., Ltd.
  • the test settings were a load of 1000 g/cm 2 , a stroke of 75 mm, and a speed of 7 mm/s.
  • the horizontal reciprocation was 2000 times. Then, the contact angle of the sample after the steel wool sliding test was measured, and the ratio to the contact angle before the steel wool sliding test (initial contact angle) was calculated.
  • the contact angle was measured by the ellipse fitting method using a fully automatic contact angle meter DM-700 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) under the following conditions. Distilled water was put into a glass syringe, a stainless steel needle was attached to the tip of the syringe, and the pure water was dripped onto the optical laminate (test piece). Dropped amount of pure water: 2.0 ⁇ L Measurement temperature: 25°C The contact angle after 4 seconds had elapsed after dropping pure water was measured at six arbitrary locations on the surface of the test piece, and the average value was taken as the pure water contact angle (WCA).
  • WCA pure water contact angle
  • Pen sliding test evaluations are: "A” if no scratches are visible when the sliding part is visually checked, and "B” if scratches are visible when the sliding part is visually checked. did.
  • a bending test of the optical laminate was conducted as follows. As a sample, an optical laminate cut into 1 cm x 15 cm was prepared. It was confirmed that the optical laminate had no cracks on the cut surface. First, the above-mentioned optical laminate was placed in a bending tester (type 1 mandrel tester) in accordance with JIS K-5600-5-1:1999, which was equipped with a 10 mm mandrel (cylindrical). It was set so that the side that had been folded was folded inward. Thereafter, the optical laminate was bent by 180° by bending the test device for 2 seconds and held for 10 seconds. Thereafter, the presence or absence of cracks in the antifouling layer was confirmed visually and with an optical microscope.
  • a bending tester type 1 mandrel tester
  • the above procedure was repeated while changing the mandrel diameter to a smaller one every 1 mm until abnormalities such as cracks were observed on the surface of the antifouling layer side of the optical laminate by visual inspection and with an optical microscope, and cracks were discovered for the first time.
  • the mandrel diameter 1 mm larger than the mandrel diameter was taken as the test result of the bending test.
  • “A” means that the minimum mandrel diameter at the time of bending with no cracks observed is 7 mm or less, and "A” means that the minimum mandrel diameter is 8 mm or more. B”.
  • Example 2 to Example 4 Examples 2 to 4 differ from Example 1 in that the thickness of the hard coat layer 2 and the amount of coagulant added to the resin composition for forming the hard coat layer 2 were changed.
  • the thickness of the hard coat layer 2 was 1.5 ⁇ m.
  • the thickness of the hard coat layer 2 was set to 2.9 ⁇ m, the same as in Example 1, and the amount of coagulant added was increased compared to Example 1.
  • the thickness of the hard coat layer was set to 2.9 ⁇ m as in Example 1, but no coagulant was added.
  • Example 2 For Examples 2 to 4, the same evaluation as in Example 1 was performed, and the surface condition of the hard coat layer 2, the surface condition of the optical laminate, the optical properties of the optical laminate, the scratch resistance test of the optical laminate, and the optical A bending test was conducted on the laminate.
  • Comparative Example 1 to Comparative Example 4 Comparative Examples 1 to 4 differ from Example 1 in that the thickness of the hard coat layer 2 and the amount of coagulant added to the resin composition for forming the hard coat layer 2 were changed.
  • the thickness of the hard coat layer 2 of Example 1 was 1 ⁇ m.
  • the thickness of the hard coat layer 2 was 3 ⁇ m.
  • the thickness of the hard coat layer was 10 ⁇ m.
  • the thickness of the hard coat layer 2 was 5 ⁇ m.
  • the thickness of the hard coat layer was 10 ⁇ m, and the amount of coagulant added was increased compared to Example 1.
  • Comparative Examples 1 to 4 were also evaluated in the same manner as in Example 1, and the surface condition of the hard coat layer 2, the surface condition of the optical laminate, the optical properties of the optical laminate, and the scratch resistance test of the optical laminate were evaluated. , a bending test was conducted on the optical laminate. For the optical laminates of Comparative Examples 1 to 4, the cycle test using the steel wool sliding test was completed when scratches were visually confirmed on the surface after the steel wool sliding test.
  • Example 1 to 4 The results of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 are summarized in the table below.
  • Table 2 HC is the hard coat layer and WCA is the contact angle.
  • the 10-point average roughness Rz of the surface of the optical laminates of Examples 1 to 4 was 21 nm or more and 98 nm or less.

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Abstract

この光学積層体は、透明基材とハードコート層と光学機能層と防汚層とが順に積層された光学積層体であって、前記ハードコート層は、フィラーを含有し、前記ハードコート層は、厚みが１．０μｍ超３．０μｍ未満であり、前記光学積層体の表面の１０点平均粗さＲｚは、１９ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。

Description

光学積層体、物品および画像表示装置
　本発明は、光学積層体、物品および画像表示装置に関する。
　本願は、２０２２年３月１０日に、日本に出願された特願２０２２－０３７４４３号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　例えば、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、タッチパネル、太陽電池等の表面に、反射防止用の光学積層体を設けることがある。近年、スマートフォン、各種操作機器のタッチパネル等の市場の増加に伴い、反射防止用の光学積層体の耐擦傷性の向上が求められている。近年、スマートフォンや各種操作機器のタッチパネルやディスプレイなどに於いて、入力面ないし表示面そのものを内側ないし外側に折り畳み（屈曲）可能にする等の変形可能なタイプや、巻取り可能なタイプの開発が進展しており、反射防止用の光学積層体においてもこれらの変形に対応したものが求められており、そうした中で耐擦傷性の向上が求められている。
　例えば、特許文献１には、反射防止層の動摩擦係数を規定することで、耐擦傷性を制御することが記載されている。また例えば、特許文献２には、ハードコート層の表面粗さ及びシリカ微粒子径を規定することで、耐擦傷性を制御することが記載されている。また例えば、特許文献３には、低屈折率ナノ微粒子の平均粒子径及び低屈折率層内の無機粒子の固形分比率を規定することで、機械特性を制御することが記載されている。
特開２０２０－００８８７７号公報 特開２０１９－１３６８８０号公報 特開２０１４－１０６２４０号公報
　光学積層体の耐擦傷性は更なる向上が求められており、耐擦傷性を高めるための新たな構成の開発が求められている。また、近年の情報端末等の形態の多様性に伴い、ディスプレイやタッチパネルの屈曲にも対応可能な光学積層体が求められている。
　本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、優れた耐擦傷性及び耐屈曲性を両立した光学積層体、物品および画像表示装置を提供することを目的とする。
　本発明は、上記課題を解決するため、以下の手段を提供する。
（１）第１の態様にかかる光学積層体は、透明基材とハードコート層と光学機能層と防汚層とが順に積層された光学積層体であって、前記ハードコート層は、フィラーを含有し、前記ハードコート層は、厚みが１．０μｍ超３．０μｍ未満であり、前記光学積層体の表面の１０点平均粗さＲｚは、１９ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
（２）上記態様にかかる光学積層体において、前記光学積層体の表面を原子間力顕微鏡で測定して得られる前記フィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径が１５０ｎｍ以上２２００ｎｍ以下であってもよい。
（３）上記態様にかかる光学積層体において、前記ハードコート層の表面を原子間力顕微鏡で測定して得られる前記フィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径が１１０ｎｍ以上１６００ｎｍ以下であってもよい。
（４）上記態様にかかる光学積層体は、ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－１に準拠した屈曲試験機を用い、前記防汚層が内側となるように１８０°折り曲げた場合、クラックが発生しない折り曲げ時のマンドレル直径の最小値が７ｍｍ以下のいずれかの値であってもよい。
（５）上記態様にかかる光学積層体において、前記光学機能層は少なくとも低屈折率層を含んでもよい。
（６）上記態様にかかる光学積層体において、前記光学機能層は低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されたものであってもよい。
（７）上記態様にかかる光学積層体において、スチールウール摺動試験を２０００サイクルした後の水接触角の値が、前記スチールウール摺動試験前の水接触角の値の８０％以上であってもよい。
（８）上記態様にかかる光学積層体において、前記防汚層は、フッ素系化合物を含んでもよい。
（９）第２の態様にかかる物品は、上記態様にかかる光学積層体を備える。
（１０）第３の態様にかかる画像表示装置は、画面と、前記画面の表面に形成された上記態様にかかる光学積層体とを備える。
　上記態様にかかる光学積層体、物品および画像表示装置は、耐擦傷性及び耐屈曲性に優れる。
第１実施形態に係る光学積層体の一例の断面図である。 第１実施形態に係る光学積層体を製造する製造装置の一例の模式図である。
　以下、本実施形態について、図を適宜参照しながら詳細に説明する。以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際とは異なっていることがある。以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、本発明の効果を奏する範囲で適宜変更して実施することが可能である。
　図１は、第１実施形態に係る光学積層体１０の一例の断面図である。光学積層体１０は、透明基材１とハードコート層２と密着層３と光学機能層４と防汚層５とが順に積層されている。
　透明基材１は、可視光域の光を透過可能な透明材料からなる。透明基材１は、例えば、プラスチックフィルムである。プラスチックフィルムの構成材料は、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、である。透明基材１は、無機基材であって、ガラスフィルムでもよい。
　透明基材１の構成材料は、好ましくは、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂である。透明基材１は、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材であることが好ましい。プラスチックフィルムがＴＡＣ基材の場合、その一面にハードコート層２を形成したときに、ハードコート層２を構成する成分の一部が浸透してなる浸透層が界面に形成される。その結果、透明基材１とハードコート層２との密着性が良好になるとともに、互いの層間の屈折率差に起因した干渉縞の発生を抑制できる。
　なお、本発明でいう「透明材料」とは、本発明の効果を損なわない範囲で、使用波長域の光の透過率が８０％以上の材料であることをいう。また、本実施形態において「（メタ）アクリル」は、メタクリル及びアクリルの両者を含む意味で用いられる。
　透明基材１は、光学特性を著しく損なわない限りにおいて、補強材料を含んでいてもよい。補強材料は、例えば、セルロースナノファイバー、ナノシリカ等である。
　透明基材１は、光学的機能および／または物理的機能が付与されたフィルムであっても良い。光学的および／または物理的な機能を有するフィルムは、例えば、偏光板、位相差補償フィルム、熱線遮断フィルム、透明導電フィルム、輝度向上フィルム、バリア性向上フィルムなどである。
　透明基材１の厚みは、例えば折り畳み式の表示装置に光学積層体１０を適用した際に、ディスプレイが内側に屈曲されるか外側に屈曲されるか、また、例えば内側に屈曲した場合では、屈曲した面同士にどの程度の間隔が許容されるか、折り畳み式の表示装置の屈曲部にどの程度の大きさを確保できるかによっても異なるが、例えば２μｍ以上であり、好ましくは８μｍ以上である。また、上限については例えば２５０μｍ以下であり、好ましくは１００μｍ以下である。透明基材１の厚みが２μｍ以上であると、例えば内側への屈曲に対してより小さい屈曲時の直径を実現しつつ基材自体の剛性が確保される。一方で２５０μｍを超えると、屈曲方向が内側であっても外側であっても、透明基材１自体の弾性も相まって、十分に屈曲することができず、屈曲した際の直径が大きくなりやすい。
　透明基材１の厚みは、特に限定されないが、例えば２５μｍ以上であり、好ましくは４０μｍ以上である。透明基材１の厚みが２５μｍ以上であると、基材自体の剛性が確保され、光学積層体１０に応力が加わっても皺が発生し難くなる。また透明基材１の厚みが２５μｍ以上であると、透明基材１上にハードコート層２を連続的に形成しても、皺が生じにくく製造上の懸念が少ない。透明基材１の厚みが４０μｍ以上であると、より一層皺が生じにくい。
　透明基材１は、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理および／または下塗り処理が施されていてもよい。これらの処理が予め施されていることで、透明基材１の上に形成されるハードコート層２の密着性が向上する。また透明基材１上にハードコート層２を形成する前に、必要に応じて、透明基材１の表面に対して溶剤洗浄、超音波洗浄等を行うことにより、透明基材１の表面を除塵、清浄化させてもよい。
　ハードコート層２は、バインダー樹脂とフィラーとを含む。ハードコート層２は、この他、凝集剤を含んでもよい。
　バインダー樹脂は、好ましくは透明性を有するものであり、例えば、紫外線、電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などである。
　バインダー樹脂である電離放射線硬化型樹脂の一例は、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ－ビニルピロリドン等である。また電離放射線硬化型樹脂は、２以上の不飽和結合を有する化合物でもよい。２以上の不飽和結合を有する電離放射線硬化型樹脂は、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の多官能化合物等である。これらのなかでも、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）及びペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）が、バインダー樹脂に好適に用いられる。なお、「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートの両者を含む意味で用いられる。また、電離放射線硬化型樹脂として、上述した化合物をＰＯ（プロピレンオキサイド）、ＥＯ（エチレンオキサイド）、ＣＬ（カプロラクトン）等で変性したものでもよい。電離放射線硬化型樹脂は、アクリル系の紫外線硬化型樹脂組成物が好ましい。
　またバインダー樹脂である熱可塑性樹脂の一例は、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等である。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマー、硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶である。特に、透明性および耐候性という観点から、バインダー樹脂は、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等であることが好ましい。
　バインダー樹脂である熱硬化性樹脂は、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン－尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂（かご状、ラダー状などのいわゆるシルセスキオキサン等を含む）等でもよい。
　ハードコート層２は、有機樹脂と無機材料を含んでいても良く、有機無機ハイブリッド材料でもよい。一例としては、ゾルゲル法で形成されたものが挙げられる。無機材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニアが挙げられる。有機材料としては、例えば、アクリル樹脂が挙げられる。
　フィラーは、有機物からなるものでもよいし、無機物からなるものでもよいし、有機物および無機物からなるものでもよい。ハードコート層２に含まれるフィラーは、防眩性、後述する光学機能層４との密着性、アンチブロッキング性の観点等から、光学積層体１０の用途に応じて種々のものを選択できる。具体的にはフィラーとして、例えば、シリカ（Ｓｉの酸化物）粒子、アルミナ（酸化アルミニウム）粒子、有機微粒子など公知のものを用いることができる。ハードコート層２に強靭性を付与するために、光学特性を損なわない範囲で、各種補強材をフィラーとして添加してもよい。補強材は、例えば、セルロースナノファイバーである。
　フィラーがシリカ粒子および／またはアルミナ粒子の場合、フィラーの平均粒子径は、例えば８００ｎｍ以下であり、好ましくは１００ｎｍ以下であり、より好ましくは４０ｎｍ以上７０ｎｍ以下である。フィラーが有機微粒子の場合、有機微粒子の平均粒子径は、例えば１０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは３μｍ以下である。フィラーが有機微粒子の場合、フィラーの平均粒子径の下限値は特に限定されないが、１００ｎｍ以上であることが好ましい。
　フィラーは、ハードコート層２内で一部が凝集しつつ分散している。フィラーが凝集した凝集体は二次粒子となる。例えばハードコート層２内の樹脂分を海、フィラーの凝集体を島とすると、ハードコート層２は樹脂分とフィラーとが海島構造を形成している。フィラーの凝集体は、ハードコート層２の表面に凹凸を形成する。
　ハードコート層２の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定すると、フィラーの凝集体を凹凸として確認できる。ハードコート層２の表面形状は、例えば、日立ハイテクサイエンス社製の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ５０００）を用いて測定できる。ハードコート層２の表面を原子間力顕微鏡で測定して得られるフィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径は、例えば、１１０ｎｍ以上１６００ｎｍ以下であり、好ましくは２３０ｎｍ以上１６００ｎｍ以下であり、より好ましくは３００ｎｍ以上１６００ｎｍ以下である。見かけ上の平均粒子径が大きくなることで表面凹凸が大きくなり、より凹み部の摺動ダメージを抑えることができる。その結果、摺動回数を増やしても防汚特性が維持しやすく、キズが付きにくくなる。
　フィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径は、大津の自動しきい値設定法（例えば、電子通信学会論文誌　Ｄ６３（４）　ｐ．３４９－３５６，　１９８０－０４）に従い、ＡＦＭを用いて求められる。大津の自動しきい値設定法は、大津らによって提案された分類法であり、クラス内分散を最小にし、クラス間分散を最大にする閾値を設定して、ある集団を２つのクラスに分類する方法である。この方法で得られる閾値は、元の濃淡画像として得られた２値画像の平均二乗誤差を最小にする閾値と同等である。
　ＡＦＭは、ＡＦＭの探針とハードコート層２の表面との距離の違いを濃淡画像として表示する。この濃淡画像を、大津の自動しきい値設定法に従って二値化して分類することで、ハードコート層２の表面の凹部と凸部とが分類される。分類された凸部の平均粒子径が、フィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径となる。フィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径を求める際は、フィルム上の任意の５点で１０μｍ×１０μｍ範囲をＡＦＭで測定し、５点それぞれで求められた平均粒子径をさらに平均化する。
　フィラーの凝集の程度は、フィラーとバインダー樹脂との混合時の攪拌条件、フィラーの表面処理、凝集剤の添加及びその添加量等によって制御できる。凝集剤は、例えば、バインダー樹脂との相溶性の悪い物質や高い極性を有する極性物質である。例えば、環状構造中に酸素又は窒素を有する化合物は、凝集剤として機能する。凝集剤は、この他、公知のものを用いることができる。
　ハードコート層２の表面の１０点平均粗さＲｚは、例えば、１５ｎｍ以上１１０ｎｍ以下であり、好ましくは２０ｎｍ以上７５ｎｍ以下である。ハードコート層２の表面の算術平均粗さＲａは、例えば、１．０ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。１０点平均粗さＲｚ及び算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１：１９９４，ＪＩＳ　Ｂ　００３１：１９９４に準拠した値である。
　フィラーは、ハードコート層２の密着層３側の表面に一部が露出していてもよい。すなわち、ハードコート層２中のフィラーは、密着層３と接するように形成されていてもよい。この場合、ハードコート層２のバインダー樹脂と密着層３とが、強く接合される。このため、ハードコート層２と密着層３との密着性が向上し、ハードコート層２の硬度が高くなるとともに、光学積層体１０の耐擦傷性が良好となる。
　ハードコート層２の厚みは、１．０μｍを超え３．０μｍ未満であり、１．２μｍ以上３.０μｍ未満が好ましく１．５μｍ以上２．９μｍ以下がより好ましい。ハードコート層２の厚みが１．０μｍ超であれば、バインダー樹脂の硬化反応における酸素による反応阻害を抑制できる。またハードコート層２の厚みがこの範囲内にあることで、ハードコート層２の表面の凹凸を所定の範囲内にすることができ、また、屈曲性に優れたハードコート層とすることができる。ハードコート層２の厚みは、ＦＩＢ（収束イオンビーム装置）を用いてフィルムの断面方向が露出するように切断した後にＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）にて断面を観察し、測定することができる。以下、各層の厚みは同様の方法で測定される。
　ハードコート層２は、単一の層であってもよく、複数の層が積層されたものであってもよい。またハードコート層２には、例えば、紫外線吸収性能、帯電防止性能、屈折率調整機能、硬度調整機能など公知の機能が更に付与されていてもよい。また、ハードコート層２に付与される機能は、単一のハードコート層中に付与されていてもよいし、複数の層に分割して付与されていてもよい。また、表示装置の屈曲性に対応するために、電離線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂に於いて、完全に硬化させずに、例えば屈曲部のみ硬化度を下げるように硬化させても良い。
　密着層３は、ハードコート層２と光学機能層４との密着を良好にするための層である。ハードコート層２が無機材料の場合は、密着層３は無くてもよい。
　密着層３は、例えば、酸素欠損状態の金属酸化物もしくは金属である。酸素欠損状態の金属酸化物とは、化学量論組成よりも酸素数が不足した状態の金属酸化物をいう。酸素欠損状態の金属酸化物としては、例えば、ＳｉＯｘ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＺｒＯｘ、ＣｅＯｘ、ＭｇＯｘ、ＺｎＯｘ、ＴａＯｘ、ＳｂＯｘ、ＳｎＯｘ、ＭｎＯｘなどが挙げられる。また金属としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｍｎなどが挙げられる。密着層３は、例えば、ＳｉＯｘにおけるｘが、０を超え２．０未満であるものであってもよい。
　密着層３の厚みは、透明性を維持し、良好な光学特性を得る観点から、０ｎｍ超え２０ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
　光学機能層４は、光学機能を発現させる層である。光学機能とは、光の性質である反射と透過、屈折をコントロールする機能であり、例えば、反射防止機能、選択反射機能、防眩機能、レンズ機能などが挙げられる。光学機能層４は、例えば、反射防止層、選択反射層、防眩層である。反射防止層、選択反射層、防眩層としては、公知のものを用いることができる。反射防止層、選択反射層、防眩層は、いずれも単層であっても良く、複数の層の積層体であってよい。
　図１に示す光学機能層４は、反射防止層である。図１に示す光学機能層４は、高屈折率層４ａと低屈折率層４ｂとを有する。図１に示す光学機能層４は、密着層３側から順に高屈折率層４ａと低屈折率層４ｂとが交互に積層された合計４層の積層体である。高屈折率層４ａと低屈折率層４ｂの層数は、特に限定されるものではなく、高屈折率層４ａおよび低屈折率層４ｂの層数は、任意の層数とすることができる。
　図１に示す光学積層体１０は、高屈折率層４ａと低屈折率層４ｂとが交互に積層された積層体の界面のそれぞれで反射した反射光が干渉すること、及び、防汚層５側から入射した光を拡散することで、反射防止機能を示す。
　低屈折率層４ｂは、例えば、Ｓｉの酸化物を含む。低屈折率層４ｂは、例えば、ＳｉＯ２（Ｓｉの酸化物）等を主成分とした層である。Ｓｉの酸化物は、入手が容易でコストの面で有利である。ＳｉＯ２単層膜は、無色透明である。本実施形態において、低屈折率層４ｂの主成分とは、低屈折率層４ｂ中に５０質量％以上含まれる成分であることを意味する。
　低屈折率層４ｂが、Ｓｉの酸化物を主成分とした層である場合、５０質量％未満の別の元素を含んでも良い。Ｓｉの酸化物とは別の元素の含有量は、好ましくは１０％以下である。別の元素は、例えば、Ｎａ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｎである。Ｎａは、低屈折率層４ｂの耐久性を高める。Ｚｒ、Ａｌ、Ｎは、低屈折率層４ｂの硬度を高め、耐アルカリ性を高める。
　低屈折率層４ｂの屈折率は、例えば１．２０以上１．６０以下であり、好ましくは１．３０以上１．５０以下である。低屈折率層４ｂに用いられる誘電体は、例えば、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２、屈折率１．３８）などである。
　高屈折率層４ａの屈折率は、例えば２．００以上２．６０以下であり、好ましくは２．１０以上２．４５以下である。低屈折率層４ｂ及び高屈折率層４ａの屈折率は、エリプソメトリー解析装置を用いて測定される。
　高屈折率層４ａに用いられる誘電体は、例えば、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５、屈折率２．３３）、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率２．３３～２．５５）、酸化タングステン（ＷＯ３、屈折率２．２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率２．２）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５、屈折率２．１６）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率２．１）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ、屈折率２．０６）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率２．２）などである。高屈折率層４ａに導電特性を付与したい場合、例えば、高屈折率層４ａに用いられる誘電体としてＩＴＯ、酸化インジウム酸化亜鉛（ＩＺＯ）を選択できる。
　光学機能層４は、例えば、高屈折率層４ａとして五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５、屈折率２．３３）からなるものを用い、低屈折率層４ｂとしてＳｉＯ２からなるもの用いることが好ましい。
　低屈折率層４ｂの膜厚は、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲であればよく、反射防止機能を必要とする波長域に応じて適宜選択される。高屈折率層４ａの膜厚は、例えば、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であればよく、反射防止機能を必要とする波長域に応じて適宜選択される。高屈折率層４ａおよび低屈折率層４ｂの膜厚は、それぞれ光学機能層４の設計に応じて適宜選択できる。例えば、密着層３側から順に、５～５０ｎｍの高屈折率層４ａ、１０～８０ｎｍの低屈折率層４ｂ、２０～２００ｎｍの高屈折率層４ａ、５０～２００ｎｍの低屈折率層４ｂとすることができる。
　光学機能層４を形成している層のうち防汚層５側には、例えば、低屈折率層４ｂが配置される。光学機能層４の低屈折率層４ｂが防汚層５と接している場合、光学機能層４の反射防止性能が良好となる。
　防汚層５は、光学機能層４の最外面上にある。防汚層５は、光学機能層４の汚損を防止する。また、防汚層５は、タッチパネル等に適用する際に、耐摩耗性及び耐擦傷性によって光学機能層４の損耗を抑制する。
　防汚層５は、例えば、防汚性材料を蒸着させた蒸着膜である。防汚層５は、例えば、光学機能層４を構成する低屈折率層４ｂの一面に、防汚性材料としてフッ素系化合物を真空蒸着することによって形成される。防汚層５がフッ素系化合物を含むと、光学積層体１０の耐摩擦性および耐アルカリ性がより向上する。
　防汚層５に含まれるフッ素系化合物は、例えばフッ素系有機化合物である。フッ素系有機化合物は、例えば、フッ素変性有機基と反応性シリル基（例えば、アルコキシシラン）とからなる化合物である。防汚層５に用いることができる市販品としては、オプツールＤＳＸ（ダイキン株式会社製）、ＫＹ－１００シリーズ（信越化学工業株式会社製）などが挙げられる。
　防汚層５にフッ素変性有機基と反応性シリル基（例えば、アルコキシシラン）とからなる化合物を用い、光学機能層４の低屈折率層４ｂにＳｉＯ２を用いた場合、フッ素系有機化合物の骨格であるシラノール基とＳｉＯ２と間でシロキサン結合が形成される。シロキサン結合は、光学機能層４と防汚層５との密着性を高める。
　防汚層５の光学厚みは、例えば、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、好ましくは３ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。防汚層５の厚みが１ｎｍ以上であると、光学積層体１０をタッチパネル用途などに適用した際に、耐摩耗性を十分に確保できる。また防汚層５の厚みが２０ｎｍ以下であると、蒸着に要する時間が短時間で済み、効率よく製造できる。
　防汚層５は、必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤、帯電防止剤、滑剤、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、難燃剤、赤外線吸収剤、界面活性剤などの添加剤を含んでいてもよい。
　蒸着によって形成された防汚層５は、光学機能層４と強固に結合し、空隙が少なく緻密である。そのため蒸着によって形成された防汚層５は、防汚性材料の塗布などの他の方法によって形成された防汚層とは異なる特性を示す。
　蒸着によって形成された防汚層５は、塗布によって形成した防汚層と比較して、空隙が少なく緻密である。また蒸着によって形成された防汚層５は、塗布によって形成した防汚層５と比較して、低屈折率層４ｂに対して強固に接合する。
　光学積層体１０の最表面（防汚層５の表面）には凹凸が形成されている。光学積層体１０の最表面の凹凸は、ハードコート層２の表面に形成された凹凸に起因する。ハードコート層２上には、密着層３、光学機能層４、防汚層５が積層されているが、各層の厚みはハードコート層２の表面の凹凸を埋めるほど厚くない。したがって、光学積層体１０の最表面には、ハードコート層２の表面の凹凸を反映した凹凸が形成されている。
　光学積層体１０の最表面の１０点平均粗さＲｚは、１９ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。光学積層体１０の最表面における１０点平均粗さＲｚが所定の範囲内にあると、ふき取り等の接触に対して防汚層５が剥離されにくくなる。防汚層５が剥離されないと、光学積層体１０の耐擦傷性が向上する。
　光学積層体１０の算術平均粗さＲａは、例えば、１．０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、好ましくは１．２ｎｍ以上９ｎｍ以下である。
　光学積層体１０の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定すると、ハードコート層２のフィラーの凝集体に起因した凹凸が確認できる。光学積層体１０の表面を原子間力顕微鏡で測定して得られるフィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径は、例えば、１５０ｎｍ以上２２００ｎｍ以下であり、好ましくは３４０ｎｍ以上２２００ｎｍ以下である。光学積層体１０の表面におけるフィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径は、ハードコート層２の表面における測定方法と同じである。
　光学積層体１０の表面に対してスチールウール摺動試験を２０００サイクルした後の水接触角の値は、スチールウール摺動試験前の水接触角の値の８０％以上であり、好ましくは８４％以上であり、より好ましくは８８％以上である。すなわち、蒸着等によって形成された防汚層５を有する光学積層体１０は、例えばスチールウールを２０００回水平往復運動させることによる擦傷性試験前後の水接触角の維持率が８０％以上である。
　また、光学積層体１０は、屈曲試験に於いて直径７ｍｍ以下で屈曲させた際に、防汚層５や光学機能層４、密着層３、ハードコート層２にひび割れ（クラック）や剥がれが発生しない事が好ましい。具体的には、ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－１：１９９９に準拠した屈曲試験機（タイプ１マンドレル試験機）を用いて、防汚層５が内側となるように光学積層体１０を１８０°折り曲げた場合、クラックの発生しない折り曲げ時のマンドレル直径の最小値が７ｍｍ以下のいずれかの値であることが好ましい。当該屈曲試験では、塗装面としての防汚層５が内側となるように光学積層体１０を折り曲げた点でＪＩＳ　Ｋ５６００－５－１：１９９９の円筒マンドレル試験と異なる。クラックの発生しない折り曲げ時のマンドレル直径の最小値は、初めてクラックの発生を確認したマンドレル直径より１ｍｍ大きい値を指す。使用時に屈曲頻度の高い折り畳み型の画面を有する情報端末などに光学積層体１０を適用する場合には、このような特性を満たすことが望ましい。
［光学積層体の製造方法］
　一例として、ロール状に巻き付けられた透明基材１を用いて光学積層体１０を製造する場合を説明する。
　まず、ロール状に巻き付けられた透明基材１を巻き出す。そして、公知の方法により透明基材１上にハードコート層２となる材料を含むスラリーを塗布し、ハードコート層２となる材料に対応する公知の方法により硬化させる。ここで、ハードコート層２となる材料を含むスラリーに、例えば、凝集剤を添加する。またハードコート層２となる材料を含むスラリーに、ハードコート層２の樹脂分と相溶性の悪い材料（例えば、環状構造中に酸素又は窒素を有する化合物）を混入してもよい。硬化後のハードコート層２の表面には、所定の凹凸が形成される。そして、表面にハードコート層２の形成された透明基材１を、公知の方法によりロール状に巻き取る。
　次いで、ハードコート層２上に、密着層３を形成する密着層形成工程、および光学機能層４を形成する光学機能層形成工程を行う。その後、光学機能層４上に防汚層５を形成する防汚層形成工程を行う。光学機能層形成工程の前に、ハードコート層２の表面を処理する第１表面処理工程を行ってもよい。また、光学機能層形成工程の後に、反射防止膜の表面を処理する第２表面処理工程を行ってもよい。
　また第１表面処理工程と密着層形成工程、および、光学機能層形成工程と第２表面処理工程と防汚層形成工程とは、製造途中の光学積層体を減圧下の状態に維持し、連続して行うことが好ましい。
　図２は、第１実施形態に係る光学積層体１０の製造に用いることができる製造装置の一例である。製造装置２０は、ロール巻き出し装置１４と前処理装置１２Ａとスパッタリング装置１１と前処理装置１２Ｂと蒸着装置１３とロール巻き取り装置１５とを備え、この順に連結されている。製造装置２０は、ロールから基材を巻き出し、これらの連結された装置を順に通過させた後に巻き取ることにより、ロールトゥロール方式で光学積層体１０を作製する。
　製造途中の光学積層体１０の搬送速度（ラインスピード）は、適宜設定することができる。搬送速度は、例えば、０．５～２０ｍ／ｍｉｎとすることが好ましく、０．５～１０ｍ／ｍｉｎとすることがより好ましい。
　ロール巻き出し装置１４は、チャンバー３４と真空ポンプ２１と巻き出しロール２３とガイドロール２２を有する。チャンバー３４内は、真空ポンプ２１で減圧されている。真空ポンプ２１は、公知のポンプである。巻き出しロール２３には、ハードコート層２が形成された透明基材１が巻き付けられている。巻き出しロール２３は、所定の搬送速度で、ハードコート層２が形成された透明基材１を、前処理装置１２Ａに供給する。
　前処理装置１２Ａは、チャンバー３２とキャンロール２６とガイドロール２２とプラズマ放電装置４２とを有する。キャンロール２６、ガイドロール２２及びプラズマ放電装置４２は、チャンバー３２内に設置されている。チャンバー３２は、チャンバー３１、３４と連結されている。チャンバー３２内は、減圧されている。
　キャンロール２６およびガイドロール２２は、所定の搬送速度で、ロール巻き出し装置１４から送られたフィルムを搬送する。
　プラズマ放電装置４２は、キャンロール２６の外周面と所定の間隔で離間して対向配置されている。プラズマ放電装置４２は、気体をグロー放電により電離させる。気体は、例えば、アルゴンガス、酸素ガス、窒素ガス、ヘリウムガス等である。アルゴンガスは、安価かつ不活性で光学特性に影響を及ぼさないので好ましい。プラズマ放電装置４２は、例えば、アルゴンガスを高周波プラズマによりイオン化するグロー放電装置である。
　プラズマ放電装置４２は、密着層３および光学機能層４の形成される表面に対する前処理として、第１表面処理工程を行う。第１表面処理工程では、キャンロール２６およびガイドロール２２を回転させて、所定の搬送速度で、ハードコート層２の表面を処理する。プラズマ放電装置４２は、例えば、グロー放電処理、プラズマ処理、イオンエッチング、アルカリ処理などを行う。グロー放電処理は、大面積処理が可能である。グロー放電処理を行うと、ハードコート層２の表面がナノレベルで粗面化されるとともに、ハードコート層２の表面に存在する結合力の弱い物質が除去される。その結果、ハードコート層２と、ハードコート層２上に形成される密着層３の密着性が向上する。
　プラズマ放電装置４２を通過後のフィルムは、スパッタリング装置１１へ搬送される。
　スパッタリング装置１１は、チャンバー３１と真空ポンプ２１と成膜ロール２５とガイドロール２２と成膜部４１とを有する。成膜ロール２５、ガイドロール２２及び成膜部４１は、チャンバー３１内に設置されている。チャンバー３１は、真空ポンプ２１で減圧されている。スパッタリング装置１１のチャンバー３１内では、密着層形成工程および光学機能層形成工程を行われる。
　成膜ロール２５およびガイドロール２２は、所定の搬送速度で、フィルムを搬送する。スパッタリング装置１１は、成膜ロール２５上を走行する透明基材１のハードコート層２上に、スパッタリングによって密着層３、高屈折率層４ａ及び低屈折率層４ｂを順に積層する。高屈折率層４ａ及び低屈折率層４ｂを交互に積層することで、光学機能層４が形成される。
　成膜部４１は、成膜ロール２５の外周面と所定の間隔で離間して対向配置され、成膜ロール２５を囲むように複数設けられている。成膜部４１の数は、密着層３と、光学機能層４を形成している高屈折率層４ａと低屈折率層４ｂとの合計積層数に応じて決定される。成膜ロール２５又はチャンバー３１を複数設け、成膜部４１を配置するスペースを確保してもよい。
　各成膜部４１は、例えば、スパッタリング装置である。各成膜部４１には、例えば、ターゲット、ターゲットへの電圧印加部、反応ガス等を供給するガス供給部、ターゲット表面に磁場を形成する磁場発生源がある。ターゲットは、成膜する膜に応じて異なる。例えば、ＳｉＯ２からなる層を形成する場合、ターゲットとしてＳｉを用い、反応性ガスとしてＯ２を用いる。また、例えば、Ｎｂ２Ｏ５からなる層を形成する場合、ターゲットとしてＮｂを用い、反応性ガスとしてＯ２を用いる。成膜部４１の成膜方法は、例えば、スパッタリング法であり、好ましくはマグネトロンスパッタ法である。このほか、直流グロー放電または高周波によって発生させたプラズマを利用する２極スパッタリング方式、熱陰極を付加する３極スパッタリング方式でもよい。
　スパッタリング装置１１は、各層を成膜した後に光学特性を測定する光学モニターを有してもよい。光学モニターは、各層の品質をチェックする。光学モニターは、例えば、幅方向にスキャン可能な光学ヘッドにより各層の幅方向の光学特性を測定する。光学モニターは、例えば、光学特性として反射率のピーク波長を測定し、光学厚みに換算することにより、各層の幅方向の光学厚み分布を測定できる。光学モニターを用いて光学特性を測定することにより、リアルタイムでスパッタ条件を調整しながら、最適な光学特性を有する密着層３および光学機能層４を形成できる。
　密着層３および光学機能層４が形成されたフィルムは、前処理装置１２Ｂへ搬送される。
　前処理装置１２Ｂは、チャンバー３２とキャンロール２６とガイドロール２２とプラズマ放電装置４２とを有する。前処理装置１２Ｂの構成は、前処理装置１２Ａと同様である。前処理装置２Ｂのチャンバー３２内では、防汚層５の形成される表面に対する前処理として第２表面処理工程を行う。第２表面処理工程を行った後のフィルムの表面は、表面粗さが変化する場合がある。第２表面処理工程の条件を変えることで、防汚層５が積層される表面の表面粗さを調整してもよい。前処理が行われたフィルムは、蒸着装置１３へ搬送される。
　蒸着装置１３は、チャンバー３３と真空ポンプ２１とガイドロール２２と蒸着源４３と加熱装置５３とを有する。チャンバー３３内は真空ポンプ２１で減圧されている。蒸着装置１３は、搬送されたフィルムに防汚層５を蒸着する。
　蒸着源４３は、隣接する２つのガイドロール２２間を略水平に搬送されるフィルムと対向する位置にある。蒸着源４３は、防汚層５となる材料からなる蒸発ガスを、光学機能層４上に供給する。蒸着源４３の向きは、任意に設定できる。
　加熱装置５３は、防汚層５となる材料を蒸気圧温度に加熱する。加熱装置５３は、例えば、抵抗加熱方式、ヒーター加熱方式、誘導加熱方式、電子ビーム方式で加熱するものである。
　蒸着装置１３は、例えば、案内板と膜厚計と真空圧計と電源装置とを備える。案内板は、蒸発させた蒸着材料を、所望の位置に導く。膜厚計は、蒸着された膜厚を測定する。真空圧計は、チャンバー３３内の真空度を測定する。真空圧計は、例えば、イオンゲージなどである。電源装置は、例えば、高周波電源などである。
　蒸着装置１３で防汚層５が形成されたフィルムは、ロール巻き取り装置１５へ搬送される。光学機能層形成工程から防汚層形成工程までは、減圧状態を維持したままインラインで連続して行うことが好ましい。自然酸化膜の生成、異物などのコンタミネーションを避けることができる。
　ロール巻き取り装置１５は、チャンバー３５と真空ポンプ２１と巻き取りロール２４とガイドロール２２とを有する。チャンバー３５内は、真空ポンプ２１で減圧されている。巻き取りロール２４は、防汚層５まで形成された光学積層体１０を巻きとる。巻き取りロール２４およびガイドロール２２は、所定の巻き取り速度で、光学積層体１０を巻き取る。必要に応じ、キャリアフィルムも用いても良い。上記手順を経ることで、光学積層体１０を作製できる。
　第１実施形態にかかる光学積層体１０は、表面が所定の形状を有することで、ふき取り等の接触があった場合でも、防汚層５が剥離しにくい。光学積層体１０から防汚層５が剥離され合いことで、光学積層体１０の耐擦傷性が低下しにくい。すなわち、光学積層体１０は、長時間に亘って、耐擦傷性を維持できる。
　以上、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
　例えば、光学積層体１０は、透明基材１、ハードコート層２、密着層３、光学機能層４及び防汚層５以外の層を有してもよい。また光学積層体１０は、透明基材１の光学機能層４などが形成された面と対向する面に、必要に応じて各種の層を有してもよい。例えば、他の部材との接着に用いられる粘着剤層が設けられていても良い。また、この粘着剤層を介して他の光学フィルムが設けられていても良い。他の光学フィルムは、例えば偏光フィルム、位相差補償フィルム、１／２波長板、１／４波長板として機能するフィルムなどがある。
　また透明基材１の対向する面に、反射防止、選択反射、防眩、偏光、位相差補償、視野角補償又は拡大、導光、拡散、輝度向上、色相調整、導電などの機能を有する層が直接形成されていても良い。光学積層体１０の表面には、モスアイ、防眩機能を発現するナノオーダーの凹凸構造を形成してもよい。光学積層体１０の表面には、レンズ、プリズムなどのマイクロからミリオーダーの幾何学形状が形成されていてもよい。
　また光学積層体１０は、様々な物品に適用できる。例えば、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネルなど、画像表示部の画面に光学積層体１０を設けてもよい。これにより、例えば、スマートフォンや操作機器のタッチパネル表示部が高い耐擦傷性を示し、実使用に好適な画像表示装置が得られる。
　また物品は画像表示装置に限定されず、窓ガラス、ゴーグル、太陽電池の受光面、スマートフォンの画面やパーソナルコンピューターのディスプレイ、情報入力端末、タブレット端末、ＡＲ（拡張現実）デバイス、ＶＲ（仮想現実）デバイス、電光表示板、ガラステーブル表面、遊技機、航空機や電車などの運行支援装置、ナビゲーションシステム、計器盤、光学センサーの表面などに光学積層体１０を適用できる。
「実施例１」
　まず、平均粒径５０ｎｍのシリカ粒子（フィラー）の含有量が樹脂組成物（バインダー樹脂）の固形分全体に対し、２８質量％である光硬化性の樹脂組成物を準備した。樹脂組成物は、表１に示すようにシリカ粒子、アクリレート、レベリング剤、及び光重合開始剤を溶剤に溶解させ、最後に凝集剤を加えて調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　厚さ８０μｍ、長さ３９００ｍのロール状のＴＡＣフィルムを透明基材１として用意し、ＴＡＣフィルム上に上述の光硬化性の樹脂組成物をグラビアコーターによって塗布した。そして、樹脂組成物に光を照射して硬化させ、厚み２．９μｍのハードコート層２を形成した。
　そして作製されたハードコート層２の表面粗さ（算術平均粗さＲａ、１０点平均粗さＲｚ）及びフィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径を求めた。表面粗さ及びフィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径は、ＡＦＭで測定した。
　次に、ロールトゥロール方式で、以下に示す方法により、ハードコート層２の形成された透明基材１上に、密着層３と光学機能層４と防汚層５とをこの順で連続的に製造し、実施例１の光学積層体（反射防止フィルム）を作製した。
　製造装置は、図２に示す製造装置２０を用いた。ラインスピードは２ｍ／ｍｉｎとした。第１表面処理工程と密着層形成工程と光学機能層形成工程と第２表面処理工程と防汚層形成工程を、製造途中の光学積層体を減圧下の状態に維持したまま連続して行った。
　ハードコート層２に対して、グロー放電処理の処理強度を４０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２にして、グロー放電処理を行った。そして、グロー放電処理後のハードコート層２上に、圧力１．０Ｐａ以下のチャンバー内で、スパッタリングにより厚み５ｎｍのＳｉＯｘからなる密着層３を成膜し、密着層上に厚み１５ｎｍのＮｂ２Ｏ５膜（高屈折率層）、厚み３８ｎｍのＳｉＯ２膜（低屈折率層）、厚み３０ｎｍのＮｂ２Ｏ５膜（高屈折率層）、および厚み１０２ｎｍのＳｉＯ２膜（低屈折率層）からなる光学機能層４（積層体）を成膜した。
　そして、光学機能層４の表面にグロー放電処理を行った。グロー放電処理の積算出力は３２６Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２であった。
　次に、光学機能層４上に、蒸着チャンバー内圧力０．０１Ｐａ以下、蒸着温度２３０℃、ラインスピード２．０ｍ／ｍｉｎ、フッ素を有する有機化合物であるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物（ＫＹ－１９０１、信越化学工業株式会社製）からなる防汚層５を蒸着によって形成した。その後、ロール状に巻き取り、実施例１の光学積層体（反射防止フィルム）を得た。
　そして作製した光学積層体の表面粗さ（算術平均粗さＲａ、１０点平均粗さＲｚ）及びフィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径を求めた。表面粗さ及びフィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径は、ＡＦＭで測定した。
　また光学積層体の光学特性として、ヘイズと透過率を測定した。光学特性は、光学分光計（日本電色工業株式会社製、ＮＤＨ５０００ＳＰ）を用いて測定した。
　また光学積層体の光学特性を測定した。光学特性は、拡散反射光（ＳＣＥ）、ヘイズ、透過率（ＴＴ）を測定した。光学特性は、光学分光計日本電色工業社製のＮＤＨ－５０００ＳＰを用いて測定した。また光学積層体における光学機能層の密着性試験も行った。密着性は、ＪＩＳ　Ｋ５４００に準拠した碁盤目試験法で評価した。
　また光学積層体に対して耐擦傷性試験を行った。耐擦傷性試験は、スチールウール摺動試験とペン摺動試験とを行った。
　スチールウール摺動試験は、ＪＩＳ　Ｌ０８４９に準拠した摩擦試験機Ｉ形を用いて行った。スチールウール（ボンスター株式会社製　＃００００番）を摩擦体として用い、摩擦体を光学積層体の表面に沿って水平往復させた。試験設定は、荷重１０００ｇ／ｃｍ２、ストローク７５ｍｍ、速度７ｍｍ／ｓとした。水平往復は、２０００回とした。そして、スチールウール摺動試験後のサンプルの接触角を測定し、スチールウール摺動試験前の接触角（初期接触角）に対する割合を算出した。
　接触角は、全自動接触角計ＤＭ－７００（協和界面化学株式会社製）を用い、以下の条件で楕円フィッティング法によって測定した。蒸留水をガラスシリンジに入れて、その先端にステンレス製の針を取り付けて、光学積層体（試験片）に純水を滴下した。
　純水の滴下量：２．０μＬ
　測定温度：２５℃
　純水を滴下して４秒経過後の接触角を、試験片表面の任意の６か所で測定し、その平均値を純水接触角（ＷＣＡ）とした。
　またスチールウール摺動試験後のサンプルの目視検査を行い、目視で確認できる傷の有無を確認した。目視評価は、キズが確認できないものを「Ａ」、キズが確認されるものを「Ｂ」として評価した。
　ペン摺動試験は、２５０ｇの荷重で摺動速度６０ｒｐｍでおこなった。摺動距離は、５ｃｍとし、同一箇所を６００００回直線摺動した。ペン摺動試験の評価は、摺動部を目視で確認したときにキズが確認できないものを「Ａ」、摺動部を目視で確認したときにキズが確認されるものを「Ｂ」として評価した。
　また、光学積層体の屈曲試験を以下のように行なった。サンプルとして、１ｃｍ×１５ｃｍに切断した光学積層体を用意した。光学積層体は切断面にクラックが無いことを確認した。
　先ず、１０ｍｍのマンドレル（円筒）をセットした、ＪＩＳ　Ｋ－５６００－５－１：１９９９に準拠した屈曲試験機（タイプ１マンドレル試験機）に、前述の光学積層体を、防汚層の形成された面が内側に折り曲げられるようにセットした。しかる後、２秒かけて試験装置を折り曲げる事で光学積層体を１８０°折り曲げ、１０秒間保持した。その後、目視及び光学顕微鏡により防汚層のクラックの有無を確認した。
　光学積層体の防汚層側表面に、目視及び光学顕微鏡でひび割れなどの異常が見られるまで、マンドレルの直径を小さいものに１ｍｍ毎に交換しながら上記の手順を繰り返し、初めてクラックが発見されたマンドレルの直径より１ｍｍ大きいマンドレルの直径を、屈曲試験の試験結果とした。耐屈曲性としては、クラックの発生が確認されなかった折り曲げ時のマンドレル直径の最小値が７ｍｍ以下のいずれかの値であるものを「Ａ」、８ｍｍ以上のいずれかの値であるものを「Ｂ」とした。
「実施例２～実施例４」
　実施例２～実施例４は、ハードコート層２の膜厚及びハードコート層２を形成するための樹脂組成物に添加する凝集剤の添加量を変えた点が実施例１と異なる。実施例２は、ハードコート層２の膜厚を１．５μｍとした。実施例３は、ハードコート層２の膜厚を実施例１と同じく２．９μｍとし、凝集剤の添加量を実施例１より増加させた。実施例４は、ハードコート層の膜厚を実施例１と同じく２．９μｍとしたが、凝集剤は添加しなかった。
　実施例２～４についても、実施例１と同様の評価を行い、ハードコート層２の表面状態、光学積層体の表面状態、光学積層体の光学特性、光学積層体の耐擦傷性試験、光学積層体の屈曲試験を行った。
「比較例１～比較例４」
　比較例１から比較例４は、ハードコート層２の膜厚及びハードコート層２を形成するための樹脂組成物に添加する凝集剤の添加量を変えた点が実施例１と異なる。比較例１は、実施例１のハードコート層２の膜厚を１μｍとした。比較例２はハードコート層２の膜厚を３μｍとした。比較例２はハードコート層の膜厚を１０μｍとした。比較例３はハードコート層２の膜厚を５μｍとした。比較例４は、ハードコート層の膜厚を１０μｍとし、凝集剤の添加量を実施例１より増加させた。
　比較例１から比較例４についても、実施例１と同様の評価を行い、ハードコート層２の表面状態、光学積層体の表面状態、光学積層体の光学特性、光学積層体の耐擦傷性試験、光学積層体の屈曲試験を行った。比較例１から比較例４の光学積層体は、スチールウール摺動試験の後に、目視で表面に傷が確認された時点で、スチールウール摺動試験によるサイクル試験を終了した。
　以下の表に、実施例１～４及び比較例１～４の結果をまとめた。表２において、ＨＣはハードコート層であり、ＷＣＡは接触角である。
　表２に示される通り、実施例１～実施例４の光学積層体の表面の１０点平均粗さＲｚは、２１ｎｍ以上９８ｎｍ以下であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
１…透明基材、２…ハードコート層、３…密着層、４…光学機能層、４ａ…高屈折率層、４ｂ…低屈折率層、５…防汚層、１０…光学積層体

Claims (10)

  1. 　透明基材とハードコート層と光学機能層と防汚層とが順に積層された光学積層体であって、
    　前記ハードコート層は、フィラーを含有し、
    　前記ハードコート層は、厚みが１．０μｍ超３μｍ未満であり、
    　前記光学積層体の表面の１０点平均粗さＲｚは、１９ｎｍ以上１００ｎｍ以下である、光学積層体。
  2. 　前記光学積層体の表面を原子間力顕微鏡で測定して得られる前記フィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径が１５０ｎｍ以上２２００ｎｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
  3. 　前記ハードコート層の表面を原子間力顕微鏡で測定して得られる前記フィラーの凝集体の見かけ上の平均粒子径が１１０ｎｍ以上１６００ｎｍ以下である、請求項１又は２に記載の光学積層体。
  4. 　ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－１に準拠した屈曲試験機を用い、前記防汚層が内側となるように１８０°折り曲げた場合、クラックが発生しない折り曲げ時のマンドレルの直径の最小値が７ｍｍ以下のいずれかの値である、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学積層体。
  5. 　前記光学機能層は少なくとも低屈折率層を含む、請求項１～４のいずれか一項に記載の光学積層体。
  6. 　前記光学機能層は低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されたものである、請求項１～５のいずれか一項に記載の光学積層体。
  7. 　スチールウール摺動試験を２０００サイクルした後の水接触角の値が、前記スチールウール摺動試験前の水接触角の値の８０％以上である、請求項１～６のいずれか一項に記載の光学積層体。
  8. 　前記防汚層は、フッ素系化合物を含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の光学積層体。
  9. 　請求項１～８のいずれか一項に記載の光学積層体を備える、物品。
  10. 　画面と、前記画面の表面に形成された請求項１～８のいずれか一項に記載の光学積層体とを備える、画像表示装置。
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