WO2023167219A1 - アルミニウム合金原料の製造方法、アルミニウム合金鋳塊の製造方法、アルミニウム合金板の製造方法、めっき用アルミニウム合金基板の製造方法、磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク - Google Patents

Abstract

本発明は、アルミニウム合金ディスクと下地層とを含む中間材及び完成品の少なくとも１つをリサイクル材としてアルミニウム合金素材の少なくとも一部に再利用し、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を加熱して前記アルミニウム合金ディスクと前記下地層を分離する分離工程において、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を４８０℃以上５９０℃以下で１時間を超えて加熱保持するアルミニウム合金原料の製造方法に関する。

Description

アルミニウム合金原料の製造方法、アルミニウム合金鋳塊の製造方法、アルミニウム合金板の製造方法、めっき用アルミニウム合金基板の製造方法、磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク

　本発明は、リサイクル性に優れたアルミニウム合金原料の製造方法、これを用いたアルミニウム合金鋳塊の製造方法、これを用いたアルミニウム合金板の製造方法、これを用いためっき用アルミニウム合金基板の製造方法、これを用いた磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法、これを用いた磁気ディスクの製造方法、及びその製造方法で得られた磁気ディスクに関する。

　コンピュータの記憶装置に用いられるアルミニウム合金製磁気ディスクは、良好なめっき性を有するとともに機械的特性や加工性に優れたＪＩＳ５０８６系アルミニウム合金をベースにしたアルミニウム合金基板から製造されている。

　さらに、アルミニウム合金製磁気ディスクは、めっき前処理工程における金属間化合物の抜け落ちによるピット不具合の改善を目的に、ＪＩＳ５０８６系アルミニウム合金中の不純物であるＦｅ、Ｓｉ、Ｍｎ等の含有量を制限し、マトリックス中の金属間化合物のサイズを小さくしたアルミニウム合金基板、或いは、めっき性の改善を目的にＪＩＳ５０８６系アルミニウム合金中のＣｕ、Ｚｎを意識的に添加したアルミニウム合金基板等から製造されている。

　一般的なアルミニウム合金製磁気ディスクの製造において、まず、アルミニウム合金板を作製した後、円環状アルミニウム合金ディスクブランクを作製し、切削加工、研削加工を行った後に加圧焼鈍を施してアルミニウム合金基板を作製する。次いで、このアルミニウム合金基板にめっきを施し、さらにアルミニウム合金基板の表面に磁性体を付着させることによりアルミニウム合金製磁気ディスクが製造される。

　例えば、ＪＩＳ５０８６系アルミニウム合金を用いたアルミニウム合金製磁気ディスクは、以下の工程を経て製造される。まず、所望の合金組成を有するアルミニウム合金を鋳造し、その鋳塊を熱間圧延し、次いで得られた熱間圧延板に冷間圧延を施し、磁気ディスクとして必要な厚さを有する圧延材を作製する。この圧延材には、必要に応じて冷間圧延の途中等に焼鈍が施される。次に、この圧延材を円環状に打抜き、さらに製造過程により生じた歪み等を除去するため、円環状のアルミニウム合金板を積層し、両面から加圧しつつ焼鈍を施して平坦化する加圧焼鈍を行う。このような工程を経てディスクブランクが作製される。

　このようにして作製されたディスクブランクに、前処理として切削加工、研削加工を施した後、加工工程により生じた歪み等を除去するために、ディスクブランクを加熱処理することでアルミニウム合金基板が作製される。次に、得られたアルミニウム合金基板に、めっき前処理として脱脂、エッチング、ジンケート処理（Ｚｎ置換処理）を施し、さらに下地処理として硬質非磁性金属であるＮｉ－Ｐめっきを施し、表面にポリッシングを施すことで、磁気ディスク用アルミニウム合金基板が作製される。最後に、磁性体等をスパッタリングしてアルミニウム合金製の磁気ディスクが製造される。

　ところで、近年になって、磁気ディスクには、マルチメディア等のニーズから大容量化及び高密度化が求められている。さらなる大容量化のため、記憶装置に搭載される磁気ディスクの枚数が増加しており、それに伴い磁気ディスクの薄肉化も求められている。しかしながら、磁気ディスク用アルミニウム合金基板を薄肉化すると剛性が低下してしまうため、アルミニウム合金基板には高剛性化が求められ、近年では、Ｎｉ等を添加した高剛性材料の使用が検討されている。

　一方、磁気ディスクの搭載枚数の増加に伴い、磁気ディスク用アルミニウム合金基板の原料であるＡｌ等の必要量が増加している。しかしながら、これらの資源には限りがあるため、めっきや磁性体等が付着したアルミニウム合金基板や磁気ディスクもアルミニウム合金素材の原料の一部として再利用することが求められている。リサイクルの対象は、アルミニウム合金基板であれば欠陥が発生し製品として不適なものが用いられ、磁気ディスクでは欠陥品や使用済みＨＤＤから抽出したものなどが用いられる。

　このような実情から、近年ではリサイクル性に優れたアルミニウム合金鋳塊の製造方法、この鋳塊を用いたアルミニウム合金板の製造方法、このアルミニウム合金板を用いた磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法、ならびに、このアルミニウム合金基板を用いた磁気ディスクの製造が強く望まれており、検討がなされている。例えば、特許文献１には、磁気ディスク用アルミニウム合金としてＮｉを含有させることで、その後に得られる磁気ディスク用アルミニウム合金基板を原料として再利用できることが提案されている。

　しかしながら、特許文献１に開示されている方法では、磁気ディスク用アルミニウム合金基板を原料として多量に使用した場合、例えば、重量比で原料の５０％以上の磁気ディスク用アルミニウム合金基板を使用した場合、アルミニウム合金原料にはＮｉが３．０質量％以上含まれる可能性があった。そのため、Ｎｉを多く含むことが許容できないアルミニウム合金原料を作製する場合には、磁気ディスク用アルミニウム合金基板を少量しか使用することができず、リサイクル性に欠けることが懸念される。

特開２００２－２７５５６８号公報

　本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、リサイクル性に優れたアルミニウム合金原料の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明の他の目的は、このようなリサイクル性に優れたアルミニウム合金原料を用いた、アルミニウム合金鋳塊の製造方法、アルミニウム合金板の製造方法、めっき用アルミニウム合金基板の製造方法、磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、及び磁気ディスクを提供することを目的とする。

　本発明者らは、リサイクルの対象である中間材又は完成品からアルミニウム合金ディスクと下地層を分離させる分離工程において、加熱温度と保持時間を制御することによって、リサイクル性に優れたアルミニウム合金原料が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。

　本発明の一実施態様に係るアルミニウム合金原料の製造方法は、アルミニウム合金ディスクと下地層とを含む中間材及び完成品の少なくとも１つをリサイクル材としてアルミニウム合金素材の少なくとも一部に再利用し、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を加熱して前記アルミニウム合金ディスクと前記下地層を分離する分離工程において、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を４８０℃以上５９０℃以下で１時間を超えて加熱保持するアルミニウム合金原料の製造方法である。

　本発明によれば、リサイクル性に優れたアルミニウム合金原料の製造方法、を提供することができる。また、このようなリサイクル性に優れたアルミニウム合金原料を用いて、アルミニウム合金鋳塊の製造方法、アルミニウム合金板の製造方法、めっき用アルミニウム合金基板の製造方法、磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、及び磁気ディスクを提供することができる。

本発明に係るアルミニウム合金原料の製造工程から磁気ディスクの製造工程までを示すフロー図である。

　以下、本発明の実施形態について図１を参照しながら詳細に説明する。本発明においては、アルミニウム合金ディスクと下地層とを含む中間材及び完成品の少なくとも１つをリサイクル材としてアルミニウム合金素材の少なくとも一部に再利用する上で、当該リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を加熱して、中間材及び完成品からアルミニウム合金ディスクと下地層を分離する分離工程において、加熱温度及び保持時間を制御する。分離工程における加熱温度及び保持時間が下地層の分離性に大きな影響を与えるため、これらを制御することによって、リサイクル性に優れたアルミニウム合金原料を得ることができる。本発明においては、リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を４８０℃以上５９０℃以下で１時間を超えて加熱保持することにより、分離工程後のアルミニウム合金ディスクと下地層との分離割合が１００％以上になり、下地層の完全な分離（剥離）が可能となる。尚、分離割合が１００％を超える場合、下地層だけでなく、リサイクル材からアルミニウム合金も一部剥離していることを意味する。

　ここで、本発明において用いられるリサイクル材とは、Ｎｉ－Ｐめっき層等の下地層が存在するアルミニウム合金ディスクであり、中間材としては、磁気ディスク用アルミニウム合金基板が相当し、完成品としては、磁気ディスクが相当する。これらのリサイクル材は、例えば、不良品や規格外の製品、また、磁気ディスクであれば使用済み磁気ディスク等が挙げられる。

１．リサイクル材
　まず、アルミニウム合金原料の製造において、アルミニウム合金素材の少なくとも一部として使用する、リサイクル材としての磁気ディスク用アルミニウム合金基板と磁気ディスクについて説明する。また、少なくとも一部とは、アルミニウム合金素材の全てをこれらリサイクル材としてもよく、或いは、アルミニウム合金素材の一部をこれらリサイクル材としてもよいことを意味する。

１－１．磁気ディスク用アルミニウム合金基板（中間材）
　磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面には、Ｎｉ－Ｐめっき層等の下地層が形成されているため、ＮｉやＰを多く含まないアルミニウム合金素材の少なくとも一部に磁気ディスク用アルミニウム合金基板を再利用するには、下地層の大部分を分離させることが重要である。なお、磁気ディスク用アルミニウム合金基板に使用されるＮｉ－Ｐめっき層中のＰの含有量は、通常、１５質量％以上８５質量％以下である。また、Ｎｉ－Ｐめっき層の厚さは、５μｍ以上２５μｍ以下であることが好ましく、磁気ディスク用アルミニウム合金基板の厚さは０．３ｍｍ以上２．０ｍｍ以下であることが好ましい。

１－２．磁気ディスク（完成品）
　磁気ディスクにおいては、中間材としての磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面にＣｏＣｒＰｔ系の磁性体層や炭素系材料等の保護膜が形成されているが、これら磁性体層や保護膜は下地層の上に形成されているため下地層を除去することでこれらの大部分を除去することができる。そのため、下地層を分離した磁気ディスクも、ＮｉやＰを多く含まないアルミニウム合金素材の少なくとも一部に再利用することができる。なお、磁気ディスク用アルミニウム合金基板と同様に磁気ディスクをアルミニウム合金素材の少なくとも一部として使用する場合も、下地層を多く除去することが重要である。

１－３．アルミニウム合金素材
　アルミニウム合金素材は、所定の合金組成となるように調整された、アルミニウム合金鋳塊の製造の原料として使用される一般的な材料である。本発明において製造されるアルミニウム合金原料は、このようなアルミニウム合金素材とリサイクル材から分離したアルミニウム合金ディスクとを含む態様と、リサイクル材から分離したアルミニウム合金ディスクそのものである態様が含まれる。

　次に、本発明の実施形態に係るアルミニウム合金原料の製造方法、さらには、このアルミニウム合金原料を用いたアルミニウム合金鋳塊の製造方法、このアルミニウム合金鋳塊を用いたアルミニウム合金板の製造方法、このアルミニウム合金板を用いためっき用アルミニウム合金基板の製造方法、このめっき用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法、この磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスク、並びにその製造方法で得られた磁気ディスクについて詳細に説明する。

２．アルミニウム合金原料の製造方法
　図１に示すように、アルミニウム合金原料は、下地層の分離（ステップＳ１０１）の工程を経て製造される。

　ステップＳ１０１では、リサイクル材として、中間材（磁気ディスク用アルミニウム合金基板）又は完成品（磁気ディスク）をアルミニウム合金素材の少なくとも一部に再利用し、４８０℃以上５９０℃以下で１時間を超えて加熱保持することによって、リサイクル材からアルミニウム合金ディスクと下地層とを分離する（ステップＳ１０１）。加熱温度が４８０℃以上５９０℃以下、分離性の観点から好ましくは５２０℃以上５９０℃以下であり、且つ保持時間が１時間を超える、好ましくは２時間以上であることによって、アルミニウム合金ディスクと下地層の分離を促進することができる。これは、加熱により下地層に含まれるＮｉ－Ｐめっきとアルミニウム合金ディスク中のアルミニウムが反応し、脆弱なＡｌ、Ｎｉ及びＰを含む中間層が下地層とアルミニウム合金ディスクの間に形成されることで、加熱後の冷却時の熱応力でＡｌ、Ｎｉ及びＰを含む中間層を起点にクラックが発生し、下地層を分離することができる。

　分離工程において、加熱温度が４８０℃未満、及び／又は保持時間が１時間以下では、上記の分離効果を得ることができない。また、加熱温度が５９０℃を超えると、アルミニウム合金ディスクの一部が溶融し、下地層の剥離が困難となる。なお、保持時間の上限は特に設定するものではないが、保持時間が長くなるとアルミニウム合金ディスク中のアルミニウム部分が多く剥離されることになるため、３０時間が好ましい。

　分離工程において、加熱後に室温までリサイクル材を含むアルミニウム合金素材を冷却する冷却工程を複数回行うことが好ましい。複数回冷却を行うことで分離性を高めることができる。また、冷却工程において、４００℃以上４５０℃以下の温度領域の冷却速度が３０℃／ｈ以上であることが好ましい。上述の通り、下地層に含まれるＮｉ－Ｐめっきは、冷却時に熱応力が発生することで、Ａｌ、Ｎｉ及びＰを含む中間層を起点にクラックが発生し分離するが、上述の温度領域における冷却速度が遅いと熱応力が小さく、分離が不十分となるおそれがある。そのため、加熱後に室温まで冷却する際に４００℃以上４５０℃以下の温度領域における冷却速度は３０℃／ｈ以上であることが好ましく、５０℃／ｈ以上であることがより好ましく、８０℃／ｈ以上であることがさらに好ましい。なお、室温とは、－１０℃以上５０℃以下の範囲を意味する。

　冷却工程において、リサイクル材を含むアルミニウム合金素材にさらに物理的な衝撃を与えることが好ましい。リサイクル材を含むアルミニウム合金素材に衝撃を加えることで、Ａｌ、Ｎｉ及びＰを含む中間層のクラックが進展しやすくなり、下地層が剥離しやすくなる。衝撃を与える方法としては、対象物であるリサイクル材を含むアルミニウム合金素材を落下させる方法、機械的に対象物を動かして他の物体と接触させる方法などが挙げられるが、これらの方法に限定されず、任意の方法でリサイクル材を含むアルミニウム合金素材に衝撃を与えることができる。

　また、分離工程において、所定の温度まで加熱する際の昇温速度は特に限定されるものではないが、３０℃／ｈ以上であることが好ましく、５０℃／ｈ以上であることがより好ましく、８０℃／ｈ以上であることがさらに好ましい。なお、予め所定の温度に加熱した炉に、リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を直接投入してもよい。

　以上の工程によって、アルミニウム合金原料、特に磁気ディスク用アルミニウム合金原料が製造される。

３．アルミニウム合金鋳塊の製造方法
　アルミニウム合金鋳塊の製造方法は、上述の製造方法で得られたアルミニウム合金原料の少なくとも一部を溶融して、アルミニウム合金の溶湯を調整する溶湯調整工程と、調整した溶湯を加熱保持する溶湯加熱保持工程と、加熱保持した溶湯を鋳造する鋳造工程とを含んでいる。具体的には、アルミニウム合金鋳塊は、図１に示されるような、アルミニウム合金成分の調整、アルミニウム合金の溶湯の調整・加熱保持（ステップＳ１０２）、さらにアルミニウム合金の鋳造（ステップＳ１０２）の各工程を経て製造される。

３－１．アルミニウム合金成分の調整・溶湯加熱保持（ステップＳ１０２）
　ステップＳ１０２では、ステップＳ１０１でリサイクル材から分離したアルミニウム合金ディスクを含むアルミニウム合金原料を用いて、所定の合金組成を有するアルミニウム合金の溶湯を、常法に従って加熱・溶融することによって調整する。

・Ｎｉ（ニッケル）含有量
　溶湯加熱保持工程において、アルミニウム合金の溶湯中のＮｉ含有量は、０質量％以上２．５質量％以下であることが好ましい。Ｎｉは、アルミニウム（Ａｌ）等と結合してＡｌ－Ｎｉ系化合物を生成し、めっき表面に大きな欠陥を発生させるため、Ｎｉ含有量を低減させる必要がある。溶湯中のＮｉ含有量は、２．５質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましく、０．１質量％以下であることがさらに好ましい。Ｎｉ含有量の調整は、原料を加熱・溶融するアルミニウム合金成分の調整工程において実施する。例えば、溶湯中の原料が溶融しきった後に溶湯の成分を分析し、Ｎｉ含有量が多い場合はアルミニウム地金等を添加して所望の含有量になるように調整する。

・Ｐ（リン）含有量
　溶湯加熱保持工程において、アルミニウム合金の溶湯中のＰ含有量は、０質量％以上０．０５質量％以下であることが好ましい。Ｐは、リサイクル材に一部残存しためっき成分として、或いは、アルミニウム合金地金に含有されるが、溶湯原料のアルミニウム合金に一般的に含まれるＭｇ（マグネシウム）と結合してＭｇ－Ｐ系酸化物を生成し、めっき処理時にその部分だけ反応が不均一となり、めっき表面に大きな欠陥を発生させることがある。その結果、めっき表面の平滑性が低下する。なお、Ｍｇ－Ｐ系酸化物の一部は、溶湯を加熱保持することにより溶湯表面に浮上して除去可能ではあるが、Ｍｇと結合するＰそのものの含有量が低いことが好ましい。溶湯中のＰ含有量は、０．０５質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下であることがより好ましい。溶湯中のＰ含有量は、Ｎｉ含有量に比べて非常に少ないため、アルミニウム地金等を添加して所望の含有量になるように調整することは一般に必要ない。しかしながら、調整が必要な場合には、Ｎｉと同じくアルミニウム地金等を添加して所望の含有量になるように調整する。

・Ｍｇ（マグネシウム）含有量
　溶湯加熱保持工程において、アルミニウム合金の溶湯中のＭｇ含有量は、０質量％以上６．５質量％以下であることが好ましい。上述のように、Ｍｇは、溶湯中のＰと結合してＭｇ－Ｐ系酸化物を生成するため、Ｐと同様にその含有量が低いことが好ましい。溶湯中のＭｇ含有量は、６．５質量％以下であることが好ましく、４．５質量％以下であることがより好ましい。Ｍｇ含有量が多い場合は、Ｎｉと同様にアルミニウム地金等を添加して所望の含有量になるように調整する。

・アルミニウム合金の溶湯における金属成分
　アルミニウム合金の溶湯に含まれる金属成分については、リサイクル材である磁気ディスク用アルミニウム合金基板及び磁気ディスクに含まれる無電解Ｎｉ－Ｐめっき成分由来のＰ成分を有効に除去又は低減させるために、上述のように、Ｐそのものの含有量、並びに、Ｐとの間で金属間化合物を形成するＣｕ、Ｍｇなどの元素を調整することが好ましい。

　一方、Ｎｉ、Ｐ、Ｃｕ及びＭｇ以外の元素とその含有量については、特に限定されるものではない。アルミニウム合金の溶湯に含まれる合金組成としては、例えば以下のようなものが挙げられる。アルミニウム合金は、例えば、必須元素であるＦｅ（鉄）と、任意にＭｎ（マンガン）を含有し、これらＦｅ及びＭｎの含有量の合計が０．００５質量％以上７．００質量％の範囲であり、さらに、Ｍｇを０．５質量％以上６．５質量％含有し、任意に、０質量％以上１．０質量％以下のＳｉ（ケイ素）、０質量％以上０．７質量％以下のＺｎ（亜鉛）、０質量％以上０．３０質量％以下のＣｒ（クロム）、及び０質量以上０．２０質量％以下のＺｒ（ジルコニア）からなる群から選択される１種又は２種以上の金属を含有し、残部がＡｌ及び不可避的不純物やその他の微量成分からなる。

　不可避的不純物はアルミニウム合金に含まれるＴｉ（チタン）、Ｇａ（ガリウム）などが挙げられ、その他の微量成分としては、リサイクル材から完全に分離できなかっためっきや磁性体などに含まれる成分であるＣｏ（コバルト）、Ｐｔ（白金）などが挙げられる。これら不可避不純物とその他の微量成分の含有量は、各元素について０．１０質量％以下、合計で０．３０質量％以下であれば、本発明の作用効果を損なわない。

３－２．アルミニウム合金の溶湯加熱保持
　次に、アルミニウム合金の溶湯を加熱保持する溶湯加熱保持工程について説明する。この工程では、アルミニウム合金の溶湯を後述の条件にて保持炉によって加熱保持する。Ｐの含有量が多い場合は以下の調整を行う。

　調整したアルミニウム合金の溶湯に含まれるＰの含有量を低減させるために、溶湯加熱保持工程では、アルミニウム合金の溶湯を７００℃以上８５０℃以下の温度で３時間以上加熱保持することが好ましい。

　溶湯中に含まれるＰの一部は、溶湯加熱保持工程によりＭｇ－Ｐ系酸化物等の酸化物に変化して溶湯表面に浮上してくる。鋳造前にこの浮上した酸化物等をすくい上げなどの方法で除去することで、溶湯中のＰの含有量を低減することができる。加熱温度は７００℃以上８５０℃以下であることが好ましく、消費電力の省エネ性の観点から７００℃以上７５５℃以下であることがより好ましい。また、保持時間は３時間以上であることが好ましく、Ｍｇ－Ｐ系酸化物等への生成を促進する観点から２０時間以上であることがより好ましい。特に、Ｍｇ－Ｐ系酸化物等への生成促進効果の観点から保持時間が重要である。加熱温度が７００℃未満、及び／又は保持時間が３時間未満では、Ｍｇ－Ｐ系酸化物等への十分な生成促進効果が得られないおそれがある。また、加熱温度が８５０℃を超えると、Ｍｇ－Ｐ系酸化物等への生成促進効果が飽和して経済的ではない。また、保持時間の上限は特に限定されるものではないが、７２時間を超えるとＭｇ－Ｐ系酸化物等への生成促進効果が飽和して経済的ではない。

３－３．アルミニウム合金の鋳造（ステップＳ１０３）
　次に、アルミニウム合金の鋳造工程について説明する。加熱保持されたアルミニウム合金の溶湯は、必要に応じて後述のインライン脱ガス処理やインライン濾過処理の後に、半連続鋳造法（ＤＣ鋳造法）、金型鋳造法、連続鋳造法（ＣＣ法）等によりアルミニウム合金鋳塊に鋳造される（ステップＳ１０３）。ＤＣ鋳造法においては、スパウトを通して注がれた溶湯が、ボトムブロックと、水冷されたモールドの壁、並びにインゴット（鋳塊）の外周部に直接吐出される冷却水で熱を奪われ、凝固し、鋳塊として下方に引き出される。金型鋳造法においては、鋳鉄等で作製された中空の金型に注がれた溶湯が、金型の壁に熱を奪われ、凝固し、鋳塊が作製される。ＣＣ鋳造法では、一対のロール（又は、ベルトキャスタ、ブロックキャスタ）の間に鋳造ノズルを通して溶湯を供給し、ロールからの抜熱で薄板を直接鋳造する。

　なお、溶湯加熱保持工程で加熱保持された溶湯は、鋳造工程にかけられる前に常法に従ってインライン脱ガス処理やインライン濾過処理を行うことが好ましい。インライン脱ガス処理装置としては、ＳＮＩＦやＡＬＰＵＲなどの商標で市販されている脱ガス装置が使用できる。これらのインライン脱ガス処理装置は、アルゴンガス又はアルゴンと窒素等の混合ガスを溶湯に吹き込みながら、羽根付き回転体を高速で回転させてガスを微細な気泡として溶湯中に供給する。これにより、脱水素ガス及び介在物の除去がインラインで短時間に行える。インライン濾過処理としては、セラミックチューブフィルター、セラミックフォームフィルター、アルミナボールフィルター等が用いられ、ケーク濾過機構、濾材濾過機構等により介在物が除去される。

　以上の工程によって、アルミニウム合金鋳塊、特に磁気ディスク用アルミニウム合金鋳塊が製造される。

４．アルミニウム合金板の製造方法
　アルミニウム合金板の製造方法は、上述の製造方法で得られたアルミニウム合金鋳塊を任意に加熱処理する均質化処理工程と、任意に均質化処理したアルミニウム合金鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、熱間圧延して得られた熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程とを含んでいる。具体的には、アルミニウム合金板は、図１に示されるような、アルミニウム合金鋳塊の均質化処理（ステップＳ１０４）、熱間圧延（ステップＳ１０５）、冷間圧延（ステップＳ１０６）の各工程を経て製造される。

４－１．均質化処理（ステップＳ１０４）
　鋳造されたアルミニウム合金鋳塊に、必要に応じて均質化処理が施される（ステップＳ１０４）。均質化処理が実施される場合は、好ましくは４８０℃以上５６０℃以下の加熱温度で１時間以上、より好ましくは５００℃以上５５０℃以下の加熱温度で２時間以上の条件で加熱処理される。加熱温度が４８０℃未満の場合や、加熱時間が１時間未満の場合には、十分な均質化効果が得られない場合がある。また、５６０℃を超える加熱温度では、アルミニウム合金鋳塊が溶解するおそれがある。また、加熱時間の上限は特に限定されるものではないが、４８時間を超えると均質化効果が飽和して生産性の低下を招くおそれがある。

４－２．熱間圧延（ステップＳ１０５）
　次に、鋳造したアルミニウム合金鋳塊、或いは、均質化処理を施した場合には均質化処理したアルミニウム合金鋳塊を、熱間圧延によって熱間圧延板を作製する（ステップＳ１０５）。熱間圧延の条件は特に限定されるものではないが、熱間圧延開始温度が３００℃以上５００℃以下であることが好ましく、３２０℃以上４８０℃以下であることがより好ましい。また、熱間圧延終了温度が２６０℃以上４００℃以下であることが好ましく、２８０℃以上３８０℃以下であることがより好ましい。熱間圧延開始温度が３００℃未満では熱間圧延による加工性が確保できず、５００℃を超えると結晶粒が粗大化し、めっきの密着性が低下する場合がある。また、熱間圧延終了温度が２６０℃未満では熱間圧延による加工性が確保できず、４００℃を超えると結晶粒が粗大化し、めっきの密着性が低下する場合がある。なお、熱間圧延では、通常、鋳塊を熱間圧延開始温度で０．５時間以上１０．０時間以下の範囲で加熱保持後に熱間圧延を行う。均質化処理を行う場合には、この加熱保持を均質化処理で代替してもよい。

４－３．冷間圧延（ステップＳ１０６）
　次に、得られた熱間圧延板を冷間圧延して好ましくは０．４ｍｍ以上２．０ｍｍ以下、より好ましくは０．６ｍｍ以上２．０ｍｍ以下の冷間圧延板を作製する（ステップＳ１０６）。すなわち、熱間圧延終了後は、冷間圧延によって所要の製品板厚に仕上げる。冷間圧延の条件は特に限定されるものではないが、必要な製品の板強度や板厚に応じて定めればよく、圧延率は２０％以上９０％以下であることが好ましく、２０％以上８０％以下であることがより好ましい。この圧延率が２０％未満では、後述するディスクブランクの加圧平坦化焼鈍において結晶粒が粗大化し、めっきの密着性が低下する場合がある。一方、この圧延率が９０％を超えると、製造時間が長くなり生産性の低下を招くおそれがある。

　良好な冷間圧延加工性を確保するために、冷間圧延の前又は冷間圧延の途中において、任意に焼鈍処理を実施してもよい。焼鈍処理を実施する場合には、例えばバッチ式の焼鈍では、３００℃以上４５０℃以下の焼鈍温度で０．１時間以上１０時間以下の条件で行うことが好ましく、３００℃以上３８０℃以下の焼鈍温度で１時間以上５時間以下の条件で行うことがより好ましい。焼鈍温度が３００℃未満、及び／又は焼鈍時間が０．１時間未満では、十分な焼鈍効果が得られない場合がある。また、焼鈍温度が４５０℃を超えると、結晶粒が粗大化してめっきの密着性が低下する場合があり、焼鈍時間が１０時間を超えると、製造時間が長くなり生産性の低下を招くおそれがある。

　一方、連続式の焼鈍では、４００℃以上５００℃以下の焼鈍温度で０～６０秒間の保持の条件で行うことが好ましく、４５０℃以上５００℃以下の焼鈍温度で０～３０秒間の保持の条件で行うことがより好ましい。焼鈍温度が４００℃未満では、十分な焼鈍効果が得られない場合があり、焼鈍温度が５００℃を超えると、結晶粒が粗大化し、めっきの密着性が低下する場合がある。また、焼鈍時間が６０秒を超えると、結晶粒が粗大化し、めっきの密着性が低下する場合がある。保持時間が０秒とは、所望の焼鈍温度に達した後、直ちに冷却することを意味する。

　以上の各工程によって、アルミニウム合金板、特に磁気ディスク用アルミニウム合金板が作製される。

５．めっき用アルミニウム合金基板の製造方法
　めっき用アルミニウム合金基板の製造方法は、上述の製造方法で得られたアルミニウム合金板を円環状ディスクブランクに加工する加工工程と、円環状ディスクブランクを加圧平坦化する加圧焼鈍工程と、加圧平坦化した円環状ディスクブランクに切削加工と研削加工を施す切削・研削加工工程とを含んでいる。具体的には、めっき用アルミニウム合金基板は、図１に示されるような、アルミニウム合金板を円環状のディスクブランク（以下、「ディスクブランク」と記載する場合がある）に打ち抜く加工（ステップＳ１０７）、このディスクブランクの加圧平坦化焼鈍（ステップＳ１０８）と、それに続く切削加工と研削加工（ステップＳ１０９：「切削・研削加工工程」）、さらに、必要に応じた歪取り加熱処理（ステップＳ１１０）の各工程を経て製造される。

５－１．円環状ディスクブランクの作製（ステップＳ１０７）
　上記のようにして得られたアルミニウム合金板をアルミニウム合金基板として加工するには、まず、アルミニウム合金板を円環状に打ち抜いて円環状ディスクブランクを作製する（ステップＳ１０７）。

５－２．加圧焼鈍（ステップＳ１０８）
　次に、ディスクブランクに大気中で３００℃以上４５０℃以下の温度で３０分以上、好ましくは３００℃以上３８０℃以下の温度で６０分以上の加圧焼鈍を施し、平坦化したディスクブランクを作製する（ステップＳ１０８）。加圧焼鈍の処理温度が３００℃未満及び／又は処理時間が３０分未満では、平坦化の効果が十分に得られない場合がある。また、処理温度が４５０℃を超えると、結晶粒が粗大化し、めっきの密着性が低下する場合がある。処理時間の上限は特に限定されるものではないが、２４時間を超えると製造時間が長くなり生産性の低下を招くおそれがある。なお、加圧焼鈍における圧力は、通常０．１ＭＰａ以上３．０ＭＰａ以下である。

５－３．切削加工・研削加工（ステップＳ１０９）、歪取り加熱処理（ステップＳ１１０）
　次に、切削・研削加工工程において平坦化したディスクブランクを切削加工及び研削加工する（ステップＳ１０９）。その後、任意に、２００℃以上２９０℃以下の温度で０．１時間以上１０．０時間以下の条件で、ディスクブランクの歪取りのための歪取り熱処理を行う（ステップＳ１１０）。

　以上の各工程によって、めっき用アルミニウム合金基板が作製される。

６．磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法
　磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法は、上述の製造方法で得られためっき用アルミニウム合金基板に、脱脂、エッチング及びジンケート処理を施すめっき前処理工程と、めっき前処理を施したアルミニウム合金基板の表面に無電解でのＮｉ－Ｐめっき処理を施し、めっき処理した表面を研磨する下地めっき処理工程とを含んでいる。このような磁気ディスク用アルミニウム合金基板は、図１に示されるように、めっき用アルミニウム合金基板のめっき前処理（ステップＳ１１１）、及び下地（Ｎｉ－Ｐ）めっき処理（研磨付き）（ステップＳ１１２）の各工程を経て製造される。

６－１．めっき前処理（ステップＳ１１１）
　上記のようにして作製しためっき用アルミニウム合金基板に、めっき前処理として脱脂、エッチング、ジンケート処理（Ｚｎ置換処理）が施される（ステップＳ１１１）。脱脂は、脱脂液、例えば市販のＡＤ－６８Ｆ（上村工業社製）等を用い、４０℃以上７０℃以下の脱脂温度、３分以上１０分以下の脱脂時間、２００ｍＬ／Ｌ以上８００ｍＬ／Ｌ以下の脱脂液の濃度の条件で行うことが好ましく、４５℃以上６５℃以下の脱脂温度、４分以上８分以下の脱脂時間、３００ｍＬ／Ｌ以上７００ｍＬ／Ｌ以下の脱脂液の濃度の条件で行うことがより好ましい。脱脂温度が４０℃未満、脱脂時間が３分未満、及び／又は脱脂液の濃度が２００ｍＬ／Ｌ未満では、十分な脱脂効果が得られない場合がある。また、脱脂温度が７０℃を超える、脱脂時間が１０分を超える、及び／又は脱脂液の濃度が８００ｍＬ／Ｌを超えると、アルミニウム合金基板の表面の平滑性が低下し、めっき処理後にピットが発生し平滑性が低下する場合がある。

　エッチングは、エッチング液、例えば市販のＡＤ－１０７Ｆ（上村工業社製）等を用い、５０℃以上７５℃以下のエッチング温度、０．５分以上５分以下のエッチング時間、２０ｍＬ／Ｌ以上１００ｍＬ／Ｌ以下のエッチング液の濃度の条件で行うことが好ましく、５５℃以上７０℃以下のエッチング温度、０．５分以上３分以下のエッチング時間、４０ｍＬ／Ｌ以上１００ｍＬ／Ｌ以下のエッチング液の濃度の条件で行うことがより好ましい。エッチング温度が５０℃未満、エッチング時間が０．５分未満、及び／又はエッチング液の濃度が２０ｍＬ／Ｌ未満では、十分なエッチング効果が得られない場合がある。また、エッチング温度が７５℃を超える、エッチング時間が５分を超える、及び／又はエッチング液の濃度が１００ｍＬ／Ｌを超えると、アルミニウム合金基板の表面の平滑性が低下し、めっき処理後にピットが発生し平滑性が低下する場合がある。なお、エッチング処理と後述するジンケート処理の間に、通常のデスマット処理が行なわれていてもよい。

　ジンケート処理は、ジンケート処理液、例えば市販のＡＤ－３０１Ｆ－３Ｘ（上村工業社製）等を用い、１０℃以上３５℃以下のジンケート処理温度、０．１分以上５分以下のジンケート処理時間、１００ｍＬ／Ｌ以上５００ｍＬ／Ｌ以下のジンケート処理液の濃度の条件で行うことが好ましく、１５℃以上３０℃以下のジンケート処理温度、０．１分以上２分以下のジンケート処理時間、２００ｍＬ／Ｌ以上４００ｍＬ／Ｌ以下のジンケート処理液の濃度の条件で行うことがより好ましい。ジンケート処理温度が１０℃未満、ジンケート処理時間が０．１分未満、及び／又はジンケート処理液の濃度が１００ｍＬ／Ｌ未満では、ジンケート皮膜が不均一となり、めっき処理後にピットが発生し平滑性が低下する場合がある。また、ジンケート処理温度が３５℃を超える、ジンケート処理時間が５分を超える、及び／又はジンケート処理液の濃度が５００ｍＬ／Ｌを超えると、ジンケート皮膜が不均一となり、めっき処理後にピットが発生し平滑性が低下する場合がある。

６－２．下地（Ｎｉ－Ｐ）めっき処理（研磨付き）（ステップＳ１１２）
　次に、ジンケート処理しためっき用アルミニウム合金基板の表面に下地処理として無電解でのＮｉ－Ｐめっき処理が施され、次いでその表面の研磨が実施される（ステップＳ１１２）。無電解でのＮｉ－Ｐめっき処理は、めっき液、例えば市販のニムデンＨＤＸ（上村工業社製）等を用い、８０℃以上９５℃以下のめっき処理温度、３０分以上１８０分以下のめっき処理時間、３ｇ／Ｌ以上１０ｇ／Ｌ以下のめっき液中のＮｉ濃度の条件で行うことが好ましく、８５℃以上９５℃以下のめっき処理温度、６０分以上１２０分以下のめっき処理時間、４ｇ／Ｌ以上９ｇ／Ｌ以下のめっき液中のＮｉ濃度の条件で行うことがより好ましい。めっき処理温度が８０℃未満、及び／又はめっき液中のＮｉ濃度が３ｇ／Ｌ未満では、めっきの成長速度が遅く、生産性の低下を招くおそれがある。また、めっき処理時間が３０分未満では、めっき表面に欠陥が多数発生し、めっき表面の平滑性が低下する場合がある。一方、めっき処理温度が９５℃を超える、及び／又はめっき液中のＮｉ濃度が１０ｇ／Ｌを超えると、めっきが不均一に成長するため、めっきの平滑性が低下する場合がある。また、めっき処理時間が１８０分を超えると、製造時間が長くなり生産性の低下を招くおそれがある。さらに、下地（Ｎｉ－Ｐ）めっき処理面には研磨処理が施される。

　これらのめっき前処理、及び下地（Ｎｉ－Ｐ）めっき処理（研磨付き）によって、磁気ディスク用アルミニウム合金基板が作製される。

７．磁気ディスクの製造方法
　磁気ディスクの製造方法は、上述の製造方法で得られた磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面に、磁性体を付着させて磁性体層を形成する磁気付与工程を含んでいる。このような磁気ディスクは、図１に示されるように、下地処理した磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面に磁性体を付着させることで作成される（ステップＳ１１３）。

　研磨処理も含めた無電解Ｎｉ－Ｐめっき処理の後、Ｎｉ－Ｐめっき層上に、スパッタリングによって磁性体を付着させて磁性体層を形成する（ステップＳ１１３）。磁性体層は、単一の層であってもよく、又は、互いに異なる組成を有する複数の層から形成されていてもよい。スパッタリングを行った後、必要に応じて、ＣＶＤによって磁性体層上に炭素系材料からなる保護層を形成してもよく、保護層上に潤滑油を塗布して潤滑層が形成されていてもよい。

　以上の工程によって、磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面に、Ｎｉ－Ｐめっき層と、当該Ｎｉ－Ｐめっき層の上に形成された磁性体層とを有する磁気ディスクを作製することができる。このような磁気ディスクの製造方法で得られた磁気ディスクは、上述のリサイクル材を利用して作製されるため、環境負荷低減に優れる磁気ディスクとして有益である。

　以上、本実施形態に係るアルミニウム合金原料の製造方法、アルミニウム合金鋳塊の製造方法、アルミニウム合金板の製造方法、めっき用アルミニウム合金基板の製造方法、磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術思想に基づき、各種の変形及び変更が可能である。

　以上の実施態様に基づき、本発明は以下の[１]～[１３]に関するものである。
[１]
　アルミニウム合金ディスクと下地層とを含む中間材及び完成品の少なくとも１つをリサイクル材としてアルミニウム合金素材の少なくとも一部に再利用し、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を加熱して前記アルミニウム合金ディスクと前記下地層を分離する分離工程において、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を４８０℃以上５９０℃以下で１時間を超えて加熱保持することを特徴とするアルミニウム合金原料の製造方法。
[２]
　前記分離工程において、加熱後に室温まで前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を冷却する冷却工程を複数回行う、上記[１]に記載のアルミニウム合金原料の製造方法。
[３]
　前記冷却工程において、４００℃以上４５０℃以下の温度領域の冷却速度が３０℃／ｈ以上である、上記[２]に記載のアルミニウム合金原料の製造方法。
[４]
　前記冷却工程において、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材にさらに物理的な衝撃を与える、上記[２]又は[３]に記載アルミニウム合金原料の製造方法。
[５]
　上記[１]～[４]のいずれか１つに記載の製造方法で得られたアルミニウム合金原料の少なくとも一部を溶解して、アルミニウム合金の溶湯を調整する溶湯調整工程と、調整した溶湯を加熱保持する溶湯加熱保持工程と、加熱保持した溶湯を鋳造する鋳造工程とを含むことを特徴とするアルミニウム合金鋳塊の製造方法。
[６]
　前記溶湯加熱保持工程において、前記アルミニウム合金の溶湯中におけるＮｉ含有量が２．５質量％以下である、上記[５]に記載のアルミニウム合金鋳塊の製造方法。
[７]
　上記[５]又は[６]に記載の製造方法で得られたアルミニウム合金鋳塊を任意に加熱処理する均質化処理工程と、任意に均質化処理したアルミニウム合金鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、熱間圧延して得られた熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程とを含むことを特徴とするアルミニウム合金板の製造方法。
[８]
　上記[７]に記載の製造方法で得られたアルミニウム合金板を円環状ディスクブランクに加工する加工工程と、円環状ディスクブランクを加圧平坦化する加圧焼鈍工程と、加圧平坦化した円環状ディスクブランクに切削加工と研削加工を施す切削・研削加工工程とを含むことを特徴とするめっき用アルミニウム合金基板の製造方法。
[９]
　上記[８]に記載の製造方法で得られためっき用アルミニウム合金基板に、脱脂、エッチング及びジンケート処理を施すめっき前処理工程と、めっき前処理を施したアルミニウム合金基板の表面に無電解でのＮｉ－Ｐめっき処理を施し、めっき処理した表面を研磨する下地めっき処理工程とを含むことを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。
[１０]
　上記[９]に記載の製造方法で得られた磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面に、磁性体を付着させて磁性体層を形成する磁気付与工程を含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
[１１]
　上記[１０]に記載の製造方法によって得られた磁気ディスク。
[１２]
　アルミニウム合金ディスクと下地層とを含む中間材及び完成品の少なくともいずれかをリサイクル材としてアルミニウム合金素材の少なくとも一部に再利用し、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を加熱して前記アルミニウム合金ディスクと前記下地層を分離する分離工程と、
　前記分離工程により得られたアルミニウム合金原料の少なくとも一部を溶解して、アルミニウム合金の溶湯を調整する溶湯調整工程と、
　調整した溶湯を加熱保持する溶湯加熱保持工程と、
　加熱保持した溶湯を鋳造してアルミニウム合金鋳塊を作製する鋳造工程と、
　得られたアルミニウム合金鋳塊を任意に加熱処理する均質化処理工程と、
　任意に均質化処理したアルミニウム合金鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、
　熱間圧延して得られた熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程とを含み、
　前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を４８０℃以上５９０℃以下で１時間を超えて加熱保持することを特徴とするアルミニウム合金板の製造方法。
[１３]
　アルミニウム合金ディスクと下地層とを含む中間材及び完成品の少なくともいずれかをリサイクル材としてアルミニウム合金素材の少なくとも一部に再利用し、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を加熱して前記アルミニウム合金ディスクと前記下地層を分離する分離工程と、
　前記分離工程により得られたアルミニウム合金原料の少なくとも一部を溶解して、アルミニウム合金の溶湯を調整する溶湯調整工程と、
　調整した溶湯を加熱保持する溶湯加熱保持工程と、
　加熱保持した溶湯を鋳造してアルミニウム合金鋳塊を作製する鋳造工程と、
　得られたアルミニウム合金鋳塊を任意に加熱処理する均質化処理工程と、
　任意に均質化処理したアルミニウム合金鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、
　熱間圧延して得られた熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程とを含み、
　前記分離工程後の前記アルミニウム合金ディスクと前記下地層との分離割合が１００％以上であることを特徴とするアルミニウム合金板の製造方法。
[１４]
　上記[１２]又は[１３]に記載の製造方法で得られたアルミニウム合金板を円環状ディスクブランクに加工する加工工程と、
　円環状ディスクブランクを加圧平坦化する加圧焼鈍工程と、
　加圧平坦化した円環状ディスクブランクに切削加工と研削加工を施し、めっき用アルミニウム合金基板を作製する切削・研削加工工程と、
　得られためっき用アルミニウム合金基板に、脱脂、エッチング及びジンケート処理を施すめっき前処理工程と、
　めっき前処理を施したアルミニウム合金基板の表面に無電解でのＮｉ－Ｐめっき処理を施し、めっき処理した表面を研磨する下地めっき処理工程と、
　下地めっき処理により得られた磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面に、磁性体を付着させて磁性体層を形成する磁気付与工程を含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。

　以下に、本発明を実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

　リサイクル材として磁気ディスク用アルミニウム合金基板（以下、「アルミニウム合金基板」という）を用い、これを表１に示す条件で加熱保持及び冷却を行い、下地層を分離してアルミニウム合金原料（アルミニウム合金ディスク）を製造した。なお、表１中、「温度」及び「時間」は、分離工程における「加熱時間」及び「保持時間」をそれぞれ表し、「冷却回数」は、冷却工程において加熱後に室温（２５℃）までアルミニウム合金基板を冷却する回数を表し、「冷却速度」は、４００℃以上４５０℃以下の温度領域における冷却速度を表す。また、物理的衝撃は、冷却工程において、高さ１ｍのところから対象物（アルミニウム合金基板）を落下させることで付与した。

　リサイクル材として用いたアルミニウム合金基板に付着していたＮｉ－Ｐめっき層中のＰ含有量は、アルミニウム合金基板の全質量に対して約１２質量％であった。また、磁気ディスク用アルミニウム合金基板のアルミニウム合金基板に用いたアルミニウム合金の合金組成は、ＦｅとＭｎの含有量の合計が０．０１５質量％以上０．０３０質量％以下の範囲を有し、３．８質量％以上４．５質量％以下のＭｇを含有し、０．０１質量％以下のＮｉを含有し、Ｓｉ：０．０３質量％以下、Ｚｎ：０．３０質量％以上０．４０質量％以下、Ｃｒ：０．０４質量％以上０．０６質量％以下及びＣｕ：０．００５質量％以上０．０２５質量％以下からなる群から選択される１種又は２種以上の金属を更に含有し、残部がＡｌ、不可避的不純物及び微量成分からなるものであった。

　分離性の評価として、加熱後のアルミニウム合金ディスクの重量（Ｗｓ）を測定し、計算で求めた加熱前のアルミニウム合金基板のアルミニウム合金部分の重量（Ｗａ）の差（Ｓ１＝Ｗｓ－Ｗａ）を算出し、計算で求めた加熱前のアルミニウム合金基板のめっき等の下地層の重量（Ｗｐ）との差（Ｓ２＝Ｗｐ－Ｓ１）を算出し、Ｗｐで除したもの（Ｓ２／Ｗｐ）に１００を掛けて分離割合（％）を算出した。その結果を表１に示す。なお、アルミニウム合金基板の外周部や内周部は面取り部が存在するが全体の重量に比べると影響度合いは小さいため、面取り部は無いものとみなして計算した。また、分離割合が１００％を超える場合、下地層だけでなく、リサイクル材からアルミニウム合金も一部剥離していることを意味しているが、アルミニウム合金ディスク全体からみると極一部であるため、下地層が剥離されていることでリサイクル性に優れていると評価した。

　表１に示すように、実施例１～１３では、分離割合が１００％以上であり、リサイクル性に優れる結果が得られた。特に、加熱時間、保持時間が長い程、分離割合が高まり、リサイクル性がより優れていた。また、４００℃以上４５０℃以下の温度領域において冷却速度を３０℃／ｈ以上とすることにより、分離割合が高まり、リサイクル性が向上した。さらに、冷却工程においてアルミニウム合金基板に物理的衝撃を与えた場合にも分離割合が高まり、リサイクル性が向上した。

　これに対して、比較例１～４では、加熱温度が低すぎた、又は保持時間が不十分であったため、分離割合が１００％未満となり、リサイクル性に劣る結果となった。特に、比較例１では加熱温度が非常に低かったため、下地層を分離させることができなかった。

　本発明により、リサイクル性に優れたアルミニウム合金原料を提供することができる。また、このようなリサイクル性に優れたアルミニウム合金原料を用いて、リサイクル性に優れたアルミニウム合金鋳塊、アルミニウム合金板、めっき用アルミニウム合金基板、磁気ディスク用アルミニウム合金基板、及び磁気ディスクを提供することができる。

Claims (14)

1. 　アルミニウム合金ディスクと下地層とを含む中間材及び完成品の少なくとも１つをリサイクル材としてアルミニウム合金素材の少なくとも一部に再利用し、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を加熱して前記アルミニウム合金ディスクと前記下地層を分離する分離工程において、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を４８０℃以上５９０℃以下で１時間を超えて加熱保持することを特徴とするアルミニウム合金原料の製造方法。
2. 　前記分離工程において、加熱後に室温まで前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を冷却する冷却工程を複数回行う、請求項１に記載のアルミニウム合金原料の製造方法。
3. 　前記冷却工程において、４００℃以上４５０℃以下の温度領域の冷却速度が３０℃／ｈ以上である、請求項２に記載のアルミニウム合金原料の製造方法。
4. 　前記冷却工程において、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材にさらに物理的な衝撃を与える、請求項２に記載アルミニウム合金原料の製造方法。
5. 　請求項１～４のいずれか１項に記載の製造方法で得られたアルミニウム合金原料の少なくとも一部を溶解して、アルミニウム合金の溶湯を調整する溶湯調整工程と、調整した溶湯を加熱保持する溶湯加熱保持工程と、加熱保持した溶湯を鋳造する鋳造工程とを含むことを特徴とするアルミニウム合金鋳塊の製造方法。
6. 　前記溶湯加熱保持工程において、前記アルミニウム合金の溶湯中におけるＮｉ含有量が２．５質量％以下である、請求項５に記載のアルミニウム合金鋳塊の製造方法。
7. 　請求項５に記載の製造方法で得られたアルミニウム合金鋳塊を任意に加熱処理する均質化処理工程と、任意に均質化処理したアルミニウム合金鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、熱間圧延して得られた熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程とを含むことを特徴とするアルミニウム合金板の製造方法。
8. 　請求項７に記載の製造方法で得られたアルミニウム合金板を円環状ディスクブランクに加工する加工工程と、円環状ディスクブランクを加圧平坦化する加圧焼鈍工程と、加圧平坦化した円環状ディスクブランクに切削加工と研削加工を施す切削・研削加工工程とを含むことを特徴とするめっき用アルミニウム合金基板の製造方法。
9. 　請求項８に記載の製造方法で得られためっき用アルミニウム合金基板に、脱脂、エッチング及びジンケート処理を施すめっき前処理工程と、めっき前処理を施したアルミニウム合金基板の表面に無電解でのＮｉ－Ｐめっき処理を施し、めっき処理した表面を研磨する下地めっき処理工程とを含むことを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法。
10. 　請求項９に記載の製造方法で得られた磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面に、磁性体を付着させて磁性体層を形成する磁気付与工程を含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
11. 　請求項１０に記載の製造方法によって得られた磁気ディスク。
12. 　アルミニウム合金ディスクと下地層とを含む中間材及び完成品の少なくともいずれかをリサイクル材としてアルミニウム合金素材の少なくとも一部に再利用し、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を加熱して前記アルミニウム合金ディスクと前記下地層を分離する分離工程と、
    　前記分離工程により得られたアルミニウム合金原料の少なくとも一部を溶解して、アルミニウム合金の溶湯を調整する溶湯調整工程と、
    　調整した溶湯を加熱保持する溶湯加熱保持工程と、
    　加熱保持した溶湯を鋳造してアルミニウム合金鋳塊を作製する鋳造工程と、
    　得られたアルミニウム合金鋳塊を任意に加熱処理する均質化処理工程と、
    　任意に均質化処理したアルミニウム合金鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、
    　熱間圧延して得られた熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程とを含み、
    　前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を４８０℃以上５９０℃以下で１時間を超えて加熱保持することを特徴とするアルミニウム合金板の製造方法。
13. 　アルミニウム合金ディスクと下地層とを含む中間材及び完成品の少なくともいずれかをリサイクル材としてアルミニウム合金素材の少なくとも一部に再利用し、前記リサイクル材を含むアルミニウム合金素材を加熱して前記アルミニウム合金ディスクと前記下地層を分離する分離工程と、
    　前記分離工程により得られたアルミニウム合金原料の少なくとも一部を溶解して、アルミニウム合金の溶湯を調整する溶湯調整工程と、
    　調整した溶湯を加熱保持する溶湯加熱保持工程と、
    　加熱保持した溶湯を鋳造してアルミニウム合金鋳塊を作製する鋳造工程と、
    　得られたアルミニウム合金鋳塊を任意に加熱処理する均質化処理工程と、
    　任意に均質化処理したアルミニウム合金鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、
    　熱間圧延して得られた熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程とを含み、
    　前記分離工程後の前記アルミニウム合金ディスクと前記下地層との分離割合が１００％以上であることを特徴とするアルミニウム合金板の製造方法。
14. 　請求項１２又は１３に記載の製造方法で得られたアルミニウム合金板を円環状ディスクブランクに加工する加工工程と、
    　円環状ディスクブランクを加圧平坦化する加圧焼鈍工程と、
    　加圧平坦化した円環状ディスクブランクに切削加工と研削加工を施し、めっき用アルミニウム合金基板を作製する切削・研削加工工程と、
    　得られためっき用アルミニウム合金基板に、脱脂、エッチング及びジンケート処理を施すめっき前処理工程と、
    　めっき前処理を施したアルミニウム合金基板の表面に無電解でのＮｉ－Ｐめっき処理を施し、めっき処理した表面を研磨する下地めっき処理工程と、
    　下地めっき処理により得られた磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面に、磁性体を付着させて磁性体層を形成する磁気付与工程を含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。

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